KR101843426B1 - 발광모듈 - Google Patents
발광모듈 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101843426B1 KR101843426B1 KR1020110090757A KR20110090757A KR101843426B1 KR 101843426 B1 KR101843426 B1 KR 101843426B1 KR 1020110090757 A KR1020110090757 A KR 1020110090757A KR 20110090757 A KR20110090757 A KR 20110090757A KR 101843426 B1 KR101843426 B1 KR 101843426B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light emitting
- pad
- emitting device
- layer
- pad portion
- Prior art date
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 99
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 37
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 9
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 5
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- -1 TMGa (or TEGa) Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 3
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910019897 RuOx Inorganic materials 0.000 description 1
- DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[Al+3].[Zn++].[In+3] DZLPZFLXRVRDAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- YZZNJYQZJKSEER-UHFFFAOYSA-N gallium tin Chemical compound [Ga].[Sn] YZZNJYQZJKSEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007737 ion beam deposition Methods 0.000 description 1
- VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L iron(ii) gluconate Chemical compound [Fe+2].OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O.OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRIVJOXICYMTAG-IYEMJOQQSA-L 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
- H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
- H01L33/502—Wavelength conversion materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
- H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/483—Containers
- H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
본 발명은 발광모듈에 대한 것으로, 이 모듈은 금속회로기판; 및 상기 금속회로기판 위에 부착되는 질화물 절연 기판, 상기 절연 기판 위에 형성되어 있는 적어도 하나의 패드부, 그리고 상기 패드부 위에 부착되어 있는 복수의 발광소자를 포함하는 발광소자 패키지를 포함하며, 상기 복수의 발광소자는 측면에 형광체층을 포함하는 발광모듈을 제공한다. 따라서, 발광 소자의 측면에 형광체 코팅을 수행함으로서 측면 발광을 활성화함으로써 이웃한 발광소자 사이에서 암부가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
Description
본 실시예는 발광모듈에 관한 것이다.
일반적으로, 회로기판이란 전기 절연성 기판에 구리와 같은 전도성 재료로 회로 패턴을 형성시킨 것으로 전자부품 관련 발열소자를 탑재하기 직전의 기판을 말한다. 상기와 같은 회로기판은 반도체 소자 및 발광다이오드(LED:light emitting diode) 등과 같은 발열소자를 탑재하게 된다.
특히, 발광다이오드를 탑재한 회로기판은 자동차 헤드램프용으로 개발이 진행되면서, 내열성과 열전달 특성이 요구되고 있다.
그러나, 발광다이오드 등과 같은 소자는 심각한 열을 방출하며, 발열소자가 실장된 회로기판에서 열이 처리되지 못하게 되면, 발열소자가 탑재된 회로기판의 온도를 상승시켜 발열소자의 동작 불능 및 오동작을 야기할 뿐만 아니라 제품의 신뢰성을 저하시킨다.
실시예는 새로운 구조의 자동차 헤드램프용 발광모듈을 제공한다.
실시예는 발광소자 패키지를 캐비티가 형성된 회로기판의 캐비티 내에 실장하는 발광모듈을 제공한다.
실시예는 방열성 및 광집진성이 향상된 발광모듈을 제공한다.
실시예는 캐비티가 형성되어 있는 금속회로기판; 및 상기 금속회로기판의 상기 캐비티 내에 부착되는 질화물 절연 기판, 상기 절연 기판 위에 형성되어 있는 적어도 하나의 패드부, 그리고 상기 패드부 위에 부착되어 있는 복수의 발광소자를 포함하는 발광소자 패키지를 포함하며, 상기 복수의 발광소자는 측면에 형광체층을 포함하는 발광모듈을 제공한다.
실시예는 금속 회로기판의 캐비티 내에 발광소자 패키지를 직접 실장하여 발광소자 패키지의 방열 효율을 개선하여 소자 신뢰성을 확보할 수 있다. 실시예는 회로기판에 가이드부 및 상기 솔더 레지스트를 광투과율이 낮은 색으로 형성함으로써 빛을 방출 방향으로 집진할 수 있다.
또한, 실시예는 발광소자 패키지의 패드부를 스퍼터링 등을 통해 박막으로 형성하여 미세 회로를 구현할 수 있다.
또한, 실시예는 발광 소자의 측면에 형광체 코팅을 수행함으로써 측면 발광을 활성화함으로써 이웃한 발광소자 사이에서 암부가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명의 발광모듈의 분해 사시도이다.
도 2는 도 1의 발광모듈의 결합상면도이다.
도 3은 도 2의 발광모듈을 Ⅰ-Ⅰ'으로 절단한 단면도이다.
도 4는 도 2의 발광모듈을 Ⅱ-Ⅱ'으로 절단한 단면도이다.
도 5는 도 3의 발광모듈의 확대도이다.
도 6은 도 3의 발광모듈에 형성되어 있는 발광소자의 상세 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광모듈의 분해 사시도이다.
도 8은 도 7의 발광 모듈의 단면도이다.
도 9는 실시예의 발광모듈이 적용되는 헤드렘프의 구성도이다.
도 2는 도 1의 발광모듈의 결합상면도이다.
도 3은 도 2의 발광모듈을 Ⅰ-Ⅰ'으로 절단한 단면도이다.
도 4는 도 2의 발광모듈을 Ⅱ-Ⅱ'으로 절단한 단면도이다.
도 5는 도 3의 발광모듈의 확대도이다.
도 6은 도 3의 발광모듈에 형성되어 있는 발광소자의 상세 단면도이다.
도 7은 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광모듈의 분해 사시도이다.
도 8은 도 7의 발광 모듈의 단면도이다.
도 9는 실시예의 발광모듈이 적용되는 헤드렘프의 구성도이다.
아래에서는 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하고, 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 "위(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)"와 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 층을 개재하여 간접(indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 층의 위 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.
이하에서는 도 1 내지 도 6을 참고하여 본 발명의 발광모듈을 설명한다.
도 1은 발광모듈의 분해 사시도이고, 도 2는 발광모듈의 결합상면도이고, 도 3은 도 2의 발광모듈을 Ⅰ-Ⅰ'으로 절단한 단면도이고, 도 4는 도 2의 발광모듈을 Ⅱ-Ⅱ'으로 절단한 단면도이다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 발광모듈(300)은 회로기판(100) 및 상기 회로기판(100)의 캐비티(150)에 발광소자 패키지(200)를 포함한다.
상기 발광모듈(300)은 회로기판(100)의 캐비티(150) 내에 발광소자 패키지(200)가 탑재된 구조로서, 상기 발광소자 패키지(200)는 기판(210) 위에 복수의 발광 소자(250)가 1행 또는 그 이상의 행으로 배열될 수 있으며, 복수의 발광 소자(250)가 서로 직렬 또는 병렬로 연결될 수 있다. 이러한 기술적 특징은 실시예의 기술적 범위 내에서 변경될 수 있다.
상기 회로기판(100)은 금속 플레이트(110), 절연층(140), 회로 패턴과 연결되어 있는 회로패드(135) 및 가이드 패턴(130)을 포함 할 수 있다.
상기 가이드 패턴(130)은 경우에 따라 삭제할 수 있으며, 삭제할 경우 가이드부는 금속플레이트에 직접 접촉할 수 있다.
상기 금속 플레이트(110)는 열전도성이 높은 방열 플레이트로서, 구리, 알루미늄, 은 또는 금 등 또는 이들 중 하나 이상을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.
상기 금속 플레이트(110)는 사각형 또는 원형의 평면상을 가지며, 사각형 또는 원형의 단면을 가지는 직육면체 또는 원기둥의 형상을 가질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.,
상기 금속 플레이트(110)은 상면으로부터 소정 깊이를 가지는 캐비티(150)가 형성되어 있다.
상기 캐비티(150)는 발광소자 패키지(200)를 실장하기 위한 실장부로서, 상기 발광소자 패키지(200)보다 넓은 평면적을 갖도록 형성될 수 있다.
이때, 상기 금속 플레이트(110)의 두께는 약 1000μm 이상일 수 있으며, 상기 캐비티(150)의 깊이는 약 300μm 이상일 수 있다.
상기 금속 플레이트(110)의 상면에는 상기 캐비티(150)를 노출하며 절연층(140)이 형성될 수 있다.
상기 절연층(140)은 복수의 절연층을 포함할 수 있으며, 상기 복수의 절연층 중 일부는 상기 금속 플레이트(110)와 상부의 회로 패턴(도시하지 않음) 및 상기 회로 패턴과 연결되어 있는 회로패드(135), 그리고 가이드 패턴(130)의 모체가 되는 동박층 등의 금속층을 접착하는 접착층으로서 기능할 수 있다.
상기 절연층(140)은 에폭시계 또는 폴리 이미드계 수지를 포함하며, 내부에 고형 성분, 예를 들어, 필러 또는 유리 섬유 등이 분산되어 있을 수 있으며, 이와 달리 산화물 또는 질화물 등의 무기물일 수 있다.
상기 절연층(140) 위에 가이드 패턴(130) 및 회로패드(135)가 형성되어 있다.
상기 가이드 패턴(130) 및 회로패드(135)는 동박층을 식각하여 형성되는 구리 또는 구리를 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 회로패드(135)의 표면은 니켈, 은, 금 또는 팔라듐 등 또는 이들 중 하나 이상을 포함하는 합금을 이용하여 표면처리될 수 있다.
상기 절연층(140) 위에 회로 패턴을 매립하며, 상기 가이드 패턴(130) 및 상기 회로패드(135)를 노출하는 솔더 레지스트(120)가 형성되어 있다.
상기 솔더 레지스트(120)는 상기 회로기판(100) 전면에 도포되며, 산란되는 빛을 흡수함으로써 빛의 집진성을 향상시키기 위하여 광투과성이 낮고, 반사도가 낮은 어두운 색으로 착색되어 있다. 예를 들어, 상기 솔더 레지스트(120)는 검은색일 수 있다.
한편, 상기 회로패드(135) 및 상기 가이드 패턴(130)은 도 4와 같이, 솔더 레지스트(120)에 의해 전기적으로 분리되어 있다.
구체적으로, 상기 가이드 패턴(130)은 상기 캐비티(150)를 둘러싸며, 상기 캐비티(150)로부터 소정 거리(d1, d2)만큼 이격되어 형성되어 있다.
상기 회로패드(135)는 상기 캐비티(150) 내에 실장되는 상기 발광소자 패키지(200)와 와이어(262) 본딩하기 위한 회로패드(135)로서, 상기 캐비티(150)와 상기 가이드 패드(130) 사이의 이격된 거리(d1, d2) 내에 노출되어 형성된다. 따라서, 상기 가이드 패턴(130)은 상기 회로패드(135)가 형성되는 영역에서 분리되어 있다.
이때, 상기 가이드 패드(130)와 상기 캐비티(150) 사이의 이격된 거리(d1, d2)는 상기 회로패드(135)가 형성되어 있는 변의 거리(d1)와 상기 회로패드(135)가 형성되어 있지 않은 변의 거리(d2)가 서로 다를 수 있다.
즉, 상기 회로패드(135)가 형성되어 있는 제1변의 이격 거리(d1)가 상기 회로패드(135)가 형성되어 있지 않은 제2변의 이격 거리(d2)보다 더 클 수 있다.
상기 가이드 패드(130) 위에 상기 캐비티(150)를 둘러싸며 가이드부(160)가 형성되어 있다.
상기 가이드부(160)는 분리되어 있는 두 개의 상기 가이드 패드(130)를 연결하여 폐루프를 형성한다.
상기 가이드패드(130)가 삭제된 경우 상기 회로패드(135)가 형성되는 영역에서는 상기 가이드부(160)의 하면에 단차를 주어 상기 회로패드(135)가 상기 가이드부(160) 외부의 회로패턴과 전기적으로 연결될 수 있도록 할 수 있다.
상기 가이드부(160)는 절연성의 무기물로 형성될 수 있으며, 불투과성의 물질로 형성된다. 상기 가이드부는 벌크(bulk) 산화 알루미늄과 같이 불투과성의 물질일 수 있으며, 약 800 μm의 높이를 가질 수 있다. 상기 가이드부(160)는 상기 발광소자 패키지(200)로부터 발광되는 빛을 집광하기 위한 구조로서, 산란되는 빛을 흡수하는 흡수층으로서 기능할 수 있다.한편, 상기 회로기판(100)의 캐비티(150) 내에는 발광소자 패키지(200)가 부착되어 있다.
이하에서는 도 4 및 도 5를 참고하여 발광소자 패키지(200)에 대하여 상세히 설명한다.
도 4는 도 3의 발광모듈의 확대도이고, 도 5는 도 3의 발광모듈에 형성되어 있는 발광소자의 상세 단면도이다.
상기 발광소자 패키지(200)는 절연 기판(210), 상기 절연 기판(210) 위에 형성된 복수의 패드부(220) 및 상기 패드부(220) 위에 부착되어 있는 복수의 발광소자(250)를 포함한다.
상기 절연 기판(210)은 상기 캐비티(150) 내에 실장될 수 있도록 상기 캐비티(150)의 바닥면과 같거나 작은 단면적을 가지는 다면체 형상을 가진다.
상기 절연 기판(210)는 열전도율이 높은 질화물 기판으로서, 질화알루미늄 기판일 수 있다. 상기 절연 기판은 열전도율이 170 Kcal/m·h·℃ 이상을 가질 수 있다. 상기 질화물 절연 기판(210)은 300 μm이상의 두께를 가지며 본 실시예에서는 350 μm 이상의 두께를 가질 수 있으며, 캐비티(150)의 깊이보다 큰 두께를 가지는 경우 캐비티(150) 외부로 돌출되어 있을 수 있다.
상기 절연 기판(210)은 도 5와 같이 상기 캐비티(150) 바닥면에 도포되어 있는 열전도성이 높은 접착 페이스트(271)에 의해 상기 캐비티(150) 내에 고정되어 있다. 상기 접착 페이스트(271)은 Au 또는 Sn 중 적어도 하나를 포함하는 전도성 페이스트일 수 있다.
상기 접착 페이스트(271)는 열과 압력에 의해 상기 절연 기판(210)의 바닥면 하부에 얇게 분산되며, 상기 절연 기판(210)의 측면의 일부를 감싸도록 필렛(270)이 형성되며 상기 절연 기판(210)을 지지 할 수 있다.
한편, 상기 절연기판(210)의 상면으로 복수의 패드부(220)가 형성되고,상기 복수의 패드부(220)는 상기 발광소자(250)의 배열에 따라 행을 형성하며 배치되어 있을 수 있다.
상기 패드부(220)는 상기 발광소자(250)의 수와 동일한 수효를 가지며, 도 1 내지 도 4와 같이 상기 발광소자 패키지(200)에 한 행을 이루는 4개의 발광소자(250)가 형성되는 경우, 상기 패드부(220)는 행을 이루는 4개로 구성된다.
상기 패드부(220)는 상기 발광소자(250)가 부착되는 전극 영역 및 이웃한 발광소자(250) 또는 회로기판(100)의 회로패드(135)와 와이어 본딩하기 위한 연결 영역(221)을 포함한다.
상기 전극 영역은 상기 발광 소자(250)의 면적의 형상을 따라 사각형의 형상을 가질 수 있으며, 연결 영역(221)은 상기 전극 영역으로부터 연장되어 이웃한 패드부(220)와 근접하게 돌출되어 있을 수 있다.
상기 패드부(220)는 서로 다른 크기를 가진다.
상세하게는, 행을 이루는 패드부(220) 중 양 끝부분에 배치되는 패드부(220)는 중앙 영역의 패드부(220)보다 큰 면적을 가진다.
중앙 영역에 배치되는 상기 패드부(220)는 상기 발광소자(250)보다 작은 면적을 가지며, 상기 패드부(220)는 연결 영역을 제외하고 외부에서 관측되지 않는다.
도 1 및 도 2에서는 상기 연결 영역(221)을 사각형의 형태를 갖도록 도시하였으나 이와 달리 다양한 형상으로 패턴을 형성할 수 있다.
상기 패드부(220)의 전극 영역 위에 각각의 발광 소자(250)가 부착되어 있다.
상기 발광 소자(250)는 수직형 발광 다이오드로서, 일단이 상기 패드부(220)와 부착되어 있으며, 타단이 이웃한 패드부(220)의 연결 영역(221)과 와이어(260)를 통해 본딩되어 직렬 연결을 가질 수 있다.
이와 같이, 복수의 발광 소자(250)가 직렬로 연결되어 있는 경우, 첫번째 열의 패드부(220)의 연결 영역(221)은 와이어(262)를 통해 근접한 회로기판(100)의 회로패드(135)와 연결되어 있다.
이때, 상기 발광소자 패키지(200)의 상면에는 마지막 발광소자(250)가 부착되어 있는 패드부(220)와 이웃하여 연결 영역(221)만을 포함하는 패드섬(pad island)(225)을 포함한다.
상기 패드섬(225)은 상기 이웃한 패드부(220)의 발광 소자(250)와 와이어(260)를 통해 연결되고, 상기 이웃한 회로기판(100)의 회로패드(135)와 와이어(262)를 통해 연결된다.
상기 패드부(220) 및 패드섬(225)은 상기 연결 영역(221)이 상기 회로기판(100)의 회로패드(135)와 근접하도록 상기 제너 다이오드(170) 및 온도 센서(180)를 향하여 배치된다.
이때, 상기 패드부(220) 및 패드섬(225)은 도 5와 같이 복수의 금속층(222,223,224)으로 형성되어 있다.
상기 패드부(220) 및 패드섬(225)은 제1 금속층(222), 제2 금속층(223) 및 제3 금속층(224)의 적층 구조를 가지며, 각 금속층(222,223,224)은 티타늄, 니켈, 금 또는 백금을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.
바람직하게는 제1 금속층(222)은 티타늄을 포함하는 합금으로 형성되고, 제2 금속층(223)은 니켈을 포함하는 합금으로 형성되며, 제3 금속층(224)은 금을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 제1 금속층 내지 제3 금속층(222,223,224)의 총 두께의 합이 0.45 μm 내지 0.75μm를 충족할 수 있다.
상기 제1 내지 제3 금속층(222,223,224)은 스퍼터링, 이온빔증착, 전자빔증착 등의 박막 증착법에 의하여 형성할 수 있다. 상기 제1 금속층 내지 제3 금속층(222,223,224)을 수 μm를 충족하도록 박막으로 형성함으로써 발광소자 패키지(200) 내에서 미세 패턴을 구현할 수 있다.
상기 패드부(220)의 전극 영역 위에 발광 소자(250)가 부착되어 있다. 상기 발광 소자(250)는 하부에 도전성접착층인 전도성 지지기판(252)을 포함하며, 상기 전도성 지지기판(252) 하부에 Au 또는 Sn 중 적어도 하나를 포함하는 전도성 페이스트(251)이 도포되어 있을 수 있다. 상기 도전성접착층(252)은 30 μm 이하의 두께를 가지며, 실시예는 25 μm이하의 두께를 가질 수 있다.
상기 전도성 페이스트(251)의 도포 면적은 상기 패드부(220)의 면적보다 작거나 같게 형성된다.
발광 소자(250)는 III족과 V족 원소의 화합물 반도체 예컨대 AlInGaN, InGaN, GaN, GaAs, InGaP, AllnGaP, InP, InGaAs 등의 계열의 반도체를 이용하여 제조된 반도체 발광소자를 선택적으로 포함할 수 있다.
또한, 각 발광 소자(250)는 청색 LED 칩, 황색 LED 칩, 녹색 LED 칩, 적색 LED 칩, UV LED 칩, 호박색 LED 칩, 청-녹색 LED 칩 등으로 이루어질 수 있으나, 자동차의 헤드램프용인 경우 청색 LED칩일 수 있다.
이러한 발광 소자(250)는 도 6과 같이 전도성 지지기판(252), 본딩층(253), 제2 도전형 반도체층(255), 활성층(257), 및 제1 도전형 반도체층(259)을 포함한다.
전도성 지지기판(252)은 금속 또는 전기 전도성 반도체 기판으로 형성될 수 있다.
기판(252) 위에는 III족-V족 질화물 반도체층이 형성되는 데, 반도체의 성장 장비는 전자빔 증착기, PVD(physical vapor deposition), CVD(chemical vapor deposition), PLD(plasma laser deposition), 이중형의 열증착기(dual-type thermal evaporator) 스퍼터링(sputtering), MOCVD(metal organic chemical vapor deposition) 등에 의해 형성할 수 있으며, 이러한 장비로 한정하지는 않는다.
전도성 지지기판(252) 위에는 본딩층(253)이 형성될 수 있다. 본딩층(253)은 전도성 지지기판(252)과 질화물 반도체층을 접착되도록 한다. 또한, 전도성 지지기판(252)은 본딩 방식이 아닌 도금 방식으로 형성될 수도 있으며, 이 경우 본딩층(253)은 형성되지 않을 수도 있다.
본딩층(253) 위에는 제2 도전형 반도체층(255)이 형성되며, 제2 도전형 반도체층(255)은 패드부(220)의 전극 영역과 접촉하여 전기적으로 연결된다.
제2 도전형 반도체층(255)은 III족-V족 화합물 반도체 예컨대, GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 제2 도전형 반도체층(323)에는 제2 도전형 도펀트가 도핑될 수 있으며, 제2 도전형 도펀트는 p형 도펀트로서, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba를 포함한다.
제2 도전형 반도체층(255)은 예컨대, NH3, TMGa(또는 TEGa), 및 Mg와 같은 p형 도펀트를 포함한 가스를 공급하여 소정 두께의 p형 GaN층으로 형성될 수 있다.
제2 도전형 반도체층(255)은 소정 영역에 전류 확산(current spreading) 구조를 포함한다. 전류 확산 구조는 수직 방향으로의 전류 확산 속도보다 수평 방향으로의 전류 확산 속도가 높은 반도체층들을 포함한다.
전류 확산 구조는 예컨대, 도펀트의 농도 또는 전도성의 차이를 가지는 반도체층들을 포함할 수 있다.
제2 도전형 반도체층(255)은 그 위의 다른 층 예컨대, 활성층(257)에 균일한 분포로 확산된 캐리어를 공급될 수 있다.
제2 도전형 반도체층(255) 위에는 활성층(257)이 형성된다. 활성층(257)은 단일 양자 우물 또는 다중 양자 우물(MQW) 구조로 형성될 수 있다. 활성층(257)의 한 주기는 InGaN/GaN의 주기, AlGaN/InGaN의 주기, InGaN/InGaN의 주기, 또는 AlGaN/GaN의 주기를 선택적으로 포함할 수 있다.
제2 도전형 반도체층(255)과 활성층(257) 사이에는 제2 도전형 클래드층(도시하지 않음)이 형성될 수 있다. 제2 도전형 클래드층은 p형 GaN계 반도체로 형성될 수 있다. 제2 도전형 클래드층은 우물층의 에너지 밴드 갭보다 높은 밴드 갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다.
활성층(257) 위에는 제1 도전형 반도체층(259)이 형성된다. 제1 도전형 반도체층(259)은 제1 도전형 도펀트가 도핑된 n형 반도체층으로 구현될 수 있다. n형 반도체층은 GaN, InN, AlN, InGaN, AlGaN, InAlGaN, AlInN 등과 같은 화합물 반도체 중 어느 하나로 이루어질 수 있다. 제1 도전형 도펀트는 n형 도펀트로서, Si, Ge, Sn, Se, Te 등에서 적어도 하나를 첨가될 수 있다.
제1 도전형 반도체층(255)은 예컨대, NH3, TMGa(또는 TEGa), 및 Si와 같은 n형 도펀트를 포함한 가스를 공급하여 소정 두께의 n형 GaN층을 형성할 수 있다.
또한, 제2 도전형 반도체층(259)은 p형 반도체층, 제1 도전형 반도체층(259)은 n형 반도체층으로 구현될 수 있다. 발광 구조물은 n-p 접합 구조, p-n 접합 구조, n-p-n 접합 구조, p-n-p 접합 구조 중 어느 한 구조로 구현할 수 있다. 이하, 실시 예의 설명을 위해 반도체층의 최상층은 제1도전형 반도체층을 그 예로 설명하기로 한다.
제1 도전형 반도체층(259) 위에는 제1 전극 또는/및 전극층(도시하지 않음)이 형성될 수 있다. 전극층은 산화물 또는 질화물 계열의 투광층 예컨대, ITO(indium tin oxide), ITON(indium tin oxide nitride), IZO(indium zinc oxide), IZON(indium zinc oxide nitride), IZTO(indium zinc tin oxide), IAZO(indium aluminum zinc oxide), IGZO(indium gallium zinc oxide), IGTO(indium gallium tin oxide), AZO(aluminum zinc oxide), ATO(antimony tin oxide), GZO(gallium zinc oxide), IrOx, RuOx, NiO의 물질 중에서 선택되어 형성될 수 있다. 전극층은 전류를 확산시켜 줄 수 있는 전류 확산층으로 기능할 수 있다.
상기 발광소자(250)는 이웃한 발광소자(250)와 일정한 이격 거리를 갖도록 배치되어 있다.
즉, 상기 발광소자(250) 사이에 이격 거리가 존재함으로써 발광소자(250) 측면으로부터 방출되는 빛이 외부로 출력되나 상면으로부터 출력되는 광량에 비해 작은 양이 출력됨으로써 발광소자(250)와 발광소자(250) 사이에 암부가 발생할 수 있다.
이때, 상기 암부를 줄이기 위하여 측면 광을 늘리기 위하여 상기 발광소자(250)의 측면에 형광체층(254)을 형성한다.
상기 형광체층(254)은 투광성 수지 내에 형광체입자(256)를 분산시켜 형성할 수 있으며, 컨포멀(conformal) 코팅하여 형성할 수도 있다. 이때, 상기 형광체층(254)은 상기 발광소자(250)의 발광색에 따라 선택적으로 형광체입자(256)를 도포할 수 있다.
상기 형광체층(254)은 측면에만 선택적으로 형성될 수 있으나, 이와 달리 바닥면을 제외한 전체에 도포될 수 있다.
도 1 내지 도 6의 발광소자 패키지(200)는 복수의 수직형 발광 소자(250)가 직렬로 연결되어 있는 것으로 설명하였으나, 이와 달리 수직형 발광 소자(250)가 병렬로 연결될 수도 있으며, 수평형 발광 소자(250)가 직렬 또는 병렬로 연결되어 있는 구조도 가능하다.
이와 같이, 도 1 내지 도 6의 발광모듈(300)은 발광소자 패키지(200)의 절연 기판(210)을 질화물로 사용하고, 상기 절연 기판(210)과 회로기판(100)의 금속 플레이트(110)를 열전도성이 높은 접착 페이스트(271)를 통하여 직접 접착함으로써 방열성을 확보하여, 상기 발광소자 패키지(200) 상의 패드부(220)를 두꺼운 구리 금속을 패터닝하여 형성할 필요 없이, 스퍼터링 등을 통하여 금속 박막으로 형성함으로써 미세 패턴을 형성할 수 있다.
한편, 다시 도 1 및 도 2를 참고하면, 상기 회로 기판(100)의 상기 금속 플레이트(110) 상면의 솔더 레지스트(120) 위에 제너 다이오드(170) 및 온도센서(180)가 형성되어 있다.
상기 제너 다이오드(170) 및 상기 온도센서(180)는 도 1과 같이 상기 가이드부(160) 바깥쪽에 형성되어 있다.
상기 온도센서(180)는 온도에 따라 저항 값이 변하는 가변저항인 써미스터(thermistor)일 수 있으며 온도가 상승함에 따라 비저항이 작아지는 NTC(negative temperature coefficient)일 수도 있다.
상기 커넥터(190)는 일단이 외부로부터 신호를 전송받는 복수의 전선(195)과 연결되며, 타단이 상기 회로기판(100)의 회로 패턴과 연결되어 상기 제너 다이오드(170), 상기 온도센서(180) 및 상기 발광소자 패키지(200)로 전압을 인가하고, 상기 온도센서(180)로부터 출력되는 전류를 외부로 흘린다.
외부의 제어부(도시하지 않음)는 상기 온도센서(180)로부터 출력되는 전류값에 따라 상기 발광 소자(250)의 발열을 감지하여 상기 발광 소자(250)에 인가되는 전압을 제어할 수 있다.
이상에서는 상기 가이드부(160)가 금속 플레이트(110) 위에 형성되는 것으로 설명하였으나, 이와 달리 절연 기판(210) 위에 형성될 수도 있다.
이하에서는 도 7 및 도 8을 참고하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광 모듈을 설명한다.
도 7 및 도 8을 참고하면, 발광모듈(300A)은 회로기판(100) 및 상기 회로기판(100)의 캐비티(150)에 발광소자 패키지(200)를 포함한다.
상기 발광모듈(300A)은 회로기판(100) 위에 복수의 발광 소자(250)가 탑재된 구조로서, 상기 발광 소자(250)는 회로기판(100) 위에 1행 또는 그 이상의 행으로 배열될 수 있으며, 복수의 발광 소자(250)가 서로 직렬 또는 병렬로 연결될 수 있다.
상기 회로기판(100)은 금속 플레이트(110), 절연층(140), 회로 패턴(도시하지 않음)을 포함한다.
상기 금속 플레이트(110)는 열전도성이 높은 방열 플레이트로서, 구리, 알루미늄, 은 또는 금 등을 포함하는 합금으로 형성될 수 있으며, 실시예는 알루미늄 또는 알루미늄을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.
상기 금속 플레이트(110)의 상면에는 절연층(140)이 형성되어 있다.
상기 절연층(140)은 상기 금속 플레이트(110)의 표면을 아노다이징하여 형성하는 산화층일 수 있으며, 이와 달리 별도의 절연층을 부착하여 형성할 수 있다.
상기 절연층(140) 위에 회로 패턴 및 패드(227)가 형성되어 있다.
상기 패턴 및 패드(227)는 동박층을 식각하여 형성될 수 있으며, 패드(227)의 표면은 니켈, 은, 금 또는 팔라듐 등을 포함하는 합금을 이용하여 표면처리될 수 있다.
상기 절연층(140) 상에는 발광소자 및 구동에 필요한 회로 소자를 실장하는 영역을 제외한 회로 패턴을 매립하는 솔더 레지스트(120)가 형성되어 있다.
상기 패드(227) 위에 상기 발광 소자(250)의 실장 영역을 둘러싸며 가이드부(160)가 형성되어 있다.
한편, 상기 회로기판(100)의 발광소자 실장 영역에는 발광 소자(250)가 부착되어있다.
상기 발광 소자(250)는 상기 발광 소자 실장 영역에 노출되어 있는 패드(227) 위에 부착된다.
상기 패드(227)는 상기 발광소자(250)의 배열에 따라 행을 형성하며 배치되어 있을 수 있다.
상기 패드(227)는 상기 발광소자(250)의 수효와 동일한 수효를 가지며, 도 1 내지 도 4와 같이 상기 발광소자 패키지(200)에 한 행을 이루는 4개의 발광소자(250)가 형성되는 경우, 상기 패드(227)는 행을 이루는 4개로 구성된다.
상기 패드(227)는 상기 발광소자(250)가 부착되는 전극 영역 및 이웃한 발광소자(250)와 와이어 본딩하기 위한 연결 영역(221)을 포함한다.
상기 패드(227)는 상기 발광소자(250)보다 작은 면적을 가지며, 상기 패드(227)는 연결 영역(221)을 제외하고 외부에서 관측되지 않는다.
상기 연결 영역(221)을 사각형의 형태를 갖도록 도시하였으나 이와 달리 다양한 형상으로 패턴을 형성할 수 있다.
상기 패드(227)의 전극 영역 위에 각각의 발광 소자(250)가 부착되어 있다.
상기 발광 소자(250)는 수직형 발광 다이오드로서, 일단이 상기 패드(227)와 부착되어 있으며, 타단이 이웃한 패드(227)의 연결 영역(221)과 와이어(260)를 통해 본딩되어 직렬 연결을 가질 수 있다.
이와 같이, 복수의 발광 소자(250)가 직렬로 연결되어 있는 경우, 첫번째 열의 패드부(227)의 연결 영역(221)은 금속 기판의 회로 패턴과 연결되어 있다.
상기 발광소자(250)는 도 6의 발광 소자(250)와 동일하며, 측면에 형광체층이 형성되어 있는 구조를 가진다.
도 7 및 도 8에서는 발광소자 실장 영역에 패드(227)가 회로 패턴과 동시에 형성되고, 상기 패드(227) 위에 발광 소자(250)가 직접 부착되는 것으로 기재하였으나, 이와 달리, 상기 발광소자 실장 영역에 절연기판 위에 발광소자가 부착되어 있는 도 1의 발광소자 패키지가 부착될 수 있다.
도 9는 발광 모듈이 적용된 헤드램프의 일실시예를 도시한 도면이다.
도 9를 참조하면, 실시예의 헤드램프는 발광모듈(901), 상기 발광모듈(901) 위에 배치되는 리플렉터(902), 상기 발광모듈(901)과 이격되어 상기 리플렉터(902)와 대면하는 렌즈(904), 그리고 상기 발광모듈(901)과 렌즈(904) 사이에 쉐이드(903)를 포함한다.
상기 렌즈(904)는 외부를 향하여 볼록하게 형성되며, 리플렉터(902)로부터의 빛을 집광하여 외부로 방출한다. 상기 발광모듈(901)은 도 1 내지 도 8에 도시되어 있는 발광모듈(901)일 수 있으며, 상면으로 빛을 발광한다.
상기 리플렉터(902)는 렌즈(904)를 향하여 오목한 원호를 가지는 반사면을 가지며, 상기 발광모듈(901)로부터의 빛을 받아 렌즈(904)로 방출한다.
상기 쉐이드(903)는 발광모듈(901)과 렌즈(904) 사이에 배치되며 렌즈(904)와 발광모듈(901) 사이로 빛샘을 방지한다. 상기 쉐이드(903)의 표면은 반사막 코팅되어 있을 수 있으며, 상기 발광모듈(901)로부터 방출된 빛은 리플렉터(902)와 쉐이드(903)를 통해 반사되어 렌즈(904)에서 집광 후 외부로 방출된다.
이상에서 본 발명의 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
발광모듈 300
회로기판 100
발광소자 패키지 200
발광 소자 250
회로기판 100
발광소자 패키지 200
발광 소자 250
Claims (15)
- 캐비티를 포함하는 금속 플레이트와 상기 금속 플레이트 상에 절연층과 상기 절연층 상에 배치되는 회로패드와 상기 회로패드 상에 배치되는 가이드부를 포함하는 회로기판; 및
상기 회로기판의 캐비티에 배치되는 발광소자 패키지를 포함하고,
상기 발광소자 패키지는,
절연기판;
상기 절연기판 상에 배치되며 상기 회로기판의 회로패드와 전기적으로 연결되는 복수의 패드부;
상기 복수의 패드부 상에 배치되며 서로 전기적으로 연결된 복수의 발광 소자; 및
상기 발광 소자의 측면에 형성되는 형광체층을 포함하고,
상기 가이드부는 상기 발광 소자 패키지를 둘러싸며 폐루프를 형성하며,
상기 가이드부의 하면에 형성된 단차에 의해 상기 회로패드가 노출되는 발광모듈. - 제1항에 있어서,
상기 패드부는
가장자리 영역에 배치되는 제1 패드부,
중앙 영역에 배치되는 제2 패드부를 포함하며,
상기 제2 패드부는 상기 제1 패드부보다 작은 면적을 가지는 발광모듈. - 제2항에 있어서,
상기 캐비티 바닥면에 배치된 접착 페이스트에 의해 상기 절연기판이 상기 캐비티 내에 고정되는 발광모듈. - 제3항에 있어서,
상기 금속플레이트의 두께는 1000μm이상이고, 상기 캐비티의 깊이는 300μm이상이며,
상기 절연기판의 두께는 350μm이상인 발광모듈. - 제2항에 있어서,
상기 패드부는 복수의 금속층을 포함하는 발광모듈. - 제5항에 있어서,
상기 복수의 금속층은 티타늄을 포함하는 제1금속층과 상기 제1금속층 상에 니켈을 포함하는 합금인 제2금속층과 상기 제2금속층 상에 금을 포함하는 합금인 제3금속층을 포함하는 발광모듈. - 제6항에 있어서,
상기 제1금속층 내지 상기 제3금속층의 총 두께의 합이 0.45μm 내지 0.75μm인 발광모듈. - 제2항에 있어서,
상기 제2 패드부의 면적은 상기 제2 패드부와 대향하는 상기 발광소자의 면의 면적보다 작은 발광모듈. - 제8항에 있어서,
상기 패드부와 상기 발광소자 사이에 도전성 접착재가 위치하며, 상기 도전성 접착재의 두께는 30μm보다 작은 발광모듈. - 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 발광모듈을 포함하는 헤드램프.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110090757A KR101843426B1 (ko) | 2011-09-07 | 2011-09-07 | 발광모듈 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020110090757A KR101843426B1 (ko) | 2011-09-07 | 2011-09-07 | 발광모듈 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130027272A KR20130027272A (ko) | 2013-03-15 |
KR101843426B1 true KR101843426B1 (ko) | 2018-03-29 |
Family
ID=48178267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020110090757A KR101843426B1 (ko) | 2011-09-07 | 2011-09-07 | 발광모듈 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101843426B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109873065B (zh) * | 2019-03-19 | 2020-06-23 | 泉州三安半导体科技有限公司 | 一种半导体发光元件 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010170864A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Koito Mfg Co Ltd | 光源モジュール及び車輌用灯具 |
JP2011129661A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Nichia Corp | 発光装置 |
JP2011134829A (ja) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Nichia Corp | 発光装置 |
-
2011
- 2011-09-07 KR KR1020110090757A patent/KR101843426B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010170864A (ja) * | 2009-01-23 | 2010-08-05 | Koito Mfg Co Ltd | 光源モジュール及び車輌用灯具 |
JP2011129661A (ja) * | 2009-12-17 | 2011-06-30 | Nichia Corp | 発光装置 |
JP2011134829A (ja) * | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Nichia Corp | 発光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130027272A (ko) | 2013-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9035326B2 (en) | Light emitting module | |
US10651345B2 (en) | Light emitting device, light emitting device package including the device, and lighting apparatus including the package | |
US9472742B2 (en) | Light emitting device and light unit having the same | |
US9478526B2 (en) | Light emitting module | |
US9172004B2 (en) | Light emitting device package | |
US8071973B2 (en) | Light emitting device having a lateral passivation layer | |
EP2360749A2 (en) | Light emitting diode, LED package and lighting system incorporating the same | |
US10892390B2 (en) | Light-emitting element and light-emitting element package including the same | |
KR20110107665A (ko) | 발광 다이오드 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지 | |
KR20170017150A (ko) | 광원 모듈 및 이를 구비한 조명 장치 | |
US8809884B2 (en) | Light emitting device including an electrode on a textured surface, light emitting device package and lighting system | |
KR101933016B1 (ko) | 발광모듈 | |
KR101114774B1 (ko) | 발광모듈 | |
KR101843426B1 (ko) | 발광모듈 | |
KR101172203B1 (ko) | 발광모듈 | |
KR101154646B1 (ko) | 발광모듈 | |
KR102251225B1 (ko) | 광원 모듈 | |
KR102669275B1 (ko) | 발광소자 패키지 | |
KR101734544B1 (ko) | 발광소자 패키지 | |
KR20130027271A (ko) | 발광모듈 | |
KR102237152B1 (ko) | 발광소자 및 라이팅 유닛 | |
KR102326926B1 (ko) | 발광 소자 및 발광 소자 패키지 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |