KR101798450B1 - Photocurable composition and photocurable layer formed from the same - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 광경화성 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 막에 관한 것이다. 보다 상세하게는 광중합성 단량체들을 포함하는 광경화성 조성물 및 이로부터 형성된 광경화 막에 관한 것이다.The present invention relates to a photocurable composition and a photocurable film formed therefrom. To a photocurable composition comprising photopolymerizable monomers and to a photocurable film formed therefrom.
예를 들면, 디스플레이 기기의 포토레지스트, 절연막, 보호막, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 등의 다양한 광경화 절연 패턴을 형성하기 위해 감광성 조성물이 사용된다. 상기 감광성 조성물을 도포한 후 노광 공정 및/또는 현상 공정을 통해 원하는 영역에 소정 형상의 광경화 패턴을 형성할 수 있다. 상기 감광성 조성물은 예를 들면, 자외선 노광에 대한 높은 감도, 중합 반응성을 가지며 이로부터 형성된 패턴은 향상된 내열성, 내화학성 등을 가질 필요가 있다.For example, a photosensitive composition is used to form various photocurable insulating patterns such as photoresist, insulating film, protective film, black matrix, column spacer, etc. of a display device. After the photosensitive composition is applied, a photocuring pattern of a predetermined shape can be formed in a desired area through an exposure process and / or a development process. The photosensitive composition has, for example, high sensitivity to ultraviolet ray exposure, polymerization reactivity, and a pattern formed therefrom needs to have improved heat resistance, chemical resistance, and the like.
예를 들면, 유기 발광 다이오드(organic light emitting diode: OLED) 디스플레이 장치에 있어서, 화소별로 유기 발광층이 형성되며, 외부 불순물 또는 수분으로부터 상기 유기 발광층을 보호하기 위한 인캡슐레이션 층이 형성될 수 있다.For example, in an organic light emitting diode (OLED) display device, an organic light emitting layer is formed for each pixel, and an encapsulation layer for protecting the organic light emitting layer from external impurities or moisture may be formed.
상기 인캡슐레이션 층으로서 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 및/또는 실리콘 산질화물을 포함하는 무기 절연층이 형성될 수 있다. 그러나, 상기 무기 절연층 만으로는 외부 수분에 의한 표시 소자 열화를 충분히 차단하지 못할 수 있다.An inorganic insulating layer containing silicon oxide, silicon nitride, and / or silicon oxynitride may be formed as the encapsulation layer. However, deterioration of the display element due to external moisture may not be sufficiently blocked by the inorganic insulating layer alone.
따라서, 유기 성분을 포함하는 보호막이 채용될 필요가 있으며. 이 경우 상기 감광성 유기 조성물을 사용하여 인캡슐레이션 층을 형성하는 것을 고려할 수 있다.Therefore, a protective film containing an organic component needs to be employed. In this case, it may be considered to form an encapsulation layer using the photosensitive organic composition.
최근, OLED 장치의 해상도가 증가하면서 패턴들 및 화소 사이즈 역시 미세화되고 있다. 따라서, 상기 감광성 유기 조성물 역시 미세 도포 또는 미세 패터닝에 적합한 물성을 가질 필요가 있다.In recent years, as the resolution of an OLED device increases, patterns and pixel sizes also become finer. Therefore, the photosensitive organic composition also needs to have physical properties suitable for fine application or fine patterning.
예를 들면, 한국등록특허 제10-1359470호는 알칼리 가용성 수지, 광경화성 단량체, 광중합 개시제, 아미노아세토페논계 또는 아미노벤즈알데히드계 수소공여체 및 용매를 포함하며, 광중합 개시제에서 생성된 알킬 라디칼을 활성화하여 광반응성을 향상시킬 수 있는 감광성 수지 조성물을 개시하고 있다.For example, Korean Patent Registration No. 10-1359470 discloses a photoresist composition comprising an alkali-soluble resin, a photocurable monomer, a photopolymerization initiator, an aminoacetophenone-based or aminobenzaldehyde-based hydrogen donor and a solvent and activating an alkyl radical generated in the photopolymerization initiator Discloses a photosensitive resin composition capable of improving photoreactivity.
그러나, 알칼리 가용성 수지를 포함하는 경우 조성물 점도가 상승하여 원하는 미세 패터닝 구현에 한계가 있다.However, when an alkali-soluble resin is included, the viscosity of the composition is increased, which limits the desired implementation of fine patterning.
본 발명의 일 과제는 저점도 및 향상된 중합 반응성을 갖는 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a photocurable composition having low viscosity and improved polymerization reactivity.
본 발명의 일 과제는 상기 광경화성 조성물로부터 형성되며 향상된 경화도 및 안정성을 갖는 광경화 막을 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide a photocurable film formed from the photo-curing composition and having improved hardenability and stability.
본 발명의 일 과제는 상기 광경화 막을 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention is to provide an image display device including the photocurable film.
1. 2관능 이상 알릴 에테르 화합물; 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물; 카르복실산 함유 단량체; 및 광개시제를 포함하는, 광경화성 조성물.1. bifunctional allyl ether compound; 1 to 3 functional (meth) acrylate compounds; Carboxylic acid-containing monomers; And a photoinitiator.
2. 위 1에 있어서, 상기 2관능 이상 알릴 에테르 화합물은 하기 화학식 1-1 내지 1-3으로 표시되는 화합물들 중 선택된 적어도 하나를 포함하는, 광경화성 조성물:2. The photocurable composition according to 1 above, wherein said bifunctional allyl ether compound comprises at least one selected from compounds represented by the following formulas 1-1 to 1-3:
[화학식 1-1][Formula 1-1]
[화학식 1-2][Formula 1-2]
(화학식 1-2 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 3의 알킬 또는 히드록실기임)(In the formula (1-2), R 1 is hydrogen, an alkyl having 1 to 3 carbon atoms, or a hydroxyl group)
[화학식 1-3][Formula 1-3]
3. 위 1에 있어서, 상기 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기 화학식 2-1 내지 2-5로 표시되는 화합물들 중 선택된 적어도 하나를 포함하는, 광경화성 조성물:3. The photocurable composition according to item 1 above, wherein the (meth) acrylate compound of the first to third functional groups comprises at least one selected from compounds represented by the following general formulas (2-1) to (2-5)
[화학식 2-1][Formula 2-1]
[화학식 2-2][Formula 2-2]
[화학식 2-3][Formula 2-3]
[화학식 2-4][Chemical Formula 2-4]
[화학식 2-5][Chemical Formula 2-5]
(화학식 2-1 내지 2-5 중, R2는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고, R3은 탄소수 1 내지 20의 비고리형 또는 고리형 알킬기이고, R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기이고, R5는 수소, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 히드록실기 또는 탄소수 1 내지 3의 알콕시기이고,(In the formulas (2-1) to (2-5), R 2 is each independently hydrogen or a methyl group, R 3 is a non-cyclic or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms , R 5 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms,
m은 1 내지 10의 정수이고, n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수임).m is an integer of 1 to 10, and n is independently an integer of 1 to 5).
4. 위 1에 있어서, 상기 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물은 서로 다른 관능수를 갖는 2종 이상의 (메타)아크릴레이트 화합물들을 포함하는, 광경화성 조성물.4. The photocurable composition according to 1 above, wherein the (meth) acrylate compound of the first to third functional groups comprises two or more (meth) acrylate compounds having different functional numbers.
5. 위 4에 있어서, 상기 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물 은 1관능 (메타)아크릴레이트 화합물 및 3관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 조합, 또는 2관능 (메타)아크릴레이트 화합물 및 3관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 조합을 포함하는, 광경화성 조성물.5. The thermoplastic resin composition according to item 4, wherein the (meth) acrylate compound is a combination of a monofunctional (meth) acrylate compound and a trifunctional (meth) acrylate compound, or a combination of a bifunctional (meth) (Meth) acrylate compound. ≪ Desc / Clms Page number 13 >
6. 위 1에 있어서, 상기 카르복실산 함유 단량체는 단관능 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체를 포함하는, 광경화성 조성물.6. The photocurable composition according to item 1 above, wherein the carboxylic acid-containing monomer comprises a monofunctional carboxylic acid-containing (meth) acrylate monomer.
7. 위 6에 있어서, 상기 카르복실산 함유 단량체는 하기 화학식 3으로 표시되는 단량체를 포함하는, 광경화성 조성물:7. The photocurable composition according to 6 above, wherein said carboxylic acid-containing monomer comprises a monomer represented by the following formula (3):
[화학식 3](3)
(화학식 3 중, X는 탄소수 1 내지 3의 알킬렌, 시클로 헥실, 시클로 헥세닐, 또는 페닐기이고, (Wherein X is an alkylene, cyclohexyl, cyclohexenyl, or phenyl group having 1 to 3 carbon atoms,
Ra 및 Rb는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기임).R a and R b are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
8. 위 1에 있어서, 상기 광 개시제는 옥심 에스테르계 화합물을 포함하는, 광경화성 조성물.8. The photocurable composition of 1 above, wherein the photoinitiator comprises an oxime ester compound.
9. 위 1에 있어서, 조성물 총 중량 중,9. The composition of claim 1, wherein,
상기 2관능 이상 알릴 에테르 화합물 10 내지 50중량%;10 to 50% by weight of the bifunctional or higher allyl ether compound;
상기 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물 40 내지 80중량%;40 to 80% by weight of the (meth) acrylate compound having 1 to 3 functional groups;
상기 카르복실산 함유 단량체 1 내지 5중량%; 및1 to 5% by weight of the carboxylic acid-containing monomer; And
상기 광개시제 1 내지 10중량%를 포함하는, 광경화성 조성물.And 1 to 10% by weight of the photoinitiator.
10. 위 1에 있어서, 다관능 티올 화합물을 더 포함하는, 광경화성 조성물.10. The photocurable composition according to 1 above, further comprising a polyfunctional thiol compound.
11. 위 1에 있어서, 무용제 타입으로 제조되는, 광경화성 조성물.11. The photocurable composition of claim 1, wherein the photocurable composition is prepared in a non-solvent type.
12. 위 1에 있어서, 폴리머 또는 수지 성분은 포함하지 않는, 광경화성 조성물.12. The photocurable composition of any preceding claim, wherein the polymer or resin component is not included.
13. 위 1에 있어서, 상온에서 20cp이하의 점도를 갖는, 광경화성 조성물.13. The photocurable composition of claim 1 having a viscosity of 20 cp or less at room temperature.
14. 위 1 내지 13 중 어느 한 항의 광경화성 조성물로부터 형성된 광경화막.14. Photopolymerizable film formed from the photocurable composition of any one of claims 1-13.
15. 위 1 내지 13 중 어느 한 항의 광경화성 조성물로부터 형성된 광경화막을 포함하는, 화상 표시 장치.15. An image display comprising a photocurable film formed from the photocurable composition of any one of claims 1 to 13.
16. 위 15에 있어서, 베이스 기판; 및 상기 베이스 기판 상에 배치된 유기 발광 소자들을 더 포함하며, 상기 광경화막은 상기 유기 발광 소자들의 인캡슐레이션 층으로 제공되는, 화상 표시 장치.16. The method of 15, wherein the base substrate; And organic light emitting devices disposed on the base substrate, wherein the photocurable film is provided as an encapsulation layer of the organic light emitting devices.
본 발명의 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 중합성 단량체들을 포함하며, 수지 또는 중합체 성분이 포함되지 않을 수 있다. 따라서, 저점도의 조성물이 구현되어 예를 들면, 잉크젯 공정을 통해 미세 패터닝이 효과적으로 수행될 수 있다. 상기 광경화성 조성물은 예를 들면, 희석제로서 알릴 에테르 화합물을 포함하며, 용제가 제거된 무용제 타입으로 제조될 수 있다. 상기 알릴 에테르 화합물에 의해 용제 없이도 저점도 조성물이 구현될 수 있다.Photocurable compositions according to embodiments of the present invention include polymeric monomers and may not include resin or polymer components. Therefore, a composition of low viscosity can be realized, and fine patterning can be effectively carried out, for example, through an inkjet process. The photo-curing composition may, for example, be prepared as a solvent-free solventless form containing an allyl ether compound as a diluent. A low viscosity composition can be realized without solvent by the above-mentioned allyl ether compound.
또한, 상기 광경화성 조성물은 상기 알릴 에테르 화합물의 반응성을 고려하여 적절한 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. 따라서, 원하는 중합 또는 경화 반응성을 확보하면서 산소 저해에 의한 표면 프로파일 손상을 억제할 수 있다. In addition, the photocurable composition may include a (meth) acrylate compound having an appropriate functional group in consideration of the reactivity of the allyl ether compound. Therefore, damage to the surface profile due to oxygen inhibition can be suppressed while ensuring desired polymerization or curing reactivity.
또한, 상기 광경화성 조성물은 카르복실기 함유 화합물을 더 포함하며, 이에 따라 기재 또는 대상체와의 밀착성이 향상되어 코팅막 또는 광경화 패턴의 기계적 안정성이 향상될 수 있다.In addition, the photo-curable composition further includes a carboxyl group-containing compound, thereby improving the adhesion to the substrate or the object, thereby improving the mechanical stability of the coating film or the photo-curable pattern.
본 발명의 실시예들에 따른, 광경화성 조성물을 사용하여 형성된 광경화막은 우수한 기체 및 수분 배리어 특성을 가지며, 예를 들면 유기 발광 다이오드 장치의 인캡슐레이션 층으로 활용될 수 있다.In accordance with embodiments of the present invention, a photocurable film formed using a photocurable composition has excellent gas and moisture barrier properties and can be utilized, for example, as an encapsulation layer of an organic light emitting diode device.
도 1, 도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예들에 따른 광경화 막을 포함하는 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도들이다.
도 4 내지 도 6은 실시예 및 비교예들의 광경화막 코팅성 평가 기준을 설명하기 위한 이미지들이다.
도 7 및 도 8은 산소 저해의 영향에 따른 막 표면을 설명하기 위한 이미지들이다.FIGS. 1, 2 and 3 are schematic cross-sectional views showing an image display apparatus including a photocurable film according to embodiments of the present invention.
Figs. 4 to 6 are images for explaining the evaluation criteria of the photocurable coating properties of the examples and the comparative examples. Fig.
7 and 8 are images for explaining the film surface according to the influence of oxygen inhibition.
본 발명의 실시예들은, 2관능 이상의 알릴 에테르 화합물, 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물, 카르복실산 함유 단량체 및 광개시제를 포함하며, 저점도를 가지며 향상된 코팅성, 밀착성, 경화 특성을 갖는 광경화성 조성물, 및 이로부터 형성된 광경화막을 제공한다.The embodiments of the present invention are directed to a resin composition containing a bifunctional or higher allyl ether compound, a (meth) acrylate compound having one to three functional groups, a carboxylic acid-containing monomer and a photoinitiator and having a low viscosity and exhibiting improved coatability, And a photocurable film formed therefrom.
이하, 본 발명의 실시예들에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
<광경화성 조성물>≪ Photocurable composition >
알릴 에테르(allyl ether) 화합물Allyl ether compound
본 발명의 실시예들에 따른 광경화성 조성물에 포함되는 알릴 에테르 화합물은 실질적으로 조성물의 점도를 낮추는 역할을 하며, 희석제로서 기능할 수 있다. 상기 알릴 에테르 화합물이 일반적인 감광성 유기막 형성을 위한 조성물들에 포함된 용제를 대체할 수 있다. 따라서, 예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광경화성 조성물은 실질적으로 무용제(solvent-free 또는 non-solvent) 타입으로 제조 및 활용될 수 있다.The allyl ether compound contained in the photocurable composition according to the embodiments of the present invention substantially functions to lower the viscosity of the composition and can function as a diluent. The above-mentioned allyl ether compound can replace the solvent included in the compositions for forming a general photosensitive organic film. Thus, according to exemplary embodiments, the photocurable composition may be prepared and utilized in a substantially solvent-free or non-solvent type.
상기 알릴 에테르 화합물은 후술하는 조성물의 다른 성분들에 대해 높은 용해도를 가지며 함께 중합 또는 경화에 참여할 수 있는 반응성을 가질 수 있다. The allyl ether compound may have high solubility for other components of the composition described below and may have reactivity to participate in polymerization or curing together.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 알릴 에테르 화합물로서 2관능 이상(예를 들면, 알릴 에테르기가 2개 이상)의 알릴 에테르 화합물이 활용될 수 있다.According to exemplary embodiments, an allyl ether compound having two or more functional groups (for example, two or more allyl ether groups) may be utilized as the allyl ether compound.
1 관능의 알릴에테르 화합물이 사용되는 경우, 조성물의 중합 반응성 및 광경화막의 경화도가 지나치게 저하될 수 있다. 예를 들면, 2관능, 3관능 또는 4관능의 알릴 에테르 화합물이 사용될 수 있으며, 이들 중 1종 또는 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다.When a monofunctional allyl ether compound is used, the polymerization reactivity of the composition and the degree of curing of the photocurable film may be excessively lowered. For example, bifunctional, trifunctional or tetrafunctional allyl ether compounds may be used, and one or more of these may be used in combination.
바람직하게는, 상기 알릴 에테르 화합물은 중합 반응성을 고려하여 3관능 이상 화합물을 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 알릴 에테르 화합물은 하기의 화학식 1-1 내지 1-3으로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Preferably, the allyl ether compound may use a trifunctional or higher functional compound in consideration of polymerization reactivity. For example, the allyl ether compound may include at least one of the compounds represented by the following formulas 1-1 to 1-3.
[화학식 1-1][Formula 1-1]
[화학식 1-2][Formula 1-2]
[화학식 1-3][Formula 1-3]
화학식 1-2 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 3의 알킬 또는 히드록실기(-OH)일 수 있다. R1이 알킬기인 경우, 바람직하게는 저점도 구현을 위해 메틸기일 수 있다. 일 실시예에 있어서, 바람직하게는, R1은 히드록실기이며 이 경우 경화막의 기재에 대한 밀착성 및 현상성이 보다 향상될 수 있다.In formula (1-2), R 1 may be hydrogen, an alkyl having 1 to 3 carbon atoms, or a hydroxyl group (-OH). When R < 1 > is an alkyl group, it may preferably be a methyl group for low viscosity implementation. In one embodiment, preferably, R 1 is a hydroxyl group, and in this case, adhesion and developability of the cured film to the substrate can be further improved.
예시적인 실시예들에 따르면, 광경화성 조성물 총 중량 중 상기 알릴 에테르 화합물의 함량은 약 10 내지 50중량%일 수 있다. 상기 알릴 에테르 화합물의 함량이 약 10중량% 미만인 경우, 조성물의 점도가 지나치게 증가하여 원하는 미세 공정이 구현되지 않을 수 있으며, 다른 성분들에 대한 용해성이 지나치게 저하될 수 있다. 상기 알릴 에테르 화합물의 함량이 약 50중량%를 초과하는 경우 조성물의 경화 및 중합 반응성이 지나치게 감소하여 경화막의 경화도 및 기계적 물성이 열화될 수 있다. 바람직하게는 상기 알릴 에테르 화합물의 함량은 약 10 내지 30중량%일 수 있다.According to exemplary embodiments, the content of the allyl ether compound in the total weight of the photocurable composition may be about 10 to 50 wt%. When the content of the allyl ether compound is less than about 10% by weight, the viscosity of the composition may be excessively increased, resulting in failure to realize a desired microfabrication process and excessively lowering the solubility to other components. If the content of the allyl ether compound exceeds about 50% by weight, the curing and polymerization reactivity of the composition may be excessively decreased, and the curing degree and mechanical properties of the cured film may be deteriorated. Preferably, the content of the allyl ether compound may be about 10 to 30% by weight.
(메타)아크릴레이트 화합물(Meth) acrylate compound
본 발명의 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 중합성 단량체로서 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. (메타)아크릴레이트 화합물은 예를 들면, 자외선 노광 공정에 의해 라디칼 중합반응에 참여하여 원하는 경도 또는 경화도를 확보하는 주성분으로 포함될 수 있다. The photocurable composition according to embodiments of the present invention may include a (meth) acrylate compound as a polymerizable monomer. The (meth) acrylate compound may be included as a main component, for example, by participating in a radical polymerization reaction by an ultraviolet exposure process to secure a desired hardness or degree of curing.
본 출원에서 사용되는 용어, "(메타)아크릴-"은 "메타크릴-", "아크릴-" 또는 이 둘 모두를 지칭하는 것으로 사용된다.The term "(meth) acrylic-" as used in the present application is used to refer to "methacryl-", "acryl-" or both.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광경화성 조성물은 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물을 포함할 수 있다. 4관능 이상의 (메타)아크릴레이트 화합물이 사용될 경우, 조성물의 점도가 지나치게 증가되어 원하는 저점도 조성물 구현이 곤란할 수 있다.According to exemplary embodiments, the photocurable composition may comprise from one to three functional (meth) acrylate compounds. When a tetrafunctional or higher (meth) acrylate compound is used, the viscosity of the composition may be excessively increased, making it difficult to achieve the desired low viscosity composition.
단관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 예로서, 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필 (메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 헥실 (메타)아크릴레이트, 시클로헥실 (메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, 옥타데실 (메타)아크릴레이트, 이소옥틸 (메타)아크릴레이트, 이소노닐 (메타)아크릴레이트, 이소데실 (메타)아크릴레이트, 또는 이소보닐 (메타)아크릴레이트 등과 같은 탄소수 1 내지 20의 직쇄상 또는 분지상, 또는 비고리형 또는 고리형 알킬기를 갖는 알킬 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl Acrylate, stearyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate having a straight chain or branched, or acyclic or cyclic alkyl group of 1 to 20 carbon atoms such as isopropyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate or isobornyl (meth) .
예를 들면, 상기 단관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기의 화학식 2-1로 표시될 수 있다.For example, the monofunctional (meth) acrylate compound may be represented by the following formula (2-1).
[화학식 2-1][Formula 2-1]
화학식 2-1 중, R2는 수소 또는 메틸기(-CH3)일 수 있다. R3는 탄소수 1 내지 20의 직쇄상 또는 분지상(분지상일 경우 탄소수 3 내지 20), 또는 비고리형 또는 고리형 알킬기일 수 있다.In the formula (2-1), R 2 may be hydrogen or a methyl group (-CH 3 ). R 3 may be a linear or branched (having 3 to 20 carbon atoms when branched) carbon atoms of 1 to 20 carbon atoms, or an acyclic or cyclic alkyl group.
2관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 예로서, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올 디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methylpentanediol di (Meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and the like.
예를 들면, 상기 2관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기의 화학식 2-2 또는 2-3로 표시될 수 있다.For example, the bifunctional (meth) acrylate compound may be represented by the following formula (2-2) or (2-3).
[화학식 2-2][Formula 2-2]
화학식 2-2 중, R2는 수소 또는 메틸기(-CH3)일 수 있다. m은 1 내지 10의 정수일 수 있다.In the formula (2-2), R 2 may be hydrogen or a methyl group (-CH 3 ). and m may be an integer of 1 to 10.
[화학식 2-3][Formula 2-3]
화학식 2-3 중, R2는 수소 또는 메틸기(-CH3)일 수 있다. R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기일 수 있다. n은 1 내지 5의 정수일 수 있다.In formula (2-3), R 2 may be hydrogen or a methyl group (-CH 3 ). R 4 may be hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. and n may be an integer of 1 to 5.
3관능 (메타)아크릴레이트 화합물의 예로서, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the trifunctional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) And pentaerythritol tri (meth) acrylate.
예를 들면, 상기 3관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 하기의 화학식 2-4 또는 2-5로 표시될 수 있다.For example, the trifunctional (meth) acrylate compound may be represented by the following formula 2-4 or 2-5.
[화학식 2-4][Chemical Formula 2-4]
[화학식 2-5][Chemical Formula 2-5]
화학식 2-4 및 2-5 중, R2는 수소 또는 메틸기(-CH3)일 수 있다. R5는 수소, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 히드록실기(-OH) 또는 탄소수 1 내지 3의 알콕시기일 수 있다. n은 1 내지 5의 정수일 수 있다.In formulas 2-4 and 2-5, R 2 may be hydrogen or a methyl group (-CH 3 ). R 5 may be hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group (-OH), or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms. and n may be an integer of 1 to 5.
상술한 화합물들은 단독으로 혹은 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 서로 다른 관능수를 갖는 2종 이상의 (메타)아크릴레이트 화합물들이 함께 사용될 수 있다.The above-mentioned compounds may be used alone or in combination of two or more. In some embodiments, two or more (meth) acrylate compounds having different functional numbers may be used together.
예를 들면, 1관능 메타(아크릴레이트) 화합물 및 3관능 메타(아크릴레이트)화합물이 함께 사용될 수 있다. 또는 2관능 메타(아크릴레이트) 화합물 및 3관능 메타(아크릴레이트)화합물이 함께 사용될 수 있다. 메타(아크릴레이트)화합물들의 관능수의 조합은 조성물의 점도, 코팅성 및 광경화막의 충분한 경도를 고려하여 선택될 수 있다.For example, a monofunctional meta (acrylate) compound and a trifunctional meta (acrylate) compound may be used together. Or a bifunctional meta (acrylate) compound and a trifunctional meta (acrylate) compound may be used together. The combination of the number of functional groups of the meta (acrylate) compounds can be selected in view of the viscosity of the composition, the coating properties and the sufficient hardness of the photocurable film.
일반적으로, 중합 반응에 참여하는 불포화 이중결합의 수가 많을수록 경화 밀도가 빠르게 상승하며 빠른 시간 내에 소정의 물성에 도달할 수 있다. 그러나, 이중결합 및 반응성 관능기의 수가 증가할 수록 에스테르기의 카르보닐구조에 의한 분자간 상호작용에 의해 점도가 상승할 수 있다.Generally, the greater the number of unsaturated double bonds participating in the polymerization reaction, the faster the cure density increases and the desired physical properties can be reached within a short period of time. However, as the number of double bonds and reactive functional groups increases, the viscosity may increase due to intermolecular interactions due to the carbonyl structure of the ester group.
상술한 바와 같이, 원하는 저점도 조성물을 구현하기 위해 다관능 알릴 에테르 화합물을 사용하여 조성물 점도를 낮추고 (메타)아크릴레이트 화합물을 함께 사용하여 원하는 중합도 및 반응성을 확보할 수 있다. As described above, a polyfunctional allyl ether compound may be used to lower the viscosity of the composition and to obtain a desired degree of polymerization and reactivity by using a (meth) acrylate compound together to achieve a desired low viscosity composition.
또한, 상기 알릴 에테르 화합물은 예를 들면, 라디칼 중합의 부분적인 반응속도 불균형 및 이에 따른 도막 표면의 끈적임을 잔류시키는 부작용을 억제하는 조절제로 기능할 수 있으며, 이에 따라 산소 저해(oxygen inhibition)에 의한 경화막의 표면 결함을 억제 또는 완충할 수 있다.In addition, the allyl ether compound can function as a regulator for suppressing, for example, partial unbalance in reaction rate of radical polymerization and adverse effect of remaining sticky on the surface of the coating film, and thereby, by oxygen inhibition The surface defects of the cured film can be suppressed or buffered.
알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물의 관능수의 합은 예를 들면, 4 이상이 되도록 조절될 수 있다. 상기 관능수 범위에서 점도 상승을 억제하면서 원하는 경화막의 경도를 확보할 수 있다. 복수 종의 알릴 에테르 화합물들 및 (메타)아크릴레이트 화합물들이 사용되는 경우, 상기 알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물의 관능수의 합은 알릴 에테르 화합물들 중 가장 높은 관능수를 갖는 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물 중 가장 높은 관능수를 갖는 화합물의 관능수 합을 의미할 수 있다.The sum of the functional numbers of the allyl ether compound and the (meth) acrylate compound can be adjusted to, for example, 4 or more. It is possible to secure the desired hardness of the cured film while suppressing an increase in viscosity in the functional water range. When a plurality of allyl ether compounds and (meth) acrylate compounds are used, the total number of functional groups of the allyl ether compound and the (meth) acrylate compound is preferably in the range of (Meth) acrylate compound having the highest number of functional groups.
예를 들면, 2관능 알릴 에테르 화합물이 사용되는 경우에는, 2관능 또는 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물이 사용될 수 있다. 3관능 알릴 에테르 화합물이 사용되는 경우, 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물이 사용될 수 있다. For example, when a bifunctional allyl ether compound is used, a bifunctional or trifunctional (meth) acrylate compound may be used. When a trifunctional allyl ether compound is used, a (meth) acrylate compound having from 1 to 3 functionalities may be used.
저점도 및 경도 구현 측면에서, 바람직하게는 알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물의 관능수의 합은 4 내지 7 범위일 수 있다. In view of low viscosity and hardness realization, the sum of the functional numbers of the allyl ether compound and the (meth) acrylate compound may preferably be in the range of 4 to 7.
예시적인 실시예들에 따르면, 광경화성 조성물 총 중량 중 상기 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 약 40 내지 80중량%일 수 있다. 상기 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량이 약 40중량% 미만인 경우, 경화막의 경도 및 기계적 물성이 열화될 수 있다. 상기 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량이 약 80중량%를 초과하는 경우 조성물의 점도가 지나치게 증가할 수 있다. 바람직하게는, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물의 함량은 약 60 내지 80중량%일 수 있다.According to exemplary embodiments, the content of the (meth) acrylate compound in the total weight of the photocurable composition may be about 40 to 80 wt%. If the content of the (meth) acrylate compound is less than about 40% by weight, the hardness and mechanical properties of the cured film may deteriorate. If the content of the (meth) acrylate compound exceeds about 80% by weight, the viscosity of the composition may be excessively increased. Preferably, the content of the (meth) acrylate compound may be about 60 to 80% by weight.
카르복실산 함유 단량체The carboxylic acid-containing monomer
본 발명의 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 카르복실산 함유 단량체를 포함하며, 이에 따라 경화막의 코팅성 및 밀착성이 향상될 수 있다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 카르복실산 함유 단량체는 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체를 포함할 수 있다.The photocurable composition according to embodiments of the present invention includes a carboxylic acid-containing monomer, and thus the coating property and the adhesion property of the cured film can be improved. In some embodiments, the carboxylic acid containing monomer may comprise a carboxylic acid containing (meth) acrylate monomer.
상술한 알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물의 조합을 통해 경화도 및 경도를 확보하면서, 조성물의 저점도화가 구현될 수 있으나, 기재와의 코팅성 또는 밀착성이 부족해질 수 있다.Through the combination of the allyl ether compound and the (meth) acrylate compound described above, the viscosity of the composition can be lowered while securing the degree of curing and hardness, but the coating property or adhesion with the substrate may become insufficient.
본 발명의 실시예들에 따르면, 카르복실산 함유 단량체가 조성물에 포함됨에 따라 예를 들면, 수소 결합을 통한 기재와의 밀착성이 향상될 수 있다. 또한, 고극성 치환기가 도입됨에 따라 기재와의 웨팅(wetting) 성이 증가하여 밀착성이 보다 향상될 수 있다.According to embodiments of the present invention, as the carboxylic acid-containing monomer is included in the composition, adhesion with the base material through hydrogen bonding, for example, can be improved. Further, as the high polarity substituent is introduced, the wettability with the substrate increases, and the adhesion can be further improved.
예시적인 실시예들에 따르면, 단관능 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체가 사용될 수 있다. 상기 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체에 있어서, (메타)아크릴레이트의 관능수가 2관능 이상으로 증가하는 경우 상술한 알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물과의 상호 작용 증가로 조성물의 점도가 지나치게 증가할 수 있다.According to exemplary embodiments, monofunctional carboxylic acid containing (meth) acrylate monomers may be used. When the number of functional groups of the (meth) acrylate in the carboxylic acid-containing (meth) acrylate monomer is increased to two or more functional groups, the viscosity of the composition increases due to the interaction between the allyl ether compound and the (meth) Can be excessively increased.
일부 실시예들에 있어서, 상기 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체는 하기의 화학식 3으로 표시될 수 있다.In some embodiments, the carboxylic acid containing (meth) acrylate monomer may be represented by the following formula (3).
[화학식 3](3)
상기 화학식 3 중, X는 탄소수 1 내지 3의 알킬렌, 시클로 헥실, 시클로 헥세닐, 또는 페닐기일 수 있다. Ra 및 Rb는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기일 수 있다.In Formula 3, X may be alkylene having 1 to 3 carbon atoms, cyclohexyl, cyclohexenyl, or a phenyl group. R a and R b may each independently be hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
예를 들면, 상기 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체는 하기의 화학식 3-1 내지 3-3으로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.For example, the carboxylic acid-containing (meth) acrylate monomer may include at least one of the compounds represented by the following formulas (3-1) to (3-3).
[화학식 3-1][Formula 3-1]
[화학식 3-2][Formula 3-2]
[화학식 3-3][Formula 3-3]
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 카르복실산 함유 단량체는 예를 들면, 웨팅제로 작용할 수 있는 소량으로 포함될 수 있다. 예를 들면, 광경화성 조성물 총 중량 중 상기 카르복실산 함유 단량체의 함량은 약 1 내지 5중량%일 수 있다. 상기 카르복실산 함유 단량체의 함량이 약 1중량% 미만인 경우, 조성물의 코팅성 및 경화막의 밀착성이 충분히 확보되지 않을 수 있다. 상기 카르복실산 함유 단량체의 함량이 약 5중량%를 초과하는 경우 조성물의 점도를 지나치게 상승시킬 수 있다.According to exemplary embodiments, the carboxylic acid containing monomers may be included in minor amounts which may act, for example, as a wetting agent. For example, the content of the carboxylic acid-containing monomer in the total weight of the photocurable composition may be about 1 to 5% by weight. When the content of the carboxylic acid-containing monomer is less than about 1% by weight, the coating property of the composition and the adhesion of the cured film may not be sufficiently secured. If the content of the carboxylic acid-containing monomer exceeds about 5% by weight, the viscosity of the composition may be excessively increased.
광 개시제Photoinitiator
예시적인 실시예들에 따르면, 광 개시제는 노광 공정에 의해 라디칼을 발생시켜 상술한 알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물의 가교 반응 또는 중합 반응을 유도할 수 있는 것이라면 특별히 제한되지 않고 사용될 수 있다. 예를 들면, 상기 광 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 티오크산톤계 화합물 및는 옥심에스테르계 화합물로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종의 화합물을 사용할 수 있으며, 바람직하게는 옥심에스테르계 화합물이 사용될 수 있다.According to exemplary embodiments, the photoinitiator can be used without particular limitation as long as it can induce a crosslinking reaction or a polymerization reaction between the allyl ether compound and the (meth) acrylate compound by generating a radical by an exposure process . For example, the photoinitiator may be at least one compound selected from the group consisting of an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a nonimidazole-based compound, a thioxanthone-based compound and an oxime ester-based compound Oxime ester-based compounds may be preferably used.
옥심에스테르계 광 개시제로서 하기의 화학식 4-1 내지 4-3으로 표시되는 화합물들 중 적어도 1종 이상을 사용할 수 있다.As the oxime ester-based photoinitiator, at least one of the compounds represented by the following formulas (4-1) to (4-3) may be used.
[화학식 4-1][Formula 4-1]
[화학식 4-2][Formula 4-2]
[화학식 4-3][Formula 4-3]
화학식 4-1 내지 4-3 중, R6, R8, R9, R10 및 R11은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기일 수 있다. R7은 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 시클로알킬기 또는 아릴기일 수 있다.In formulas (4-1) to (4-3), R 6 , R 8, R 9 , R 10 and R 11 each independently represents hydrogen or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. R 7 may be an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms.
예시적인 실시예들에 따르면, 광경화성 조성물 총 중량 중 상기 광 개시제의 함량은 약 0.1 내지 10중량%일 수 있으며, 바람직하게는 약 1 내지 10중량%일 수 있다. 상기 범위에서 조성물의 점도를 상승시키지 않으면서 노광 공정의 해상도 및 경화막의 경도를 향상시킬 수 있다.According to exemplary embodiments, the content of the photoinitiator in the total weight of the photocurable composition may be about 0.1 to 10 wt%, and preferably about 1 to 10 wt%. The resolution of the exposure process and the hardness of the cured film can be improved without raising the viscosity of the composition within the above range.
첨가제additive
상기 광경화성 조성물로부터 형성된 경화막의 중합 특성, 경화도 및 표면 특성 등을 향상시키기 위해 추가적인 제제들이 더 포함될 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 실시예들에 따른 광경화성 조성물의 저점도 특성 및 경화 특성을 저해하지 않는 범위 내에서 첨가제들이 더 포함될 수 있다.Further formulations may be further included to improve the polymerization properties, hardenability and surface properties, etc. of the cured film formed from the photo-curable composition. For example, additives may further be included within a range that does not impair the low viscosity and curing properties of the photocurable composition according to the embodiments of the present invention.
본 발명의 일부 예시적인 실시예들에 있어서, 개시 보조제로서 다관능 티올(thiol) 화합물이 더 포함될 수 있다. 상기 다관능 티올 화합물이 포함됨에 따라 경화반응이 보다 촉진되면서, 경화막 표면에서의 산소 저해가 억제될 수 있다.In some exemplary embodiments of the present invention, a polyfunctional thiol compound may be further included as an initiator aid. As the polyfunctional thiol compound is included, the curing reaction is further promoted, and oxygen inhibition on the surface of the cured film can be suppressed.
상기 다관능 티올 화합물의 예로서, 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리스리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.Examples of the polyfunctional thiol compound include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) 1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -thione, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis ), Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), and tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate).
일부 실시예들에 있어서, 상기 다관능 티올 화합물은 하기의 화학식 5-1 내지 5-5로 표시되는 화합물들 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.In some embodiments, the polyfunctional thiol compound may include at least one of the compounds represented by the following formulas (5-1) to (5-5).
[화학식 5-1][Formula 5-1]
(화학식 5-1 중, m은 1 내지 12의 정수이다)(In the formula (5-1), m is an integer of 1 to 12)
[화학식 5-2][Formula 5-2]
[화학식 5-3][Formula 5-3]
[화학식 5-4][Formula 5-4]
[화학식 5-5][Formula 5-5]
화학식 5-1 내지 5-5 중, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기일 수 있다. In formulas (5-1) to (5-5), R 1 and R 2 each independently may be hydrogen or a methyl group.
예시적인 실시예들에 따르면, 광경화성 조성물 총 중량 중 상기 다관능 티올 화합물의 함량은 약 0.1 내지 10중량%일 수 있으며, 바람직하게는 약 1 내지 5중량%일 수 있다. 상기 범위에서 조성물의 점도를 상승시키지 않으면서 노광 공정의 해상도 및 경화막의 경도를 향상시킬 수 있다.According to exemplary embodiments, the content of the polyfunctional thiol compound in the total weight of the photocurable composition may be about 0.1 to 10 wt%, and preferably about 1 to 5 wt%. The resolution of the exposure process and the hardness of the cured film can be improved without raising the viscosity of the composition within the above range.
일부 실시예들에 있어서, 상기 광경화성 조성물은 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 상술한 바와 같이, 카르복실산 함유 단량체를 통해 기재와의 웨팅성, 밀착성이 향상될 수 있다. 부가적으로 상기 계면활성제가 더 추가되어 조성물의 코팅 균일성, 경화막의 표면 균일성이 향상될 수 있다.In some embodiments, the photocurable composition may further comprise a surfactant. As described above, the wettability and adhesiveness with the base material can be improved through the carboxylic acid-containing monomer. In addition, the above surfactant may be further added to improve the coating uniformity of the composition and the surface uniformity of the cured film.
상기 계면활성제는 특별히 제한되지 않으며, 당해 기술분야에서 사용되는 비이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제 등을 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 계면 활성제는 광경화성 조성물 총 중량 중 약 0.01 내지 1중량%의 함량으로 포함될 수 있다.The surfactant is not particularly limited, and nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and the like used in the art can be used. For example, the surfactant may be included in an amount of about 0.01 to 1% by weight of the total weight of the photocurable composition.
한편, 광경화 막의 경화도, 평활도, 밀착성, 내용제성, 내화학성 등의 특성을 추가적으로 향상시키기 위해 산화 방지제, 레벨링제, 경화 촉진제, 자외선 흡수제, 응집 방지제, 연쇄 이동제 등의 첨가제들이 더 추가될 수도 있다.On the other hand, additives such as an antioxidant, a leveling agent, a curing accelerator, an ultraviolet absorber, an anti-aggregation agent and a chain transfer agent may be further added to further improve the properties such as hardenability, smoothness, adhesiveness, solvent resistance and chemical resistance have.
상술한 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 실질적으로 무용제(non-solvent 또는 solvent-free) 타입으로 제조될 수 있다. 또한, 상기 광경화성 조성물은 실질적으로 단량체들로 구성되며, 폴리머 또는 수지 성분은 포함하지 않을 수 있다. The photocurable compositions according to the exemplary embodiments of the present invention described above may be prepared in a substantially non-solvent or solvent-free type. In addition, the photocurable composition may be substantially composed of monomers, and may not include a polymer or a resin component.
따라서, 자체 점도가 낮은 알릴 에테르 화합물을 예를 들면, 희석제로서 사용하여 용제 없이도 코팅 공정이 가능한 저점도 조성물이 구현될 수 있다. 또한, (메타)아크릴레이트 화합물 및 상기 알릴 에테르 화합물 사이의 관능수 조합을 통해 저점도를 유지하면서 산소 저해를 억제할 수 있는 중합 반응성을 확보할 수 있다.Therefore, an allyl ether compound having a low self-viscosity can be used as a diluent, for example, and a low-viscosity composition capable of performing a coating process without a solvent can be realized. In addition, through the combination of the functional group between the (meth) acrylate compound and the allyl ether compound, it is possible to secure polymerization reactivity capable of suppressing oxygen inhibition while maintaining a low viscosity.
예시적인 실시예들에 따르면, 상기 광경화성 조성물의 점도는 상온(예를 들면, 25℃)에서 20cp 이하일 수 있으며, 바람직하게는 15cp 이하일 수 있다. According to exemplary embodiments, the viscosity of the photocurable composition may be 20 cP or less at room temperature (e.g., 25 캜), and preferably 15 cP or less.
본 발명의 실시예들에 따른 광경화성 조성물은 단량체들로 구성된 무용제 타입으로 제조될 수 있으므로, 예를 들면 용제의 휘발로 인한 함량/조성의 변동이 방지될 수 있다. 또한, 알릴 에테르 화합물을 희석제 및 반응제로서 함께 사용함으로써 저점도 및 원하는 경화도를 만족하며, 예를 들면 잉크젯 공정이 구현 가능한 고해상도 조성물이 제조될 수 있다.The photocurable composition according to the embodiments of the present invention can be produced as a solvent-free type composed of monomers, for example, fluctuations in the content / composition due to the volatilization of the solvent can be prevented. Further, by using an allyl ether compound together as a diluent and a reactive agent, a high-resolution composition that satisfies a low viscosity and a desired degree of curing and can realize, for example, an inkjet process can be produced.
<광경화 막 및 화상표시 장치><Photocuring Film and Image Display Device>
본 발명은 상술한 광경화성 조성물로부터 제조되는 광경화 막 및 상기 광경화 막을 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.The present invention provides a photocurable film produced from the above-mentioned photocurable composition and an image display device including the photocurable film.
상기 광경화 막은 화상 표시 장치의 각종 막 구조물 또는 패턴, 예를 들면 접착제층, 어레이 평탄화막, 보호막, 절연막 패턴 등으로 이용될 수 있고, 포토레지스트, 블랙 매트릭스, 컬럼 스페이서 패턴, 블랙 컬럼 스페이서 패턴 등으로 이용될 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The photocurable film can be used as various film structures or patterns of an image display apparatus such as an adhesive layer, an array planarizing film, a protective film, an insulating film pattern, and the like, and can be used as a photoresist, a black matrix, a column spacer pattern, But it is not limited thereto.
상기 광경화 막 형성에 있어, 상술한 광경화성 조성물을 기재 상에 도포하고 코팅막을 형성할 수 있다. 도포 방법으로는, 예를 들어 잉크젯 프린팅, 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤 스핀 코트 또는 슬릿 코트법 등을 들 수 있다. In the photocurable film formation, the above-described photocurable composition can be applied on a substrate to form a coating film. Examples of the application method include inkjet printing, spin coating, flexible coating, roll coating, slit-and-spin coating, and slit-coating.
이후, 노광 공정을 수행하여 광경화 막이 형성될 수 있으며, 노광 후 베이킹(post exposure baking: PEB) 공정이 더 수행될 수도 있다. 상기 노광 공정에 있어서, 고압수은램프의 UV-A영역(320~400nm), UV-B영역(280~320nm), UV-C영역(200~280nm) 등과 같은 자외선 광원이 사용될 수 있다. 필요에 따라 현상 공정이 더 수행되어 상기 광경화 막을 패턴화할 수도 있다.Thereafter, an exposure process may be performed to form a photocurable film, and a post exposure baking (PEB) process may be further performed. In the exposure process, an ultraviolet light source such as a UV-A region (320 to 400 nm), a UV-B region (280 to 320 nm) and a UV-C region (200 to 280 nm) of a high pressure mercury lamp may be used. A development process may be further performed as needed to pattern the photocurable film.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 광경화 조성물을 사용한 잉크젯 프린팅을 통해 OLED 장치에 포함되는 발광층의 인캡슐레이션 층을 형성할 수 있다.In exemplary embodiments, the encapsulation layer of the light emitting layer included in the OLED device can be formed through inkjet printing using the photocurable composition.
도 1, 도 2 및 도 3은 본 발명의 실시예들에 따른 광경화 막을 포함하는 화상 표시 장치를 나타내는 개략적인 단면도들이다. 예를 들면, 도 1 내지 도 3은 상기 광경화 막을 유기 발광 소자의 인캡슐레이션 층으로 활용한 화상 표시 장치를 도시하고 있다.FIGS. 1, 2 and 3 are schematic cross-sectional views showing an image display apparatus including a photocurable film according to embodiments of the present invention. For example, Figs. 1 to 3 illustrate an image display apparatus utilizing the photocurable film as an encapsulation layer of an organic light emitting element.
도 1을 참조하면, 상기 화상 표시 장치는 베이스 기판(100), 화소 정의막(110), 유기 발광 소자(120) 및 인캡슐레이션 층(140)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, the image display device may include a
베이스 기판(100)은 화상 표시 장치의 지지 기판 또는 백-플레인(back-plane) 기판으로 제공될 수 있다. 예를 들면, 베이스 기판(100)은 글래스 또는 플라스틱 기판일 수 있으며, 일부 실시예들에 있어서, 폴리이미드와 같은 유연성을 갖는 수지 물질을 포함할 수 있다. 이 경우, 상기 화상 표시 장치는 플렉시블 OLED 디스플레이로 제공될 수 있다.The
베이스 기판(100) 상에는 화소 정의막(110)이 형성되어 색상 또는 이미지가 구현되는 각 화소가 노출될 수 있다. 베이스 기판(100) 및 화소 정의막(110) 사이에는 박막 트랜지스터(TFT) 어레이가 형성될 수 있으며, 상기 TFT 어레이를 덮는 절연 구조물이 형성될 수 있다. 화소 정의막(110)은 상기 절연 구조물 상에 형성되며, 예를 들면 상기 절연 구조물을 관통하며 TFT와 전기적으로 연결되는 화소 전극(예를 들면, 양극(anode))을 노출시킬 수 있다.A
화소 정의막(110)에 의해 노출된 각 화소 영역에는 유기 발광 소자(120)가 형성될 수 있다. 유기 발광 소자(120)는 예를 들면, 순차적으로 적층된 상기 화소 전극, 유기 발광층 및 대향 전극을 포함할 수 있다.The organic
상기 유기 발광층은 적색, 녹색 및 청색 발광을 위한 당해 기술분야에 공지된 유기 발광물질을 포함할 수 있다. 상기 화소 전극 및 상기 유기 발광층 사이에는 정공 수송층(HTL)이 더 형성될 수 있으며, 상기 유기 발광층 및 상기 대향 전극 사이에는 전자 수송층(ETL)이 더 형성될 수 있다. 상기 대향 전극은 예를 들면, 음극(cathode)으로 제공될 수 있다. 상기 대향 전극은 각 화소 영역마다 패터닝될 수도 있으며, 복수의 유기 발광 소자들에 대한 공통 전극으로 제공될 수도 있다. 상기 유기 발광층 또는 유기 발광 소자(120)는 예를 들면, 잉크젯 프린팅 공정을 통해 형성될 수 있다.The organic light emitting layer may include organic light emitting materials known in the art for red, green, and blue light emission. A hole transport layer (HTL) may be further formed between the pixel electrode and the organic light emitting layer, and an electron transport layer (ETL) may be further formed between the organic light emitting layer and the counter electrode. The counter electrode may be provided, for example, as a cathode. The counter electrode may be patterned for each pixel region, or may be provided as a common electrode for a plurality of organic light emitting elements. The organic light emitting layer or the organic
인캡슐레이션 층(140)은 유기 발광 소자(120)를 커버하면서 화소 정의막(110)을 부분적으로 커버할 수 있다. 인캡슐레이션 층(140)은 예를 들면, 유기 발광 소자(120)의 수분 배리어 패턴으로 기능할 수 있다.The
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물을 사용하여 형성될 수 있다. 상술한 바와 같이, 상기 광경화성 조성물은 무용제 타입이면서, 잉크젯 프린팅이 가능한 저점도를 가질 수 있다. 예를 들면, 상기 광경화성 조성물은 약 20cp, 바람직하게는 약 15cp 이하의 점도를 가질 수 있다.Can be formed using the photocurable composition according to the exemplary embodiments of the present invention. As described above, the photo-curable composition is solvent-free and can have a low viscosity capable of ink-jet printing. For example, the photocurable composition may have a viscosity of about 20 cp, preferably about 15 cp or less.
도 1에 도시된 바와 같이, 인캡슐레이션 층(140)은 각 화소 마다 패터닝될 수 있으며, 상기 광경화성 조성물에 포함된 카르복실산 함유 단량체에 의해 향상된 웨팅성 및 밀착성으로 유기 발광 소자(120)를 커버할 수 있다. 또한, 알릴 에테르 화합물 및 (메타)아크릴레이트 화합물의 상호 작용을 통해 표면에서의 산소 저해를 방지하면서 향상된 경도를 갖는 인캡슐레이션 층(140)이 형성될 수 있다.1, the
인캡슐이션 층(140) 상에는 편광 필름, 터치 센서, 윈도우 기판 등과 같은 추가 구조물들이 적층될 수 있다.Additional structures such as a polarizing film, a touch sensor, a window substrate, and the like may be stacked on the
도 2를 참조하면, 인캡슐레이션 층(143)은 화소 정의막(110) 및 복수의 유기 발광 소자들(120)을 공통적으로 커버하는 필름 형태로 형성될 수 있다. Referring to FIG. 2, the
도 3을 참조하면, 상기 인캡슐레이션 층은 제1 인캡슐레이션 층(130) 및 제2 인캡슐레이션 층(145)을 포함하는 복층 구조를 가질 수 있다.Referring to FIG. 3, the encapsulation layer may have a multi-layer structure including a
제1 인캡슐레이션 층(130)은 예를 들면, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물 및/또는 실리콘 산질화물과 같은 무기 절연 물질로 형성될 수 있다. 제2 인캡슐레이션 층(145)은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 광경화성 조성물을 사용하여 형성될 수 있다. 따라서, 상기 인캡슐레이션 층은 유, 무기 하이브리드 필름 형태로 제공될 수 있다.The
제2 인캡슐레이션 층(145)이 무기 절연층 상에 형성되는 경우에도, 카르복실산 함유 단량체에 의해 향상된 웨팅성에 의해 잉크젯 프린팅 공정을 위한 코팅성이 확보될 수 있다.Even when the
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예들 및 비교예를 포함하는 실험예를 제시하나, 이들 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 첨부된 특허청구범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 실시예에 대한 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in order to facilitate understanding of the present invention. However, the present invention is not limited to the following claims, It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made in the embodiment within the scope of the category and the scope of the invention, and such variations and modifications are within the scope of the appended claims.
실시예 및 비교예Examples and Comparative Examples
하기 표 1 및 표 2에 기재된 성분 및 함량으로 실시예 및 비교예들에 따른 광경화성 조성물을 제조하였다.The photocurable compositions according to Examples and Comparative Examples were prepared by the components and contents shown in Tables 1 and 2 below.
화합물(A)Allyl ether
The compound (A)
(B)(Meth) acrylate compound
(B)
(C)The carboxylic acid-containing monomer
(C)
(D)Photoinitiator
(D)
(E)Initiator
(E)
(F)Surfactants
(F)
화합물(A)Allyl ether
The compound (A)
(B)(Meth) acrylate compound
(B)
(C)The carboxylic acid-containing monomer
(C)
(D)Photoinitiator
(D)
(E)Initiator
(E)
(F)Surfactants
(F)
A-1: 수산기 포함 3관능 알릴에테르 화합물A-1: Trifunctional allyl ether compound containing hydroxyl group
A-2: 4관능 알릴에테르 화합물A-2: tetrafunctional allyl ether compound
A-3: 단관능 알릴에테르 화합물(알릴 에틸 에테르)A-3: Monofunctional allyl ether compound (allyl ethyl ether)
A': 3관능 비닐 에테르 화합물A ': Trifunctional vinyl ether compound
B-1: 라우릴 아크릴레이트 (LA: (주)신-나카무라 화학공업 제조)B-1: Lauryl acrylate (LA: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B-2: 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 (A-TMPT: (주)신-나카무라 화학공업 제조)B-2: Trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B-3: 에톡시화 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(A-TMPT-3EO: (주)신-나카무라 화학공업 제조)B-3: Ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT-3 EO: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
B-4: 1,6-헥산디올 디아크릴레이트(A-HD-N: (주)신-나카무라 화학공업 제조)B-4: 1,6-hexanediol diacrylate (A-HD-N: Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
C-1: 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체C-1: Carboxylic acid-containing (meth) acrylate monomer
C-2: 카르복실산 함유 (메타)아크릴레이트 단량체C-2: Carboxylic acid-containing (meth) acrylate monomer
D-1: 옥심 에스테르계 화합물D-1: oxime ester compound
D-2: 옥심 에스테르계 화합물D-2: Oxime ester compound
E: 펜타에리스리톨 테트라키스[3-머캅토프로피오네이트](PEMP: (주)SC화학 제조)E: pentaerythritol tetrakis [3-mercaptopropionate] (PEMP: manufactured by SC Chemical Co., Ltd.)
F: SH8400 Fluid(Dow-Corning-Toray 제조)F: SH8400 Fluid (manufactured by Dow-Corning-Toray)
실험예Experimental Example
후술하는 평가 방법을 통해 표 1 및 표 2의 조성물들 또는 이들부터 형성된 코팅막, 광경화막의 점도, 코팅성, 연필경도 및 산소 저해를 평가하였다. 평가 결과는 하기의 표 3에 나타낸다The compositions of Table 1 and Table 2 or the coating film formed therefrom, the viscosity of the photocured film, the coating property, the pencil hardness and the oxygen inhibition were evaluated through the evaluation method described below. The evaluation results are shown in Table 3 below
(1) 점도 측정(1) Viscosity measurement
실시예 및 비교예들에 따른 각 조성물의 점도를 점도 측정기(DV3T, Brookfield사 제조)를 사용하여 측정하였다(측정조건: 회전수 20rpm/25℃)The viscosity of each composition according to Examples and Comparative Examples was measured using a viscosity meter (DV3T, manufactured by Brookfield) (measurement conditions: number of revolutions 20 rpm / 25 ° C)
(2) 코팅성 평가(2) Evaluation of Coating Property
50mm X 50mm으로 절단된 실리콘(Si) 웨이퍼 상에 실시예 및 비교예들에 따른 각 조성물을 스핀 코팅하여 3.0㎛ 두께가 되도록 코팅막을 형성하였다. 스핀 코팅 진행 후 5분간 방치하고 코팅막의 형상을 관찰하여 아래와 같이 코팅성을 평가하였다.Each composition according to Examples and Comparative Examples was spin-coated on a silicon (Si) wafer cut into 50 mm X 50 mm to form a coating film having a thickness of 3.0 탆. The coating was allowed to stand for 5 minutes after the spin coating, and the coating properties were evaluated as follows.
<코팅성 평가 기준>≪ Evaluation criteria of coating property &
○: 코팅막이 고르게 펴지고 표면 균일(도 4 참조)?: The coating film was evenly spread and the surface uniformity (see Fig. 4)
△: 조성물이 펴지긴 하나, 표면 불균일 육안으로 관찰(도 5 참조)DELTA: The composition is stretched but the surface is uneven Visually observed (see Fig. 5)
×: 표면 웨팅이 되지 않아 액말림이 발생하고 코팅막 실질적으로 형성되지 않음(도 6 참조)X: no surface wetting occurs and liquid curling occurs, and the coating film is not substantially formed (see Fig. 6)
한편, 도 4 내지 도 6은 코팅성의 평가기준을 설명하기 위한 참조 이미지이며, 본 실험예에서의 실시예 및 비교예들의 실제 실험 결과를 나타내는 이미지들로 사용된 것은 아니다.On the other hand, FIGS. 4 to 6 are reference images for explaining evaluation criteria of coating properties, and are not used as images showing actual experimental results of Examples and Comparative Examples in this Experimental Example.
(3) 연필 경도 측정(3) Pencil hardness measurement
코팅성 평가 시 형성된 코팅막들에 자외선 경화를 수행하여 광경화막을 형성하였다. 구체적으로, UV경화장치(Lichtzen사, Model No. LZ-UVC-F402-CMD)를 사용하여 150mW/㎠의 조도(UV-A영역 320~400nm기준)로 120초간 자외선을 조사하였다. 형성된 광경화막에 대해 연필 경도 측정기를 이용하여 연필 경도를 측정하였다. 구체적으로, 연필(미쓰비시 사 제조)을 광경화막에 접촉시킨 후, 1kg 하중 및 50mm/초의 속도로 표면을 긁어 표면 경도를 측정하였다. The coating films formed during the evaluation of coating properties were subjected to UV curing to form a photocurable film. Specifically, ultraviolet rays were irradiated for 120 seconds at an illuminance of 150 mW / cm 2 (in the UV-A region of 320 to 400 nm) using a UV curing apparatus (Lichtzen, Model No. LZ-UVC-F402-CMD). The pencil hardness of the formed light-cured film was measured using a pencil hardness tester. Specifically, after a pencil (manufactured by Mitsubishi) was brought into contact with the photocurable film, the surface was scratched with a load of 1 kg and a speed of 50 mm / sec to measure the surface hardness.
(4) 산소 저해 영향 평가(4) Evaluation of oxygen inhibition effect
실시예 및 비교예들의 조성물들을 스핀 코팅하여 3.0㎛ 두께가 되도록 코팅막을 형성하였다. 스핀 코팅 진행 후 5분간 방치 후에 UV 경화장치(Lichtzen사, Model No. LZ-UVC-F402-CMD)를 사용하여 150mW/㎠의 조도(UV-A영역 320~400nm기준)로 60초간 자외선을 조사하였다(질소 치환 미수행).The compositions of Examples and Comparative Examples were spin-coated to form a coating film having a thickness of 3.0 탆. After standing for 5 minutes after spin coating, ultraviolet rays were irradiated for 60 seconds at an illuminance of 150 mW / cm 2 (320-400 nm in UV-A range) using a UV curing device (Lichtzen, Model No. LZ-UVC-F402-CMD) (No nitrogen substitution).
형성된 광경화막의 표면을 금속제 도구를 이용하여 가볍게 긁은 후 도막 표면의 상태를 관찰하였다. 산소 저해의 영향을 받지 않는 조성물은 표면이 단단하게 경화되어 스크래치 또는 긁힘 자국이 남지 않으나, 산소 저해의 영향으로 표면 경화가 더디게 진행된 경우에는 끈적임이 남아 있는 미경화 부분에 자국이 잔류한다. 이를 통해, 산소 저해에 대한 영향성 여부를 아래와 같이 평가하였다.The surface of the formed photocured film was scratched lightly with a metal tool, and then the state of the surface of the coated film was observed. Compositions which are not affected by oxygen inhibition harden the surface hardly to leave scratches or scratched marks, but when the surface hardening progresses slowly due to the effect of oxygen inhibition, marks remain on the uncured portions remaining sticky. As a result, the influence of oxygen inhibition was evaluated as follows.
<산소 저해 영향 평가 기준><Evaluation Criteria for Oxygen Inhibition Effect>
×: 표면 경화로 인해 아무런 자국 미발생(도 7 참조)X: no marks occurred due to surface hardening (see FIG. 7)
○: 산소 저해로 인하여 무른 표면에 자국 발생(도 8 참조)○: Mark on the surface of the loose surface due to oxygen inhibition (see FIG. 8)
한편, 도 7 및 도 8은 산소 저해 영향을 판단하기 위한 평가기준을 예시적으로 설명하기 위한 참조 이미지이며, 본 실험예에서의 실시예 및 비교예들의 실제 실험 결과를 나타내는 이미지들로 사용된 것은 아니다.FIGS. 7 and 8 are reference images for illustrating an evaluation criterion for determining the oxygen inhibition effect, and are used as images showing actual experimental results of Examples and Comparative Examples in this Experimental Example no.
(미경화)Not measurable
(Uncured)
(미경화)Not measurable
(Uncured)
표 3을 참조하면, 2관능 이상의 알릴 에테르 화합물, (메타)아크릴레이트 화합물, 카르복실산 함유 단량체 및 광개시제를 포함한 실시예들의 경우, 전체적으로 저점도 특성을 만족하면서 비교예들보다 우수한 코팅성, 연필 경도를 획득하였으며, 산소 저해에 의해 큰 영향을 받지 않는 것으로 관찰되었다.As shown in Table 3, in the examples including the bifunctional or higher allyl ether compound, the (meth) acrylate compound, the carboxylic acid-containing monomer, and the photoinitiator, Hardness was obtained and it was observed that it was not greatly affected by oxygen inhibition.
알릴 에테르 화합물을 포함하지 않은 비교예 1의 경우, 점도가 20cp를 초과하였으며, 경도도 실시예들에 비해 감소되었다. 카르복실산 함유 단량체가 포함되지 않은 비교예 2의 경우, 웨팅성 부족으로 실질적으로 코팅막이 형성되지 않았다.In the case of Comparative Example 1 which did not contain the allyl ether compound, the viscosity exceeded 20 cp, and the hardness was also reduced as compared with the Examples. In the case of Comparative Example 2 in which the carboxylic acid-containing monomer was not included, a coating film was not substantially formed due to lack of wettability.
알릴 에테르 화합물 대신 비닐 에테르 화합물이 사용된 비교예 3 및 단관능 알릴 에테르 화합물이 사용된 비교예 4의 경우, 점도는 15cp 미만으로 감소되었으나, 조성물 희석 및 반응속도 지연이 지나치게 심화되어 실질적으로 경화된 코팅막을 얻을 수 없었다. In Comparative Example 3 in which a vinyl ether compound was used instead of an allyl ether compound and Comparative Example 4 in which a monofunctional allyl ether compound was used, the viscosity was reduced to less than 15 cp, but the dilution of the composition and the retardation of the reaction rate were excessively increased, A coating film could not be obtained.
실시예들에 있어서, 1관능 메타(아크릴레이트) 화합물이 단독으로 사용된 실시예 10, 2관능 메타(아크릴레이트) 화합물이 단독으로 사용된 실시예 11, 및 1관능 메타(아크릴레이트) 화합물 및 2관능 메타(아크릴레이트) 화합물이 함께 사용된 실시예 13의 경우 다른 실시예들에 비해 경도가 다소 저하되었다.In Examples, Example 10 in which the monofunctional meta (acrylate) compound was used alone, Example 11 in which the bifunctional meta (acrylate) compound was used alone, and Example 11 in which the monofunctional meta In Example 13 in which the bifunctional meta (acrylate) compound was used, the hardness was somewhat lower than in the other Examples.
한편, 3관능 메타(아크릴레이트) 화합물이 단독으로 사용된 실시예 12의 경우 점도는 다른 실시예들에 비해 다소 증가하였으나, 우수한 코팅성 및 경도 특성을 확보하였다.On the other hand, in Example 12 in which the trifunctional meta (acrylate) compound was used alone, the viscosity increased somewhat as compared with the other Examples, but excellent coating properties and hardness characteristics were secured.
100: 베이스 기판 110: 화소 정의막
120: 유기 발광 소자 130: 제1 인캡슐레이션 층
140, 143: 인캡슐레이션 층 145: 제2 인캡슐레이션 층100: base substrate 110: pixel defining film
120: organic light emitting device 130: first encapsulation layer
140, 143: encapsulation layer 145: second encapsulation layer
Claims (18)
1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물;
카르복실산 함유 단량체; 및
광개시제를 포함하며, 상온에서 20cp이하의 점도를 갖는, 광경화성 조성물.
Bifunctional allyl ether compounds;
1 to 3 functional (meth) acrylate compounds;
Carboxylic acid-containing monomers; And
A photoinitiator, and a viscosity of 20 cp or less at room temperature.
[화학식 1-1]
[화학식 1-2]
(화학식 1-2 중, R1은 수소, 탄소수 1 내지 3의 알킬 또는 히드록실기임)
[화학식 1-3]
The photocurable composition according to claim 1, wherein the bifunctional allyl ether compound comprises at least one selected from compounds represented by the following formulas (1-1) to (1-3):
[Formula 1-1]
[Formula 1-2]
(In the formula (1-2), R 1 is hydrogen, an alkyl having 1 to 3 carbon atoms, or a hydroxyl group)
[Formula 1-3]
[화학식 2-1]
[화학식 2-2]
[화학식 2-3]
[화학식 2-4]
[화학식 2-5]
(화학식 2-1 내지 2-5 중, R2는 각각 독립적으로 수소 또는 메틸기이고, R3은 탄소수 1 내지 20의 비고리형 또는 고리형 알킬기이고, R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기이고, R5는 수소, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 히드록실기 또는 탄소수 1 내지 3의 알콕시기이고,
m은 1 내지 10의 정수이고, n은 각각 독립적으로 1 내지 5의 정수임).
The photocurable composition according to claim 1, wherein the (meth) acrylate compound of the first to third functional groups comprises at least one selected from compounds represented by the following general formulas (2-1) to (2-5)
[Formula 2-1]
[Formula 2-2]
[Formula 2-3]
[Chemical Formula 2-4]
[Chemical Formula 2-5]
(In the formulas (2-1) to (2-5), R 2 is each independently hydrogen or a methyl group, R 3 is a non-cyclic or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, R 4 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms , R 5 is hydrogen, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a hydroxyl group or an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms,
m is an integer of 1 to 10, and n is independently an integer of 1 to 5).
The photocurable composition according to claim 1, wherein the (meth) acrylate compound of the first to third functional groups comprises two or more (meth) acrylate compounds having different functional numbers.
[5] The method of claim 4, wherein the (meth) acrylate compound is a combination of a monofunctional (meth) acrylate compound and a trifunctional (meth) acrylate compound, (Meth) acrylate compound. ≪ / RTI >
The photocurable composition according to claim 1, wherein the carboxylic acid-containing monomer comprises a monofunctional carboxylic acid-containing (meth) acrylate monomer.
[화학식 3]
(화학식 3 중, X는 탄소수 1 내지 3의 알킬렌, 시클로 헥실, 시클로 헥세닐, 또는 페닐기이고,
Ra 및 Rb는 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1 내지 3의 알킬기임).
7. The photocurable composition according to claim 6, wherein the carboxylic acid-containing monomer comprises a monomer represented by the following Formula 3:
(3)
(Wherein X is an alkylene, cyclohexyl, cyclohexenyl, or phenyl group having 1 to 3 carbon atoms,
R a and R b are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.
The photocurable composition of claim 1, wherein the photoinitiator comprises an oxime ester compound.
상기 2관능 이상 알릴 에테르 화합물 10 내지 50중량%;
상기 1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 화합물 40 내지 80중량%;
상기 카르복실산 함유 단량체 1 내지 5중량%; 및
상기 광개시제 1 내지 10중량%를 포함하는, 광경화성 조성물.
The composition according to claim 1,
10 to 50% by weight of the bifunctional or higher allyl ether compound;
40 to 80% by weight of the (meth) acrylate compound having 1 to 3 functional groups;
1 to 5% by weight of the carboxylic acid-containing monomer; And
And 1 to 10% by weight of the photoinitiator.
The photocurable composition of claim 1, further comprising a polyfunctional thiol compound.
The photocurable composition of claim 1, wherein the photocurable composition is produced in a solventless type.
The photocurable composition of claim 1, which does not comprise a polymer or resin component.
1 내지 3관능의 (메타)아크릴레이트 단량체;
카르복실산 함유 단량체; 및
광개시제를 포함하며, 폴리머 또는 수지 성분은 포함하지 않으며 화상표시장치의 인캡슐레이션 층 용도인, 광경화성 조성물.
Bifunctional allyl ether compounds;
1 to 3 functional (meth) acrylate monomers;
Carboxylic acid-containing monomers; And
A photo-curable composition comprising a photoinitiator, wherein the composition does not comprise a polymer or resin component and is an encapsulation layer of an image display.
14. The photocurable composition of claim 13, wherein the photocurable composition is made in a solventless type.
A photocurable film formed from the photocurable composition of any one of claims 1 to 14.
An image display device comprising a photocurable film formed from the photocurable composition according to any one of claims 1 to 14.
베이스 기판; 및
상기 베이스 기판 상에 배치된 유기 발광 소자들을 더 포함하며,
상기 광경화막은 상기 유기 발광 소자들의 인캡슐레이션 층으로 제공되는, 화상 표시 장치.18. The method of claim 16,
A base substrate; And
Further comprising organic light emitting devices disposed on the base substrate,
Wherein the photocurable film is provided as an encapsulation layer of the organic light emitting elements.
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