KR101717259B1 - Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof - Google Patents

Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
KR101717259B1
KR101717259B1 KR1020160006240A KR20160006240A KR101717259B1 KR 101717259 B1 KR101717259 B1 KR 101717259B1 KR 1020160006240 A KR1020160006240 A KR 1020160006240A KR 20160006240 A KR20160006240 A KR 20160006240A KR 101717259 B1 KR101717259 B1 KR 101717259B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mixture
glass
weight
catalyst
agent
Prior art date
Application number
KR1020160006240A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
이삼수
이기홍
윤의현
Original Assignee
주식회사 가인공영
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 가인공영 filed Critical 주식회사 가인공영
Priority to KR1020160006240A priority Critical patent/KR101717259B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101717259B1 publication Critical patent/KR101717259B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C15/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • C09K13/06Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid with organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • C09K13/08Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid containing a fluorine compound

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

The present invention relates to an etchant composition for producing a diffuse reflection glass, and a production method thereof. The etchant composition for producing a diffuse reflection glass comprises: a water; a first and a second corrosive agent; a seed agent; an adhesive; a first and a second catalyst; a coagulant; a pH regulating agent; and a moisture regain regulating agent. In addition, the production method is not used an existing precipitation method and an immersion method at all by properly adjusting a content of each component and can significantly improve a light diffusing effect and an anti-glare effect by irregularly reflect light due to a plurality of curved projections when the light is projected onto a glass, through forming the plurality of curved projections by processing a glass surface due to a simple application process.

Description

난반사 유리 제조용 에칭액 조성물 및 그 제조방법{ETCHANT COMPOSITION FOR PRODUCING ANTI GLARE GLASS, MANUFACTURING METHOD THEREOF}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to an etching solution composition for producing a diffusive glass,

본 발명은 인쇄만으로 난반사 유리의 제조가 가능하게 하는 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 침전방식을 사용하지 않고 롤러 방식 등으로 난반사 유리를 제조하되, 수소불화나트륨의 SiO2 용융 작용 및 질산의 금속성 불순물 용해 작용을 통해 씨드제인 염화제이철 위에 곡면을 가지는 복수의 돌기가 일정 간격으로 형성되도록 하여, 고투명성을 가지면서도 빛 확산 및 눈부심 방지 효과가 크게 향상된 고품질의 난반사 유리를 제조할 수 있도록 한 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to an etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass which enables the production of diffusely reflecting glass by printing only, and more particularly to a method of producing a diffusely reflecting glass by a roller method or the like without using a precipitation method, SiO 2 Through the melting action and the dissolution of metallic impurities of nitric acid, a plurality of projections having a curved surface are formed at regular intervals on the ferric chloride, which is a seed agent, to produce a high-quality diffused glass having a high transparency and greatly improved light diffusing and anti- To an etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass and a method for producing the same.

일반적으로 산업용 또는 인테리어용으로 사용되는 유리의 표면 처리는 침지 또는 침전 방식(deeping)으로 진행된다. 이 중 침전 방식은 판 유리 두 장을 겹치고 겹친 부분 사이로 약품이 침투하지 못하도록 테이프로 밀봉 작업을 하고, 이 유리를 부식 용액이 담겨 있는 탱크에 크레인을 이용하여 담근 후, 적정한 시간이 지나면 건져내서 세척을 하는 과정을 2~3회 반복하며, 이후 재세척을 하고 건조하여 표면 처리된 유리를 생산하는 방식이다.In general, the surface treatment of glass used for industrial or interior use proceeds by immersion or deepening. In the sedimentation method, two sheets of plate glass are overlapped, and a tape sealing process is performed to prevent chemicals from penetrating through the overlapping portions. The glass is immersed in a tank containing a corrosive solution using a crane, Is repeated 2 ~ 3 times, then re-washed and dried to produce surface-treated glass.

그러나, 종래의 침전 방식은 자동화가 어려워 대부분의 작업을 수작업으로 하기 때문에, 상기 부식 용액이 유리 표면에 급속하게 고착되어 에칭 후 약품이 유리 표면에 일부 잔존하면서 유리 표면에 얼룩이 생기거나 반투명 또는 불투명 상태가 균일하지 못해 제품의 품질 저하가 발생되는 문제점이 있었다. 또한, 상기 부식 용액은 제조시 침전물이 발생하므로, 상기 침전물을 제거하는 공정이 필수적으로 요구되는 등 작업 공정이 복잡하고 번거로워지는 문제점이 있었다.However, since the conventional precipitation method is difficult to automate and most of the work is performed by hand, the corrosion solution is rapidly adhered to the glass surface, and after the etching, a part of the chemical remains on the glass surface to cause unevenness on the glass surface or a translucent or opaque state The quality of the product is deteriorated. In addition, since the corrosion solution generates precipitates during its production, there is a problem that the process of removing the precipitates is required and the work process is complicated and cumbersome.

또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 침전 방식의 경우 표면이 매우 불규칙적으로 파쇄된 형태의 불투명한 유리로 제조된다. 이때, 도 2에 도시된 바와 같이, 부식 용액의 양을 늘리거나 유리를 부식 용액에 보다 오랜 시간 노출시키고 불산 용액을 다량으로 사용하게 되면 유리 표면의 용융 형태가 더 심해져 유리 표면이 더 심한 굴곡을 이루며 불규칙하게 형성되어 반투명의 유리로 제조할 수 있다. 그러나, 핸드폰 액정과 같은 전자용 유리는 투명성과 함께 우수한 빛 확산 효과를 요구한다. 따라서, 도 1 및 도 2와 같이 종래 침전 방식으로 제조되는 반투명/불투명 유리의 경우 노트북 또는 스마트폰용 패널과 같은 전자용 유리로는 사용이 곤란하다. Further, as shown in Fig. 1, in the conventional precipitation method, the surface is made of opaque glass in a very irregularly crushed form. In this case, as shown in FIG. 2, if the amount of the corrosive solution is increased or the glass is exposed to the corrosive solution for a longer time and a large amount of the fluoric acid solution is used, the melting surface of the glass surface becomes more severe, Which is irregularly formed and can be produced as a translucent glass. However, an electronic glass such as a mobile phone liquid crystal requires transparency and excellent light diffusion effect. Therefore, as shown in FIGS. 1 and 2, it is difficult to use semitransparent / opaque glass manufactured by the conventional precipitation method as an electronic glass such as a notebook or smart phone panel.

이러한 전자용 유리를 제조하기 위해서는 침지 방식을 사용해야 하는데, 종래의 침지 방식의 경우 유리 표면을 섬세하고 정밀하게 에칭 처리하는 것이 매우 어렵기 때문에 유리가 투명성은 가지더라도 빛 확산 효과 및 눈부심 방지 효과는 현저히 저하되므로 전자용으로서의 제품의 가치가 저하되는 한계를 가진다.In order to produce such an electronic glass, it is necessary to use an immersion method. In the case of the conventional immersion method, it is very difficult to precisely etch the glass surface with precision. Therefore, even if the glass has transparency, the light diffusion effect and anti- The value of the product as an electronic device is lowered.

한편, 종래 침전방식에 사용되는 부식 용액을 유리 표면에 수회 반복 도포하고 세척하는 경우, 도 3에 도시된 바와 같이, 유리 표면이 둥근 돌기 형태로 에칭될 수 있음을 알아내었다. 그러나, 상기 유리의 경우에도 표면이 거칠고 투명도가 현저히 낮아 전자용 유리로의 사용은 곤란하였다.On the other hand, when the corrosion solution used in the conventional precipitation method is repeatedly applied and cleaned several times on the glass surface, it has been found that the glass surface can be etched in the form of round projections as shown in FIG. However, even in the case of the above-mentioned glass, the surface is rough and the transparency is remarkably low, making it difficult to use it as an electronic glass.

국내공개특허 10-2011-0124423Korean Patent Laid-Open No. 10-2011-0124423

본 발명은 위와 같은 종래의 문제점을 고려하여 안출된 것으로서, 종래의 침전 및 침지방식을 전혀 사용하지 않고 롤러 방식 등으로 유리 표면을 가공하되, 유리의 투명성을 부여함은 물론 빛 확산 효과 및 눈부심 방지 효과를 크게 향상시킬 수 있는 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물 및 그 제조방법을 제공하는데 그 주된 목적이 있다.The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and it is an object of the present invention to provide a method for processing a glass surface by a roller method or the like without using any conventional precipitation and dipping method, The present invention has been made to solve the above-mentioned problems occurring in the prior art.

본 발명의 일 측면은, 1 내지 3중량%의 물, 제1 부식제, 제2 부식제, 씨드제, 점착제, 제1 촉매제, 제2 촉매제, 응집제, pH 조정제 및 수분 조정제를 포함하며, 상기 제1 부식제는 5 내지 10중량%의 수소불화나트륨(sodium bifluoride, NaHF2)이고, 상기 제2 부식제는 5 내지 10중량%의 질산(Nitric Acid, HNO3)이고, 상기 씨드제는 제염화제이철(Iron Chloride Solution, FeCl3)이고, 상기 점착제는 5 내지 12중량%의 알긴산(Alginic Acid, (C6H3O6)n), 몰리브덴소다(Sodium Molybdate, Na2MOO4) 또는 프로필렌글리콜(Propylene Glycol, C3H8O4) 중 어느 하나이고, 상기 제1 촉매제는 3 내지 15중량%의 플루오르화칼슘(Calcium fluoride, CaF2) 또는 인산칼슘(Calcium Phosphate, Ca3(PO4)2) 중 어느 하나이고, 상기 제2 촉매제는 3 내지 15중량%의 올레인산(Oleic Acid, C17H33COOH)이고, 상기 응집제는 5 내지 10중량%의 아크릴산(Acrylic Acid, CH2)이고, 상기 pH 조정제는 3 내지 10중량%의 트리에탄올아민(Triethanolamine, C6H15NO3), 염산(Hydrocholoric Acid, HCl) 또는 인산(Phosphoric Acid, H3PO4) 중 어느 하나이고, 상기 수분 조정제는 5 내지 25중량%의 잔탄검(Xanthomonascam Pestris)인 것을 특징으로 하는 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물을 제공한다.An aspect of the present invention relates to a method for producing a water-based cleaning composition comprising 1 to 3% by weight of water, a first corrosive agent, a second corrosive agent, a seeding agent, a pressure-sensitive adhesive, a first catalyst, a second catalyst, a flocculant, The corrosion agent is 5 to 10 wt% sodium bifluoride (NaHF 2 ), the second corrosive agent is 5 to 10 wt% nitric acid (HNO 3 ), the seed agent is iron Chloride Solution, FeCl 3), and wherein the pressure-sensitive adhesive is from 5 to 12% of alginate (alginic Acid, (C 6 H 3 O 6) by weight n), molybdenum soda (sodium molybdate, Na 2 MOO 4 ) or propylene glycol (propylene glycol , And C 3 H 8 O 4 ), and the first catalyst is one of calcium fluoride (CaF 2 ) or calcium phosphate (Ca 3 (PO 4 ) 2 ) in an amount of 3 to 15 wt% one, and the second catalyst is a three oleic acid to 15% by weight (oleic Acid, C 17 H 33 COOH) , and wherein the coagulant is 5 to 10% by weight Acid (Acrylic Acid, CH 2), wherein the pH adjusting agent triethanolamine of from 3 to 10% by weight and (Triethanolamine, C 6 H 15 NO 3), hydrochloric acid (Hydrocholoric Acid, HCl) or phosphate (Phosphoric Acid, H 3 PO 4 ), And the moisture regulator is Xanthomonascam Pestris in an amount of 5 to 25% by weight based on the total weight of the etching solution composition.

본 발명의 다른 측면은, 1 내지 3중량%의 물을 교반기에 붓고, 여기에 제1 부식제로서 5 내지 10중량%의 수소불화나트륨(sodium bifluoride, NaHF2)과, 제2 부식제로서 5 내지 10중량%의 질산(Nitric Acid, HNO3)과, 씨드제로서 염화제이철(Iron Chloride Solution, FeCl3)을 혼합하여 제1 혼합물을 마련하고, 상기 제1 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계; 상기 냉각된 제1 혼합물에, 점착제로서 5 내지 12중량%의 알긴산(Alginic Acid, (C6H3O6)n), 몰리브덴소다(Sodium Molybdate, Na2MOO4) 또는 프로필렌글리콜(Propylene Glycol, C3H8O4) 중 어느 하나를 첨가하여 제2 혼합물을 마련하고, 상기 제2 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계; 상기 냉각된 제2 혼합물에, 제1 촉매제로서 3 내지 15중량%의 플루오르화칼슘(Calcium fluoride, CaF2) 또는 인산칼슘(Calcium Phosphate, Ca3(PO4)2) 중 어느 하나와, 제2 촉매제로서 3 내지 15중량%의 올레인산(Oleic Acid, C17H33COOH)을 첨가하여 제3 혼합물을 마련하고, 상기 제3 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계; 상기 냉각된 제3 혼합물에, 응집제로서 5 내지 10중량%의 아크릴산(Acrylic Acid, CH2)을 첨가하여 제4 혼합물을 마련하고 상기 제4 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계; 상기 냉각된 제4 혼합물에, pH 조정제로서 3 내지 10중량%의 트리에탄올아민(Triethanolamine, C6H15NO3), 염산(Hydrocholoric Acid, HCl) 또는 인산(Phosphoric Acid, H3PO4) 중 어느 하나를 첨가하여 제5 혼합물을 마련하고, 상기 제5 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계; 및 상기 냉각된 제5 혼합물에, 수분 조정제로서 5 내지 25중량%의 잔탄검(Xanthomonascam Pestris)을 첨가하여 제6 혼합물을 마련하고, 상기 제6 혼합물을 가열하고 교반시킨 후 냉각하는 단계; 를 포함하며, 각각의 단계에서는, 교반 온도는 60~80℃인 것을 특징으로 하는 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 제조방법을 제공한다.Another aspect of the present invention is a process for the preparation of a water-in-oil emulsion which comprises pouring 1 to 3% by weight of water into a stirrer and adding 5 to 10% by weight sodium bifluoride (NaHF 2 ) Preparing a first mixture by mixing nitric acid (Nitric Acid, HNO 3 ) in weight% and Iron Chloride Solution (FeCl 3 ) as a seed agent; heating the first mixture to stir and cooling; Alginic acid (C 6 H 3 O 6 ) n ), sodium molybdate (Na 2 MOO 4 ), or propylene glycol (Propylene Glycol) are added to the cooled first mixture in an amount of 5 to 12 wt% C 3 H 8 O 4 ) to prepare a second mixture, heating and stirring the second mixture, and cooling the mixture; To the cooled second mixture, any one of calcium fluoride (CaF 2 ) or calcium phosphate (Calcium Phosphate, Ca 3 (PO 4 ) 2 ) as a first catalyst and 3 to 15 wt% Adding 3 to 15% by weight of oleic acid (C 17 H 33 COOH) as a catalyst to prepare a third mixture, heating and stirring the third mixture, and cooling; Adding 5 to 10% by weight of acrylic acid (CH 2 ) as a coagulant to the cooled third mixture to prepare a fourth mixture, heating and stirring the fourth mixture, and cooling; To the cooled fourth mixture, 3 to 10% by weight of triethanolamine (C 6 H 15 NO 3 ), hydrochloric acid (HCl), phosphoric acid (Phosphoric Acid, H 3 PO 4 ) Adding one to prepare a fifth mixture, heating and stirring the fifth mixture, and cooling; And 5 to 25% by weight of Xanthomonascam Pestris as a moisture regulator is added to the cooled fifth mixture to prepare a sixth mixture, and the sixth mixture is heated, agitated and cooled; Wherein the stirring temperature is in the range of 60 to 80 ° C in each step.

본 발명에 따르면, 종래의 침전방식을 전혀 사용하지 않으면서 간단한 공정으로 이루어져 작업성 및 작업안정성을 높일 수 있으며, 유리 표면에 형성된 복수의 곡면 돌기가 조사된 빛을 난반사시키므로 시인성, 빛 확산 효과 및 눈부심 방지(방현) 효과가 크게 향상된 고품질의 난반사 방현유리를 제조할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, it is possible to improve the workability and work stability by using a simple process without using the conventional precipitation method at all. Since a plurality of curved projections formed on the glass surface irregularly reflect the irradiated light, the visibility, It is possible to manufacture a high-quality diffusely diffusing glass which is greatly improved in anti-glare (anti-glare) effect.

도 1은 종래의 불투명 유리의 표면을 확대하여 나타낸 사진이다.
도 2는 종래의 반투명 유리의 표면을 확대하여 나타낸 사진이다.
도 3은 종래의 다른 반투명 유리의 표면을 확대하여 나타낸 사진이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 제조과정을 나타낸 플로우 차트이다.
도 5는 본 발명의 일 실시 예에 의한 난반사 유리의 표면을 확대하여 나타낸 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 난반사 유리의 표면을 나타낸 AFM 사진이다.
1 is an enlarged photograph of a surface of a conventional opaque glass.
2 is an enlarged photograph of the surface of a conventional translucent glass.
3 is an enlarged photograph of the surface of another conventional translucent glass.
4 is a flowchart illustrating a process of manufacturing an etching solution composition for manufacturing a diffusive glass according to an embodiment of the present invention.
5 is an enlarged photograph of the surface of the diffusive glass according to an embodiment of the present invention.
6 is an AFM photograph showing the surface of the diffusive glass according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시 예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 이하 설명하는 실시 예로 한정되는 것은 아니다. 덧붙여, 명세서 전체에서 어떤 구성요소를 '포함'한다는 것은 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.The embodiments of the present invention can be modified into various other forms, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. In addition, to include an element throughout the specification does not exclude other elements unless specifically stated otherwise, but may include other elements.

본 발명의 일 실시 예에 따른 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물은, 판 유리 표면에 스크린 인쇄되는 물질로서, 침전 공정을 전혀 사용하지 않고도 유리 표면에 복수의 곡면 돌기를 효과적으로 형성하여 유리 표면을 투명하게 하면서 빛이 통과할 때 난반사되도록 하는데 사용되는 물질이다. 이러한 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물은, 물, 제1 부식제, 제2 부식제, 씨드제, 점착제, 제1 촉매제, 제2 촉매제, 응집제, pH 조정제 및 수분 조정제를 포함한다.The etching solution composition for producing a damping glass according to an embodiment of the present invention is a material that is screen printed on the surface of a plate glass and effectively forms a plurality of curved projections on the glass surface without using a precipitation process, Is a material used to make diffuse reflection when passing through. The etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass includes water, a first corrosive agent, a second corrosive agent, a seed agent, a pressure-sensitive adhesive, a first catalyst, a second catalyst, a flocculant, a pH adjuster and a moisture regulator.

일례로서, 도 4를 참조하면, 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물을 제조하기 위해서는, 먼저 1 내지 3 중량%의 물을 교반기에 붓고, 여기에 약품을 용해시키기 위한 초기 혼합제로서 제1 부식제인 5 내지 10중량%의 수소불화나트륨(sodium bifluoride, NaHF2) 및 제2 부식제인 5 내지 10중량%의 질산(Nitric Acid, HNO3)과, 씨드제로서 염화제이철(Iron Chloride Solution, FeCl3)을 혼합한 후 충분히 용해시켜 제1 혼합물을 마련한 후, 상기 제1 혼합물을 가열하여 교반시키고 냉각하여 안정화시키는 과정을 진행한다(S1).For example, referring to FIG. 4, in order to produce the etching solution composition for producing a diffusive glass, 1 to 3% by weight of water is first poured into a stirrer, and 5 to 10 (Iron Chloride Solution, FeCl 3 ) as a seeding agent and 5 to 10 wt% of nitric acid (HNO 3 ) which is a second corrosive agent are mixed with sodium bicarbonate, sodium bifluoride (NaHF 2 ) After the first mixture is sufficiently dissolved to prepare a first mixture, the first mixture is heated, stirred, cooled and stabilized (S1).

유리 제품의 대부분을 차지하는 것은 규산염 유리이며, 상기 수소불화나트륨은, 본 발명의 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물을 유리에 도포할 때 유리 표면의 SiO2의 구조를 파괴하는 역할을 한다. 상기 수소불화나트륨의 함량이 5중량% 미만인 경우 SiO2를 용융시키는 작용이 저하되어 후술하는 유리 표면의 돌기 형성이 제대로 되지 않는 문제가 발생할 수 있고, 상기 수소불화나트륨의 함량이 10중량%를 초과하면 돌기가 지나치게 크게 형성되면서 유리의 투명도가 저하되거나 또는 유리 두께가 두꺼워지게 되는 문제가 발생할 수 있다.The majority of the glass product is silicate glass, and the sodium hydrogen fluoride serves to destroy the SiO 2 structure on the glass surface when the etching solution composition for producing diffused glass of the present invention is applied to glass. If the content of sodium hydrogen fluoride is less than 5% by weight, the effect of melting SiO 2 may be deteriorated, which may result in poor formation of projections on the glass surface to be described later. If the content of sodium hydrogen fluoride exceeds 10% There is a problem that the transparency of the glass is lowered or the thickness of the glass becomes thicker as the projections are formed excessively large.

상기 질산은 유리에 포함된 Na(나트륨), Ca(칼슘), Al(알루미늄), Mg(마그네슘), Mn(망간) 또는 Ti(타이타늄) 등의 금속성 불순물을 용해시키는 역할을 한다. 상기 질산의 함량이 5중량% 미만인 경우 금속성 불순물이 제대로 용해되지 않아 후술하는 유리 표면의 돌기 형성이 제대로 되지 않아 유리표면이 울퉁불퉁하거나 얼룩과 같은 형태로 되는 문제가 발생할 수 있고, 상기 질산의 함량이 10중량%를 초과하면 금속성 불순물이 용해되는 양이 너무 많아 유리 표면에 형성되는 돌기의 지름 또는 깊이가 커지면서 유리의 내구성이 약해지고 유리 두께가 지나치게 두꺼워지는 문제가 발생할 수 있다.The nitric acid serves to dissolve metallic impurities such as Na (sodium), Ca (calcium), Al (aluminum), Mg (magnesium), Mn (manganese), or Ti (titanium) contained in the glass. If the content of nitric acid is less than 5% by weight, the metallic impurities may not be dissolved sufficiently, so that the projection of the glass surface, which will be described later, may not be properly formed, and the glass surface may become uneven or stained. If the amount exceeds 10% by weight, the amount of the metallic impurities dissolves too much, so that the diameter or depth of protrusions formed on the surface of the glass increases, resulting in weak durability of the glass and excessively thick glass.

상기 수소불화나트륨 및 상기 질산의 작용에 의해, 본 발명의 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물을 유리 표면에 도포하면, 상기 수소불화나트륨이 유리 표면에서 규사의 주성분인 SiO2를 용융시키고, 상기 질산은 유리 내에 포함된 금속성 불순물 중 일부를 용해시킴으로써, 상기 질산에 의해 용해된 금속성 불순물이 상기 수소불화나트륨에 의해 용융된 SiO2와 혼합된 상태로 유리 표면에서 용해되지 않은 금속성 불순물의 표면을 덮으면서 씨드제인 염화제이철 위로 매끄러운 곡면을 갖도록 둥그렇게 돌출되어 표면에 복수의 둥근 돌기가 형성되는 유리가 제조되는 것이다. 상기 복수의 돌기는 유리의 내측 면으로부터 유출되는 광선은 통과시키고 외부에서 조사되는 빛은 난반사 내지 확산시켜 눈부심을 최소화된 난반사 유리를 제조할 수 있다.When the etching solution composition for producing a diffusive glass of the present invention is applied to the glass surface by the action of the sodium hydrogen fluoride and the nitric acid, the sodium hydrogen fluoride melts SiO 2 , which is the main component of silica sand, on the glass surface, The metallic impurities dissolved by the nitric acid are mixed with the SiO 2 molten by the sodium hydrogen fluoride to cover the surface of the undissolved metallic impurities in the glass surface, So that a plurality of round projections are formed on the surface so as to have a smooth curved surface. The plurality of protrusions can diffuse or diffuse the light emitted from the inner side of the glass and diffuse the light emitted from the outside, thereby making it possible to produce a damping glass with minimal glare.

다음으로, 상기 냉각된 제1 혼합물에, 점착제로서 5 내지 12중량%의 알긴산(Alginic Acid, (C6H3O6)n), 몰리브덴소다(Sodium Molybdate, Na2MOO4) 또는 프로필렌글리콜(Propylene Glycol, C3H8O4) 중 어느 하나를 첨가하여 제2 혼합물을 마련한 후, 상기 제2 혼합물을 가열하여 교반시키고 냉각하여 안정화시킨다(S2).Next, 5-12 wt% of alginic acid (C 6 H 3 O 6 ) n ), sodium molybdate (Na 2 MOO 4 ), or propylene glycol ( Propylene Glycol, or C 3 H 8 O 4 ) is added to prepare a second mixture, and then the second mixture is heated, stirred, cooled, and stabilized (S2).

상기 점착제는 점도 조정제로 기능하여 에칭액의 점성을 조정하거나 조정된 점도를 일정 수준으로 유지하는 역할을 하여, 본 발명의 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물이 예컨대 롤러 코팅, 스크린인쇄, 흘로링 코팅 등의 방식을 통해 유리 표면에 도포가 가능한 수준의 점성과 점도로서 안정된 분포도를 가지는 잉크 형태가 될 수 있도록 한다.The pressure-sensitive adhesive functions as a viscosity adjusting agent to adjust the viscosity of the etching solution or to maintain the adjusted viscosity at a predetermined level. Thus, the etching solution composition for producing a diffusive glass of the present invention can be applied by a method such as roller coating, screen printing, So that it can be in the form of an ink having a stable distribution as viscosity and viscosity which can be applied to the glass surface.

본 발명의 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물은 상기 점착제에 의해 액체의 형태로 제조될 수 있으며, 이 수치 내에서 유리 표면에 도포 시 골고루 퍼지며 도포 작업이 용이해질 수 있고, 도포가 완료된 후에도 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물이 유리 표면에 제대로 고착될 수 있도록 한다.The etching solution composition for producing a diffusive glass of the present invention can be prepared in the form of a liquid by the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, spreads evenly on the glass surface within this numerical value and can be easily applied, and even after the application is completed, So that the composition can be adhered firmly to the glass surface.

상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 점성과 점도는, 일례로 유리 제조용 에칭액 조성물을 스크린 인쇄 방식으로 유리 표면에 도포하는 경우엔 상대적으로 높게 설정될 수 있으며, 훌로링 코팅 방식을 사용하는 경우 상기 스크린 인쇄 방식 보다 상대적으로 낮게 설정될 수 있다.The viscosity and viscosity of the etching solution composition for producing a damping glass can be set relatively high when the etching solution composition for glass production is applied to the glass surface by a screen printing method. In the case of using the screening printing method, Can be set relatively low.

이때, 상기 알긴산, 몰리브덴소다 또는 프로필렌글리콜의 함량이 5중량% 미만인 경우, 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 점성이 너무 낮아져 유리 표면이 전체적으로 동일한 밀도를 갖지 못하면서 그 중 일부의 밀도만 다르게 되는 현상이 발생되어 제1 및 제2 부식제에 의해 형성되는 돌기들의 크기가 전체적으로 불규칙해지고 이에 최종 완성된 유리 표면이 울퉁불퉁해지는 문제가 발생할 수 있다. 또한, 상기 알긴산, 몰리브덴소다 또는 프로필렌글리콜의 함량이 5중량% 미만이면 상기 제1 및 제2 부식제에 의한 SiO2의 용융 및 금속성 불순물의 용해로 인해 발생되는 물질이 뭉글뭉글한 상태가 될 수 있다.At this time, when the content of alginic acid, molybdenum soda or propylene glycol is less than 5% by weight, the viscosity of the etching solution composition for producing diffuse reflection glass becomes too low, so that the glass surface does not have the same density as the whole, The size of the protrusions formed by the first and second corrosive agents becomes irregular as a whole, and the final finished glass surface may become uneven. If the content of alginic acid, molybdenum soda, or propylene glycol is less than 5% by weight, the materials generated due to melting of SiO 2 and dissolution of metallic impurities by the first and second caustic agents may become unstable.

상기 알긴산, 몰리브덴소다 또는 프로필렌글리콜의 함량이 12중량%를 초과하는 경우, 유리 제조용 에칭액 조성물의 점도 및 점성이 너무 높아져 밀가루 반죽 형태와 같이 변하면서 유리 표면에 돌기가 제대로 형성되기도 전에 유리 제조용 에칭액 조성물이 굳어져버리는 문제가 발생할 수 있다.When the content of alginic acid, molybdenum soda, or propylene glycol is more than 12% by weight, the viscosity and viscosity of the etching solution composition for producing glass become too high, so that the etching solution composition for glass production There is a problem in that it hardens.

다음으로, 상기 냉각된 제2 혼합물에, 제1 촉매제로서 3 내지 15중량%의 플루오르화칼슘(Calcium fluoride, CaF2) 또는 인산칼슘(Calcium Phosphate, Ca3(PO4)2) 중 어느 하나와, 제2 촉매제로서 3 내지 15중량%의 올레인산(Oleic Acid, C17H33COOH)을 첨가하여 제3 혼합물을 마련한 후, 상기 제3 혼합물을 가열하여 교반시키고 냉각하여 안정화시킨다(S3).Next, to the cooled second mixture, any one of calcium fluoride (CaF 2 ) or calcium phosphate (Ca 3 Phosphate, Ca 3 (PO 4 ) 2 ) as a first catalyst and 3 to 15 wt% 3 to 15% by weight of oleic acid (C 17 H 33 COOH) is added as a second catalyst to prepare a third mixture, and the third mixture is heated, stirred and cooled to stabilize (S3).

상기 제1 촉매제는, 상기 제1 부식제에 상기 점착제와 같은 다른 첨가제를 혼합하여 점착성을 갖는 잉크 형태로 만드는 과정에서, 상기 제1 부식제와 상기 점착제 간의 상호 결합이 잘 이루어지도록 하고, 상기 제1 부식제와 상기 점착제가 혼합될 때 상호 이질적인 화학적 반응에 의해 부식성에 변화가 발생되는 것을 방지하는 기능을 한다. 또한, 상기 제1 촉매제는 상기 제1 부식제에 의해 유리 표면이 부식될 때, 이러한 유리 표면이 보다 부드럽게 부식되도록 하는 역할을 할 수 있다.The first catalytic agent may be a mixture of the first caustic agent and other additives such as the pressure-sensitive adhesive so that the first caustic agent and the pressure- And the pressure-sensitive adhesive are mixed with each other to prevent a change in corrosiveness due to mutual dissimilar chemical reactions. In addition, the first catalytic agent may act to smoothly etch the glass surface when the glass surface is corroded by the first corrosive agent.

상기 플루오르화칼슘 또는 상기 인산칼슘의 함량이 3중량% 미만인 경우, 상기 유리 제조용 에칭액 조성물이 묽은 형태의 풀과 같이 변하게 되는 문제점이 발생할 수 있다. 또한, 상기 플루오르화칼슘 또는 상기 인산칼슘의 함량이 20중량%를 초과하는 경우 상기 유리 제조용 에칭액 조성물에 포함된 잉크 입자들이 고르게 분포되지 못하고 국부적으로 뭉치게 되는 문제점이 발생할 수 있다.If the content of the calcium fluoride or the calcium phosphate is less than 3% by weight, the etchant composition for producing glass may be changed into a dilute paste. If the content of the calcium fluoride or calcium phosphate exceeds 20 wt%, the ink particles contained in the etching solution composition for glass production may not be uniformly distributed and may be locally aggregated.

상기 제2 촉매제는, 상기 제2 부식제에 상기 점착제와 같은 다른 첨가제를 혼합하여 점착성을 갖는 잉크 형태로 만드는 과정에서, 상기 제2 부식제와 상기 점착제 간의 상호 결합이 잘 이루어지도록 하고, 상기 제2 부식제와 상기 점착제가 혼합될 때 상호 이질적인 화학적 반응에 의해 부식성에 변화가 발생되는 것을 방지하는 기능을 한다. 또한, 상기 제2 촉매제는 상기 제2 부식제에 의해 유리 표면이 부식될 때, 이러한 유리 표면이 보다 부드럽게 부식되도록 하는 역할을 할 수 있다.The second catalytic agent may be a mixture of the second caustic agent and the second caustic agent so that the second caustic agent is mixed with other additives such as the tackifier to form an ink having a tacky property, And the pressure-sensitive adhesive are mixed with each other to prevent a change in corrosiveness due to mutual dissimilar chemical reactions. In addition, the second catalytic agent may act to smoothly etch the glass surface when the glass surface is corroded by the second corrosive agent.

상기 올레인산의 함량이 3중량% 미만인 경우, 상기 유리 제조용 에칭액 조성물이 묽은 형태의 풀과 같이 변하게 되는 문제점이 발생할 수 있다. 또한, 상기 올레인산의 함량이 20중량%를 초과하는 경우, 상기 유리 제조용 에칭액 조성물에 포함된 잉크 입자들이 고르게 분포되지 못하고 국부적으로 뭉치게 되는 문제점이 발생할 수 있다.If the content of the oleic acid is less than 3% by weight, the etchant composition for producing glass may change into a dilute paste. If the content of the oleic acid exceeds 20 wt%, the ink particles contained in the etching solution composition for glass production may not be uniformly distributed and may be locally aggregated.

다음으로, 상기 냉각된 제3 혼합물에, 응집제로서 5 내지 10중량%의 아크릴산(Acrylic Acid, CH2)을 첨가하여 제4 혼합물을 마련한 후, 상기 제4 혼합물을 가열하여 교반시키고 냉각하여 안정화시킨다(S4).Next, a fourth mixture is prepared by adding 5 to 10 wt% of acrylic acid (CH 2 ) as a coagulant to the cooled third mixture, and the fourth mixture is heated, stirred, cooled, and stabilized (S4).

액상의 부식제가 잉크 형태로 만들어지더라도 일정 수준의 접착력을 갖지 않으면 피도포물인 유리의 특성상 유리 제조용 에칭액 조성물이 상기 유리 표면에 고른 피복 형태로 도포되지 않을 수 있다.The etchant composition for producing glass may not be applied to the glass surface in a uniform coated form unless the liquid corrosive agent is formed into an ink form but does not have a certain level of adhesion.

상기 응집제는 이러한 도포성 향상을 위한 것으로서, 상기 유리 표면에서 상기 유리 제조용 에칭액 조성물의 장력이 커지도록 하여 접착력을 향상시키는 기능을 한다. 따라서, 유리 제조용 에칭액 조성물이 상기 유리 표면 전체에 골고루 일정하게 도포되면서 전체적으로 균일성을 갖는 부식이 이루어져 유리 표면에 형성되는 돌기의 크기 및 형상이 규칙적으로 이루어질 수 있다.The coagulant is for improving the coating ability and functions to improve the adhesive force by increasing the tension of the etching liquid composition for glass production on the glass surface. Therefore, the etchant composition for glass production is uniformly applied to the entire surface of the glass to uniformly etch the entire surface of the glass, so that the protrusions formed on the surface of the glass can be regularly formed.

상기 아크릴산의 함량이 5중량% 미만인 경우, 상기 유리 제조용 에칭액 조성물이 상기 유리 표면에 물방울과 같은 형태로 부분적으로 응결되면서, 상기 유리 제조용 에칭액 조성물이 상기 유리 표면에 골고루 일정하게 도포되지 않을 수 있다. 또한, 상기 아크릴산의 함량이 10중량%를 초과하는 경우, 상기 유리 제조용 에칭액 조성물의 제조 비용이 크게 증가될 수 있다.If the content of acrylic acid is less than 5% by weight, the etchant composition for producing glass may be partially coagulated like water droplets on the glass surface, and the etchant composition for producing glass may not uniformly be applied uniformly to the glass surface. If the content of acrylic acid exceeds 10% by weight, the manufacturing cost of the etchant composition for producing glass can be greatly increased.

다음으로, 상기 냉각된 제4 혼합물에, pH 조정제로서 3 내지 10중량%의 트리에탄올아민(Triethanolamine, C6H15NO3), 염산(Hydrocholoric Acid, HCl) 또는 인산(Phosphoric Acid, H3PO4) 중 어느 하나를 첨가하여 제5 혼합물을 마련한 후, 상기 제5 혼합물을 가열하여 교반시키고 냉각하여 안정화시킨다(S5).Next, to the cooled fourth mixture, 3 to 10% by weight of triethanolamine (C 6 H 15 NO 3 ), hydrochloric acid (HCl) or phosphoric acid (Phosphoric Acid, H 3 PO 4 ) Is added to prepare a fifth mixture, and the fifth mixture is heated, stirred, cooled and stabilized (S5).

상기 pH 조정제는 상기 제1 및 제2 부식제가 적정한 환경에서 부식 기능을 수행할 수 있도록 pH 농도를 적정 수준으로 유지시키는 기능을 한다. 본 실시예에 사용되는 제1 및 제2 부식제는 약알칼리성에서 용융 및 용해 효과가 우수하므로, 상기 pH 조정제를 사용하여 상기 유리 제조용 에칭액 조성물의 pH 농도를 2.0 내지 4.0으로, 더 바람직하게는 3.0에 가깝게 조정하면 상기 제1 및 제2 부식제에 의한 상기 유리 표면의 에칭 효과가 최적화될 수 있다.The pH adjuster functions to maintain the pH concentration at an appropriate level so that the first and second corrosive agents can perform a corrosive function in an appropriate environment. Since the first and second corrosive agents used in this embodiment are weakly alkaline and have excellent melting and dissolving effects, the pH of the etching solution composition for preparing glass is adjusted to 2.0 to 4.0, more preferably 3.0 The etching effect of the glass surface by the first and second corrosive agents can be optimized.

또한, 상기 pH 조정제는 위와 같이 조성물의 pH 농도를 2.0 내지 4.0 수준으로 맞추기 위하여 3 내지 10중량%의 트리에탄올아민(Triethanolamine, C6H15NO3), 염산(Hydrocholoric Acid, HCl) 또는 인산(Phosphoric Acid, H3PO4) 중 어느 하나를 사용할 수 있다.In order to adjust the pH of the composition to a level of 2.0 to 4.0, the pH adjuster may be added in an amount of 3 to 10% by weight of triethanolamine (C 6 H 15 NO 3 ), hydrochloric acid (HCl) or phosphoric acid Acid, H 3 PO 4 ) can be used.

상기 pH 조정제의 함량이 3중량% 미만인 경우 상기 유리 제조용 에칭액 조성물의 pH가 적정 수준 보다 높아 제1 및 제2 부식제의 에칭 효과가 저하될 수 있다. 반대로, 상기 pH 조정제의 함량이 12중량%를 초과하는 경우 상기 유리 제조용 에칭액 조성물의 pH가 적정 수준 보다 너무 낮아서 오히려 에칭 효과가 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.If the content of the pH adjuster is less than 3% by weight, the etchant of the first and second corrosive agents may be deteriorated because the pH of the etchant composition for producing glass is higher than a proper level. On the other hand, if the content of the pH adjuster exceeds 12% by weight, the pH of the etching solution composition for making glass may be lower than an appropriate level, resulting in deterioration of the etching effect.

다음으로, 상기 냉각된 제5 혼합물에, 수분 조정제로서 5 내지 25중량%의 잔탄검(Xanthomonascam Pestris)을 첨가하여 용액의 점도를 조절하여 제6 혼합물을 마련한 후, 상기 제6 혼합물을 가열하여 교반시키고 냉각하여 액상의 젤 타입으로 만든다(S6).Next, to the cooled fifth mixture, 5 to 25% by weight of Xanthomonascam Pestris was added as a moisture regulator to adjust the viscosity of the solution to prepare a sixth mixture, and then the sixth mixture was heated and stirred And cooled to form a liquid gel type (S6).

상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물은 수성 잉크 형태로서, 공기 중에 노출시 형태가 변화게 되므로, 정해진 시간 동안은 일정하게 부식이 진행되도록 할 필요성이 있다. 상기 수분 조정제는 이러한 정해진 시간 동안 일정하게 부식이 진행되도록 하기 위한 것이다. 또한, 상기 수분 조정제는 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 수분 함수율 및 점도를 적정한 수준으로 조정하여 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 농도를 묽게 하거나 짙게 하여 인쇄 방식에 적합한 최적의 잉크 특성을 갖도록 만드는 기능을 한다. The etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass is in the form of a water-based ink, and its shape changes upon exposure to air, so that it is necessary to constantly perform corrosion for a predetermined period of time. The moisture modifier is intended to allow constant corrosion to proceed for such a predetermined period of time. The moisture regulator functions to adjust the water content and viscosity of the etching solution composition for making irregular glass to an appropriate level to make the concentration of the etching solution composition for making irregularly-reflecting glass thin or dark so as to have optimum ink characteristics suitable for a printing system .

이때, 상기 수분 함수율은 점도와 상관이 있으므로, 앞서 점착제의 함량에 따라 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 점도를 8,000 내지 12,000 cp로 설정하면 수분 함수율도 이에 따라 조정이 이루어지므로, 상기 수분 조정제의 함량은 상기 점착제의 함량을 고려할 필요가 있다.Since the moisture content is related to the viscosity, if the viscosity of the etching solution composition for preparing a damping glass is set to 8,000 to 12,000 cp according to the content of the pressure-sensitive adhesive, the moisture content is also adjusted accordingly, It is necessary to consider the content of the pressure-sensitive adhesive.

즉, 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물은 1차적으로 점성을 갖는 잉크 형태로 만들어지며, 상기 잔탄검은 이러한 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물에서 2차로 점도를 조절하는 점결제 역할을 하게 된다. 상기 잔탄검은 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 수분 함수율을 조정하여 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 점도가 인쇄 설비에 따라 적정한 수준으로 유지될 수 있도록 하여 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물이 잉크로서의 역할을 원활히 수행할 수 있도록 한다.That is, the etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass is primarily made into an ink having a viscosity, and the brass-black becomes a point-settlement function for controlling the viscosity secondarily in the etching solution composition for producing a diffuse glass. It is possible to adjust the moisture content of the etching solution composition for producing a dichroic glass according to the present invention so that the viscosity of the etching solution composition for producing a durability glass can be maintained at an appropriate level according to printing equipment, .

한편, 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물은 인쇄 설비에 따라 점도가 달라져야 한다. 예컨대, 실크 스크린 인쇄기기의 경우는 스크리퍼 압력을 가해서 긁는 방식으로 인쇄가 이루어지므로 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 점도가 높아야 인쇄성이 향상되지만, 커튼 코터(curtain coater)의 경우는 유리 표면 위에 살짝 잉크를 얹어 놓는 형태이므로 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 점도가 낮고 묽어야 상기 유리 표면에 고르게 인쇄가 될 수 있다.On the other hand, the viscosity of the etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass should be changed according to the printing equipment. For example, in the case of a silkscreen printing machine, printing is performed in a scratching manner by applying a scrubber pressure. Therefore, the printing property is improved if the viscosity of the etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass is high. In the case of a curtain coater, Since the ink has the low viscosity and low viscosity of the etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass, it can be uniformly printed on the glass surface.

상기 잔탄검의 함량이 5중량% 미만인 경우 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 수분 함수율이 너무 높고 점도는 너무 낮아 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물이 마르지 않고 액상 상태로 계속 남아있는 문제점이 발생할 수 있다. 또한, 상기 잔탄검의 함량이 25중량%를 초과하는 경우 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 수분 함수율이 너무 낮아서 점도는 너무 높아 상기 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물이 반죽 형태로 쉽게 굳어져 작업성이 현저히 저하되는 문제점이 발생할 수 있다.If the content of the xanthan gum is less than 5% by weight, the moisture content of the etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass is too high and the viscosity is too low, so that the etching solution composition for producing a diffusely reflecting glass remains in a liquid state without drying. If the content of the xanthan gum is more than 25% by weight, the moisture content of the etching solution composition for producing a damping glass is too low and the viscosity is too high, so that the etching solution composition for producing a damping glass is hardened easily, Problems may arise.

또한, 상기 각각의 공정에서의 교반 온도는 교반이 잘 이루어질 수 있도록 히팅 장치를 이용하여 60 내지 80℃를 유지하며 진행하는 것이 바람직하다. 이때, 상기 교반 온도가 80℃를 초과하면 상기 각각의 교반 과정 중 하나에서 용액이 젤리 형태로 변하는 문제점이 발생할 수 있다. 또한, 상기 교반 온도가 20℃ 미만이면 상기 각각의 교반 과정 중 하나에서 용액의 부식성이 최초 설계시와 달라지는 문제점이 발생할 수 있다.In addition, the stirring temperature in each of the above steps is preferably maintained at 60 to 80 DEG C using a heating apparatus so that stirring can be performed well. At this time, if the stirring temperature exceeds 80 ° C, the solution may change into a jelly form in one of the stirring processes. If the agitation temperature is lower than 20 ° C, there is a possibility that the corrosiveness of the solution in one of the stirring processes may be different from that in the initial design.

도 5는 이렇게 제조된 광택도(Gloss)가 90 GU 이상, 거칠기값(Ra)이 0.2 ㎛ 이하, 흐림도(Haze) 7 % 이하, 투광율(Transmissivity)가 90 % 이상인 난반사 유리의 표면을 확대하여 나타낸 사진이고, 도 6은 AFM 사진이다. 이러한 유리 표면에 형성된 복수의 돌기는 예컨대 유리를 핸드폰 액정 등에 사용하는 경우 밖에서 조사된 빛을 난반사 시켜 빛의 밝기를 향상시키고 눈부심을 방지할 수 있다.Fig. 5 is an enlarged view of the surface of a diffusely reflecting glass having a Gloss of 90 GU or more, a roughness value Ra of 0.2 mu m or less, a haze of 7% or less, and a transmittance of 90% 6 is an AFM photograph. The plurality of protrusions formed on the surface of the glass can diffuse light radiated from the outside to improve brightness of light and prevent glare when glass is used, for example, in a mobile phone liquid crystal display.

본 발명은 상술한 실시 예에 의해 한정되는 것이 아니며 첨부된 청구범위에 의해 한정하고자 한다. 따라서, 청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 형태의 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이며, 이 또한 본 발명의 범위에 속한다고 할 것이다.The present invention is not limited by the above-described embodiments but is intended to be limited by the appended claims. It will be apparent to those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims. something to do.

Claims (2)

1 내지 3중량%의 물, 제1 부식제, 제2 부식제, 씨드제, 점착제, 제1 촉매제, 제2 촉매제, 응집제, pH 조정제 및 수분 조정제를 포함하며,
상기 제1 부식제는 5 내지 10중량%의 수소불화나트륨(sodium bifluoride, NaHF2)이고,
상기 제2 부식제는 5 내지 10중량%의 질산(Nitric Acid, HNO3)이고,
상기 씨드제는 제염화제이철(Iron Chloride Solution, FeCl3)이고,
상기 점착제는 5 내지 12중량%의 알긴산(Alginic Acid, (C6H3O6)n), 몰리브덴소다(Sodium Molybdate, Na2MOO4) 또는 프로필렌글리콜(Propylene Glycol, C3H8O4) 중 어느 하나이고,
상기 제1 촉매제는 3 내지 15중량%의 플루오르화칼슘(Calcium fluoride, CaF2) 또는 인산칼슘(Calcium Phosphate, Ca3(PO4)2) 중 어느 하나이고,
상기 제2 촉매제는 3 내지 15중량%의 올레인산(Oleic Acid, C17H33COOH)이고,
상기 응집제는 5 내지 10중량%의 아크릴산(Acrylic Acid, CH2)이고,
상기 pH 조정제는 3 내지 10중량%의 트리에탄올아민(Triethanolamine, C6H15NO3), 염산(Hydrocholoric Acid, HCl) 또는 인산(Phosphoric Acid, H3PO4) 중 어느 하나이고,
상기 수분 조정제는 5 내지 25중량%의 잔탄검(Xanthomonascam Pestris)인 것을 특징으로 하는 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물.
A first catalyst, a second catalyst, a flocculant, a pH adjuster, and a water control agent, wherein the first catalyst, the second catalyst, the first catalyst, the second catalyst,
The first caustic agent is 5 to 10 wt% sodium bifluoride (NaHF 2 )
The second corrosive agent is 5 to 10 wt% nitric acid (HNO 3 )
The seed agent is Iron Chloride Solution (FeCl 3 )
The pressure-sensitive adhesive may contain 5-12 wt% of alginic acid (C 6 H 3 O 6 ) n , sodium molybdate (Na 2 MOO 4 ), or propylene glycol (C 3 H 8 O 4 ) , ≪ / RTI >
Wherein the first catalyst is any one of calcium fluoride (CaF 2 ) or calcium phosphate (Ca 3 (PO 4 ) 2 ) in an amount of 3 to 15 wt%
The second catalyst is oleic acid (C 17 H 33 COOH) in an amount of 3 to 15% by weight,
The flocculating agent is 5 to 10% by weight of acrylic acid (CH 2 )
The pH adjusting agent is any one of triethanolamine (C 6 H 15 NO 3 ), hydrochloric acid (HCl) or phosphoric acid (H 3 PO 4 ) in an amount of 3 to 10 wt%
Wherein the moisture regulator is Xanthomonascam Pestris in an amount of 5 to 25% by weight.
1 내지 3중량%의 물을 교반기에 붓고, 여기에 제1 부식제로서 5 내지 10중량%의 수소불화나트륨(sodium bifluoride, NaHF2)과, 제2 부식제로서 5 내지 10중량%의 질산(Nitric Acid, HNO3)과, 씨드제로서 염화제이철(Iron Chloride Solution, FeCl3)을 혼합하여 제1 혼합물을 마련하고, 상기 제1 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계;
상기 냉각된 제1 혼합물에, 점착제로서 5 내지 12중량%의 알긴산(Alginic Acid, (C6H3O6)n), 몰리브덴소다(Sodium Molybdate, Na2MOO4) 또는 프로필렌글리콜(Propylene Glycol, C3H8O4) 중 어느 하나를 첨가하여 제2 혼합물을 마련하고, 상기 제2 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계;
상기 냉각된 제2 혼합물에, 제1 촉매제로서 3 내지 15중량%의 플루오르화칼슘(Calcium fluoride, CaF2) 또는 인산칼슘(Calcium Phosphate, Ca3(PO4)2) 중 어느 하나와, 제2 촉매제로서 3 내지 15중량%의 올레인산(Oleic Acid, C17H33COOH)을 첨가하여 제3 혼합물을 마련하고, 상기 제3 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계;
상기 냉각된 제3 혼합물에, 응집제로서 5 내지 10중량%의 아크릴산(Acrylic Acid, CH2)을 첨가하여 제4 혼합물을 마련하고 상기 제4 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계;
상기 냉각된 제4 혼합물에, pH 조정제로서 3 내지 10중량%의 트리에탄올아민(Triethanolamine, C6H15NO3), 염산(Hydrocholoric Acid, HCl) 또는 인산(Phosphoric Acid, H3PO4) 중 어느 하나를 첨가하여 제5 혼합물을 마련하고, 상기 제5 혼합물을 가열하여 교반시킨 후 냉각하는 단계; 및
상기 냉각된 제5 혼합물에, 수분 조정제로서 5 내지 25중량%의 잔탄검(Xanthomonascam Pestris)을 첨가하여 제6 혼합물을 마련하고, 상기 제6 혼합물을 가열하고 교반시킨 후 냉각하는 단계; 를 포함하며,
각각의 단계에서는, 교반 온도는 60~80℃인 것을 특징으로 하는 난반사 유리 제조용 에칭액 조성물의 제조방법.
1 to 3% by weight of water is poured into a stirrer and 5 to 10% by weight of sodium bifluoride (NaHF 2 ) as a first caustic agent and 5 to 10% by weight of nitric acid , HNO 3 ) and Iron Chloride Solution (FeCl 3 ) as a seed agent to prepare a first mixture, heating and stirring the first mixture, and cooling the first mixture;
Alginic acid (C 6 H 3 O 6 ) n ), sodium molybdate (Na 2 MOO 4 ), or propylene glycol (Propylene Glycol) are added to the cooled first mixture in an amount of 5 to 12 wt% C 3 H 8 O 4 ) to prepare a second mixture, heating and stirring the second mixture, and cooling the mixture;
To the cooled second mixture, any one of calcium fluoride (CaF 2 ) or calcium phosphate (Calcium Phosphate, Ca 3 (PO 4 ) 2 ) as a first catalyst and 3 to 15 wt% Adding 3 to 15% by weight of oleic acid (C 17 H 33 COOH) as a catalyst to prepare a third mixture, heating and stirring the third mixture, and cooling;
Adding 5 to 10% by weight of acrylic acid (CH 2 ) as a coagulant to the cooled third mixture to prepare a fourth mixture, heating and stirring the fourth mixture, and cooling;
To the cooled fourth mixture, 3 to 10% by weight of triethanolamine (C 6 H 15 NO 3 ), hydrochloric acid (HCl), phosphoric acid (Phosphoric Acid, H 3 PO 4 ) Adding one to prepare a fifth mixture, heating and stirring the fifth mixture, and cooling; And
Adding 5 to 25% by weight of Xanthomonascam Pestris as a moisture regulator to the cooled fifth mixture to prepare a sixth mixture, heating and stirring the sixth mixture, and cooling; / RTI >
Wherein the stirring temperature is 60 to 80 占 폚 in each step.
KR1020160006240A 2016-01-19 2016-01-19 Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof KR101717259B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160006240A KR101717259B1 (en) 2016-01-19 2016-01-19 Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160006240A KR101717259B1 (en) 2016-01-19 2016-01-19 Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101717259B1 true KR101717259B1 (en) 2017-03-17

Family

ID=58502215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160006240A KR101717259B1 (en) 2016-01-19 2016-01-19 Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101717259B1 (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102087703B1 (en) * 2019-04-08 2020-03-11 (주)혜덕 Etchant composition for manufacturing blackboard glass and method of manuacturing the same
KR20200050140A (en) 2018-11-01 2020-05-11 한국기초과학지원연구원 Method for forming nanostructures using plasma
KR20200078132A (en) 2018-12-21 2020-07-01 김은석 Liquid composition for etching glass and manufacturing method therefor
CN111363551A (en) * 2020-03-19 2020-07-03 常州星海电子股份有限公司 Etching liquid and etching process for etching ultrahigh-power light-resistant glass chip
KR102155128B1 (en) * 2019-09-26 2020-09-11 배세열 Blackboard partition with improved visibility
KR102176306B1 (en) * 2019-12-24 2020-11-09 (주)혜덕 Blackboard partition with improved visibility
CN114933419A (en) * 2022-04-29 2022-08-23 北京仿生界面科学未来技术研究院 Method for preparing ultrathin flexible glass by utilizing bionic weathering enzyme composite glass thinning agent
CN115321827A (en) * 2022-08-31 2022-11-11 郑州恒昊光学科技有限公司 Etching solution with diamond sand sparkling effect and manufacturing process of mobile phone rear shell glass of etching solution
KR102650823B1 (en) * 2023-10-05 2024-03-25 (주) 휴코스 Etching liquid composition for manufacturing matte tempered glass with antibacterial properties, antibacterial matte tempered glass manufactured using the same, and method for manufacturing the same

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH085694B2 (en) * 1992-08-14 1996-01-24 キム テ ホワン Glass etching compositions and methods
KR20110124423A (en) 2010-05-11 2011-11-17 신동훈 Printing method for glass forming 3d -irregular reflection
JP2012526719A (en) * 2009-05-13 2012-11-01 サン−ゴバン グラス フランス Method for manufacturing reflection-reducing window glass
KR101269475B1 (en) * 2011-11-09 2013-05-30 주식회사 모린스 METHOD FOR MANUFACTURING GLASS OF Anti-Glare
KR20150125479A (en) * 2014-04-30 2015-11-09 주식회사 지앤티 Ink composition for producing translucent or opaque glass and manufacturing method thereof

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH085694B2 (en) * 1992-08-14 1996-01-24 キム テ ホワン Glass etching compositions and methods
JP2012526719A (en) * 2009-05-13 2012-11-01 サン−ゴバン グラス フランス Method for manufacturing reflection-reducing window glass
KR20110124423A (en) 2010-05-11 2011-11-17 신동훈 Printing method for glass forming 3d -irregular reflection
KR101269475B1 (en) * 2011-11-09 2013-05-30 주식회사 모린스 METHOD FOR MANUFACTURING GLASS OF Anti-Glare
KR20150125479A (en) * 2014-04-30 2015-11-09 주식회사 지앤티 Ink composition for producing translucent or opaque glass and manufacturing method thereof

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200050140A (en) 2018-11-01 2020-05-11 한국기초과학지원연구원 Method for forming nanostructures using plasma
KR20200078132A (en) 2018-12-21 2020-07-01 김은석 Liquid composition for etching glass and manufacturing method therefor
KR102178941B1 (en) 2018-12-21 2020-11-13 배세열 Liquid composition for etching glass and manufacturing method therefor
KR102087703B1 (en) * 2019-04-08 2020-03-11 (주)혜덕 Etchant composition for manufacturing blackboard glass and method of manuacturing the same
KR102155128B1 (en) * 2019-09-26 2020-09-11 배세열 Blackboard partition with improved visibility
KR102176306B1 (en) * 2019-12-24 2020-11-09 (주)혜덕 Blackboard partition with improved visibility
CN111363551A (en) * 2020-03-19 2020-07-03 常州星海电子股份有限公司 Etching liquid and etching process for etching ultrahigh-power light-resistant glass chip
CN114933419A (en) * 2022-04-29 2022-08-23 北京仿生界面科学未来技术研究院 Method for preparing ultrathin flexible glass by utilizing bionic weathering enzyme composite glass thinning agent
CN114933419B (en) * 2022-04-29 2023-09-29 北京仿生界面科学未来技术研究院 Method for preparing ultrathin flexible glass by using bionic weathering enzyme composite glass thinning agent
CN115321827A (en) * 2022-08-31 2022-11-11 郑州恒昊光学科技有限公司 Etching solution with diamond sand sparkling effect and manufacturing process of mobile phone rear shell glass of etching solution
CN115321827B (en) * 2022-08-31 2023-07-28 郑州恒昊光学科技有限公司 Etching solution with diamond sand blazing effect and manufacturing process of mobile phone rear shell glass
KR102650823B1 (en) * 2023-10-05 2024-03-25 (주) 휴코스 Etching liquid composition for manufacturing matte tempered glass with antibacterial properties, antibacterial matte tempered glass manufactured using the same, and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101717259B1 (en) Etchant composition for producing anti glare glass, manufacturing method thereof
CN110563341A (en) High-alumina glass frosting liquid and preparation method thereof
CN101846754B (en) Anti-dazzle film
CN104661976A (en) Textured glass surface and methods of making
EP1426346A1 (en) Surface treating solution for fine processing of glass base plate having a plurality of components
US20090298295A1 (en) Method for treating surface of a glass substrate
CN104445971B (en) Etching solution
KR101929793B1 (en) Ink composition for producing translucent or opaque glass and manufacturing method thereof
JP2005092197A (en) Antidazzle optical film
CN101526685B (en) Color film substrate and manufacture method thereof
CN102923963A (en) Replenishing liquor for glass thinning etching liquid
TW201006777A (en) Method for etching alkali-free glass substrate and display device
CN104656370A (en) Optical mask manufacturing method, optical mask and pattern transfer method
CN114031304A (en) High-alumina glass etching liquid, anti-dazzle high-alumina glass, shell assembly and electronic equipment
CN113106454A (en) Etching solution and etching method of copper/molybdenum metal wire
CN1677247A (en) Method for stripping positive-phase anti-corrosion film, method for making exposure mask and anti-corrosion agent stripping device
CN113955947A (en) Glass etching solution, preparation method and etching method
KR102087703B1 (en) Etchant composition for manufacturing blackboard glass and method of manuacturing the same
US20180187055A1 (en) Sealing Adhesive, its Preparation Method, and Liquid Crystal Display Device
CN105948522A (en) Anti-dazzle glass etching liquid and preparation method thereof
JP5892814B2 (en) Mold for producing antiglare film and method for producing the same
JP2007142409A (en) Transparent conductive film etching composition
TW201831737A (en) Pellicle support frame, pellicle and their manufacturing method
JP2004284949A (en) Method of clarifying alkali-free glass
JP2013176954A (en) Method for manufacturing die for forming antiglare film and method for forming the antiglare film

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
R401 Registration of restoration