KR101661410B1

KR101661410B1 - 데이터 보정 장치, 묘화 장치, 데이터 보정 방법 및 묘화 방법

Info

Publication number: KR101661410B1
Application number: KR1020150002553A
Authority: KR
Inventors: 료 야마다
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2014-03-20
Filing date: 2015-01-08
Publication date: 2016-09-29
Also published as: TWI575307B; KR20150110296A; TW201537283A; CN104932205B; JP2015184315A; CN104932205A

Abstract

묘화 장치에서는, 기판상의 복수의 표지인 표지 집합의 측정 위치가 취득된다. 계속해서, 표지 집합으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 복수의 보정 모드로 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여, 각 보정 모드에 의한 주목 표지군의 보정 위치가 취득된다. 그리고, 각 보정 모드에 대해, 주목 표지군의 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값이 구해진다. 다음에, 각 보정 모드에 관하여, 각 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여, 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값이 구해진다. 그 후, 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값이 비교되어 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드가 선택되고, 선택된 보정 모드로 묘화 데이터가 보정된다. 묘화 장치에서는, 복수의 보정 모드로부터 적절한 보정 모드를 자동적으로 선택할 수 있다.

Description

데이터 보정 장치, 묘화 장치, 데이터 보정 방법 및 묘화 방법{DATA CORRECTION APPARATUS, DRAWING APPARATUS, DATA CORRECTION METHOD, AND DRAWING METHOD}

본 발명은, 기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 기술에 관한 것이다.

종래부터, 반도체 기판이나 프린트 기판, 혹은, 플라스마 표시 장치나 액정 표시 장치용의 유리 기판 등(이하, 「기판」이라고 한다)에 형성된 감광 재료에 광을 조사함으로써, 패턴의 묘화가 행해지고 있다. 근년, 패턴의 고정밀화에 수반하여, 감광 재료상으로 광 빔을 주사하여 패턴을 직접 묘화하는 묘화 장치가 이용되고 있다.

상기 서술과 같은 묘화 장치에서는, 기판에 휨, 뒤틀림, 일그러짐 등의 변형이 발생되어 있는 경우, 기판의 변형에 맞추어 묘화 데이터가 보정된다. 묘화 데이터의 보정은, 통상, 기판상에 설치된 얼라인먼트 마크 등의 표지의 위치를 측정하여, 측정 결과로부터 기판상의 각 위치의 변위를 산출한 후, 각 위치의 묘화 데이터를 상기 변위에 정합시킴으로써 행해진다.

예를 들어, 일본국 특허 공개 2008－3441호 공보(문헌 1)에서는, 묘화 데이터를 둘러싸는 직사각형을 구성하는 4개의 표지의 위치 정보로부터, 묘화 데이터의 보정량이 산출된다. 이에 의해, 묘화 데이터의 근방에 있어서의 국소적인 기판의 변형에 대응한 묘화 데이터의 보정이 가능해진다. 일본국 특허 공개 2012-79739호 공보(문헌 2)에서는, 기판상에 격자형상으로 배치된 복수의 기준점의 변위에 의거하여 기판의 변형을 스플라인 근사시킨 후에, 묘화 데이터를 보정하는 것이 행해지고 있다. 이에 의해, 기판의 넓은 영역에 있어서의 변형(예를 들어, 기판 전체의 굴곡)의 경향을 파악하여, 정확하게 묘화 데이터를 보정하는 것이 가능해진다.

한편, 일본국 특허 공개 2012－198313호 공보(문헌 3)의 묘화 장치에서는, 묘화 데이터를 보정하는 수단으로서, 3개의 보정 방법에 의거하는 3개의 보정 알고리즘이 내장된다. 그리고, 묘화 장치의 오퍼레이터가, 기판의 종류나 변형의 정도 등에 맞추어 보정 알고리즘을 선택하고, 선택된 보정 알고리즘을 적용함으로써 묘화 데이터의 보정이 행해진다.

그런데, 문헌 3의 묘화 장치에서는, 사전에 취득된 기판의 변형 등에 맞추어, 오퍼레이터가 보정 알고리즘을 선택하는데, 선택된 보정 알고리즘이 다른 보정 알고리즘보다 적절한 것인지의 여부는 불명확하다.

본 발명은, 기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 데이터 보정 장치를 위한 것이다. 본 발명은, 적절한 보정 모드를 자동적으로 선택하는 것을 목적으로 하고 있다.

본 발명에 따른 데이터 보정 장치는, 기판상에 위치함과 더불어 묘화 데이터의 보정에 이용되는 복수의 표지인 표지 집합의 설계 위치를 기억하는 설계 위치 기억부와, 상기 표지 집합의 측정 위치를 취득하는 측정 위치 취득부와, 상기 표지 집합으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 산법이 서로 상이한 복수의 보정 모드로 상기 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여 보정 위치를 취득하고, 각 보정 모드에 대해, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값을 구하는 표지 평가값 연산부와, 상기 각 보정 모드에 관하여, 상기 표지 평가값 연산부에 의해 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여 상기 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값을 구하는 보정 모드 평가값 연산부와, 상기 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값을 비교하여 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드를 선택하는 보정 모드 선택부와, 상기 보정 모드 선택부에 의해 선택된 상기 보정 모드로 상기 묘화 데이터를 보정하는 묘화 데이터 보정부를 구비한다. 상기 데이터 보정 장치에 의하면, 적절한 보정 모드를 자동적으로 선택할 수 있다.

본 발명의 하나의 바람직한 실시 형태에서는, 상기 주목 표지군이 하나의 표지이다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서는, 상기 표지 평가값 연산부가, 상기 각 보정 모드에 대해, 상기 표지 집합에 포함되는 모든 표지를 각각 주목 표지군으로 한 경우의 표지 평가값을 구하고, 상기 보정 모드 평가값 연산부가, 상기 각 보정 모드에 대해, 상기 모든 표지의 표지 평가값에 의거하여 보정 모드 평가값을 구한다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서는, 상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고, 상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며, 상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택한다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서는, 상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고, 상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며, 상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택한다.

본 발명의 다른 바람직한 실시 형태에서는, 상기 측정 위치 취득부가, 상기 표지 집합을 촬상하는 촬상부와, 상기 촬상부에 의해 취득된 화상으로부터 상기 표지 집합의 상기 측정 위치를 구하는 측정 위치 연산부를 구비한다.

본 발명은, 기판상에 화상을 묘화하는 묘화 장치에도 위한 것이다. 본 발명에 따른 묘화 장치는, 광원과, 상기 서술의 데이터 보정 장치와, 상기 데이터 보정 장치에 의해 보정된 묘화 데이터에 의거하여 상기 광원으로부터의 광을 변조하는 광변조부와, 상기 광변조부에 의해 변조된 광을 기판상으로 주사하는 주사 기구를 구비한다.

본 발명은, 기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 데이터 보정 방법, 및, 기판상에 화상을 묘화하는 묘화 방법에도 위한 것이다.

상기 서술의 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 행하는 이 발명의 상세한 설명에 의해 밝혀진다.

도 1은, 묘화 장치의 구성을 도시하는 도이다.
도 2는, 데이터 처리 장치의 기능을 도시하는 블럭도이다.
도 3A는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 3B는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 3C는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 3D는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 3E는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 3F는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 3G는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다.
도 4는, 기판상의 표지 집합을 도시하는 평면도이다.
도 5는, 묘화 데이터의 보정의 흐름을 도시하는 도이다.
도 6은, 묘화 데이터의 보정의 흐름의 일부를 도시하는 도이다.
도 7은, 묘화 데이터의 보정의 흐름의 일부를 도시하는 도이다.

도 1은, 본 발명의 하나의 실시 형태에 따른 묘화 장치(1)의 구성을 도시하는 도이다. 묘화 장치(1)는, 프린트 기판, 반도체 기판, 액정 기판 등(이하, 간단히 「기판」이라고 한다)의 표면에 설치된 감광 재료에 광을 조사함으로써, 기판상에 회로 패턴 등의 화상을 직접적으로 묘화하는 직묘 장치이다.

묘화 장치(1)는, 데이터 처리 장치(2)와, 노광 장치(3)를 구비한다. 데이터 처리 장치(2)는, 묘화 데이터의 생성 및 보정을 행한다. 데이터 처리 장치(2)는, 각종 연산 처리를 행하는 CPU, 기본 프로그램을 기억하는 ROM, 및, 각종 정보를 기억하는 RAM 등을 포함하는 일반적인 컴퓨터 시스템이다. 노광 장치(3)는, 데이터 처리 장치(2)로부터 보내진 묘화 데이터에 의거하여 기판(9)에 대한 묘화(즉, 노광)를 행한다. 데이터 처리 장치(2)와 노광 장치(3)는, 양 장치 사이의 데이터의 수수가 가능하면, 일체적으로 설치되어도 되고, 물리적으로 이격되어 있어도 된다.

도 2는, 데이터 처리 장치(2)의 기능을 도시하는 블럭도이다. 데이터 처리 장치(2)는, 데이터 변환부(21)와, 데이터 보정부(22)를 구비한다. 데이터 변환부(21)에는, CAD 등의 패턴 설계 장치(4)에 의해 작성된 패턴 데이터가, 기판(9)에 묘화하는 화상의 묘화 데이터로서 입력된다. 패턴 데이터는, 회로 패턴 등의 화상의 설계 데이터이다. 패턴 데이터는, 통상, 폴리곤 등의 벡터 데이터이다. 데이터 변환부(21)에서는, 벡터 데이터를 래스터 데이터로 변환한다.

데이터 보정부(22)는, 데이터 변환부(21)에 의해 생성된 래스터 데이터인 묘화 데이터를, 기판(9)(도 1 참조)상의 표지의 위치 정보에 의거하여 보정해, 최종적인 묘화 데이터를 생성한다. 데이터 보정부(22)는, 보정 모드 기억부(220)와, 설계 위치 기억부(221)와, 측정 위치 취득부(222)와, 표지 평가값 연산부(223)와, 보정 모드 평가값 연산부(224)와, 보정 모드 선택부(225)와, 묘화 데이터 보정부(226)를 구비한다. 측정 위치 취득부(222)는, 측정 위치 연산부(228)와, 촬상부(34)를 구비한다. 촬상부(34)는, 후술하는 바와 같이 노광 장치(3)에 설치되어 있다. 즉, 촬상부(34)는, 노광 장치(3)와, 데이터 보정부(22)에 의해 공유된다. 데이터 보정부(22)에 의한 묘화 데이터의 보정에 대해서는 후술한다.

도 1에 도시하는 바와 같이, 노광 장치(3)는, 묘화 컨트롤러(31)와, 스테이지(32)와, 광출사부(33)와, 촬상부(34)와, 주사 기구(35)를 구비한다. 묘화 컨트롤러(31)는, 광출사부(33), 촬상부(34) 및 주사 기구(35)를 제어한다. 스테이지(32)는, 광출사부(33)의 하방에서 기판(9)을 유지한다. 광출사부(33)는, 광원(331)과, 광변조부(332)를 구비한다. 광원(331)은, 광변조부(332)를 향해 레이저광을 출사한다. 광변조부(332)는, 데이터 처리 장치(2)로부터의 묘화 데이터(즉, 데이터 보정부(22)에 의해 보정된 묘화 데이터)에 의거하여, 광원(331)으로부터의 광을 변조한다. 광변조부(332)에 의해 변조된 광은, 스테이지(32)상의 기판(9)에 조사된다. 광변조부(332)로서는, 예를 들어, DMD(디지털 미러 디바이스)가 이용된다.

주사 기구(35)는, 스테이지(32)를 수평 방향으로 이동시킨다. 구체적으로는, 주사 기구(35)에 의해, 스테이지(32)가 주주사 방향, 및, 주주사 방향에 수직인 부주사 방향으로 이동된다. 이에 의해, 광변조부(332)에 의해 변조된 광이, 기판(9)상에서 주주사 방향 및 부주사 방향으로 주사된다. 노광 장치(3)에서는, 스테이지(32)를 수평으로 회전시키는 회전 기구가 설치되어도 된다. 또, 광출사부(33)를 상하 방향으로 이동시키는 승강 기구가 설치되어도 된다. 주사 기구(35)는, 광출사부(33)로부터의 광을 기판(9)상으로 주사할 수 있으면, 반드시 스테이지(32)를 이동시키는 기구일 필요는 없다. 예를 들어, 주사 기구(35)에 의해, 광출사부(33)가 스테이지(32)의 상방에서 주주사 방향 및 부주사 방향으로 이동되어도 된다.

촬상부(34)는, 스테이지(32)상에 올려놓여진 기판(9)의 상면을 촬상한다. 구체적으로는, 촬상부(34)에 의해, 기판(9)상에 위치하는 복수의 표지인 표지 집합이 촬상된다. 표지 집합은, 후술하는 묘화 데이터의 보정에 이용된다. 상기 복수의 표지는, 예를 들어, 기판(9)의 위치 결정 등에 이용하기 위해 설치된 얼라인먼트 마크이다. 또한, 표지는, 그 위치를 정확하게 특정할 수 있으면, 얼라인먼트 마크에는 한정되지 않고, 예를 들어, 기판에 설치된 관통 구멍이나 회로 패턴의 일부여도 된다. 촬상부(34)에 의해 취득된 화상은, 측정 위치 연산부(228)(도 2 참조)로 보내진다.

다음에, 묘화 데이터를 보정하는 처리의 기본 개념에 대해 설명한다. 통상, 패턴 설계 장치(4)에서는, 변형이 없이 상면이 평탄한 이상적인 형상의 기판을 상정하여 패턴 데이터가 작성된다. 그러나, 실제의 기판에는, 휨, 뒤틀림, 전 공정에서의 처리에 수반하는 일그러짐 등의 변형이 발생되어 있는 경우가 있다. 이 경우, 패턴 데이터에서 설정되어 있는 기판상의 배치 위치에 회로 패턴이 묘화되면, 원하는 생산물을 얻을 수 없다. 이로 인해, 기판에 발생되어 있는 변형에 맞추어 회로 패턴이 형성되도록, 회로 패턴의 형성 위치를 기판의 변형에 따라 변환하는 보정 처리(이른바, 로컬 얼라인먼트 처리)가 필요하다. 본 실시 형태에 있어서 묘화 데이터를 보정하는 처리란, 단적으로 말하면, 좌표 변환 처리이다.

도 3A 내지 도 3G는, 묘화 데이터의 보정 처리의 기본 개념을 설명하기 위한 도이다. 도 3A는, 프린트 기판(9a)상에 먼저 묘화되는 패턴(P1)을 도시한다. 패턴(P1)은, 복수의 원(C1)과, 복수의 십자형상의 표지(M)를 포함한다. 도 3B는, 도 3A의 패턴(P1)보다 후에 프린트 기판(9a)상에 묘화되는 패턴(P2)을 도시한다. 패턴(P2)은, 복수의 원(C2)을 포함한다. 각 원(C2)은, 원(C1)보다 작다. 프린트 기판(9a)이 변형되어 있지 않은 경우, 패턴(P1, P2)이 차례로 묘화됨으로써, 도 3C에 도시하는 바와 같이, 패턴(P3)이 프린트 기판(9a)상에 형성된다. 패턴(P3)에서는, 복수의 원(C2)이 복수의 원(C1)의 중심에 각각 위치한다.

이와 같이 2개의 패턴을 겹쳐 묘화하는 경우로서는, 예를 들어, 프린트 기판의 구리 배선 패턴과, 구리 배선 패턴에 겹치는 솔더 레지스트의 패턴을 형성하는 경우를 생각할 수 있다. 또, 다층 프린트 기판의 배선 패턴의 1층째 및 2층째를 형성하는 경우, 혹은, 양면 프린트 기판의 표면 배선 패턴 및 이면 배선 패턴을 형성하는 경우 등을 생각할 수 있다. 또한, 표면 배선 패턴과 이면 배선 패턴을 형성하는 경우, 이면 배선 패턴을 이면측으로부터 노광할 때에 패턴을 반대로 한다.

예를 들어, 도 3A에 도시하는 패턴(P1)이 프린트 기판(9a)의 구리 배선 패턴이며, 도 3B에 도시하는 패턴(P2)이 구리 배선 패턴에 겹치는 솔더 레지스트의 패턴인 경우를 생각한다. 이 경우, 우선, 프린트 기판(9a)의 전체면에 형성된 구리층상에 포토 레지스트막이 형성된다. 계속해서, 패턴(P1)을 나타내는 패턴 데이터로부터 생성된 묘화 데이터에 의거하여 상기 포토 레지스트막에 대한 묘화(즉, 노광)가 행해진다. 그리고, 포토 레지스트막에 대한 현상 처리가 행해지고, 구리층에 대한 에칭이 행해짐으로써, 구리 배선 패턴이 형성된다. 다음에, 프린트 기판(9a)의 구리 배선 패턴상에 솔더 레지스트층이 도포 또는 라미네이트에 의해 형성된다. 그 후, 패턴(P2)을 나타내는 패턴 데이터로부터 생성된 묘화 데이터에 의거하여 상기 솔더 레지스트층에 대한 묘화가 행해져, 현상 처리가 행해진다.

상기 서술의 구리 배선 패턴을 형성하는 과정에서는, 현상, 에칭, 세정, 가열 건조 등의 처리가 실시되어, 이들 처리의 영향에 의해 프린트 기판(9a)에 신축이나 일그러짐 등의 변형이 발생하는 경우가 있다. 예를 들어, 구리 배선 패턴의 형성에 의해, 도 3D에 도시하는 변형이 프린트 기판(9a)에 발생했다고 한다. 도 3D에서는, 프린트 기판(9a)의 변형을 이해하기 쉽게 하기 위해, 인접하는 표지(M)들을 이점 차선으로 연결한다(도 3E 내지 도 3G에 있어서도 동일). 상기 프린트 기판(9a)에 대해, 패턴(P2)을 나타내는 패턴 데이터로부터 생성된 묘화 데이터를 보정하는 일 없이 사용하여 묘화를 행하면, 2개의 패턴(P1, P2)에 각각 포함되는 원(C1, C2)의 위치 관계에, 도 3E에 도시하는 바와 같이 편차가 발생해 버려, 원하는 패턴을 형성할 수 없다.

그래서, 프린트 기판(9a)의 변형(즉, 프린트 기판(9a)에 형성된 패턴(P1)의 변형 및 변위)을 고려하여, 도 3F에 도시하는 바와 같이, 패턴(P2)을 나타내는 패턴 데이터로부터 생성된 묘화 데이터가 보정된다. 또한, 도 3F에서는, 도 3D와의 비교를 용이하게 하기 위해, 복수의 원(C2)에 더해, 패턴(P2)에는 포함되지 않은 복수의 표지(M)를 세선으로 함께 그리고 있다. 상기 보정 처리가, 상기 서술의 로컬 얼라인먼트 처리이다. 보정 후의 묘화 데이터에 의거하여 패턴(P2)이 묘화됨으로써, 도 3G에 도시하는 바와 같이, 2개의 패턴(P1, P2)에 각각 포함되는 원(C1, C2)이 원하는 위치 관계를 나타내는 패턴이 형성된다.

상기 서술의 프린트 기판(9a)의 변형을 구할 때에는, 예를 들어, 프린트 기판(9a)에 설치된 복수의 표지(M)가 촬상되고, 취득된 화상에 의거하여 각 표지(M)의 위치가 구해진다. 그리고, 구해진 각 표지(M)의 위치인 측정 위치와, 프린트 기판(9a)이 변형되어 있지 않은 경우의 각 표지(M)의 위치인 설계 위치의 편차에 의거하여, 프린트 기판(9a)의 변형이 구해진다.

또한, 도 3D에서는, 프린트 기판(9a)에 형성된 패턴(P1)의 원(C1)에 대해, 위치만이 이동한 것처럼 그리고, 도 3F에서는, 보정 후의 패턴(P2)의 원(C2)에 대해, 위치만이 이동한 것처럼 그리고 있다. 실제의 처리에 있어서는, 패턴(P1)의 원(C1)은, 위치뿐만 아니라 형상도 변형하는 경우가 있다. 이 경우, 보정 후의 패턴(P2)의 원(C2)도, 위치뿐만 아니라 형상도 원(C1)의 변형에 맞추어 보정된다.

다음에, 묘화 장치(1)의 데이터 보정부(22)(도 2 참조)에 있어서의 묘화 데이터의 보정에 대해 설명한다. 데이터 보정부(22)에서는, 복수의 보정 모드를 실행하기 위한 프로그램이 보정 모드 기억부(220)에 미리 기억되어 있다. 복수의 보정 모드는 각각, 상기 서술한 바와 같이, 기판(9)의 변형을 고려하여 묘화 데이터를 보정하는 보정 방법이다. 복수의 보정 모드에서는, 묘화 데이터의 보정에 사용되는 산법이 서로 상이하다. 이로 인해, 복수의 보정 모드에 의한 보정 결과는, 통상, 서로 상이하다.

보정 모드 기억부(220)에 기억되는 각 보정 모드에 의한 보정에서는, 도 4에 예시하는 바와 같이, 기판(9)상에 위치하는 복수의 표지(81)인 표지 집합(80)에 대해, 보정 전의 묘화 데이터가 나타내는 표지 집합(80)의 위치인 「설계 위치」와, 실제의 기판(9)상에 설치된 표지 집합(80)의 위치인 「측정 위치」가 이용된다. 도 4에 도시하는 예에서는, 복수의 표지(81)는, 격자형상으로 배치되며, 기판(9)상에 대략 균등하게 분포한다. 표지(81)의 수는, 3 이상의 범위에서 적당히 변경되어도 된다. 복수의 표지(81)의 배치도 적당히 변경되어도 된다.

하나의 보정 모드에서는, 예를 들어, 표지 집합(80)의 설계 위치의 좌표(예를 들어, 기판(9)상에 설정된 XY좌표계에 있어서의 좌표)를 측정 위치의 좌표로 변환하기 위한 변환 행렬이 구해진다. 구체적으로는, 모든 표지(81)의 설계 위치의 좌표를 나타내는 설계 위치 좌표 행렬과, 모든 표지(81)의 측정 위치의 좌표를 나타내는 측정 위치 좌표 행렬을 구하고, 설계 위치 좌표 행렬을 측정 위치 좌표 행렬로 변환하는 변환 행렬이 구해진다. 그리고, 보정 전의 묘화 데이터의 각 위치의 좌표를, 상기 변환 행렬을 이용하여 변환함으로써, 기판(9)의 변형을 고려한 보정 후의 묘화 데이터가 생성된다. 보정 후의 묘화 데이터에서는, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)의 좌표가, 실제의 기판(9)(즉, 변형되어 있는 기판(9))상에 있어서의 표지(81)의 좌표에 일치한다.

다른 보정 모드에서는, 예를 들어, 상기 하나의 보정 모드와 마찬가지로, 설계 위치 좌표 행렬을 측정 위치 좌표 행렬로 변환하는 변환 행렬이 구해진다. 상기 다른 보정 모드에서는, 변환 행렬을 구할 때의 각 표지(81)의 설계 위치의 좌표에 대한 가중치 등의 계산 조건을, 상기 서술의 하나의 보정 모드와 상이하게 함으로써, 상기 하나의 보정 모드와는 상이한 다른 변환 행렬이 구해진다. 그리고, 보정 전의 묘화 데이터의 각 위치의 좌표를, 상기 변환 행렬을 이용하여 변환함으로써, 기판(9)의 변형을 고려한 보정 후의 묘화 데이터가 생성된다. 상기 보정 모드에 의해 보정된 묘화 데이터에서는, 상기와 마찬가지로, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)의 좌표가, 실제의 기판(9)상에 있어서의 표지(81)의 좌표에 일치하나, 표지(81) 사이의 부위의 설계 위치로부터의 변위는, 상기 서술의 하나의 보정 모드에 있어서의 변위와는 상이하다. 보정 모드 기억부(220)에서는, 변환 행렬을 구할 때의 파라미터 등이 서로 상이한 보정 방법을, 개별의 보정 모드로서 기억하고 있다.

또 다른 보정 모드에서는, 예를 들어, 표지 집합(80)의 복수의 표지(81)를 꼭대기점으로 하여, 기판(9)상의 영역에 대해 삼각형 분할이 행해진다. 상기 삼각형 분할에서는, 3개의 표지(81)를 꼭대기점으로 하는 각 삼각형 영역 내에 다른 표지(81)는 포함되지 않는다. 상기 보정 모드에서는, 표지(81)의 설계 위치로부터 구해진 보정 전의 각 삼각형 영역이, 표지(81)의 측정 위치로부터 구해진 실제의 기판(9)상의 삼각형 영역에 일치하도록, 묘화 데이터의 보정이 행해진다. 보정 전의 각 삼각형 영역 내의 각 부위는, 보정 후의 묘화 데이터에 있어서, 보정 후의 각 삼각형 영역 내에 위치하도록 변위된다. 이에 의해, 기판(9)의 변형을 고려한 보정 후의 묘화 데이터가 생성된다.

도 1에 도시하는 묘화 장치(1)에서는, 보정 모드 기억부(220)에 기억되는 각 보정 모드에 의한 보정 후의 묘화 데이터에 있어서, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)의 좌표가, 실제의 기판(9)상에 있어서의 표지(81)의 좌표(즉, 측정 위치)에 일치하는 것이 바람직하다. 또한, 보정 모드 기억부(220)에 기억되는 보정 모드의 수는, 2 이상이면 된다. 또, 보정 모드 기억부(220)에 기억되는 보정 모드는, 상기 서술의 예시된 보정 모드 이외의 것이어도 된다. 다른 보정 모드로서는, 예를 들어, 표지(81) 사이의 위치의 좌표를 스플라인 보간하는 보정 모드, 표지(81) 사이의 위치의 좌표를 역거리 하중 보간하는 보정 모드 등을 생각할 수 있다.

도 5는, 데이터 보정부(22)에 의한 묘화 데이터의 보정의 흐름을 도시하는 도이다. 묘화 장치(1)에서는, 우선, 도 2에 도시하는 데이터 보정부(22)에 있어서, 보정 전의 묘화 데이터로부터 표지 집합(80)의 설계 위치(즉, 표지 집합(80)에 포함되는 복수의 표지(81)의 설계 위치)가 취득되고, 설계 위치 기억부(221)에 기억됨으로써 준비된다(단계 S11). 표지 집합(80)의 설계 위치는, 예를 들어, 패턴 설계 장치(4)에 의해 작성된 패턴 데이터로부터 취득되고 설계 위치 기억부(221)에 기억됨으로써 준비되어도 된다.

표지 집합(80)의 설계 위치가 준비되면, 측정 위치 취득부(222)에 의해, 표지 집합(80)의 측정 위치, 즉, 기판(9)상에 있어서의 복수의 표지(81)의 실제 위치가 취득된다(단계 S12). 단계 S12에서는, 도 6에 도시하는 바와 같이, 기판(9)상에 위치하는 복수의 표지(81)인 표지 집합(80)이 촬상부(34)에 의해 촬상된다(단계 S121). 계속해서, 단계 S121에 있어서 촬상부(34)에 의해 취득된 화상이, 측정 위치 연산부(228)로 보내진다. 측정 위치 연산부(228)에서는, 상기 화상으로부터 표지 집합(80)의 측정 위치가 구해진다(단계 S122).

표지 집합(80)의 측정 위치가 취득되면, 도 5에 도시하는 바와 같이, 보정 모드 기억부(220)에 기억되어 있는 복수의 보정 모드의 각각에 대해, 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값이 구해진다(단계 S13~S15).

단계 S13에서는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 우선, 표지 집합(80)으로부터 주목 표지군이 선택된다(단계 S131). 주목 표지군은, 표지 집합(80)에 포함되는 복수(단, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)의 수보다 2 이상 적은 수)의 표지(81), 또는, 하나의 표지(81)이다. 계속해서, 상기 복수의 보정 모드 중 하나의 보정 모드가 선택된다(단계 S132).

다음에, 선택된 주목 표지군을 표지 집합(80)으로부터 제외한 복수의 표지(81)(이하, 「잔여 표지군」이라고 한다)의 설계 위치 및 측정 위치에 의거하여, 선택된 보정 모드로 주목 표지군의 설계 위치가 보정되어 보정 위치가 취득된다(단계 S133). 그리고, 주목 표지군의 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값이, 표지 평가값 연산부(223)에 의해 구해진다(단계 S134).

표지 평가값은, 예를 들어, 주목 표지군의 보정 위치와 측정 위치 사이의 거리이다. 주목 표지군이 하나의 표지(81)인 경우, 표지 평가값은, 상기 하나의 표지(81)의 보정 위치와 측정 위치 사이의 거리(이하, 「보정 편차 거리」라고 한다)이다. 주목 표지군이 복수의 표지(81)인 경우, 표지 평가값은, 예를 들어, 주목 표지군에 포함되는 각 표지(81)의 보정 편차 거리의 합계이다. 표지 평가값은, 예를 들어, 주목 표지군에 포함되는 복수의 표지(81)의 보정 편차 거리의 평균값, 또는, 최대값이어도 된다.

선택된 보정 모드에 대해 표지 평가값이 구해지면, 단계 S132로 돌아와, 다음의 보정 모드가 선택된다(단계 S135, S132). 다음의 보정 모드에 대해서도, 단계 S133, S134가 행해져 표지 평가값이 구해진다. 데이터 보정부(22)에서는, 보정 모드 기억부(220)에 기억되어 있는 각 보정 모드에 대해, 단계 Sl32~S135가 행해짐으로써, 각 보정 모드의 표지 평가값이 구해진다(단계 S13).

단계 S13이 종료하면, 도 5에 도시하는 바와 같이, 다음의 주목 표지군이 존재하는지의 여부가 확인된다(단계 S14). 다음의 주목 표지군이 없는 경우에는, 단계 S15로 진행한다. 다음의 주목 표지군이 있는 경우에는, 단계 S13으로 돌아와 다음의 주목 표지군이 선택되어, 각 보정 모드에 대해 표지 평가값이 구해진다(단계 S131~S135). 그리고, 다음의 주목 표지군이 없어질 때까지, 단계 S131~S135, S14가 반복된다. 표지 평가값 연산부(223)에서는, 적어도 1종류의 주목 표지군에 따른 표지 평가값이, 각 보정 모드에 대해 구해진다.

본 실시 형태에서는, 각 주목 표지군이 하나의 표지(81)이며, 또한, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)를 각각 주목 표지군으로 한 경우(즉, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군이, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)를 각각 주목 표지군으로 한 경우)의 표지 평가값이, 각 보정 모드에 대해 표지 평가값 연산부(223)에 의해 구해지는 것으로서 설명한다. 바꾸어 말하면, 표지 평가값 연산부(223)에서는, 각 보정 모드에 대해, 표지 집합(80)에 포함되는 각 표지(81)를 순차적으로 주목 표지군으로서 단계 S131~S135, S14가 반복되며, 전 종류의 주목 표지군에 따른 표지 평가값이 구해진다. 또한, 표지 평가값 연산부(223)에서는, 하나의 보정 모드에 대해, 모든 표지(81)에 따른 표지 평가값이 구해진 후, 다른 보정 모드에 대해, 모든 표지(81)에 따른 표지 평가값이 구해져도 된다.

단계 S15에서는, 각 보정 모드에 관하여, 단계 S13, S14에서 각 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값(즉, 모든 표지(81)에 대해 구해진 표지 평가값)에 의거하여, 보정 모드 평가값 연산부(224)에 의해 보정 모드 평가값이 구해진다. 보정 모드 평가값은, 보정 모드 기억부(220)에 기억되는 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타낸다. 보정 모드 평가값은, 예를 들어, 모든 표지(81)에 대해 각각 구해진 표지 평가값의 합계이다. 혹은, 보정 모드 평가값은, 예를 들어, 모든 표지(81)에 대해 각각 구해진 표지 평가값의 최대값이다.

보정 모드 평가값이 구해지면, 보정 모드 선택부(225)에 의해, 보정 모드 기억부(220)에 기억되는 복수의 보정 모드의 각각의 보정 모드 평가값이 비교된다. 그리고, 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드가, 기판(9)의 보정에 사용되는 보정 모드로서 선택된다(단계 S16). 보정 모드 평가값이, 모든 표지(81)에 대해 각각 구해진 표지 평가값의 합계인 경우, 보정 모드 선택부(225)는, 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를, 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드로서 선택한다. 보정 모드 평가값이, 모든 표지(81)에 대해 각각 구해진 표지 평가값의 최대값인 경우도 마찬가지로, 보정 모드 선택부(225)는, 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를, 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드로서 선택한다.

그 후, 묘화 데이터 보정부(226)에 의해, 보정 모드 선택부(225)에 의해 선택된 보정 모드로 묘화 데이터가 보정된다(단계 S17). 보정 후의 묘화 데이터는, 묘화 데이터 보정부(226)로부터 노광 장치(3)의 묘화 컨트롤러(31)로 보내진다. 도 1에 도시하는 노광 장치(3)에서는, 묘화 컨트롤러(31)에 의해, 상기 보정 후의 묘화 데이터에 의거하여 광출사부(33) 및 주사 기구(35)가 제어되어, 기판(9)에 대한 묘화가 행해진다(단계 S18).

이상으로 설명한 바와 같이, 묘화 장치(1)에서는, 기판(9)상의 복수의 표지(81)인 표지 집합(80)의 측정 위치가, 측정 위치 취득부(222)에 의해 취득된다. 표지 평가값 연산부(223)에서는, 표지 집합(80)으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 복수의 보정 모드로 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여, 각 보정 모드에 의한 주목 표지군의 보정 위치가 취득된다. 그리고, 각 보정 모드에 대해, 주목 표지군의 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값이 구해진다. 보정 모드 평가값 연산부(224)에서는, 각 보정 모드에 관하여, 각 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여, 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값이 구해진다. 그 후, 보정 모드 선택부(225)에 의해, 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값이 비교되어 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드가 선택되고, 묘화 데이터 보정부(226)에 의해, 선택된 보정 모드로 묘화 데이터가 보정된다.

이와 같이, 묘화 장치(1)에서는, 오퍼레이터가 기판(9)의 변형을 측정하여 보정 모드를 결정하는 작업을 행할 필요는 없으며, 보정 정밀도가 가장 높은 적절한 보정 모드를 복수의 보정 모드로부터 자동적으로 선택할 수 있다. 이에 의해, 묘화 데이터의 고정밀도의 보정을 실현할 수 있다. 그 결과, 묘화 장치(1)에서는, 기판(9)의 변형을 적절히 고려한 고정밀도의 묘화를 실현할 수 있다.

묘화 장치(1)에서는, 상기 서술한 바와 같이, 주목 표지군이 하나의 표지(81)임으로써, 표지 집합(80)으로부터의 주목 표지군의 선택을 용이하게 할 수 있다. 이에 의해, 주목 표지군에 따른 표지 평가값의 산출을 간소화할 수 있다. 또, 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)를 순차적으로 주목 표지군으로 하는 경우여도, 주목 표지군의 수가 많아지는 것을 억제할 수 있다. 이에 의해, 모든 표지 평가값의 산출에 필요로 하는 시간을 짧게 할 수 있다.

또, 상기 실시 형태에서는, 각 보정 모드에 대해, 기판(9)상에 분포하는 표지 집합(80)에 포함되는 모든 표지(81)를, 하나씩 주목 표지군으로 한 경우의 표지 평가값이 구해진다. 그리고, 각 보정 모드에 대해, 기판(9)상에 분포하는 모든 표지(81)의 표지 평가값에 의거하여 보정 모드 평가값이 구해진다. 이에 의해, 기판(9)상의 각 위치에 있어서의 묘화 데이터의 고정밀도의 보정을 실현할 수 있다.

상기 서술한 바와 같이, 표지 평가값이 주목 표지군의 보정 위치와 측정 위치 사이의 거리이고, 보정 모드 평가값이 각 주목 표지군의 표지 평가값의 합계인 경우, 기판(9)상의 각 위치에 있어서의 편차의 합계가 작은 보정을 자동적으로 실현할 수 있다. 또, 표지 평가값이 주목 표지군의 보정 위치와 측정 위치 사이의 거리이고, 보정 모드 평가값이 각 주목 표지군의 표지 평가값 중 최대의 표지 평가값(즉, 표지 평가값의 최대값)인 경우, 기판(9)상의 각 위치에 있어서의 편차의 최대값이 가장 작은 보정을 자동적으로 실현할 수 있다.

묘화 장치(1)에서는, 상기 서술한 바와 같이, 측정 위치 취득부(222)가, 표지 집합(80)을 촬상하는 촬상부(34)와, 촬상부(34)에 의해 취득된 화상으로부터 표지 집합(80)의 측정 위치를 구하는 측정 위치 연산부(228)를 구비한다. 이에 의해, 다른 장치를 이용하는 일 없이, 묘화 장치(1)에 있어서 표지 집합(80)의 측정 위치를 자동적으로 취득할 수 있다.

상기 묘화 장치(1)는, 다양한 변경이 가능하다.

데이터 보정부(22)에서는, 단계 S13에 있어서, 상기 서술한 바와 같이, 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 표지 평가값 연산부(223)에 의해 표지 평가값이 구해져 있으면 된다. 그리고, 단계 S15에서는, 각 보정 모드에 관하여, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여, 보정 모드 평가값 연산부(224)에 의해 보정 모드 평가값이 구해진다. 이 경우여도, 각 보정 모드의 보정 모드 평가값을 비교함으로써, 보정 정밀도가 가장 높은 적절한 보정 모드를 복수의 보정 모드로부터 자동적으로 선택할 수 있다.

적어도 1종류의 주목 표지군에 따른 표지 평가값에 의거하여 구해진 상기 보정 모드 평가값은, 예를 들어, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이다. 이 경우, 단계 S16에서는, 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 보정 모드 선택부(225)에 의해 선택된다. 이에 의해, 상기 서술한 바와 같이, 기판(9)상의 각 위치에 있어서의 편차의 합계가 작은 보정을 자동적으로 실현할 수 있다. 혹은, 보정 모드 평가값은, 예를 들어, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이다. 이 경우도, 단계 S16에서는, 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 보정 모드 선택부(225)에 의해 선택된다. 이에 의해, 상기 서술한 바와 같이, 기판(9)상의 각 위치에 있어서의 편차의 최대값이 가장 작은 보정을 자동적으로 실현할 수 있다. 보정 모드 평가값은, 예를 들어, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 평균 또는 제곱 합이어도 되고, 제곱근의 합계여도 된다.

묘화 장치(1)에서는, 소정의 조건이 만족된 경우에, 상기 서술한 바와 같이, 전 종류의 주목 표지군에 따른 표지 평가값의 취득 완료보다 전에, 취득 완료된 표지 평가값(즉, 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값)에 의거하여 보정 모드 평가값이 구해져도 된다. 예를 들어, 복수 종류의 주목 표지군에 따른 표지 평가값을 취득할 때에, 하나의 보정 모드의 표지 평가값이 나타내는 편차(즉, 주목 표지군의 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차)가, 나머지 보정 모드의 표지 평가값이 나타내는 편차보다 작다, 라고 하는 결과가 소정 회수에 걸쳐 계속된 경우, 취득 완료된 표지 평가값에 의거하여 보정 모드 평가값이 구해진다. 혹은, 표지 집합(80)으로부터 선택할 수 있는 전 종류의 주목 표지군 중, 소정의 비율(예를 들어, 반수)의 주목 표지군에 따른 표지 평가값의 취득이 종료한 시점에서, 취득 완료된 표지 평가값에 의거하여 보정 모드 평가값이 구해져도 된다.

상기 서술한 바와 같이, 주목 표지군은 하나의 표지(81)에는 한정되지 않고, 표지 집합(80)의 일부인 복수의 표지(81)여도 된다. 예를 들어, 주목 표지군이 2개의 표지(81)인 경우, 표지 평가값 연산부(223)에서는, 표지 집합(80)에 있어서의 2개의 표지(81)의 모든 조합에 대해 각각 표지 평가값이 구해짐으로써, 전 종류의 주목 표지군에 따른 표지 평가값이 취득된다.

상기 서술의 데이터 처리 장치(2)에서는, 데이터 보정부(22)에 의한 보정은, 반드시, 패턴을 나타내는 래스터 데이터에 대해 행해질 필요는 없다. 예를 들어, 데이터 보정부(22)에 의해, 패턴을 나타내는 벡터 데이터에 대해 보정이 행해지고, 보정된 벡터 데이터가 래스터 데이터로 변환됨으로써, 최종적인 묘화 데이터가 생성되어도 된다.

측정 위치 취득부(222)는, 반드시, 촬상부(34)와 측정 위치 연산부(228)를 구비할 필요는 없다. 측정 위치 취득부(222)는, 예를 들어, 오퍼레이터에 의해 입력된 표지 집합(80)의 측정 위치의 데이터, 혹은, 다른 장치로부터 보내진 표지 집합(80)의 측정 위치의 데이터를 받아들여 취득하는 데이터 접수부여도 된다.

설계 위치 기억부(221), 측정 위치 취득부(222), 표지 평가값 연산부(223), 보정 모드 평가값 연산부(224), 보정 모드 선택부(225) 및 묘화 데이터 보정부(226)를 구비하는 장치(예를 들어, 상기 서술과 같은 컴퓨터 시스템)는, 기판(9)상의 표지(81)의 위치 정보에 의거하여, 기판(9)에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 데이터 보정 장치로서, 단독으로 사용되어도 된다. 혹은, 상기 데이터 보정 장치는, 노광 장치(3) 이외의 다른 장치와 함께 사용되어도 된다.

상기 실시 형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적당히 조합해도 된다.

발명을 상세하게 묘사해 설명했으나, 기술의 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.

1 묘화 장치
2 데이터 처리 장치
3 노광 장치
9 기판
34 촬상부
35 주사 기구
80 표지 집합
81 표지
221 설계 위치 기억부
222 측정 위치 취득부
223 표지 평가값 연산부
224 보정 모드 평가값 연산부
225 보정 모드 선택부
226 묘화 데이터 보정부
228 측정 위치 연산부
331 광원
332 광변조부
S11~S18, S121, S122, S131~S135 단계

Claims

기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 데이터 보정 장치로서,
기판상에 위치함과 더불어 묘화 데이터의 보정에 이용되는 복수의 표지인 표지 집합의 설계 위치를 기억하는 설계 위치 기억부와,
상기 표지 집합의 측정 위치를 취득하는 측정 위치 취득부와,
상기 표지 집합으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 산법이 서로 상이한 복수의 보정 모드로 상기 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여 보정 위치를 취득하고, 각 보정 모드에 대해, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값을 구하는 표지 평가값 연산부와,
상기 각 보정 모드에 관하여, 상기 표지 평가값 연산부에 의해 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여 상기 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값을 구하는 보정 모드 평가값 연산부와,
상기 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값을 비교하여 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드를 선택하는 보정 모드 선택부와,
상기 보정 모드 선택부에 의해 선택된 상기 보정 모드로 상기 묘화 데이터를 보정하는 묘화 데이터 보정부를 구비하는, 데이터 보정 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 주목 표지군이 하나의 표지인, 데이터 보정 장치.
청구항 2에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며,
상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택하는, 데이터 보정 장치.
청구항 2에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며,
상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택하는, 데이터 보정 장치.
청구항 2에 있어서,
상기 표지 평가값 연산부가, 상기 각 보정 모드에 대해, 상기 표지 집합에 포함되는 모든 표지를 각각 주목 표지군으로 한 경우의 표지 평가값을 구하고,
상기 보정 모드 평가값 연산부가, 상기 각 보정 모드에 대해, 상기 모든 표지의 표지 평가값에 의거하여 보정 모드 평가값을 구하는, 데이터 보정 장치.
청구항 5에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며,
상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택하는, 데이터 보정 장치.
청구항 5에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며,
상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택하는, 데이터 보정 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며,
상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택하는, 데이터 보정 장치.
청구항 1에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며,
상기 보정 모드 선택부가, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드를 선택하는, 데이터 보정 장치.
청구항 1 내지 청구항 9 중 어느 한 항에 있어서,
상기 측정 위치 취득부가,
상기 표지 집합을 촬상하는 촬상부와,
상기 촬상부에 의해 취득된 화상으로부터 상기 표지 집합의 상기 측정 위치를 구하는 측정 위치 연산부를 구비하는, 데이터 보정 장치.
기판상에 화상을 묘화하는 묘화 장치로서,
광원과,
기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 데이터 보정 장치와,
상기 데이터 보정 장치에 의해 보정된 묘화 데이터에 의거하여 상기 광원으로부터의 광을 변조하는 광변조부와,
상기 광변조부에 의해 변조된 광을 기판상으로 주사하는 주사 기구를 구비하고,
데이터 보정 장치가,
기판상에 위치함과 더불어 묘화 데이터의 보정에 이용되는 복수의 표지인 표지 집합의 설계 위치를 기억하는 설계 위치 기억부와,
상기 표지 집합의 측정 위치를 취득하는 측정 위치 취득부와,
상기 표지 집합으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 산법이 서로 상이한 복수의 보정 모드로 상기 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여 보정 위치를 취득하고, 각 보정 모드에 대해, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값을 구하는 표지 평가값 연산부와,
상기 각 보정 모드에 관하여, 상기 표지 평가값 연산부에 의해 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여 상기 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값을 구하는 보정 모드 평가값 연산부와,
상기 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값을 비교하여 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드를 선택하는 보정 모드 선택부와,
상기 보정 모드 선택부에 의해 선택된 상기 보정 모드로 상기 묘화 데이터를 보정하는 묘화 데이터 보정부를 구비하는, 묘화 장치.
기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 데이터 보정 방법으로서,
a) 기판상에 위치함과 더불어 묘화 데이터의 보정에 이용되는 복수의 표지인 표지 집합의 설계 위치를 준비하는 공정과,
b) 상기 표지 집합의 측정 위치를 취득하는 공정과,
c) 상기 표지 집합으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 산법이 서로 상이한 복수의 보정 모드로 상기 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여 보정 위치를 취득하고, 각 보정 모드에 대해, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값을 구하는 공정과,
d) 상기 각 보정 모드에 관하여, 상기 c) 공정에 있어서 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여 상기 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값을 구하는 공정과,
e) 상기 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값을 비교하여 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드를 선택하는 공정과,
f) 상기 보정 모드 선택부에 의해 선택된 상기 보정 모드로 상기 묘화 데이터를 보정하는 공정을 구비하는, 데이터 보정 방법.
청구항 12에 있어서,
상기 주목 표지군이 하나의 표지인, 데이터 보정 방법.
청구항 13에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며,
상기 e) 공정에 있어서, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 선택되는, 데이터 보정 방법.
청구항 13에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며,
상기 e) 공정에 있어서, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 선택되는, 데이터 보정 방법.
청구항 13에 있어서,
상기 d) 공정에 있어서의 상기 적어도 1종류의 주목 표지군이, 상기 표지 집합에 포함되는 모든 표지를 각각 주목 표지군으로 한 것이고,
상기 c) 공정이, 상기 각 보정 모드에 대해, 상기 모든 표지를 각각 상기 주목 표지군으로 하여 반복되며,
상기 d) 공정이, 상기 각 보정 모드에 대해, 상기 모든 표지의 표지 평가값에 의거하여 보정 모드 평가값을 구하는, 데이터 보정 방법.
청구항 16에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며,
상기 e) 공정에 있어서, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 선택되는, 데이터 보정 방법.
청구항 16에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며,
상기 e) 공정에 있어서, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 선택되는, 데이터 보정 방법.
청구항 12에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 합계이며,
상기 e) 공정에 있어서, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 선택되는, 데이터 보정 방법.
청구항 12에 있어서,
상기 표지 평가값이, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치와 상기 측정 위치 사이의 거리이고,
상기 보정 모드 평가값이, 상기 적어도 1종류의 주목 표지군의 표지 평가값의 최대값이며,
상기 e) 공정에 있어서, 상기 보정 모드 평가값이 최소인 보정 모드가 선택되는, 데이터 보정 방법.
청구항 12 내지 청구항 20 중 어느 한 항에 있어서,
상기 b) 공정이,
b1) 상기 표지 집합을 촬상하는 공정과,
b2) 상기 b1) 공정에 있어서 취득된 화상으로부터 상기 표지 집합의 상기 측정 위치를 구하는 공정을 구비하는, 데이터 보정 방법.
기판상에 화상을 묘화하는 묘화 방법으로서,
기판상의 표지의 위치 정보에 의거하여, 기판에 묘화하는 화상의 묘화 데이터의 보정을 행하는 공정과,
보정된 상기 묘화 데이터에 의거하여 변조된 광을 기판상으로 주사하는 공정을 구비하고,
상기 묘화 데이터의 보정을 행하는 공정이,
a) 기판상에 위치함과 더불어 묘화 데이터의 보정에 이용되는 복수의 표지인 표지 집합의 설계 위치를 준비하는 공정과,
b) 상기 표지 집합의 측정 위치를 취득하는 공정과,
c) 상기 표지 집합으로부터 선택된 주목 표지군을 제외한 잔여 표지군의 측정 위치 및 설계 위치에 의거하여, 산법이 서로 상이한 복수의 보정 모드로 상기 주목 표지군의 설계 위치를 각각 보정하여 보정 위치를 취득하고, 각 보정 모드에 대해, 상기 주목 표지군의 상기 보정 위치의 측정 위치로부터의 편차를 나타내는 표지 평가값을 구하는 공정과,
d) 상기 각 보정 모드에 관하여, 상기 c) 공정에 있어서 적어도 1종류의 주목 표지군에 대해 구해진 표지 평가값에 의거하여 상기 각 보정 모드의 보정 정밀도를 나타내는 보정 모드 평가값을 구하는 공정과,
e) 상기 복수의 보정 모드의 보정 모드 평가값을 비교하여 보정 정밀도가 가장 높은 보정 모드를 선택하는 공정과,
f) 상기 e) 공정에서 선택된 상기 보정 모드로 상기 묘화 데이터를 보정하는 공정을 구비하는, 묘화 방법.