KR101786360B1 - 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법 - Google Patents

저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법 Download PDF

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신주현
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Abstract

본 발명은 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 천연소재의 표면에 유리전이온도가 낮은 고분자 수지를 코팅시킨 후 특정 온도 및 특정 압력조건에서 저온 엠보싱 처리함으로써 천연소재가 가진 특유의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제하여 고급스러움과 심미성을 향상시키는 동시에 대면적화 및 대량생산이 가능하며, 이를 이용하여 자동차의 내외장재, 핸드폰 및 노트북 케이스, 가전제품 등에 적용 가능한 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법에 관한 것이다.

Description

저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법{METHOD OF DUPLICATING TEXTURE AND PATTERN OF NATURAL MATERIAL USING LOW TEMPERATURE EMBOSSING PROCESS}
본 발명은 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 천연소재의 표면에 유리전이온도가 낮은 고분자 수지를 코팅시킨 후 특정 온도 및 특정 압력조건에서 저온 엠보싱 처리함으로써 천연소재가 가진 특유의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제하여 고급스러움과 심미성을 향상시키는 동시에 대면적화 및 대량생산이 가능하며, 이를 이용하여 자동차의 내외장재, 핸드폰 및 노트북 케이스, 가전제품 등에 적용 가능한 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법에 관한 것이다.
자동차의 보급이 활발해지면서, 대부분의 사람들이 개인적으로 자동차를 보유함에 따라 자동차 자체가 개인적인 공간의 일부로 여겨지기 시작하고 있다. 이로 인해 자동차 내외장재를 비롯한 다양한 가전제품의 케이스에 친환경 또는 천연소재를 적용하거나, 천연소재가 갖는 패턴을 인공적으로 적용하여 고급스러움과 심미성을 부여하는 기술이 주목 받고 있다.
그 중에서도 자동차 시트 또는 대쉬 보드와 같이 실제 사용자가 많이 접촉하는 부품에 대해 실제 해외의 유명한 자동차 브랜드인 BMW, SAAB, Toyota, Mitsubishi, Honda, GM, GMC 등에서는 이미 이러한 고객의 니즈(needs)에 맞추어 자동차 내부를 마치 집안의 인테리어를 다루듯이 천연소재를 이용하여 고급스럽게 제작하는 추세이다.
그러나 이러한 자동차 내장재에 적용된 천연소재는 그 소재가 특유의 패턴 또는 질감으로 세련된 형태의 인테리어로 이용될 수 있으나, 제조원가가 많이 드는 문제가 있다. 또한 천연소재가 갖는 패턴을 인공적으로 제작하는 것은 천연소재 특유의 패턴과 느낌을 일부 비슷하게 구현할 수는 있으나, 질감 등의 특성을 완벽하게 복제하는 것은 한계가 있다.
종래 한국공개특허 제2015-0017845호에서는 차량의 내부 구조물이나 장식품으로 사용되는 내장재에 천연소재 시트를 적용한 차량용 천연소재 내장재에 관해 개시되어 있으나, 제조원가가 많이 드는 문제가 있다.
따라서 가전제품의 케이스, 자동차 내외장재 등에 다양한 천연소재 특유의 미세한 패턴이나 질감을 그대로 구현하여 고급스러움과 심미성을 높이는 동시에 제조원가를 크게 절감할 수 있는 기술개발이 필요하다.
한국공개특허 제2015-0017845호
상기와 같은 문제 해결을 위하여, 본 발명은 천연소재의 표면에 유리전이온도가 낮은 고분자 수지를 코팅시킨 후 특정 온도 및 특정 압력조건에서 저온 엠보싱 처리함으로써 천연소재가 가진 특유의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제하여 고급스러움과 심미성을 향상시키는 동시에 대면적화 및 대량생산이 가능하다는 사실을 알게 되어 발명을 완성하였다.
따라서 본 발명의 목적은 천연소재가 가진 특유의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제할 수 있는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법을 제공하는데 있다.
본 발명은 (a) 천연소재 상에 유리전이온도가 80~90 ℃인 제1 고분자 수지를 코팅하여 제1 고분자 수지 필름을 형성하는 단계; (b) 상기 제1 고분자 필름이 형성된 천연소재를 제1 저온 엠보싱 처리하여 상기 제1 고분자 필름에 상기 천연소재의 질감 및 패턴을 복제하는 단계; (c) 상기 천연소재 및 상기 제1 고분자 필름을 분리하는 단계; 및 (d) 상기 질감 및 패턴이 복제된 제1 고분자 필름 상에 금속을 전기도금하여 상기 제1 고분자 필름의 질감 및 패턴이 복제된 금속 몰드를 형성하는 단계;를 포함하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법을 제공한다.
본 발명에 따른 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법은 천연소재의 표면에 유리전이온도가 낮은 고분자 수지를 코팅시킨 후 특정 온도 및 특정 압력조건에서 저온 엠보싱 처리함으로써 천연소재가 가진 특유의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제할 수 있으며, 대면적화 및 대량 생산이 가능한 이점이 있다.
또한, 천연소재의 질감 및 패턴을 그대로 복제함으로써 고급스러움과 심미성을 향상시키며, 이러한 복제방법을 이용하여 자동차의 내외장재, 핸드폰 및 노트북 케이스, 가전제품 등에 널리 적용 가능한 이점이 있다.
또한, 이를 이용하는 사용자가 촉각적으로나 시각적으로 원래의 천연소재와 매우 흡사하다는 느낌을 가지게 하며, 제조원가를 크게 절감할 수 있다.
또한, 복제한 고분자 필름을 이용하여 롤투롤 방식 공정에 의해 스탬프를 제작하여 대량 생산이 가능한 이점이 있다.
도 1은 본 발명에 따른 저온 엠보싱 공정의 온도 및 압력 조건 사이클을 보여주는 그래프이다.
도 2는 본 발명에 따른 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴을 복제하는 방법을 개략적으로 도식화한 것이다.
도 3은 천연실크와 본 발명의 실시예 1 및 비교예 1, 2에서 제조된 천연실크의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 SEM 사진이다.
도 4는 비단옷감과 본 발명의 실시예 2에서 제조된 비단옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 디지털 사진 및 SEM 사진이다.
도 5는 가죽옷감과 본 발명의 실시예 3에서 제조된 가죽옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 디지털 사진 및 SEM 사진이다.
도 6은 본 발명의 실시예 4에서 제조된 3차원 지붕 모양 형상의 천연소재의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 사진이다.
이하에서는 본 발명을 하나의 실시예로 더욱 상세하게 설명한다.
본 발명의 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법은 (a) 천연소재 상에 유리전이온도가 80~90 ℃인 제1 고분자 수지를 코팅하여 제1 고분자 수지 필름을 형성하는 단계; (b) 상기 제1 고분자 필름이 형성된 천연소재를 제1 저온 엠보싱 처리하여 상기 제1 고분자 필름에 상기 천연소재의 질감 및 패턴을 복제하는 단계; (c) 상기 천연소재 및 상기 제1 고분자 필름을 분리하는 단계; 및 (d) 상기 질감 및 패턴이 복제된 제1 고분자 필름 상에 금속을 전기도금하여 상기 제1 고분자 필름의 질감 및 패턴이 복제된 금속 몰드를 형성하는 단계;를 포함한다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 천연소재는 1차원, 2차원 또는 3차원 형상인 것을 사용할 수 있다. 구체적으로 상기 천연소재는 섬유의 직물, 가죽, 나무, 식물, 곤충 및 광물로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 다양한 형상의 천연소재를 적용할 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 제1 고분자 수지는 유리전이온도(Tg)가 80~90 ℃인 액상 형태의 고분자 수지를 사용할 수 있는데, 유리전이온도가 80 ℃ 보다 미만이거나, 90 ℃ 보다 초과이면, 도 3에서 확인할 수 있듯이, 천연소재의 표면 질감과 패턴에 손상이 생겨서 복제가 제대로 되지 않는 문제가 있다. 바람직하게는 상기 제1 고분자 수지는 유리전이온도가 87 ℃인 폴리비닐클로라이드인 것을 사용할 수 있다. 상기 폴리비닐클로라이드는 저온에서도 천연소재의 질감 및 패턴을 그대로 복제할 수 있으며, 약 80 ℃의 낮은 온도에서 패턴 복제율이 매우 우수하며, 제조원가가 저렴한 이점이 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 (b) 단계에서 제1 저온 엠보싱 처리는 76~84 ℃의 온도 및 9.5~10.5 atm의 압력 조건에서 수행될 수 있다. 상기 제1 저온 엠보싱 처리는 상기 제1 고분자 필름을 열 또는 자외선에 의해 76~84 ℃의 온도로 가열하고, 9.5~10.5 atm의 압력에서 가압하는 방식으로 수행될 수 있다. 이때 온도가 76 ℃ 보다 미만이면 천연소재의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제하는 것이 어렵고, 84 ℃ 보다 높으면 천연소재 자체가 열에 의해 질감과 미세패턴이 손상될 수 있다. 또한 압력이 9.5 atm 보다 미만이면 질감 및 미세 패턴 복제가 어렵고, 10.5 atm 보다 초과이면 질감 및 미세패턴에 손상을 입힐 수 있다. 상기 (b) 단계에서 이러한 제1 저온 엠보싱 처리로 인해 제1 고분자 필름에 상기 천연소재의 질감 및 패턴이 나노 단위의 구조까지 정교하게 복제될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 저온 엠보싱 공정의 온도 및 압력 조건 사이클을 보여주는 그래프이다. 상기 도 1은 천연소재를 손상시키지 않으면서도 천연소재의 질감과 패턴을 그대로 복제하기 위한 저온 엠보싱 공정의 온도 및 압력 사이클 조건을 보여준다. 구체적으로 저온 엠보싱 공정의 초기 가열(Heating) 공정을 통해 온도를 80±4 ℃로 상승시킨 후, 프레스(Press) 공정을 통해 압력을 10±0.5 atm 조건까지 상승시켜 최적화된 온도 및 압력 조건하에서 패턴 복제가 진행됨을 보여준다. 또한 패턴 복제가 진행되는 동안 서서히 온도를 떨어뜨리면서 냉각(Cooling) 공정으로 진행되고, 상기 냉각 공정이 끝난 후에는 압력이 저하되어 최종적으로 질감 및 패턴 복제가 완료되는 온도 및 압력 사이클 조건을 보여준다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 (c) 단계에서는 76~84 ℃의 온도에서 상온까지 서서히 냉각시킨 후 상기 천연소재 및 상기 제1 고분자 수지를 분리할 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 (d) 단계에서는 상기 질감 및 패턴이 복제된 제1 고분자 필름 상에 금속을 전기도금하여 금속 몰드를 형성할 수 있으며, 이렇게 형성된 금속 몰드는 재사용이 가능하며, 대면적화 및 대량생산할 수 있다. 또한, 상기 복제한 제1 고분자 필름을 이용하여 롤투롤(roll-to-roll) 방식 공정에 의해 스탬프를 제작하여 대량 생산할 수 있다. 일반적인 롤투롤 방식 공정은 천연소재의 패턴을 복제한 후 도금 공정을 거쳐 금속 박만을 만들고, 롤러에 감는 방식이다. 본 발명에서는 롤러 표면에 고분자를 코팅하고, 그 위에 천연소재를 적층한 후 이를 저온 엠보싱 처리하여 천연소재의 질감 및 패턴을 복제할 수 있다. 그 다음 식각 공정을 거쳐 잔여층을 제거하며, 여기에 도금 공정을 하여 롤러 자체의 천연소재의 질감 및 패턴을 형성하는 방식으로 적용할 수 있다. 이때 금속은 경도 및 밀도가 높은 금속 소재로 니켈 금속을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, (e) 상기 (d) 단계 이후에 상기 금속 몰드 상에 제2 고분자 수지를 코팅하여 제2 고분자 필름을 형성하는 단계; (f) 상기 제2 고분자 필름이 형성된 금속 몰드를 제2 저온 엠보싱 처리하여 상기 제2 고분자 필름에 상기 금속 몰드의 질감 및 패턴을 복제하는 단계; 및 (g) 상기 질감 및 패턴이 복제된 제2 고분자 필름에 착색제를 도포하는 단계;를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 제2 고분자 수지는 폴리비닐클로라이드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리스티렌 및 폴리이미드로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 (f) 단계에서 제2 저온 엠보싱 처리는 상기 (b) 단계의 제1 저온 엠보싱 처리와 동일한 76~84 ℃의 온도 및 9.5~10.5 atm의 압력 조건에서 수행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 바람직한 구현예에 의하면, 상기 (g) 단계에서는 질감 및 패턴이 복제된 제2 고분자 수지에 착색제를 도포하여 심미성이 우수한 색감 구현을 가능하게 할 수 있다.
도 2는 본 발명에 따른 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴을 복제하는 방법을 개략적으로 도식화한 것이다.
따라서 본 발명의 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법은 천연소재의 표면에 유리전이온도가 낮은 고분자 수지를 코팅시킨 후 특정 온도 및 특정 압력조건에서 저온 엠보싱 처리함으로써 천연소재가 가진 특유의 질감 및 미세 패턴을 그대로 복제할 수 있으며, 대면적화 및 대량 생산이 가능한 이점이 있다.
또한, 천연소재의 질감 및 패턴을 그대로 복제함으로써 고급스러움과 심미성을 향상시키며, 이러한 복제방법을 이용하여 자동차의 내외장재, 핸드폰 및 노트북 케이스, 가전제품 등에 널리 적용 가능한 이점이 있다.
또한, 이를 이용하는 사용자가 촉각적으로나 시각적으로 원래의 천연소재와 매우 흡사하다는 느낌을 가지게 하며, 제조원가를 크게 절감할 수 있다.
또한, 복제한 고분자 필름을 이용하여 롤투롤 방식 공정에 의해 스탬프를 제작하여 대량 생산이 가능한 이점이 있다.
이하 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 구체적으로 설명하겠는 바, 본 발명이 다음 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
천연소재로 천연실크를 준비하였다. 그 다음 천연실크 상에 액상 형상의 폴리비닐클로라이드 수지를 1 mm 두께로 코팅하여 폴리비닐클로라이드 필름을 형성하였다. 그런 다음 후 80 ℃의 온도 및 10 atm의 압력 조건에서 제1 저온 엠보싱 처리하여 상기 폴리비닐클로라이드 필름에 상기 천연실크의 질감 및 패턴을 복제하였다. 그 다음 80 ℃의 온도에서 상온까지 냉각시킨 후 상기 천연실크와 폴리비닐클로라이드 필름을 분리하였다. 분리된 수지에 니켈 금속으로 전기도금하여 천연실크의 질감 및 패턴이 복제된 금속 몰드를 형성하였다. 그 다음 상기 금속 몰드에 폴리비닐클로라이드 수지를 1 mm의 두께로 코팅하여 폴리비닐클로라이드 필름을 형성하고 80 ℃의 온도 및 10 atm의 압력 조건에서 제2 저온 엠보싱 처리하여 천연실크의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름을 제조하였다.
실시예 2
천연소재로 비단옷감을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 비단옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름을 제조하였다.
실시예 3
천연소재로 가죽옷감을 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 가죽옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름을 제조하였다.
실시예 4
실제 적용 가능성을 확인하기 위하여 3차원 지붕 모양 형상의 금속 지그를 제작하여 3차원 형상의 천연소재를 사용한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하였다. 구체적으로 가로 7 cm, 높이 1.5 cm의 3차원 지붕모양 금속 지그를 제작하였고, 이 위에 천연실크를 덮은 후 도 1의 저온 엠보싱 공정으로 폴리비닐클로라이드 필름에 질감 및 패턴 복제를 수행하였다. 이때, 천연실크는 4가지의 각각 다른 패턴을 가지는 실크를 사용하였다.
비교예 1
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리비닐클로라이드 필름에 천연실크의 질감 및 패턴을 복제하되, 제1 저온 엠보싱 처리온도를 70 ℃의 온도에서 수행한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 제조하였다.
비교예 2
상기 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리비닐클로라이드 필름에 천연실크의 질감 및 패턴을 복제하되, 제1 저온 엠보싱 처리온도를 90 ℃의 온도에서 수행한 것을 제외하고, 상기 실시예 1과 동일하게 제조하였다.
실험예 1
천연실크와 상기 실시예 1 및 비교예 1, 2에서 제조된 천연실크의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 표면을 비교 확인하기 위해 SEM 측정을 하였으며, 그 결과는 도 3에 나타내었다.
도 3은 천연실크와 상기 실시예 1 및 비교예 1, 2에서 제조된 천연실크의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 SEM 사진이다. 상기 도 3에 의하면, 제1 저온 엠보싱 처리온도가 80 ℃인 실시예 1에서 천연실크의 손상이 없으면서도, 상기 비교예 1(70 ℃) 및 비교예 2(90 ℃)에 비해 가장 우수한 패턴 복제율을 가짐을 확인할 수 있었다.
실험예 2
상기 실시예 2, 3에서 제조된 비단옷감과 가죽옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 표면을 디지털 사진과 SEM 측정으로 확인하였으며, 그 결과는 도 4, 5에 나타내었다.
도 4는 비단옷감과 상기 실시예 2에서 제조된 비단옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 디지털 사진 및 SEM 사진이다. 상기 도 4의 (a), (b)는 비단옷감의 디지털 사진 및 SEM 사진이고, (c), (d)는 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 디지털 사진 및 SEM 사진이다. 상기 도 4의 결과에 의하면, 비단옷감의 무늬 뿐만아니라 미세 패턴까지 완벽하게 복제된 것을 확인할 수 있었다.
도 5는 가죽옷감과 상기 실시예 3에서 제조된 가죽옷감의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 디지털 사진 및 SEM 사진이다. 상기 도 5의 (a), (b)는 가죽옷감의 디지털 사진 및 SEM 사진이고, (c), (d)는 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 디지털 사진 및 SEM 사진이다. 상기 도 5의 결과에 의하면, 가죽옷감의 질감과 표면의 미세 패턴이 거의 완벽하게 복제된 것을 알 수 있었다.
실험예 3
상기 실시예 4에서 제조된 3차원 지붕 모양 형상으로 제작된 천연 소재의 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름을 디지털 사진으로 확인하였으며, 그 결과는 도 6에 나타내었다.
도 6은 상기 실시예 4에서 제조된 3차원 지붕 모양 형상의 천연 소재의 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름의 사진이다. 상기 도 6의 (a), (b), (c) 및 (d)를 살펴보면, 지붕 모양 형상을 통해 완만한 구배와 급격한 구배 모두에서 각각 다른 천연실크의 패턴 및 질감이 그대로 복제되었음을 확인하였다. 이를 통해 3차원 형상의 다양한 천연소재의 질감 및 패턴 복제가 가능함을 확인할 수 있었다.

Claims (8)

  1. (a) 전처리를 실시하지 않은 천연소재 상에 유리전이온도가 87 ℃인 폴리비닐클로라이드를 코팅하여 폴리비닐클로라이드 필름을 형성하는 단계;
    (b) 상기 폴리비닐클로라이드 필름이 형성된 천연소재를 76~84 ℃의 온도 및 9.5~10.5 atm의 압력 조건에서 제1 저온 엠보싱 처리하여 상기 폴리비닐클로라이드 필름에 상기 천연소재의 질감 및 패턴을 복제하는 단계;
    (c) 상기 천연소재 및 상기 폴리비닐클로라이드 필름을 분리하는 단계; 및
    (d) 상기 질감 및 패턴이 복제된 폴리비닐클로라이드 필름 상에 금속을 전기도금하여 상기 폴리비닐클로라이드 필름의 질감 및 패턴이 복제된 금속 몰드를 형성하는 단계;
    를 포함하고,
    상기 천연소재는 섬유의 직물, 가죽, 나무, 식물 및 곤충으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 천연소재는 1차원, 2차원 또는 3차원 형상인 것을 특징으로 하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서,
    상기 (c) 단계에서는 76~84 ℃의 온도에서 상온까지 냉각시킨 후 상기 천연소재 및 상기 폴리비닐클로라이드 필름을 분리하는 것을 특징으로 하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법.
  6. 제1항에 있어서,
    (e) 상기 (d) 단계 이후에 상기 금속 몰드 상에 제2 고분자 수지를 코팅하여 제2 고분자 필름을 형성하는 단계;
    (f) 상기 제2 고분자 필름이 형성된 금속 몰드를 제2 저온 엠보싱 처리하여 상기 제2 고분자 필름에 상기 금속 몰드의 질감 및 패턴을 복제하는 단계; 및
    (g) 상기 질감 및 패턴이 복제된 제2 고분자 필름에 착색제를 도포하는 단계;
    를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제2 고분자 수지는 폴리비닐클로라이드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리카보네이트, 폴리스티렌 및 폴리이미드로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 (f) 단계에서 제2 저온 엠보싱 처리는 76~84 ℃의 온도 및 9.5~10.5 atm의 압력 조건에서 수행되는 것을 특징으로 하는 저온 엠보싱 공정을 이용한 천연소재의 질감 및 패턴 복제방법.
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