KR101799938B1 - Liquid crystal display device - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 표시영역과 비표시영역의 정의되며 액정층을 개재하여 서로 마주하며 합착된 제 1 기판 및 제 2 기판과상기 제 1 기판 내측면의 상기 표시영역에 서로 교차하여 다수의 화소영역을 정의하며 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과상기 제 1 기판의 내측면에 상기 게이트 배선과 나란하게 형성된 공통배선과상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되며 상기 각 화소영역에 형성된 박막트랜지스터와상기 비표시영역의 회로부에 구성된 정전기 방지회로용 다수의 구동소자 및 이와 연결된 다수의 보조배선과상기 박막트랜지스터 위로 상기 표시영역 전면에 순차 반복하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 가지며 형성된 컬러필터층과상기 컬러필터층 위로 형성된 제 1 보호층과상기 제 1 보호층 위로 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 각 화소영역 내에 형성된 다수의 화소전극과상기 제 1 보호층 위로 상기 공통배선과 연결되며 상기 다수의 화소전극과 교대하며 형성된 다수의 공통전극을 포함하며, 상기 회로부에는 서로 이웃한 상기 보조배선 사이의 이격영역에 대응하여 절연층을 개재하여 상기 보조배선과 중첩하며 금속더미패턴이 형성됨으로서 상기 회로부에서의 빛샘을 방지하는 것이 특징인 액정표시장치를 제공한다.The present invention relates to a liquid crystal display device comprising a first substrate and a second substrate which are defined by a display area and a non-display area and which face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween, and a plurality of pixel areas A common wiring formed on the inner surface of the first substrate in parallel with the gate wiring, a thin film transistor connected to the gate wiring and the data wiring, the thin film transistor formed in each pixel region, and the non- A color filter layer formed on the color filter layer and having a plurality of red, green, and blue color filter patterns repeatedly formed on the entire surface of the display region over the thin film transistor, and a plurality of driving elements for the electrostatic discharge circuit formed in the circuit portion, The thin film transistor is connected to the first passivation layer and the first passivation layer, And a plurality of common electrodes connected to the common wiring on the first protective layer and formed alternately with the plurality of pixel electrodes, wherein the circuit unit includes a plurality of pixel electrodes, And a metal dummy pattern is formed to overlap the auxiliary wiring with an insulating layer interposed therebetween to prevent light leakage in the circuit portion.

Description

액정표시장치{Liquid crystal display device}[0001] Liquid crystal display device [0002]

본 발명은 액정표시장치에 관한 것이며, 특히, 블랙매트릭스를 생략하여 마스크 공정수를 저감시키는 동시에 표시영역 외측의 정전기 방지회로가 구비된 회로부에서의 빛샘을 방지할 수 있는 액정표시장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly, to a liquid crystal display capable of reducing the number of mask processes by omitting a black matrix and preventing light leakage in a circuit portion provided with an anti-static circuit outside the display region.

최근에 액정표시장치는 소비전력이 낮고, 휴대성이 양호한 기술 집약적이며, 부가가치가 높은 차세대 첨단 디스플레이(display)소자로 각광받고 있다. Recently, liquid crystal display devices have been attracting attention as next generation advanced display devices with low power consumption, good portability, and high value-added.

일반적으로, 액정표시장치는 액정의 광학적 이방성과 분극성질을 이용하여 구동된다. 상기 액정은 구조가 가늘고 길기 때문에 분자의 배열에 방향성을 가지고 있으며, 인위적으로 액정에 전기장을 인가하여 분자배열의 방향을 제어할 수 있다.In general, a liquid crystal display device is driven by using optical anisotropy and polarization properties of a liquid crystal. Since the liquid crystal has a long structure, it has a directionality in the arrangement of molecules, and the direction of the molecular arrangement can be controlled by artificially applying an electric field to the liquid crystal.

따라서, 상기 액정의 분자배열 방향을 임의로 조절하면, 액정의 분자배열이 변하게 되고, 광학적 이방성에 의해 상기 액정의 분자배열 방향으로 빛이 굴절하여 화상정보를 표현할 수 있다.Therefore, when the molecular alignment direction of the liquid crystal is arbitrarily adjusted, the molecular arrangement of the liquid crystal is changed, and light is refracted in the molecular alignment direction of the liquid crystal by optical anisotropy, so that image information can be expressed.

현재에는 박막트랜지스터와 상기 박막트랜지스터에 연결된 화소전극이 행렬방식으로 배열된 능동행렬 액정표시장치(Active Matrix LCD 이하, 액정표시장치로 약칭함)가 해상도 및 동영상 구현능력이 우수하여 가장 주목받고 있다.At present, active matrix liquid crystal display devices (hereinafter, abbreviated as liquid crystal display devices) in which a thin film transistor and pixel electrodes connected to the thin film transistor are arranged in a matrix manner have been receiving the most attention because of their excellent resolution and video realization ability.

도 1은 일반적인 액정표시장치에 대한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a general liquid crystal display device.

도시한 바와 같이, 일반적인 액정표시장치(1)는 액정층(30)을 사이에 두고 어레이 기판(10)과 컬러필터 기판(20)이 마주하여 합착된 구성을 갖는다. As shown in the figure, the general liquid crystal display device 1 has a structure in which the array substrate 10 and the color filter substrate 20 are attached to each other with the liquid crystal layer 30 interposed therebetween.

이중 하부의 어레이 기판(10)은 이의 상면에 종횡 교차 배열되어 다수의 화소영역(P)을 정의하는 다수의 게이트 배선(미도시) 및 데이터 배선(미도시)이 구비되고 있으며, 이들 두 배선(미도시)의 교차지점에는 박막트랜지스터(Tr)가 구비되어 각 화소영역(P)에 마련된 화소전극(18)과 일대일 대응 접속되어 있다.The lower array substrate 10 is provided with a plurality of gate wirings (not shown) and data wirings (not shown) arranged vertically and horizontally on the upper surface thereof to define a plurality of pixel regions P, A thin film transistor Tr is provided at one of the intersections of the pixel electrodes 18 and the pixel electrodes 18 provided in the pixel regions P in a one-to-one correspondence.

또한, 상기 컬러필터 기판(20)은 이의 내측면에 상기 게이트 배선(미도시)과 데이터 배선(미도시) 그리고 박막트랜지스터(Tr) 등의 구성요소를 가리도록 각 화소영역(P)을 두르는 격자 형상의 제 1 블랙매트릭스(24)가 형성되어 있으며, 표시영역(AA) 전체를 테두리하는 제 2 블랙매트릭스(25)가 구비되고 있으며, 이들 격자형태의 제 1 블랙매트릭스(24)의 내부에서 각 화소영역(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열된 적, 녹, 청색 컬러필터패턴(26a, 26b, 26c)을 포함하는 컬러필터층(26)이 형성되어 있으며, 상기 컬러필터층(26)의 전면에 걸쳐 투명한 공통전극(28)이 마련되어 있다.The color filter substrate 20 has a lattice which surrounds each pixel region P so as to cover the gate wiring (not shown), the data wiring (not shown) and the thin film transistor Tr, The first black matrix 24 having the shape of the first black matrix 24 and the second black matrix 25 surrounding the entire display area AA are provided. A color filter layer 26 including red, green and blue color filter patterns 26a, 26b and 26c which are sequentially and repeatedly arranged corresponding to the pixel region P is formed on the front surface of the color filter layer 26, A transparent common electrode 28 is provided.

그리고, 이들 두 기판(10, 20)은 그 사이로 개재된 액정층(30)의 누설을 방지하기 위하여 비표시영역(NA)의 최외각 가장자리 따라 씰패턴(70)이 구비되고 있으며, 각 기판(10, 20)과 액정층(30)의 경계부분에는 액정 분자의 초기 배열 상태를 부여하는 상, 하부 배향막(미도시)이 개재되고 있다. The two substrates 10 and 20 are provided with a seal pattern 70 along the outermost edges of the non-display area NA in order to prevent leakage of the liquid crystal layer 30 interposed therebetween. 10 and 20) and the liquid crystal layer 30 are interposed between the upper and lower alignment films (not shown) for giving an initial alignment state of liquid crystal molecules.

또한, 상기 어레이 기판(10)의 외측면에는 제 1 편광판(미도시)이 그리고 상기 컬러필터 기판(20)의 외측면에는 제 2 편광판(미도시)이 부착되고 있다. A first polarizer (not shown) is attached to the outer surface of the array substrate 10 and a second polarizer (not shown) is attached to the outer surface of the color filter substrate 20.

더불어 상기 박막트랜지스터(Tr)가 구비된 상기 어레이기판(10)의 외측면 더욱 정확히는 상기 제 1 편광판(미도시)의 외측면에는 백라이트(back-light)가 구비되어 빛을 공급하고 있다. In addition, back-light is provided on the outer surface of the array substrate 10 provided with the thin film transistor Tr, more precisely on the outer surface of the first polarizer plate (not shown) to supply light.

따라서, 상기 게이트 배선(미도시)으로 박막트랜지스터(Tr)의 온(on)/오프(off) 신호가 순차적으로 스캔 인가되어 선택된 화소영역(P)의 화소전극(18)에 데이터 배선(미도시)의 화상신호가 전달되면 이들 사이의 수직전계에 의해 상기 액정층(30)을 이루는 액정분자들이 구동되고, 이에 따른 빛의 투과율 변화로 여러 가지 화상을 표시할 수 있다.Therefore, on / off signals of the thin film transistor Tr are sequentially applied to the gate wiring (not shown) to scan the pixel electrodes 18 of the selected pixel region P to form data lines (not shown) The liquid crystal molecules constituting the liquid crystal layer 30 are driven by the vertical electric field between them, and various images can be displayed by the light transmittance change.

이러한 구조를 갖는 액정표시장치(1)를 제조하는 데에는 복잡한 수회의 마스크 공정 단계를 진행하여야 하며 이러한 제조공정을 진행하면서 정전기 등이 발생하며, 완성된 후에도 정전기 등에 노출되므로 특히, 화소영역(P) 내의 박막트랜지스터(Tr)의 파괴에 의한 불량이 다발하고 있다.In order to manufacture the liquid crystal display device 1 having such a structure, a complicated number of mask processing steps must be performed. Electrostatic charge or the like is generated while performing such a manufacturing process. Since the pixel area P is exposed to static electricity, The defects of the thin film transistors Tr in the thin film transistors Tr are frequently observed.

따라서, 이러한 공정중에 발생하는 정전기에 의한 불량을 억제하고자 표시영역 외측의 비표시영역에 정전기 방지회로를 구비하고 있다. 이하 이러한 정전기 방지회로가 구비되는 영역을 회로부라 정의한다. Therefore, an anti-static circuit is provided in a non-display area outside the display area in order to suppress defects caused by static electricity generated during such a process. Hereinafter, a region where such an anti-static circuit is provided is defined as a circuit portion.

도 2 는 블랙매트릭스가 생략된 액정표시장치에 있어 비표시영역 내의 정전기 방지회로가 구성되는 회로부에 대한 간략한 단면도이다. 2 is a simplified cross-sectional view of a circuit portion in which an electrostatic discharge prevention circuit in a non-display region is formed in a liquid crystal display device in which a black matrix is omitted.

도시한 바와같이 어레이 기판(10)의 비표시영역(NA)에 구비되는 정전기 방지회로(미도시)는 상기 어레이 기판(10)의 제조 과정 중에 발생하는 정전기 등에 의해 발생하는 상기 화소영역(P) 내의 박막트랜지스터(STr)의 파괴를 효과적으로 방지하여야 하며, 동시에 정상상태 즉 정전기 등이 발생하지 않는 일반적인 상태에서는 구동신호 체계에 간섭이나 교란을 일으키지 않아야 한다.An antistatic circuit (not shown) provided in a non-display area NA of the array substrate 10 includes a pixel region P generated by static electricity generated during the manufacturing process of the array substrate 10, And at the same time, it should not cause interference or disturbance in the driving signal system in a normal state in which a static state, that is, no static electricity, does not occur.

따라서, 상기 정전기 방지회로(미도시)는 이러한 역할(정전기 발생 시 과전압의 방전패스 역할 및 정상 구동 시 어레이 내부 구동에 영향을 주지 않는 큰 저항 역할)을 할 수 있도록 다수의 구동소자(미도시) 예를들면 박막트랜지스터, 커패시터, 다이오드 중 어느 하나 또는 둘 이상의 조합하여 구성되고 있으며, 각 구동소자(미도시)간 보조배선(13) 또는 콘택홀(16)을 통해 연결패턴(19) 등을 통해 연결되고 있다.  Accordingly, the electrostatic discharge protection circuit (not shown) is provided with a plurality of driving elements (not shown) so as to perform this role (a discharge path of the overvoltage during the generation of static electricity and a large resistance which does not affect the internal drive during normal operation) For example, a thin film transistor, a capacitor, and a diode, and is formed by a connection pattern 19 or the like through the auxiliary wiring 13 or the contact hole 16 between each driving element (not shown) It is connected.

이때, 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(10)은 보조배선(13)간에 이격하는 사이에는 아무런 구성요소가 구비되지 않으므로 백라이트 유닛으로부터 발생된 빛은 이러한 회로부(CA)에 대해서는 구성요소가 구비되지 않는 부분에 대해서는 빛이 통과하게 됨으로서 정전기 방지회로(미도시)가 구비되는 회로부에서는 빛샘이 발생됨을 알 수 있다.At this time, the array substrate 10 having such a configuration is not provided with any components while being spaced apart from the auxiliary wirings 13, so that the light generated from the backlight unit is divided into portions Light is allowed to pass therethrough, so that a light leakage is generated in a circuit portion having an antistatic circuit (not shown).

따라서 이러한 표시영역 외측의 회로부(CA)에서 발생되는 빛샘을 방지하고자 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(10)에 대응하여 위치하는 컬러필터 기판(20)에는 상기 회로부(CA)에 대응하여 제 2 블랙매트릭스(25)가 구비되고 있다.Therefore, in order to prevent the light leakage from the circuit portion CA outside the display region, the color filter substrate 20 corresponding to the array substrate 10 having such a configuration is provided with a second black matrix (25).

한편, 도 1 및 2를 참조하면, 이러한 정전기 방지회로를 포함하는 구성을 갖는 종래의 일반적인 액정표시장치(1)는 수회의 마스크 공정을 진행하여 완성되고 있는데, 마스크 공정은 노광, 현상, 식각, 스트립의 단위공정을 포함하고 있으므로 시간이 많이 소모되며 마스크 공정 진행을 위해 일반적으로 감광성 물질인 포토레지스트를 이용하게 됨으로써 제조비용을 상승시키는 주요 요인이 되고 있다.Referring to FIGS. 1 and 2, a conventional general liquid crystal display device 1 having such a structure including an antistatic circuit is completed by performing several mask processes. The mask process includes exposure, development, etching, Since it includes a unit process of a strip, it takes a lot of time, and a photoresist, which is a photosensitive material, is generally used for progressing a mask process, which is a major factor for raising the manufacturing cost.

따라서 최근에는 액정표시장치의 제조 비용을 저감시키고자 마스크 공정수를 저감시키는 노력을 하고 있다.Therefore, in recent years, efforts have been made to reduce the manufacturing cost of the liquid crystal display device and thereby reduce the number of mask processes.

이러한 마스크 공정을 저감시키기 위한 노력의 일환으로써 상기 컬러필터 기판(20)에 구비되는 제 1 및 제 2 블랙매트릭스(24, 25)를 삭제함으로써 마스크 공정 수를 줄이고, 나아가 개구율을 향상시키려는 시도가 이루어지고 있다.In an effort to reduce the mask process, an attempt has been made to reduce the number of mask processes and to improve the aperture ratio by deleting the first and second black matrices 24 and 25 provided on the color filter substrate 20 ought.

하지만, 액정표시장치(1)의 컬러필터 기판(20)에 구비되는 블랙매트릭스(24, 25) 특히, 표시영역(AA) 외측으로 상기 회로부(CA)에 대응하는 비표시영역(NA)에 상기 표시영역(AA)을 둘러싸는 형태로 구비되는 제 2 블랙매트릭스(25)를 삭제하는 경우 도 3(종래의 블랙매트릭스를 생략한 액정표시장치의 구동 시 표시영역 외측의 정전기 방지회로가 구비된 회로부를 찍은 사진)에 도시한 바와같이, 회로부에서 빛샘이 발생되어 액정표시장치의 표시품질을 저하시키고 있는 실정이다.
However, the black matrixes 24 and 25 provided on the color filter substrate 20 of the liquid crystal display device 1 may be formed in the non-display area NA corresponding to the circuit part CA outside the display area AA When the second black matrix 25 surrounding the display area AA is erased, there is a case where the second black matrix 25 is formed as shown in Fig. 3 (in the case where the conventional black matrix is omitted, A light leakage occurs in the circuit portion and the display quality of the liquid crystal display device is deteriorated.

상기 문제점을 해결하기 위해서, 본 발명에서는 블랙매트릭스를 제거하더라도 표시영역의 외측의 회로부에서의 빛샘을 억제하는 동시에 개구율이 향상되며 마스크 수를 저감할 수 있는 액정표시장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
In order to solve the above problems, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device capable of suppressing light leakage in a circuit portion outside the display region, and increasing the aperture ratio and reducing the number of masks, even when the black matrix is removed .

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정표시장치는, 표시영역과 비표시영역의 정의되며 액정층을 개재하여 서로 마주하며 합착된 제 1 기판 및 제 2 기판과; 상기 제 1 기판 내측면의 상기 표시영역에 서로 교차하여 다수의 화소영역을 정의하며 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과; 상기 제 1 기판의 내측면에 상기 게이트 배선과 나란하게 형성된 공통배선과; 상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되며 상기 각 화소영역에 형성된 박막트랜지스터와; 상기 비표시영역의 회로부에 구성된 정전기 방지회로용 다수의 구동소자 및 이와 연결된 다수의 보조배선과; 상기 박막트랜지스터 위로 상기 표시영역 전면에 순차 반복하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 가지며 형성된 컬러필터층과; 상기 컬러필터층 위로 형성된 제 1 보호층과; 상기 제 1 보호층 위로 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 각 화소영역 내에 형성된 다수의 화소전극과; 상기 제 1 보호층 위로 상기 공통배선과 연결되며 상기 다수의 화소전극과 교대하며 형성된 다수의 공통전극을 포함하며, 상기 회로부에는 서로 이웃한 상기 보조배선 사이의 이격영역에 대응하여 절연층을 개재하여 상기 보조배선과 중첩하며 금속더미패턴이 형성됨으로서 상기 회로부에서의 빛샘을 방지하는 것이 특징이다. According to an aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a first substrate and a second substrate which are defined by a display region and a non-display region and are confronted to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween; Gate lines and data lines formed to define a plurality of pixel regions intersecting with each other in the display region of the inner surface of the first substrate; A common wiring formed on an inner surface of the first substrate so as to be parallel to the gate wiring; A thin film transistor connected to the gate wiring and the data wiring and formed in each of the pixel regions; A plurality of driving elements for an anti-static circuit formed in the circuit portion of the non-display region and a plurality of auxiliary wires connected thereto; A color filter layer formed on the thin film transistor and having red, green, and blue color filter patterns sequentially repeating over the display region; A first protective layer formed on the color filter layer; A plurality of pixel electrodes connected to the thin film transistors on the first passivation layer and formed in the pixel regions; And a plurality of common electrodes connected to the common wiring on the first protection layer and formed alternately with the plurality of pixel electrodes, wherein an insulating layer is interposed in the circuit portion corresponding to a spacing region between adjacent auxiliary wirings And a metal dummy pattern is formed to overlap the auxiliary wiring, thereby preventing light leakage in the circuit portion.

상기 비표시영역에 상기 표시영역을 둘러싸는 형태로 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴과 동일한 물질로 이루어진 적, 녹, 청색 중 어느 2가지 색의 컬러패턴이 중첩되어 형성된 테두리 빛샘 방지패턴을 포함하는 것이 특징이다. Green, and blue color filter patterns formed by overlapping the color patterns of two colors of red, green, and blue, which are made of the same material as the red, green, and blue color filter patterns, in the non-display area .

이때, 상기 테두리 빛샘 방지패턴은 적색 및 청색 컬러패턴이 중첩 형성되며, 그 끝단이 계단 형태를 이루는 것이 특징이다.At this time, the edge light-preventing pattern is formed by superimposing red and blue color patterns and has a stepped end.

또한, 상기 보조배선은 상기 게이트 배선이 형성된 동일한 층이 형성되며, 상기 절연층이 상기 게이트 배선 위로 전면에 형성되는 게이트 절연막이 되며, 상기 금속더미패턴은 상기 데이터 배선과 동일한 층에 동일한 물질로 이루어진 것이 특징이다. In addition, the auxiliary wiring may be formed of the same layer on which the gate wiring is formed, and the insulating layer may be a gate insulating film formed on the entire surface of the gate wiring, and the metal dummy pattern may be formed of the same material .

상기 구동소자는 다이오드, 박막트랜지스터, 커패시터 중 어느 하나인 것이 특징이며, 상기 구동소자는 상기 데이터 배선과 연결된 것이 특징이다. The driving device is characterized by being a diode, a thin film transistor, or a capacitor, and the driving device is connected to the data line.

또한, 상기 테두리 빛샘 방지패턴과 상기 제 1 보호층에는 상기 회로부에 대응하여 상기 구동소자를 노출시키는 소자 콘택홀이 구비되며, 상기 제 1 보호층 상부에는 상기 화소전극을 이루는 동일한 물질로 이루어지며 상기 소자 콘택홀을 통해 상기 구동소자를 연결시키는 소자연결패턴이 형성된 것이 특징이다. The device may further include an element contact hole exposing the driving element in correspondence to the circuit part, and the pixel electrode may be formed of the same material on the first protective layer, And an element connection pattern for connecting the driving element through the element contact hole is formed.

또한, 상기 박막트랜지스터와 상기 컬러필터층 사이에는 상기 제 1 기판 전면에 무기절연물질로 이루어진 제 2 보호층이 형성되며, 상기 제 2 기판 내측면에는 상기 화소영역의 경계에 대응하여 상기 제 1 테두리 빛샘 방지패턴을 이루는 동일한 물질로 이루어지며 제 1 높이를 갖는 기둥 형태의 다수의 갭 형성용 스페이서와, 상기 제 1 높이보다 작은 제 2 높이를 갖는 기두 형태의 다수의 눌림 방지용 스페이서가 형성되며, 상기 갭 형성용 스페이서는 그 끝단이 상기 어레이 기판에 구비된 구성요소와 접촉하는 것이 특징이다. In addition, a second protective layer made of an inorganic insulating material is formed on the entire surface of the first substrate between the thin film transistor and the color filter layer, and on the inner surface of the second substrate, A plurality of gap-forming spacers in the form of columns having the first height and made of the same material to form the anti-scattering pattern, and a plurality of head-shaped anti-pressing spacers having a second height smaller than the first height, The forming spacers are characterized in that their ends are in contact with the components provided on the array substrate.

상기 제 1 기판에는, 상기 각 화소영역에 상기 공통배선에서 분기하여 상기 데이터 배선과 나란하게 이웃하여 형성된 최외각 공통전극이 형성되며, 상기 제 1 보호층 상부에는 상기 데이터 배선과 상기 최외각 공통전극에 대응하여 상기 공통전극을 이루는 동일한 물질로 이루어진 도전패턴이 형성되어 각 화소영역에서의 빛샘을 방지하는 것이 특징이며, 이때, 상기 화소전극과 중앙부 공통전극 및 도전패턴은 각각 몰리티타늄으로 이루어진 하부층과 투명 도전성 물질 또는 질화구리(CuNx)로 이루어진 상부층의 이중층 구조를 가지며, 상기 투명 도전성 물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO), 알루미늄 도핑 징크-옥사이드(AZO) 중 어느 하나인 것이 바람직하다. Wherein an outermost common electrode branched from the common wiring and adjacent to the data wiring is formed in each of the pixel regions on the first substrate, and the data wiring and the outermost common electrode The pixel electrode, the central common electrode, and the conductive pattern are formed of a lower layer made of molybdenum titanium and a lower layer made of molybdenum titanium, (ITO), indium-zinc-oxide (IZO), and aluminum-doped zinc-oxide (AZO), each having a double-layer structure of a transparent conductive material or an upper layer composed of copper nitride (CuNx) It is preferable that any one of them is used.

또한, 상기 제 1 보호층과 컬러필터층과 제 2 보호층에는 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀과, 상기 최외각 공통전극의 일 끝단을 노출시키는 공통 콘택홀이 구비되며, 상기 화소전극은 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며, 상기 공통전극은 상기 공통 콘택홀을 통해 상기 최외각 공통전극과 접촉하는 것이 특징이다. The first protective layer, the color filter layer, and the second protective layer are provided with a drain contact hole exposing a drain electrode of the thin film transistor and a common contact hole exposing one end of the outermost common electrode, An electrode is in contact with a drain electrode of the thin film transistor through the drain contact hole and the common electrode is in contact with the outermost common electrode through the common contact hole.

그리고, 상기 화소전극과 최외각 공통전극 및 공통전극은 상기 각 화소영역의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 구조를 이룸으로써 각 화소영역이 이중 도메인을 이루는 것이 특징이다.
The pixel electrode, the outermost common electrode, and the common electrode are symmetrically bent with respect to the center of each pixel region, so that each pixel region forms a double domain.

이와 같이, 본 발명에 따른 액정표시장치는, 어레이 기판 상에 적, 녹, 청색의 컬러필터 패턴으로 이루어진 컬러필터층을 형성하고, 표시영역 외측의 비표시영역 중 정전기 방지회로가 구비되는 회로부에 있어서 서로 이격하는 구동소자 사이, 상기 구동소자를 연결시키는 보조배선 사이, 또는 상기 구동소자와 보조배선 사이의 이격영역을 가리도록 절연층을 개재하여 불투명 금속물질로 이루어지 더미금속패턴을 형성함으로써 상기 회로부에서의 빛샘을 방지하는 효과가 있다. As described above, the liquid crystal display device according to the present invention is a liquid crystal display device in which a color filter layer composed of red, green, and blue color filter patterns is formed on an array substrate, and in a circuit portion provided with an anti- A dummy metal pattern made of an opaque metal material is formed between the driving elements that are spaced apart from each other, between the auxiliary wiring connecting the driving elements, or between the driving element and the auxiliary wiring, There is an effect of preventing the light leakage in the light source.

나아가 상기 표시영역을 둘러싸는 형태로 서로 다른 두 색의 컬러필터 패턴을 중첩 형성하여 빛샘 방지패턴을 이루도록 함으로서 테두리 빛샘을 방지하여 표시품질을 향상시키는 효과가 있다. In addition, color filter patterns of two different colors are formed in a superimposed manner in the form of surrounding the display area to form a light leakage prevention pattern, thereby preventing edge light leakage and improving display quality.

또한, 본 발명에 따른 액정표시장치는 블랙매트릭스 생략에 의해 마스크 공정수를 줄이고 재료비를 저감시켜 최종적으로 제조 비용을 저감시키는 효과가 있으며, 컬러필터 기판에 화소영역을 테두리하는 블랙매트릭스가 생략됨으로써 개구율을 향상시키는 효과가 있다.
In addition, the liquid crystal display device according to the present invention has the effect of reducing the number of mask processes, reducing the material cost, and ultimately reducing the manufacturing cost by omitting the black matrix. By omitting the black matrix for framing the pixel region on the color filter substrate, .

도 1은 일반적인 액정표시장치에 대한 단면도.
도 2 는 블랙매트릭스가 생략된 액정표시장치에 있어 비표시영역 내의 정전기 방지회로가 구성되는 회로부에 대한 간략한 단면도.
도 3은 종래의 블랙매트릭스를 생략한 액정표시장치의 구동 시 표시영역 외측의 정전기 방지회로가 구비된 회로부를 찍은 사진.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 표시영역 일부에 대한 단면도.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 정전기 방지회로가 구비되는 비표시영역의 회로부에 대한 단면도.1 is a sectional view of a general liquid crystal display device.
FIG. 2 is a simplified cross-sectional view of a circuit portion in which an anti-static circuit in a non-display area is configured in a liquid crystal display device in which a black matrix is omitted. FIG.
FIG. 3 is a photograph of a circuit portion having an electrostatic discharge prevention circuit outside the display region when a conventional liquid crystal display device in which a black matrix is omitted is driven. FIG.
4 is a cross-sectional view of a portion of a display region of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
5 is a sectional view of a circuit part of a non-display area provided with an anti-static circuit of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention;

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 표시영역 일부에 대한 단면도이며, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 정전기 방지회로가 구비되는 비표시영역의 회로부 일부에 대한 단면도이다. 이때, 도면에 있어서는 표시영역(AA) 내의 다수의 화소영역(P) 중 하나의 화소영역(P)에 대해서만 스위칭 박막트랜지스터(Tr)가 구비된 것을 도시하였으며, 설명의 편의를 위해 각 화소영역(P) 내에 스위칭 소자인 박막트랜지스터(Tr)가 형성되는 영역을 스위칭 영역(TrA)이라 정의하며, 스토리지 커패시터(미도시)가 형성되는 영역을 스토리지 영역(미도시)이라 정의한다.FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a part of a display region of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross- Sectional view. At this time, in the drawing, the switching thin film transistor Tr is provided only to one pixel region P among the plurality of pixel regions P in the display region AA. For convenience of explanation, A region where the thin film transistor Tr as a switching element is formed is defined as a switching region TrA and an area where a storage capacitor (not shown) is formed is defined as a storage region (not shown).

도시한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 표시영역(AA)에 서로 교대하며 이격하는 바(bar) 형태의 다수의 화소전극(170)과 중앙부 공통전극(173)과 컬러필터층(150)이 구비된 어레이 기판(102)과 제 1 높이를 갖는 갭 형성용 스페이서(188)와 상기 제 1 높이 보다 낮은 제 2 높이를 갖는 눌림 방지용 스페이서(189)가 구비된 대향기판(181) 및 액정층(195)을 포함하여 구성되고 있다.The liquid crystal display 100 according to the exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of pixel electrodes 170 and a central common electrode 173 in the form of a bar, (188) having a first height and a pressure suppression spacer (189) having a second height lower than the first height, the array substrate (102) having the color filter layer (181) and a liquid crystal layer (195).

우선, 하부의 어레이 기판(102)의 표시영역(AA)에는 일방향으로 연장하는 게이트 배선(미도시)이 형성되어 있으며, 상기 게이트 배선(미도시)에서 이격하여 나란하게 공통배선(미도시)이 형성되어 있다. 이때, 상기 스위칭 영역(TrA)에 대응하여 상기 게이트 배선(미도시) 그 자체의 일부 또는 상기 게이트 배선(미도시)에서 분기한 부분이 게이트 전극(105)을 이루고 있다.First, gate lines (not shown) extending in one direction are formed in the display area AA of the lower array substrate 102 and common wirings (not shown) are formed in parallel to the gate wirings Respectively. At this time, a portion of the gate wiring (not shown) itself or a portion branched from the gate wiring (not shown) corresponding to the switching region TrA constitutes the gate electrode 105.

또한, 각 화소영역(P) 내부에는 상기 공통배선(미도시)에서 분기하여 데이터 배선(130)과 인접하며 최외각 공통전극(116)이 형성되어 있으며, 상기 스토리지 영역(미도시)에는 상기 공통배선(미도시) 자체로서 제 1 스토리지 전극(미도시)을 이루고 있다.In the pixel region P, an outermost common electrode 116 is formed, which is branched from the common wiring (not shown) and adjacent to the data line 130. The storage region (not shown) And a first storage electrode (not shown) is formed as wiring (not shown) per se.

또한, 상기 표시영역(AA) 외측의 비표시영역(NA) 중 회로부(CA)에는 상기 게이트 배선(미도시)과 게이트 전극(105)을 이루는 동일한 금속물질로 이루어지며, 정전기 방지회로의 각 구동소자(DD)를 이루기 위한 제 1 소자패턴(107)과 상기 제 1 소자패턴(107)간을 연결시키기 위한 다수의 보조배선(미도시)이 형성되고 있다.Of the non-display area NA outside the display area AA, the circuit part CA is formed of the same metal material as the gate wiring (not shown) and the gate electrode 105, A plurality of auxiliary wirings (not shown) for connecting the first element patterns 107 for forming the elements DD and the first element patterns 107 are formed.

다음, 상기 게이트 배선(미도시)과 게이트 전극(105)과 상기 공통배선(미도시) 및 최외각 공통전극(116)과 상기 제 1 소자패턴(107) 및 보조배선(미도시) 위로 어레이 기판(102) 전면에 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 게이트 절연막(118)이 형성되어 있다. Next, the gate electrode (not shown), the gate electrode 105, the common wiring (not shown), the outermost common electrode 116, the first element pattern 107 and the auxiliary wiring (not shown) A gate insulating film 118 made of an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) or silicon nitride (SiNx) is formed on the entire surface of the substrate 102.

그리고, 상기 게이트 절연막(118) 위로 상기 스위칭 영역(TrA)에는 순수 비정질 실리콘으로 이루어진 액티브층(120a)과 이의 상부에 위치하며 불순물 비정질 실리콘으로 이루어지며 서로 이격하는 형태를 갖는 오믹콘택층(120b)으로 구성된 반도체층(120)이 형성되어 있다.An active layer 120a made of pure amorphous silicon and an ohmic contact layer 120b made of impurity amorphous silicon and spaced apart from each other are formed in the switching region TrA above the gate insulating layer 118, The semiconductor layer 120 is formed.

또한, 상기 게이트 절연막(118) 상부에는 상기 게이트 배선(미도시)과 교차하여 화소영역(P)을 정의하는 데이터 배선(130)이 형성되어 있다. 이때, 상기 데이터 배선(130)의 하부에는 상기 반도체층(120)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 제 1 및 제 2 패턴(121a, 121b)으로 이루어진 반도체패턴(121)이 형성되고 있지만, 이러한 반도체패턴(121)은 제조 공정에 기인한 것으로 생략될 수 있다. A data line 130 crossing the gate line (not shown) and defining the pixel region P is formed on the gate insulating layer 118. At this time, a semiconductor pattern 121 including first and second patterns 121a and 121b made of the same material forming the semiconductor layer 120 is formed under the data line 130. However, 121 may be omitted due to the manufacturing process.

한편, 상기 스위칭 영역(TrA)에는 상기 반도체층(120) 위로 상기 데이터 배선(130)에서 분기하여 소스 전극(133)이 형성되어 있으며, 상기 소스 전극(133)과 이격하며 드레인 전극(136)이 형성되어 있다. 이때, 상기 소스 전극(133) 및 드레인 전극(136)은 서로 이격하는 오믹콘택층(120b)과 각각 접촉하고 있다.A source electrode 133 is formed in the switching region TrA so as to branch off from the data line 130 above the semiconductor layer 120. The source electrode 133 is spaced apart from the source electrode 133, Respectively. At this time, the source electrode 133 and the drain electrode 136 are in contact with the ohmic contact layer 120b which are separated from each other.

상기 스위칭 영역(TrA)에 순차 적층된 상기 게이트 전극(105)과 게이트 절연막(118)과 반도체층(120) 및 서로 이격하는 소스 및 드레인 전극(133, 136)은 스위칭 소자인 스위칭 박막트랜지스터(Tr)를 이룬다. The gate electrode 105, the gate insulating film 118, the semiconductor layer 120, and the source and drain electrodes 133 and 136 which are sequentially stacked in the switching region TrA are connected to the switching thin film transistor Tr ).

상기 스토리지 영역(미도시)에는 상기 게이트 절연막(118) 상부로 상기 제 1 스토리지 전극(미도시)에 대응하여 상기 드레인 전극(136)이 연장하여 형성됨으로써 제 2 스토리지 전극(미도시)을 이루고 있다. 이때, 상기 스토리지 영역(미도시)에 순차 적층된 상기 제 1 스토리지 전극(미도시)과 게이트 절연막(118)과 제 2 스토리지 전극(미도시)은 스토리지 커패시터(미도시)를 이룬다.The drain electrode 136 extends to correspond to the first storage electrode (not shown) above the gate insulating layer 118 to form a second storage electrode (not shown) in the storage region (not shown) . At this time, the first storage electrode (not shown), the gate insulating layer 118, and the second storage electrode (not shown), which are sequentially stacked in the storage region (not shown), constitute storage capacitors (not shown).

한편, 상기 회로부(CA)에는 전술한 각 화소영역(P)에 구비된 상기 스위칭 박막트랜지스터(Tr) 또는 상기 스토리지 커패시터(미도시)와 동일한 적층구조를 가지며 상기 제 1 소자패턴(107)을 일 구성요소로 하여 정전기 방지회로 구성을 위한 다수의 구동소자(DD)가 형성되고 있다. The circuit unit CA has the same lamination structure as the switching thin film transistor Tr or the storage capacitor (not shown) provided in each of the pixel regions P described above, A plurality of driving elements DD for constituting an electrostatic discharge circuit are formed as constituent elements.

이때, 도면에 있어서는 일례로 커패시터 형태의 구동소자(DD)가 구성됨을 일례로 보이고 있다. 즉. 상기 게이트 배선(미도시)과 동일한 층에 동일한 금속물질로 이루어진 다수의 이격하는 제 1 소자패턴(107)에 대응하여 상기 게이트 절연막(118)을 개재하여 상기 데이터 배선(130)을 이루는 동일한 물질로 이루어진 다수의 제 2 소자패턴(137)이 형성되고 있다. 이때 상기 다수의 각 제 2 소자패턴(137) 또한 상기 데이터 배선(130)에 구비된 반도체 패턴(121)이 구비됨을 일례로 도시하였지만 상기 제 2 소자패턴(137) 하부에 구비된 반도체 패턴(121) 또한 생략될 수 있다.At this time, in the drawing, for example, a capacitor type driving element DD is shown as an example. In other words. The same material as the data line 130 is formed in the same layer as the gate line (not shown) through the gate insulating layer 118 in correspondence with the first spaced apart first device patterns 107 made of the same metal material A plurality of second element patterns 137 are formed. Although the semiconductor device according to the present embodiment includes the plurality of second device patterns 137 and the semiconductor patterns 121 provided on the data lines 130, ) Can also be omitted.

한편, 도면에서는 상기 회로부(CA)에 커패시터 타입의 구동소자(DD)만이 형성된 것을 보이고 있지만 상기 커패시터 타입의 구동소자(DD) 이외에 다이오드 또는 박막트랜지스터 타입의 구동소자(DD)가 구비되고 있다. In the drawing, only the capacitor type driving element DD is shown in the circuit unit CA, but a diode or a thin film transistor type driving element DD is provided in addition to the capacitor type driving element DD.

이때, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치에 있어서 가장 특징적인 구성중 하나로서 상기 회로부(CA)의 상기 게이트 절연막(118) 상부에는 상기 구동소자(DD) 사이 더욱 정확히는 상기 제 1 소자패턴(107) 사이의 이격영역 또는 도면에 나타내지 않았지만 상기 이웃한 구동소자(DD)를 연결시키는 보조배선(미도시) 사이의 이격영역, 또는 상기 제 1 소자패턴(107)과 보조배선(미도시)의 이격영역에 대응하여 서로 이웃한 두 구성요소와 끝단이 중첩하는 형태로 상기 두 구성요소간의 이격영역을 덮으며 상기 데이터 배선(130)을 이루는 불투명 금속물질로서 금속더미패턴(139)이 형성되고 있는 것이 특징이다.At this time, as one of the most characteristic structures in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention, on the upper part of the gate insulating film 118 of the circuit part CA, 107 or an auxiliary wiring (not shown) for connecting the adjacent driving elements DD, which are not shown in the figure, or between the first element pattern 107 and the auxiliary wiring (not shown) A metal dummy pattern 139 is formed as an opaque metal material that covers the spacing between the two components and forms the data line 130 in such a manner that two neighboring components and an end overlap each other corresponding to the spacing region .

이러한 회로부(CA)에 형성되는 금속더미패턴(139)은 정전기 방지회로를 이루는 구성요소 사이의 이격영역을 가리도록 형성됨으로써 회로부(CA)를 통해 나오는 빛을 막는 블랙매트릭스의 역할을 하는 것이다. The metal dummy pattern 139 formed on the circuit portion CA is formed to cover the space between the elements constituting the electrostatic discharge circuit, thereby serving as a black matrix for blocking light emitted through the circuit portion CA.

다음, 상기 데이터 배선(130)과 소스 및 드레인 전극(133, 136)과 제 2 스토리지 전극(미도시)과 정전기 방지회로용 구동소자(DD) 위로 무기절연물질 예를들면 산화실리콘(SiO2) 또는 질화실리콘(SiNx)으로 이루어진 제 1 보호층(140)이 전면에 형성되어 있다. Next, an inorganic insulating material such as silicon oxide (SiO 2 ) is deposited on the data line 130, the source and drain electrodes 133 and 136, the second storage electrode (not shown) and the anti- Or a silicon nitride (SiNx) is formed on the entire surface.

그리고, 표시영역(AA)에 있어 상기 제 1 보호층(140) 위로 각 화소영역(P)에 대응하여 상기 게이트 배선(미도시) 및 데이터 배선(130) 상에서 경계를 이루며 적, 녹, 청색의 컬러필터 패턴(150a, 150b, 150c)이 순차 반복되는 형태를 갖는 컬러필터층(150)이 형성되어 있다.In the display area AA, the first passivation layer 140 is formed on the gate line (not shown) and the data line 130 in a bordered manner corresponding to each pixel region P, A color filter layer 150 having a shape in which the color filter patterns 150a, 150b, and 150c are sequentially repeated is formed.

이때, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)에 있어서 가장 특징적인 구성 중 하나로서 상기 표시영역(AA)의 최외각 일부를 포함하여 비표시영역(NA)에 상기 표시영역(AA)을 둘러싸는 형태로 상기 컬러필터층(150)을 이루는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴(151a, 151a, 151a) 중 2가지 이상의 서로 다른 색을 갖는 컬러패턴(151a, 151b)이 중첩 형성되고 있는 것이 특징이다.One of the most characteristic structures of the liquid crystal display device 100 according to the embodiment of the present invention includes the display area AA in the non-display area NA including a part of the outermost part of the display area AA, Green and blue color filter patterns 151a, 151a and 151a constituting the color filter layer 150 in the form of surrounding two or more different color patterns 151a and 151b Feature.

이때, 상기 비표시영역(NA)에 상기 표시영역(AA)을 테두리하며 중첩 형성된 컬러패턴(151a, 151b)은 바람직하게는 도면에 나타낸 바와 같이 각각 적색 및 청색을 나타나는 패턴(151a, 151b)이 중첩되어 이중층 구조를 이루도록 형성되고 있는 것이 특징이다. 이하 이렇게 표시영역(AA)의 최외각 일부와 비표시영역(NA)에 서로 다른 색을 갖는 컬러 패턴(151a, 151b)이 중첩 형성된 것을 이하 테두리 빛샘 방지 패턴(151)이라 명명한다. At this time, the colored patterns 151a and 151b overlapping the display area AA in the non-display area NA preferably have patterns 151a and 151b, respectively, showing red and blue colors, as shown in the figure And is formed so as to have a bilayer structure. Hereinafter, the color patterns 151a and 151b having different colors in a part of the outermost part of the display area AA and the non-display area NA are hereinafter referred to as the borderless light leakage preventing patterns 151. [

이러한 테두리 빛샘 방지패턴(151)은 상기 비표시영역(NA) 중 정전기 방지회로가 회로부(CA)에 있어서는 각 구동소자(DD)를 연결시키는 부분에 대응해서는 상기 제 1 보호층(140)을 노출시키는 제 1 콘택홀(미도시)이 구비되고 있는 것이 특징이다. The edge light preventing pattern 151 may be formed by exposing the first passivation layer 140 to a portion corresponding to a portion connecting the driving elements DD in the circuit portion CA of the anti- A first contact hole (not shown) is provided.

이렇게 서로 다른 색을 갖는 컬러패턴(151a, 151b)이 상기 표시영역(AA)의 최외각 일부를 포함하여 상기 표시영역(AA)을 둘러싸는 형태로 비표시영역(NA)에 중첩 형성됨으로써 이루어진 상기 테두리 빛샘 방지 패턴(151)은 다수의 제 1 콘택홀(미도시)이 구비된 회로부(CA)에 있어 각 구동소자(DD)간 이격영역 또는 상기 구동소자와 연결된 보조배선(미도시) 사이의 이격영역에 구비된 더미금속패턴(139)과 더불어 테두리 빛샘을 억제시키기 위해 형성되는 블랙매트릭스의 역할을 하는 것이 특징이다. The color patterns 151a and 151b having different colors are formed in the non-display area NA in such a manner as to surround the display area AA including a part of the outermost part of the display area AA. The edge light shielding pattern 151 is formed between the driving elements DD or the auxiliary wiring (not shown) connected to the driving element in a circuit portion CA having a plurality of first contact holes A dummy metal pattern 139 provided in the spacing region, and a black matrix formed to suppress edge light leakage.

특히, 정전기 방지회로 구성을 위해 다수의 구동소자(DD)가 구비되는 회로부(CA)에는 각 구동소자(DD) 사이와, 상기 구동소자(DD)와 연결된 보조배선(미도시) 사이, 또는 구동소자(DD)와 보조배선(미도시) 사이에 이격영역이 존재하며 이러한 이격영역에 대해서는 본 발명의 특징적인 구성으로서 불투명 금속물질로 이루어진 더미금속패턴(139)이 구비됨으로써 1차적으로 빛샘 방지가 되며, 나아가 서로 다른 색의 컬러패턴(151a, 151b)이 중첩 형성됨으로써 이루어진 테두리 빛샘 방지패턴(151)에 의해 2차 적으로 빛샘이 방지될 수 있다. Particularly, a circuit portion CA provided with a plurality of driving elements DD for an antistatic circuit configuration is provided between each driving element DD and an auxiliary wiring (not shown) connected to the driving element DD, A spacing region exists between the element DD and the auxiliary wiring (not shown). The spacing region is provided with a dummy metal pattern 139 made of an opaque metal material as a characteristic feature of the present invention. And further, the light leakage can be prevented secondarily by the edge light leakage prevention pattern 151 formed by overlapping the color patterns 151a and 151b of different colors.

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 정전기 방지회로가 구비되는 회로부(CA)에서의 빛샘은 원천적으로 방지될 수 있는 것이 특징이다.Therefore, the liquid crystal display device 100 according to the embodiment of the present invention is characterized in that the light leakage in the circuit portion CA provided with the anti-static circuit can be originally prevented.

다음, 상기 컬러필터층(150)과 상기 테두리 빛샘 방지패턴(151) 위로 유기절연물질 중 상대적으로 저유전율을 갖는 물질인 포토아크릴(photo acryl)로 이루어진 제 2 보호층(155)이 형성되어 있다. Next, a second passivation layer 155 made of photo acryl, which is a material having a relatively low dielectric constant, is formed on the color filter layer 150 and the rim prevention pattern 151.

이렇게 제 2 보호층(155)을 저유전율 특성을 갖는 포토아크릴로 형성하는 것은 상기 데이터 배선(130) 및 최외각 공통전극(116)의 상부에 형성되는 도전패턴(175)과의 중첩에 의해 발생되는 기생용량을 최소화하고, 상기 데이터 배선(130)과 이의 주변에 형성되는 상기 최외각 공통전극(116)에 의해 발생되는 원치 않는 전계의 영향을 최소화하기 위함이다. The formation of the second passivation layer 155 with photo-acrylic having low dielectric constant characteristics is caused by overlapping with the data line 130 and the conductive pattern 175 formed on the uppermost common electrode 116 And minimizes the influence of the undesired electric field generated by the data line 130 and the outermost common electrode 116 formed in the periphery thereof.

또한, 포토아크릴은 빛을 받으면 현상 시 남게되는 네가티브 타입 특성을 가짐으로써 제조 공정상 이의 하부에 구비되는 구성요소에 콘택홀 등을 형성할 경우 별도의 스트립 공정을 진행하지 않아도 되므로 제조 공정을 단순화 하는 장점을 갖기 때문이다.In addition, since photo-acryl has a negative type characteristic that is left at the time of development upon reception of light, when a contact hole or the like is formed in the lower part of the manufacturing process, it is not necessary to perform a separate strip process, This is because it has advantages.

한편, 이러한 저유전율을 갖는 포토아크릴로 이루어진 상기 제 2 보호층(155)과 더불어 이의 하부에 구비되는 컬러필터층(150)과 제 1 보호층(140) 및 게이트 절연막(118)에는 상기 최외각 공통전극(116)의 일 끝단을 노출시키는 공통 콘택홀(미도시)이 구비되고 있으며, 상기 제 2 보호층(155)과 컬러필터층(150) 및 제 1 보호층(140)에는 상기 드레인 전극(136) 더욱 정확히는 상기 드레인 전극(136)이 연장된 부분인 상기 제 2 스토리지 전극(미도시)을 노출시키는 드레인 콘택홀(157)이 형성되어 있다.The color filter layer 150, the first passivation layer 140, and the gate insulating layer 118, which are provided below the second passivation layer 155 made of photoacrylic material having such a low dielectric constant, The color filter layer 150 and the first passivation layer 140 are formed with a common contact hole (not shown) exposing one end of the electrode 116. The second passivation layer 155, the color filter layer 150, A drain contact hole 157 is formed to expose the second storage electrode (not shown), which is a portion where the drain electrode 136 extends.

또한, 비표시영역(NA)에 있어 상기 회로부(CA)에는 상기 테두리 빛샘 방지패턴(151)에 구비된 제 1 콘택홀(미도시)에 대응하여 상기 제 2 보호층(150) 및 제 1 보호층(151)이 제거됨으로써 상기 구동소자(DD)의 제 2 소자패턴(137)을 노출시키는 소자 콘택홀(158)이 구비되고 있다. In the non-display area NA, the second protection layer 150 and the first protection (not shown) corresponding to the first contact holes (not shown) provided in the edge light- The element contact hole 158 exposing the second element pattern 137 of the driving element DD by removing the layer 151 is provided.

다음, 상기 공통 콘택홀(미도시)과 드레인 콘택홀(157) 및 소자 콘택홀(158)이 구비된 상기 제 2 보호층(155) 위로 상기 표시영역(AA)의 각 화소영역(P)에는 불투명 저저항 금속물질인 몰리티타늄(MoTi)으로 이루어진 하부층(미도시)과 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO), 알루미늄 도핑 징크-옥사이드(AZO) 중 어느 하나 또는 저반사 불투명 금속물질인 질화구리(CuNx)로써 이루어진 상부층(미도시)의 이중층 구조를 갖는 보조공통패턴(미도시)과 보조화소패턴(미도시)이 서로 마주하는 형태로 형성되고 있다.Next, over the second passivation layer 155 having the common contact hole (not shown), the drain contact hole 157, and the device contact hole 158, the pixel regions P of the display region AA (ITO), indium-zinc-oxide (IZO), and aluminum-doped zinc-oxide (AZO), which are transparent conductive materials, and a lower layer (not shown) made of moly titanium (MoTi) (Not shown) having a bilayer structure of an upper layer (not shown) made of copper nitride (CuNx), which is one of low reflective opaque metal materials, and an auxiliary pixel pattern (not shown) .

이때, 상기 보조공통패턴(미도시)은 상기 공통 콘택홀(미도시)을 통해 상기 최외각 공통전극(116)과 접촉하고 있으며, 상기 보조화소패턴(미도시)은 상기 드레인 콘택홀(157)을 통해 상기 드레인 전극(136)과 연결된 상기 제 2 스토리지 전극(미도시)과 접촉하고 있다.At this time, the auxiliary common pattern (not shown) is in contact with the outermost common electrode 116 through the common contact hole (not shown), and the auxiliary pixel pattern (not shown) (Not shown) connected to the drain electrode 136 through the second storage electrode (not shown).

또한, 상기 표시영역(AA)에 있어 상기 제 2 보호층(155) 상부에는 상기 보조공통패턴(미도시)에서 분기하여 상기 데이터 배선(130)과 이와 인접하는 최외각 공통전극(116)과 중첩하며 도전패턴(175)이 형성되고 있다. 이러한, 도전패턴(175)은 각 화소영역(P)의 경계영역과 중첩하며 형성됨으로서 종래의 액정표시장치의 표시영역(AA)에 구비되는 제 1 블랙매트릭스(도 1의 24)의 역할을 하는 것이 특징이다. In the display area AA, the data line 130 and the outermost common electrode 116 adjacent to the data line 130 are overlapped on the second protective layer 155 at the auxiliary common pattern (not shown) And a conductive pattern 175 is formed. The conductive pattern 175 overlaps the boundary region of each pixel region P and functions as a first black matrix (24 in FIG. 1) provided in the display area AA of the conventional liquid crystal display device .

이때, 상기 공통보조패턴(미도시)은 상기 게이트 배선(미도시)과 공통배선(미도시)에 대응하여 이들 두 구성요소의 이격영역을 덮도록 형성될 수도 있으며, 이 경우 상기 공통보조패턴(미도시)은 이와 연결된 상기 도전패턴(175)과 더불어 표시영역(AA)에 있어 화소영역(P)에 관계없이 각 화소영역(P)을 둘러싸는 격자형태를 이루는 것이 특징이다. In this case, the common auxiliary pattern (not shown) may be formed so as to cover the gate wiring (not shown) and the common wiring (not shown) Is formed in a lattice shape surrounding each pixel region P regardless of the pixel region P in the display region AA together with the conductive pattern 175 connected thereto.

또한, 각 화소영역(P)에 있어 상기 제 2 보호층(155) 상부에는 상기 보조공통패턴(미도시)에서 분기하며 이중층 구조를 갖는 바(bar) 형태의 다수의 중앙부 공통전극(173)이 상기 최외각 공통전극(116) 내측으로 일정간격 이격하며 형성되고 있다.In each pixel region P, a plurality of center portion common electrodes 173 in the form of a bar branched from the auxiliary common pattern (not shown) and having a bilayer structure are formed on the second protection layer 155 And is spaced apart from the outermost common electrode 116 by a predetermined distance.

그리고, 각 화소영역(P)에는 상기 보조화소패턴(미도시)에서 분기하며 상기 최외각 공통전극(116) 내측으로 상기 바(bar) 형태의 다수의 중앙부 공통전극(173)과 교대하며 바(bar) 형태의 다수의 화소전극(170)이 형성되고 있다. In each pixel region P, a plurality of central common electrodes 173 in the form of a bar are branched from the auxiliary pixel pattern (not shown) to the inside of the outermost common electrode 116, a plurality of pixel electrodes 170 in a bar shape are formed.

이때, 상기 다수의 화소전극(170)과 중앙부 공통전극(173) 또한 몰리티타늄(MoTi)으로 이루어진 하부층(170a, 173a)과 투명 도전성 물질인 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO), 알루미늄 도핑 징크-옥사이드(AZO) 중 어느 하나 또는 저반사 불투명 금속물질인 질화구리(CuNx)로써 이루어진 상부층(170b, 173b)으로 이루어진 이중층 구조를 갖는 것이 특징이다.At this time, the plurality of pixel electrodes 170 and the central common electrode 173 are formed of a lower layer 170a, 173a made of moly titanium (MoTi), a transparent conductive material such as indium-tin-oxide (ITO), indium- Layer structure composed of an upper layer 170b and a lower layer 173b made of copper nitride (CuNx), which is either low-reflectivity opaque metal material, IZO, or aluminum-doped zinc-oxide (AZO).

이때, 이러한 이중층 구조를 갖는 화소전극(170)과 중앙부 공통전극(173)과, 상기 최외각 공통전극(116)은 각 화소영역(P)에서 직선의 바(bar) 형태를 가질 수도 있으며, 또는 각 화소영역(P)의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 바(bar) 형태를 가질 수도 있다. At this time, the pixel electrode 170, the central common electrode 173, and the outermost common electrode 116 having the bilayer structure may have a linear bar shape in each pixel region P, And may have a bar shape that is symmetrically deflected with respect to a central portion of each pixel region P. [

이렇게 화소전극(170)과 공통전극(116, 173)이 각 화소영역 내에서 대칭적으로 꺾인 바(bar) 형태를 이루는 경우 각 화소영역(P)은 이중 도메인을 이루게 되므로 사용자의 시야각 변화에 따른 색차 발생을 억제하는 효과를 갖는다.In the case where the pixel electrode 170 and the common electrodes 116 and 173 are formed in a bar shape symmetrically in each pixel region, each pixel region P has a double domain, And has an effect of suppressing color difference generation.

한편, 상기 데이터 배선(130)은 각 화소영역(P)별로 분리 형성된 것이 아니라 표시영역(AA) 전체에 대해 연결된 구성을 가지므로 상기 화소전극(170)과 공통전극(116, 173)이 각 화소영역 내에서 대칭적으로 꺾인 바(bar) 형태를 이루는 경우 상기 데이터 배선(130)은 표시영역(AA)에 있어서는 각 화소영역(P)의 중앙부를 기준으로 꺾인 지그재그 형태를 이루는 것이 특징이며, 상기 화소전극(170)과 공통전극(116, 173)이 직선의 바(bar) 형태를 이루는 경우는 직선 타입이 된다. Since the data lines 130 are connected to the entire display area AA rather than being formed separately for each pixel area P, the pixel electrodes 170 and the common electrodes 116 and 173 are connected to the pixels The data lines 130 are formed in a zigzag shape bent in the display area AA with respect to the center of each pixel area P, In the case where the pixel electrode 170 and the common electrodes 116 and 173 form a straight bar, the linear type is obtained.

또한, 상기 비표시영역(NA)에는 상기 화소전극(170)과 중앙부 공통전극(173)을 이루는 동일한 물질로 이루어지며 상기 소자 콘택홀(158)을 통해 상기 구동소자(DD)의 제 2 소자패턴(137)간을 연결시키는 소자연결패턴(177)이 형성되고 있다. The non-display area NA is formed of the same material as the pixel electrode 170 and the central common electrode 173 and is electrically connected to the second element pattern of the driving element DD through the element contact hole 158. [ And an element connection pattern 177 for connecting the element connection patterns 137 are formed.

이러한 구성을 갖는 어레이 기판(102)에 대응하여 위치하는 대향기판(181)에는 투명한 유기절연물질로 이루어지며 표시영역(AA) 내의 일부 화소영역(P)의 경계에 대응하여 기둥형태로 제 1 높이를 갖는 갭 형성용 스페이서(188)가 일정간격 이격하며 형성되고 있으며, 동시에 기둥 형태로서 상기 제 1 높이보다 작은 제 2 높이를 갖는 눌림 방지용 스페이서(189)가 일정간격 이격하며 형성되고 있다.The counter substrate 181 corresponding to the array substrate 102 having such a structure is formed of a transparent organic insulating material and has a columnar shape corresponding to the boundary of some pixel regions P in the display region AA Spacing spacers 188 are formed spaced apart from each other by a predetermined distance. At the same time, the spacers 189 having a columnar shape and a second height smaller than the first height are spaced apart from each other by a predetermined distance.

한편, 이러한 구성을 갖는 어레이 기판(102)과 대향기판(181) 사이에 액정층(195)이 재개되고 있으며, 상기 갭 형성용 스페이서(188)의 끝단이 상기 어레이 기판(102)의 최상부에 위치하는 구성요소와 접촉하며 합착되고 있다.On the other hand, the liquid crystal layer 195 is resumed between the array substrate 102 and the counter substrate 181 having such a configuration, and the end of the gap forming spacer 188 is positioned at the top of the array substrate 102 And are joined together.

이때, 상기 어레이 기판(102)과 대향기판(181)이 서로 합착되어 패널을 이루는 상태를 유지할 수 있도록 상기 비표시영역(NA)에는 상기 액정층(195)을 둘러싸는 형태로 접착제의 역할을 하는 씰패턴(미도시)이 구비됨으로써 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)가 완성되고 있다.
At this time, the non-display area NA serves as an adhesive to surround the liquid crystal layer 195 so that the array substrate 102 and the counter substrate 181 are adhered to each other to maintain the state of the panel. The liquid crystal display device 100 according to the embodiment of the present invention is completed by providing a seal pattern (not shown).

이러한 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 실질적으로 공통전극(116, 173)과 화소전극(170)이 모두 어레이 기판(102)에 구비됨으로써 이들 공통전극(116, 173)과 화소전극(170)에 의해 발생되는 횡전계에 의해 액정이 구동하는 횡전계형 액정표시장치(100)가 되고 있으며, 나아가 어레이 기판(102) 상에 블랙매트릭스 없이 컬러필터층(150)이 구비됨으로써 블랙매트릭스 없는 박막트랜지스터 온 컬러필터(color filter on TFT: COT) 구조를 이루는 것이 특징이다.In the liquid crystal display device 100 according to the embodiment of the present invention having such a configuration, since the common electrodes 116 and 173 and the pixel electrode 170 are both provided on the array substrate 102, And the liquid crystal is driven by the transverse electric field generated by the pixel electrode 170 and the color filter layer 150 without the black matrix on the array substrate 102 And a color filter on TFT (COT) structure without a black matrix.

한편, 이러한 구성을 갖는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 블랙매트릭스를 형성하지 않음으로써 블랙매트릭스 형성을 위한 1회의 마스크 공정을 생략할 수 있으므로 공정 단순화 및 제조 비용을 저감시킬 수 있는 장점을 갖는다.Meanwhile, the liquid crystal display device 100 according to the embodiment of the present invention having such a configuration does not form a black matrix, so that a single mask process for forming a black matrix can be omitted, thereby simplifying the process and reducing the manufacturing cost .

그리고, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 컬러필터층(150)을 구성하는 서로 다른 색을 갖는 컬러필터 패턴(151a, 151b)을 2개 이상 중첩하여 이루어지는 테두리 빛샘 방지패턴(151)을 표시영역(AA)을 둘러싸는 형태로 상기 표시영역(AA) 최외각 일부를 포함하여 비표시영역(NA)에 형성함으로서 종래의 액정표시장치에서의 테두리 빛샘을 방지하기 위한 테두리 블랙매트릭스의 역할을 하도록 하고 있으며, 나아가 비표시영역(NA) 중 정전기 방지회로가 구비되는 회로부(CA)에 있어서는 정전기 방지회로 구성을 위한 구동소자(DD)간의 이격영역, 구동소자(DD)의 연결을 위한 보조배선(미도시) 사이의 이격영역, 또는 구동소자(DD)와 보조배선(미도시) 사이의 이격영역에 대응하여 게이트 절연막(118)을 개재하여 더미금속패턴(139)이 구비되고 있다. The liquid crystal display device 100 according to the exemplary embodiment of the present invention includes the edge light leakage prevention pattern 151 formed by superimposing two or more color filter patterns 151a and 151b having different colors constituting the color filter layer 150 Is formed in a non-display area NA including a part of the outermost part of the display area AA in a form surrounding the display area AA to prevent edge light leakage in the conventional liquid crystal display device. In the circuit portion CA provided with the anti-static circuit among the non-display areas NA, a space for separating the driving elements DD for the antistatic circuit constitution, A dummy metal pattern 139 is provided via a gate insulating film 118 in correspondence to the spacing region between the auxiliary wiring (not shown) or the spacing region between the driving element DD and the auxiliary wiring (not shown).

따라서 이러한 구성적 특징에 의해 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(100)는 블랙매릭스를 형성하지 않음으로서 발생되는 표시영역(AA) 테두리 및 회로부(CA)에서의 빛샘 발생을 원천적으로 억제하는 효과가 있다.Therefore, the liquid crystal display device 100 according to the embodiment of the present invention can reliably suppress generation of light leakage in the display area (AA) frame and the circuit part (CA) generated by not forming the black matrix, .

100 : 액정표시장치 102 : 어레이 기판
107 : 제 1 소자패턴 118 : 게이트 절연막
121 : 반도체패턴 121a, 121b : 제 1 및 제 2 패턴
137 : 제 1 소자패턴 139 : 금속더미패턴
140 : 제 1 보호층 151 : 테두리 빛샘방지 패턴
151a, 151b : (테두리 빛샘 방지패턴의) 하부 및 상부 컬러 패턴
155 : 제 2 보호층 158 : 소자 콘택홀
177 : 소자연결패턴 181 : 대향 기판
195 :액정층 CA : 회로부
DD : (정정기 방지회로의)구동소자 NA : 비표시영역100: liquid crystal display device 102: array substrate
107: first element pattern 118: gate insulating film
121: semiconductor patterns 121a and 121b: first and second patterns
137: first element pattern 139: metal dummy pattern
140: first protective layer 151: rim prevention pattern
151a and 151b: upper and lower color patterns (of the border light preventing pattern)
155: second protection layer 158: element contact hole
177: element connection pattern 181: opposing substrate
195: liquid crystal layer CA:
DD: Driving element (of the correction preventing circuit) NA: Non-display area

Claims (14)

표시영역과 비표시영역의 정의되며 액정층을 개재하여 서로 마주하며 합착된 제 1 기판 및 제 2 기판과;
상기 제 1 기판 내측면의 상기 표시영역에 서로 교차하여 다수의 화소영역을 정의하며 형성된 게이트 배선 및 데이터 배선과;
상기 제 1 기판의 내측면에 상기 게이트 배선과 나란하게 형성된 공통배선과;
상기 게이트 배선 및 데이터 배선과 연결되며 상기 각 화소영역에 형성된 박막트랜지스터와;
상기 비표시영역의 회로부에 구성된 정전기 방지회로용 다수의 구동소자 및 이와 연결된 다수의 보조배선과;
상기 박막트랜지스터 위로 상기 표시영역 전면에 순차 반복하는 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴을 가지며 형성된 컬러필터층과;
상기 컬러필터층 위로 형성된 제 1 보호층과;
상기 제 1 보호층 위로 상기 박막트랜지스터와 연결되며 상기 각 화소영역 내에 형성된 다수의 화소전극과;
상기 제 1 보호층 위로 상기 공통배선과 연결되며 상기 다수의 화소전극과 교대하며 형성된 다수의 공통전극
을 포함하며, 상기 회로부에는 서로 이웃한 상기 보조배선 사이의 이격영역에 대응하여 절연층을 개재하여 상기 보조배선과 중첩하며 금속더미패턴이 형성됨으로서 상기 회로부에서의 빛샘을 방지하는 것이 특징인 액정표시장치.
A first substrate and a second substrate which are defined by a display region and a non-display region and are bonded to each other with a liquid crystal layer interposed therebetween;
Gate lines and data lines formed to define a plurality of pixel regions intersecting with each other in the display region of the inner surface of the first substrate;
A common wiring formed on an inner surface of the first substrate so as to be parallel to the gate wiring;
A thin film transistor connected to the gate wiring and the data wiring and formed in each of the pixel regions;
A plurality of driving elements for an anti-static circuit formed in the circuit portion of the non-display region and a plurality of auxiliary wires connected thereto;
A color filter layer formed on the thin film transistor and having red, green, and blue color filter patterns sequentially repeating over the display region;
A first protective layer formed on the color filter layer;
A plurality of pixel electrodes connected to the thin film transistors on the first passivation layer and formed in the pixel regions;
And a plurality of common electrodes connected to the common line on the first passivation layer and formed alternately with the plurality of pixel electrodes,
Wherein the circuit part overlaps the auxiliary wiring with an insulating layer corresponding to a spacing region between adjacent auxiliary wirings and prevents light leakage in the circuit part by forming a metal dummy pattern Device.
제 1 항에 있어서,
상기 비표시영역에 상기 표시영역을 둘러싸는 형태로 상기 적, 녹, 청색 컬러필터 패턴과 동일한 물질로 이루어진 적, 녹, 청색 중 어느 2가지 색의 컬러패턴이 중첩되어 형성된 테두리 빛샘 방지패턴
을 포함하는 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Green, and blue color filter patterns formed by overlapping the color patterns of two colors of red, green, and blue, which are made of the same material as the red, green, and blue color filter patterns,
And a liquid crystal display panel.
제 2 항에 있어서,
상기 테두리 빛샘 방지패턴은 적색 및 청색 컬러패턴이 중첩 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the edge light leakage prevention pattern is formed by overlapping red and blue color patterns.
제 2 항에 있어서,
상기 테두리 빛샘 방지패턴은 그 끝단이 계단 형태를 이루는 것이 특징인 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the edge light blocking prevention pattern has a stepped end.
제 1 항에 있어서,
상기 보조배선은 상기 게이트 배선이 형성된 동일한 층이 형성되며,
상기 절연층이 상기 게이트 배선 위로 전면에 형성되는 게이트 절연막이 되며,
상기 금속더미패턴은 상기 데이터 배선과 동일한 층에 동일한 물질로 이루어진 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to claim 1,
The auxiliary wiring is formed of the same layer on which the gate wiring is formed,
Wherein the insulating layer is a gate insulating film formed over the gate wiring,
Wherein the metal dummy pattern is formed of the same material in the same layer as the data line.
제 1 항에 있어서,
상기 구동소자는 다이오드, 박막트랜지스터, 커패시터 중 어느 하나인 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the driving element is any one of a diode, a thin film transistor, and a capacitor.
제 1 항에 있어서,
상기 구동소자는 상기 데이터 배선과 연결된 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to claim 1,
And the driving element is connected to the data line.
제 2 항에 있어서,
상기 테두리 빛샘 방지패턴과 상기 제 1 보호층에는 상기 회로부에 대응하여 상기 구동소자를 노출시키는 소자 콘택홀이 구비되며,
상기 제 1 보호층 상부에는 상기 화소전극을 이루는 동일한 물질로 이루어지며 상기 소자 콘택홀을 통해 상기 구동소자를 연결시키는 소자연결패턴이 형성된 것이 특징인 액정표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the edge light-preventing pattern and the first passivation layer are provided with element contact holes exposing the driving elements corresponding to the circuit portions,
And a device connection pattern is formed on the first passivation layer and is made of the same material as the pixel electrode and connects the driving device through the device contact hole.
제 2 항에 있어서,
상기 박막트랜지스터와 상기 컬러필터층 사이에는 상기 제 1 기판 전면에 무기절연물질로 이루어진 제 2 보호층이 형성되며,
상기 제 2 기판 내측면에는 상기 화소영역의 경계에 대응하여 상기 제 1 테두리 빛샘 방지패턴을 이루는 동일한 물질로 이루어지며 제 1 높이를 갖는 기둥 형태의 다수의 갭 형성용 스페이서와, 상기 제 1 높이보다 작은 제 2 높이를 갖는 기둥 형태의 다수의 눌림 방지용 스페이서가 형성되며,
상기 갭 형성용 스페이서는 그 끝단이 상기 제 1 기판에 구비된 구성요소와 접촉하는 것이 특징인 액정표시장치.

3. The method of claim 2,
A second protective layer made of an inorganic insulating material is formed on the entire surface of the first substrate between the thin film transistor and the color filter layer,
A plurality of gap-forming spacers formed on the inner surface of the second substrate and having a first height and made of the same material as the first edge anti-glare pattern corresponding to the boundaries of the pixel region, A plurality of pillars in the form of pillars having a small second height are formed,
Wherein an end of the gap-forming spacer is in contact with a component provided on the first substrate.

제 1 항에 있어서,
상기 제 1 기판에는,
상기 각 화소영역에 상기 공통배선에서 분기하여 상기 데이터 배선과 나란하게 이웃하여 형성된 최외각 공통전극이 형성되며,
상기 제 1 보호층 상부에는 상기 데이터 배선과 상기 최외각 공통전극에 대응하여 상기 공통전극을 이루는 동일한 물질로 이루어진 도전패턴이 형성되어 각 화소영역에서의 빛샘을 방지하는 것이 특징인 액정표시장치.
The method according to claim 1,
In the first substrate,
An outermost common electrode branched from the common wiring and formed adjacent to the data wiring in the pixel region is formed,
And a conductive pattern made of the same material as the common electrode corresponding to the data line and the outermost common electrode is formed on the first passivation layer to prevent light leakage in each pixel region.
제 10 항에 있어서,
상기 화소전극과 중앙부 공통전극 및 도전패턴은 각각 몰리티타늄으로 이루어진 하부층과 투명 도전성 물질 또는 질화구리(CuNx)로 이루어진 상부층의 이중층 구조를 갖는 것이 특징인 액정표시장치.
11. The method of claim 10,
Wherein the pixel electrode, the central common electrode, and the conductive pattern each have a bilayer structure of a lower layer made of moly titanium and an upper layer made of a transparent conductive material or copper nitride (CuNx).
제 11 항에 있어서,
상기 투명 도전성 물질은 인듐-틴-옥사이드(ITO), 인듐-징크-옥사이드(IZO), 알루미늄 도핑 징크-옥사이드(AZO) 중 어느 하나인 것이 특징인 액정표시장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the transparent conductive material is any one of indium-tin-oxide (ITO), indium-zinc-oxide (IZO), and aluminum-doped zinc-oxide (AZO).
제 10 항에 있어서,
상기 제 1 보호층과 컬러필터층과 제 2 보호층에는 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극을 노출시키는 드레인 콘택홀과, 상기 최외각 공통전극의 일 끝단을 노출시키는 공통 콘택홀이 구비되며,
상기 화소전극은 상기 드레인 콘택홀을 통해 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극과 접촉하며, 상기 공통전극은 상기 공통 콘택홀을 통해 상기 최외각 공통전극과 접촉하는 것이 특징인 액정표시장치.
11. The method of claim 10,
A drain contact hole exposing a drain electrode of the thin film transistor, and a common contact hole exposing one end of the outermost common electrode are formed in the first passivation layer, the color filter layer and the second passivation layer,
Wherein the pixel electrode is in contact with the drain electrode of the thin film transistor through the drain contact hole and the common electrode is in contact with the outermost common electrode through the common contact hole.
제 10 항에 있어서,
상기 화소전극과 최외각 공통전극 및 공통전극은 상기 각 화소영역의 중앙부를 기준으로 대칭적으로 꺾인 구조를 이룸으로써 각 화소영역이 이중 도메인을 이루는 것이 특징인 액정표시장치.11. The method of claim 10,
Wherein the pixel electrode, the outermost common electrode, and the common electrode are symmetrically bent with respect to a central portion of each pixel region, so that each pixel region forms a double domain.
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