KR101786378B1 - 수직형 전해장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예는 연료전지의 분리판 등의 표면개질에 사용되는 전해과정 중 발생된 기포가 용이하게 배출되도록 구조를 개선한 수직형 전해장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 측면에 따른 수직형 전해장치는 내부에 전해액이 저장되며, 스트립이 수직으로 이동하도록 상, 하부에 개방부가 형성되되, 하부의 개방부는 내부에 저장된 전해액의 배출방지를 위해 상기 스트립과 대응되게 형성되는 전해조; 및 상기 전해조의 내부에 상기 스트립을 기준으로 양측으로 대향되게 배치되는 적어도 한 쌍의 전극부;를 포함한다.

Description

수직형 전해장치 {VERTICAL TYPE ELECTROYSIS APPARATUS}
본 발명은 연료전지용 분리판 등의 표면 개질 공정에 사용되는 수직형 전해장치에 관한 것이다.
일반적으로 연료전지는 수소와 산소의 전기화학반응에 의해 전기와 열에너지를 직접 생산하는 친환경 발전시스템으로, 약 1[V]내외의 전압을 발생시키는 연료전지 단위셀을 수십 내지 수백장 적층한 스택 구조로 제공된다.
이러한 연료전지는 다양한 분야에서 활용될 수 있으며, 최근에는 자동차용 연료로 사용하는 기술이 개발되어 사용되고 있다.
연료전지 단위셀은 전극과 전해질의 집합체로서, 수소이온을 공급하는 연료극(즉, 양극; ANODE)과 산소를 공급하는 공기극(즉, 음극; CATHOD) 및 연료극과 공기극 사이에서 수소전하 교환을 하는 전해질(ELECTROLYTE)로 구성된다.
연료전지 단위셀을 적층하기 위해서는 단위셀 사이에 분리판이 설치되며 이 분리판은 수소와 산소의 분리, 단위셀간 전기적 연결 및 스택의 강성을 유지하는 목적으로 사용된다.
분리판은 전기적으로 전도도가 높아야 하며 내부식성이 강해야 한다. 따라서 스테인리스 재질의 금속 분리판이 사용되며 주로 STS316재질에 전도도를 부여하기 위하여 금도금된 강판이 사용되고 있었다.
한편, 종래의 분리판은 금도금처리에 따른 비용이 증가하고 있으며, 이에 최근에는 고전도성 확보를 위한 부동태 피막제어 표면개질 기술이 개발되었으며, 이러한 기술은 금도금 공정을 생략함에 따라 가격경쟁력이 우수하다.
여기서, 부동태 피막제어 표면개질이란 스테인리스 표면에 산화층을 황산전해를 통해 제거한 후 질산과 불산 용액(혼산)에 통과시켜 전도성 피막을 재생하는 공정으로 금도금에 상응하는 전도도를 확보할 수 있다.
도 1은 일반적인 연료전지용 분리판의 표면개질 공정을 도시한 구성도로서, 표면 개질 장치(1)는 전도성이 요구되는 연료전지 분리판을 생산하기 위해 분리판의 몸체를 형성하는 스트립(S)을 연속적으로 공급하게 되며, 이를 위해 스트립(S)을 풀고, 감기 위한 권취기(POR: Pay Off Roll, TR; Tension Reel)(2, 5)이 구비된다.
또한, 표면 개질 장치(1)는 연속적으로 공급되는 스트립(S)을 전해장치(10)와, 세정장치(30), 혼산침지장치(50) 및 최종 세정장치(70)를 통과하게 되며, 각 과정을 거치는 과정에서 스트립(S)에 전도도를 부여할 수 있다.
한편, 도 2는 종래 기술에 따른 전해장치의 구성도이다. 도 2를 참고하면, 표면개질용 전해장치(10)는 황산 등의 전해액 등이 저장되는 전해조(12)를 포함하고, 내부에는 캐소드, 아노드, 캐소드의 순서로 이루어진 전극부(14)가 전해액에 침지되어 제공된다. 각각의 전극부(14)는 스트립(S)을 기준으로 상, 하로 배치된다. 또한, 전해조(12)에는 스트립(S)의 이동을 위한 침지롤(18)이 제공된다.
이러한 전해장치(10)는, 스트립(S)이 전극부(14)를 통과하는 과정에서, 캐소드 전극(15, 17)에는 수소기체가 발생하고, 캐소드 전극(15, 17)의 영향을 받는 스트립(S) 부위에서는 산소기체가 발생한다. 또한, 아노드 전극(16)의 표면에서는 산소기체가 발생하고, 아노드 전극(15)의 영향을 받는 스트립(S) 부위에서는 소수기체가 발생한다.
이와 같이, 전극부(14) 및 이에 영향을 받는 스트립(S) 부위에 발생하는 각 기체(G)는 전극부(14) 및 스트립(S) 부위에 기포(버블;buble)의 형태로 달라붙게 되며, 이러한 기포(G)는 전해반응을 저해하는 요인이 되고 있다.
특히, 스트립(S)의 상부에 형성되는 기포(G)는 쉽게 상승되어 탈락되나, 스트립(S) 하부에 형성되는 기포(G)는 스트립(S) 하부 표면에 달라붙은 상태에서 쉽게 탈락이 이루어지지 않는다.
이에 따라 종래의 전해장치(10)는 전해조(12)의 내부에 스트립(S) 하부 표면에 달라붙은 기포(G)를 제거하기 위한 노즐부(20)를 설치하고, 이 노즐부(20)를 이용하여 전해액을 고압으로 분사하여 기포(G)를 제거하고 있으나, 스트립(S)이 수평으로 이동함에 따라 스트립(S) 하부에 부착되는 기포(G)를 제거하는데 기술적인 한계가 있다.
본 발명의 일 실시예는 연료전지의 분리판 등으로 사용되는 스트립이 수직으로 이동하며 전해과정을 거치도록 하여, 전해과정에서 발생한 기포를 용이하게 배출할 수 있도록 한 수직형 전해장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 일 측면에 따른 수직형 전해장치는, 내부에 전해액이 저장되며, 스트립이 수직으로 이동하도록 상, 하부에 개방부가 형성되되, 하부의 개방부는 내부에 저장된 전해액의 배출방지를 위해 상기 스트립과 대응되게 형성되는 전해조; 및, 상기 전해조의 내부에 상기 스트립을 기준으로 양측으로 대향되게 배치되는 적어도 한 쌍의 전극부;를 포함하고,
상기 전해조는 한 쌍의 전극부 및 한 쌍의 노즐부가 독립적으로 수용되는 적어도 하나의 독립형 챔버를 포함하고, 상부에 위치한 독립형 챔버는 하부의 개방부에서 배출되는 전해액이 하부에 위치한 독립형 챔버에 저장된 전해액과 연결되도록 제공될 수 있다.
또한, 상기 전극부는 상하 방향을 따라서 복수 쌍이 배치되며, 상기 전극부는 상기 스트립이 진행하는 방향으로 캐소드전극 및 아노드 전극이 번갈아 배치될 수 있다.
또한, 상기 전해조는 상기 전극부 또는 상기 스트립의 표면으로 전해액을 분사하는 적어도 한 쌍의 노즐부를 더 포함할 수 있다.
바람직하게는, 상기 노즐부는 상기 전극부의 하부에 제공될 수 있다.
또한, 상기 전해조의 하부에 제공되어, 상기 전해조로부터 배출되는 전해액이 저장되는 메인탱크와, 상기 메인탱크에 저장된 전해액을 상기 전해조 또는 상기 노즐부로 공급하는 순환수단을 더 포함할 수 있다.
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또한, 상기 독립형 챔버는 하부면이 하부의 개방부 방향으로 하향 경사지게 형성될 수 있다.
또한, 상기 상부에 위치한 독립형 챔버와 상기 하부에 위치한 독립형 챔버 사이에는 기포가 배출되는 통로가 형성될 수 있다.
또한, 각각의 독립형 챔버는 넘치거나 상부로부터 떨어진 전해액을 저장하는 보조탱크와, 상기 보조탱크에 저장되는 전해액을 각각의 독립형 챔버 또는 상기 노즐부로 공급하는 보조 순환수단을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 스트립이 수직으로 이동하면서 전해공정이 이루어지므로, 전해공정 중 발생하는 기포가 스트립에 부착되는 것을 최소화할 수 있고, 이에 따라 기포에 의한 스트립의 표면 결함이 발생하는 것을 방지할 수 있어 품질 향상에 기여할 수 있다.
도 1은 일반적인 연료전지용 분리판의 표면개질 공정을 도시한 구성도.
도 2는 종래 기술에 따른 전해장치의 구성도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 전해장치의 구성도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 수직형 전해장치의 구성도.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수직형 전해장치의 구성도.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수직형 전해장치의 구성도.
이하, 본 발명의 일 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 본 발명의 실시형태는 여러 가지의 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시형태로만 한정되는 것은 아니다. 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있으며, 도면상의 동일한 부호로 표시되는 요소는 동일한 요소이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 전해장치의 구성도이다.
도 3을 참고하면, 본 실시예의 수직형 전해장치(110)는 연료전지의 분리판 등을 제조시 사용되는 표면 개질 공정에 활용되는 장치로, 표면 개질에 사용되는 스트립을 수직하게 통과하면서 전해하도록 한 장치이다.
이러한 수직형 전해장치(110)는 스트립(S)이 수직하게 공급될 수 있으며, 스트립(S)이 이동하는 과정에서 전해액에 침지된 상태를 유지하기 위한 전해조(112)를 포함할 수 있다. 또한, 전해조(112)에는 스트립이 수직으로 이동할 수 있도록 상, 하부에 개방부가 형성될 수 있다.
본 실시예에서 스트립(S)은 상부에서 하부로 공급될 수 있나, 스트립(S)의 공급방향은 한정되지 않으며 하부에서 상부로 공급되는 것도 가능하다.
본 실시예에서는 스트립(S)은 상부에서 하부로 공급되는 것으로 개시되어 있고, 이러한 구조는 스트립(S)의 전해과정에서 표면에서 기포가 발생하더라도, 기포가 상승이동함에 따라 스트립(S)의 이동방향과 역방향으로 됨에 따라 스트립(S)에 쉽게 달라붙지 않게 되는 장점이 있다.
또한, 본 실시예에서 스트립(S)은 상부에서 하부로 공급됨에 따라 전해조(112) 상부의 개방부는 투입구가 될 수 있고, 하부의 개방부는 배출구가 될 수 있다.
바람직하게는, 전해조(112)는 상부는 개방될 수 있으며, 외부 물질의 유입을 차단하기 위해 스트립(S)이 투입되는 투입구 및 가스 배출을 위한 가스배출홀을 갖는 (도시되지 않은) 커버가 장착되는 것도 가능하다.
또한, 전해조(112)는 수직으로 공급되는 스트립(S)이 하부로 배출될 수 있으며, 이를 위해 하부면(113)에는 스트립(S)이 배출되는 배출구(116)가 형성될 수 있다. 바람직하게는 전해조(112)의 하부면(113)에 형성되는 배출구(116)는 전해액의 수위 조절을 위해 스트립(S)이 배출되는 최소한의 크기로 형성될 수 있으며, 예컨대 스트립(S)의 폭방향으로 긴 슬롯 형태로 형성될 수 있다.
또한, 전해조(112)의 내부에는 수직으로 이동하는 스트립(S)을 기준으로 양측으로 대향되게 배치되는 적어도 한 쌍의 전극부(114)를 포함할 수 있다.
한편, 전극부(114)는 상하 방향을 따라서 복수 쌍이 배치될 수 있고, 전극부는 스트립(S)이 진행하는 방향으로 캐소드전극 및 아노드 전극이 번갈아 배치될 수 있다.
바람직하게는 본 실시예에서 전극부(114)는 스트립(S)이 진행하는 방향으로 캐소드 전극(115), 아노드 전극(116) 및 캐소드 전극(117)이 순차적으로 배치될 수 있다.
이러한 수직형 전해장치(110)는, 스트립(S)이 각 전극부(114)를 통과하는 과정에서, 캐소드 전극(115, 117)에는 수소기체가 발생하고, 캐소드 전극(115, 117)의 영향을 받는 스트립(S) 부위에서는 산소기체가 발생한다. 또한, 아노드 전극(116)의 표면에서는 산소기체가 발생하고, 아노드 전극(116)의 영향을 받는 스트립(S) 부위에서는 소수기체가 발생한다.
본 실시예에서 전극부(114)에 의해 발생되는 각 기포(G)는 스트립(S)이 수직하게 이동함에 따라 부력 등에 의해 상부로 이동되며 배출될 수 있다.
바람직하게는, 전해조(112)에는 전해과정에서 발생된 기포(G)가 전극부(114) 또는 스트립(S)으로부터 쉽게 탈락되고, 전극부(114) 또는 스트립(S)이 전해액과 더욱 원활하게 접촉할 수 있도록 전극부(114) 또는 스트립(S)의 표면으로 전해액을 분사하는 적어도 한 쌍의 노즐부(120)가 더 설치될 수 있다.
전해조(112)는 별도의 전해액 공급수단을 통해 전해액이 공급될 수 있으며, 이외에도 노즐을 통해 전해액이 공급되는 것도 가능하다.
한편, 본 실시예에서 전해조(112)는 하나의 챔버로 형성되고, 그 내부에 다수의 전극부(114) 및 노즐부(120)가 설치될 수 있으며, 성능 향상을 위해 다양한 형태로 변형되는 것도 물론 가능하다.
일례로, 전해조(112)는 한 쌍의 전극부(114) 및 한 쌍의 노즐부(120)가 독립적으로 수용되는 적어도 하나의 독립형 챔버(112a)를 포함할 수 있다.
이러한 전해조(112)는 상부에 위치한 독립형 챔버(112a)는 하부의 배출구(116)에서 배출되는 전해액이 하부에 위치한 다른 독립형 챔버(112a)에 저장된 전해액과 연결되도록 제공될 수 있다.
즉, 각각의 독립형 챔버(112a)에는 각각 한 쌍의 전극부(114) 및 한 쌍의 노즐부(120)가 독립적으로 제공되며, 배출구(116)에서 배출되는 전해액이 연속적으로 배출됨에 따라 다른 독립형 챔버(112a)에 저장된 전해액과 전기적으로 연결될 수 있다.
바람직하게는 본 실시예에서 독립형 챔버(112a)는 3개로 제공될 수 있고, 3개의 독립형 챔버(112a)에 제공되는 한 쌍의 전극부(114)는 스트립(S)이 진행하는 방향으로 캐소드 전극(115), 아노드 전극(116), 캐소드 전극(117)이 순차적으로 배치될 수 있다.
또한, 독립형 챔버(112a)는 하부면(113)이 배출구(116) 방향으로 하향 경사지게 형성될 수 있다.
이러한 독립형 챔버(112a)에서 하부면(113)은 하부에 위치한 다른 독립형 챔버(112a)에서 전해과정중 발생된 기포(G)가 유입되는 것을 차단할 수 있다.
또한, 하부에 위치한 다른 독립형 챔버(112a)에서 전해과정중 발생된 기포(G)는 상부의 독립형 챔버(112a) 하부면(113)을 따라 외측으로 배출될 수 있으며, 상부에 위치한 독립형 챔버(112a)와 하부에 위치한 독립형 챔버(112a) 사이에 형성되는 통로를 통해 기포(G)가 배출될 수 있다.
바람직하게는 독립형 챔버(112a)에서 하부면(113)은 하부에 위치되는 다른 독립형 챔버(112a)에 저장된 전해액의 수위보다 낮게 위치될 수 있으며, 이에 따라 상부의 독립형 챔버(112a)에서 배출되는 전해액이 하부에 위치한 독립형 챔버(112a)의 전해액과 연결된 상태를 유지할 수 있다.
또한, 각각의 독립형 챔버(112a)는 수직하게 배치된 상태에서 하부의 경사면에 의해 형성되는 틈이 통로의 역할을 할 수 있으며, 이에 하부에 위치한 독립형 챔버(112a)에서 발생된 기포(G)가 상승된 후 이 틈을 통해 배출될 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 수직형 전해장치의 구성도이다.
도 4를 참고하면, 본 실시예의 수직형 전해장치(110)는 전해조(112)에서 배출되는 전해액을 다시 순환하여 연속적으로 공급하도록 제공될 수 있다.
이를 위해, 전해조(112)의 하부에는 전해조(112)로부터 배출되는 전해액이 저장되는 메인탱크(130)가 설치될 수 있고, 이 메인탱크(130)에 저장된 전해액을 다시 전해조(112) 또는 노즐부로 공급하는 순환수단이 더 구비될 수 있다.
여기서, 순환수단은 메인탱크(130)와 전해조(112) 또는 노즐부를 연결하는 배관과, 이 배관으로 전해액을 공급하는 펌프 및 밸브를 포함할 수 있다.
또한, 메인탱크(130)에는 전해액에 침지되어 스트립(S)의 공급방향을 전환하는 다수의 침지롤(132)을 포함할 수 있다.
또한, 각각의 독립형 챔버(112a)는 개방된 상부를 통해 넘칠 수 있고, 이 외에도 상부에 위치한 다른 독립형 챔버(112a)에서 넘침 전해액이 흘러내릴 수 있다.
이와 같이, 각각의 독립형 챔버(112a)에서 흘러내린 전해액은 메인탱크(130)로 회수된 후 순환수단에 의해 다시 각각의 독립형 챔버(112a) 또는 노즐부(120)를 통해 분사되며 재순환될 수 있다.
순환수단은 독립형 챔버(112a) 또는 노즐부(120)를 연결하는 배관(P)과, 이 배관(P)으로 전해액을 공급하는 (도시되지 않은) 펌프 및 밸브를 포함할 수 있다.
바람직하게는 각각의 독립형 챔버(112a)에는 넘치거나 상부로부터 떨어진 전해 액을 저장하는 보조탱크(134)가 제공될 수 있다. 이러한 보조탱크(134)는 독립형 챔버(112a)의 상부 둘레에 형성될 수 있고, 이와 같이 보조탱크(134)에 저장된 전해액을 하부에 위치한 다른 독립형 챔버(112a) 또는 노즐부(120)호 공급할 수 있다.
이를 위해, 보조탱크(134)에는 저장된 전해액을 각각의 독립형 챔버(112a) 또는 노즐부(120)호 공급하는 보조 순환수단이 제공될 수 있다. 보조 순환수단은 순환수단과 동일한 구조로 제공될 수 있으며, 일례로 보조탱크(134)와 전해조(112) 또는 노즐부(120)를 연결하는 배관(P)과, 이 배관(P)으로 전해액을 공급하는 펌프 및 밸브를 포함할 수 있다.
바람직하게는 메인탱크(130)에 제공되는 순환수단은 최상부에 위치하는 독립형 챔버(112a) 및 그에 설치된 노즐부(120)호 전해액을 공급하도록 제공될 수 있고, 보조탱크(134)에 제공되는 순환수단은 최상부에 위치하는 독립형 챔버(112a)의 하부에 제공되는 다른 독립형 챔버(112a) 및 그에 설치되는 노즐부(120)호 전해액을 공급하도록 제공될 수 있다.
한편, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수직형 전해장치(210)의 구성도인 도 5를 참고하면, 본 실시예에서 전해조(212), 즉 각각의 독립형 챔버(212a)는 수직으로 배치되되 하향으로 경사진 하부 면을 갖는 것으로 설명하고 있으나, 독립형 챔버(212a)의 형태 및 배열구조는 이에 한정되지 않는다.
일례로, 본 실시예에서 독립형 챔버(212a)는 하부면(213)이 평면으로 제공되는 것도 가능하다.
또한, 독립형 챔버(212a)는 하부 면(213)에서 배출구(213a)가 갖도록 형성될 수 있다. 즉, 배출구(213a)는 하부 면(213)에서 하측으로 소정의 높이로 연장된 형태로 제공된 것으로, 이러한 배출구(213a)는 하부에 위치한 독립형 배출된 기포(G)가 상부의 독립형 유입되는 것을 차단할 수 있다.
또한, 하부에 위치하는 독립형 챔버(212a)는 상부에 위치하는 독립형 챔버(212a)의 하부 넓이 비해 더 넓게 형성될 수 있다. 즉, 하부에 위치하는 독립형 챔버(212a)의 상부 둘레는 상부에 위치하는 독립형 챔버(212a)의 하부 둘레보다 큰 둘레로 형성될 수 있으며, 이러한 구조에 따라 상부에 위치하는 독립형 챔버(212a)에서 전해액이 넘쳐 흘러내릴 경우, 하부에 위치한 독립형 챔버(212a)로 회수될 수 있다.
또한, 전해장치(210)는 각각의 독립형 챔버(212a)는 각각에 마련되는 한 쌍의 전극부(214) 및 이들 전극부(214) 또는 스트립(S)의 표면으로 전해액을 분사하는 노즐부(220)를 포함할 수 있다.
이와 같이 구성된 전해장치(210)는, 각각의 독립형 챔버(212a)에서 스트립(S)을 전해할 수 있고, 이 과정에서 스트립(S)이 수직으로 진행함에 따라 전극부(214) 및 스트립(S) 표면에 기포(G)가 부착되는 것을 억제할 수 있고, 다소간의 기포(G)가 부착되더라도 노즐부(220)에 의해 분사된 전해액에 의해 전극부(214) 및 스트립(S) 표면에 부착된 기포(G)를 효과적으로 탈락시킬 수 있다.
또한, 하부에 위치한 독립형 챔버(212a)에서 상승되며 배출된 기포(G)는 상부에 위치한 독립형 챔버(212a)의 하부면(213) 및 하부면(213)의 배출구(116) 주변에 돌출된 단턱부(214a)에 의해 상부의 독립형 챔버(212a)로 유입되지 않는다. 또한, 이러한 기포(G)는 하부의 독립형 챔버(212a)의 둘레가 상부의 독립형 챔버(212a)의 둘레 보다 크게 형성됨에 따라 발생하는 개방된 통로를 통해 외부로 배출될 수 있다.
또한, 도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 수직형 전해장치(310)의 구성도로서, 본 실시예에서 전해조(312), 즉 각각의 독립형 챔버(312a)의 하부면(313)은 배출구(313a)를 향하여 하향 경사지게 형성될 수 있고, 하부에 위치하는 독립형 챔버(312a)는 상부에 위치하는 독립형 챔버(312a)의 하부 넓이에 비해 더 넓게 형성되는 것도 가능하다.
이러한 구조는 독립형 챔버(312a)의 둘레에 별도의 보조탱크(334)가 설치되지 않더라도 상부에 위치하는 독립형 챔버(312a)에서 전해액이 넘쳐 흘러내릴 경우, 하부에 위치한 독립형 챔버(312a)로 회수될 수 있다.
또한, 전해장치(310)는 각각의 독립형 챔버(312a)는 각각에 마련되는 한 쌍의 전극부(314) 및 이들 전극부(314) 또는 스트립(S)의 표면으로 전해액을 분사하는 노즐부(320)를 포함할 수 있다.
이와 같이 구성된 전해장치(310)는, 각각의 독립형 챔버(312a)에서 스트립(S)을 전해할 수 있고, 이 과정에서 스트립(S)이 수직으로 진행함에 따라 전극부(314) 및 스트립(S) 표면에 기포(G)가 부착되는 것을 억제할 수 있고, 다소간의 기포(G)가 부착되더라도 노즐부(320)에 의해 분사된 전해액에 의해 전극부(314) 및 스트립(S) 표면에 부착된 기포(G)를 효과적으로 탈락시킬 수 있다.
또한, 하부에 위치한 독립형 챔버(312a)에서 상승되며 배출된 기포(G)는 상부에 위치한 독립형 챔버(312a)의 하부면(313)의 경사를 따라 상승되며 외곽으로 이동되어 상부의 독립형 챔버(312a)로 유입되지 않는다. 또한, 이러한 기포(G)는 하부의 독립형 챔버(312a)의 둘레가 상부의 독립형 챔버(312a)의 둘레 보다 크게 형성됨에 따라 발생하는 개방된 통로를 통해 외부로 배출될 수 있다.
본 발명은 상술한 실시형태 및 첨부된 도면에 의해 한정되지 아니하며, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에게 자명할 것이다.
110: 수직형 전해장치 112: 전해조
112a: 독립형 챔버 113: 하부면
113a: 배출구 114: 전극부
120: 노즐부 130: 메인탱크
134: 보조탱크

Claims (9)

  1. 내부에 전해액이 저장되며, 스트립이 수직으로 이동하도록 상, 하부에 개방부가 형성되되, 하부의 개방부는 내부에 저장된 전해액의 배출방지를 위해 상기 스트립과 대응되게 형성되는 전해조; 및, 상기 전해조의 내부에 상기 스트립을 기준으로 양측으로 대향되게 배치되는 적어도 한 쌍의 전극부;를 포함하고,
    상기 전해조는 한 쌍의 전극부 및 한 쌍의 노즐부가 독립적으로 수용되는 적어도 하나의 독립형 챔버를 포함하고, 상부에 위치한 독립형 챔버는 하부의 개방부에서 배출되는 전해액이 하부에 위치한 독립형 챔버에 저장된 전해액과 연결되도록 제공되는 수직형 전해장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 전극부는 상하 방향을 따라서 복수 쌍이 배치되며, 상기 전극부는 상기 스트립이 진행하는 방향으로 캐소드전극 및 아노드 전극이 번갈아 배치되는 수직형 전해장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 전해조는 상기 전극부 또는 상기 스트립의 표면으로 전해액을 분사하는 적어도 한 쌍의 노즐부를 더 포함하는 수직형 전해장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 노즐부는 상기 전극부의 하부에 제공되는 수직형 전해장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 전해조의 하부에 제공되어, 상기 전해조로부터 배출되는 전해액이 저장되는 메인탱크와,
    상기 메인탱크에 저장된 전해액을 상기 전해조 또는 상기 노즐부로 공급하는 순환수단을 더 포함하는 수직형 전해장치.
  6. 삭제
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 독립형 챔버는 하부면이 하부의 개방부 방향으로 하향 경사지게 형성되는 수직형 전해장치.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 상부에 위치한 독립형 챔버와 상기 하부에 위치한 독립형 챔버 사이에는 기포가 배출되는 통로가 형성되는 수직형 전해장치.
  9. 청구항 1에 있어서,
    각각의 독립형 챔버는 넘치거나 상부로부터 떨어진 전해액을 저장하는 보조탱크와,
    상기 보조탱크에 저장되는 전해액을 각각의 독립형 챔버 또는 상기 노즐부로 공급하는 보조 순환수단을 더 포함하는 수직형 전해장치.
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