KR101858554B1 - Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 제 1 두께를 갖는 유리재질의 제 1 및 제 2 기판 각각의 일면 또는 양면에 DLC(diamond-like carbon)를 증착하거나 또는 글라스 섬유 강화물을 코팅하여 제 2 두께의 보강층을 형성하는 단계와; 상기 보강층이 형성된 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 박막트랜지스터와 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 보강층이 형성된 상기 제 2 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 제 1 및 제 2 공정용 패널을 상기 화소전극과 상기 컬러필터층이 마주하도록 한 상태에서 가장자리를 따라 씰패턴을 형성하고 액정층을 개재하여 합착하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조 방법을 제공한다.The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer ceramic capacitor in which diamond-like carbon (DLC) is deposited on one surface or both surfaces of a glass substrate having a first thickness and a glass fiber reinforced material is coated to form a reinforcing layer having a second thickness ; Forming a thin film transistor and a pixel electrode on the first substrate on which the enhancement layer is formed, the gate line and the data line intersecting with each other; Forming a color filter layer on the second substrate on which the reinforcing layer is formed; And forming a seal pattern along the edge of the first and second process panels in a state in which the pixel electrode and the color filter layer are opposed to each other and bonding them together through the liquid crystal layer .
Description
본 발명은 액정표시장치에 관한 것으로, 좀 더 자세하게는 0.1t 내지 0.5t 두께의 유리기판을 이용한 경량 박형의 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to a method of manufacturing a lightweight thin liquid crystal display device using a glass substrate having a thickness of 0.1 t to 0.5 t.
근래에 들어 사회가 본격적인 정보화 시대로 접어듬에 따라 대량의 정보를 처리 및 표시하는 디스플레이(display) 분야가 급속도로 발전해 왔고, 최근에는 특히 박형화, 경량화, 저소비전력화의 우수한 성능을 지닌 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)형 액정표시장치(TFT-LCD)가 개발되어 기존의 브라운관(Cathode Ray Tube : CRT)을 대체하고 있다.Recently, a display field for processing and displaying a large amount of information has been rapidly developed according to the society's full-fledged information age. Recently, thin-film transistors (TFTs) having excellent performance such as thinning, light- Film Transistor (TFT) type liquid crystal display (TFT-LCD) has been developed and replacing the existing cathode ray tube (CRT).
액정표시장치의 화상구현원리는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하는 것으로, 주지된 바와 같이 액정은 분자구조가 가늘고 길며 배열에 방향성을 갖는 광학적 이방성과 전기장 내에 놓일 경우에 그 크기에 따라 분자배열 방향이 변화되는 분극성질을 띤다. 이에 액정표시장치는 액정층을 사이에 두고 서로 마주보는 면으로 각각 화소전극과 공통전극이 형성된 어레이 기판(array substrate)과 컬러필터 기판(color filter substrate)을 합착시켜 구성된 액정패널을 필수적인 구성요소로 하며, 이들 전극 사이의 전기장 변화를 통해서 액정분자의 배열방향을 인위적으로 조절하고 이때 변화되는 빛의 투과율을 이용하여 여러 가지 화상을 표시하는 비발광 소자이다.The image forming principle of a liquid crystal display device utilizes the optical anisotropy and polarization property of a liquid crystal. As is known, a liquid crystal has optical anisotropy having a long and narrow molecular structure and a directional arrangement, Has a changing polarizing property. Accordingly, a liquid crystal display device has a liquid crystal panel formed by laminating an array substrate and a color filter substrate on which a pixel electrode and a common electrode are formed on opposite sides of each other with a liquid crystal layer interposed therebetween as an essential component And is a non-light emitting device that artificially adjusts the arrangement direction of liquid crystal molecules through an electric field change between these electrodes and displays various images by using the transmittance of light which changes at this time.
최근에는 특히 화상표현의 기본단위인 화소(pixel)를 행렬 방식으로 배열하고 스위칭소자를 각 화소에 배치시켜 독립적으로 제어하는 능동행렬방식(active matrix type)의 표시장치가 해상도 및 동영상 구현능력에서 뛰어나 주목받고 있는데, 이러한 표시장치는 스위칭 소자로 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)를 사용하는 것이 TFT-LCD(Thin Firm Transistor Liquid Crystal Display device) 이다.In recent years, an active matrix type display device, in which pixels, which are basic units of image representation, are arranged in a matrix manner and a switching element is arranged in each pixel to independently control the device, Attention has been paid to the TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display) device in which a thin film transistor (TFT) is used as a switching device.
좀 더 자세히 살펴보면, 일반적인 액정표시장치는 분해사시도인 도 1에 나타낸 바와 같이 액정층(30)을 사이에 두고 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)이 대면 합착된 구성을 갖는데, 이중 하부의 어레이 기판(10)은 제 1 투명기판(12) 및 이의 상면으로 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 복수개의 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16)을 포함하며, 이들 두 배선(14,16)의 교차지점에는 박막 트랜지스터(T)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(18)과 일대일 대응 접속되어 있다.1, the general liquid crystal display device has a configuration in which the
또한, 이와 마주보는 상부의 컬러필터 기판(20)은 제 2 투명기판(22) 및 이의 배면으로 상기 게이트 배선(14)과 데이터 배선(16) 그리고 박막 트랜지스터(T) 등의 비표시영역을 가리도록 각 화소영역(P)을 테두리하는 격자 형상의 블랙매트릭스(25) 그리고 이들 격자 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 R(rea),G(green),B(blue) 컬러필터 패턴(26a, 26b, 26c)으로 이루어진 컬러필터층(24)을 포함하며, 이의 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(28)이 마련되어 있다.The upper portion of the
그리고 비록 도면상에 명확하게 도시되지는 않았지만, 이들 어레이 기판과 컬러필터 기판(10,20)은 그 사이로 개재된 액정층(30)의 누설을 방지하기 위하여 가장자리를 따라 실링제 등으로 봉합된 상태이며, 어레이 및 컬러필터 기판(10,20)과 액정층(30)의 경계부분에는 액정의 분자배열 방향에 신뢰성을 부여하는 상, 하부 배향막(미도시)이 개재되며, 상기 어레이 및 컬러필터 기판(10,20)의 외측면에는 제 1 및 제 2 편광판(미도시)이 부착된다. Although not explicitly shown in the figure, these array substrates and
더불어 상기 액정패널 배면으로는 백라이트(back-light)가 구비되어 빛을 공급하는 바, 게이트배선(14)을 통해 박막트랜지스터(T)의 온/오프 신호가 순차적으로 스캔 및 인가되어 화소영역(P)이 선택되고, 화소영역(P)의 화소전극(18)에 데이터배선(16)을 통해 화상신호가 전달되면 이들 사이의 수직전계에 의해 그 사이의 액정분자가 구동되고, 이에 따른 빛의 투과율 변화로 여러 가지 화상을 표시할 수 있다.On / off signals of the thin film transistor T are sequentially scanned and applied through the
한편, 이 같은 구성을 갖는 액정표시장치에 있어 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)의 모체가 되는 제 1 및 제 2 투명기판(12, 22)은 전통적으로 투명하고 절연특성을 갖는 유리기판이 사용되고 있다.On the other hand, in the liquid crystal display device having such a configuration, the first and second
즉, 유리기판을 이용하여 어레이 소자와 컬러필터층(26) 등의 구성요소를 형성하기 위한 다수의 단위 공정을 진행함으로서 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)을 제조하고 있는데, 단위 공정간 이동시 또는 단위 공정 진행 시 유리기판의 특성 상 휨과 깨짐이 발생하고 있다. That is, the
따라서 깨짐 및 휨 발생에 의한 공정 오차 등을 최소화하기 위해서 상기 각 유리기판은 그 두께가 0.7t정도가 되고 있다. Therefore, each of the glass substrates has a thickness of about 0.7t in order to minimize process errors due to cracking and warping.
따라서, 이러한 0.7t 두께의 유리기판을 이용하여 완성되는 액정패널은 상대적으로 그 무게가 무겁고 두께도 두꺼워 경량 박형의 표시장치를 구현하는 데에는 어려움이 있다. Therefore, the liquid crystal panel completed using such a glass substrate having a thickness of 0.7t is relatively heavy in weight and thick, making it difficult to realize a lightweight thin display device.
최근 들어 노트북이나 PDA와 같은 개인용 휴대용 단말기가 널리 보급됨에 따라 이들 기기에 장착되는 액정표시장치 또한 경량 박형이 요구되고 있다. 2. Description of the Related Art [0002] Recently, personal portable terminals such as notebook computers and PDAs have become widespread, and liquid crystal display devices mounted on these devices are also required to be lightweight and thin.
따라서, 경량 박형의 액정표시장치를 추구하고자, 제 1 및 제 2 편광판을 부착하기 전에 액정패널 상태에서 유리를 식각하는 불산 용액에 노출시킴으로써 어레이 기판과 컬러필터 기판의 외측면 일부를 식각하여 이들 각 기판이 0.5t 이하의 두께를 갖도록 하고 있다.Therefore, in order to pursue a lightweight thin liquid crystal display device, the outer surfaces of the array substrate and the color filter substrate are partially etched by exposing the glass to a fluoric acid etching solution in the liquid crystal panel state before the first and second polarizing plates are attached, And the substrate has a thickness of 0.5 t or less.
하지만, 도 2(종래의 액정표시장치의 경량 박형화를 위해 액정패널의 표면을 식각하는 단위 공정을 나타낸 도면)에 도시한 바와같이, 제 1 및 제 2 편광판(미도시)이 부착되기 전 액정패널(50) 상태에서 식각액 분사장치(90)를 이용하여 액정패널(50)의 양 외측면에 불산 용액을 분사함으로써 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)의 외측면을 식각하게 되면, 유리기판 특성 상 식각이 모든 부분에 대해 동일한 속도로 진행되지 않으므로 상기 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)의 외측면 그 표면에 미세한 홈(Griffith Flaw) 또는 요철 등이 발생하여 거칠기가 증가하게 된다. However, as shown in FIG. 2 (a unit process for etching the surface of the liquid crystal panel for light weight thinning of the conventional liquid crystal display device), before the first and second polarizing plates (not shown) are attached, When the outer surfaces of the
이러한 상태에서 상기 액정패널(50)의 양 외측면에 제 1 및 제 2 편광판(미도시)을 부착하게 되면, 이러한 표면의 홈 또는 요철에 의해 접착력이 저하되고, 나아가 표면 거칠기 증가에 따라 상대적으로 주변 대비 더욱 얇아지는 부분이 발생됨으로써 기판 자체의 강성이 약화되며, 특히 상기 표면 거칠기가 증가한 유리기판에 인장응력이 작용하면 상기 홈의 선단에 응력집중이 발생하고 재료의 균열이 발생함으로써 외부 충격에 의해 쉽게 균열(crack) 등이 발생하여 최종적으로 파손되는 문제가 발생하고 있다.If the first and second polarizing plates (not shown) are attached to both outer sides of the
또한, 불산 용액에 의한 유리기판의 식각은 십 수분 내지 수 십 분이 소요됨으로써 단위시간당 생산성을 저하시키는 요인이 되고 있다.In addition, the etching of the glass substrate by the hydrofluoric acid solution takes several tens of minutes to several tens of minutes, thereby deteriorating the productivity per unit time.
그리고, 0.7t의 두께를 갖는 유리기판이 재료비 등의 이유로 0.5t의 두께를 갖는 유리기판 대비 원가가 비싸며 이러한 원가가 비싼 0.7t의 유리기판을 이용하여 액정패널을 제조한 후, 다시 각 어레이 기판과 컬러필터 기판이 0.5t의 두께를 갖도록 식각을 진행하는 것은 실질적으로 비용측면과 공정측면에서 매우 비효율적이라 할 것이다. After a glass substrate having a thickness of 0.7t is manufactured at a cost higher than that of a glass substrate having a thickness of 0.5t for a reason of material cost or the like and a glass substrate having a cost of 0.7t is used, And the color filter substrate to have a thickness of 0.5t is very inefficient in terms of cost and process.
이러한 경량 박형을 위한 식각 공정 진행에 의한 비용이 유리기판의 원가(0.7t 유리기판의 원가 + 식각공정) 대비 55% 정도가 되고 있으므로 실질적으로 하나의 유리기판보다 경량 박형 구현을 위해 유리기판을 식각하는 비용이 더 크므로 상기 기판의 식각공정은 액정표시장치의 가격경쟁력을 저감시키는 매우 큰 요소 중 하나가 되고 있다.
Since the cost due to the progress of the etching process for the lightweight thin type is about 55% of the cost of the glass substrate (0.7t of the cost of the glass substrate + etching process), the glass substrate is etched The etching process of the substrate is one of the great factors that reduce the price competitiveness of the liquid crystal display device.
이에 본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 경량 박형의 액정패널을 만들기 위해 진행하는 유리재질의 기판 식각 없이 0.5t 이하의 두께를 갖는 유리기판을 이용하여 파손과 휨 발생을 억제하며 공정진행이 가능하도록 함으로써 제조 비용 절감과 기판의 단위 시간당 생산성을 향상시킬 수 있는 액정표시장치의 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of suppressing breakage and warping by using a glass substrate having a thickness of 0.5 t or less without etching a glass substrate, And it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a liquid crystal display device capable of reducing the manufacturing cost and improving the productivity per unit time of the substrate.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 제 1 두께를 갖는 유리재질의 제 1 및 제 2 기판 각각의 일면 또는 양면에 DLC(diamond-like carbon)를 증착하거나 또는 글라스 섬유 강화물을 코팅하여 제 2 두께의 보강층을 형성하는 단계와; 상기 보강층이 형성된 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 박막트랜지스터와 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 보강층이 형성된 상기 제 2 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 제 1 및 제 2 공정용 패널을 상기 화소전극과 상기 컬러필터층이 마주하도록 한 상태에서 가장자리를 따라 씰패턴을 형성하고 액정층을 개재하여 합착하는 단계를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display (DLC) device, the method comprising the steps of: depositing diamond-like carbon (DLC) on one surface or both surfaces of a glass substrate having a first thickness, ) Or coating a glass fiber reinforced material to form a reinforcing layer of a second thickness; Forming a thin film transistor and a pixel electrode on the first substrate on which the enhancement layer is formed, the gate line and the data line intersecting with each other; Forming a color filter layer on the second substrate on which the reinforcing layer is formed; And forming a seal pattern along the edges of the first and second process panels in a state in which the pixel electrode and the color filter layer are opposed to each other and bonding them together through the liquid crystal layer.
이때, 상기 제 1 두께는 0.1t 내지 0.5t이며, 상기 제 2 두께는 0.5㎛ 내지 5㎛인 것이 특징이다. At this time, the first thickness is 0.1 t to 0.5 t, and the second thickness is 0.5 to 5 μm.
상기 제 1 및 제 2 기판 각각의 일면 또는 양면에 상기 보강층을 형성하는 단계는, 롤투롤(roll to roll) 방식에 의해 끊김없이 연결되는 통유리기판을 제조하는 단계와; 상기 통유리기판의 일면 또는 양면에 상기 보강층을 형성하는 단계와; 상기 보강층이 형성된 상기 통유리기판을 절단하여 상기 제 1 및 제 2 기판으로 분리하는 단계를 포함한다. 하The step of forming the reinforcing layer on one side or both sides of each of the first and second substrates may include the steps of: manufacturing a bottom glass substrate that is continuously connected by a roll-to-roll method; Forming the reinforcing layer on one side or both sides of the whole glass substrate; And cutting the whole glass substrate on which the reinforcing layer is formed to separate the first and second substrates. Ha
상기 제 1 및 제 2 기판 각각의 일면 또는 양면에 상기 보강층을 형성하는 단계는, 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 보조기판에 부착시키는 단계와; 상기 보조기판이 부착된 상태의 상기 제 1 및 제 2 기판 위로 각각 DLC(diamond-like carbon)를 증착하거나 또는 글라스 섬유 강화물을 코팅하여 제 2 두께의 보강층을 형성하는 단계와; 상기 보강층이 형성된 상기 제 1 기판 및 제 2 기판으로부터 상기 보조기판을 분리하는 단계를 포함한다. The step of forming the reinforcing layer on one or both surfaces of each of the first and second substrates may include attaching the first substrate and the second substrate to an auxiliary substrate; Depositing diamond-like carbon (DLC) on the first and second substrates, respectively, with the auxiliary substrate attached thereto, or coating a glass fiber reinforced material to form a reinforcing layer having a second thickness; And separating the auxiliary substrate from the first substrate and the second substrate on which the reinforcing layer is formed.
상기 DLC의 증착은 300℃ 내지 500℃의 온도 분위기에서 진행하며, 상기 DLC가 증착된 한 이후에는 상기 제 1 및 제 2 기판을 급랭시키는 단계를 포함한다. The deposition of the DLC proceeds in a temperature atmosphere of 300 ° C to 500 ° C, and after the DLC deposition, the first and second substrates are quenched.
상기 글라스 섬유 강화물은 polyvinyl butyral 인 것이 특징이다. The glass fiber reinforced material is polyvinyl butyral.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법은, 제 1 두께를 갖는 제 1 및 제 2 보조기판 상에 각각 제 1 형태의 접착패턴을 형성하고, 상기 제 1 및 제 2 보조기판 상에 상기 제 1 두께보다 얇은 제 2 두께를 갖는 유리재질의 제 1 및 제 2 공정용 기판을 각각 위치시킨 후 합착함으로써 제 1 및 제 2 공정용 패널을 형성하는 단계와; 상기 제 1 공정용 패널의 상기 제 1 공정용 기판 상에 서로 교차하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 박막트랜지스터와 화소전극을 형성하는 단계와; 상기 제 2 공정용 패널의 상기 제 2 공정용 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계와; 상기 제 1 및 제 2 공정용 패널을 상기 화소전극과 상기 컬러필터층이 마주하도록 한 상태에서 가장자리를 따라 씰패턴을 형성하고 액정층을 개재하여 합착하는 단계와; 상기 제 1 및 제 2 보조기판을 각각 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판으로부터 분리하는 단계를 포함한다. According to another embodiment of the present invention, there is provided a method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: forming a first type of adhesion pattern on first and second auxiliary substrates each having a first thickness; Forming first and second process panels by positioning first and second glass substrates of a first thickness and a second thickness thinner than the first thickness, respectively, and then joining them; Forming a gate wiring and a data wiring, a thin film transistor and a pixel electrode crossing each other on the first process substrate of the first process panel; Forming a color filter layer on the second process substrate of the second process panel; Forming a seal pattern along an edge of the first and second process panels in a state in which the pixel electrode and the color filter layer face each other, and bonding the seal pattern through the liquid crystal layer; And separating the first and second auxiliary substrates from the substrates for the first and second processes, respectively.
상기 접착패턴은, 열경화 특성 또는 레이저 빔 조사에 의해 경화되는 특성을 갖는 접착물질인 Phenyl계 silsesquioxane 또는 PDMS로 이루어지며, 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판 상에 시린지를 통해 상기 접착물질을 도포함으로써 상기 제 1 형태를 갖는 접착패턴을 형성하고, 상기 접착패턴에 열을 가하거나 또는 레이저 빔을 조사하여 경화시키는 단계를 포함한다.Wherein the adhesive pattern comprises a Phenyl silsesquioxane or PDMS, which is an adhesive material having a property of being cured by a thermal curing property or a laser beam irradiation, and applying the adhesive material onto the substrates for the first and second processes through a syringe Thereby forming an adhesive pattern having the first shape and curing the adhesive pattern by applying heat or irradiating a laser beam.
상기 접착패턴은 레이저 빔 조사에 의해 경화되는 특성을 갖는 프릿으로 이루어지며, 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판 상에 프릿 패이스트를 시린지를 통해 도포하거나 또는 프린트 스크린 법에 의해 인쇄함으로써 프릿 재질의 상기 접착패턴을 형성하고, 프릿 재질의 상기 접착패턴에 레이저 빔을 조사하여 상기 접착패턴을 경화시키는 단계를 포함한다. Wherein the adhesive pattern is made of frit having a property of being cured by laser beam irradiation and the frit paste is applied on the first and second process substrates through a syringe or printed by a printing screen method, Forming the adhesive pattern, and irradiating the adhesive pattern of the frit material with a laser beam to cure the adhesive pattern.
상기 제 1 및 제 2 보조기판을 각각 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판으로부터 분리하는 단계는, 상기 접착패턴이 형성된 부분에 대응하여 레이저 어블레이션 공정을 진행하거나 또는 식각액에 노출시킴으로써 상기 접착패턴의 접착력을 약화시키는 단계를 포함한다. 이때, 상기 레이저 어블레이션 공정을 진행하여 제 1 및 제 2 보조기판을 각각 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판으로부터 분리하는 단계는 상기 접착패턴이 희생층을 대신함으로써 상기 제 1 보조기판과 제 1 공정용 기판 사이 및 상기 제 2 보조기판과 제 2 공정용 기판 사이에는 레이저 어블레이션 진행을 위한 별도의 희생층이 형성되지 않는 것이 특징이다. The step of separating the first and second auxiliary substrates from the substrates for the first and second process, respectively, may be performed by progressing a laser ablation process corresponding to a portion where the adhesive pattern is formed or by exposing the adhesive pattern to an etching liquid, And weakening the adhesive force. The step of separating the first and second auxiliary substrates from the substrates for the first and second processes by proceeding with the laser ablation process may be performed by replacing the sacrificial layer with the first auxiliary substrate and the first auxiliary substrate, A separate sacrificial layer for laser ablation progress is not formed between the process substrate and between the second auxiliary substrate and the second process substrate.
상기 제 1 두께는 0.5t 내지 1.0t이며, 상기 제 2 두께는 0.1t 내지 0.5t이며, 상기 제 1 및 제 2 보조기판은 유리재질인 것을 특징이다. The first thickness is 0.5t to 1.0t, the second thickness is 0.1t to 0.5t, and the first and second auxiliary substrates are glass.
상기 제 1 및 제 2 접착패턴은 그 형태가 상기 제 1 및 제 2 보조기판의 가장자리를 따라 사각형의 단일패턴 형태이거나, 이격하는 사각형의 이중패턴 형태이거나, 이격하는 사각형의 다중패턴 형태이거나, 격자형태인 것이 특징이다. The first and second adhesive patterns may be in the form of a single pattern of a quadrangular shape along the edges of the first and second auxiliary substrates or may be in the form of a rectangular double pattern or spaced apart rectangular pattern, .
상기 제 1 및 제 2 보조기판은 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판으로부터 분리된 이후에는 새로운 제 1 및 제 2 공정용 기판과의 부착되어 상기 제 1 및 제 2 공정용 패널을 이루기 위해 재활용되는 것을 특징이다. After the first and second auxiliary substrates are separated from the substrates for the first and second processes, they are adhered to new substrates for the first and second processes and recycled to form the panels for the first and second processes .
상기 컬러필터층 상부에 투명한 공통전극을 형성하는 단계를 포함한다. And forming a transparent common electrode on the color filter layer.
상기 화소전극은 각 화소영역 내에서 이격하는 다수의 바(bar) 형태를 가지며, 상기 게이트 배선을 형성하는 단계에서 상기 게이트 배선과 나란하게 공통배선을 형성하며, 상기 바(bar) 형태의 화소전극을 형성하는 단계에서 상기 바(bar) 형태의 다수의 화소전극과 교대하며 상기 공통배선과 접촉하는 바(bar) 형태의 다수의 공통전극을 형성하는 것을 특징으로 한다.
The pixel electrode has a plurality of bar shapes spaced apart from each other in the pixel region and forms a common line in parallel with the gate line in the step of forming the gate line, A plurality of bar-shaped common electrodes alternating with the plurality of bar-shaped pixel electrodes and contacting the common lines are formed.
본 발명은 별도의 패널 식각 공정 진행없이 경량 박형의 액정표시장치를 제공할 수 있으며, 패널 식각에 의해 패널의 표면의 거칠기 등의 증가에 의한 기판 강성 약화에 의한 파손을 억제하는 효과가 있다.The present invention can provide a lightweight and thin liquid crystal display device without a separate panel etching process, and has an effect of suppressing breakage due to weakening of substrate rigidity due to an increase in roughness or the like of the surface of the panel by panel etching.
나아가 본 발명은 상대적으로 재료비가 저렴한 두께가 얇은 유리기판을 이용함으로써 제조 비용을 저감할 수 있으므로 제품의 가격 경쟁력을 향상시키는 효과가 있다.
Further, since the manufacturing cost can be reduced by using a glass substrate having a relatively small thickness and a relatively small thickness, the present invention has an effect of improving the cost competitiveness of the product.
도 1은 일반적인 0.7t 두께의 유리기판을 이용한 액정표시장치에 대한 분해사시도.
도 2는 종래의 액정표시장치의 경량 박형화를 위해 액정패널의 표면을 식각하는 단위 공정을 나타낸 도면.
도 3a 내지 도 3i는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 경량 박형의 액정표시장치의 제조 단계별 공정 단면도.
도 4a 내지 도 4d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조에 있어 제 1 접착패턴의 다양한 형태를 나타낸 도면.
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 경량 박형의 액정표시장치의 제조 단계별 공정 단면도.
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따라 DLC 재질로 이루어지며 0.5㎛의 두께를 갖는 보강층이 구비된 0.2t 두께의 유리기판의 휨 상태 및 강성을 측정한 것을 나타낸 도면.
도 7은 비교예로서 보강층이 없는 0.2t 두께의 유리기판의 휨 상태 및 강성을 측정한 것을 나타낸 도면.1 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device using a glass substrate having a general thickness of 0.7t.
2 is a view showing a unit process of etching a surface of a liquid crystal panel for making a conventional liquid crystal display thin and light.
FIGS. 3A to 3I are cross-sectional views illustrating steps of manufacturing a lightweight thin-type liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention;
4A to 4D are views showing various forms of the first adhesive pattern in the manufacture of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.
5A to 5F are cross-sectional views illustrating steps of manufacturing a lightweight thin-type liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention;
FIG. 6 is a diagram illustrating a bending state and a rigidity of a glass substrate having a thickness of 0.2t and having a reinforcing layer of a thickness of 0.5 탆 made of a DLC material according to a second embodiment of the present invention.
Fig. 7 is a graph showing the measurement of the bending state and rigidity of a glass substrate having a thickness of 0.2t without a reinforcing layer as a comparative example; Fig.
본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서 가장 특징적인 것은, 유리기판 제조회사에서 제조되어 별도의 두께를 줄이기 위한 식각 등의 공정없이 매끄러운 표면을 갖는 0.1t 내지 0.5t 정도의 두께를 갖는 유리기판을 이용하여 기판의 휨의 영향을 최소화하고, 이동 중 파손 없이 어레이 기판과 컬러필터 기판을 제조하고, 이들 두 기판을 합착하여 액정표시장치를 완성하고 있는 것이다. The most characteristic feature of the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention is that glass substrates having a smooth surface and having a thickness of about 0.1 to 0.5t, An array substrate and a color filter substrate are fabricated by minimizing the influence of warpage of the substrate by using a substrate and without damage during movement, and these two substrates are bonded together to complete a liquid crystal display device.
0.1t 내지 0.5t 정도의 두께를 갖는 유리기판은 일반적인 액정표시장치 제조 라인에 투입 시 그 휨 발생이 커 기판 처짐이 심하게 발생됨으로써 카세트 등의 이동 수단을 이용하여 이동하는데 문제가 있으며, 단위 공정 장비에 로딩 및 언로딩 시 조그마한 충격에 의해서도 휨 발생이 급격히 발생하고 이에 의해 위치 오차가 빈번하게 발생됨으로써 부딪침 등에 의해 파손 불량이 증가하여 공정 진행이 실질적으로 불가능하다.The glass substrate having a thickness of about 0.1 t to 0.5 t has a problem in that it is bent when the glass substrate is put into a manufacturing line of a general liquid crystal display device and the substrate is severely deflected to move using a moving means such as a cassette. The deflection occurs rapidly due to a small impact at the time of loading and unloading. As a result, a positional error is frequently generated, so that failure failure increases due to collision or the like, and the process progress is practically impossible.
따라서, 본 발명의 실시예에 있어서는 이러한 0.1t 내지 0.5t의 유리기판을 제조 라인에 투입하기 전에 휨 발생이 일반적인 액정표시장치에 이용되는 0.7t 정도의 두께를 갖는 유리기판 수준이 되도록 하거나 0.7t 두께의 유리기판보다 휨이 덜 발생되는 수준을 이루며 이동 또는 단위 공정 진행 중 기판 처짐 등의 문제로 발생되는 파손을 억제하기 위해 보조기판을 부착하여 진행하거나 또는 0.1t 내지 0.5t의 유리기판의 표면에 특정 재질의 보호막을 형성하여 진행하는 것을 특징으로 한다.Therefore, in the embodiment of the present invention, before such a glass substrate of 0.1 t to 0.5 t is introduced into the production line, the warpage is made to be the level of the glass substrate having a thickness of about 0.7 t used in a general liquid crystal display, The thickness of the glass substrate is less than the thickness of the glass substrate. In order to prevent breakage caused by movement of the substrate or deflection of the substrate during the unit process, And a protective film made of a specific material is formed.
이때, 상기 보조기판은 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 유리기판의 탈착이 용이하며, 일반적인 액정표시장치의 제조 공정 온도에서도 진행이 가능하며, 온도 변화에 따른 팽창률이 상기 유리기판과 유사한 것이 특징이다.
At this time, the auxiliary substrate can easily detach and attach the glass substrate having a thickness of 0.1 t to 0.5 t, and can proceed even at the manufacturing process temperature of the liquid crystal display device, and the expansion rate according to the temperature change is similar to that of the glass substrate to be.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
도 3a 내지 도 3i는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조 단계별 공정 단면도이다. 3A to 3I are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention.
우선, 도 3a에 도시한 바와 같이, 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 유리기판(이하 제 1 공정용 기판(도 3b의 110)이라 칭함)이 액정표시장치 제조를 위한 각 단위 공정 진행시 처짐 및 파손을 억제하기 위해 상기 제 1 공정용 기판(도 3b의 110)에 부착되는 제 1 보조기판(101) 상에 열경화 특성 또는 레이저 빔 조사에 의해 경화되는 특성을 갖는 접착 물질 예를들면 Silicon계 접착물질인 Phenyl계 silsesquioxane 또는 Phenyl계 PDMS를 시린지 등의 장치를 이용하여 선 형태로 도포하고, 이에 대해 열을 가해 경화시키거나 또는 레이저 빔을 조사하여 경화시킴으로서 제 1 접착패턴(105)을 형성한다.First, as shown in Fig. 3A, a glass substrate having a thickness of 0.1 t to 0.5 t (hereinafter referred to as a substrate for a first process (referred to as 110 in Fig. 3B)) is deflected during each unit process for manufacturing a liquid crystal display And an adhesive material having a property of being cured by thermosetting property or laser beam irradiation on the first
이때, 상기 제 1 접착패턴(105)의 형태는 도 4a 내지 4d(본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치의 제조에 있어 제 1 접착패턴의 다양한 형태를 나타낸 도면)에 제시된 바와같이 다양하게 변경될 수 있다. At this time, the form of the first
즉, 도 4a에 도시한 바와같이, 상기 제 1 보조기판(101)의 가장자리를 따라 상기 제 1 보조기판(101)의 형상인 사각형의 단일패턴 형태로 형성될 수도 있으며, 도 4b에 도시한 바와같이, 이중패턴으로 이격하는 사각형 형태를 이룰 수도 있다. 또한, 상기 제 1 접착패턴(105)은 도 4c에 도시한 바와같이 상기 제 1 보조기판(101) 상에 일정간격 이격하는 다수의 사각형의 다중 패턴 형태를 이룰 수도 있으며, 또는 도 4d에 도시한 바와같이 격자형태를 이룰 수도 있다.That is, as shown in FIG. 4A, the first
한편, 상기 제 1 공정용 기판(110)과 상기 제 1 보조기판(101)을 합착된 상태를 유지시키기 위한 제 1 접착패턴(105)은 열경화성 또는 레이저 경화성의 특성을 갖는 물질 이외에 프릿(frit) 재질로 이루어질 수도 있다. 상기 제 1 접착패턴(105)이 프릿 재질로 이루어지는 경우, 프릿 패이스트를 시린지를 이용하여 도포하거나 스크린 프린팅을 진행함으로써 도 4a 내지 도 4d에 제시된 패턴 형태를 갖도록 형성할 수도 있다. The first
도 3b에 있어서는 상기 제 1 접착패턴(105)은 도 4a에 제시된 바와같이 사각형의 단일패턴 형태로 형성된 것을 일례로 나타내었다.In FIG. 3B, the first
한편, 상기 제 1 보조기판(101)은 상기 제 1 공정용 기판(도 3b의 110)과 동일한 유리재질로 이루어지며 그 두께는 0.5t 이상이고 더욱 정확히는 0.5t 내지 1.0t인 것이 특징이다. 이렇게 제 1 보조기판(101)을 제 1 공정용 기판(도 3b의 110)과 동일한 유리재질로 이루어진 것을 이용하는 이유는 상기 제 1 공정용 기판(도 3b의 110)과 온도 변화에 따른 팽창률 등이 유사한 수준이 되도록 하여 단위 공정 진행시 발생되는 팽창 수축에 따른 오차를 최소화하여 얼라인 불량 등을 억제하기 위함이다.Meanwhile, the first
나아가 유리재질의 제 1 보조기판(101)의 경우, 기존의 일반적인 액정표시장치의 어레이 기판과 컬러필터 기판을 이루는 유리기판과 그 재질이 동일하고 그 두께는 유사한 수준이 되므로, 카세트단 또는 단위 공정 장치의 사이에 위치하는 버퍼단 등의 피치 조절 등을 필요로 하지 않는다. Further, in the case of the first
따라서, 로봇 등의 상하 움직임 폭 등을 조절할 필요가 없으므로 바로 일반적인 액정표시장치용 제조 라인에 이용될 수 있기 때문이다. Therefore, it is not necessary to adjust the vertical movement width of the robot or the like, and thus it can be used in a general manufacturing line for a liquid crystal display device.
다음, 도 3b에 도시한 바와같이, 전술한 특성을 갖는 제 1 접착패턴(105)이 구비된 상기 제 1 보조기판(101) 위로 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 유리재질의 제 1 공정용 기판(110)을 안착시키고, 합착을 실시한 후, 상기 제 1 보조기판(101) 상에 구비된 상기 제 1 접착패턴(105)을 경화시킴으로써 상기 제 1 보조기판(101)과 상기 제 1 공정용 기판(110)이 합착된 상태를 이루도록 한다. 이때, 이러한 합착된 상태의 제 1 보조기판(101)과 제 1 공정용 기판(110)을 제 1 공정용 패널(도 3c의 210)이라 칭한다.Next, as shown in FIG. 3B, the first
이때, 상기 제 1 접착패턴(105)이 열경화 특성 또는 레이저 빔 조사에 의해 경화되는 특성을 갖는 접착 물질로 이루어진 경우 열을 가하거나 또는 레이저 빔을 조사함으로서 경화시킴으로서 상기 제 1 보조기판(101)과 제 1 공정용 기판(110)이 합착된 상태를 이루도록 하며, 상기 제 1 접착패턴(105)이 프릿으로 이루어진 경우, 1차적으로 열을 가하여 상기 프릿 재질의 제 1 접착패턴(105)을 열 경화시킨 후, 또 다시 레이저 빔을 조사함으로써 완전히 경화시킴으로써 상기 제 1 보조기판(101)과 제 1 공정용 기판(110)이 합착된 상태를 이루도록 할 수 있다. In this case, when the first
이렇게 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 제 1 공정용 기판(110)과 제 1 보조기판(101)이 합착된 상태의 상기 제 1 공정용 패널(210)은 이를 이루는 제 1 공정용 기판(110)과 제 1 보조기판(101)이 서로 동일한 유리재질로 이루어짐으로써 온도 변화에 따른 팽창률이 동일하므로 단위 공정 진행시 팽창률이 다름에 의해 휨이 발생하는 등의 문제는 전혀 없는 것이 특징이다. The
또한, 제 1 공정용 기판(110)은 그 자체로 0.1t 내지 0.5t 정도의 두께를 갖지만 상기 제 1 보조기판(101)과 합착되어 제 1 공정용 패널(210)을 이룸에 따라 그 휨 발생이 현저히 줄게 되며 일반적인 0.7t의 두께를 갖는 유리기판 정도의 휨 수준 또는 그 이하의 휨 수준이 됨으로써 액정표시장치용 단위 공정을 진행하는 데에는 전혀 문제되지 않는다.In addition, although the
다음, 도 3c에 도시한 바와 같이, 상기 제 1 공정용 패널(210)에 대해 일반적인 어레이 기판의 제조하는 어레이 공정을 진행함으로써 상기 제 1 공정용 기판(110) 상에 서로 교차하여 화소영역을 정의하며 게이트 절연막(156)을 개재하여 서로 교차하는 데이터 배선(미도시)과 게이트 배선(미도시)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 3C, an array process for fabricating a general array substrate is performed on the
그리고, 상기 각 화소영역에 있어 상기 게이트 배선(미도시)과 데이터 배선(미도시)이 만나는 지점에 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 형성한다. 이때, 상기 박막트랜지스터(Tr)는 일례로 게이트 전극(115)과, 상기 게이트 절연막(117)과, 순수 비정질 실리콘의 액티브층(120a)과 불순물 비정질 실리콘의 오믹콘택층(120b)으로 이루어진 반도체층(120)과, 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)이 적층된 구성을 가질 수 있으며, 상기 게이트 전극(115)은 상기 게이트 배선(미도시)과 연결되고 상기 소스 전극(133)은 상기 데이터 배선(미도시)과 연결되도록 형성한다. In each pixel region, a thin film transistor Tr as a switching element is formed at a position where the gate wiring (not shown) meets a data wiring (not shown). The thin film transistor Tr includes a
또한, 상기 박막트랜지스터(Tr) 위로 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(136)을 노출시키는 보호층(140)을 형성하고, 상기 보호층(140) 위로 투명 도전성 물질로 이루어지며 상기 각 화소영역 별로 상기 드레인 전극(136)과 접촉하는 화소전극(148)을 형성한다.A
다음, 도 3d에 도시한 바와 같이, 상기 제 1 보조기판(도 3c의 101)과 동일한 재질 및 구성을 갖는 제 2 보조기판(180) 상에 상기 제 1 접착패턴(도 3c의 105)과 동일한 물질로 이루어지며 동일한 형태를 갖는 제 2 접착패턴(185)을 형성한다. 이때, 상기 제 2 접착패턴(185) 또한 그 형태가 도 4a에 제시된 바와같이 사각형의 단일패턴 형태로 형성된 것을 일례로 나타내었다.
Next, as shown in FIG. 3D, on the second
다음, 상기 제 2 접착패턴(185)이 형성된 상기 제 2 보조기판(180) 위로 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 유리재질의 제 2 공정용 기판(150)을 위치시키고 합착하고 상기 제 2 접착패턴(185)을 열경화시키거나, 또는 레이저 빔 조사에 진행하여 경화시킴으로서 도 3e에 도시한 바와같이, 상기 제 2 보조기판(180)과 제 2 공정용 기판(150)이 합착된 제 2 공정용 패널(220)을 완성한다.Next, a
다음, 상기 제 2 공정용 패널(220)의 상기 제 2 공정용 기판(150) 상에 일반적인 컬러필터 형성 공정을 진행함으로써 각 화소영역이 경계에 블랙매트리스(153)를 형성하고, 상기 블랙매트릭스(153)와 상기 블랙매트릭스(153)로 둘러싸인 영역에 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 순차 반복하는 형태의 컬러필터층(156)을 형성한다.Next, a general color filter forming process is performed on the
다음, 상기 컬러필터층(156) 위로 투명 도전성 물질을 증착함으로써 공통전극(158)을 형성한다.Next, a
이후, 상기 공통전극(158) 위로 각 화소영역의 경계에 대응하여 기둥형태로 일정한 높이를 갖는 패턴드 스페이서(170)를 형성한다.Then, a
이러한 블랙매트릭스(153)와, 컬러필터층(156)과 공통전극(158) 및 패턴드 스페이서(170)를 형성하는 컬러필터 공정을 진행함에 있어서도 상기 제 2 공정용 패널(220)은 일반적인 0.7t 정도의 두께를 갖는 유리기판과 유사한 휨 정도를 가짐으로써 큰 휨 발생에 의한 단위 공정 불량 또는 파손 없이 안정적으로 진행될 수 있다.The
다음, 도 3f에 도시한 바와 같이, 상기 제 1 또는 제 2 공정용 패널(210, 220) 중 어느 하나에 대해 가장자리를 따라 씰패턴(177)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 3F, a
이후, 상기 화소전극(148)이 형성된 제 1 공정용 패널(210)과 상기 공통전극(158)이 형성된 상기 제 2 공정용 패널(220)을 상기 화소전극(148)과 공통전극(158)이 마주하도록 위치시킨다. The
다음, 상기 씰패턴(177) 내측에 액정층(175)을 개재한 상태에서 상기 패턴드 스페이서(170)의 끝단이 상기 제 2 공정용 패널(220)의 최상층에 구성된 상기 보호층(140)과 접촉하도록 한 후, 합착 공정을 진행하여 상기 제 1 및 제 2 공정용 패널(210, 220)이 합착된 상태를 이루도록 한다.The patterned
다음, 도 3g에 도시한 바와 같이, 합착된 상태의 상기 제 1 및 제 2 공정용 패널(210, 220)의 외측면에 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)이 형성된 부분에 대응하여 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)의 접착력을 약화시키는 공정을 진행한다. Next, as shown in FIG. 3G, the first and
일례로 레이저 조사 장치(200)를 이용하여 레이저 빔(LB)을 조사하는 레이저 어블레이션 공정을 진행함으로써 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)의 접착력을 약화시킨다. 이러한 레이저 어블레이션에 이용되는 레이저 빔은 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)을 경화시키기 위해 사용되는 레이저 빔의 소스와 파워 및 파장대가 다르며, 경화된 상태의 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)의 접착력을 약화시키는 것이 특징이다. For example, the laser ablation process of irradiating the laser beam LB using the
이때, 본 발명의 제 1 실시예에 있어서는, 상기 레이저 어블레이션 공정을 진행하여 제 1 및 제 2 보조기판(101, 180)을 각각 상기 제 1 및 제 2 공정용 기판(110, 150)으로부터 분리하는 단계는 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)이 희생층을 대신함으로써 상기 제 1 보조기판(101)과 제 1 공정용 기판(110) 사이 및 상기 제 2 보조기판(180)과 제 2 공정용 기판(150) 사이에는 레이저 어블레이션 진행을 위한 별도의 희생층을 필요로 하지 않는 것이 특징이다. At this time, in the first embodiment of the present invention, the laser ablation process is performed to separate the first and second
이후, 도 3h에 도시한 바와같이, 상기 제 1 공정용 기판(110)의 외측면에 부착된 상기 제 1 보조기판(101)과 상기 제 2 공정용 기판(150)의 외측면에 부착된 상기 제 2 보조기판(180)을 탈착시킴으로써 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 제 1 및 제 2 공정용 기판(110, 150)으로 이루어진 액정패널(230)을 형성한다.3H, the first
도면에 있어서는 레이저 어블레이션을 진행한 후 상기 제 1 및 제 2 보조기판(101, 180)을 탈착시키는 것을 나타내고 있지만, 변형예로서 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)이 형성된 부분에 대응하여 레이저 빔(LB)을 조사하는 레이저 어블레이션 공정을 대신하여 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)을 식각시키는 식각액에 노출시킴으로써 상기 액정패널(230)로부터 상기 제 1 및 제 2 보조기판(101, 180)을 탈착시킬 수도 있다. In the drawing, the first and second
한편, 이렇게 액정패널(230)로부터 탈착된 상기 제 1 및 제 2 보조기판(101, 180)각각은 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)을 제거한 후 재활용되는 것이 특징이다. The first and second
즉, 레이저 어블레이션 또는 식각에 의해 접착력을 잃은 상태의 상기 제 1 및 제 2 접착패턴(105, 185)을 완전히 제거한 후, 접착력을 갖는 새로운 제 1 및 제 2 접착패턴(미도시)을 형성 한 후, 새로운 제 1 및 제 2 공정용 기판(미도시)에 부착시킴으로써 지속적으로 재활용된다.That is, after completely removing the first and second
전술한 바와같이 진행하여 완성된 액정패널(230)은 비록 어레이 소자가 형성된 제 1 공정용 기판(110)과 컬러필터층이 형성된 제 2 공정용 기판(150)이 모두 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는다 하더라도 합착되어 서로 액정패널(230)을 이룬 상태가 되므로 휨이 거의 발생되지 않으며, 휨이 발생된다 하더라도 그 휨의 정도는 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 단판 상태의 유리기판 보다는 작으며, 합착력을 고려할 때, 0.7t의 두께를 갖는 단판 상태의 유리기판의 휨보다도 작으므로 이후에 진행되는 단위 공정에서는 휨 발생에 기인한 문제는 발생되지 않는다.Although the
다음, 도 3i에 도시한 바와같이, 전술한 바와같이 제조된 액정패널(230)에 대해 이의 양 외측면에 제 1 및 제 2 편광판(187, 188)을 부착함으로써 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(109)를 완성할 수 있다.Next, as shown in FIG. 3I, by attaching the first and second
전술한 바와같이 본 발명의 제 1 실시예에 따라 제조된 액정표시장치(109)는 이를 이루는 제 1 공정용 기판(110)과 제 2 공정용 기판(150) 자체의 두께가 각각 0.1t 내지 0.5t가 되므로 상기 액정표시장치(109)는 제 1 및 제 2 편광판(187, 188)과 액정층(175)의 두께가 동일하다는 가정하에 종래의 0.7t의 두께를 갖는 유리기판을 이용한 액정표시장치 대비 0.4mm 내지 1.0mm가 얇아지며, 그 무게 또한 1/7 내지 5/7 정도가 가벼워짐을 알 수 있다.As described above, in the liquid
따라서, 최근 표시장치의 트렌드인 경량/박형의 액정표시장치를 구현할 수 있다. Therefore, a lightweight / thin liquid crystal display device which is a trend of display devices in recent years can be realized.
한편, 전술한 바와같이 진행되는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 액정표시장치(109)의 제조방법은 액정패널(230)의 외측면을 식각하는 공정이 삭제됨으로써 단위 시간당 생산성을 향상시킬 수 있으며, 나아가 0.7t 두께의 유리기판 대비 상대적으로 싼 0.1t 내지 0.5t 두께의 유리기판을 이용함으로써 제조비용을 저감시킬 수 있는 것이 특징이다.
Meanwhile, in the method of manufacturing the liquid
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 경량 박형의 액정표시장치의 제조 단계별 공정 단면도이다. 5A to 5F are cross-sectional views illustrating steps of manufacturing a lightweight thin-type liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.
우선, 도 5a에 도시한 바와 같이, 롤(400) 투 롤(Roll-to-Roll)(400) 방식으로 진행되는 유리기판의 제조 단계에서 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 통유리기판(301)을 일정 크기를 갖는 단위 유리기판(도 5b의 310)으로 절단하기 전 단계에서 300℃ 내지 500℃의 온도 분위기에서 다이아몬드와 같이 단단한 구조를 갖는 카본 물질(diamond-like carbon :DLC, 이하 DLC로 칭함)을 상기 통유리기판(301)의 일측면 또는 양측면에 0.5㎛ 내지 5㎛ 정도의 두께가 되도록 증착하고 급냉시킴으로써 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 통유리기판(301)의 휨 특성을 저감시키며, 강성을 향상시키는 보강층(305)을 형성하거나 또는 투명한 글라스 섬유 강화물질 예를들면 polyvinyl butyral을 상온의 분위기에서 0.5㎛ 내지 5㎛ 정도의 두께가 되도록 상기 통유리기판(301)의 일측면 또는 양측면에 코팅함으로써 보강층(305)을 형성한다.First, as shown in FIG. 5A, a
이때, 도면에서는 상기 보강층(305)이 상기 통유리기판(301)의 일측면에 대해서만 형성된 것을 일례로 도시하였지만, 상기 통유리기판(301)의 상측면 및 하측면에 동시에 증착 또는 코팅을 진행함으로써 상기 보강층(305)이 상기 통유리기판(301)의 양측면에 형성되도록 할 수도 있다. Although the reinforcing
다음, 도 5b에 도시한 바와같이, 이렇게 DLC(diamond-like carbon) 또는 글라스 섬유 강화물질로서 이루이진 보강층(305)이 구비된 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 통유리기판(301)을 절단장치(410)를 이용하여 일정한 크기로 절단함으로써 액정표시장치 제조용 단위기판(310)을 이루도록 한다.Next, as shown in FIG. 5B, a glass-
이렇게 일측 표면 또는 양측표면에 DLC 또는 글라스 섬유 강화물질로서 0.5㎛ 내지 5㎛ 정도의 두께를 갖는 보강층(305)이 구비된 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 단위기판(310)은 상기 보강층(305)이 구비됨으로써 그 휨 정도는 0.7t의 두께를 갖는 유리기판 수준이 되며, 그 강성 또한 0.7t의 두께를 갖는 유리기판의 수준을 갖도록 증가됨으로써 액정표시장치 제조를 위한 다수의 장치를 이용하여 무리없이 공정 진행을 할 수 있는 것이 특징이다. A
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따라 DLC 재질로 이루어지며 0.5㎛의 두께를 갖는 보강층이 구비된 0.2t 두께의 유리기판의 휨 상태 및 강성을 측정한 것을 나타낸 도면이며, 도 7은 비교예로서 보강층이 없는 0.2t 두께의 유리기판의 휨 상태 및 강성을 측정한 것을 나타낸 도면이다. FIG. 6 is a view showing a measurement of a bending state and a rigidity of a glass substrate having a thickness of 0.2t, which is made of a DLC material and has a reinforcing layer having a thickness of 0.5 μm, according to a second embodiment of the present invention. As an example, Fig. 2 shows a measurement of the bending state and rigidity of a glass substrate having a thickness of 0.2t without a reinforcing layer.
도 6을 참조하면, 도시한 바와같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 DLC 재질의 보강층이 형성된 0.2t 두께의 유리기판은 휨이 상대적으로 작게 발생됨을 알 수 있으며, 유리기판 전체의 평균적인 강성은 700kgf/㎠ 정도가 됨을 알 수 있다.Referring to FIG. 6, it can be seen that the glass substrate having a thickness of 0.2t formed with the reinforcing layer of the DLC material according to the second embodiment of the present invention has a relatively small warp, and the average And the rigidity is about 700 kgf /
반면, 도 7을 참조하면, 비교예에 따른 보강층이 구비되지 않은 0.2t 두께의 유리기판의 경우 그 휨 정도가 제 2 실시예 대비 현저히 심하게 발생됨을 알 수 있으며, 평균적인 강성은 700kgf/㎠가 됨으로써 본 발명의 제 2 실시예 대비 작음을 알 수 있다.On the other hand, referring to FIG. 7, it can be seen that, in the case of a glass substrate having a thickness of 0.2t without a reinforcing layer according to the comparative example, the degree of warpage thereof is remarkably generated compared to the second embodiment, and the average rigidity is 700kgf / It can be seen that it is smaller than the second embodiment of the present invention.
따라서 이러한 휨 및 강성 측정 결과에 의해 DLC 재질 또는 글라스 섬유 강화물질로 이루어진 보강층이 0.5㎛ 이상의 두께를 갖도록 형성되는 경우, 유리기판의 휨 정도가 현저히 줄어들게 되며, 0.7t 두께의 유기기판의 휨 정도와 같거나 또는 그 이하의 휨 정도를 갖게 됨으로써 0.7t의 유리기판에 대해 진행하는 액정표시장치 제조 공정 진행시 휨에 기인한 이송 중 파손 등의 문제는 억제될 수 있다. Therefore, when the reinforcing layer made of the DLC material or the glass fiber reinforced material is formed to have a thickness of 0.5 탆 or more due to the bending and stiffness measurement results, the degree of warping of the glass substrate is remarkably reduced and the degree of warpage of the organic substrate It is possible to suppress the problems such as breakage during conveyance caused by warping in the process of manufacturing the liquid crystal display device proceeding with respect to the glass substrate of 0.7t.
또한, 그 강성에 있어서도 보강층이 형성되는 경우, 상기 보강층의 두께가 증가함에 따라 강성도 증가됨으로써 강성 약화에 의한 파손 또한 억제시킬 수 있다. In addition, when the reinforcing layer is formed also in the stiffness, the stiffness is increased as the thickness of the reinforcing layer is increased, so that breakage due to stiffness weakening can also be suppressed.
다음, 도 5c에 도시한 바와 같이, 일정한 크기를 갖는 면적 단위로 절단되며 상기 보강층(305)이 형성된 제 1 기판(310)에 대해 일반적인 어레이 기판의 제조하는 어레이 공정을 진행함으로써 상기 제 1 기판(310)의 상기 보강층(305) 상에 서로 교차하여 화소영역을 정의하며 게이트 절연막(356)을 개재하여 서로 교차하는 데이터 배선(미도시)과 게이트 배선(미도시)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5C, an array process for fabricating a general array substrate is performed on the
그리고, 상기 각 화소영역에 있어 상기 게이트 배선(미도시)과 데이터 배선(미도시)이 만나는 지점에 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)를 형성한다. 이때, 상기 박막트랜지스터(Tr)는 일례로 게이트 전극(315)과, 상기 게이트 절연막(317)과, 순수 비정질 실리콘의 액티브층(320a)과 불순물 비정질 실리콘의 오믹콘택층(320b)으로 이루어진 반도체층(320)과, 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(333, 336)이 적층된 구성을 가질 수 있으며, 상기 게이트 전극(315)은 상기 게이트 배선(미도시)과 연결되고 상기 소스 전극(333)은 상기 데이터 배선(미도시)과 연결되도록 형성한다. In each pixel region, a thin film transistor Tr as a switching element is formed at a position where the gate wiring (not shown) meets a data wiring (not shown). The thin film transistor Tr includes a
또한, 상기 박막트랜지스터(Tr) 위로 상기 박막트랜지스터(Tr)의 드레인 전극(336)을 노출시키는 보호층(340)을 형성하고, 상기 보호층(340) 위로 투명 도전성 물질로 이루어지며 상기 각 화소영역 별로 상기 드레인 전극(336)과 접촉하는 화소전극(348)을 형성한다.A protective layer 340 is formed on the thin film transistor Tr so as to expose the
다음, 도 5d에 도시한 바와 같이, 일정한 크기를 갖는 면적 단위로 절단되며 상기 보강층(305)이 구비된 제 2 기판(305)에 대해 일반적인 컬러필터 형성 공정을 진행함으로써 각 화소영역이 경계에 블랙매트리스(353)를 형성하고, 상기 블랙매트릭스(353)와 상기 블랙매트릭스(353)로 둘러싸인 영역에 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴이 순차 반복하는 형태의 컬러필터층(356)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 5D, a general color filter forming process is performed on the
다음, 상기 컬러필터층(356) 위로 투명 도전성 물질을 증착함으로써 공통전극(158)을 형성한다.Next, a
이후, 상기 공통전극(358) 위로 각 화소영역의 경계에 대응하여 기둥형태로 일정한 높이를 갖는 패턴드 스페이서(370)를 형성한다.Thereafter, a
이러한 블랙매트릭스(353)와, 컬러필터층(356)과 공통전극(358) 및 패턴드 스페이서(370)를 형성하는 컬러필터 공정을 진행함에 있어서도 상기 보강층(305)이 구비된 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 제 2 기판(350)은 일반적인 0.7t 정도의 두께를 갖는 유리기판과 유사한 휨 정도를 가짐으로써 큰 휨 발생에 의한 단위 공정 불량 또는 파손 없이 안정적으로 진행될 수 있다.Even when the color filter process for forming the
다음, 도 5e에 도시한 바와 같이, 상기 화소전극(348)이 형성된 제 1 기판(310) 또는 공통전극(358)이 형성된 제 2 기판(350) 중 어느 하나에 대해 가장자리를 따라 씰패턴(377)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 5E, the
이후, 상기 화소전극(348)이 형성된 제 1 기판(310)과 상기 공통전극(358)이 형성된 상기 제 2 기판(350)을 상기 화소전극(348)과 공통전극(358)이 마주하도록 위치시킨다. The
다음, 상기 씰패턴(377) 내측에 액정층(375)을 개재한 상태에서 상기 패턴드 스페이서(370)의 끝단이 상기 제 1 기판(310)의 최상층에 구성된 상기 보호층(340)과 접촉하도록 한 후, 합착 공정을 진행하여 상기 제 1 및 제 2 기판(310, 350)이 합착된 상태를 이루도록 함으로써 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 제 1 및 제 2 기판(310, 350)으로 이루어지 액정패널(380)을 이루도록 한다. The end of the patterned
다음, 도 5f에 도시한 바와같이, 전술한 바와같이 제조된 액정패널(380)에 대해 이의 양 외측면에 제 1 및 제 2 편광판(387, 388)을 부착함으로써 본 발명에 따른 액정표시장치(309)를 완성할 수 있다.Next, as shown in FIG. 5F, the first and second
한편, 본 발명의 제 2 실시예에 있어서는 유리기판의 제조 단계에서 일정 단위 면적 갖도록 절단하기 전에 통유리기판 상태에서 상기 보강층을 형성하는 것을 일례로 도시하였지만, 변형예로서 본 발명의 제 2 실시예에 제시된 바와같이, 상기 보강층은 단위 면적 크기로 절단된 상태에서 0.7t 정도의 두께를 갖는 유리기판의 휨 발생정도 보다 작은 휨을 갖는 보조기판을 이용하여 상기 보조기판에 상기 0.1t 내지 0.5t의 두께를 갖는 단위 유리기판을 부착시킨 후, DLC의 증착, 또는 글라스 섬유 강화물질의 코팅을 통해 상기 보강층을 형성하고, 이후 상기 보조기판을 제거함으로써 보강층이 구비된 단위 기판을 이루도록 할 수도 있다.
In the second embodiment of the present invention, the reinforcing layer is formed in the state of a glass substrate before cutting the glass substrate so as to have a predetermined unit area in the manufacturing step of the glass substrate. However, as a modified example, As shown, the reinforcing layer has a thickness of 0.1 to 0.5t on the auxiliary substrate using an auxiliary substrate having a warp smaller than the degree of warping of the glass substrate having a thickness of about 0.7t in a state of being cut to a unit area size And then the reinforcing layer is formed through deposition of DLC or coating of a glass fiber reinforcing material and then the auxiliary substrate is removed to form a unit substrate having a reinforcing layer.
전술한 바와같이 본 발명의 제 2 실시예에 따른 제조 방법에 의해 제조된 상기 액정표시장치(309)는 박막트랜지스터(Tr)가 구비된 제 1 기판(310)과 컬러필터층(356)이 구비된 제 2 기판(350) 자체의 두께가 각각 0.1t 내지 0.5t가 되므로 상기 액정패널(380)은 제 1 및 제 2 편광판(387, 388)과 액정층(375)의 두께가 동일하다는 가정하에 0.5㎛ 내지 5㎛의 두께를 갖는 보강층(305)의 두께를 제외한다면 종래의 0.7t의 두께를 갖는 유리기판을 이용한 액정표시장치 대비 0.4mm 내지 1.0mm가 얇아지며, 그 무게 또한 1/7 내지 5/7 정도가 가벼워짐을 알 수 있다.As described above, the liquid
따라서, 본 발명의 제 2 실시예에 따라 제조되는 액정표시장치(309) 또한 최근 표시장치의 트렌드인 경량/박형을 구현할 수 있다. Accordingly, the liquid
나아가 전술한 바와같이 진행되는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 액정표시장치의 제조방법 또한 제 1 실시예와 마찬가지로 액정패널(380)의 외측면을 식각하는 공정이 삭제됨으로써 단위 시간당 생산성을 향상시킬 수 있으며, 나아가 0.7t 두께의 유리기판 대비 상대적으로 싼 0.1t 내지 0.5t 두께의 유리기판을 이용함으로써 제조비용을 저감시킬 수 있는 것이 특징이다.
In addition, the manufacturing method of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention as described above can also improve the productivity per unit time by eliminating the step of etching the outer surface of the
한편, 본 발명의 제 1 및 제 2 실시예에 있어서는 상기 제 1 (공정용) 기판상에 각 화소영역별로 판형태의 화소전극이 형성되고, 제 2 (공정용) 기판 상에 표시영역에 대응하여 공통전극이 형성된 것을 특징으로 하는 수직전계를 발현시키는 경량 박형의 액정표시장치의 제조 방법에 대해 설명하였지만, 그 변형예로서 상기 제 1 (공정용) 기판상에 상기 게이트 배선과 동일한 층에 동일한 물질로 나란하게 공통배선이 더욱 형성되고, 상기 화소전극은 바(bar) 형태로서 각 화소영역에 다수개 형성되고 이러한 바 형태의 화소전극과 각각 이격하며 교대하는 형태로 상기 공통배선과 접촉하는 바 형태의 공통전극을 형성하며, 상기 제 2 (공정용) 기판에는 블랙매트릭스와 컬러필터층 및 상기 컬러필터층을 덮으며 오버코트층을 형성함으로써 공통전극과 화소전극이 동일한 제 1 (공정용) 기판상에 형성됨으로써 횡전계를 발현시키는 경량 박형의 액정표시장치를 형성할 수도 있다.On the other hand, in the first and second embodiments of the present invention, a plate-shaped pixel electrode is formed for each pixel region on the first (process) substrate, and a pixel electrode corresponding to a display region is formed on the second A method of manufacturing a lightweight thin-type liquid crystal display device in which a common electrode is formed is described. However, as a modification thereof, a method of manufacturing a thin And a plurality of pixel electrodes are formed in each pixel region in the form of a bar. The pixel electrodes are spaced apart from the bar-shaped pixel electrodes, And the second (process) substrate is formed with an overcoat layer covering the black matrix, the color filter layer, and the color filter layer, The same first formed on the first (Process for) the substrate being may form a lightweight, thin liquid crystal display device of expressing the transverse electric field.
본 발명은 상기 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 한도 내에서 다양하게 변경하여 실시할 수 있다.
The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit of the present invention.
301 : 통유리기판
305 : 보강층
310 : 단위기판
410 : 절단장치301: Whole glass substrate
305: reinforced layer
310: unit substrate
410: Cutting device
Claims (17)
상기 보강층이 형성된 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 박막트랜지스터와 화소전극을 형성하는 단계와;
상기 보강층이 형성된 상기 제 2 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계와;
상기 제 1 및 제 2 기판을 상기 화소전극과 상기 컬러필터층이 마주하도록 한 상태에서 가장자리를 따라 씰패턴을 형성하고 액정층을 개재하여 합착하는 단계
를 포함하며,
상기 제 1 두께는 0.1t 내지 0.5t이며,
상기 제 2 두께는 0.5㎛ 내지 5㎛이며,
상기 제 1 및 제 2 기판 각각의 일면 또는 양면에 상기 보강층을 형성하는 단계는, 상기 제 1 기판과 제 2 기판을 보조기판에 부착시키는 단계와;
상기 보조기판이 부착된 상태의 상기 제 1 및 제 2 기판 위로 각각 상기 DLC(diamond-like carbon)를 증착하거나 또는 상기 글라스 섬유 강화물을 코팅하여 상기 제 2 두께의 상기 보강층을 형성하는 단계와;
상기 보강층이 형성된 상기 제 1 기판 및 제 2 기판으로부터 상기 보조기판을 분리하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조 방법.
Depositing DLC (diamond-like carbon) or coating a glass fiber reinforced material on one or both sides of each of the first and second glass substrates having a first thickness to form a reinforcing layer having a second thickness;
Forming a thin film transistor and a pixel electrode on the first substrate on which the enhancement layer is formed, the gate line and the data line intersecting with each other;
Forming a color filter layer on the second substrate on which the reinforcing layer is formed;
Forming a seal pattern along edges along the first and second substrates with the pixel electrode and the color filter layer facing each other, and cementing the first and second substrates through the liquid crystal layer
/ RTI >
Wherein the first thickness is from 0.1 t to 0.5 t,
The second thickness is 0.5 탆 to 5 탆,
The step of forming the reinforcing layer on one or both surfaces of each of the first and second substrates may include attaching the first substrate and the second substrate to an auxiliary substrate;
Depositing the diamond-like carbon (DLC) on the first and second substrates with the auxiliary substrate attached thereto, or coating the glass fiber reinforced material to form the reinforcing layer of the second thickness;
And separating the auxiliary substrate from the first substrate and the second substrate on which the reinforcing layer is formed.
상기 보강층이 형성된 상기 제 1 기판 상에 서로 교차하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 박막트랜지스터와 화소전극을 형성하는 단계와;
상기 보강층이 형성된 상기 제 2 기판 상에 컬러필터층을 형성하는 단계와;
상기 제 1 및 제 2 기판을 상기 화소전극과 상기 컬러필터층이 마주하도록 한 상태에서 가장자리를 따라 씰패턴을 형성하고 액정층을 개재하여 합착하는 단계
를 포함하며,
상기 제 1 두께는 0.1t 내지 0.5t이며,
상기 제 2 두께는 0.5㎛ 내지 5㎛이며,
상기 제 1 및 제 2 기판 각각의 일면 또는 양면에 상기 보강층을 형성하는 단계는,
롤투롤(roll to roll) 방식에 의해 끊김없이 연결되는 통유리기판을 제조하는 단계와;
상기 통유리기판의 일면 또는 양면에 상기 보강층을 형성하는 단계와;
상기 보강층이 형성된 상기 통유리기판을 절단하여 상기 제 1 및 제 2 기판으로 분리하는 단계를 포함하며,
상기 DLC의 증착은 300℃ 내지 500℃의 온도 분위기에서 진행하며, 상기 DLC가 증착된 이후에는 상기 제 1 및 제 2 기판을 급랭시키는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조 방법.
Depositing DLC (diamond-like carbon) or coating a glass fiber reinforced material on one or both sides of each of the first and second glass substrates having a first thickness to form a reinforcing layer having a second thickness;
Forming a thin film transistor and a pixel electrode on the first substrate on which the enhancement layer is formed, the gate line and the data line intersecting with each other;
Forming a color filter layer on the second substrate on which the reinforcing layer is formed;
Forming a seal pattern along edges along the first and second substrates with the pixel electrode and the color filter layer facing each other, and cementing the first and second substrates through the liquid crystal layer
/ RTI >
Wherein the first thickness is from 0.1 t to 0.5 t,
The second thickness is 0.5 탆 to 5 탆,
Wherein forming the reinforcing layer on one or both sides of each of the first and second substrates comprises:
Manufacturing a full glass substrate which is seamlessly connected by a roll to roll method;
Forming the reinforcing layer on one side or both sides of the whole glass substrate;
Cutting the whole glass substrate on which the reinforcing layer is formed, and separating the glass substrate into the first and second substrates,
Wherein the deposition of the DLC proceeds in a temperature atmosphere of 300 ° C to 500 ° C, and after the DLC is deposited, quenching the first and second substrates.
상기 DLC의 증착은 300℃ 내지 500℃의 온도 분위기에서 진행하며, 상기 DLC가 증착된 이후에는 상기 제 1 및 제 2 기판을 급랭시키는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the deposition of the DLC proceeds in a temperature atmosphere of 300 ° C to 500 ° C, and after the DLC is deposited, quenching the first and second substrates.
상기 글라스 섬유 강화물은 polyvinyl butyral 인 액정표시장치 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the glass fiber reinforced material is polyvinyl butyral.
상기 컬러필터층 상부에 투명한 공통전극을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치 제조 방법.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
And forming a transparent common electrode on the color filter layer.
상기 화소전극은 각 화소영역 내에서 이격하는 다수의 바(bar) 형태를 가지며,
상기 게이트 배선을 형성하는 단계에서 상기 게이트 배선과 나란하게 공통배선을 형성하며,
상기 바(bar) 형태의 화소전극을 형성하는 단계에서 상기 바(bar) 형태의 다수의 화소전극과 교대하며 상기 공통배선과 접촉하는 바(bar) 형태의 다수의 공통전극을 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치 제조 방법.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
The pixel electrode has a plurality of bar shapes spaced apart from each other in the pixel region,
Forming a common wiring in parallel with the gate wiring in the step of forming the gate wiring,
And forming a plurality of bar-shaped common electrodes alternating with the plurality of bar-shaped pixel electrodes and in contact with the common lines in the step of forming the bar-shaped pixel electrodes. Wherein the liquid crystal display device is a liquid crystal display device.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110044669A KR101799937B1 (en) | 2011-05-12 | 2011-05-12 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
KR1020110056069A KR101858554B1 (en) | 2011-06-10 | 2011-06-10 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
TW100148649A TWI468786B (en) | 2011-05-12 | 2011-12-26 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
US13/338,034 US8828758B2 (en) | 2011-05-12 | 2011-12-27 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
CN201110456994.4A CN102778771B (en) | 2011-05-12 | 2011-12-30 | The manufacture method of light and thin type liquid crystal indicator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110056069A KR101858554B1 (en) | 2011-06-10 | 2011-06-10 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020170071642A Division KR101832894B1 (en) | 2017-06-08 | 2017-06-08 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20120136877A KR20120136877A (en) | 2012-12-20 |
KR101858554B1 true KR101858554B1 (en) | 2018-05-17 |
Family
ID=47904164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110056069A KR101858554B1 (en) | 2011-05-12 | 2011-06-10 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101858554B1 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101432575B1 (en) * | 2013-03-29 | 2014-08-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | Method of fabricating lightweight and thin liquid crystal display device |
KR102009648B1 (en) * | 2013-06-19 | 2019-08-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | Display device and method for fabricating the same |
KR20150056316A (en) | 2013-11-15 | 2015-05-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | Manufacturing method of device substrate and display device manufatured by using the method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009025788A (en) | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Lg Display Co Ltd | Array substrate for liquid crystal display, and its producing method |
JP2011013677A (en) | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Samsung Electronics Co Ltd | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
-
2011
- 2011-06-10 KR KR1020110056069A patent/KR101858554B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009025788A (en) | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Lg Display Co Ltd | Array substrate for liquid crystal display, and its producing method |
JP2011013677A (en) | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Samsung Electronics Co Ltd | Liquid crystal display and method of manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120136877A (en) | 2012-12-20 |
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