KR101715785B1 - Fpd용 노광장치 - Google Patents
Fpd용 노광장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101715785B1 KR101715785B1 KR1020140173648A KR20140173648A KR101715785B1 KR 101715785 B1 KR101715785 B1 KR 101715785B1 KR 1020140173648 A KR1020140173648 A KR 1020140173648A KR 20140173648 A KR20140173648 A KR 20140173648A KR 101715785 B1 KR101715785 B1 KR 101715785B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light source
- shutter
- inner shutter
- substrate
- position detection
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
본 발명은 기판에 설정된 광원의 조사범위에만 광원을 조사할 수 있는 FPD용 노광장치를 제공하는 것으로서, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에 있어서, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및 상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함한다. 따라서, 이너셔터와 아웃셔터에 의해 광원이 비조사범위에 광원이 조사되는 것을 방지하여 광원의 비조사범위에 패턴이 중첩되는 것을 방지할 수 있고, 기판에 얼룩이 생기는 것을 방지할 수 있을 뿐만 아니라, 제작비용을 절감할 수 있다.
Description
본 발명은 FPD에 광학적인 패턴을 형성하기 위해 노광을 수행하는 FPD용 노광장치를 제공하는 것이다.
일반적으로 노광 공정은 회로 패턴이 담긴 마스크에 빛을 통과시켜, 감광액 막이 형성된 기판 표면에 회로 패턴을 그리는 작업이다. 기판 위에 마스크를 놓고 빛을 쪼아 주면 회로 패턴을 통과한 빛이 기판에 회로 패턴을 그대로 옮긴다.
이 과정은 노광장치를 통해 진행되는데 노광장치에 마스크를 넣고 빛을 투과해, 감광액이 칠해진 기판 위에 미세한 전자회로 패턴이 그려지는 것이다.
이때, 기판에는 광원이 조사되는 조사범위와 광원이 비조사되는 비조사범위로 나누어지는데 비조사범위에 광원이 조사되는 것을 방지하기 위해 블라인드를 구비하여야 한다.
하지만, 이 블라인드는 광원의 산포에 의해서 블라인드의 경계면에는 광원을 차단하지 못하고, 기판에 조사되는 광원의 양이 부족하면 넓게 퍼지는 회색 영역이 발생하여 기판에 패턴을 만드는 문제점이 있었다.
또한, 비조사범위에 형성하는 패턴과 회색 영역에 의해 발생된 패턴이 중첩될 경우 기판에 얼룩이 생기며, 액정 표시 패널의 표시 품질이 떨어지는 문제점이 있었다.
이러한 문제점을 해결하기 위해 종래에는 대한민국 등록특허 제10-1185115호(2012.09.17 등록)의 "주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드"가 개시된 바가 있다.
종래의 주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드는 어파쳐를 통과하는 광원을 조사하여 이동하는 스테이지상에 놓인 워크의 주변노광을 실시하는 노광헤드에 있어서; 상기 어파쳐의 전체 면적에 대해 국부적으로 광원을 차단하는 블라인드 마스크와; 상기 블라인드 마스크를 이송시켜, 워크의 테두리에 선택적으로 비노광영역을 생성시키며, 광원이 통과하는 어파쳐(aperture)로부터 4mm 이내로 인접하는 높이에 위치하는 블라인드 마스크 장치를 구비한 것을 특징으로 한다.
이러한 구성의 종래의 주변노광용 블라인드 마스크 장치를 구비한 노광헤드는 노광헤드에 블라인드 마스크를 장착하여 비노광영역을 생성할 수 있지만, FPD의 크기가 클 경우, 블라인드 마스크의 이동 시 블라인드 마스크에 진동이 발생하여 어파쳐를 손상시키는 문제점이 있었다.
또한, 블라인드 마스크를 구동시키기 위한 구동기구가 별도로 설치되어야 하기 때문에 기존의 노광장치에 쉽게 적용할 수 없는 문제점이 있었다.
본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 광원에 의해 노광되는 영역을 자유롭게 변경하여 다양한 형태의 패턴을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 기존의 노광장치에도 용이하게 구성하여 기존의 노광장치에서 제작할 수 있는 패턴의 사이즈 외에 다른 사이즈의 패턴을 형성할 수 있다.
또한, 블라인드 마스크의 이동 시 발생하는 진동에 의한 어파쳐의 손상을 방지할 수 있다.
상기한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에 있어서, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및 상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함한다.
상기 이너셔터는 판 형상의 차단커버, 및 상기 위치검출유닛의 이동 시 상기 차단커버의 떨림을 방지하도록 상기 차단커버의 강성을 보강하는 보강판을 포함할 수 있다.
상기 차단커버는 상기 차단커버의 단부에서 절곡되어 상기 차단커버의 강성을 보강하는 절곡부를 포함할 수 있다.
상기 이너셔터는 상기 이너셔터를 상기 위치검출유닛에 고정하기 위한 연결부를 포함할 수 있다.
상기 아웃셔터는 상기 아웃셔터의 무게를 감소시키기 위해 관통된 형태로 복수 개의 공간이 형성된 프레임, 및 상기 공간들을 통해 상기 광원의 빛이 통과되는 것을 방지하도록 상기 공간들을 밀폐하는 차단막을 포함할 수 있다.
상기 아웃셔터는 상기 위치검출유닛과 상기 차단부재를 결합하는 결합부재를 포함할 수 있다.
기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에서 상기 위치검출유닛에 결합되어 광원을 차단하는 노광장치용 셔터에 있어서, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및 상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함한다.
본 발명에 따르면, 이너셔터에 의해 광원이 조사되는 부분을 일부 가려 기판에 다양한 패턴을 노광시킬 수 있을 뿐만 아니라, 아웃셔터가 설치되어 이너셔터에 가려진 외측 부분 즉 비노광영역에 광원의 빛이 침투하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 이너셔터에 보강판을 부착하고, 차단커버의 양측면을 상향으로 돌출시켜 이너셔터의 강성을 보강함으로써, 이너셔터의 이동 시 이너셔터의 진동에 의한 부압마스크의 파손을 방지할 수 있다.
또한, 이너셔터를 노광장치에 설치된 위치검출유닛에 설치하여 별도의 구동기구를 설치할 필요가 없기 때문에 제작비용을 감소시킬 수 있다.
또한, 아웃셔터를 관통된 공간이 형성된 프레임과 공간을 차단하는 차단막으로 구성하여 아웃셔터의 무게를 감소시킴으로써, 아웃셔터의 무게로 인한 위치검출유닛에 부하가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
도1은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 사시도이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 측단면도이다.
도3은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 이너셔터의 사시도이다.
도4는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 다른 형태의 이너셔터의 사시도이다.
도5는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 또 다른 형태의 이너셔터의 다른 형태의 사시도이다.
도6은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 이너셔터의 결합한 상태를 도시한 사시도이다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 아웃셔터의 사시도이다.
도8은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 다른 형태의 아웃셔터의 사시도이다.
도9는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 작동상태를 도시한 평면도이다.
도10은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 다른 작동상태를 도시한 평면도이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 측단면도이다.
도3은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 이너셔터의 사시도이다.
도4는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 다른 형태의 이너셔터의 사시도이다.
도5는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 또 다른 형태의 이너셔터의 다른 형태의 사시도이다.
도6은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 이너셔터의 결합한 상태를 도시한 사시도이다.
도7은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 아웃셔터의 사시도이다.
도8은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치를 구성하는 다른 형태의 아웃셔터의 사시도이다.
도9는 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 작동상태를 도시한 평면도이다.
도10은 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치의 다른 작동상태를 도시한 평면도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하도록 한다.
먼저, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 광원(230)을 포함할 수 있다.
이 광원(230)은 기판(200)에서 노광을 수행할 수 있도록 빛을 제공할 수 있다.
여기서, 기판(200)은 FPD용 평판글라스일 수 있다.
한편, 광원(230)은 하기에 설명될 위치검출유닛(110)으로 설정된 조사범위 내에서만 빛을 제공할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)은 부압마스크(220)를 포함할 수 있다.
이 부압마스크(220)는 기판(200)과 광원(230)의 사이에 설치되는 마스크(210)가 부착되어 마스크(210)를 고정시킬 수 있다.
한편, 부압마스크(220)는 정전기를 발생시켜 정전기에 의해 마스크(210)가 부압마스크(220)에 부착되는 형태로 마스크(210)를 고정시킬 수 있다.
이때, 마스크(210)은 부압마스크(220)의 저면에 부착될 수 있다.
도1 내지 도5, 도9 내지 도10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 위치검출유닛(110)을 포함할 수 있다.
이 위치검출유닛(110)은 기판(200)에 조사되는 광원(230)의 조사범위를 설정할 수 있다.
한편, 위치검출유닛(110)은 복수 개로 구성될 수 있다.
그리고, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 마스크(210)에 형성된 복수 개의 마크를 각각 인식하여 광원(230)의 조사범위를 설정할 수 있다.
또한, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 노광장치(100)에서 X축,Y축, 및 Z축의 방향으로 이동하도록 설치될 수 있으며, 위치검출유닛(110)은 부압마스크(220)와 광원(230)의 사이에 배치될 수 있다.
여기서, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 프론트라이트(FR), 프론트레프트(FL), 리어라이트(LR), 리어라이트(LL)로 총 4개로 구성될 수 있다.
한편, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 기판(200)의 크기에 따라 기판(200)을 복수의 구역을 나눠 하나의 기판(200)에 복수 회 노광시킬 수 있도록 광원(230)을 마스크(210)에 형성된 마커를 감지하여 광원(230)을 이동시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 마스크(210)를 포함할 수 있다.
이 마스크(210)는 기판(200)에 광원(230)의 빛이 투과하여 광학적인 패턴을 형성할 수 있도록 패턴과 대응되는 형상으로 천공되어 형성될 수 있다.
여기서, 기판(200)에 형성되는 패턴은 칼라필터 패턴인 R패턴, G패턴, B패턴일 수 있다.
한편, 마스크(210)는 부압마스크(220)의 저면에 부착되는 형태로 FPD용 노광장치(100)에 설치될 수 있으며, 마스크(210)는 패턴에 따라 교체하여 설치할 수 있다.
그리고, 마스크(210)는 기판(200)의 크기와 동일하거나 작은 크기로 형성될 수 있으며, 마스크(210)에는 광원(230)의 위치를 설정하기 위해 위치검출유닛(110)이 위치를 파악하는 마커가 형성될 수 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 이너셔터(120)를 포함할 수 있다.
이 이너셔터(120)는 조사범위 내에서 광원(230)의 일부를 가려 패턴이 형성되는 기판(200)의 유효영역 내에서 패턴이 형성되지 않는 비유효영역을 형성할 수 있다.
그리고 이너셔터(120)은 위치검출유닛(110)에 결합되어 위치검출유닛(110)의 이동시 함께 이동할 수 있으며, 이너셔터(120)은 기판(200)으로의 빛이 새는 것을 최소화하도록 마스크(210)와 가장 인접한 거리인 위치검출유닛(110)의 하부에 결합될 수 있다.
한편, 이너셔터(120)은 실시예와 같이 기판(200)의 유효영역 내의 둘레를 가려 미리 설정된 크기의 패턴보다는 작은 크기의 패턴이 노광되도록 구성될 수도 있다.
그리고, 각 위치검출유닛(110)에 설치되는 이너셔터(120)는 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 그 형상이 각각 다르게 형성될 수 있으며, 위치검출유닛(110)이 네개로 구성된 경우, 각 위치검출유닛(110)에 설치된 이너셔터(120)들이 모여 가운데가 빈 사각형의 형태로 가려지도록 구성될 수도 있다.
이때, 각 위치검출유닛(110)에 설치되는 이너셔터(120)는 도 6에 도시된 바와 같이, 위치검출유닛(110)이 이동할 때, 서로 마주하는 이너셔터(120)의 끝단이 서로 접촉되어 간섭되는 것을 방지하기 위해 서로 다른 높이를 가지도록 설치될 수 있다.
그리고, 복수 개의 위치검출유닛(110)에서 일부의 위치검출유닛(110)에는 이너셔터(120)가 설치되고, 나머지 일부에는 위치검출유닛(110)이 설치되지 않도록 구성될 수도 있음은 물론이다.
한편, 이너셔터(120)는 차단커버(121)를 포함할 수 있다.
이 차단커버(121)는 마스크(210)의 상면에 안착되어 광원(230)의 빛이 유효영역 내에서 비유효영역에 조사되는 것을 차단할 수 있다.
한편, 차단커버(121)는 판의 형상으로 형성될 수 있고, 상부에서 바라봤을 때 직선형태이거나, 미리 설정된 각도, 예컨대, "ㄴ"자와 같이 직각을 이루도록 절곡된 형상으로도 형성될 수 있다.
또한, 차단커버(121)의 둘레 중 일부 또는 전체에는 차단커버(121)의 끝단에서 상향 또는 하향 돌출된 절곡부(123)가 형성되어 이너셔터(120)의 강성을 증대시킬 수 있다.
여기서, FPD용 노광장치(100)에 설치되는 기판(200)은 상대적으로 큰 크기를 가지고 있으며, 이로 인해 이너서텨(120)가 가려할 부분이 커지기 때문에 이너셔터(120)의 크기가 상대적으로 커질 수 밖에 없다.
그러나, 위치검출유닛(110)은 부압마스크(220)의 상부로 약 7mm 가량 밖에 이격되지 않기 때문에 위치검출유닛(110)의 이동 시 발생하는 진동에 의해 이너셔터(120)이 진동하여 부압마스크(220)에 손상을 가져올 수 있다.
따라서, 차단커버(121)에 절곡부(123)를 형성하여 강성을 부여함으로써, 위치검출유닛(110)의 이동 시 이너셔터(120)가 진동하는 것을 방지함으로써, 이너셔터(120)의 진동에 의한 부압마스크(220)의 파손을 방지할 수 있다.
그리고, 이너셔터(120)는 보강판(125)을 포함할 수 있다.
이 보강판(125)은 절곡부(123)와 마찬가지로 차단커버(121)의 강성을 보강할 수 있다.
한편, 보강판(125)은 판의 형상으로 차단커버(121)에 덧대어지는 형태로 차단커버(121)에 용접되거나 볼트와 리벳과 같은 결합부재에 의해 결합될 수 있다.
또한, 이너셔터(120)는 연결부(127)를 포함할 수 있다.
이 연결부(127)는 이너셔터(120)를 위치검출유닛(110)을 결합할 수 있다.
한편, 연결부(127)는 사각형의 판의 형상으로 차단판(121)의 일부를 상부를 향하도록 절곡하는 형태로 형성될 수 있다.
그리고, 연결부(127)는 위치검출유닛(110)에 끼워지는 구조를 가지거나, 연결부(127)는 위치검출유닛의 측면에 맞대어져 볼트와 같은 결합부재에 의해 결합되는 형태로 이너셔터(120)를 위치검출유닛(110)에 결합시킬 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 아웃셔터(130)를 포함할 수 있다.
이 아웃셔터(130)는 FPD용 노광장치(100)를 상부에서 바라봤을 때, 광원(230)의 빛이 조사되는 조사범위에서 이너셔터(120)가 가려지는 부분의 외측에 위치되는 비유효영역으로 유입되는 광원(230)의 빛을 차단할 수 있다.
한편, 아웃셔터(130)는 이너셔터(120)가 위치되는 비유효영역의 외측에 위치될 수 있으며, 아웃셔터(130) 또한 이너셔터(120)와 함께 이동할 수 있도록 위치검출유닛(110)에 결합될 수 있다.
이때, 아웃셔터(130)는 이너셔터(120)가 위치검출유닛(110)에 결합되는 반대방향인 위치검출유닛(110)의 상부에 결합될 수 있다.
여기서, 아웃셔터(130) 또한 이너셔터(120)와 같이 복수 개의 위치검출유닛(110)에 각각 설치되거나 일부의 위치검출유닛(110)에만 설치될 수 있으며, 위치검출유닛(110)의 이동 시 끝단이 서로 간섭되지 않도록 서로 다른 높이를 가지도록 위치검출유닛(110)에 결합될 수 있다.
또한, 복수 개의 위치검출유닛(110)에 설치되는 아웃셔터(130)는 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 그 크기와 형상이 서로 다르게 형성될 수 있다.
그리고, 아웃셔터(130)는 프레임(133)과 차단막(135)을 포함할 수 있다.
이 프레임(133)은 무게를 감소시키기 위해 복수 개의 관통된 형태의 공간(134)이 형성될 수 있으며, 복수 개의 관통된 형태의 공간(134)을 형성하도록 복수 개의 막대를 격자형태로 연결하는 형태로 구성될 수 있다.
여기서, FPD용 노광장치(100)는 위치검출유닛(110)의 구동력에 한계가 있기 때문에 위치검출유닛(110)에 설치되는 아웃셔터(130)의 무게가 증가될 경우, 위치검출유닛(110)에 부하가 발생하여 위치검출유닛(110)이 부자연스럽게 이동되거나, 고장이 발생할 수 있다.
따라서, 아웃셔터(130)의 무게를 감소시키는 만큼 위치검출유닛(110)의 구동력을 보장할 수 있다.
차단막(135)은 무게를 감소시키기 위해 프레임(133)에 형성된 복수의 공간(134)들을 밀폐하여 광원(230)의 빛이 비유효영역으로 유입되는 것을 방지할 수 있다.
한편, 차단막(135)은 얇은 판의 형상으로 프레임의 상부 또는 하부를 덮는 형태로 복수의 공간(134)들을 밀폐할 수 있다.
이때, 차단막(135)은 알루미늄, 스테인리스 등으로 구현될 수 있다.
따라서, 프레임(133)의 상부에 차단막(135)을 안착시켜 차단부재(131)의 무게를 감소시킬 수 있고, 공간(134)의 사이로 광원(230)이 조사되는 것을 방지할 수 있다.
또한, 아웃셔터(130)는 결합부(137)를 포함할 수 있다.
이 결합부(137)는 위치검출유닛(110)에 아웃셔터(130)을 고정시킬 수 있다.
한편, 결합부재(137)는 프레임(133)에서 상부 또는 하부로 돌출되도록 프레임(133)에 설치될 수 있다.
그리고, 결합부(137)가 위치검출유닛(110)의 상부에 안착된 상태에서 볼트와 같은 결합부재에 의해 결합될 수 있다.
이상에서 설명한 각 구성 간의 작용과 효과를 설명한다.
본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치(100)는 복수 개의 위치검출유닛(110)이 서로 마주하는 측면에 각각 연결부(127)를 결합하는 형태로 위치검출유닛(110)과 이너셔터(120)를 연결한다.
그리고, 복수 개의 위치검출유닛(110)의 상부에 결합부재(137)를 안착시켜 결합하여 상부에서 바라봤을 때, 이너셔터(120)의 외측으로 아웃셔터(130)가 위치되도록 위치검출유닛(110)과 아웃셔터(130)를 결합한다.
이때, 복수 개의 이너셔터(120)와 복수 개의 아웃셔터(130)은 서로 간섭을 방지하도록 높낮이가 다르게 위치검출유닛(110)에 설치될 수 있다.
이와 같이 구성된 FPD용 노광장치(100)는 부압마스크(220)의 저면에 기판(200)에 형성할 패턴이 형성된 마스크(210)를 정전기에 의해 부착시키고, 마스크(210)의 하부로 기판(200)을 반입시킨다.
이렇게 기판(200)이 설치되면, 복수 개의 위치검출유닛(110)은 마스크(210)에 형성된 마크를 찾아 이동하여 광원(230)의 조사범위를 설정하고, 광원(230)을 빛을 조사하여 마스크(210)를 통해 패턴을 노광시킨다.
이때, 위치검출유닛(110)에는 이너셔터(120)가 설치되기 때문에 기판(200)에 형성할 패턴의 유효영역에서 일부를 가려 패턴이 형성되지 않는 비유효영역을 형성할 수 있다.
실시예에서는 이너셔터(120)가 패턴의 유효영역의 둘레를 가려, 실제의 패턴보다 작은 크기의 패턴을 기판(200)에 형성할 수 있다.
그리고, 광원(230)의 빛이 조사되는 조사범위 뿐만 아니라, 비조사범위는 아웃셔터(130)가 가려 광원(230)의 빛이 비조사영역으로 전달되어 발생할 수 있는 패턴형성의 오류를 방지할 수 있다.
따라서, 본 발명의 실시예에 따른 FPD용 노광장치는 이너셔터(120)가 패턴을 형성할 유효영역의 일부를 가려 비유효영역을 형성할 수 있기 때문에 다양한 형태의 패턴을 기판(200)에 노광시킬 수 있다.
또한, 아웃셔터(130)가 광원(230)의 조사범위 외의 부분을 가려 빛이 새어나감으로 인해 패턴의 불량 발생을 방지할 수 있다.
또한, 절곡부(123)와 보강판(125)에 의해 이너셔터(120)의 강성을 보강함으로써, 위치검출유닛(110)의 이동 시 진동에 의한 떨림을 방지하여 부압마스크(220)의 손상을 방지할 수 있다.
또한, 기존에 설치된 FPD용 노광장치(100)에도 용이하게 적용하여 기존에 FPD용 노광장치에서 형성할 수 없는 다양한 형상의 패턴을 기판(200)에 형성할 수 있다.
또한, 아웃셔터(130)를 관통된 공간(134)이 형성된 프레임(133)과 공간을 차단하는 차단막(135)으로 구성하여 아웃셔터(130)의 무게를 감소시켜 위치검출유닛(110)의 부하로 인한 고장 및 이상작동을 방지할 수 있다.
또한, 이너셔터(120)를 노광장치에 설치된 위치검출유닛(110)에 설치하여 별도의 구동기구를 설치할 필요가 없기 때문에 제작비용을 감소시킬 수 있다.
이상에서 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 아니하며, 본 발명의 실시예로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 용이하게 변경되어 균등한 것으로 인정되는 범위의 모든 변경 및 수정을 포함한다.
100 : FPD용 노광장치 110 : 위치검출유닛
120 : 이너셔터 121 : 차단커버
123 : 절곡부 125 : 보강판
127 : 연결부재 130 : 아웃셔터
131 : 차단부재 133 : 프레임
134 : 공간 135 : 차단막
137 : 결합부재 139 : 결합공
200 : 기판 210 : 마스크
220 : 부압마스크 230 : 광원
120 : 이너셔터 121 : 차단커버
123 : 절곡부 125 : 보강판
127 : 연결부재 130 : 아웃셔터
131 : 차단부재 133 : 프레임
134 : 공간 135 : 차단막
137 : 결합부재 139 : 결합공
200 : 기판 210 : 마스크
220 : 부압마스크 230 : 광원
Claims (7)
- 기판에 빛을 조사하는 광원, 상기 광원과 상기 기판의 사이에 배치되어 상기 광원에 의해 상기 기판에 임의의 패턴을 노광시키는 마스크, 및 상기 광원의 빛을 조사할 위치를 검출하는 복수 개의 위치검출유닛을 포함하는 FPD용 노광장치에 있어서,
상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하고 상기 광원의 조사범위 중 일부를 가려 상기 기판의 일부에 노광을 방지하는 이너셔터, 및
상기 이너셔터의 외측에 배치되어 상기 이너셔터의 외측부분을 가려 상기 이너셔터의 외측부분이 노광되는 것을 방지하고, 상기 위치검출유닛에 고정되어 상기 위치검출유닛을 따라 이동하는 아웃셔터를 포함하고,
상기 이너셔터는 판 형상의 차단커버, 및 상기 위치검출유닛의 이동 시 상기 차단커버의 떨림을 방지하도록 상기 차단커버의 강성을 보강하는 보강판을 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치. - 삭제
- 제1 항에 있어서,
상기 차단커버는
상기 차단커버의 단부에서 절곡되어 상기 차단커버의 강성을 보강하는 절곡부를 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치. - 제1 항에 있어서,
상기 이너셔터는
상기 이너셔터를 상기 위치검출유닛에 고정하기 위한 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치. - 제1 항에 있어서,
상기 아웃셔터는
상기 아웃셔터의 무게를 감소시키기 위해 관통된 형태로 복수 개의 공간이 형성된 프레임, 및
상기 복수 개의 공간을 통해 상기 광원의 빛이 통과되는 것을 방지하도록 상기 복수 개의 공간을 밀폐하는 차단막을 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치. - 제5 항에 있어서,
상기 아웃셔터는
상기 위치검출유닛과 상기 프레임을 결합하는 결합부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 FPD용 노광장치. - 삭제
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140173648A KR101715785B1 (ko) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | Fpd용 노광장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140173648A KR101715785B1 (ko) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | Fpd용 노광장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160068226A KR20160068226A (ko) | 2016-06-15 |
KR101715785B1 true KR101715785B1 (ko) | 2017-03-13 |
Family
ID=56134959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140173648A KR101715785B1 (ko) | 2014-12-05 | 2014-12-05 | Fpd용 노광장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101715785B1 (ko) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013054144A (ja) | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Nikon Corp | 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP2014112247A (ja) | 2009-03-04 | 2014-06-19 | Nikon Corp | 移動体装置、露光装置、及び移動方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102483580B (zh) * | 2009-08-20 | 2015-04-01 | 株式会社尼康 | 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法 |
CN103782239B (zh) * | 2011-08-30 | 2017-09-05 | 株式会社尼康 | 基板处理装置及基板处理方法、曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法、及平板显示器的制造方法 |
-
2014
- 2014-12-05 KR KR1020140173648A patent/KR101715785B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014112247A (ja) | 2009-03-04 | 2014-06-19 | Nikon Corp | 移動体装置、露光装置、及び移動方法 |
JP2013054144A (ja) | 2011-09-02 | 2013-03-21 | Nikon Corp | 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160068226A (ko) | 2016-06-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN107109622B (zh) | 蒸镀掩模的制造方法、蒸镀掩模制造装置、激光用掩模及有机半导体元件的制造方法 | |
US20180052395A1 (en) | Exposure method, substrate and exposure apparatus | |
JP2011097112A5 (ko) | ||
TWI628507B (zh) | 用於沈積之遮罩總成 | |
JP5757245B2 (ja) | 露光方法および露光装置 | |
KR101254442B1 (ko) | 컬러 필터 및 컬러 필터의 제조 방법 | |
KR101715785B1 (ko) | Fpd용 노광장치 | |
CN111172496A (zh) | 激光用掩模 | |
JP2009194335A (ja) | 露光装置の基板支持機構 | |
JP4556867B2 (ja) | 露光方法 | |
KR20120018151A (ko) | 컬러 필터, 액정 표시 장치, 컬러 필터의 제조 방법 | |
JP2013122404A (ja) | X線検査装置 | |
KR20190031234A (ko) | 포토마스크, 포토마스크 제조 방법, 및 포토마스크를 사용한 컬러 필터의 제조 방법 | |
JP4390512B2 (ja) | 露光方法及びその方法で用いられる基板のアライメント方法 | |
JP6037199B2 (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JP4488685B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2007121999A (ja) | 液晶表示装置用カラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP2008233616A (ja) | 周辺露光装置およびパネル構造物の製造方法 | |
KR101801661B1 (ko) | 블라인드, 이를 포함하는 노광 장치 및 상기 노광 장치의 구동 방법 | |
KR100684719B1 (ko) | 다이렉트 이메이징 노광기를 이용한 노광 방법 | |
JP2005091790A (ja) | 柱状スペーサ形成のための露光方法、液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板および液晶表示装置 | |
JP2009168507A (ja) | 透明基板のエッジ位置検出方法及びエッジ位置検出装置 | |
KR101883186B1 (ko) | 블라인드를 포함하는 노광 장치 및 이의 구동 방법 | |
JP4122579B2 (ja) | 照明領域設定装置、露光装置及び露光方法 | |
KR20210052799A (ko) | 마스크, 마스크를 포함하는 패터닝 장치 및 표시 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
R401 | Registration of restoration |