KR101670878B1 - Meg 재생 시스템 - Google Patents
Meg 재생 시스템 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101670878B1 KR101670878B1 KR1020150008068A KR20150008068A KR101670878B1 KR 101670878 B1 KR101670878 B1 KR 101670878B1 KR 1020150008068 A KR1020150008068 A KR 1020150008068A KR 20150008068 A KR20150008068 A KR 20150008068A KR 101670878 B1 KR101670878 B1 KR 101670878B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- meg
- reflux
- rich meg
- rich
- pretreatment vessel
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D17/00—Separation of liquids, not provided for elsewhere, e.g. by thermal diffusion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/0011—Heating features
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/10—Vacuum distillation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
- B01D3/32—Other features of fractionating columns ; Constructional details of fractionating columns not provided for in groups B01D3/16 - B01D3/30
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
Abstract
본 발명은 MEG의 재생 시스템에 있어서, 리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑; 및 상기 증류탑에 순환 공급되는 리플럭스를 응축시키도록 설치되고, 상기 증류탑의 전단에 설치되는 프리트리먼트 베슬 전단의 리치 MEG를 고온상태의 리플럭스의 열교환에 의해 응축시키는 리플럭스 콘덴서;를 포함하는 MEG 재생 시스템에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, MEG 재생시 고온의 리플럭스의 응축시 상대적으로 저온인 리치 MEG를 사용함으로써, 에너지 효율을 높이도록 하고, 운영비용(Operating Expenditure, OPEX)을 줄일 수 있다.
본 발명에 따르면, MEG 재생시 고온의 리플럭스의 응축시 상대적으로 저온인 리치 MEG를 사용함으로써, 에너지 효율을 높이도록 하고, 운영비용(Operating Expenditure, OPEX)을 줄일 수 있다.
Description
본 발명은 MEG 재생 시스템에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 해양 탑사이드(Topside) 공정 중 하나인 MEG 재생공정에서 슬립 스트림 컨셉(Slip Stream Concept)을 적용시 폐열을 회수하여 에너지효율을 증대시킬 수 있도록 구성된 MEG 재생 시스템에 관한 것이다.
일반적으로, MEG(Mono Ethylene Glycol)는 부동액으로 많이 사용되는데, 해저(Subsea) 시추작업에서 해저 파이프라인에서 발생되는 하이드레이트(Hydrate)의 생성을 근본적으로 차단하는 열역학적 억제제(Thermodynamic Hydrate Inhibitor, THI)로 사용된다.
도 1은 종래의 기술에 따른 MEG 순환 시스템을 도시한 구성도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 MEG 순환 공급 시스템(10)은 해상에 위치하는 탑사이드(Topside)에서 생성된 MEG를 해저에 위치하는 웰헤드(Wellhead; 1)로 주입하여 배관에서 하이드레이트의 생성을 방지하는 기능을 수행한다. MEG는 웰헤드(1)로부터 생성되는 물과 함께 세퍼레이터(Separator; 11)로 이동하여 물과 가스 등이 1차적으로 분리되도록 한 다음, MEG 재생 패키지(MEG Regeneration Package; 12)로 공급된다. 세퍼레이터(11)는 웰헤드(1)로부터 이동한 리치 MEG로부터 가스와 컨덴세이트를 분리하여, 가스 트리트먼트(Gas Treatment) 및 컨덴세이트 트리트먼트(Condensate Treatment)를 위해 보내게 된다. MEG 재생 패키지(12)는 세퍼레이터(11)로부터 다량의 물, 염 성분을 포함한 리치(Rich) MEG를 공급받아 물과 염성분을 제거하여 최종 생성되는 린(Lean) MEG를 웰헤드(1)로 주입하게 된다.
이와 같이 슬립 스트림 컨셉(Slip Stream Concept)을 이용한 MEG 재생공정은 물과 MEG를 분리하기 위한 상압증류공정과 물/MEG 혼합액에서 염을 제거하기 위한 진공증류공정으로 이루어져 있으며, 히팅과 쿨링에 대한 부담이 가장 큰 탑사이드(Topside) 공정 중의 하나이다. 히팅과 쿨링에 대한 부담이 크다는 것은 공정을 운영하는데, 소요되는 운영비용(Operating Expenditure, OPEX)이 크다는 의미가 되므로 에너지 측면에서 최적화된 공정을 구성하는 것이 매우 중요한 설계가 될 수 있다. 따라서, 종래의 MEG 재생공정에서 에너지 효율을 증대시킬 필요성을 가지게 되었다.
본 발명은 상기한 바와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, MEG 재생에 있어서, 폐열을 회수하여 리치(Rich) MEG의 가열에 사용되도록 함으로써 에너지 효율을 높이고, 운영비용(Operating Expenditure, OPEX)을 줄이는데 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, MEG의 재생 시스템에 있어서, 리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑; 및 상기 증류탑에 순환 공급되는 리플럭스를 응축시키도록 설치되고, 상기 증류탑의 전단에 설치되는 프리트리먼트 베슬 전단의 리치 MEG를 고온상태의 리플럭스의 열교환에 의해 응축시키는 리플럭스 콘덴서;를 포함하는 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템이 제공된다.
상기 MEG 재생 시스템은, 리치 MEG로부터 2가 염을 제거하는 프리트리트먼트 베슬을 포함하는 전처리부; 상기 전처리부로부터 리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑과 상기 증류탑에 순환 공급되는 리플럭스를 응축시키도록 설치되고, 상기 증류탑의 전단에 설치되는 프리트리먼트 베슬 전단의 리치 MEG를 고온상태의 리플럭스와의 열교환에 의해 가열시키는 리플럭스 콘덴서를 포함하는 재농축부; 및 상기 재농축부를 통과한 린 MEG에 잔여하는 염을 제거하는 플래시 세퍼레이터를 포함하는 재생부를 포함할 수 있다.
상기 증류탑은 상압증류공정에 의해 리치 MEG로부터 물을 제거하는 것일 수 있다.
상기 플래시 세퍼레이터는 진공증류공정에 의해 린 MEG로부터 염을 제거하는 것일 수 있다.
상기 리플럭스 콘덴서는, 상기 리치 MEG의 순환을 개폐시키는 유량조절밸브가 설치되는 열교환라인에 의해 상기 프리트리트먼트 베슬의 전단으로부터 리치 MEG를 순환 공급받는 것일 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, MEG 재생 시스템에 있어서, 고온의 리플럭스(Reflux)의 쿨링 미디엄(cooling medium)으로서 상대적으로 저온인 리치 MEG를 이용함으로써, 시스템의 쿨링 듀티를 저감시키는 것을 특징으로 하는 MEG 재생 시스템이 제공된다.
본 발명에 따르면, MEG 재생에 있어서, 고온 상태의 린(Lean) MEG이나 응축수 또는 리플럭스(Reflux)의 폐열을 회수하여, 리치(Rich) MEG의 가열에 사용함으로써 에너지 효율을 높이도록 하고, 운영비용(Operating Expenditure, OPEX)을 줄일 수 있다.
도 1은 종래의 기술에 따른 MEG 순환 시스템을 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대한 구성 및 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다. 또한 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(1000)은 시스템(1000) 내의 폐열을 이용하는 폐열회수부에 의해 리치 MEG(Rich Mono Ethylene Glycol)를 가열되도록 하는데, 이를 위해 예컨대 리치 MEG를 공급받아 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑(210)과, 증류탑(210)에 공급되기 전의 리치 MEG를 시스템(1000) 내의 폐열을 이용하여 가열시키는 폐열회수부를 포함한다. 폐열회수부는 본 실시예에서 증류탑(210)의 전단에 설치될 수 있고, 통과하는 리치 MEG를 증류탑(210)의 후단에 위치하는 리보일러(Reboiler; 270)를 통과한 고온상태의 린(Lean) MEG와의 열교환에 의해 가열시키는 열교환기(400)로 이루어질 수 있다.
열교환기(400)는 제 1 이송라인(120)을 통과하는 리치 MEG를 열교환라인(410)을 통과하는 린 MEG와의 열교환에 의해 가열되도록 한다. 여기서 열교환라인(410)은 린 MEG을 이송시키는 제 2 이송라인(260)으로부터 연장되도록 마련될 수 있다.
본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(1000)은 MEG로부터 2가염 이온을 석출시키기 위한 전처리부(Pretreatment Section; 100), MEG로부터 물을 분리하기 위한 재농축부(Reconcentration Section; 200), 그리고 배출되는 MEG의 염 농도를 낮추도록 하는 재생부(Reclamation Section; 300)를 포함할 수 있다.
전처리부(100)는 웰헤드(Wellhead)로부터 세퍼레이터(Separator)를 통과한 리치 MEG가 공급라인(150)을 통해서 프리트리트먼트 베슬(110)로 공급되고, 프리트리트먼트 베슬(110)에서 2가염을 석출시킨 리치 MEG가 제 1 이송라인(120)을 통해서 재농축부(200)로 공급된다. 프리트리트먼트 베슬(110)은 배기를 위한 배기라인(114)이 설치된다. 제 1 이송라인(120)으로부터 분기되어 공급라인(150)에 연결되는 재공급라인(121)에는 리치 MEG의 가열을 위한 리사이클 히터(Recycle Heater; 140)가 설치된다.
전처리부(100)는 Fe2 +, Mg2 +, CO3 2 -와 같은 2가염 성분이 온도가 높아질수록 잘 석출되는 특성을 이용하여, 프리트리트먼트 베슬(110)에서 2가염을 제거해 준다. 프리트리트먼트 베슬(110)로 들어오는 리치 MEG는 온도가 낮기 때문에 리사이클 히터(140)를 이용하여 온도를 증가시켜서 염이 석출되기 쉬운 조건을 조성한다. 석출된 2가염은 전처리부(100)와 재농축부(200) 사이에 설치된 원심분리기(Centrifuge)에서 제거될 수 있다.
재농축부(200)는 제 1 이송라인(120)을 통해서 리치 MEG가 공급되는 증류탑(210)이 마련되고, 증류탑(210)으로부터 물이 분리된 린(Lean) MEG가 제 2 이송라인(260)을 통해서 재생부(300)로 공급된다. 증류탑(210)의 탑정에는 리플럭스(Reflux)가 순환되기 위한 리플럭스라인(220)이 연결되고, 리플럭스라인(220)에는 리플럭스의 응축 및 이송 등을 위한 리플럭스 콘덴서(Reflux Condenser; 230), 리플렉스 드럼(Reflux Drum; 240) 및 리플럭스 펌프(Reflux Pump; 250)가 각각 설치된다. 리플럭스라인(220)에는 응축수의 배출을 위한 배출라인(221)이 연결된다.리플렉스 드럼(240)에는 배기를 위한 배기라인(241)이 연결된다. 제 2 이송라인(260)에는 MEG의 가열을 위한 리보일러(MEG Reboiler; 270)가 설치되고, 리보일러(270)에는 MEG가 증류탑(210)으로 회수되어 순환되기 위한 회수라인(271)이 연결된다.
재농축부(200)는 상압에서 물의 끓는점이 약 100℃이고, MEG의 끓는점이 약 200℃인 두 물질 간의 끓는 점 차이를 이용하여, 증류탑(210)과 리보일러(270)를 이용한 상압증류법을 통해 물과 MEG를 쉽게 분리시킨다. 즉, 재농축을 통해서 리치 MEG에서 물을 제거해 주고, 물이 제거된 린 MEG는 재생부(300)로 이송되도록 한다.
재생부(300)에는 제 2 이송라인(260)을 통해서 린 MEG가 공급되는 플래쉬 세퍼레이터(Flash Separator; 310)가 마련되고, 제 2 이송라인(260)에서 플레쉬 세퍼레이터(310)의 후단에 콘덴서(320)와 드럼(330)이 각각 설치된다. 드럼(330)에는 베큠 펌프(Vacuum Pump) 측으로의 연결을 위한 흡입라인(331)이 연결된다. 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하부에는 슬러리 형태의 유체를 원심분리기(Centrifuge) 측으로 배출시키도록 배출라인(340)이 연결되고, 배출라인(340)에는 순환라인(341)이 분기되어 세퍼레이터(310)에 연결된다. 배출라인(340)에는 플래쉬 펌프(350)가 설치되고, 순환라인(341)에는 리사이클 히터(360)가 설치된다.
재생부(300)는 재농축부(200)를 통과한 린 MEG가 여전히 다량의 염 성분을 포함하고 있으므로, 린 MEG를 해저의 웰헤드로 주입하기 전에 린 MEG로부터 염을 제거해 주는 공정을 수행하게 된다. 이러한 염 제거 공정의 핵심은 진공상태에서 쉽게 증발되는 원리를 이용한 진공증류기법인데, 이는 플래쉬 세퍼레이터(310)의 상부에 진공을 형성시킴으로써 증발이 이루어지도록 하고, 증발되지 못한 염을 슬러리 형태로 플래쉬 세퍼레이터(310)의 하부로 보내어 원심분리기를 통해 제거되도록 한다.
이와 같은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(1000)에 따르면, 리보일러(270)를 통과한 고온상태의 린 MEG를 증류탑(210)으로 들어가는 리치 MEG 스트림과 열교환을 시켜줌으로써, 리치 MEG의 온도를 상승시킴으로써 리보일러(270)의 부담을 저감시켜 준다. 증류탑(210)을 지난 고온상태의 린 MEG는 탱크로 저장되기 전에 냉각되어야 하고, 증류탑(210)으로 들어가는 리치 MEG는 온도가 높아져야 하므로, 이 두 스트림이 열교환을 이루게 함으로써 가열과 냉각에 대한 부담을 동시에 줄일 수 있도록 한다.
재생부(300)를 통과한 최종생성물인 린 MEG는 150℃ 이상의 높은 온도를 가진다. 일반적으로는 이러한 높은 온도를 가지는 린 MEG를 탱크로 보내기 전에 냉각시켜야 하는데, 열교환기(400)에 의해 린 MEG가 가지는 폐열을 이용할 수 있을 뿐만 아니라, 이로 인한 린 MEG의 냉각 부담을 줄이게 된다. 또한 열교환기(400)에 의해 100~150℃ 고온의 린 MEG와 상대적으로 저온인 리치 MEG 간에 열교환이 이루어지도록 하여 리치 MEG의 가열 부담을 줄이게 되고, 이러한 리치 MEG의 가열 효과는 MEG의 유량이 커질수록 더 큰 효과를 볼 수 있다.
도 3은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(2000)은 시스템(2000) 내의 폐열을 이용하는 폐열회수부에 의해 리치(Rich) MEG(Mono Ethylene Glycol)가 가열되도록 하는데, 이를 위해 예컨대 폐열회수부는 증류탑(210)의 전단에 설치되는 프리트리트먼트 베슬(110)의 전단에 설치되고, 통과하는 리치 MEG를 증류탑(210)의 탑정에서 배출되는 고온상태의 응축수와의 열교환에 의해 가열시키는 열교환기(500)로 이루어질 수 있다. 열교환기(500)는 제 1 이송라인(120)을 통해서 통과하는 리치 MEG를 증류탑(210)의 탑정으로부터 배출라인(510)을 통해서 배출되는 응축수와의 열교환에 의해 가열되도록 한다.
한편 본 발명의 제 2 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(2000)은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(1000)과 동일한 부분에 대해서 동일한 부호를 사용하여 그 설명을 생략하기로 한다.
이와 같이 본 발명의 제 2 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(2000)에 따르면, 증류탑(210) 탑정의 최종 생산물인 응축수의 온도가 리치 MEG 스트림의 온도에 비해서 높다. 따라서 이러한 응축수를 열교환기(500)에서 리치 MEG와 열교환을 이루게 함으로써, 리치 MEG의 온도를 상승시키며, 이로 인해 응축수가 가지고 있는 폐열을 활용할 수 있게 된다. 또한 열교환기(500)를 통과한 응축수는 자동적으로 온도가 감소하므로 기존 공정에서 필요하였던 응축수 쿨러를 별도로 설치할 필요가 없게 된다.
도 4는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템을 도시한 구성도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(3000)은 시스템(1000) 내의 폐열을 이용하는 폐열회수부에 의해 리치(Rich) MEG(Mono Ethylene Glycol)가 가열되도록 하는데, 이를 위해 예컨대 폐열회수부는 증류탑(210)에 순환 공급되는 리플럭스(Reflux)를 응축시키도록 설치되고, 증류탑(210)의 전단에 설치되는 프리트리먼트 베슬(110) 전단의 리치 MEG를 고온상태의 리플럭스와의 열교환에 의해 가열시키는 리플럭스 콘덴서(Reflux Condenser; 600)로 이루어질 수 있다. 리플럭스 콘덴서(600)는 리치 MEG의 순환을 개폐시키는 유량조절밸브(620)가 설치되는 열교환라인(610)에 의해 프리트리트먼트 베슬(110)의 전단으로부터 리치 MEG를 순환 공급받게 된다. 따라서 유량조절밸브(620)의 동작에 의해 리플럭스 콘덴서(600) 측으로의 리치 MEG 순환량을 조절하게 된다.
한편 본 발명의 제 3 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(3000)은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(1000)과 동일한 부분에 대해서 동일한 부호를 사용하여 그 설명을 생략하기로 한다.
이와 같은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 폐열을 이용한 MEG 재생 시스템(3000)에 따르면, 리플럭스 콘덴서(600)는 리보일러(270)의 가열 부담 못지 않게 큰 냉각 부담을 가지게 되는데, 이를 활용하기 위해 리플럭스 콘덴서(600)가 냉각수 대신 프리트리트먼트 베슬(110) 전단의 리치 MEG를 냉매로서 사용할 수 있도록 한다. 리플럭스 콘덴서(600)에서 열교환된 리치 MEG는 프리트리트먼트 베슬(110)로 유입된다.
기존 공정에서는 리플럭스 콘덴서(600)에서 증기를 응축시키기 위하여, 냉각수를 사용하나, 이를 프리트리트먼트 베슬(110) 전단의 리치 MEG로 대체할 경우, 리치 MEG는 예열의 효과를 보게 되므로 리사이클 히터(140)의 부담을 줄일 수 있고, 저온 측에서는 냉각수를 사용하지 않아도 되므로 냉각에 대한 부담을 줄이는 효과를 가지게 된다. 또한 요구되는 냉각 부담에 따라 열교환라인(610)에 유량조절밸브(620)를 설치함으로써 원하는 양의 리치 MEG가 열교환되도록 조절할 수 있다.
본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않고, 본 발명의 기술적 요지를 벗어나지 아니하는 범위 내에서 다양하게 수정 또는 변형되어 실시될 수 있음은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어서 자명한 것이다.
100 : 전처리부 110 : 프리트리트먼트 베슬
114 : 배기라인 120 : 제 1 이송라인
121 : 재공급라인 130 : 리사이클 펌프
140 : 리사이클 히터 150 : 공급라인
200 : 재농축부 210 : 증류탑
220 : 리플럭스라인 221 : 배출라인
230 : 리플럭스콘덴서 240 : 리플럭스 드럼
241 : 배기라인 250 : 리플럭스 펌프
260 : 제 2 이송라인 270 : 리보일러
271 : 회수라인 300 : 재생부
310 : 플래쉬 세퍼레이터 320 : 콘덴서
330 : 드럼 331 : 흡입라인
340 : 배출라인 341 : 순환라인
350 : 플래쉬 펌프 360 : 리사이클 히터
400,500 : 열교환기 410,610 : 열교환라인
510 : 배출라인 600 : 리플럭스 콘덴서
620 : 밸브
114 : 배기라인 120 : 제 1 이송라인
121 : 재공급라인 130 : 리사이클 펌프
140 : 리사이클 히터 150 : 공급라인
200 : 재농축부 210 : 증류탑
220 : 리플럭스라인 221 : 배출라인
230 : 리플럭스콘덴서 240 : 리플럭스 드럼
241 : 배기라인 250 : 리플럭스 펌프
260 : 제 2 이송라인 270 : 리보일러
271 : 회수라인 300 : 재생부
310 : 플래쉬 세퍼레이터 320 : 콘덴서
330 : 드럼 331 : 흡입라인
340 : 배출라인 341 : 순환라인
350 : 플래쉬 펌프 360 : 리사이클 히터
400,500 : 열교환기 410,610 : 열교환라인
510 : 배출라인 600 : 리플럭스 콘덴서
620 : 밸브
Claims (7)
- MEG의 재생 시스템에 있어서,
리치 MEG를 공급받아 상기 리치 MEG로부터 물을 제거하는 증류탑;
상기 증류탑으로 공급되는 리치 MEG로부터 2가염을 석출하는 프리트리트먼트 베슬;
상기 프리트리트먼트 베슬로 공급되는 리치 MEG를 가열하는 가열부;
상기 증류탑 및 프리트리트먼트 베슬이 마련되는 공급라인; 및
상기 증류탑으로부터 고온의 탑정생성물을 순환시키는 리플럭스라인;을 포함하고,
상기 가열부에서는 상기 프리트리트먼트 베슬로 공급되는 리치 MEG와 상기 고온의 탑정생성물이 열교환하여 상기 리치 MEG는 가열된 후 상기 프리트리트먼트 베슬 및 증류탑을 통해 린 MEG가 되고, 상기 탑정생성물은 상기 리치 MEG에 의해 냉각되는 것을 특징으로 하여,
상기 증류탑으로부터 배출되는 고온의 유체를 상기 증류탑으로 도입되는 저온의 리치 MEG를 가열하는 열매체로 활용함으로써 상기 탑정생성물의 쿨링 듀티 및 상기 리치 MEG의 가열 듀티를 저감시킬 수 있는, MEG 재생 시스템. - 청구항 1에 있어서,
상기 리플럭스라인에는,
상기 탑정으로부터 배출되는 리플럭스를 응축시키는 리플럭스 콘덴서; 및
상기 리플럭스 콘덴서에서 응축된 리플럭스 응축수를 상기 증류탑의 탑정으로 재공급하는 리플럭스 펌프;가 마련되는, MEG 재생 시스템. - 청구항 2에 있어서,
상기 가열부는,
상기 공급라인에 마련되는 열교환기로써,
상기 열교환기는 상기 프리트리트먼트 베슬 전단에 마련되고, 상기 열교환기는 상기 리플럭스 펌프 후단으로부터 분기되는 배출라인과 연결되며,
상기 열교환기에서는 상기 프리트리트먼트 베슬로 공급되는 리치 MEG와 상기 응축수를 열교환시킴으로써,
상기 리치 MEG의 예열 및 상기 증류탑 리플럭스 응축수의 냉각을 하나의 장치에서 실시할 수 있는, MEG 재생 시스템. - 청구항 2에 있어서,
상기 가열부는,
상기 리플럭스라인에 마련되는 리플럭스 콘덴서로써,
상기 리플럭스 콘덴서는 상기 공급라인으로부터 상기 프리트리트먼트 베슬 전단에서 분기되는 열교환라인과 연결되며,
상기 리플럭스 콘덴서는 상기 프리트리트먼트 베슬로 공급되는 리치 MEG와 상기 리플럭스를 열교환시킴으로써,
상기 증류탑 리플럭스의 응축 및 상기 리치 MEG의 예열을 하나의 장치에서 실시할 수 있는, MEG 재생 시스템. - 리치 MEG를 예열하는 단계;
프리트리트먼트 베슬에서 상기 예열된 리치 MEG로부터 염을 석출하는 단계; 및
상기 염이 석출된 리치 MEG를 증류탑으로 공급하여 물을 분리제거 하는 단계;를 포함하고,
상기 리치 MEG를 예열하는 단계는,
상기 증류탑에서 배출되는 고온의 탑정생성물과 상기 리치 MEG를 열교환시킴으로써,
상기 리치 MEG의 가열 듀티 및 상기 탑정생성물의 쿨링 듀티를 저감시키는 것을 특징으로 하는, MEG 재생 방법. - 청구항 5에 있어서,
상기 리치 MEG를 예열하는 단계는,
상기 증류탑의 탑정에서 배출되는 고온의 리플럭스와 상기 리치 MEG를 열교환시키는 단계;
상기 리치 MEG를 가열시키면서 응축된 저온의 리플럭스를 상기 증류탑 상부로 재공급하는 단계; 및
상기 고온의 리플럭스를 응축시키면서 가열된 리치 MEG를 상기 프리트리트먼트 베슬로 공급하는 단계;를 포함하는, MEG 재생 방법. - 청구항 5에 있어서,
상기 리치 MEG를 예열하는 단계는,
상기 증류탑에서 배출된 고온의 리플럭스를 리플럭스 콘덴서에서 응축시키는 단계;
상기 리플럭스 콘덴서에서 응축된 리플럭스 응축수와 상기 리치 MEG를 열교환시키는 단계; 및
상기 응축수에 의해 가열된 리치 MEG를 상기 프리트리트먼트 베슬로 공급하는 단계;를 포함하는, MEG 재생 방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150008068A KR101670878B1 (ko) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | Meg 재생 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020150008068A KR101670878B1 (ko) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | Meg 재생 시스템 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20160088677A KR20160088677A (ko) | 2016-07-26 |
KR101670878B1 true KR101670878B1 (ko) | 2016-10-31 |
Family
ID=56680884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020150008068A KR101670878B1 (ko) | 2015-01-16 | 2015-01-16 | Meg 재생 시스템 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101670878B1 (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180089762A (ko) | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 대우조선해양 주식회사 | 프리플래시 드럼을 이용한 meg 재생장치 |
KR20190125637A (ko) * | 2018-04-30 | 2019-11-07 | 삼성중공업 주식회사 | Meg 재생장치 |
KR20190127054A (ko) * | 2018-05-03 | 2019-11-13 | 삼성중공업 주식회사 | Meg 재생장치 |
KR102202777B1 (ko) * | 2019-09-16 | 2021-01-13 | 한화토탈 주식회사 | 비반응성 폴리부텐의 제조시 원료의 재순환 장치 및 그 방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001300512A (ja) * | 2000-04-20 | 2001-10-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 蒸発濃縮装置 |
WO2010080038A1 (en) * | 2009-01-08 | 2010-07-15 | Aker Process Systems As | Method for regeneration and reclamation of mono ethylene glycol using a vacuum slip stream |
US20130118989A1 (en) * | 2011-11-14 | 2013-05-16 | Luis Eduardo Caires Fernandez | Process Scheme to improve Divalent Metal Salts Removal from Mono Ethylene Glycol (MEG) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080023071A1 (en) | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Smith Kenneth W | Hydrate inhibited latex flow improver |
CA2883357C (en) | 2012-08-30 | 2021-04-20 | Chevron U.S.A. Inc. | Process, method, and system for removing heavy metals from fluids |
-
2015
- 2015-01-16 KR KR1020150008068A patent/KR101670878B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001300512A (ja) * | 2000-04-20 | 2001-10-30 | Hitachi Chem Co Ltd | 蒸発濃縮装置 |
WO2010080038A1 (en) * | 2009-01-08 | 2010-07-15 | Aker Process Systems As | Method for regeneration and reclamation of mono ethylene glycol using a vacuum slip stream |
US20130118989A1 (en) * | 2011-11-14 | 2013-05-16 | Luis Eduardo Caires Fernandez | Process Scheme to improve Divalent Metal Salts Removal from Mono Ethylene Glycol (MEG) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180089762A (ko) | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 대우조선해양 주식회사 | 프리플래시 드럼을 이용한 meg 재생장치 |
KR20190125637A (ko) * | 2018-04-30 | 2019-11-07 | 삼성중공업 주식회사 | Meg 재생장치 |
KR102097609B1 (ko) * | 2018-04-30 | 2020-04-06 | 삼성중공업 주식회사 | Meg 재생장치 |
KR20190127054A (ko) * | 2018-05-03 | 2019-11-13 | 삼성중공업 주식회사 | Meg 재생장치 |
KR102073129B1 (ko) * | 2018-05-03 | 2020-02-04 | 삼성중공업 주식회사 | Meg 재생장치 |
KR102202777B1 (ko) * | 2019-09-16 | 2021-01-13 | 한화토탈 주식회사 | 비반응성 폴리부텐의 제조시 원료의 재순환 장치 및 그 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20160088677A (ko) | 2016-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101670878B1 (ko) | Meg 재생 시스템 | |
KR101665453B1 (ko) | Meg 재생 시스템 | |
KR101665452B1 (ko) | Meg 재생 시스템 | |
JP2013504423A5 (ko) | ||
JP2014533268A (ja) | モノエチレングリコール(meg)からの二価金属塩の除去を改善するプロセススキーム | |
MX2011009875A (es) | Metodos eficientes para operar con liquidos a alta presion. | |
CN112274958A (zh) | 深海天然气开发过程中的乙二醇再生与回收***及乙二醇回收方法 | |
US10792582B2 (en) | Water treatment and steam generation system for enhanced oil recovery and a method using same | |
CN104707352A (zh) | 一种含盐乙二醇溶液的脱盐再生装置 | |
KR20160088678A (ko) | Meg 재생 시스템 | |
CN108794302A (zh) | 一种含盐乙二醇富液的脱盐再生工艺 | |
CN104312638B (zh) | 热耦合负压脱苯、再生一体化装置 | |
US11446603B2 (en) | Acid gas removal system for removing acidic gases from gaseous hydrocarbons | |
CN204162673U (zh) | 热耦合负压脱苯、再生一体化装置 | |
JP2005015530A (ja) | コークス乾式消火設備のボイラへの給水方法および給水装置 | |
CN209052601U (zh) | 一种含盐乙二醇富液的脱盐再生装置 | |
US20150008190A1 (en) | Method and system for processing a stream comprising glycol based and kinetic hydrate inhibitors | |
JP2914665B2 (ja) | 燃料電池水処理装置 | |
JP6307279B2 (ja) | 二酸化炭素ガス回収装置及び回収方法 | |
KR20160060958A (ko) | Meg 프리트리트먼트 베슬 | |
KR20180078092A (ko) | Temperature Swing을 이용한 MEG 재생시스템에서의 염 제거 | |
CN114212937B (zh) | 一种深部煤矿矿井水处理及热能综合利用的***与方法 | |
KR102239296B1 (ko) | 가스 처리 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물 | |
KR102373290B1 (ko) | Meg 재생 시스템 및 이를 포함하는 해양 구조물 | |
CN104629818B (zh) | 真空碳酸盐法脱硫富液双效解吸工艺及*** |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |