KR101854670B1 - Cleaning device for flat type filter - Google Patents

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KR101854670B1
KR101854670B1 KR1020170184021A KR20170184021A KR101854670B1 KR 101854670 B1 KR101854670 B1 KR 101854670B1 KR 1020170184021 A KR1020170184021 A KR 1020170184021A KR 20170184021 A KR20170184021 A KR 20170184021A KR 101854670 B1 KR101854670 B1 KR 101854670B1
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박정호
기동석
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브니엘 네이처 주식회사
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Abstract

The present invention relates to a flat filter cleaning device. In particular, the flat filter cleaning device can clean a filter assembly in which a plurality of flat filters are continuously arranged, in the installed state as is, and by adjusting gaps, can be used for flat filters of various standards. According to the present invention, the flat filter cleaning device comprises: a plurality of cleaning plates; an installation frame; and a gap adjustment device.

Description

평판 필터 세정장치{Cleaning device for flat type filter}Technical Field [0001] The present invention relates to a flat-

본 발명은 평판 필터 세정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 다수개의 평판 필터가 연속 배치된 필터 어셈블리를 설치 상태 그대로 동시에 세정하되, 유격 조절이 가능하여 규격이 다양한 평판 필터에 적용할 수 있는 평판 필터 세정장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flat filter cleaning apparatus, and more particularly, to a flat filter cleaning apparatus which is capable of cleaning a filter assembly in which a plurality of flat filter plates are continuously arranged, And a cleaning device.

일반적으로, 산업폐수, 생활하수, 농축산폐수 등의 오폐수는 정화설비를 통하여 오염물질을 일정 기준치 이하로 정화하여 배수해야 하며 이를 위해 다양한 오폐수처리 및 재이용 장치가 사용되고 있다.Generally, wastewater such as industrial wastewater, domestic wastewater, agriculture and wastewater wastewater needs to purify pollutants to a certain level or less through a purifying facility, and various wastewater treatment and reuse devices are used for this purpose.

또한, 최근에는 공공시설, 아파트 및 대규모 주택단지에서 배출되는 생활오수 및 빗물 등을 정화하여 별도의 관으로 보내 수세식 화장실이나 살수 따위의 용도로 재사용하는 중수도 역시 사용되고 있다.In recent years, domestic sewage and rainwater discharged from public facilities, apartments, and large-scale housing complexes are purified and sent to separate pipes to be used for flushing toilets or watering.

한편, 위와 같은 중수도나 오폐수 정화설비에는 물을 정화하기 위한 필터가 설치되는데, 이러한 필터 중 판형 필터는 판 형상의 필터를 다수개 이격 배치하여 이들 사이 또는 이들 내부를 순환하는 과정에서 정화가 이루어지게 한다.On the other hand, a filter for purifying water is installed in the heavy water and wastewater purification facilities as described above. Among these filters, the plate-shaped filters are arranged in such a manner that a plurality of plate- do.

그러나, 종래에는 위와 같은 판형 필터를 장시간 사용 후 세정하기 위해서는 판 형상의 단위 필터들을 각각 수작업으로 분리하여 꺼낸 후 세정액 및 브러쉬 등을 이용하여 깨끗이 닦아내야 했다.However, conventionally, in order to clean the plate-shaped filter after long use, the plate-shaped unit filters have to be separated by hand, and then cleaned by using a cleaning liquid and a brush.

따라서, 필터 세정 작업에 많은 시간이 소요됨은 물론, 세정 작업을 위해 다수의 작업자가 필요하여 인력 낭비가 심하다는 문제점이 있었다.Therefore, it takes a lot of time to perform the filter cleaning operation, and there is a problem that a large number of workers are required for the cleaning operation, and the waste of labor is severe.

대한민국 공개특허 제2012-0124895호Korean Patent No. 2012-0124895

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 다수개의 평판 필터가 연속 배치된 필터 어셈블리를 설치 상태 그대로 동시에 세정하되, 유격 조절이 가능하여 규격이 다양한 평판 필터에 적용할 수 있는 평판 필터 세정장치를 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a flat filter cleaner which can clean a filter assembly in which a plurality of flat plate filters are continuously arranged, Device.

이를 위해, 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치는 다수개의 평판 필터가 일정 간격으로 이격 조립되어 있는 평판 필터를 세정하기 위한 평판 필터 세정장치에 있어서, 상기 평판 필터들 사이에 각각 삽입되어 상기 평판 필터의 표면에 접촉하도록 서로 이격 배치되어 있는 다수개의 세정판과; 상기 세정판들이 일렬로 배치 및 조립되는 설치프레임; 및 상기 세정판이 조립되는 설치프레임의 일측부에 각각 구비되며, 상기 세정판의 위치를 조절함에 따라 상기 세정판들 사이의 유격을 조절할 수 있게 하는 유격조절장치;를 포함하는 것을 특징으로 한다.To this end, a flat-panel filter cleaning apparatus according to the present invention is a flat-panel filter cleaning apparatus for cleaning a flat-panel filter having a plurality of flat plate filters spaced apart from each other at regular intervals, A plurality of cleaning plates spaced from each other to be in contact with the surface; An installation frame in which the cleaning plates are arranged and assembled in a line; And a gap adjusting device which is provided at one side of the mounting frame on which the cleaning plate is assembled, and adjusts the clearance between the cleaning plates by adjusting the position of the cleaning plate.

이때, 상기 유격조절장치는 상기 설치프레임에 관통 형성되며, 수평 방향으로 길이가 긴 유격조절용 장공; 및 상기 장공을 통과하여 상기 세정판의 측면에 고정되며, 상기 장공을 따라 좌우 이동하는 조절구;를 포함하되, 상기 조절구는 상기 1개의 장공 내에서 각각 독립적으로 움직이는 2개의 조절구로 구성되고, 상기 세정판은 1개의 판체가 두께 방향으로 서로 분리 가능한 2개의 분체로 구성되며, 상기 2개의 조절구가 각각 2개의 분체에 연결된 상태에서 1개의 장공 내에서 좌우로 이동함에 따라 2개의 분체가 서로 멀어지거나 가까워지면서 유격이 조절되는 것이 바람직하다.At this time, the clearance regulating device is formed to penetrate through the installation frame, and has a long slot for adjusting the clearance length in the horizontal direction; And a control member fixed to the side surface of the cleaning plate through the elongated hole and moving left and right along the elongated hole, wherein the control member is composed of two control members independently moving in the one long hole, The cleaning plate is composed of two powder particles which can be separated from each other in the thickness direction of the cleaning plate. As the two control ports are connected to the two powder particles, the two powder particles move away from each other in one long hole It is preferable that the clearance is regulated.

또한, 상기 세정판은 1차 세정판 및 2차 세정판을 포함하고, 상기 설치프레임은 상기 1차 세정판에 조립된 제1 설치프레임 및 상기 2차 세정판이 조립된 제2 설치프레임을 포함하되, 상기 1차 세정판에는 상기 평판 필터의 표면을 긁는 스크래퍼가 구비되어 있고, 상기 2차 세정판에는 상기 평판 필터의 표면을 닦아내는 세척부재가 구비되어 있는 것이 바람직하다.The cleaning plate may include a primary cleaning plate and a secondary cleaning plate, wherein the installation frame includes a first installation frame assembled to the primary cleaning plate and a second installation frame assembled with the secondary cleaning plate, , The primary cleaning plate is provided with a scraper which scratches the surface of the flat plate filter, and the secondary cleaning plate is provided with a cleaning member for wiping the surface of the flat plate filter.

또한, 상기 제1 설치프레임 및 제2 설치프레임이 일체로 결합됨에 따라, 일측 방향에는 상기 1차 세정판이 구비되고, 상기 1차 세정판에 대향하는 방향에는 2차 세정판이 구비되며, 상기 1차 세정판으로 상기 평판 필터를 1차 세척 후, 회전에 의해 상기 2차 세정판으로 상기 평판 필터를 2차 세척하는 것이 바람직하다.As the first installation frame and the second installation frame are integrally coupled to each other, the first cleaning plate is provided in one direction, the second cleaning plate is provided in the direction opposite to the first cleaning plate, It is preferable that the flat plate filter is firstly washed with a washing plate and then the flat plate filter is secondarily washed with the secondary washing plate by rotation.

또한, 상기 1차 세정판에는 각각 스크래퍼가 다수개 구비되되, 상기 스크래퍼 사이에는 1차 세정용 유체를 분사하는 제1 분사노즐이 형성되고, 상기 2차 세정판에는 상기 세척부재를 향해 2차 세정용 유체를 분사하는 제2 분사노즐이 형성되어 있는 것이 바람직하다.The first cleaning plate is provided with a plurality of scrapers, and a first spray nozzle for spraying a first cleaning fluid is formed between the scrapers. The second cleaning plate is provided with a second cleaning nozzle It is preferable that a second spray nozzle for spraying a fluid for spraying is formed.

이상과 같은 본 발명은 다수개의 평판 필터들 사이에 각각 삽입되는 세정판 그룹을 이용하여 필터를 세척한다. 따라서, 연속 배치된 평판 필터를 분리하여 꺼내지 않고도 설치 상태 그대로 동시에 세정한다.The present invention as described above cleans the filter using a cleaning plate group inserted between a plurality of flat plate filters. Therefore, the continuously disposed flat plate filters are cleaned at the same time in the installed state without removing them.

또한, 본 발명은 다수의 세정판들 사이의 유격 조절이 가능하다. 따라서, 평판 필터 사이의 간격이 조정됨에 따라 서로 다른 규격을 갖는 다양한 평판 필터에 적용할 수 있게 한다.Further, the present invention is capable of adjusting the clearance between a plurality of cleaning plates. Accordingly, as the spacing between the flat plate filters is adjusted, it is possible to apply to various flat plate filters having different specifications.

도 1은 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치를 나타낸 사용상태도이다.
도 2는 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치의 유격조절장치를 나타낸 일 실시예이다.
도 3은 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치의 유격조절장치를 나타낸 다른 실시예이다.
도 4는 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치의 1차 세정판을 나타낸 도이다.
도 5는 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치의 2차 세정판을 나타낸 도이다.
도 6은 상기 1차 세정판 및 2차 세정판이 일체로 결합된 상태도이다.
도 7은 상기 1차 세정판 및 2차 세정판이 세정용 유체 분사노즐이 결합된 상태도이다.
도 8은 상기 제2차세정판에 제2분사노즐이 형성된 모습이 도시된 도면이다.1 is a state view showing a flat panel filter cleaning apparatus according to the present invention.
FIG. 2 is a view showing an apparatus for adjusting the clearance of the flat filter cleaning apparatus according to the present invention.
3 is a view showing another embodiment of a clearance adjusting device of a flat panel filter cleaning apparatus according to the present invention.
4 is a view showing a primary cleaning plate of a flat panel filter cleaning apparatus according to the present invention.
5 is a view showing a secondary cleaning plate of a flat panel filter cleaning apparatus according to the present invention.
6 is a state in which the primary cleaning plate and the secondary cleaning plate are integrally joined.
7 is a state in which the primary cleaning plate and the secondary cleaning plate are coupled with the cleaning fluid spraying nozzle.
8 is a view showing a state in which the second injection nozzle is formed on the second correction plate.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 평판 필터 세정장치에 대해 상세히 설명한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a flat panel filter cleaning apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

먼저, 도 1과 같이, 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치(20)는 필터 어셈블리(10)를 세정하기 위한 것으로, 세정 대상에 해당하는 필터 어셈블리(10)는 다수개의 평판 필터(11)가 일정 간격으로 이격 조립된 것을 의미한다.1, a flat panel filter cleaning apparatus 20 according to the present invention is for cleaning a filter assembly 10, and a filter assembly 10 corresponding to a cleaning object includes a plurality of flat plate filters 11, Spaced apart from each other.

이러한 평판 필터(11)는 각각의 평판 필터(11)들 사이의 공간(12)을 통해 하수나 폐수 등이 유동 및 월류하며 정화되는 방식이나, 혹은 각각의 평판 필터(11)들 내부를 따라 하수나 폐수가 흐르는 방식 등 다양한 것이 적용될 수 있다.The flat plate filter 11 is designed to have a structure in which sewage or wastewater flows and sweeps through the space 12 between the flat plate filters 11, And the way in which the wastewater flows can be applied.

나아가, 평판 필터(11)는 도시된 바와 같이 수직하게 세워 사용하는 수직형이 적용될 수 있다. 이 경우 본 발명의 평판 필터 세정장치(20) 역시 평판 필터(11)의 상부에서 수직하게 배치된다.Further, the flat plate filter 11 may be applied with a vertical type which is vertically installed and used as shown in the drawing. In this case, the flat panel filter cleaner 20 of the present invention is also vertically disposed at the top of the flat panel filter 11.

따라서 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치(이하, '세정장치'라 함)를 하강시켜, 평판 필터(11)들 사이의 공간(12)에 본 발명의 세정장치(20)가 삽입되면서 평판 필터(11)의 표면에 적체된 오염물질을 제거할 수 있게 한다.Therefore, when the cleaning device 20 of the present invention is inserted into the space 12 between the flat plate filters 11 by lowering the flat plate filter cleaning device according to the present invention (hereinafter referred to as a cleaning device) 11 to remove contaminants that have accumulated therein.

다만, 평판 필터(11)는 수평하게 세워 사용하는 수평형 역시 적용될 수 있으며, 이 경우에는 본 발명의 세정장치(20)를 평판 필터(11)의 측부에서 수평하게 배치한 후 위와 같은 세정작업을 할 수도 있다.In this case, the cleaning device 20 of the present invention is horizontally disposed on the side of the flat plate filter 11, and then the cleaning process is performed as described above. You may.

이를 위해, 본 발명에 따른 평판 필터 세정장치(20)는 세정판(21)과, 설치프레임(22) 및 유격조절장치(23)를 포함한다.To this end, the flat panel filter cleaner 20 according to the present invention includes a cleaning plate 21, an installation frame 22, and a clearance adjusting device 23.

이때, 세정판(21)은 필터 어셈블리(10)를 구성하는 평판 필터(11)들 사이에 각각 삽입된다. 즉, 서로 인접한 2개의 평판 필터(11) 사이의 공간(12)에 세정판(21)이 삽입된 상태에서 상하 왕복 이동을 하며 필터를 세정한다.At this time, the cleaning plate 21 is inserted between the flat plate filters 11 constituting the filter assembly 10, respectively. That is, the filter is cleaned by reciprocating upward and downward while the cleaning plate 21 is inserted into the space 12 between the two flat plate filters 11 adjacent to each other.

이를 위해, 세정판(21)은 단위의 평판 필터(11)의 표면에 접촉하도록 서로 이격 배치된 다수개로 구성되며, 각각의 세정판(21)은 평판 필터(11)들 사이의 간격(12)에 대응하는 두께를 갖는다.To this end, the cleaning plate 21 is composed of a plurality of spaced-apart cleaner plates 21 which are in contact with the surface of the unit plate filter 11, and each of the cleaning plates 21 has a gap 12 between the plate filters 11, Respectively.

다만, 본 발명은 이하에서 설명하는 유격조절장치(23)에 의해 단위의 평판 필터(11)들 사이의 간격(12)이 다르더라도 세정판(21)들의 유격을 조절함에 따라 해당 평판 필터(11)를 세정할 수 있도록 하는 것이 바람직할 것이다.However, according to the present invention, even if the gap 12 between the flat plates 11 of the unit is different by the gap adjusting device 23 described below, the clearance of the flat plates 11 It may be desirable to be able to clean it.

다음, 설치프레임(22)은 이상과 같은 다수개의 세정판(21)이 설치되는 것으로, 설치프레임(22)에는 다수개의 세정판(21)들이 설계된 간격으로 서로 이격된 상태에서 일렬로 배치 및 조립된다.Next, the installation frame 22 is provided with a plurality of cleaning plates 21 as described above. In the installation frame 22, a plurality of cleaning plates 21 are arranged and arranged in a line in a state of being spaced apart from each other at a designed interval. do.

이러한 설치프레임(22)은 일 실시예로써 도시한 바와 같이 세정판(21)의 좌우 양측면을 각각 공통으로 연결하는 한 쌍의 연결바가 사용될 수 있다. 물론, 그 이외에 세정판(21)의 상측 측면을 공통으로 연결할 수도 있다.As shown in this embodiment, the installation frame 22 may be formed of a pair of connecting bars connecting the right and left sides of the washing plate 21 in common. Of course, the upper side of the cleaning plate 21 may be commonly connected.

다만, 설치프레임(22)에는 구동장치(ACT1)가 연결되어 세정 작업이 자동으로 이루어질 수도 있다. 바람직하게 설치프레임(22)에 연결된 구동장치는 X/Y/Z 3축 구동이 가능하여 X/Y축 이동을 통해 세정 위치로 이동하고, Z축 이동을 통해 세정판(21)이 평판 필터(11) 사이에 삽입 및 세정되도록 한다.However, the driving unit ACT1 may be connected to the installation frame 22 to automatically perform the cleaning operation. Preferably, the driving device connected to the mounting frame 22 is driven by X / Y / Z 3-axis drive to move to the cleaning position through movement of the X / Y axis, and the cleaning plate 21 is moved to the flat plate filter 11). ≪ / RTI >

다음, 유격조절장치(23)는 세정판(21)이 조립되는 설치프레임(22)의 일측부에 각각 구비되며, 세정판(21)의 위치를 조절함에 따라 세정판(21)들 사이의 유격을 조절할 수 있게 하는 것을 특징으로 한다.The clearance adjusting device 23 is provided at one side of the mounting frame 22 on which the cleaning plate 21 is assembled and adjusts the clearance between the cleaning plates 21 by adjusting the position of the cleaning plate 21. [ And the like.

이러한 유격조절장치(23)는 설치프레임(22)에 관통 형성되며 수평 방향으로 길이가 긴 유격조절용 장공(23a) 및 상기 장공(23a)을 통과하여 세정판(21)의 측면에 고정되며 장공(23a)을 따라 좌우 이동하는 조절구(23b)를 포함한다.The clearance adjusting device 23 is formed to penetrate through the installation frame 22 and has a slot 23a for adjusting the clearance having a long length in the horizontal direction and is fixed to the side surface of the cleaning plate 21 through the long hole 23a, And an adjuster 23b that moves left and right along the left and right sides 23a and 23a.

다만, 장공(23a)이 설치프레임(22)의 길이를 따라 수평 방향으로 형성된 것은 다수개의 세정판(21)이 수직하게 배치된 상태를 기준으로 하였기 때문이며, 수평 방향은 세정판(21)들 간의 간격을 조절하는 방향을 의미한다.The reason why the long holes 23a are formed in the horizontal direction along the length of the installation frame 22 is that the plurality of cleaning plates 21 are arranged vertically, Means a direction in which the interval is adjusted.

따라서, 도시된 바와 다르게 세정판(21)들이 수평 방향으로 적층 배치된 경우에는 상기 장공(23a)이 설치프레임(22) 상에서 수직 방향으로 길게 형성될 것이며, 이러한 수직 방향은 세정판(21)들의 간격을 조절하는 방향에 해당될 것이다.Therefore, when the cleaning plates 21 are stacked in the horizontal direction, the elongated holes 23a will be formed to be long in the vertical direction on the mounting frame 22, It will correspond to the direction to adjust the gap.

한편, 도 2의 유격조절장치(23)는 장공(23a)을 관통하여 세정판(21)에 고정된 조절구(23b)로써 가압볼트를 일 예로 들었다. 가압볼트는 세정판(21)에 체결된 상태에서 설치프레임(22)를 가압 및 고정하는 것이다.On the other hand, the clearance adjusting device 23 of FIG. 2 is an adjusting hole 23b fixed to the cleaning plate 21 through the long hole 23a, and the pressing bolt is taken as an example. The pressing bolt presses and fixes the mounting frame 22 in a state of being fastened to the cleaning plate 21. [

또한, 가압볼트에 연결된 단위의 세정판(21)은 1개의 판체로 구성되어 있으며, 필터 어셈블리(10)의 규격에 따라 세정판(21)의 두께가 판형 필터(11) 사이에 형성된 공간(12)의 폭보다 작은 경우가 발생할 수 있다.The cleaning plate 21 connected to the pressing bolt is composed of a single plate and the thickness of the washing plate 21 is adjusted in accordance with the size of the filter assembly 10 by the space 12 formed between the plate- ) May be generated.

따라서, 어느 하나의 세정판(21)이 장공(23a)을 따라 좌측 방향 또는 우측 방향으로 이동하여 세정판(21)이 서로 인접한 2개의 평판 필터(11) 중 어느 하나의 평판 필터(11)에 접하도록 조정하면 필히 다른 하나의 평판 필터(11)로부터는 떨어지게 된다.Therefore, any one of the cleaning plates 21 moves in the left or right direction along the elongated hole 23a so that the cleaning plate 21 is moved to any one of the two flat plate filters 11 adjacent to each other It must be removed from the other flat plate filter 11.

이러한 경우 유격조절장치(23)를 통해 모든 세정판(21)들의 유격을 조절하여도 1개의 세정판(21) 전면 및 후면 모두를 이용하여 서로 인접한 2개의 평판 필터(11)에 동시에 접하며 세정을 할 수가 없다.In this case, even if the clearance of all the cleaning plates 21 is adjusted through the clearance adjusting device 23, the two flat plate filters 11 adjacent to each other are simultaneously contacted by using both the front surface and the rear surface of one cleaning plate 21, I can not.

그러므로, 다수개의 평판 필터(11)들의 전면을 동시에 세정한 후, 설치프레임(22)에 설치된 다수개의 세정판(21)들을 평판 필터(11)들의 후면측으로 이동시킨 후 평판 필터(11)들의 후면을 다시 세정해야 하는 문제가 발생한다.Therefore, after the front surfaces of the plurality of flat plate filters 11 are cleaned simultaneously, a plurality of cleaning plates 21 provided on the installation frame 22 are moved to the rear surface side of the flat plate filters 11, It is necessary to rinse it again.

이에, 도 3과 같이 유격조절장치(23)는 1개의 장공(23a) 내에서 각각 독립적으로 움직이는 2개의 조절구(23b-1, 23b-2)를 포함하고, 단위의 세정판(21)은 1개의 판체가 서로 분리 가능한 2개의 분체(21a, 21b)로 구성되는 것이 바람직하다.3, the clearance regulating device 23 includes two adjusters 23b-1 and 23b-2 that move independently in one long hole 23a, and the unit cleaner plate 21 It is preferable that one plate is composed of two powders (21a, 21b) which can be separated from each other.

따라서, 2개의 조절구(23b-1, 23b-2)가 각각 2개의 분체(21a, 21b)에 연결된 상태에서 1개의 장공(23a) 내에서 좌우로 이동함에 따라 2개의 분체(21a, 21b)가 서로 멀어지거나 가까워지면서 유격이 조절되므로, 서로 인접한 2개의 평판 필터(11)에 동시에 접하며 세정이 이루어지게 된다.Therefore, as the two control holes 23b-1 and 23b-2 are moved to the left and right in one long hole 23a while being connected to the two powders 21a and 21b, respectively, the two powders 21a and 21b, So that the cleaning is performed by contacting the two flat plate filters 11 adjacent to each other at the same time.

나아가, 본 발명의 세정판(21)은 평판 필터(11)의 1차 세정을 위한 1차 세정판(21-1) 및 평판 필터(11)의 2차 세정을 위한 2차 세정판(21-2)을 각각 독립적으로 포함하는 것이 바람직하다.The cleaning plate 21 of the present invention further includes a primary cleaning plate 21-1 for primary cleaning of the flat plate filter 11 and a secondary cleaning plate 21-1 for secondary cleaning of the flat plate filter 11. [ 2), respectively.

1차 세정판(21-1) 및 2차 세정판(21-2)이 각각 독립적으로 구비되는 경우, 설치프레임(22)은 제1 설치프레임(22-1) 및 제2 설치프레임(22-2)을 포함하며, 제1 설치프레임(22-1)에는 1차 세정판(21-1)이 조립되고, 제2 설치프레임(22-2)에는 2차 세정판(21-2)이 조립된다.When the primary cleaning plate 21-1 and the secondary cleaning plate 21-2 are provided independently of each other, the installation frame 22 is disposed between the first installation frame 22-1 and the second installation frame 22- 2, a primary cleaning plate 21-1 is assembled to the first installation frame 22-1, and a secondary cleaning plate 21-2 is assembled to the second installation frame 22-2 do.

한편, 1차 세정은 일 예로 필터 표면의 이물질을 긁어내는 과정이고, 2차 세정은 1차 세정 이후의 세정으로 일 예로 필터 표면의 미세 먼지까지 닦아내는 과정이다.On the other hand, the first cleaning is a process of scraping foreign substances on the filter surface, and the second cleaning is a process of cleaning fine dust on the filter surface, for example, by cleaning after the first cleaning.

이를 위해, 도 4의 (a) 및 (b)와 같이 1차 세정판(21-1)에는 평판 필터(11)의 표면을 긁는 스크래퍼(24)가 구비되어 있다. 스크래퍼(24)는 평판 필터(11)의 표면을 손상시키지 않도록 고무나 실리콘 재질로 이루어진 것이 바람직하다.4 (a) and 4 (b), the primary cleaning plate 21-1 is provided with a scraper 24 for scratching the surface of the flat plate filter 11. The scraper 24 is preferably made of rubber or silicone so as not to damage the surface of the flat plate filter 11.

이때, 도 4의 (a)와 같이 1차 세정판(21-1)의 전후면에 각각 돌출 형성된 스크래퍼(24)는 상향 경사지게 형성되어 평판 필터(11)의 표면을 부드럽게 긁어 내려가도록 할 수 있다.4 (a), the scrapers 24 protruding from the front and rear surfaces of the primary cleaning plate 21-1 are formed to be upward sloped so as to smoothly scrape the surface of the flat plate filter 11 .

반면, 도 4의 (b)와 같이 스크래퍼(24)가 하향 경사지게 형성되어 평판 필터(11)의 표면을 강하게 긁을 수도 있으며, 이는 편팡형 필터의 표면 재질에 따라 선택될 수 있다.On the other hand, as shown in FIG. 4 (b), the scraper 24 may be formed to be inclined downward to strongly scratch the surface of the flat plate filter 11, which may be selected depending on the surface material of the flat filter.

또한, 도 5와 같이 1차 세정 후의 2차 세정을 위한 2차 세정판(21-2)에는 평판 필터(11)의 표면을 닦아내는 세척부재(25)가 구비되어 있는 것이 바람직하다. As shown in Fig. 5, it is preferable that the secondary cleaning plate 21-2 for the secondary cleaning after the primary cleaning is provided with a cleaning member 25 for wiping the surface of the flat plate filter 11.

단, 여기서 세척부재(25)는 미세 먼지(혹은 미세 오염물질)를 닦아내는 용도의 것을 의미하므로 일반의 천 재질은 물론, 금속 또는 비금속 재질의 와이어를 뭉친 수세미 타입의 것을 모두 포함하는 것으로 한다.Herein, the cleaning member 25 is meant to be used for wiping fine dust (or fine contaminants), and therefore, it should include not only general cloth materials but also all kinds of woven cloths made of metal or nonmetallic wire.

또한, 도 6과 같이, 1차 세정판(21-1) 및 2차 세정판(21-2)을 각각 구비하는 경우 이들 세정판(21)은 일체로 제공되는 것이 바람직하므로, 제1 설치프레임(22-1) 및 제2 설치프레임(22-2)이 일체로 결합될 수 있다.When the primary cleaning plate 21-1 and the secondary cleaning plate 21-2 are provided as shown in Fig. 6, it is preferable that these cleaning plates 21 are integrally provided. Therefore, The first installation frame 22-1 and the second installation frame 22-2 can be integrally combined.

이 경우 일체로 제공된 설치프레임(22)의 일측 방향(예: 하측 방향)에는 1차 세정판(21-1)이 구비되고, 상기 1차 세정판(21-1)에 대향하는 방향(예: 상측 방향)에는 2차 세정판(21-2)이 구비된다.In this case, the primary cleaning plate 21-1 is provided in one direction (for example, the lower direction) of the installation frame 22 provided integrally with the primary cleaning plate 21-1, And the secondary cleaning plate 21-2 is provided in the upper direction.

따라서, 1차 세정판(21-1)으로 평판 필터(11)를 1차 세척 후, 설치프레임(22)을 회전시켜 2차 세정판(21-2)으로 평판 필터(11)를 2차 세척할 수 있으며, 별도의 회전 구동장치(ACT2)를 구비하면 회전 구동 및 세정 작업이 자동으로 이루어질 수도 있다.Therefore, after the flat plate filter 11 is firstly washed with the primary cleaning plate 21-1, the installation frame 22 is rotated to clean the flat plate filter 11 with the secondary cleaning plate 21-2 If a separate rotation driving device ACT2 is provided, the rotation driving and cleaning operations may be performed automatically.

또한, 본 발명은 이상에서 설명한 바와 같이 세정판(21) 단독으로 건식 세정을 하거나 혹은 세정판(21)과 함께 스크래퍼(24)나 세척부재(25)로 건식 세정을 하는 것보다는 세정용 유체의 분사를 통한 습식 세정을 하는 것이 바람직하다.The present invention is not limited to dry cleaning alone with the cleaning plate 21 or dry cleaning with the cleaning plate 21 together with the scraper 24 or the cleaning member 25 as described above, It is preferable to perform wet cleaning through spraying.

이를 위해, 도 7과 같이 1차 세정판(21-1)에는 각각 스크래퍼(24)가 다수개 구비되되, 스크래퍼(24)와 스크래퍼(24) 사이 중 적어도 하나 이상에는 외측을 향해 1차 세정용 유체를 분사하는 제1 분사노즐(26a)이 구비되어 있는 것이 바람직하다.As shown in FIG. 7, a plurality of scrapers 24 are provided in the primary cleaning plate 21-1. At least one of the scrapers 24 and the scrapers 24 is used for primary cleaning It is preferable that a first injection nozzle 26a for injecting a fluid is provided.

제1 분사노즐(26a)은 1차 세정판(21-1) 내부에 관통 형성된 공급통로(26b)를 통해 상기한 1차 세정용 유체를 공급받고, 공급통로(26b)의 공통 연결구에는 1차 세정용 유체가 유입되는 공급호스(26c)를 연결한다.The first injection nozzle 26a is supplied with the primary cleaning fluid through the supply passage 26b formed in the primary cleaning plate 21-1 and the common connection port of the supply passage 26b is provided with a primary And connects the supply hose 26c through which the cleaning fluid flows.

또한, 도 8과 같이 2차 세정판(21-2)에는 상기 세척부재(25) 및 2차 세정판(21-2)의 외측을 향해 2차 세정용 유체를 분사하는 제2 분사노즐(27a)이 형성되어 있는 것이 바람직하다.8, a second jetting nozzle 27a for jetting the secondary cleaning fluid toward the outside of the cleaning member 25 and the secondary cleaning plate 21-2 is provided in the secondary cleaning plate 21-2, ) Is preferably formed.

제2분사노즐(27a)은 2차 세정판(21-2) 내부에 관통 형성된 공급통로(27b)를 통해 2차 세정용 유체를 공급받고, 공급통로(27b)의 공통 연결구에는 2차 세정용 유체가 유입되는 공급호스(27c)를 연결한다.The second injection nozzle 27a is supplied with the secondary cleaning fluid through the supply passage 27b formed in the secondary cleaning plate 21-2 and is connected to the common connection port of the supply passage 27b for the secondary cleaning And connects the supply hose 27c into which the fluid flows.

이때, 1차 세정용 유체 및 2차 세정용 유체는 모두 액상의 세정액을 사용하되, 1차 세정액은 묵은때를 제거하는 성분이고, 2차 세정액은 살균제 성분일 수 있다. 물론, 그 이외에 1차 세정용 유체는 세정액이고, 2차 세정용 유체는 건조용 분사 공기일 수도 있음은 자명할 것이다.In this case, both the primary cleaning fluid and the secondary cleaning fluid use a liquid cleaning liquid, wherein the primary cleaning liquid is a component that removes dirt, and the secondary cleaning liquid may be a sterilizing agent component. Of course, it will be apparent that the first cleaning fluid may be a cleaning liquid, and the secondary cleaning fluid may be dry air.

이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 상술하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다. The specific embodiments of the present invention have been described above. It is to be understood, however, that the spirit and scope of the invention are not limited to these specific embodiments, but that various changes and modifications may be made without departing from the spirit of the invention, If you are a person, you will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, The invention is only defined by the scope of the claims.

10: 필터 어셈블리
11: 평판 필터
12: 공간(간격)
21: 세정판
21-1: 제1 세정판
21-2: 제2 세정판
21a, 21b: 분체(세정판)
22: 설치프레임
22-1: 제1 설치프레임
22-2: 제2 설치프레임
23: 유격조절장치
23a: 장공
23b: 조절구
24: 스크래퍼
25: 세척부재
26a: 제1 분사노즐
27a: 제1 분사노즐
ACT 1, ACT 2: 구동장치 10: Filter assembly
11: Flat plate filter
12: space (interval)
21: Cleaning plate
21-1: First cleaning plate
21-2: Second cleaning plate
21a, 21b: Powder (cleaning plate)
22: Installation frame
22-1: First installation frame
22-2: Second installation frame
23:
23a: Long hole
23b:
24: scraper
25: Cleaning member
26a: First injection nozzle
27a: First injection nozzle
ACT 1, ACT 2: Driving device

Claims (5)

다수개의 평판 필터(11)가 일정 간격으로 이격 조립되어 있는 필터 어셈블리를 세정하기 위한 평판 필터 세정장치에 있어서,
상기 평판 필터(11)들 사이에 각각 삽입되어 상기 평판 필터(11)의 표면에 접촉하도록 서로 이격 배치되어 있는 다수개의 세정판(21)과;
상기 세정판(21)들이 일렬로 배치 및 조립되는 설치프레임(22)과;
상기 세정판(21)이 조립되는 설치프레임(22)의 일측부에 각각 구비되며, 상기 세정판(21)의 위치를 조절함에 따라 상기 세정판(21)들 사이의 유격을 조절할 수 있게 하는 유격조절장치(23)를 포함하되;
상기 유격조절장치(23)는 상기 설치프레임(22)에 관통 형성되며 수평 방향으로 길이가 긴 유격조절용 장공(23a) 및 상기 장공(23a)을 통과하여 상기 세정판(21)의 측면에 고정되며 상기 장공(23a)을 따라 좌우 이동하는 조절구(23b)를 포함하고;
상기 조절구(23b)는 상기 1개의 장공(23a) 내에서 각각 독립적으로 움직이는 2개의 조절구(23b-1, 23b-2)로 구성되고, 상기 세정판(21)은 1개의 판체가 두께 방향으로 서로 분리 가능한 2개의 분체(21a, 21b)로 구성되며, 상기 2개의 조절구(23b-1, 23b-2)가 각각 2개의 분체(21a, 21b)에 연결된 상태에서 1개의 장공(23a) 내에서 좌우로 이동함에 따라 2개의 분체(21a, 21b)가 서로 멀어지거나 가까워지면서 유격이 조절되고;
상기 세정판(21)은 1차 세정판(21-1) 및 2차 세정판(21-2)을 포함하고, 상기 설치프레임(22)은 상기 1차 세정판(21-1)에 조립된 제1 설치프레임(22-1) 및 상기 2차 세정판(21-2)이 조립된 제2 설치프레임(22-2)을 포함하되, 상기 1차 세정판(21-1)에는 상기 평판 필터(11)의 표면을 긁는 스크래퍼(24)가 구비되어 있고, 상기 2차 세정판(21-2)에는 상기 평판 필터(11)의 표면을 닦아내는 세척부재(25)가 구비되며;
상기 제1 설치프레임(22-1) 및 제2 설치프레임(22-2)이 일체로 결합됨에 따라, 일측 방향에는 상기 1차 세정판(21-1)이 구비되고, 상기 1차 세정판(21-1)에 대향하는 방향에는 2차 세정판(21-2)이 구비되며;
상기 1차 세정판(21-1)으로 상기 평판 필터(11)를 1차 세척 후, 회전에 의해 상기 2차 세정판(21-2)으로 상기 평판 필터(11)를 2차 세척하는 것을 특징으로 하는 평판 필터 세정장치.1. A flat panel filter cleaning apparatus for cleaning a filter assembly in which a plurality of flat plate filters (11) are spaced apart from each other at regular intervals,
A plurality of cleaning plates (21) inserted between the flat plate filters (11) and spaced apart from each other to be in contact with the surface of the flat plate filter (11);
An installation frame (22) in which the cleaning plates (21) are arranged and assembled in a line;
The cleaning plate 21 is provided at one side of an installation frame 22 to which the cleaning plate 21 is assembled. The clearance between the cleaning plates 21 is adjusted by controlling the position of the cleaning plate 21, A regulating device (23);
The clearance adjusting device 23 is fixed to the side surface of the cleaning plate 21 through the elongated hole 23a formed in the installation frame 22 and having a long length in the horizontal direction, And an adjuster (23b) moving left and right along the slot (23a);
The control member 23b is composed of two control holes 23b-1 and 23b-2 which move independently in the one long hole 23a. And the two control holes 23b-1 and 23b-2 are connected to two powders 21a and 21b, respectively, and one long hole 23a is formed. The two powder bodies 21a and 21b move toward or away from each other and the clearance is adjusted;
The cleaning plate 21 includes a primary cleaning plate 21-1 and a secondary cleaning plate 21-2 and the mounting frame 22 is fixed to the primary cleaning plate 21-1 And a second installation frame (22-2) in which the first installation frame (22-1) and the secondary cleaning plate (21-2) are assembled. The primary cleaning plate (21-1) And a scraper 24 for scraping the surface of the flat plate filter 11 is provided on the secondary cleaning plate 21-2 and the cleaning member 25 for wiping the surface of the flat plate filter 11 is provided on the secondary cleaning plate 21-2;
As the first installation frame 22-1 and the second installation frame 22-2 are integrally coupled to each other, the first cleaning plate 21-1 is provided in one direction, and the first cleaning plate 21-1 in the direction opposite to the second cleaning plate 21-2;
The flat plate filter 11 is first washed with the primary cleaning plate 21-1 and then the flat plate filter 11 is cleaned with the secondary cleaning plate 21-2 by rotation, Wherein the flat filter cleaning device comprises: 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 1차 세정판(21-1)에는 각각 스크래퍼(24)가 다수개 구비되되, 상기 스크래퍼(24) 사이에는 1차 세정용 유체를 분사하는 제1 분사노즐(26a)이 형성되고,
상기 2차 세정판(21-2)에는 상기 세척부재(25)를 향해 2차 세정용 유체를 분사하는 제2 분사노즐(27a)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 평판 필터 세정장치.
The method according to claim 1,
A plurality of scrapers 24 are provided in the primary cleaning plate 21-1 and a first injection nozzle 26a for spraying a primary cleaning fluid is formed between the scrapers 24,
Wherein the secondary cleaning plate (21-2) is provided with a second jetting nozzle (27a) for jetting a secondary cleaning fluid toward the cleaning member (25).
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