KR101836303B1 - 광학 부재, 이를 포함하는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법 - Google Patents

광학 부재, 이를 포함하는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

광학 부재, 이를 포함하는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법이 개시된다. 광학 부재의 제조방법은 다수 개의 실리콘 옥사이드 입자들을 포함하는 분산액을 형성하는 단계; 상기 분산액을 기판 상에 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 분산액을 열처리하여 상기 기판 상에 반사방지막을 형성하는 단계를 포함한다.

Description

광학 부재, 이를 포함하는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법{OPTICAL MEMBER, SOLAR CELL APPARATUS HAVING THE SAME AND METHOD OF FABRICATING THE SAME}
실시예는 광학 부재, 이를 포함하는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
반사방지 구조를 가지는 투명 유리 플레이트 등은 솔라 셀 등과 같은 다양한 장치에 사용될 수 있다. 이와 같은 투명 유리 플레이트는 솔라 셀에서 보호 기판의 기능을 수행할 수 있다.
또한, 투명 유리 플레이트는 반사 방지 기능을 수행하기 때문에, 향상된 광학적 성능을 구현할 수 있다.
실시예는 향상된 경도 및 투과율을 가지는 광학 부재, 이를 포함하는 태양광 발전장치 및 이의 제조방법을 제공하고자 한다.
실시예에 따른 광학 부재는 기판; 및 상기 기판 상에 배치되는 반사방지막을 포함하고, 상기 반사 방지막은 다수 개의 기공들을 포함하고, 상기 반사 방지막의 기공률은 15% 내지 35%이고, 상기 기공들의 직경은 5㎚ 내지 20㎚ 이다.
실시예에 따른 태양광 발전장치는 태양전지 패널; 및 상기 태양전지 패널 상에 배치되는 보호기판을 포함하고, 상기 보호기판은 투명기판; 및 상기 투명기판에 배치되는 반사방지막을 포함하고, 상기 반사 방지막은 다수 개의 기공들을 포함하고, 상기 반사 방지막의 기공율은 15% 내지 35%이고, 상기 기공들의 직경은 5㎚ 내지 20㎚ 이다.
실시예에 따른 광학 부재의 제조방법은 다수 개의 실리콘 옥사이드 입자들을 포함하는 분산액을 형성하는 단계; 상기 분산액을 기판 상에 코팅하는 단계; 및 상기 코팅된 분산액을 열처리하여 상기 기판 상에 반사방지막을 형성하는 단계를 포함한다.
실시예에 따른 광학 부재는 다수 개의 기공들을 포함하는 반사 방지막을 포함한다. 상기 반사 방지막의 굴절율은 상기 기공들의 직경 및 기공률에 의해서 적절하게 조절될 수 있다.
특히, 상기 반사 방지막의 기공률은 15% 내지 35%이고, 상기 기공들의 직경은 5㎚ 내지 20㎚ 인 경우, 상기 반사 방지막의 굴절율은 약 1.2 내지 약 1.4일 수 있고, 상기 반사 방지막의 경도는 3H 이상일 수 있다.
또한, 상기 반사 방지막에 의해서, 실시예에 따른 광학 부재는 높은 투과율을 가질 수 있다.
또한, 실시예에 따른 광학 부재가 태양광 발전장치의 보호 기판으로 사용되는 경우, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 향상된 효율을 가질 수 있다.
도 1은 실시예에 따른 태양광 발전장치를 도시한 단면도이다.
도 2는 보호 기판을 도시한 단면도이다.
도 3은 반사방지막을 형성하는 과정을 도시한 순서도이다.
실시 예의 설명에 있어서, 각 패널, 바, 프레임, 기판, 홈 또는 막 등이 각 패널, 바, 기판, 홈 또는 막 등의 "상(on)"에 또는 "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "상(on)"과 "아래(under)"는 "직접(directly)" 또는 "다른 구성요소를 개재하여 (indirectly)" 형성되는 것을 모두 포함한다. 또한 각 구성요소의 상 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다. 도면에서의 각 구성요소들의 크기는 설명을 위하여 과장될 수 있으며, 실제로 적용되는 크기를 의미하는 것은 아니다.
도 1은 실시예에 따른 태양광 발전장치를 도시한 단면도이다. 도 2는 보호 기판을 도시한 단면도이다. 도 3은 반사방지막을 형성하는 과정을 도시한 순서도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 태양전지 패널(10) 및 보호기판(20)을 포함한다. 또한, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 상기 태양전지 패널(10) 및 상기 보호기판(20)을 수용하기 위한 프레임을 더 포함할 수 있다. 또한, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 상기 태양전지 패널(10) 및 상기 보호기판(20) 사이에 개재되는 완충시트(30)를 더 포함할 수 있다.
상기 태양전지 패널(10)은 플레이트 형상을 가진다. 예를 들어, 상기 태양전지 패널(10)은 사각 플레이트 형상을 가질 수 있다.
상기 태양전지 패널(10)은 태양광을 입사받아 전기에너지로 변환시킨다. 상기 태양전지 패널(10)은 지지기판(110) 및 다수 개의 태양전지 셀들(120)을 포함한다.
상기 태양전지 셀들(120)은 태양광을 입사받아 전기에너지로 변환시킨다. 상기 태양전지 셀들(120)은 실리콘계 태양전지, CIGS 등과 같은 화합물 반도체 태양전지 또는 염료 감응형 태양전지일 수 있다.
상기 보호기판(20)은 상기 태양전지 패널(10) 상에 배치된다. 상기 보호기판(20)은 상기 보호기판(20)은 외부의 물리적인 충격 및/또는 이물질로부터 상기 태양전지 셀들(120)을 보호한다. 즉, 상기 보호기판(20)은 상기 태양전지 셀들(120)을 보호하기 위한 보호 부재이다.
상기 보호기판(20)은 투명 기판(210), 제 1 반사 방지막(220) 및 제 2 반사 방지막(230)을 포함한다.
상기 투명 기판(210)은 투명하며, 높은 강도를 가진다. 상기 투명 기판(210)은 플레이트 형상을 가진다. 상기 투명 기판(210)은 예를 들어, 강화 유리일 수 있다.
상기 제 1 반사 방지막(220)은 상기 투명 기판(210) 상에 배치된다. 더 자세하게, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 상기 투명 기판(210)의 상면에 코팅된다. 상기 제 1 반사 방지막(220)의 두께는 약 80㎚ 내지 약 300㎚일 수 있다.
상기 제 1 반사 방지막(220)은 실리콘 옥사이드(silicon oxide)를 포함한다. 더 자세하게, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 주로 실리콘 옥사이드로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 알루미늄 옥사이드를 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 약 0.1wt% 내지 약 0.3wt%의 비율로 알루미늄 옥사이드를 포함할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 다수 개의 제 1 기공들(221)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 다공질 구조의 박막일 수 있다. 상기 제 1 기공들(221)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 상기 제 1 기공들(221)은 일 방향으로 연장되는 형상을 가질 수 있다.
상기 제 1 기공들(221)의 크기는 약 5㎚ 내지 20㎚ 약 일 수 있다. 즉, 상기 제 1 기공들(221)의 직경은 약 5㎚ 내지 20㎚ 약 일 수 있고, 상기 제 1 기공들(221)의 길이는 약 5㎚ 내지 약 20㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 제 1 기공율은 약 15% 내지 약 35%일 수 있다.
상기 제 1 반사 방지막(220)은 실리콘 옥사이드를 포함하고, 상기 제 1 기공들(221)의 직경은 약 10㎚ 내지 약 20㎚이고, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 기공률이 약 15% 내지 약 20%인 경우, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 굴절율은 약 1.2 내지 약 1.4일 수 있다.
또한, 이와 같은 경우, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 경도는 약 3H보다 더 클 수 있다. 즉, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 경도는 약 3H 내지 약 4H 일 수 있다.
또한, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 실리콘 옥사이드를 포함하고, 상기 제 1 기공들(221)의 직경은 약 5㎚ 내지 약 10㎚이고, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 기공률이 약 27% 내지 약 31%인 경우, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 굴절율은 약 1.2 내지 약 1.4일 수 있다.
상기 제 1 반사 방지막(220)이 굴절율은 상기 제 1 기공들(221)에 의해서 조절될 수 있다. 즉, 실리콘 옥사이드 자체는 약 1.55의 굴절율을 가지는데, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 위와 같은 제 1 기공들의 크기 및 기공률을 가지기 때문에, 약 1.2 내지 약 1.4 의 굴절율을 가질 수 있다.
특히, 상기 투명 기판(210)은 약 1.5 내지 약 1.6의 굴절율을 가지고, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 약 1.2 내지 약 1.4의 굴절율을 가지기 때문에, 상기 보호기판(20)은 반사를 감소시키고, 향상된 투과율을 가질 수 있다.
또한, 상기 투명 기판(210)은 강화 유리 등을 포함하는 경우, 실리콘 옥사이드와 향상된 접착력을 가질 수 있다. 이에 따라서, 상기 제 1 반사 방지막(220)은 견고하게 상기 투명 기판(210)에 부착되고, 상기 보호 기판은 향상된 강도를 가질 수 있다.
상기 제 2 반사 방지막(230)은 상기 투명 기판(210) 아래에 배치된다. 상기 제 제 2 반사 방지막(230)은 상기 투명 기판(210)의 하면에 코팅된다. 상기 제 2 반사 방지막(230)의 두께는 약 80㎚ 내지 약 300㎚일 수 있다.
상기 제 2 반사 방지막(230)은 실질적으로 상기 제 1 반사 방지막(220)과 동일한 특성을 가질 수 있다.
즉, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 실리콘 옥사이드를 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 주로 실리콘 옥사이드로 형성될 수 있다. 또한, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 알루미늄 옥사이드를 포함할 수 있다. 더 자세하게, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 약 0.1wt% 내지 약 0.3wt%의 비율로 알루미늄 옥사이드를 포함할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 다수 개의 제 2 기공들(231)을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 다공질 구조의 박막일 수 있다. 상기 제 2 기공들(231)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 상기 제 2 기공들(231)은 일 방향으로 연장되는 형상을 가질 수 있다.
상기 제 2 기공들(231)의 크기는 약 5㎚ 내지 약 20㎚ 일 수 있다. 즉, 상기 제 2 기공들(231)의 직경은 약 5㎚ 내지 약 20㎚일 수 있고, 상기 제 2 기공들(231)의 길이는 약 5㎚ 내지 약 20㎚일 수 있다. 또한, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 제 2 기공율은 약 15% 내지 약 35%일 수 있다.
상기 제 2 반사 방지막(230)은 실리콘 옥사이드를 포함하고, 상기 제 2 기공들(231)의 직경은 약 10㎚ 내지 약 20㎚이고, 상기 제 2 반사 방지막(230)의 기공률은 약 15% 내지 약 20% 인 경우, 상기 제 1 반사 방지막(220)의 굴절율은 약 1.2 내지 약 1.4일 수 있다.
또한, 이와 같은 경우, 상기 제 2 반사 방지막(230)의 경도는 약 3H보다 더 클 수 있다. 즉, 상기 제 2 반사 방지막(230)의 경도는 약 3H 내지 약 4H일 수 있다.
또한, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 실리콘 옥사이드를 포함하고, 상기 제 2 기공들(231)의 직경은 약 5㎚ 내지 약 10㎚이고, 상기 제 2 반사 방지막(230)의 기공률이 약 27% 내지 약 31%인 경우, 상기 제 2 반사 방지막(230)의 굴절율은 약 1.2 내지 약 1.4일 수 있다.
상기 제 2 반사 방지막(230)이 굴절율은 상기 제 2 기공들(231)에 의해서 조절될 수 있다. 즉, 실리콘 옥사이드 자체는 약 1.55의 굴절율을 가지는데, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 위와 같은 제 2 기공들(231)의 크기 및 기공률을 가지기 때문에, 약 1.2 내지 약 1.4의 굴절율을 가질 수 있다.
특히, 상기 투명 기판(210)은 약 1.5 내지 약 1.6의 굴절율을 가지고, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 약 1.2 내지 약 1.4의 굴절율을 가지기 때문에, 상기 보호기판(20)은 반사를 감소시키고, 향상된 투과율을 가질 수 있다.
또한, 상기 투명 기판(210)은 강화 유리 등을 포함하는 경우, 실리콘 옥사이드와 향상된 접착력을 가질 수 있다. 이에 따라서, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 견고하게 상기 투명 기판(210)에 부착되고, 상기 보호 기판은 향상된 강도를 가질 수 있다.
이와는 다르게, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 실리콘 옥사이드를 포함하지 않고, 마그네슘 플로오라이드 등을 포함할 수 있다. 즉, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 상기 강화유리와 다른 굴절율을 가지는 물질로 형성될 수 있다. 이때, 상기 제 2 반사 방지막(230)은 기공을 포함하지 않을 수 있다.
도 3을 참조하면, 상기 보호기판(20)은 다음과 같은 과정에 의해서 형성될 수 있다.
먼저, 다수 개의 실리콘 옥사이드 입자들을 포함하는 분산액이 형성될 수 있다(S10). 상기 실리콘 옥사이드 입자들은 약 20wt% 내지 약 40wt%의 비율로 상기 분산액에 포함될 수 있다.
상기 실리콘 옥사이드 입자들의 직경은 약 15㎚ 내지 약 40㎚일 수 있다. 상기 실리콘 옥사이드 입자들의 평균 직경은 약 24㎚ 내지 약 30㎚ 일 수 있다. 또한, 상기 실리콘 옥사이드 입자들의 직경 분포는 아래의 수식1을 만족할 수 있다.
수식1
R=A±B
여기서, R은 상기 실리콘 옥사이드 입자들의 직경이고, A는 26㎚ 내지 28㎚이고, B는 9㎚ 내지 13㎚이다.
또한, 상기 분산액은 pH가 약 0.5 내지 약 4.5인 산성을 가진다. 더 자세하게, 상기 분산액은 pH가 약 2 내지 약 3.5인 산성을 가질 수 있다.
이후, 상기 분산액에 알루미늄 옥사이드 등의 첨가제가 첨가된다. 상기 알루미늄 옥사이드는 약 0.1wt% 내지 약 0.3wt%의 비율로 상기 분산액에 첨가될 수 있다.
이후, 상기 분산액은 에탄올 및 이소 프로판올이 1:1로 혼합된 용매에 희석될 수 있다(S20). 상기 첨가제가 첨가된 분산액은 균일하게 혼합된다. 상기 분산액은 약 24시간 동안 교반될 수 있다.
이후, 상기 분산액은 필터에 의해서 필터링된다(S30). 이에 따라서, 상기 실리콘 옥사이드 입자들 중 응집되어 형성된 다수 개의 응집체들은 상기 필터에 의해서 걸러지고, 더욱 높은 분산도를 가지는 분산액이 얻어질 수 있다.
상기 필터는 3층의 셀룰로오스 필터 페이퍼일 수 있다. 즉, 상기 셀룰로오스 필터 페이퍼는 약 2㎛의 기공들을 가지는 제 1 층, 약 0.8㎛의 기공들을 가지는 제 2 층 및 약 0.2㎛의 기공들을 가지는 제 3 층을 포함할 수 있다.
이후, 상기 필터를 통과한 분산액은 상기 투명 기판(210)에 코팅된다(S40). 더 자세하게, 상기 분산액은 스프레이 코팅, 스핀 코팅, 슬릿 코팅 또는 딥핑 코팅 등에 의해서 상기 투명 기판(210)에 코팅될 수 있다.
특히, 상기 투명 기판(210)은 상기 분산액에 딥핑되고, 상기 투명 기판(210)의 외부 표면 전체에 상기 분산액이 코팅될 수 있다. 즉, 상기 투명 기판(210)의 상면 및 하면에 상기 분산액이 코팅될 수 있다. 이와 같은 딥핑 공정에서, 상기 투명 기판(210)의 승강 속도는 약 1.9㎜/s 내지 약 2.5㎜/s일 수 있다.
이와 같이, 상기 분산액이 코팅된 투명 기판(210)은 상온에서 건조된다(S50). 상기 분산액이 코팅된 투명 기판(210)은 약 24시간 동안 건조될 수 있다.
이후, 상기 건조된 투명 기판(210)은 열처리된다(S60). 상기 건조된 투명 기판(210)은 약 10 분 내지 약 50분 동안 약 500℃ 내지 약 600℃의 온도에서 열처리될 수 있다. 더 자세하게, 상기 건조된 투명 기판(210)의 승온 속도는 2℃/분 내지 약 5℃/분일 수 있다.
상기 완충시트(30)는 상기 보호기판(20) 및 상기 태양전지 셀들(120) 사이에 개재된다. 상기 완충시트(30)는 상기 보호기판(20) 및 상기 태양전지 셀들(120) 사이에서 완충 기능을 수행한다.
앞서 설명한 바와 같이, 상기 제 1 반사 방지막(220) 및 상기 제 2 반사 방지막(230)의 굴절율은 상기 기공들의 직경 및 기공률에 의해서 조절될 수 있다. 특히, 상기 기공들의 직경이 약 5㎚ 내지 약 20㎚이고, 기공률이 약 15% 내지 약 35%인 경우, 상기 제 1 반사 방지막(220) 및 상기 제 2 반사 방지막(230)의 굴절율은 약 1.2 내지 약 1.4 일 수 있다.
또한, 상기 기공들의 직경이 약 5㎚ 내지 약 20㎚이고, 기공률이 약 15% 내지 약 35%인 경우, 상기 제 1 반사 방지막(220) 및 상기 제 2 반사 방지막(230)은 약 3H 이상의 높은 경도를 가질 수 있다.
상기 보호기판(20)은 향상된 투과율을 가지므로, 실시예에 따른 태양광 발전장치는 향상된 광학적 특성을 가지고, 높은 광-전 변환 효율을 가진다.
또한, 상기 보호기판(20)은 상기 태양전지 패널(10)을 보호하기 위한 보호부재이면서, 동시에, 상기 태양전지 패널(10)로 입사되는 광의 반사율을 저감시키는 광학부재이다.
또한, 상기 보호기판(20)은 디스플레이 장치에도 적용될 수 있다. 즉, 상기 보호기판(20)은 디스플레이 장치에 보호부재 또는 광학부재로 적용될 수 있다.
또한, 이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
실험예1
pH 3.75인 황산 분산액에 SiO2 입자들(Levasil Akzonobel 제품)이 균일하게 혼합되어 분산액(약 210g)이 형성되었다. 이때, 상기 분산액에서, 상기 SiO2 입자들의 비율은 30wt%이었고, 상기 SiO2 입자들의 직경 분포는 27.2±10.3㎚이었다. 또한, 상기 분산액에는 약 0.2wt%의 Al2O3가 첨가되었다. 상기 분산액은 에탄올(약 829.5) 및 이소프로판올(약 819g)이 혼합된 용매에 희석되었다. 상기 희석된 분산액은 약 24시간 동안 교반되었다. 이후, 상기 희석된 분산액은 3층의 셀룰로오스 필터 페이퍼(기공 사이즈는 약 2㎛, 0.8㎛, 0.2㎛)에 의해서, 2기압의 압력으로 필터링되었다. 이후, 상기 필터링 공정을 거친 분산액에 약 1㎜의 두께의 유리기판가 딥핑되고, 상기 딥핑된 유리기판는 약 2.3㎜/s의 속도로 승강되었다. 최종 분산액에서의 SiO2의 함량은 3.4wt%이었다. 이후, 상기 분산액이 코팅된 유리기판은 건조되고, 약 3.5℃/분의 속도로 상기 유리기판의 온도가 상승되어, 상기 유리기판은 약 30분 동안 약 550℃의 온도로 열처리되었다. 이와 같이, 상면 및 하면에 반사 방지막들이 각각 코팅된 보호기판이 형성되었다.
실험예2
본 실험예는 황산 분산액의 pH가 3.75인 점을 제외하고, 실험예1과 실질적으로 동일하게 진행되었다.
실험예3
본 실험예는 황산 분산액의 pH가 1이고, SiO2 입자들의 직경 분포가 26.5±12.4㎚인 점을 제외하고, 실험예1과 실질적으로 동일하게 진행되었다.
실험예4
본 실험예는 황산 분산액의 pH가 1.2인 점을 제외하고, 실험예1과 실질적으로 동일하게 진행되었다.
실험예5
본 실험예는 황산 분산액의 pH가 2.5인 점을 제외하고, 실험예1과 실질적으로 동일하게 진행되었다.
실험예6
본 실험예는 황산 분산액의 pH가 3.5이고, 분산액의 질량이 56.84g인 점을 제외하고, 실험예1과 동일하게 진행되었다. 최종 분산액의 SiO2함량은 약 1wt%이었다.
실험예7
본 실험예는 분산액의 질량이 329.7g인 점을 제외하고, 실험예6과 동일하게 진행되었다. 최종 분산액의 SiO2의 함량은 약 5wt%이었다.
실험예8
본 실험예는 분산액의 질량이 113.68g인 점을 제외하고, 실험예6과 동일하게 진행되었다. 최종 분산액의 SiO2의 함량은 약 2wt%이었다.
결과
표1에 도시된 바와 같이, 실험예들에 따른 보호기판들은 높은 투과율을 가지고, 향상된 표면 경도를 가지는 것을 알 수 있었다.
반사 방지막
굴절율		 전체 투과율(%) 반사 방지막
표면 경도		 반사 방지막
막부착력		 반사 방지막
기공률(%)
실험예1 1.28 96.3 4H 1 28.5
실험예2 1.30 96.2 3H 1 23.6
실험예3 1.25 96.4 4H 5 33.2
실험예4 1.33 95.8 4H 1 19.3
실험예5 1.33 95.8 3H 1 19.3
실험예6 1.55 91.6 2H 2 8.61
실험예7 1.35 95.0 4H 4 18.5
실험예8 1.38 93.7 2H 4 12.4

Claims (12)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 다수 개의 실리콘 옥사이드 입자들을 포함하는 분산액을 형성하는 단계;
    상기 분산액을 3층의 셀룰로오스 필터 페이퍼에 필터링하는 단계;
    상기 분산액을 기판 상에 코팅하는 단계; 및
    상기 코팅된 분산액을 열처리하여 상기 기판 상에 반사방지막을 형성하는 단계를 포함하고,
    상기 분산액은 pH 2 내지 3.5인 광학 부재의 제조방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 3층의 셀룰로오스 필터 페이퍼는 2㎛의 기공을 포함하는 제1층과 0.8㎛의 기공을 포함하는 제2층과 0.2㎛의 기공을 포함하는 제3층으로 형성된 광학 부재의 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 코팅된 분산액을 열처리하여 상기 기판 상에 반사방지막을 형성하는 단계는,
    상기 기판에 상기 분산액이 딥핑되어 상기 기판의 외부 표면 전체에 분산액이 코팅되고 상기 코팅된 기판을 24시간 건조한 후, 10분 내지 50분동안 500도 내지 600도의 온도에서 열처리하는 광학 부재의 제조방법.
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 제9항에 있어서, 상기 실리콘 옥사이드 입자들의 직경 분포는 아래의 수식을 만족하는 광학 부재의 제조방법.
    R= A±B
    여기서, R은 실리콘 옥사이드 입자들의 직경이고, A는 26㎚ 내지 28㎚이고, B는 9㎚ 내지 13㎚이다.
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