KR101643012B1 - Display device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재된 유기발광층, 상기 제2 전극 상에 위치하며, 상기 유기발광층으로부터 광이 방출되는 발광영역을 둘러싸는 유기절연막 및 상기 유기절연막을 덮는 제1 보호막을 포함할 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate, a first electrode disposed on the substrate, a second electrode, and an organic light emitting layer interposed between the first electrode and the second electrode, An organic insulating layer surrounding the light emitting region where light is emitted from the organic light emitting layer, and a first passivation layer covering the organic insulating layer.

Description

표시장치{DISPLAY DEVICE}Display device {DISPLAY DEVICE}

본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 외부의 수분과 산소가 침투되는 것을 방지하고, 수명을 향상시킬 수 있는 표시장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device capable of preventing external moisture and oxygen from penetrating and improving lifetime.

최근, 음극선관(CRT : Cathode Ray Tube)의 단점인 무게와 부피를 줄일 수 있는 각종 평판표시장치들이 개발되고 있다. 이러한, 평판표시장치의 예로는, 액정표시장치(LCD : Liquid Crystal Display), 전계방출표시장치(FED : Field Emission Display), 플라즈마표시장치(PDP : Plasma Display Panel) 및 유기전계발광표시장치(OLED : Organic Light Emitting Display Device) 등이 있다.2. Description of the Related Art In recent years, various flat panel display devices capable of reducing weight and volume, which are disadvantages of CRT (Cathode Ray Tube), have been developed. Examples of such flat panel display devices include a liquid crystal display (LCD), a field emission display (FED), a plasma display panel (PDP), and an organic light emitting display (OLED) : Organic Light Emitting Display Device).

이 중에서 유기전계발광표시장치는 유기화합물을 전기적으로 여기시켜 발광하게 하는 자발광형 표시장치이다. 유기전계발광표시장치는 액정표시장치에서 사용되는 백라이트가 필요하지 않아 경량박형이 가능할 뿐만 아니라 공정을 단순화시킬 수 있다. 또한, 저온 제작이 가능하고, 응답속도가 1ms 이하로서 고속의 응답속도를 가지며, 낮은 소비 전력, 넓은 시야각 및 높은 콘트라스트(Contrast) 등의 특성을 나타낸다.Among them, the organic electroluminescent display device is a self-luminous display device which electrically excites an organic compound to emit light. The organic electroluminescent display device does not require a backlight used in a liquid crystal display device, so that it can be lightweight and thin and can simplify the process. In addition, it can be manufactured at low temperature, has a response speed of 1ms or less, has a high response speed, exhibits characteristics such as low power consumption, wide viewing angle, and high contrast.

유기전계발광표시장치는 애노드 전극과 캐소드 전극 사이에 유기물로 이루어진 발광층을 포함하고 있어 애노드 전극으로부터 공급받는 정공과 캐소드 전극으로부터 받은 전자가 발광층 내에서 결합하여 정공-전자쌍인 여기자(exciton)를 형성하고 다시 여기자가 바닥상태로 돌아오면서 발생하는 에너지에 의해 발광하게 된다.The organic electroluminescent display device includes a light emitting layer made of an organic material between the anode electrode and the cathode electrode, and the holes supplied from the anode electrode and the electrons received from the cathode electrode are combined in the light emitting layer to form an exciton as a hole- Again, the exciton emits light due to the energy generated by returning to the ground state.

도 1은 종래 유기전계발광표시장치를 나타낸 단면도이고, 도 2는 수축 불량이 발생한 유기전계발광표시장치를 나타낸 평면도이다.FIG. 1 is a cross-sectional view showing a conventional organic light emitting display device, and FIG. 2 is a plan view showing an organic light emitting display device in which defective shrinkage occurs.

도 1을 참조하면, 종래 유기전계발광표시장치는 기판(10) 상에 제1 전극(12)이 형성되고, 제1 전극(12) 상에 뱅크층(13)이 형성된다. 뱅크층(13)에 의해 노출된 제1 전극(12) 상에 유기발광층(14)이 형성되고, 유기발광층(14) 상에 제2 전극(15)이 형성된다. 제2 전극(15)을 포함하는 하부 소자를 덮는 보호막(17)이 형성되고, 봉지기판(24)이 전면 봉지제(22)를 통해 기판(10)을 봉지한다. Referring to FIG. 1, a conventional organic light emitting display includes a substrate 10 on which a first electrode 12 is formed, and a bank layer 13 on a first electrode 12. The organic light emitting layer 14 is formed on the first electrode 12 exposed by the bank layer 13 and the second electrode 15 is formed on the organic light emitting layer 14. [ A protective film 17 covering the lower element including the second electrode 15 is formed and the encapsulation substrate 24 encapsulates the substrate 10 through the front encapsulation material 22.

전술한 종래 유기전계발광표시장치(10)는 제2 전극(15) 상부에 보호막(17)을 형성하여, 하부의 소자를 보호하고 있지만, 보호막(17)의 제조 공정 시, 직경이 큰 이물(20)이 부착되는 경우가 발생한다. 이 경우, 이물(20)에 의해 들뜬 보호막(17) 사이로 외부의 수분이나 산소가 유기발광층(14)으로 침투된다. 도 2에 나타나는 바와 같이, 유기발광층(14)은 침투된 수분과 산소에 의해 열화되어 발광하지 않는 수축 불량이 발생하게 되는 문제점이 있다.
The conventional organic electroluminescent display device 10 described above forms the protective film 17 on the second electrode 15 to protect the underlying device. However, in the manufacturing process of the protective film 17, 20 may be adhered. In this case, moisture or oxygen from the outside is permeated into the organic light-emitting layer 14 through the excited protective film 17 by the foreign substance 20. As shown in FIG. 2, the organic light-emitting layer 14 has a problem that defective shrinkage which is not caused by deterioration due to penetrated moisture and oxygen occurs.

본 발명은 외부의 수분과 산소가 침투되는 것을 방지하고, 수명을 향상시킬 수 있는 표시장치를 제공한다.
The present invention provides a display device capable of preventing external moisture and oxygen from penetrating and improving lifetime.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재된 유기발광층, 상기 제2 전극 상에 위치하며, 상기 유기발광층으로부터 광이 방출되는 발광영역을 둘러싸는 유기절연막 및 상기 유기절연막을 덮는 제1 보호막을 포함할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a display device including a substrate, a first electrode disposed on the substrate, a second electrode, and an organic emission layer interposed between the first electrode and the second electrode. An organic insulating layer disposed on the second electrode and surrounding the light emitting region from which the light is emitted from the organic light emitting layer, and a first passivation layer covering the organic insulating layer.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판, 상기 기판 상에 위치하는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재된 유기발광층, 상기 제2 전극 상에 위치하는 제2 보호막, 상기 제2 보호막 상에 위치하며, 상기 유기발광층으로부터 광이 방출되는 발광영역을 둘러싸는 유기절연막 및 상기 제2 보호막 및 상기 유기절연막을 덮는 제1 보호막을 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided a display device including a substrate, a first electrode disposed on the substrate, a second electrode, and an organic light emitting layer sandwiched between the first electrode and the second electrode, A second passivation layer disposed on the second passivation layer, and an organic insulating layer surrounding the light emitting layer from which the light is emitted from the organic emission layer, and a first passivation layer covering the second passivation layer and the organic insulating layer. .

상기 기판 상에 상기 제1 전극과 연결되는 박막트랜지스터를 더 포함할 수 있다.And a thin film transistor connected to the first electrode on the substrate.

상기 유기절연막은 상기 발광영역을 제외한 영역에 형성될 수 있다.The organic insulating layer may be formed in a region other than the light emitting region.

상기 유기절연막은 상기 발광영역의 일부를 덮도록 형성될 수 있다.The organic insulating layer may be formed to cover a part of the light emitting region.

상기 유기절연막의 폭은 1 내지 30㎜일 수 있다.The width of the organic insulating layer may be 1 to 30 mm.

상기 유기절연막의 두께는 0.5 내지 200㎛일 수 있다.The thickness of the organic insulating layer may be 0.5 to 200 mu m.

상기 유기절연막은 에폭시계, 실록산계, 아크릴계, 우레탄계 모노머 및 이들의 조합 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어질 수 있다.The organic insulating layer may be formed of at least one selected from epoxy, siloxane, acrylic, urethane-based monomers, and combinations thereof.

상기 기판과 합착되는 봉지기판을 더 포함하며, 상기 기판과 상기 봉지기판 사이에 충진실제가 형성되어, 상기 기판과 상기 봉지기판이 합착될 수 있다.And an encapsulation substrate bonded to the substrate, wherein a filling substance is formed between the substrate and the encapsulation substrate, so that the substrate and the encapsulation substrate can be bonded together.

상기 제1 보호막은 실리콘 질화막, 실리콘 산화막 및 산화알루미늄 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어질 수 있다.The first passivation layer may include at least one selected from the group consisting of a silicon nitride layer, a silicon oxide layer, and aluminum oxide.

상기 제1 보호막 및 상기 제2 보호막은 실리콘 질화막, 실리콘 산화막 및 산화알루미늄 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어질 수 있다.The first passivation layer and the second passivation layer may be formed of at least one selected from the group consisting of a silicon nitride layer, a silicon oxide layer, and aluminum oxide.

상기 제1 보호막과 상기 제2 보호막 사이에 위치하는 금속산화막을 더 포함할 수 있다.And a metal oxide layer disposed between the first passivation layer and the second passivation layer.

상기 제1 보호막과 상기 제2 보호막 사이는 상기 발광영역을 둘러싸는 영역과 대응할 수 있다.The space between the first protective film and the second protective film may correspond to a region surrounding the light emitting region.

상기 제1 보호막 상에 상기 제1 보호막과 콘택하는 상기 금속산화막이 위치하고, 상기 금속산화막 상에 상기 금속산화막과 콘택하는 상기 제2 보호막이 위치할 수 있다.The metal oxide film which is in contact with the first protective film is located on the first protective film and the second protective film which contacts the metal oxide film is located on the metal oxide film.

상기 유기절연막은 상기 발광영역을 덮도록 형성될 수 있다.
The organic insulating layer may be formed to cover the light emitting region.

본 발명의 실시예들에 따른 표시장치는 발광영역을 둘러싸는 유기절연막을 형성하여, 표시장치의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단하고, 이물에 의한 갭을 유기절연막이 채워 보호막이 균일하게 형성됨에 따라 수분이나 산소가 침투되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다. The display device according to the embodiments of the present invention includes an organic insulating film surrounding the light emitting region to block moisture and oxygen penetrating from the outside of the display device and to form a protective film uniformly by filling the organic insulating film with a gap caused by the foreign substance There is an advantage that moisture or oxygen can be prevented from permeating.

또한, 본 발명의 실시예들에 따른 표시장치는 제1 보호막과 제2 보호막 사이에 금속산화막을 형성하여, 제1 보호막과 제2 보호막 사이에서 발생할 수 있는 버블(bubble)과 같은 결함을 방지할 수 있다. 따라서, 제1 보호막과 제2 보호막 사이의 결함을 통해 표시장치의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단할 수 있는 이점이 있다.
In addition, the display device according to embodiments of the present invention may form a metal oxide film between the first protective film and the second protective film to prevent defects such as bubbles that can occur between the first protective film and the second protective film . Accordingly, there is an advantage that moisture and oxygen permeating from the outside of the display device can be blocked through the defect between the first protective film and the second protective film.

도 1은 종래 유기전계발광표시장치를 나타낸 단면도.
도 2는 수축 불량이 발생한 유기전계발광표시장치를 나타낸 평면도.
도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도.
도 4는 도 3의 표시장치를 나타낸 평면도.
도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도.
도 6은 도 5의 표시장치를 나타낸 평면도.
도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도.
도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도.
도 9는 도 8의 표시장치를 나타낸 평면도.
도 10a는 상기 유기절연막이 형성된 표시장치의 좌측을 나타낸 도면이고, 도 10b는 표시장치의 상측을 나타낸 도면.
도 11은 본 발명의 비교예 2 및 실시예 2에 따라 제조된 표시장치의 SEM 및 AFM 측정하여 나타낸 사진.
도 12는 본 발명의 비교예 2 및 실시예 2에 따라 제조된 표시장치의 산소의 함량을 ToF-SIMS depth profile을 이용하여 분석한 결과를 나타낸 그래프.
1 is a cross-sectional view of a conventional organic light emitting display device.
2 is a plan view showing an organic electroluminescent display device in which defective shrinkage occurs.
3 is a cross-sectional view of a display device according to a first embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a plan view showing the display device of Fig. 3; Fig.
5 is a cross-sectional view illustrating a display device according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a plan view showing the display device of FIG. 5;
7 is a cross-sectional view of a display device according to a second embodiment of the present invention.
8 is a cross-sectional view showing a display device according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a plan view showing the display device of FIG. 8; FIG.
FIG. 10A is a left side view of the display device having the organic insulating film formed thereon, and FIG. 10B is a top view of the display device.
11 is a photograph showing SEM and AFM measurement of a display device manufactured according to Comparative Example 2 and Example 2 of the present invention.
12 is a graph showing the results of analyzing the oxygen content of a display device manufactured according to Comparative Examples 2 and 2 of the present invention using a ToF-SIMS depth profile.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 실시 예들을 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3 및 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도이고, 도 4는 도 3의 표시장치를 나타낸 평면도이고, 도 6은 도 5의 표시장치를 나타낸 평면도이다.FIGS. 3 and 5 are cross-sectional views illustrating a display device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 4 is a plan view of the display device of FIG. 3, and FIG. 6 is a plan view of the display device of FIG.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치(100)는 기판(110), 상기 기판(110) 상에 위치하는 제1 전극(130), 제2 전극(136) 및 상기 제1 전극(130)과 상기 제2 전극(136) 사이에 개재된 유기발광층(134), 상기 제2 전극(136) 상에 위치하는 제2 보호막(140), 상기 제2 보호막(140) 상에 위치하며 상기 유기발광층(134)으로부터 광이 방출되는 발광영역(EA)을 둘러싸는 유기절연막(170) 및 상기 제2 보호막(140)과 상기 유기절연막(170)을 덮는 제1 보호막(142)를 포함한다.3, a display device 100 according to a first embodiment of the present invention includes a substrate 110, a first electrode 130 positioned on the substrate 110, a second electrode 136, An organic light emitting layer 134 interposed between the first electrode 130 and the second electrode 136, a second protective layer 140 positioned on the second electrode 136, And a first passivation layer 142 covering the second passivation layer 140 and the organic insulating layer 170. The first passivation layer 142 may be formed on the first passivation layer 140, .

보다 자세하게, 기판(110) 상에 박막트랜지스터(TFT) 및 캐패시터(Cst)가 위치한다. 박막트랜지스터(TFT)는 반도체층(112), 게이트 전극(118) 및 소스/드레인 전극(126, 124)을 포함하며, 반도체층(112)과 게이트 전극(118) 사이에 게이트 절연막(116)이 위치하고, 게이트 전극(118)과 소스/드레인 전극(126, 124) 사이에 층간 절연막(122)이 위치한다. 캐패시터(Cst)는 게이트 절연막(116)을 사이에 두고 캐패시터 하부전극(114)과 캐패시터 상부전극(120)으로 구성된다.In more detail, a thin film transistor (TFT) and a capacitor Cst are located on the substrate 110. [ The thin film transistor TFT includes a semiconductor layer 112, a gate electrode 118 and source / drain electrodes 126 and 124. A gate insulating film 116 is formed between the semiconductor layer 112 and the gate electrode 118 And an interlayer insulating film 122 is located between the gate electrode 118 and the source / drain electrodes 126 and 124. [ The capacitor Cst is composed of the capacitor lower electrode 114 and the capacitor upper electrode 120 with the gate insulating film 116 therebetween.

본 발명의 제1 실시예에서는 게이트 전극(118)이 반도체층(112)의 상부에 위치하는 탑-게이트(Top-Gate)형 박막트랜지스터를 예로 도시하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 게이트 전극(118)이 반도체층(112) 하부에 위치하는 바텀-게이트(Bottom-Gate)형 박막트랜지스터도 적용가능하다.In the first embodiment of the present invention, a top-gate type thin film transistor in which the gate electrode 118 is located above the semiconductor layer 112 is shown as an example. However, the present invention is not limited to this, A bottom-gate type thin film transistor in which the gate electrode 118 is located under the semiconductor layer 112 is also applicable.

한편, 박막트랜지스터(TFT) 및 캐패시터(Cst)가 형성된 기판(110) 상에 오버코트층(124)이 위치한다. 오버코트층(124)은 박막트랜지스터(TFT) 및 캐패시터(Cst)를 보호하며 박막트랜지스터(TFT)에 의한 단차를 평탄화한다.On the other hand, the overcoat layer 124 is disposed on the substrate 110 on which the thin film transistor TFT and the capacitor Cst are formed. The overcoat layer 124 protects the thin film transistor (TFT) and the capacitor Cst, and flattenes a stepped portion by the thin film transistor (TFT).

오버코트층(124) 상에 제1 전극(130)이 위치한다. 제1 전극(130)은 애노드 전극으로, ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ICO(Indium Cerium Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide)와 같은 일함수가 높고 빛이 투과할 수 있는 투명도전물질로 형성할 수 있다. 제1 전극(130)은 오버코트층(124)을 관통하여 상기 박막트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(124)을 노출하는 비어홀(126)을 통해 상기 박막트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(124)과 전기적으로 연결된다. The first electrode 130 is located on the overcoat layer 124. The first electrode 130 is an anode electrode. The first electrode 130 is a transparent electrode that has a high work function such as ITO (Indium Tin Oxide), IZO (Indium Zinc Oxide), ICO (Indium Cerium Oxide) It may be formed of a conductive material. The first electrode 130 is electrically connected to the drain electrode 124 of the thin film transistor TFT through a via hole 126 which penetrates the overcoat layer 124 and exposes the drain electrode 124 of the thin film transistor TFT. Lt; / RTI >

제1 전극(130) 상에 뱅크층(132)이 위치한다. 뱅크층(132)은 제1 전극(130)의 일부를 노출하여 화소를 정의하는 화소정의막일 수 있다. 뱅크층(132) 및 노출된 제1 전극(130) 상에 유기발광층(134)이 위치한다. 유기발광층(134)은 전자와 정공이 결합하여 빛을 발광하는 층으로, 유기발광층(134)과 제1 전극(130) 사이에 정공주입층 또는 정공수송층을 포함할 수 있으며, 유기발광층(134) 상에 전자수송층 또는 전자주입층을 포함할 수 있다. The bank layer 132 is located on the first electrode 130. The bank layer 132 may be a pixel defining layer that defines a pixel by exposing a part of the first electrode 130. [ An organic light emitting layer 134 is disposed on the bank layer 132 and the exposed first electrode 130. The organic light emitting layer 134 may include a hole injecting layer or a hole transporting layer between the organic light emitting layer 134 and the first electrode 130, An electron transport layer or an electron injection layer may be included.

유기발광층(134)이 형성된 기판(110) 상에 제2 전극(136)이 위치한다. 제2 전극(136)은 캐소드 전극으로 일함수가 낮은 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. A second electrode 136 is disposed on a substrate 110 on which an organic light emitting layer 134 is formed. The second electrode 136 may be made of magnesium (Mg), calcium (Ca), aluminum (Al), silver (Ag), or an alloy thereof with low work function as a cathode electrode.

본 발명의 실시예에 따른 표시장치는 유기발광층(134)으로부터 발광하는 빛이 기판(110) 방향으로 방출되는 배면발광형과, 유기발광층(134)으로부터 발광하는 빛이 제2 전극(136) 방향으로 방출되는 전면발광형일 수 있다. 여기서, 배면발광형 표시장치일 경우, 제1 전극(130)은 빛을 투과하도록 이루어지고, 제2 전극(136)은 빛을 반사할 수 있을 정도로 충분한 두께로 이루어진다. 반면, 전면발광형 표시장치일 경우, 제1 전극(130)은 하부에 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 니켈(Ni) 중 어느 하나로 이루어진 반사층을 더 포함할 수 있고, 제2 전극(136)은 빛이 투과될 수 있을 정도로 얇은 두께로 이루어지며 바람직하게는 1 내지 50Å의 두께로 이루어질 수 있다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a bottom emission type in which light emitted from the organic emission layer 134 is emitted toward the substrate 110 and a bottom emission type in which light emitted from the organic emission layer 134 is emitted toward the second electrode 136 Emitting type. Here, in the case of a bottom emission type display device, the first electrode 130 is made to transmit light, and the second electrode 136 is made thick enough to reflect light. The first electrode 130 may further include a reflective layer formed of any one of aluminum (Al), silver (Ag), and nickel (Ni) Is made to be thin enough to allow light to pass therethrough and may preferably have a thickness of 1 to 50 ANGSTROM.

제2 전극(136)이 형성된 기판(110) 상에 제2 전극(136)의 상부 형태를 따라 덮는 제2 보호막(140)이 위치한다. 여기서, 제2 전극(136)의 상부 형태를 따라 덮는다는 것은 제2 전극(136)의 스텝 커버리지(step coverage)를 따라 형성되는 것을 의미한다. 제2 보호막(140)은 하부의 소자들을 보호하고 유기발광층(134)에 수분이 침투하는 것을 방지하는 역할을 하며, 실리콘 질화막, 실리콘 산화막 및 산화알루미늄 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어지며, 단층 또는 이들의 다층 구조로 이루어질 수 있다.A second protective layer 140 covering the upper portion of the second electrode 136 is disposed on the substrate 110 on which the second electrode 136 is formed. Here, covering the upper portion of the second electrode 136 means that it is formed along the step coverage of the second electrode 136. The second protective film 140 protects the underlying elements and prevents water from penetrating into the organic light emitting layer 134. The second protective film 140 is formed of at least one selected from a silicon nitride film, a silicon oxide film, and aluminum oxide, Layer structure.

제2 보호막(140) 상에 유기절연막(170)이 위치한다. 도 4에 도시된 바와 같이, 유기절연막(170)은 발광영역(EA)의 주변에 위치하여 발광영역(EA)를 둘러싸는 형상으로 형성된다. 여기서 발광영역(EA)은 각 R, G, B 서브픽셀마다 유기발광층(134)의 빛이 방출되어 화상이 구현되는 영역이다. 유기절연막(170)은 발광영역(EA)을 제외한 주변에 위치하여, 발광영역(EA)으로부터 방출되는 광의 투과율이 저하되는 것을 방지한다. 유기절연막(170)은 수분이나 산소의 차단 효과가 우수한 에폭시계 모노머로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않고 에폭시계, 실록산계, 아크릴계, 우레탄계 모노머 및 이들의 조합 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어질 수 있다.An organic insulating film 170 is disposed on the second protective film 140. As shown in FIG. 4, the organic insulating layer 170 is formed around the light emitting region EA and surrounds the light emitting region EA. Here, the light emitting region EA is a region in which light of the organic light emitting layer 134 is emitted for each R, G, and B sub-pixels to implement an image. The organic insulating film 170 is located in the periphery excluding the light emitting region EA to prevent the transmittance of light emitted from the light emitting region EA from being lowered. The organic insulating film 170 may be made of an epoxy-based monomer having excellent water or oxygen blocking effect, but may be formed of at least one selected from epoxy, siloxane, acrylic, urethane-based monomers, and combinations thereof.

표시장치(100)의 발광영역(EA)을 둘러싸는 유기절연막(170)의 폭(w)은 1 내지 30mm로 이루어진다. 여기서, 유기절연막(170)의 폭(w)이 1㎜ 이상이면 표시장치(100)의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단할 수 있는 이점이 있고, 유기절연막(170)의 폭(w)이 30㎜ 이하이면 유기절연막(170)에 의해 표시장치(100)의 베젤(bezel)이 넓어지는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.The width w of the organic insulating film 170 surrounding the light emitting region EA of the display device 100 is 1 to 30 mm. If the width w of the organic insulating film 170 is 1 mm or more, moisture and oxygen permeating from the outside of the display device 100 can be blocked. If the width w of the organic insulating film 170 is 30 Mm, there is an advantage that the bezel of the display device 100 can be prevented from being widened by the organic insulating film 170.

또한, 유기절연막(170)의 두께는 0.5 내지 200㎛로 이루어진다. 여기서, 유기절연막(170)의 두께가 0.5㎛ 이상이면 이물에 의한 제2 보호막(140)의 갭(gap)을 채워 추후 형성되는 제2 보호막(140)이 균일하게 형성됨에 따라 수분이나 산소가 침투되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있고, 유기절연막(170)의 두께가 200㎛ 이하이면 유리절연막(170)의 공정 시간이 길어지고 재료비가 많이 소비되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.The thickness of the organic insulating film 170 is 0.5 to 200 mu m. If the thickness of the organic insulating layer 170 is 0.5 mu m or more, the second protective layer 140, which is formed later by filling the gap of the second protective layer 140 with foreign matter, is uniformly formed, If the thickness of the organic insulating film 170 is 200 m or less, there is an advantage that the process time of the glass insulating film 170 is prolonged and the material cost is not consumed much.

유기절연막(170)은 전술한 도 1과 같이, 하부의 제2 보호막(140) 또는 제2 전극(136) 등의 무기막에서 이물에 의한 갭(gap)이 발생하였을 경우, 액상으로 형성되는 유기절연막(170)이 갭을 채우게 되어 제2 보호막(140)이 균일하게 형성됨에 따라 수분이나 산소가 침투되는 것을 방지하는 역할을 한다. 또한, 표시장치(100)의 발광영역(EA)을 둘러싸도록 형성하기 때문에, 표시장치(100)의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단하는 댐과 같은 역할을 한다.1, when the organic insulating film 170 has a gap formed by foreign substances in the inorganic film such as the second protective film 140 or the second electrode 136, The insulating film 170 fills the gap and the second protective film 140 is uniformly formed to prevent penetration of moisture or oxygen. Further, since it is formed so as to surround the light emitting area EA of the display device 100, it functions as a dam that blocks moisture and oxygen penetrating from the outer periphery of the display device 100. [

유기절연막(170)과 제2 보호막(140) 상에 유기절연막(170)과 제2 보호막(140)을 덮는 제1 보호막(142)이 위치한다. 제1 보호막(142)은 전술한 제2 보호막(140)과 동일한 물질로 이루어지며, 하부의 소자들을 보호하며, 외부로부터 산소 및 수분이 침투되는 것을 방지할 수 있다.A first protective layer 142 covering the organic insulating layer 170 and the second protective layer 140 is formed on the organic insulating layer 170 and the second protective layer 140. The first passivation layer 142 is made of the same material as the second passivation layer 140 and protects the underlying elements and prevents oxygen and moisture from penetrating from the outside.

제1 보호막(142)이 형성된 기판(110) 상에 봉지기판(160)이 충진실제(165)를 통해 합착된다. 여기서, 충진실제(165)는 기판(110)과 봉지기판(160)을 접착하며, 내부의 소자를 보호하는 역할을 하는 것으로, 소자를 모두 덮는 구조로 이루어질 수 있다. 충진실제(165)는 접착 특성이 우수하며, 빛의 투과율이 우수한 물질을 사용할 수 있다. 예를 들어, 충진실제(185)는 열경화성 또는 광경화성 물질로 이루어질 수 있으며, 에폭시계, 아크릴계, 이미드계 또는 실레인계 물질로 이루어질 수 있다. The sealing substrate 160 is bonded to the substrate 110 on which the first protective film 142 is formed through the filling process 165. Here, the filling process 165 bonds the substrate 110 and the sealing substrate 160, protects the internal elements, and may be configured to cover all of the elements. The filling actual 165 may be made of a material having excellent adhesive properties and excellent light transmittance. For example, the filler 185 may be made of a thermosetting or photocurable material and may be made of an epoxy, acrylic, imide or silane material.

이상과 같이, 본 발명의 표시장치는 발광영역을 둘러싸는 유기절연막을 형성하여, 표시장치의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단하고, 이물에 의한 갭을 유기절연막이 채워 갭을 제2 보호막이 균일하게 형성됨에 따라 수분이나 산소가 침투되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다. As described above, in the display device of the present invention, the organic insulating film surrounding the light emitting region is formed to block water and oxygen penetrating from the outside of the display device, the organic insulating film is filled in the gap caused by the foreign substance, There is an advantage that water or oxygen can be prevented from permeating as it is uniformly formed.

한편, 도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 표시장치는 유기절연막(170)이 발광영역(EA)의 일부를 덮도록 형성된다. 도 6에 도시된 바와 같이, 유기절연막(170)은 폭(w)을 넓게 형성하여, 발광영역(EA)의 안쪽까지 덮도록 형성된다. 유기절연막(170)의 폭(w)이 넓어지면 넓어질수록 외부로부터 침투되는 수분과 산소를 차단하는 효과는 우수해진다. 그러나, 유기절연막(170)의 폭(w)이 넓어짐에 따라 표시장치의 베젤이 커지게 됨으로 본 실시예에서는 유기절연막(170)이 발광영역(EA)의 일부를 덮도록 형성한다. 이때, 유기발광층(134)에서 방출되는 광의 투과율을 저하시키지 않도록 유기절연막(170)은 발광영역(EA)의 일부를 최소한으로만 덮는 것이 바람직하다.5 and 6, a display device according to the first embodiment of the present invention is formed so that the organic insulating layer 170 covers a part of the light emitting region EA. As shown in FIG. 6, the organic insulating layer 170 is formed to have a wide width w and cover the inside of the light emitting region EA. As the width w of the organic insulating film 170 becomes wider, the effect of shielding moisture and oxygen permeating from the outside becomes better. However, since the bezel of the display device becomes larger as the width w of the organic insulating film 170 becomes wider, the organic insulating film 170 is formed to cover a part of the light emitting area EA. At this time, the organic insulating layer 170 preferably covers only a part of the light emitting region EA so as not to lower the transmittance of light emitted from the organic light emitting layer 134.

한편, 도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도이다. 하기에서는 전술한 제1 실시예와 동일한 구성요소에 대해서 동일한 도면부호를 붙여 그 설명을 생략하기로 한다.7 is a cross-sectional view illustrating a display device according to a second embodiment of the present invention. In the following, the same constituent elements as those of the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.

도 7을 참조하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치는 기판(110), 상기 기판(110) 상에 위치하는 제1 전극(130), 제2 전극(136) 및 상기 제1 전극(130)과 상기 제2 전극(136) 사이에 개재된 유기발광층(134), 상기 제2 전극(136) 상에 위치하며 상기 유기발광층(134)으로부터 광이 방출되는 발광영역(EA)을 둘러싸는 유기절연막(170) 및 상기 유기절연막(170)을 덮는 제1 보호막(142)를 포함한다.Referring to FIG. 7, a display device according to a second embodiment of the present invention includes a substrate 110, a first electrode 130, a second electrode 136, An organic light emitting layer 134 interposed between the first electrode 130 and the second electrode 136 and a light emitting region EA located on the second electrode 136 and emitting light from the organic light emitting layer 134 And a first protective layer 142 covering the organic insulating layer 170 and the organic insulating layer 170.

특히, 본 발명의 제2 실시예에서는 제2 전극(136) 상에 제2 전극(136)과 접촉하는 유기절연막(170)이 형성되고, 유기절연막(170)을 덮는 제1 보호막(142)이 형성된다. 본 발명의 제2 실시예는 전술한 제1 실시예의 제2 보호막이 생략된 구조이다. 제2 보호막이 생략되면, 유기발광층(134)으로부터 방출되는 광의 투과율이 향상되는 이점이 있고, 유기절연막(170) 상에 제1 보호막(142)이 형성되기 때문에 수분과 산소의 차단 효과도 유지할 수 있다. 또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치는 전술한 제1 실시예와 동일하게, 유기절연막(170)이 발광영역(EA)의 일부를 덮거나 덮지 않도록 형성될 수 있다. Particularly, in the second embodiment of the present invention, the organic insulating layer 170 is formed on the second electrode 136 in contact with the second electrode 136, and the first protective layer 142 covering the organic insulating layer 170 . The second embodiment of the present invention is a structure in which the second protective film of the above-described first embodiment is omitted. If the second protective film is omitted, the transmittance of light emitted from the organic light emitting layer 134 is improved. Since the first protective film 142 is formed on the organic insulating film 170, the blocking effect of moisture and oxygen can be maintained have. Also, the display device according to the second embodiment of the present invention may be formed so that the organic insulating layer 170 does not cover or cover a part of the light emitting area EA, as in the first embodiment described above.

본 발명의 제2 실시예에 따른 표시장치는 제2 전극(136)의 제조 공정 이후에 이물이 발생하였을 때, 유기절연막(170)이 이물의 갭을 채워 추후 형성되는 제1 보호막(142)이 균일하게 형성되도록 한다. 이에 따라, 제1 보호막(142)의 수분 및 산소의 차단 효과를 더욱 향상시킬 수 있다. The display device according to the second embodiment of the present invention includes a first protective layer 142 that is formed after the organic insulating layer 170 is filled with a foreign substance when a foreign object is generated after the manufacturing process of the second electrode 136 So as to be uniformly formed. Accordingly, the effect of blocking moisture and oxygen in the first protective film 142 can be further improved.

한편, 도 8은 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시장치를 나타낸 단면도이고, 도 9는 도 8의 표시장치를 나타낸 평면도이다. 하기에서는 전술한 제1 실시예와 동일한 구성요소에 대해서 동일한 도면부호를 붙여 그 설명을 생략하기로 한다.8 is a cross-sectional view showing a display device according to a third embodiment of the present invention, and Fig. 9 is a plan view showing the display device of Fig. In the following, the same constituent elements as those of the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals, and a description thereof will be omitted.

도 8을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시장치는 기판(110), 상기 기판(110) 상에 위치하는 제1 전극(130), 제2 전극(136) 및 상기 제1 전극(130)과 상기 제2 전극(136) 사이에 개재된 유기발광층(134), 상기 제2 전극(136)을 덮는 제2 보호막(140)을 포함한다.Referring to FIG. 8, a display device according to a third embodiment of the present invention includes a substrate 110, a first electrode 130, a second electrode 136, An organic emission layer 134 interposed between the first electrode 130 and the second electrode 136 and a second protective layer 140 covering the second electrode 136.

본 발명의 제3 실시예에서는, 제2 보호막(140) 상에 유기절연막(170)이 위치하는데, 유기절연막(170)은 전술한 제1 및 제2 실시예와는 달리, 상기 유기발광층(134)으로부터 광이 방출되는 발광영역(EA)을 덮도록 형성된다. 유기절연막(170)은 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140) 사이의 접착층으로 작용하여 소자의 고온고습 신뢰성을 확보할 수 있다. In the third embodiment of the present invention, the organic insulating layer 170 is disposed on the second passivation layer 140. Unlike the first and second embodiments described above, the organic insulating layer 170 Emitting region EA from which light is emitted. The organic insulating layer 170 acts as an adhesive layer between the first protective layer 142 and the second protective layer 140 to ensure reliability of the device at high temperature and high humidity.

유기절연막(170) 상에 유기절연막(170)과 제2 보호막(140)을 덮는 제1 보호막(142)이 위치한다. 제1 보호막(142)은 전술한 제2 보호막(140)과 동일한 물질로 이루어지며, 하부의 소자들을 보호하며, 외부로부터 산소 및 수분이 침투되는 것을 방지할 수 있다.A first protective layer 142 covering the organic insulating layer 170 and the second protective layer 140 is disposed on the organic insulating layer 170. The first passivation layer 142 is made of the same material as the second passivation layer 140 and protects the underlying elements and prevents oxygen and moisture from penetrating from the outside.

한편, 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시장치는 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140) 사이에 형성된 금속산화막(150)을 더 포함한다. 보다 자세하게는, 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140)이 서로 마주보는 계면에 금속산화막(150)이 형성된다. 즉, 제1 보호막(142) 상에 제1 보호막(142)과 콘택하는 금속산화막(150)이 형성되고, 금속산화막(150) 상에 금속산화막(150)과 콘택하는 제2 보호막(140)이 형성된다. The display device according to the third embodiment of the present invention further includes a metal oxide layer 150 formed between the first protective layer 142 and the second protective layer 140. More specifically, the metal oxide film 150 is formed at the interface where the first protective film 142 and the second protective film 140 face each other. That is, a metal oxide film 150 which contacts the first protective film 142 is formed on the first protective film 142 and a second protective film 140 which contacts the metal oxide film 150 on the metal oxide film 150 .

금속산화막(150)은 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140)의 불안정한 계면을 완충하는 역할을 한다. 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140)은 PECVD와 같은 플라즈마를 이용하는 화학기상증착법으로 형성되는데, 본 발명의 경우, 제2 보호막(140)이 PECVD로 먼저 형성되고, 다른 챔버에서 유기절연막(170)이 형성되고, 다시 PECVD로 제1 보호막(142)이 형성된다. 따라서, 불연속적인 플라즈마 공정으로 인해 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140) 사이의 계면 특성이 좋지 않게 된다. The metal oxide layer 150 serves to buffer the unstable interface between the first protective layer 142 and the second protective layer 140. The first passivation layer 142 and the second passivation layer 140 are formed by chemical vapor deposition using plasma such as PECVD. In the present invention, the second passivation layer 140 is first formed by PECVD, (170) is formed, and the first protective film (142) is formed by PECVD again. Therefore, the interfacial characteristics between the first protective film 142 and the second protective film 140 are poor due to the discontinuous plasma process.

본 발명에서는 제2 보호막(140)을 형성하고 유기절연막(170)을 형성한 후, 추후 제1 보호막(142)과 접촉될 제2 보호막(140) 상에 금속산화막(150)을 형성한다. 금속산화막(150)은 알루미늄 산화물, 마그네슘 산화물, 인듐틴옥사이드와 같은 금속산화물로 이루어지며, 스퍼터링, 화학기상증착법, 원자층증착법, 대향타겟스퍼터링(FTS) 등의 저온 성막 공정으로 형성된다. 금속산화막(150)은 500 내지 2000㎛의 두께로 형성되어, 제1 보호막(142)과 제2 보호막(140) 사이의 계면을 완충한다.The metal oxide layer 150 may be formed on the second passivation layer 140 to be in contact with the first passivation layer 142 after the second passivation layer 140 is formed and the organic insulating layer 170 is formed. The metal oxide film 150 is formed of a metal oxide such as aluminum oxide, magnesium oxide, or indium tin oxide, and is formed by a low temperature film forming process such as sputtering, chemical vapor deposition, atomic layer deposition, or opposite target sputtering (FTS). The metal oxide film 150 is formed to a thickness of 500 to 2000 μm to buffer the interface between the first protective film 142 and the second protective film 140.

도 9를 참조하면, 금속산화막(150)은 유기발광층(134)으로부터 광이 방출되는 발광영역(EA)을 둘러싸도록 형성되고, 발광영역(EA) 외에 형성되어 유기발광층(134)으로부터 방출되는 광을 차단하지 않도록 한다. 한편, 제1 보호막(142)이 형성된 기판(110) 상에 봉지기판(160)이 충진실제(165)를 통해 합착된다. 9, the metal oxide film 150 is formed to surround the luminescent region EA from which light is emitted from the organic luminescent layer 134, and is formed outside the luminescent region EA to emit light emitted from the organic luminescent layer 134 . On the other hand, the sealing substrate 160 is bonded to the substrate 110 on which the first protective film 142 is formed through the filling process 165.

이상과 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시장치는 제1 보호막과 제2 보호막 사이에 금속산화막을 형성하여, 제1 보호막과 제2 보호막 사이에서 발생할 수 있는 버블(bubble)과 같은 결함을 방지할 수 있다. 따라서, 제1 보호막과 제2 보호막 사이의 결함을 통해 표시장치의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단할 수 있는 이점이 있다.
As described above, in the display device according to the third embodiment of the present invention, a metal oxide film is formed between the first protective film and the second protective film, and a defect such as a bubble that may occur between the first protective film and the second protective film Can be prevented. Accordingly, there is an advantage that moisture and oxygen permeating from the outside of the display device can be blocked through the defect between the first protective film and the second protective film.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실험예를 개시한다. 다만, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명이 하기 실험예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, preferred examples for the understanding of the present invention will be described. However, the following examples are illustrative of the present invention, and the present invention is not limited to the following experimental examples.

<실험예 1><Experimental Example 1>

비교예 1Comparative Example 1

전술한 도 1의 구조를 갖는 표시장치를 제조하였다. 이때, 보호막은 단층으로 실리콘 질화막을 0.5㎛의 두께로 형성하였다.
A display device having the structure of Fig. 1 described above was manufactured. At this time, a silicon nitride film having a thickness of 0.5 탆 was formed as a single layer.

실시예 1Example 1

전술한 도 5의 구조를 갖는 표시장치를 제조하였다. 제1 보호막은 실리콘 질화막을 0.5㎛의 두께로 형성하였고, 유기절연막은 에폭시 수지를 10㎛의 두께로 형성하였고, 제2 보호막은 실리콘 질화막을 1.5㎛의 두께로 형성하였다. 이렇게 형성된 실시예의 표시장치는 도 10a 및 도 10b에 나타난 바와 같이, 유기절연막(점선 표시)이 복수의 픽셀들이 형성된 발광영역의 일부를 덮도록 형성하였다.
A display device having the structure of Fig. 5 described above was manufactured. A silicon nitride film was formed to a thickness of 0.5 탆 for the first protective film, an epoxy resin was formed to a thickness of 10 탆 for the organic insulating film, and a silicon nitride film was formed to a thickness of 1.5 탆 for the second protective film. 10A and 10B, an organic insulating film (dotted line) was formed so as to cover a part of the light emitting region where a plurality of pixels were formed.

전술한 비교예 1 및 실시예 1에 따라 제조된 표시장치에 대해 신뢰성 테스트를 수행하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다. 하기 신뢰성 테스트는 비교예 1 및 실시예 1의 패널들을 각각 30개씩 준비한 뒤, 85℃의 온도 및 85%의 습도 분위기에서 100, 200, 300, 400 및 500시간 동안 방치하여 테스트하였다.The reliability test was performed on the display device manufactured according to the above-mentioned Comparative Example 1 and Example 1, and the results are shown in Table 1 below. In the following reliability test, 30 panels of each of Comparative Example 1 and Example 1 were prepared and then left for 100, 200, 300, 400, and 500 hours at a temperature of 85 캜 and a humidity of 85%.


시간
time 작동 패널 개수(괄호 안은 양품율%)Number of operating panels (parentheses indicate percentage of good products) 비교예Comparative Example 실시예Example 500500 00 17(56%)17 (56%) 400400 00 1919 300300 00 1919 200200 00 2020 100100 2(6%)2 (6%) 2424

상기 표 1을 참조하면, 본 발명의 비교예 1에 따른 표시장치는 신뢰성 테스트 시간이 200, 300, 400 및 500 시간일 때에 정상 작동하는 패널이 한개도 없었고, 100 시간일 때에 2개의 패널이 정상 작동하였다. 이에 반해, 본 발명의 실시예1 에 따른 표시장치는 각 시간대 별로 최소 17개 이상의 패널이 정상 작동하는 것을 확인할 수 있었다.
Referring to Table 1, the display device according to Comparative Example 1 of the present invention showed no normal operation when the reliability test time was 200, 300, 400 and 500 hours, It worked. In contrast, the display apparatus according to the first embodiment of the present invention can confirm that at least 17 panels operate normally in each time zone.

<실험예 2><Experimental Example 2>

실시예 2Example 2

도 8에 도시된 구조의 표시장치를 제조하였다. 제1 보호막은 실리콘 질화막을 0.5㎛의 두께로 형성하였고, 유기절연막은 에폭시 수지를 10㎛의 두께로 형성하였고, 제2 보호막은 실리콘 질화막을 1.5㎛의 두께로 형성하였다. 그리고, 금속산화막으로 알루미늄 산화막을 500㎛의 두께로 형성하였다.
A display device having the structure shown in Fig. 8 was manufactured. A silicon nitride film was formed to a thickness of 0.5 탆 for the first protective film, an epoxy resin was formed to a thickness of 10 탆 for the organic insulating film, and a silicon nitride film was formed to a thickness of 1.5 탆 for the second protective film. Then, an aluminum oxide film was formed to a thickness of 500 탆 using a metal oxide film.

비교예 2Comparative Example 2

전술한 실시예 2와 동일한 조건 하에, 금속산화막을 형성하지 않고 표시장치를 제조하였다.
Under the same conditions as in Example 2 described above, a display device was manufactured without forming a metal oxide film.

전술한 비교예 2 및 실시예 2에 따라 제조된 표시장치의 SEM 및 AFM 측정 사진을 도 11에 나타내었고, 비교예 2 및 실시예 2에 따라 제조된 표시장치의 산소의 함량을 ToF-SIMS depth profile을 이용하여 분석한 결과를 나타내었다.11 shows SEM and AFM measurement photographs of the display device manufactured according to Comparative Examples 2 and 2. The oxygen content of the display device manufactured according to Comparative Example 2 and Example 2 was measured by ToF-SIMS depth The results are shown in Fig.

도 11 및 도 12를 참조하면, 비교예 2에 따라 금속산화막이 형성되지 않은 제1 보호막과 제2 보호막은 표면의 러프니스(roughness)가 나쁘고, 제1 보호막과 제2 보호막이 맞닿는 계면에서 산소 함량이 많은 것을 확인할 수 있었다. 반면, 실시예 2에 따라 제1 보호막과 제2 보호막 사이에 금속산화막을 형성한 경우에는 표면의 러프니스가 좋고, 금속산화막에 의해 제1 보호막과 제2 보호막이 마주보는 영역에서 산소의 함량이 현저하게 감소된 것을 확인할 수 있었다.11 and 12, according to Comparative Example 2, the roughness of the surface of the first protective film and the second protective film, on which the metal oxide film was not formed, was inferior. When the first protective film and the second protective film were in contact with each other, It was confirmed that the content was large. On the other hand, when the metal oxide film is formed between the first protective film and the second protective film according to the second embodiment, the roughness of the surface is good and the oxygen content in the region where the first protective film and the second protective film face each other It was confirmed that it was remarkably reduced.

상기와 같이, 본 발명의 실시예들에 따른 표시장치는 발광영역을 둘러싸는 유기절연막을 형성하여, 표시장치의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단하고, 이물에 의한 갭을 유기절연막이 채워 보호막이 균일하게 형성됨에 따라 수분이나 산소가 침투되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다. As described above, in the display device according to the embodiments of the present invention, the organic insulating film surrounding the light emitting region is formed to block water and oxygen penetrating from the outside of the display device, and the organic insulating film is filled in the gap caused by the foreign substance, There is an advantage that moisture or oxygen can be prevented from permeating.

또한, 본 발명의 실시예들에 따른 표시장치는 제1 보호막과 제2 보호막 사이에 금속산화막을 형성하여, 제1 보호막과 제2 보호막 사이에서 발생할 수 있는 버블(bubble)과 같은 결함을 방지할 수 있다. 따라서, 제1 보호막과 제2 보호막 사이의 결함을 통해 표시장치의 외곽으로부터 침투되는 수분과 산소를 차단할 수 있는 이점이 있다. In addition, the display device according to embodiments of the present invention may form a metal oxide film between the first protective film and the second protective film to prevent defects such as bubbles that can occur between the first protective film and the second protective film . Accordingly, there is an advantage that moisture and oxygen permeating from the outside of the display device can be blocked through the defect between the first protective film and the second protective film.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 설명하였지만, 상술한 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 한다. 아울러, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어진다. 또한, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood that the invention may be practiced. It is therefore to be understood that the embodiments described above are to be considered in all respects only as illustrative and not restrictive. In addition, the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description. Also, all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

100 : 표시장치 110 : 기판
130 : 제1 전극 134 : 유기발광층
136 : 제2 전극 140 : 제2 보호막
EA : 발광영역 142 : 제1 보호막
150 : 금속산화막 170 : 유기절연막100: display device 110: substrate
130: first electrode 134: organic light emitting layer
136: second electrode 140: second protective film
EA: light emitting region 142: first protective film
150: metal oxide film 170: organic insulating film

Claims (14)

기판;
상기 기판 상에 위치하는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재된 유기발광층;
상기 제2 전극 상에 위치하며, 상기 유기발광층으로부터 광이 방출되는 발광영역을 제외한 영역에 위치하고, 상기 제2 전극 상에서 이물에 의해서 발생한 갭을 채우는 유기절연막; 및
상기 제2 전극 및 상기 유기절연막을 덮는 제1 보호막을 포함하고,
상기 기판과 합착되는 봉지기판을 더 포함하며,
상기 기판상의 상기 제1 보호막과 상기 봉지기판 사이에 충진실제가 형성되어, 상기 기판과 상기 봉지기판이 합착된 표시장치.
Board;
A first electrode, a second electrode, and an organic light emitting layer interposed between the first electrode and the second electrode;
An organic insulating layer located on the second electrode and located in a region excluding a light emitting region from which light is emitted from the organic light emitting layer and filling a gap caused by foreign matter on the second electrode; And
And a first protective film covering the second electrode and the organic insulating film,
And an encapsulation substrate bonded to the substrate,
Wherein a filling substance is actually formed between the first protective film and the sealing substrate on the substrate, and the substrate and the sealing substrate are bonded together.
기판;
상기 기판 상에 위치하는 제1 전극, 제2 전극 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 개재된 유기발광층;
상기 제2 전극 상에 위치하는 제2 보호막;
상기 제2 보호막 상에 위치하며, 상기 유기발광층으로부터 광이 방출되는 발광영역을 제외한 영역에 위치하고, 상기 제2 보호막 상에서 이물에 의해서 발생한 갭을 채우는 유기절연막; 및
상기 제2 보호막 및 상기 유기절연막을 덮는 제1 보호막을 포함하고,
상기 기판과 합착되는 봉지기판을 더 포함하며,
상기 기판상의 상기 제1 보호막과 상기 봉지기판 사이에 충진실제가 형성되어, 상기 기판과 상기 봉지기판이 합착된 표시장치.
Board;
A first electrode, a second electrode, and an organic light emitting layer interposed between the first electrode and the second electrode;
A second protective layer disposed on the second electrode;
An organic insulating layer located on the second protective layer and located in a region excluding a light emitting region from which light is emitted from the organic light emitting layer and filling a gap caused by foreign matter on the second protective layer; And
And a first protective film covering the second protective film and the organic insulating film,
And an encapsulation substrate bonded to the substrate,
Wherein a filling substance is actually formed between the first protective film and the sealing substrate on the substrate, and the substrate and the sealing substrate are bonded together.
삭제delete 삭제delete 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 유기절연막의 폭은 1 내지 30㎜인 표시장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the organic insulating film has a width of 1 to 30 mm.
제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 유기절연막의 두께는 0.5 내지 200㎛인 표시장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the organic insulating film has a thickness of 0.5 to 200 mu m.
제1 항 또는 제2 항에 있어서,
상기 유기절연막은 에폭시계, 실록산계, 아크릴계, 우레탄계 모노머 및 이들의 조합 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어진 표시장치.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the organic insulating film is made of at least one selected from an epoxy-based, siloxane-based, acrylic-based, urethane-based monomer, and combinations thereof.
삭제delete 제1 항에 있어서,
상기 제1 보호막은 실리콘 질화막, 실리콘 산화막 및 산화알루미늄 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어진 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first protective film comprises at least one selected from the group consisting of a silicon nitride film, a silicon oxide film and aluminum oxide.
제2 항에 있어서,
상기 제1 보호막 및 상기 제2 보호막은 실리콘 질화막, 실리콘 산화막 및 산화알루미늄 중 선택된 적어도 하나 이상으로 이루어진 표시장치.
3. The method of claim 2,
Wherein the first protective film and the second protective film comprise at least one selected from a group consisting of a silicon nitride film, a silicon oxide film and aluminum oxide.
제2 항에 있어서,
상기 제1 보호막과 상기 제2 보호막 사이에 위치하는 금속산화막을 더 포함하는 표시장치.
3. The method of claim 2,
And a metal oxide film located between the first protective film and the second protective film.
제11 항에 있어서,
상기 제1 보호막과 상기 제2 보호막 사이는 상기 발광영역을 둘러싸는 영역과 대응하는 표시장치.
12. The method of claim 11,
And between the first protective film and the second protective film corresponds to a region surrounding the light emitting region.
제11 항에 있어서,
상기 제2 보호막 상에 상기 제2 보호막과 콘택하는 상기 금속산화막이 위치하고, 상기 금속산화막 상에 상기 금속산화막과 콘택하는 상기 제1 보호막이 위치하는 표시장치.
12. The method of claim 11,
Wherein the metal oxide film which is in contact with the second protective film is located on the second protective film and the first protective film which is in contact with the metal oxide film is located on the metal oxide film.
삭제delete
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