KR101832926B1 - 개스 유동 희석기의 캘리브레이션을 위한 방법 및 시스템 - Google Patents

개스 유동 희석기의 캘리브레이션을 위한 방법 및 시스템 Download PDF

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Abstract

개시된 바람직한 실시예는 정상 유동(steady flow)을 신속하게 안정화시키는 임계 오리피스들과 같은, 저렴한 고정 유체 유동 구성 요소들을 이용할 수 있게 한다. 이들은 동등한 유동을 달성하도록 조절될 수 있지만, 소망의 유동 값들에 민감하게 근접하도록 선택된다. 이러한 실시예는 유체 유동 구성 요소들 모두의 유동의 진정한 비율을 판단한다. 실제 유동들은 측정되지 않지만 거의 동등한 유동들이 각각 공통의 유동 계량기로 공급되고, 지시된 유동 계량기의 독출들의 비율은 유동들의 비율과 같게 되도록 취해진다. 2 개의 거의 같은 유동들은 조합되고, 대략 같은 값의 단일 유동과 비교되며, 그것이 계속된다. 유동 계량기는 오직 거의 동등한 유동들을 비교하도록 이용되며, 캘리브레이션되거나 넓은 범위에 걸쳐 선형적일 필요는 없다.

Description

개스 유동 희석기의 캘리브레이션을 위한 방법 및 시스템{Method of and system for calibrating gas flow dilutors}
본 발명은 개스 유동 희석기를 캘리브레이션하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다.
표준 개스 혼합물은 매스릭스 개스(예를 들어 질소)에 있는 분석 대상 개스(예를 들어 일산화탄소)의 고정된 농도를 포함하는 개스 실린더들에서 이용될 수 있다. 개스 유동 희석기(dilutors)들은 표준 개스 혼합물의 유동을 관련 매트릭스 개스(희석 개스로 지칭된다)의 추가적인 유동과 조합하여 희석을 제공한다. 2 개 유량들의 비율 조절은 조합된 유동에서 분석 대상물(analyte)의 농도를 조절하는 수단을 제공한다.
본 발명은 개스 희석기들의 향상된 캘리브레이션을 제공하기 위한 것인데, 이것은 표준 개스 혼합물 및 희석 개스의 다수의 고정된 유동들을 다양한 조합으로 "허용하거나(turning on)" 또는 "차단하는(turning off)" 기능을 가지는 유형이다. 그러한 개스 희석기 유형들은 공지되어 있으며, 고정 유체 유동 구성 요소들로서 종종 모세관들, 오리피스들 또는 임계 오리피스들을 이용한다.
개스 희석기들은 일반적으로 유동의 외부 기준 표준치에 대하여 유동 제어 요소들의 실제 유동들을 측정함으로써 캘리브레이션된다. 상업적으로 이용 가능한 개스 희석기들의 상기 캘리브레이션들은 종종 캘리브레이션 실험실에서 1 년에 한번씩 수행된다. 이것은 고가(高價)이고, 시간 소모적이며, 그 기간에 걸쳐 정확도가 유지될 수 없다.
그러나, 희석은 유동 비율들의 함수이고 실제 유동 값들에 대한 지식은 필요하지 않기 때문에, 실제 유동들의 캘리브레이션은 불필요하다. 영국 특허 GB-B-2,333,614 는 공통의 유동 계량기상에 동일한 독출(reading)을 제공하도록 일련의 유동 조합들을 조절함으로써 유동 비율들을 정확하게 설정하는, 다수의 유동 제어 장치들의 캘리브레이션 방법을 개시한다. 상기의 방법을 이용하는 "2 진 중량 유동을 가지는 질량 유동 콘트롤러를 이용하는 고정밀 개스 유동 희석기"에 대한 상세한 설명이 Measurement Science and Technology 13 (2002) 1138-1145 로 출간되었다. 이러한 방법은 빈번한 간격으로 사용의 지점에서 실제로 캘리브레이션을 수행하도록 이용될 수 있다.
영국 특허 GB-B-2,333,614 의 방법은, 질량 유동 콘트롤러들과 같은, 소망의 유동으로 설정될 수 있고 조절될 수 있는 유동 제어 요소들을 이용하는 희석기들에만 적용 가능하다. 질량 유동 콘트롤러들은 대형이고, 값비싸며, 유동을 조절하도록 안정화시키는 것은 느리다. 따라서 유동들을 동등해지도록 조절하는 것에 의존하는, 정확한 캘리브레이션은 지연된다.
미국 특허 US 3,886,071 은 고정 유체 유동 구성 요소들을 가진 희석기를 개시한다.
본 발명은 개스 유동 희석기들의 캘리브레이션을 위한 향상된 방법 및 시스템을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 양상에 따르면, 소망의 유량을 제공하도록 선택된, 복수개의 고정 유체 유체 구성 요소들을 제공하는 단계; 하나 이상의 상기 고정 유체 유동 구성 요소들로부터 공통의 유동 계량기를 통하여 유동을 공급하고, 유체 유동 구성 요소들을 통한 유동들을 측정함으로써 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들을 통한 유체 유동의 측정치를 얻는 단계 및, 그로부터 유동들의 비율을 판단함으로써, 유체 유동 구성 요소들을 통한 유동의 상기 측정치를 얻는 단계를 포함하는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법이 제공된다.
본 발명의 다른 양상에 따르면, 소망되는 유량들을 제공하도록 작동될 수 있는 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들; 상기 고정 유체 유동 구성 요소들로부터 유체 유동을 수용하도록 결합되고 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들을 통한 유체 유동의 측정치를 얻도록 작동될 수 있는 공통의 유동 계량기, 그로부터 유동들의 비율들을 판단함으로써, 유체 유동 구성 요소들을 통한 유동의 상기 측정치를 얻는 수단을 포함하는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 장치가 제공된다.
여기에 설명된 바람직한 실시예들은 임계 오리피스들과 같은 저비용의 고정된 유체 유동 구성 요소들을 이용할 수 있게 하는데, 이것은 정상 유동(steady flow)으로 신속화게 안정화시킨다. 이들은 동등한 유동들을 달성하도록 조절될 수 없지만, 소망의 유동 값들에 민감하게 근접하도록 선택된다. 이러한 실시예는 모든 유체 유동 구성 요소들의 유동들의 진정한 비율들을 판단한다. 실제 유동들이 측정되지 않지만, 거의 동등한 유동들이 각각 공통의 유동 계량기로 공급되며, 지시된 유동 계량기 독출(reading)들의 비율은 유동들의 비율과 같도록 취해진다. 2 개의, 거의 동등한 유동들이 조합되고, 거의 같은 값을 가진 단일 유동과 비교되며, 계속 그렇게 된다. 유동 계량기는 거의 같은 유동들을 비교하는데만 이용되고, 따라서 캘리브레이션될 필요가 없고, 넓은 범위에 걸쳐 선형적일 필요가 없다.
본 발명의 실시예는 도면을 참조하여 하나의 예로서만 아래에 설명되는데, 도 1 은 유동 제어 장치의 실시예를 개략적인 형태로 도시하며, 특히 개스 유동 희석기를 캘리브레이션하기 위한 것을 나타낸다.
도 1 을 참조하면, 이것은 하나의 예로서 개스 유동 희석기의 실시예를 도시하며, 이것은 유체 유동 구성 요소로서 임계 오리피스(critical orifice)를 이용한다. 일반적인 디자인이 공지되어 있으나, 추가적인 꼭지(7A), 오리피스(8A), 유동 계량기(11)들이 포함되어 향상된 캘리브레이션 방법을 가능하게 한다. 캘리브레이션의 정확도를 향상시키도록 편차 압력 계량기(6)도 포함되는 것이 바람직스럽다.
표준 개스는 투입부(1)에서 3 방향 꼭지(three-way tap, 3)를 통해 제 1 개스 압력 조절기(4)로 제공되고 꼭지(7A 내지 7F)로 공급된다. 희석 개스가 투입부(2)에서 제 2 개스 압력 조절기(5)로 제공되고 꼭지(7A 내지 7F)로 공급된다. 이러한 꼭지들은 표준 개스 또는 희석 개스가 임계 오리피스(8A 내지 8F)로 유동하는 것을 허용한다. 추가적으로, 각각의 꼭지는 양쪽 개스 모두의 유동을 동시에 차단하도록 위치될 수 있다.
임계 오리피스들로부터의 조합된 유동은 꼭지(tap, 10)로 유동하고 출력 포트(9)로 지향될 수 있거나, 또는 유동 계량기(flow meter, 11)를 통하여 배기 포트(12)로 지향될 수 있다.
꼭지(3)는 캘리브레이션 동안 표준 개스를 보존하기 위하여 표준 개스 대신에 희석 개스가 제 1 개스 압력 조절기(4)로 편리하게 공급되는 것을 허용한다.
표준 개스의 상이한 희석들이 꼭지(7A-7F)의 설정들의 조합을 변화시킴으로써 얻어진다.
임계 오리피스(8A 내지 8F)들은 유동의 1, 1, 2, 4, 8 및 16 유닛들(units)의 공칭 유동(nominal flow)(예를 들어, 값의 ±3 % 이내)을 각각 제공하도록 선택된다. (유동의 유닛은 출력으로부터 소망의 유량을 제공하도록 선택된다.) 즉, 임계 오피피스(8A,8B)는 동일한 유닛을 제공하고, 즉, 동일한 용량을 제공하고, 임계 오리피스(8C,8D,8E,8F)들 각각은 상기 임계 오리피스(8A) 용량의 2 배, 4 배, 8 배 및 16 배의 용량을 제공한다.
제 1 및 제 2 개스 압력 조절기(4,5)들로부터의 출력 압력이 바람직스럽게는 동등하고 임계 오리피스들의 정확한 작동을 보장하기에 충분하다.
편차 압력 계량기(6)는 제 1 및 제 2 개스 압력 조절기(4,5)들의 출력 압력들이 동등하도록 편리하게 설정되는 것을 허용한다. 이것은 또한 출력 압력의 변화를 허용하는데, 이는 유동의 변화로부터 결과될 수 있는 것으로, 모니터되고 보상되어야 한다.
유동 계량기(11)는 정확하게 캘리브레이션되거나 또는 고도로 선형적일 필요가 없으며, 왜냐하면 동등하게 접근되는 유동들의 쌍들을 비교하는데만 이용되기 때문이다.
캘리브레이션의 바람직한 방법은 다음과 같다.
1) 희석 개스가 포트(2)에 연결되고 그 압력은 제 1 및 제 2 개스 압력 조절기(4,5)로 공급되기에 충분하도록 조절된다.
2) 꼭지(3)는 희석 개스를 양쪽 조절기들로 공급하도록 설정된다.
3) 꼭지(7B 내지 7F)들은 차단(off)되도록 설정된다 (유동 없음).
4) 꼭지(7A)는 희석 개스를 임계 오리피스(8A)로 공급하도록 설정된다.
5) 꼭지(10)는 유동을 유동 계량기(11)를 통해 지향시키도록 설정된다.
6) 오리피스(8A)를 통한 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터의 유동은 FD(8A)로서 지칭될 것이고 모든 다른 유동들이 비교되는 기준 유동으로서 편리하게 이용된다. 계량기(11)상의 유량(flow rate)에 대한 대응하는 표시는 ID(8A)로서 지칭될 것이다.
7) 꼭지(7A)는 차단으로 전환되고 꼭지(7B)는 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터 오리피스(8B)로 유동을 제공하도록 설정된다. 유동 FD(8B)은 유량 ID(8B)를 제공한다.
8) 다음에, 근접한 개산(槪算)으로서,
FD(8B)=FD(8A)×ID (8B)/ID(8A);
9) 양쪽 꼭지(7A,7B)들은 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터 개스를 유동시키도록 설정된다. 유사한 명칭(nomenclature)을 이용하여, 조합된 유동 FD(8A+8B)의 유량이 ID(8A+8B)로서 계량기(11)상에 표시된다.
10) 꼭지(7A, 7B)들이 차단되도록 설정된다. 꼭지(7C)는 유동 FD(8C) 및 유량 표시 ID(8C)를 달성하도록 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터 유동하게끔 설정된다.
11) 다음에, 근접한 개산으로서,
FD(8C) = FD(8A+8B)×ID(8C)/ID(8A+8B);
12) 유동을 조합하고 유사한 유동과 비교하는 유사한 과정에 의하여, 다음의 근접한 개산이 결정될 수 있다.
FD(8D) = FD(8A+8B+8C)×ID(8D)/ID(8A+8B+8C)
FD(8E)=FD(8A+8B+8C+8D)× ID(8E)/ID(8A+8B+8C+8D)
FD(8F)=FD(8A+8B+8C+8D+8E)×ID(8F)/ID(8A+8B+8C+8D+8E)
이것은 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터 공급될 때 임계 오리피스(8B 내지 8F)들의 상대적인 유동을 판단하기에 충분한 정보를 제공하며, 또한 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터 공급되는, 오리피스(8A)를 통한 유동에 대해서도 그러하다.
13) 단계 4) 내지 12)들이 반복되지만, 꼭지들은 제 2 개스 압력 조절기(5)보다는 제 1 개스 압력 조절기(4)로부터 개스를 공급하도록 설정된다. 이러한 유동들 및 유량 표시들은 각각 FS 및 IS 로서 지칭될 것이며, 다음의 근접한 개산이 결정될 수 있다.
FS(8B) = FS(8A)×IS(8B)/IS(8A)
FS(8C) = FS(8A+8B)×IS(8C)/IS(8A+8B);
FS(8D) = FS (8A+8B+8C)×IS(8D)/IS(8A+8B+8C)
FS(8E) = FS(8A+8B+8C+8D)×IS(8E)/IS(8A+8B+8C+8D)
FS(8F) = FS(8A+8B+8C+8D+8E)×IS(8F)/IS(8A+8B+8C+8D+8E)
이것은 제 1 개스 압력 조절기(4)로부터 공급될 때 임계 오리피스(8B 내지 8F)들의 상대적인 유동을 판단하기에 충분한 정보를 제공하며, 또한 제 1 개스 압력 조절기(4)로부터 공급되는, 오리피스(8A)를 통한 유동에 대해서도 그러하다.
14) 유동 계량기(11)를 이용하여, 제 1 개스 압력 조절기(4)로부터 공급될 때 오리피스(8A)를 통한 유동은 제 2 개스 압력 조절기(5)로부터 공급될 때 얻어지는 유동과 비교된다. 따라서,
FS(8A)=FD(8A)×IS(8A)/ID(8A)
15) 오리피스들 각각을 통한 희석 개스 또는 표준 개스의 상대적인 유동들은 다음에 계산될 수 있다.
작동시에, 꼭지(7A 내지 7F)들은 표준 개스 및 희석 개스의 유동을 설정하도록 조합되어 이용된다. 2 개 개스들의 상대적인 유동은 희석을 형성한다.
실제에 있어서, 제 1 및 제 2 개스 압력 조절기(4,5)들의 출력 압력은 그들을 통한 유동이 증가되면서 감소될 수 있다. 이것은 오리피스들을 통한 유동의 감소를 초래할 수 있으며, 판단된 상대 유동들에서의 결과적인 오류 및, 따라서 희석에서의 결과적인 오류를 초래할 수 있다. 이러한 효과는 무시되기에 충분할 정도로 작을 수 있지만, 편차 압력 계량기(6)는 압력과 유동 사이의 관계를 측정하고 보상을 적용하는데 이용될 수 있다.
상기 설명된 실시예에 대하여 다양한 변형들이 가능하다. 예를 들어, 모세관 또는 비 임계(non-critical) 오리피스들과 같은 유동 제어 장치들이 이용될 수 있다. 유동 제어 장치들의 공칭 유동들은 2 진수 중량 관계(binary weightend relationship)(예를 들어, 유동의 1,1,1,3,5 및 10 유닛)를 따를 필요가 없다. 유동 계량기는 측정의 범위를 증가시키기 위하여 2 개 또는 그 이상으로부터 선택될 수 있다. 조절 압력들은 개별적으로 모니터될 수 있다. 캘리브레이션 측정치를 만드는 순서는 변화될 수 있다. 캘리브레이션 데이터의 프로세싱은 변화될 수 있다. 단일 개스의 선형 유동 제어를 제공하도록 시스템이 이용될 수 있다.
여기에 개시된 캘리브레이션 방법 및 장치는 장시간 편차(long-term drift)를 제거하도록 사용자에 의하여 종종(예를 들어, 매일) 다시 캘리브레이션(re-calibration)될 수 있도록 개스 유동 희석기의 현존하는 유형들에 포함될 수 있다. 이것은 잠재적으로 보다 정확한 희석기를 만들며 (0.1 % 의 상대 불확실성(relative uncertainty)이 달성되었다), 조절기를 다시 캘리브레이션하도록 희석기를 실험실로 보내는 것과 관련된 비용 및 비가동 시간을 제거한다.
1. 입력부 4. 제 1 개스 압력 조절기
10. 꼭지 11. 유동 계량기
12. 배기 포트 6. 편차 압력 계량기

Claims (19)

  1. 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법으로서, 상기 개스 유동 희석기는 개스의 공급을 제공하는 제 1 개스 포트(1) 및, 희석 개스의 공급을 제공하는 희석 개스 포트인 제 2 개스 포트(2)를 포함하고,
    제 1 개스 포트는 제 1 개스 압력 조절기(4)에 연결되고, 제 2 개스 포트는 제 2 개스 압력 조절기(5)에 연결되고, 제 2 개스 압력 조절기는 희석 개스 압력 조절기이고, 개스 유동 희석기는, 제 1 개스 압력 조절기의 유출부 및 제 2 개스 압력 조절기의 유출부를 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)에 연결하는 제 1 꼭지(7A)를 포함하고,
    그리고 제 1 개스 압력 조절기(4)의 유출부 및 제 2 개스 압력 조절기(5)의 유출부를 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들 각각에 연결하는 다른 꼭지들(7B, 7C, 7D, 7E, 7F)을 포함하고, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B)는 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)의 유량과 같은 유량을 가지고,
    캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)의 유출부 및 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들 각각의 유출부는 서로 함께 연결되고 개스 유동 희석기의 공통 출력부를 형성하고,
    상기 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법은:
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 캘리브레이션유체 유동 구성 요소(8A)로 희석 개스를 전달함으로써, 희석 개스가 캘리브레이션유체 유동 구성 요소(8A)로만 전달되고 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C, 8D, 8E, 8F)들중 그 어느 것에도 전달되지 않아서, 개스 유동 희석기의 공통 출력부를 통한 유동(FD(8A))으로 지칭되는 제 1 희석 개스 유동을 확립하는 단계;
    유동 계량기(11)에 연결된 개스 유동 희석기의 공통 출력부로써, 상기 유동(FD(8A))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 1 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 1 값은 ID(8A) 로 지칭되고 모든 다른 희석 개스 유량들이 비교되는 기준 유량 값이 되는, 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부를 통하여 FD(8B) 로 지칭되는 제 2 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 유동(FD(8B))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 2 값을 독출하는 단계로서, 제 2 값은 ID(8B)로 지칭되는, 단계;
    제 1 개산(FD8B=FD8A × (ID8B/ID8A))을 수행하는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E,8F)들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B) 및 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FD(8A+8B))으로 지칭되는 제 3 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동(FD(8A+8B))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 3 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 3 값이 ID(8A+8B)로 지칭되는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 2 고정 유체 유동 구성 요소(8C)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FD(8C))으로 지칭되는 제 4 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FD(8C))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 4 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 4 값은 ID(8C)로 지칭되는, 단계;
    제 2 개산(FD(8C)=FD(8A+8B) × ID(8C)/ID(8A+8B)을 수행하는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 1 및 제 2 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C) 및 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달함으로써, 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동 (FD(8A+8B+8C))으로 지칭되는 제 5 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동(FD(8A+8B+8C))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 5 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 5 값은 ID(8A+8B+8C) 로 지칭되는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 3 고정 유체 유동 구성 요소(8D)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FD(8D))으로 지칭되는 제 6 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FD(8D))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 6 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 6 값은 ID(8D)로 지칭되는, 단계;
    제 3 개산(FD(8D)=FD(8A+8B+8C) × ID(8D)/ID(8A+8B+8C))을 수행하는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들중 제 1, 제 2 및 제 3 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D)들 및 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달하고, 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FD(8A+8B+8C+8D))으로 지칭되는 제 7 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동(FD(8A+8B+8C+8D))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 7 값을 독출하는 단계로서, 제 7 값은 ID(8A+8B+8C+8D) 로 지칭되는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 4 고정 유체 유동 구성 요소(8E)로만 희석 개스를 전달하여 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FD(8E))으로 지칭되는 제 8 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FD(8E))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 8 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 8 값은 ID(8E)로 지칭되는, 단계;
    제 4 개산(FD(8E)=FD(8A+8B+8C+8D) × ID(8E)/ID(8A+8B+8C+8D))을 수행하는 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C,8D,8E,8F)들중 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E)들 및 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달하여, 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동 (FD(8A+8B+8C+8D+8E))으로 지칭되는 제 9 희석 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동(FD(8A+8B+8C+8D+8E))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 9 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 9 값은 ID(8A+8B+8C+8D+8E)로 지칭되는, 단계;
    희석 개스 포트(2)로부터 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8F)로만 희석 개스를 전달하여, 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FD(8F))으로 지칭되는 제 10 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FD(8F))에 대응하는 희석 개스 유량 표시의 제 10 값을 독출하는 단계로서, 제 10 값은 ID(8F) 로 지칭되는 단계;
    제 5 개산(FD(8F)=FD(8A+8B+8C+8D+8E) × ID(8F)/ID(8A+8B+8C+8D+8E)을 수행하는 단계;
    제 1 내지 제 5 개산으로부터, 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 희석 개스가 공급될 때 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 희석 개스가 공급되는 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)에 대하여, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들중 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 및 제 5 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들의 개별의 상대적인 유동을 판단하는 단계;
    희석 개스를 제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로 전달함으로써 개스가 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 전달되고 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 그 어느 것에도 전달되지 않아서 개스 유동 희석기의 공통 출력부를 통한 유동(FS(8A))으로 지칭되는 제 1 개스 유동을 확립하는 단계;
    유동 계량기(11)에 연결된 개스 유동 희석기의 공통 출력부로써, 상기 유동(FS(8A))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 1 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 1 값은 IS(8A) 로 지칭되고 모든 다른 개스 유량들이 비교될 기준 유량 값이 되고,
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부를 통하여 유동(FS(8B))으로 지칭되는 제 2 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 사용하여 상기 유동(FS(8B))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 2 값을 독출하는 단계로서, 제 2 값은 IS(8B)로 지칭되는, 단계;
    제 6 개산(FS8B=FS8A × (IS8B/IS8A))을 수행하는 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B) 및 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8A+8B))으로 지칭되는 제 3 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동(FS(8A+8B))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 3 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 3 값은 IS(8A+8B)로 지칭되는, 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 2 고정 유체 유동 구성 요소(8C)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8C))으로 지칭되는 제 4 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FS(8C))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 4 값을 독출하는 단계로서, 제 4 값은 IS(8C)로 지칭되는, 단계;
    제 7 개산(FS(8C)=FS(8A+8B) × IS(8C)/IS(8A+8B))을 수행하는 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 1 및 제 2 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C) 및 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8A+8B+8C))으로 지칭되는 제 5 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동 (FS(8A+8B+8C))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 5 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 5 값은 IS(8A+8B+8C)로 지칭되는, 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C,8D,8E,8F)들중 제 3 고정 유체 유동 구성 요소(8D)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동 FS(8D)으로 지칭되는 제 6 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FS(8D))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 6 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 6 값은 IS(8D)로 지칭되는 단계;
    제 8 개산(FS(8D)=FS(8A+8B+8C)×IS(8D)/IS(8A+8B+8C))을 수행하는 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 1, 제 2 및 제 3 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D)들과, 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8A+8B+8C+8D))으로 지칭되는 제 7 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 조합된 유동(FS(8A+8B+8C+8D))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 7 값을 독출하는 단계로서, 상기 제 7 값은 IS(8A+8B+8C+8D)로 지칭되는 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 4 고정 유체 유동 구성 요소(8E)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8E))으로 지칭되는 제 8 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FS(8E))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 8 값을 독출하는 단계로서, 제 8 값은 IS(8E) 로 지칭되는, 단계;
    제 9 개산(FS(8E)=FS(8A+8B+8C+8D) × IS(8E)/IS(8A+8B+8C+8D)을 수행하는 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E)들과, 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8A+8B+8C+8D+8E))으로 지칭되는 제 9 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 사용하여, 상기 조합된 유동(FS(8A+8B+8C+8D+8E))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 9 값을 독출하는 단계로서, 제 9 값은 IS(8A+8B+8C+8D+8E)로 지칭되는, 단계;
    제 2 개스 포트(2)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들중 제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8F)로만 희석 개스를 전달함으로써 개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 조합된 유동(FS(8F))으로 지칭되는 제 10 개스 유동을 확립하고, 공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 상기 유동(FS(8F))에 대응하는 개스 유량 표시의 제 10 값을 독출하는 단계로서, 제 10 값은 IS(8F)로 지칭되는, 단계;
    제 10 개산(FS(8F)=FS(8A+8B+8C+8D+8E)×IS(8F)/IS(8A+8B+8C+8D+8E))을 수행하는 단계;
    제 6 내지 제 10 개산으로부터, 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 희석 개스가 공급될 때 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 희석 개스가 공급되기도 하는 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)에 대하여, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들중 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 및 제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들 개별의 상대적인 유동을 판단하는 단계;
    공통 출력부에 연결된 유동 계량기(11)를 이용하여, 제 1 개스 포트(1)로부터 제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 개스가 공급될 때 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)를 통하는 개스 유동을, 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 희석 개스가 공급될 때 얻어지는 개스 유동과 비교하여, 관계식(FS8A=FD8A×(IS8A/ID8A))을 얻는 단계; 및,
    상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소들중 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8B,8C,8D,8E,8F)들 각각을 통한 개스 및 희석 개스의 개별의 상대적인 유동을 계산하는 단계;를 포함하는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 고정 유체 유동 구성 요소들중 적어도 하나는 상기 개스 유동 희석기에 희석 개스를 공급하도록 결합되고, 상기 고정 유체 유동 구성 요소들중 적어도 다른 하나는 희석되어야 하는 개스를 공급하도록 결합되는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 고정 유체 유동 구성 요소들에는 오리피스들이 제공되는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 고정 유체 유동 구성 요소들에는 모세관들이 제공되는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A) 및, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B)는 동일한 유동의 용량을 가지고,
    제 2, 제 3, 제 4 및, 제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8C, 8D, 8E, 8F)들은 각각 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)의 2 배, 4배, 8 배 및, 16 배의 개별적인 유동의 용량을 가지는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A) 및, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들중 제 1 고정 유체 유동 구성 요소(8B)는 동일한 유동의 용량을 가지고,
    제 2, 제 3, 제 4 및 제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8C, 8D, 8E, 8F)들중 적어도 하나는 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)의 2 배의 유동의 용량을 가지는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 유동 계량기에 의하여 장시간 편차 (long-term drift)를 보상하도록 캘리브레이션을 제공하는 단계를 포함하는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    제 1 개스 압력 조절기(4)를 통하여 개스 유동을 제공하고 동시에 제 2 개스 압력 조절기(5)를 통하여 희석 개스를 제공하는 단계를 포함하고, 제 1 개스 압력 조절기(4) 및 제 2 개스 압력 조절기(5)의 개별적인 용량은 같은, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  9. 제 1 항에 있어서,
    개스 유동 희석기의 공통 출력부에서 소망의 상대적인 농도로 희석 개스 및 개스를 선택적으로 제공하도록 제 1 꼭지(7A) 및 다른 꼭지(7B, 7C, 7D, 7E, 7F)들을 작동시키는 단계를 더 포함하는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    제 1 꼭지(7A) 및 다른 꼭지(7B, 7C, 7D, 7E, 7F)들은 개스 유동 희석기의 공통 출력부에 대한 희석 개스 및 개스 모두의 유동을 동시에 차단하도록 작동되는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)와, 상기 복수개의 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C, 8D, 8E, 8F)들중 제 1 및 제 2 고정 유체 유동 구성 요소(8B, 8C)들은 동일한 유동의 용량을 가지고,
    제 3, 제 4 및,제 5 고정 유체 유동 구성 요소(8D, 8E, 8F)들은 각각 캘리브레이션 유체 유동 구성 요소(8A)의 3 배, 5 배 및 10 배의 개별적인 유동의 용량을 가지는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
  12. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1 개스 압력 조절기(4)와 제 2 개스 압력 조절기(5) 사이의 편차 압력을 측정하고 상기 제 1 개스 압력 조절기(4)와 제 2 개스 압력 조절기(5) 사이의 편차 압력을 보상하는 단계를 더 포함하는, 개스 유동 희석기의 캘리브레이션 방법.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9383758B2 (en) * 2005-06-27 2016-07-05 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
US9921089B2 (en) 2005-06-27 2018-03-20 Fujikin Incorporated Flow rate range variable type flow rate control apparatus
CN105241526A (zh) * 2015-08-11 2016-01-13 太仓市高泰机械有限公司 一种并联式气体流量计检测装置
CN108426848B (zh) * 2017-12-04 2024-05-31 河南省计量测试科学研究院 基于红外气体分析器的标准气体稀释装置的稀释误差检测装置及其检测方法
AT521524B1 (de) * 2018-07-17 2022-01-15 Avl List Gmbh Gasmischvorrichtung zur Kalibrierung von Gasanalysatoren
JP7379243B2 (ja) * 2019-03-29 2023-11-14 日本碍子株式会社 ガスセンサの検査装置、ガスセンサの検査方法及び基準センサ
JP7194630B2 (ja) * 2019-03-29 2022-12-22 日本碍子株式会社 モデルガス応答特性検査装置及びモデルガス応答特性検査方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001305027A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Shimadzu Corp ガス分析計の校正用ガス調製装置
WO2007002288A2 (en) 2005-06-22 2007-01-04 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and process for integrated gas blending
JP3992121B2 (ja) 1998-02-09 2007-10-17 株式会社司測研 排気ガス希釈サンプリング装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK130515B (da) 1972-03-20 1975-03-03 J S Lundsgaard Apparat til regulering af blandingsforholdet mellem to fluidstromme.
FR2667397B1 (fr) * 1990-10-02 1992-10-30 Air Liquide Procede et dispositif de fourniture de gaz a un analyseur a tres haute sensibilite.
US5261452A (en) * 1991-03-01 1993-11-16 American Air Liquide Critical orifice dilution system and method
DE69213517T2 (de) * 1991-03-01 1997-03-20 Air Liquide Methode zur Gasverdünnung mittels Düsen zur Erzeugung einer kritischen Strömung und Vorrichtung dafür
GB9108978D0 (en) * 1991-04-26 1991-06-26 Siemens Plessey Controls Ltd Improvements in or relating to optical gas detectors
DE9303693U1 (de) 1993-03-12 1993-04-29 Siemens AG, 8000 München Gasmischeinrichtung
US5329965A (en) * 1993-07-30 1994-07-19 The Perkin-Elmer Corporation Hybrid valving system for varying fluid flow rate
US5524473A (en) * 1995-01-01 1996-06-11 Haskell; Weston W. Gas chromatograph flow calibrator
US5661225A (en) * 1996-09-12 1997-08-26 Air Products And Chemicals, Inc. Dynamic dilution system
CN1159019A (zh) * 1996-12-20 1997-09-10 宝山钢铁(集团)公司 一种配制混合气体的方法及其设备
GB9801521D0 (en) 1998-01-23 1998-03-25 Secretary Trade Ind Brit Flow controller
GB0220338D0 (en) * 2002-09-02 2002-10-09 Secretary Trade Ind Brit Production of variable concentration fluid mixtures
JP2004226077A (ja) * 2003-01-20 2004-08-12 Shimadzu Corp ガス希釈装置
EP1779084A4 (en) * 2004-07-21 2012-03-28 Sensors Inc DILUTION FLOW CONTROL SYSTEM WITH FAST OPERATION AND METHOD FOR SAMPLING AN EXHAUST GAS ANALYSIS
GB2446409B (en) * 2007-02-06 2011-05-04 Secretary Trade Ind Brit Fluid mixtures

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3992121B2 (ja) 1998-02-09 2007-10-17 株式会社司測研 排気ガス希釈サンプリング装置
JP2001305027A (ja) * 2000-04-26 2001-10-31 Shimadzu Corp ガス分析計の校正用ガス調製装置
WO2007002288A2 (en) 2005-06-22 2007-01-04 Advanced Technology Materials, Inc. Apparatus and process for integrated gas blending

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
논문(2002.06.20.)

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