KR101841555B1 - 플라즈마를 이용한 이미용장치 - Google Patents

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치는, 직선부 및 상기 직선부와 교차하는 방향으로 절곡되어 상기 직선부의 일측에서 연장되는 제1 연결부를 구비하는 제1 전극; 상기 직선부의 외주에 복수의 턴을 형성하도록 꼬여있는 꼬임부 및 상기 제1 연결부에 대해 평행하게 연장되는 제2 연결부를 구비하는 제2 전극; 상기 직선부와 상기 제1 연결부 사이에 형성되는 제1 절곡부 및 상기 꼬임부와 상기 제2 연결부 사이에 형성되는 제2 절곡부; 및 상기 절곡부들이 서로 대면할 때, 상기 절곡부들에서 발생하는 아크방전을 방지하도록 상기 절곡부 각각에 형성되는 유전층을 포함한다.

Description

플라즈마를 이용한 이미용장치{APPARATUS FOR HAIRDRESSING AND BEAUTYCARE USING PLASMA}

본 발명의 일실시예들은 플라즈마를 발생시키는 이미용장치에 관한 것이다.

플라즈마란 초고온에서 음전하를 가진 전자와 양전하를 띤 이온으로 분리된 기체 상태를 말한다. 이때는 전하 분리도가 상당히 높으면서도 전체적으로 음과 양의 전하수가 같아서 중성을 띠게 된다.

일반적으로 물질의 상태는 고체·액체·기체 등 세 가지로 나눠진다. 플라즈마는 흔히 제4의 물질 상태라고 부른다. 고체에 에너지를 가하면 액체, 기체로 되고 다시 이 기체 상태에 높은 에너지를 가하면 수만℃에서 기체는 전자와 원자핵으로 분리되어 플라즈마 상태가 되기 때문이다.

플라즈마를 만들려면 흔히 직류, 초고주파, 전자빔 등 전기적 방법을 가해 플라스마를 생성한 다음 자기장 등을 사용해 이런 상태를 유지하도록 해야한다.

플라즈마는 플라즈마 밀도, 전자 온도, 종들 간의 열평형 정도, 발생방식, 응용분야 등 여러 구분 기준이 있지만 밀도와 전자온도로 분류하는 것이 가장 기본적이다. 플라즈마를 열평형 정도에 의해서 구분하여, 국부열평형(local thermal equilibrium;LTE)과 비국부 열평형(non-LTE)으로 나눌 수 있고, 국부열평형이란 용어는 플라즈마 입자의 모두의 온도가 플라즈마의 국부적 영역에서 같은 열역학적 상태를 의미한다.

연구나 제조 공정을 위한 플라즈마는 대개 LTE 또는 non-LTE 중 하나이며, 일반적으로 전자를 열 플라즈마, 후자를 저온 플라즈마라고 한다.

본 발명에서는 저온 플라즈마를 대상으로 하며, 저온 플라즈마 중 대기압 플라즈마를 발생시키는 이미용장치를 제공하기 위한 방안을 제시한다.

대기압 플라즈마는 주로 물질의 표면 개질 및 코팅, 환경 정화 등의 분야에 활용되며, 최근에는 생체 적용과 바이오 메디칼 분야의 응용 가능성으로 연구가 확대되고 있다.

따라서, 대기압 플라즈마를 이용하면서도 인체에 무해하고 휴대가능한 이미용장치가 고려될 수 있다.

본 발명의 일 목적은 대기압 플라즈마, 산소 라디칼 또는 오존를 생성하여 살균 기능을 구비한 플라즈마를 이용한 이미용장치를 제공하기 위한 것이다.

이와 같은 본 발명의 해결 과제를 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따르는 플라즈마를 이용한 이미용장치는, 직선부 및 상기 직선부와 교차하는 방향으로 절곡되어 상기 직선부의 일측에서 연장되는 제1 연결부를 구비하는 제1 전극; 상기 직선부의 외주에 복수의 턴을 형성하도록 꼬여있는 꼬임부 및 상기 제1 연결부에 대해 평행하게 연장되는 제2 연결부를 구비하는 제2 전극; 상기 직선부와 상기 제1 연결부 사이에 형성되는 제1 절곡부 및 상기 꼬임부와 상기 제2 연결부 사이에 형성되는 제2 절곡부; 및 상기 절곡부들이 서로 대면할 때, 상기 절곡부들에서 발생하는 아크방전을 방지하도록 상기 절곡부 각각에 형성되는 유전층을 포함한다.

본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 제1 전극의 지름은 1.1A이고, 상기 제2 전극의 지름은 1.0A이고, 상기 연결부들 사이의 간격이 2.25A 일 때, 상기 유전층의 두께는 0.13A 내지 1.17A이다.

본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 전극들은 구리선의 외주를 주석으로 도금하여 형성되고, 상기 꼬임부의 일측에 상기 제2 연결부가 형성되고, 상기 꼬임부의 타측에 상기 제2 연결부보다 길이가 짧은 제3 연결부가 형성된다.

본 발명과 관련한 일 예에 따르면, 상기 유전층은 4불화에틸렌수지(PTFE)를 30∼45 중량% 만큼 포함하는 테프론으로 형성된다.

상기와 같이 구성되는 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 관련된 플라즈마를 이용한 이미용장치는 유전체 장벽 방전으로 플라즈마를 형성하고, 플라즈마에 의한 항산화 작용으로 진피치밀도를 개선시킬 수 있다. 이로 인해, 주름개선이나 피부에 탄력을 향상시킨다. 또한, 피부의 톤을 개선시키고 피부개선제의 진피 내 침투율을 증가시킨다. 그리고, 이미용장치를 이용하면 살균효과를 향상시켜 피부의 청결을 유지할 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관련된 플라즈마를 이용한 이미용장치의 개념도.
도 2는 도 1에 도시된 플라즈마를 이용한 이미용장치의 블록도.
도 3은 도 1에 도시된 전극의 일 예를 도시한 도면.
도 4는 도 3의 A-A'선을 따라 자른 단면도.
도 5는 본 발명의 실시예에 따르는 플라즈마 발생 전극부의 개념도.
도 6은 도 5의 B-B'선을 따라 자른 단면도.
도 7과 도 8은 아크방전에 의해 전극들이 손상되는 예와 관련된 사진들.

이하, 본 발명에 관련된 플라즈마를 이용한 이미용장치에 대하여 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다. 이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "모듈" 및 "부"는 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되거나 혼용되는 것으로서, 그 자체로 서로 구별되는 의미 또는 역할을 갖는 것은 아니다. 본 명세서에서는 서로 다른 실시예라도 동일·유사한 구성에 대해서는 동일·유사한 참조번호를 부여하고, 그 설명은 처음 설명으로 갈음한다. 본 명세서에서 사용되는 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관련된 플라즈마를 이용한 이미용장치의 개념도이고, 도 2는 도 1에 도시된 플라즈마를 이용한 이미용장치의 블록도이고, 도 3은 도 1에 도시된 전극의 일 예를 도시한 도면이고, 도 4는 도 3의 A-A'선을 따라 자른 단면도이다.

도 1 내지도 4를 참조하면, 플라즈마를 이용한 이미용장치(100)는 외부 장치(10)와 결합하는 결합 부위(110b) 구비하고 상기 결합 부위(110b)를 관통하는 관통홀(111)을 포함하고, 내부에 저장 공간을 가지는 하우징(110); 상기 저장 공간 내에 배치되고 꼬이면서 연장되는 플라즈마 발생 전극부(140); 및 상기 저장 공간 내에 배치되고 상기 플라즈마 발생 전극부(140)의 일단에 교류 전력을 공급하는 교류 발생부(154);를 포함한다. 상기 플라즈마 발생 전극부(140)은 제1 방향으로 연장되고 와이어 형상의 제1 전극(144); 및 상기 제1 방향으로 연장되면서 상기 제1 전극(144)을 복수의 턴을 형성하도록 꼬여있는 와이어 형상의 제2 전극(145)을 포함한다. 상지 제1 전극(144) 및 상기 제2 전극(145) 중에서 적어도 하나는 절연 피복을 포함한다. 상기 제1 전극(144)과 상기 제2 전극(145)은 밀착되어 배치된다. 상기 제1 전극(144)과 상기 제2 전극(145) 사이에 유전체 장벽 방전이 생성된다.

상기 결합 부위(110b)는 살균을 요하는 외부 장치(10)에 결합하고, 상기 결합 부위(110b)의 관통홀(111)을 통하여 상기 플라즈마 발생 전극부(140)에 의하여 생성된 라디칼을 상기 외부 장치(10)에 제공한다. 송풍팬(112)은 상기 외부 장치(10)에 라디칼의 흐름을 제공하기 위하여 상기 관통홀(111) 주위에 배치될 수 있다. 상기 하우징(110)은 외부로부터 대기를 흡입하기 위한 흡입구(114)를 포함할 수 있다.

통상적 유전체 장벽 방전은 서로 마주 보는 한 쌍의 전극, 또는 같은 평면에 배치되는 한 쌍의 전극을 포함한다. 따라서, 평면을 포함하는 전극 구조는 다양한 형태로 제작되기 어렵다. 또한, 한 쌍의 전극 사이의 일정한 간격을 유지하기 위하여 구조적으로 한계가 있다. 따라서, 대기압 플라즈마가 필요한 다양한 환경에서, 소정의 용도에 맞는 유전체 장벽 방전용 전극은 한계를 가진다.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 유전체 장벽 방전용 플라즈마 발생 전극부는 서로 꼬인 한 쌍의 와이어를 사용한다. 상기 한 쌍의 와이어는 서로 꼬이도록 구성되어 플라즈마 발생 전극부(140)을 제공할 수 있다. 상기 플라즈마 발생 전극부(140)은 구부러질 수 있는 유연성을 가진 라인 형태를 가지고 있어, 직선, 곡선, 또한 구불구불한 형상으로 다양하게 변형될 수 있다.

본 발명의 변형된 실시예에 따르면, 상기 플라즈마 발생 전극부(140)은 넓은 면적에 플라즈마를 발생시키기 위하여, 동일한 평면에서 구불구불하게 배치될 수 있다. 상기 플라즈마 발생 전극부는 도전성 와이어와 코팅된 절연 피복을 포함할 수 있다.

상기 하우징(110)은 그 내부에 저장 공간을 확보하고, 외부 장치와 나사 결합을 위한 결합 부위(110b)를 포함할 수 있다. 상기 결합 부위(110b)는 원통 형상이고, 그 중심에 관통홀을 포함할 수 있다. 상기 결합 부위의 외주면에는 나사 산이 형성되고, 외부 장치(10)의 피결합 부위에는 상기 결합 부위와 나사 결합하기 위한 그루브가 형성될 수 있다. 이에 따라 상기 플라즈마 발생 전극부(140)이 생성한 라디칼은 상기 관통홀(111)을 통하여 상기 외부 장치(10)에 제공될 수 있다. 상기 하우징(110)은 상판을 포함하는 원통 형상의 하우징 몸체부(110a)와 상기 하우징 몸체부의 하부면에서 연장되어 배치되는 원통 형상의 결합 부위(110b)를 포함할 수 있다. 상기 결합 부위(110b)는 플라즈마 또는 라디칼을 관통홀을 통하여 전달할 수 있는 한 다양하게 변형될 수 있다.

상기 플라즈마 발생 전극부(140)은 제1 방향으로 연장되고 와이어 형상의 제1 전극(144); 및 상기 제1 방향으로 연장되면서 상기 제1 전극을 감싸고 복수의 턴을 형성하도록 꼬여있는 와이어 형상의 제2 전극(145);을 포함할 수 있다.

상기 제1 전극(144) 및 상기 제2 전극(145) 중에서 적어도 하나는 절연 피복을 포함한다. 상기 제1 전극(144)과 상기 제2 전극(145)은 밀착되어 배치되고, 상기 제1 전극(144)은 교류 발생부(154)에 연결되고, 상기 제2 전극(145)은 접지되고, 상기 제1 전극(144)과 상기 제2 전극(145) 사이에 유전체 장벽 방전이 생성될 수 있다.

상기 제1 전극(144) 및 제2 전극(145)은 각각 절연 피복(144b,145b)을 포함할 수 있다. 상기 제1 전극(144)은 제1 도전성 와이어(144a)와 제1 절연 피복(144b)을 포함하고, 제2 전극(145)은 제2 도정성 와이어(145a)와 제2 절연 피복(145b)을 포함할 수 있다.

상기 절연 피폭(144b,145b)은 20 마이크로미터 내지 200 마이크로 미터일 수 있다. 상기 절연 피폭의 뚜께는 얇은 것이 바람직하나, 상기 절연 피복의 두께가 너무 얇은 경우, 절연 파괴가 발생할 수 있다.

상기 제1 전극(144) 및 상기 제2 전극(145)의 지름은 0.5 mm 내지 2 mm일 수 있다. 상기 제1 전극(144)의 두께는 유연성을 제공하는 정도에 따라 선택될 수 있다. 제1 전극(144)과 상기 제2 전극(145) 각각이 꼬이는 경우, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극의 지름은 동일한 것이 바람직할 수 있다. 상기 플라즈마 발생 전극부의 재질은 구리이고, 절연 피복은 에나멜일 수 있다.

유전체 장벽 방전을 위하여, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극 중에서 하나는 절연피복으로 코팅된다. 한편, 상기 제1 전극 또는 상기 제2 전극이 모두 절연 피복으로 코팅될 수 있다.

상기 제1 전극(144)은 교류 발생부(154)에 연결되고, 상기 제2 전극(145)은 접지된다. 플라즈마 발생 전극부는 유전체 장벽 방전에서, 전극 간의 간격을 일정하기 유지하기 위하여 서로 밀착된 꼬인 도전성 와이어를 사용한다. 이에 따라, 별도의 패터닝 공정을 하지 않고 용이하게 유전체 방전 전극이 형성될 수 있다.

상기 제1 및 제2 전극(144,145)은 서로 헬리칼 형태로 서로 꼬일 수 있다. 제1 전극(144)은 교류 발생부의 양의 전압에 인가되고, 제2 전극(144)은 상기 교류 발생부의 음의 전압에 인가될 수 있다. 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 고전압 교류 펄스가 인가될 수 있다. 이에 따라, 상기 제1 전극과 제2 전극 사이에 유전체 장벽 방전이 발생될 수 있다. 플라즈마 발생 영역은 플라즈마 발생 전극부의 대칭축 상에서 최적의 방전 간격을 유지하는 위치에 형성될 수 있다. 서로 꼬인 형상의 플라즈마 발생 전극부는 동일한 평면 상에 배치되는 평면 전극에 비하여 높은 전기장을 인가할 수 있다. 이에 따라, 방전 개시 전압을 감소시킬 수 있다. 또한, 플라즈마 발생 전극부는 유연성을 가진 도선을 이용하므로, 다양한 형상으로 변형될 수 있고, 용이하게 제작되어 비용을 절감할 수 있다.

상기 전극 지지부(142)는 기둥 형상이고 절연체로 형성될 수 있다. 상기 전극 지지부(142)는 고정부(156)에 각각 삽입되고 와이어가 배치되도록 되는 축 방향으로 연장되는 한 쌍의 수직 홀 및 상기 수직 홀에 연속적으로 연결되고 측면으로 연장되는 측면 홀을 포함할 수 있다. 상기 전극 지지부(142)는 플라스틱과 같은 절연체로 형성될 수 있다. 상기 전극 지지부(142)는 상기 플라즈마 발생 전극부(140)을 고정할 수 있는 한 다양하게 변형될 수 있다. 상기 고정부(156)는 상기 전극 지지부(142)를 지지할 수 있고, 통상적인 PCB 기판이 사용될 수 있다. 상기 PCB기판에 직류를 교류로 변경하는 구동 회로 및 제어 회로가 배치될 수 있다/

배터리(152)는 재충전 가능한 리튬-폴리머 배터리일 수 있다. 배터리는 하우징의 저장 공간 내에 배치될 수 있다. 상기 배터리의 교환을 위하여, 상기 하우징 몸체부와 상기 결합 부위는 서로 분해/결합되도록 설계될 수 있다. 배터리(152)는 상기 교류 발생부(154)에 DC 전력을 공급할 수 있다.

상기 교류 발생부(154)는 직류 전압을 고압의 교류 전압으로 변경할 수 있다. 상기 교류 발생부(154)는 인버터를 포함할 수 있다. 상기 교류 전압의 주파수는 수 kHz 내지 수백 kHz일 수 있다. 피크-투-피크 교류 전압은 3 kV 내지 8 kV일 수 있다. 상기 교류 발생부(154)의 출력 파형은 정현파일 수 있다. 상기 교류 발생부(154)는 수 Hz 내지 수 kHz의 펄스 주파수로 고전압 교류 펄스를 출력할 수 있다. 구체적으로, 상기 교류 발생부의 구동 주파수는 80 kHz 영역일 수 있다. 상기 교류 발생부는 100 Hz 의 펄스 주파수로 펄스 모드로 동작할 수 있다. 이 펄스 주파수 및 구동 주파수에서 안정적인 유전체 장벽 방전이 수행될 수 있다.

제어부(157)는 상기 교류 발생부(154)의 펄스의 듀티비를 조절하고, 상기 교류 발생부(154)의 출력을 제어할 수 있다. 또한, 상기 제어부(157)는 스위치에 의하여 동작하고 동작 상태를 표시부(123)에 표시할 수 있다.

도 5는 본 발명의 실시예에 따르는 플라즈마 발생 전극부의 개념도이고, 도 6은 도 5의 B-B'선을 따라 자른 단면도이고, 도 7과 도 8은 아크방전에 의해 전극들이 손상되는 예와 관련된 사진들이다.

도 5와 도 6을 참조하면, 플라즈마를 이용한 이미용장치(100)에 장착되는 플라즈마 발생 전극부(240)는 제1 전극(244), 제2 전극(245), 절곡부들(244c, 245c) 및 유전층(244e, 245e)을 포함한다.

제1 전극(244)은 직선부(244a) 및 상기 직선부(244a)와 교차하는 방향으로 절곡되어 연장되는 제1 연결부(244b)를 구비한다. 일 예로 제1 전극(244)은 'ㄱ'자 형상으로 이루어질 수 있다.

제2 전극(245)은 직선부(244a)의 외주에 복수의 턴을 형성하도록 꼬여있는 꼬임부(245a) 및 제1 연결부(244b)에 대해 평행하게 연장되는 제2 연결부(245b)를 구비한다. 제2 전극(245)의 일측에 제2 연결부(245b)가 형성되고, 제2 전극(245)의 타측에 제3 연결부(245h)가 형성될 수 있다. 제3 연결부(245h)의 길이는 제2 연결부(245b)에 비해 짧게 형성된다.

제1 전극(244)과 제2 전극(245)은 서로 접촉할 수 있으며, 일정 간격으로 서로 이격될 수 있다. 제2 전극(245)은 접지 연결되고, 제1 전극(244)은 교류 발생부에 전기적으로 연결될 수 있다.

전극들은 구성하는 도체(244d, 245d)는 구리선의 외주를 주석으로 도금하여 형성된다. 전극들은 전극 지지부에 결합된다.

서로 교차하는 방향으로 연장되는 직선부(244a)와 제1 연결부(244b)를 연결하기 위해 제1 절곡부(244c)가 형성된다. 그리고, 이에 상응하여 제2 절곡부(245c)가 꼬임부(245a)와 제2 연결부(245b) 사이에 형성된다. 즉, 제1 절곡부(244c)는 직선부(244a)와 제1 연결부(244b) 사이에 형성되고, 제2 절곡부(245c)는 꼬임부(245a)와 제2 연결부(245b) 사이에 형성된다.

절곡부들(244c, 245c)이 서로 대면할 때, 도 7과 도 8에서 도시된 바와 같이 절곡부들(244c, 245c)에서 아크방전이 발생한다. 이러한 아크방전에 의해 전극들이 손상된다. 도 7의 절곡부는 본 발명과 달리, 절곡부에 유전층(244e, 245e)이 형성되지 않은 것이고, 도 8의 절곡부는 유전층(244e, 245e)의 두께가 본 발명과 다르게 형성된 것이다. 즉, 제 1전극의 지름이 1.1mm일 때, 유전층(244e, 245e)의 두께가 0.11mm 이었다.

이러한 아크방전을 방지하기 위해, 절곡부들(244c, 245c) 각각에 유전층(244e, 245e)이 형성된다. 유전층(244e, 245e)은 테프론 코팅이나 테프론 튜브로 형성될 수 있다. 테프론은 미국 듀폰사(Dupont)가 개발한 불소수지로서, 불소와 탄소의 강력한 화학적 결합으로 인해 매우 안정된 화합물을 형성함으로써 거의 완벽한 화학적 비활성 및 내열성, 비점착성, 우수한 절연 안정성, 낮은 마찰계수 등의 특성들을 가지고 있다. 이러한 유전층(244e, 245e)은 4불화에틸렌수지(PTFE) 30∼45 중량% 만큼 포함할 수 있다. 특히, 유전층(244e, 245e)은 4불화에틸렌수지(PTFE) 30∼45 중량%, APGE(Alkyl Polyoxyethene Glycol Ether) 4.5∼6.5 중량%, 카본블랙 1∼5 중량%, 물 35∼45 중량%, 암모니아 퍼플루오로옥탄산(APFO ; Ammonium Perfluorooctanoate) 0.01 중량% 이하를 포함하여 형성될 수 있다.

아크방전을 방지하는 보다 상세한 스펙은 다음과 같다. 즉, 제1 전극(244)의 지름은 1.1A이고, 제2 전극(245)의 지름은 1.0A이고, 연결부들 사이의 간격이 2.25A 일 때, 유전층(244e, 245e)의 두께는 0.13A 내지 1.17A이다. 여기서, A는 임의의 상수이다. 예를 들어, A가 1mm 이면, 제1 전극(244)의 지름은 1.1mm 가 된다.

다수의 반복적인 실험을 통해, 유전층(244e, 245e)의 두께에서 그 두께가 0.13A 미만이면 아크방전이 발생함을 확인하였고, 그 두께가 1.17A 이상이면 플라즈마 방전 효율이 급격하게 저하됨을 확인할 수 있었다.

유전층두께 (mm)	0.11	0.12	0.13	0.14	0.15	0.16	0.17	0.18	0.19
아크방전	발생	발생	미발생	미발생	미발생	미발생	미발생	미발생	미발생
방전효율(%)	85	94	92	92	98	91	92	71	65

유전층(244e, 245e)은 각 전극들의 절곡부를 덮도록 형성된다. 또한 유전층(244e, 245e)은 직선부(244a)와 꼬임부(245a)를 덮도록 형성된다. 그리고, 도 5에 도시된 바와 같이 유전층(244e, 245e)은 전기적으로 연결되는 제1 연결부(244b)와 제2 연결부(245b)의 일부분은 제외하고 전극들의 나머지부분을 덮도록 형성된다.

상기와 같이 설명된 플라즈마를 이용한 이미용장치는 상기 설명된 실시예들의 구성과 방법이 한정되게 적용될 수 있는 것이 아니라, 상기 실시예들은 다양한 변형이 이루어질 수 있도록 각 실시예들의 전부 또는 일부가 선택적으로 조합되어 구성될 수도 있다.

Claims (4)

1. 직선부 및 상기 직선부와 교차하는 방향으로 절곡되어 상기 직선부의 일측에서 연장되는 제1 연결부를 구비하는 제1 전극;
   상기 직선부의 외주에 복수의 턴을 형성하도록 꼬여있는 꼬임부 및 상기 제1 연결부에 대해 평행하게 연장되는 제2 연결부를 구비하는 제2 전극;
   상기 직선부와 상기 제1 연결부 사이에 형성되는 제1 절곡부 및 상기 꼬임부와 상기 제2 연결부 사이에 형성되는 제2 절곡부; 및
   상기 절곡부들이 서로 대면할 때, 상기 절곡부들에서 발생하는 아크방전을 방지하도록 상기 절곡부 각각에 형성되는 유전층을 포함하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
   
2. 제1항에 있어서,
   상기 제1 전극의 지름은 1.1A이고, 상기 제2 전극의 지름은 1.0A이고, 상기 연결부들 사이의 간격이 2.25A 일 때,
   상기 유전층의 두께는 0.13A 내지 1.17A인 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
   (여기서, A는 임의의 상수이다)
   
3. 제2항에 있어서,
   상기 전극들은 구리선의 외주를 주석으로 도금하여 형성되고,
   상기 꼬임부의 일측에 상기 제2 연결부가 형성되고, 상기 꼬임부의 타측에 상기 제2 연결부보다 길이가 짧은 제3 연결부가 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
   
4. 제3항에 있어서,
   상기 유전층은 4불화에틸렌수지(PTFE)를 30∼45 중량% 만큼 포함하는 테프론으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마를 이용한 이미용장치.
   
   
   
   
   
   

Images