KR101580372B1

KR101580372B1 - 터치센서

Info

Publication number: KR101580372B1
Application number: KR1020130162829A
Authority: KR
Inventors: 박장호; 김운천; 이진욱; 오남근
Original assignee: 삼성전기주식회사
Priority date: 2013-05-10
Filing date: 2013-12-24
Publication date: 2015-12-28
Also published as: KR20140133401A

Abstract

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판 및 상기 투명기판상에 형성되는 전극패턴을 포함하고, 상기 전극패턴은 적어도 둘 이상의 전극층이 적층되어 형성될 수 있다. 본 발명에 따르면, 전극패턴을 적어도 둘 이상의 전극층으로 형성함으로써, 전극패턴의 내부식성 및 시인특성을 향상시키고, 투명기판과 전극패턴의 접착신뢰성을 확보할 수 있는 효과가 있다.

Description

터치센서{Touch Sensor}

본 발명은 터치센서에 관한 것이다.

디지털 기술을 이용하는 컴퓨터가 발달함에 따라 컴퓨터의 보조 장치들도 함께 개발되고 있으며, 개인용 컴퓨터, 휴대용 전송장치, 그 밖의 개인 전용 정보처리장치 등은 키보드, 마우스와 같은 다양한 입력장치(Input Device)를 이용하여 텍스트 및 그래픽 처리를 수행한다.

하지만, 정보화 사회의 급속한 진행에 따라 컴퓨터의 용도가 점점 확대되는 추세에 있는 바, 현재 입력장치 역할을 담당하는 키보드 및 마우스만으로는 효율적인 제품의 구동이 어려운 문제점이 있다. 따라서, 간단하고 오조작이 적을 뿐 아니라, 누구라도 쉽게 정보입력이 가능한 기기의 필요성이 높아지고 있다.

또한, 입력장치에 관한 기술은 일반적 기능을 충족시키는 수준을 넘어서 고 신뢰성, 내구성, 혁신성, 설계 및 가공 관련기술 등으로 관심이 바뀌고 있으며, 이러한 목적을 달성하기 위해서 텍스트, 그래픽 등의 정보 입력이 가능한 입력장치로서 터치센서(Touch Panel)이 개발되었다.

이러한 터치센서는 전자수첩, 액정표시장치(LCD; Liquid Crystal Display Device), PDP(Plasma Display Panel), El(Electroluminescence) 등의 평판 디스플레이 장치 및 CRT(Cathode Ray Tube)와 같은 디스플레이의 표시면에 설치되어, 사용자가 디스플레이를 보면서 원하는 정보를 선택하도록 하는데 이용되는 도구이다.

또한, 터치센서의 종류는 저항막방식(Resistive Type), 정전용량방식(Capacitive Type), 전기자기장방식(Electro-Magnetic Type), 소오방식(SAW Type; Surface Acoustic Wave Type) 및 인프라레드방식(Infrared Type)으로 구분된다. 이러한 다양한 방식의 터치센서는 신호 증폭의 문제, 해상도의 차이, 설계 및 가공 기술의 난이도, 광학적 특성, 전기적 특성, 기계적 특성, 내환경 특성, 입력 특성, 내구성 및 경제성을 고려하여 전자제품에 채용되는데, 현재 가장 광범위한 분야에서 사용하는 방식은 저항막방식 터치센서과 정전용량방식 터치센서가다.

한편, 터치센서는 하기의 선행기술문헌에 기재된 특허문헌과 같이, 금속을 이용하여 전극패턴을 형성하려는 연구가 활발히 진행되고 있다. 이와 같이, 금속으로 전극패턴을 형성하면, 전기전도도가 우수하며, 수급이 원활하다는 장점이 있다. 다만, 금속으로 전극패턴을 형성하는 경우, 사용자에게 전극패턴이 시인될 수 있는 문제점이 있었다. 특히, 전극패턴을 형성하기 위한 패터닝 과정에서 전극패턴의 하부의 에칭정도의 차이로 인한 미세패턴구현의 어려움, 전도성을 위해 사용되는 금속전극의 불투명성에 의한 전극패턴 시인문제, 노출된 전극패턴이 내부식성에 의한 신뢰성 저감 등의 다양한 문제점이 있었다.

JP

2011-175967

A1

본 발명은 상술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 일실시예에 따르면 터치센서의 전극패턴을 적어도 둘 이상의 적층구조를 이용함으로써 전극패턴의 노출부의 내부식성 및 전극패턴과 투명기판사이의 접착 신뢰성을 보다 향상시키기 위한 것이다.

또한, 터치센서가 사용자에 의해 시인되는 노출부의 전극패턴을 이종재질로 형성함으로써 전도성금속에 의한 전극패턴 시인문제를 해결하기 위한 것이다.

또한, 터치센서의 전극패턴을 형성하는 다층 구조의 전극층을 합금층으로 형성하되, 내부식성 또는 시인성 등의 특징에 따라 관련 재료의 적절한 함량 비율을 제어함으로써 전극패턴의 전도성 확보와 더불어, 문제되는 전극패턴 시인성과 내부식성을 동시에 해결할 수 있는 것이다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판; 및 상기 투명기판상에 형성되는 전극패턴을 포함하고, 상기 전극패턴은 적어도 둘 이상의 전극층이 적층되어 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극층은 상기 투명기판 일면으로부터 제1 전극층인 기재층 및 제2 전극층인 도전층이 순차적으로 적층되어 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극층은 상기 제2 전극층상에 제3 전극층인 표면층이 더 적층되어 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극패턴의 전기적 연결을 위해 상기 전극패턴에 연결되며,상기 전극패턴의 각각의 전극층에 대응되도록 복수의 대응되는 전극배선층을 구비한 전극배선을 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극패턴은 메쉬패턴으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 전극배선의 전기적 연결을 위한 전극배선 일단에 형성된 메쉬형 접속패드를 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 상기 제1 전극층 보다 도전성이 높게 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 상기 제2 전극층 보다 반사율이 낮은 터치센서.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 Cu, Al 및 Ag 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층 및 제3 전극층은 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택된 것을 더 포함할 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)가 0.1wt% 내지 3wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 상기 니켈(Ni)이 0.1wt% 내지 5wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 투명기판은 투과율이 85%이상으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 투명기판은 수지층으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 수지층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COC), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS) 또는 그 조합으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 투명기판은 유리 또는 강화유리로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께는 상기 제2 전극층의 두께보다 더 얇게 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는 d1 < d3 < d2의 관계식을 만족할 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)의 합이 0.05㎛ 내지 2㎛으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향의 두께는 0.01㎛ 내지 1.935㎛으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제2 전극층의 적층방향 두께는 0.04㎛ 내지 1.975㎛으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제3 전극층의 적층방향 두께는 0.015㎛ 내지 1.95㎛으로 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서로써, 상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는 d2/(d1+d2+d3)×100 의 값이 2% 내지 98.75%를 만족할 수 있다.

본 발명의 특징 및 이점들은 첨부도면에 의거한 다음의 상세한 설명으로 더욱 명백해질 것이다.

이에 앞서 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이고 사전적인 의미로 해석되어서는 아니 되며, 발명자가 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.

본 발명에 따르면, 전극패턴을 적어도 둘 이상의 전극층으로 형성함으로써, 전극패턴의 내부식성 및 시인특성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 터치센서의 전극패턴의 다층 구조를 통해, 투명기판에 접하는 전극패턴의 전극층을 박막층으로 함으로써 투명기판과의 접착력을 보다 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 사용자에 의해 시인되는 최외곽에 노출되는 전극패턴 상부 전극층을 니켈(Ni)을 포함한 합금층으로 형성함으로써 사용자에 의한 전극패턴의 시인을 저감시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 터치센서의 전극패턴의 내부식성 향상을 위해 전극패턴의 노출된 전극층에는 망간(Mn), 철(Fe) 및 규소(Si)를 포함하는 합금으로 형성함으로써 보다 효과적으로 내부식성에 대한 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

또한, 터치센서 전극패턴의 투명기판과 접촉되는 부분의 전극층을 니켈(Ni)을 포함한 합금층의 박막으로 형성함으로써, 전극패턴 형성시 수반되는 에칭공정시에 에칭레이트(etching rate)를 향상시켜 미세패턴 구현을 확보할 수 있는 효과가 있다.

또한, 전극패턴의 투명기판과 접촉되는 전극층을 박막형태의 합금층으로 형성하여 전극패턴의 접착력을 향상시킴으로써, 터치센서의 작동성능 및 구동의 신뢰성을 보다 용이하게 확보할 수 있는 효과가 있다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전극패턴의 평면도;
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 단면도;
도 3은 본 발명의 일 실시예에 다른 터치센서의 단면도;
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치센서의 단면도;
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치센서의 단면도;
도 6 내지 8은 본 발명의 다수개의 전극층으로 형성되는 전극패턴의 실시예에 따른 각 전극패턴의 부분확대 단면도; 및
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 전극배선의 구조를 도시한 도면이다.

본 발명의 목적, 특정한 장점들 및 신규한 특징들은 첨부된 도면들과 연관되어지는 이하의 상세한 설명과 바람직한 실시예들로부터 더욱 명백해질 것이다. 본 명세서에서 각 도면의 구성요소들에 참조번호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 한해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 번호를 가지도록 하고 있음에 유의하여야 한다. 또한, "일면", "타면", "제1", "제2" 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로, 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다. 이하, 본 발명을 설명함에 있어서, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 관련된 공지 기술에 대한 상세한 설명은 생략한다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예를 상세히 설명하기로 한다.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 전극패턴의 평면도이고, 도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 단면도이다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판(10) 및 상기 투명기판(10)상에 형성되는 전극패턴(20)을 포함하고, 상기 전극패턴(20)은 적어도 둘 이상의 전극층(20a)이 적층되어 형성될 수 있다.

본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 투명기판(10) 일면 및 타면에 전극패턴(20)이 각각 형성될 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같이 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)이 상호 교차하도록 전극패턴(20)을 바앤바(Bar & Bar)타입으로 형성할 수 있다. 바앤바타입은 도 1에 도시된 바와 같이 교차되는 양 전극패턴(20)이 막대형의 타입으로 각 전극패턴(20)의 폭(단방향의 폭을 의미)이 상호 대응되도록 형성될 수 있다. 그러므로 X축 방향(일방향)의 제1 전극패턴(21)과 제1 전극패턴에 교차되는 Y축 방향(다른 방향)의 제2 전극패턴(22)으로 형성되어 2차원 평면에서의 터치좌표를 추출할 수 있다.

도 2는 이러한 전극패턴(20)이 투명기판(10)의 일면상에 형성된 것을 도시한 것으로, 상호교차되는 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)을 투명기판(10)의 일면상에 동시에 형성한 것을 도시하였다. 하나의 평면에 두 방향으로 교차되는 전극패턴(20)을 형성하는 경우, 전극패턴(20)이 상호 교차되는 지점에 절연패턴(미도시)을 형성함으로써, 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)을 하나의 층으로 형성할 수 있다.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서는 윈도우기판(10a)상에 직접 제1 전극패턴(21)을 형성한 후, 제1 전극패턴(21)상에 박막의 수지층(10b)을 도포한 후, 수지층(10b) 상에 제2 전극패턴(22)을 형성할 수 있다. 윈도우기판(10a)상에 직접 전극패턴(20)을 형성함으로써 터치센서의 감도를 향상시킬 수 있으며, 더불어, 별도의 투명기판(10)의 구성을 생략함으로써 터치센서의 박형화를 구현할 수 있다.

다른 실시예로써, 도 4에 도시된 바와 같이, 투명기판(10) 일면상에 X축방향의 제1 전극패턴(21)과 투명기판(10) 타면상에 제1 전극패턴(21)에 교차되는 Y축방향의 제2 전극패턴(22)이 형성될 수 있다. 교차되는 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)의 교차각은 수직한 것으로 도시하였으나, 그 교차각에 특별히 한정되는 것은 아니며, 2차원 평면에서의 좌표를 추출하기 위해 X축과 Y축의 좌표가 나올 수 있도록 적절한 각도로 교차되는 것이 적절할 것이다.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 터치센서는, 제1 투명기판(11)과 제2 투명기판(12)으로 형성되고, 제1 투명기판(11)상에 형성되는 제1 전극패턴(21)과 제1 전극패턴(21)에 마주하며 제1 전극패턴(21)에 교차되는 방향으로 형성되는 제2 전극패턴(22)이 제2 투명기판(12)에 형성될 수 있다. 이러한 제1 투명기판(11)과 제2 투명기판(12)이 투명접착제 등의 접착층(40)에 의해 결합됨으로써 터치센서가 제작될 수 있다. 최외곽층에는 터치센서의 전극패턴(20) 보호를 위한 보호층으로써 윈도우기판(10a)이 더 포함될 수 있다. 윈도우기판(10a)은 강화유리 등으로 형성될 수 있으며, 보호층의 역할을 할 수 있는 재질에 의한 코팅처리로 형성될 수 있음은 물론이다.

여기서, 제1 전극패턴(21) 또는 제2 전극패턴(22)은 투명기판(10)의 일면 또는 타면으로부터 순차적으로 형성되는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 전극패턴(21) 및 제2 전극패턴(22) 모두에 상기와 같은 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)을 형성할 수 있을 뿐만 아니라, 어느 하나의 전극패턴(20) 중 터치센서 사용자에 시인되도록 노출되는 전극패턴(20)상에 선택적으로 복수의 전극층(20a)을 형성할 수 있음은 물론이다.

본 발명의 다른 실시예에 따른 터치센서는 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 구조만 상기 일실시예와 다를 뿐, 전극패턴(20)이 전극층(20a)의 적층구조로 형성됨에 있어서, 동일하게 사용되는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 재질 및 특성에 관한 구체적인 설명은 후술하기로 한다.

또한, 터치센서를 통해 사용자가 입력한 출력값을 나타내기 위한 디스플레이부(50)가 투명기판(10)의 타면에 접착될 수 있다. 디스플레이부(50)는 영상장치로써 LCD,OLED 등 다양한 디스플레이장치가 포함될 수 있으며, 특별한 종류의 장치에 한정되는 것은 아니다.

터치센서의 투명기판(10)은 소정강도 이상을 보유한 재질로써 투과율이 85%이상을 갖는 것으로 디스플레이부(50)의 영상이 출력될 수 있는 것이라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COP), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS), 유리 또는 강화유리 등으로 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 투명기판(10)의 일면에는 전극패턴(20)이 형성될 수 있으므로 투명기판(10)과 전극패턴(20) 사이의 접착력을 향상시키기 위해서 투명기판(10)의 일면에 고주파 처리 또는 프라이머(primer) 처리 등을 수행하 여 표면처리층을 형성할 수 있다.

전극패턴(20)은 투명기판(10)의 일면에 형성될 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 다른 터치센서는 투명기판(10) 일면상에 교차되는 제1 전극패턴(21)과 제2 전극패턴(22)이 동시에 형성될 수 있다. 여기서 전극패턴은 금속세선으로 형성되는 메쉬패턴으로 형성되는 것이 적절하며, 그 메쉬패턴을 이루는 형상은 사각형, 삼각형, 다이아몬드형 등 다각형 형상을 포함하며, 특별한 형상에 한정을 두는 것은 아니다. 전극패턴(20)은 구리(Cu), 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 티타늄(Ti), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 니켈(Ni) 또는 이들 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택한 것으로 메시패턴(Mesh Pattern)을 형성할 수 있다.

전극패턴(20)의 형성방법은 건식 공정, 습식 공정 또는 다이렉트(direct) 패터닝 공정으로 형성할 수 있다. 여기서, 건식공정은 스퍼터링(Sputtering), 증착(Evaporation) 등을 포함하고, 습식 공정은 딥 코팅(Dip coating), 스핀 코팅(Spin coating), 롤 코팅(Roll coating), 스프레이 코팅(Spray coating) 등을 포함하며, 다이렉트 패터닝 공정은 스크린 인쇄법(Screen Printing), 그라비아 인쇄법(Gravure Printing), 잉크젯 인쇄법(Inkjet Printing) 등을 포함하는 것이다.

또한, 포토리소그래피를 이용하여, 기판상에 전극패턴(20)상에 감광물질을 도포하고, 원하는 패턴으로 형성된 마스크를 이용하여 빛을 조사한다. 이때 빛을 받은 감광물질부분을 현상액으로 제거하거나, 빛을 받지 않은 부분을 현상액으로 제거하는 등 원하는 패턴을 형성하기 위한 현상공정을 진행한다 이후에, 감광물질이 특정 패턴으로 형성되고, 감광물질을 레지스트로 하여 에칭액으로 나머지 부분을 제거한 후, 감광물질을 제거하면, 원하는 패턴의 전극패턴(20)을 제작할 수 있다.

또한, 다양한 전극 재료를 사용하여 미세한 선폭의 전극패턴(20)을 형성하기 위해서 Lift-off방식을 사용할 수 있다.

리프트오프방식은 상기의 증착공정이나 포토리소그래피 등의 공정보다 그 공정이 간단하며, 별도의 마스크 제작이 불필요하며, 고가의 노광장비를 사용하지 않는 이점이 있다. 본 발명의 일실시예에 따른 터치패널의 절연패턴(30)이나 전극패턴(20) 형성시 리프트오프방식을 사용하는 경우를 간단히 설명한다.

먼저, 프린팅기법 등을 사용하여 미세 패턴을 형성하는 경우, 패턴 선폭의 정밀도를 좋게 하기 위해 기판상에 칸막이 부재인 뱅크(도면 미도시)를 형성한다. 투명기판(10)상에 소정영역으로부터 원하는 패턴 이외의 영역을 구획하도록 뱅크를 형성한다. 뱅크의 재료로는 포토 아크릴(Photo Acryl), 폴리 이미드(Polyimide), 폴리비닐알코올(Polyvinylalcohol), 폴리비닐클로라이드(polyvinyl chloride), 폴리아크릴 아마이드(polyacryl amide), 폴리에틸렌글리콜(polyethylene glycol) 등을 사용할 수 있으며, 이러한 재료의 선택은 절연패턴(30)이나 전극패턴(20)을 구성하는 물질이 용해되거나 손상되는 것을 방지하기 위함이므로, 전극패턴(20)의 물질에 따라 적절한 재료를 당업자에 의해 선택 적용할 수 있음은 물론이다.

다음, 뱅크가 형성된 기판상에 전극패턴(20)에 사용되는 금속물질을 도포한다. 그 방법은 스크린프린팅, 오프셋 프린팅, 스핀코팅 등 다양한 방법이 선택적용될 수 있다.

마지막으로, 리프트오프단계를 거쳐 전극패턴(20)을 형성할 수 있다. 본 단계는 전극패턴(20)이 형성된 뱅크부분을 리프트오프(lift-off)하는 공정을 수행하여, 원하는 전극패턴(20)을 형성할 수 있다. 여기서, 리프트오프방식의 일예로는, 뱅크를 구성하는 물질을 용해시키는 용액을 사용하여 뱅크를 제거하는 공정으로 이 단계에서 뱅크 상부에 형성된 전극패턴(20)도 함께 제거될 수 있다. 따라서, 뱅크를 포함하지 않는 전극패턴(20)만이 남아, 원하는 전극패턴(20)을 얻을 수 있는 것이다.

이러한 메쉬패턴은 불투명한 금속세선을 이용하여 전극패턴(20)을 형성함에 따라 터치센서의 전극패턴(20)이 사용자에 의해 용이하게 시인되는 문제점이 있었다. 그러므로, 메쉬패턴을 포함하는 전극패턴(20)은 미세패턴으로 구현함과 함께 전극패턴(20)의 시인성을 저감시킬 필요가 있다. 또한, 금속성의 세선을 이용하여 전극패턴(20)을 형성함으로써 전위차 또는 양극-음극을 연결하는 전극배선에 연결됨에 따라 쉽게 부식될 수 있는 내구성의 문제 등이 발생될 수 있다.

그러므로, 본 발명에서는 이러한 전극패턴(20)의 재질을 좀 더 효과적으로 조합하는 복수의 전극층(20a)을 형성하고, 전극패턴(20)의 부식 등을 방지하기 위한 별도 재질의 금속 들을 합금함으로써, 전극패턴(20)의 전도성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라 전극패턴(20)의 내환경성 및 시인특성을 보다 효과적으로 향상킬 수 있는 터치센서를 제공한다.

본 발명의 전극패턴(20)은 상기와 같은 내환경성 및 시인특성의 향상을 위해 투명기판(10)상의 적층방향으로 적어도 둘 이상의 전극층(20a)을 형성할 수 있다.

먼저, 도 6 내지 8에 도시된 바와 같이, 전극패턴(20)은 투명기판(10)의 일면으로부터 순차적으로 기재층(20a-1), 도전층(20a-2) 및 표면층(20a-3)으로 형성되거나(도 6 참조), 기재층(20a-1) 및 도전층(20a-2) 또는 도전층(20a-2) 및 표면층(20a-3) 형성되거나(도 7 및 도 8 참조) 이러한 층의 적층수는 특별히 제한되는 것은 아니며, 동일 또는 대응되는 관련 효과를 향상시키기 위한 당업자의 설계변경사항을 포함할 수 있다. 다만, 설명의 편의를 위하여 기재층을 제1 전극층(20a-1), 도전층을 제2 전극층(20a-2) 및 표면층을 제3 전극층(20a-3)으로 정의하여 설명하기로 한다. 또한, 그러한 명칭 및 기능으로 각 구성의 권리범위가 제한되는 것은 아니다.

투명기판(10)의 일면에 접촉되는 제1 전극층(20a-1)은 투명기판(10)과의 접착력을 확보하고, 전극패턴(20) 형성을 위해 수반될 수 있는 에칭공정에서의 에칭레이트(etching rate)를 향상시켜 미세 전극패턴(20)의 구현을 보다 용이하게 할 수 있다. 제3 전극층(20a-3)은 전극패턴(20)의 부식에 의한 전기적 신뢰성 저하를 방지하기 위한 내부식성 재질을 채용하거나, 최외곽에서 사용자에 의한 시인특성을 향상시키기 위한 재질로 형성하는 것이 적절하다.

일련번호	전극재료
일련번호	기재층 (제1전극층)	조성(wt%)	도전층 (제2전극층)	조성(wt%)	표면층 (제3전극층)	조성(wt%)
실시예 1	CuNi	Ni(10~90) Ni(20~70)	Cu	98~100	CuNi	Ni(10~90) Ni(20~70)
실시예 2	NiCr	Cr(5~70) Cr(3~50)	Cu	98~100	NiCr	Cr(5~70) Cr(3~50)
실시예 3	Ti		Cu	98~100	Ti
실시예 4	Mo		Cu	98~100	Mo
실시예 5	CuNi	Ni(10~90) Ni(20~70)	Al	98~100	CuNi	Ni(10~90) Ni(20~70)
실시예 6	NiCr	Cr(5~70) Cr(3~50)	Al	98~100	NiCr	Cr(5~70) Cr(3~50)
실시예 7	Ti		Al	98~100	Ti
실시예 8	Mo		Al	98~100	Mo
실시예 9	CuNi	Ni(10~90) Ni(20~70)	Ag	80~97	CuNi	Ni(10~90) Ni(20~70)
실시예 10	NiCr	Cr(5~70) Cr(3~50)	Ag	80~97	NiCr	Cr(5~70) Cr(3~50)
실시예 11	Ti		Ag	80~97	Ti
실시예 12	Mo		Ag	80~97	Mo

본 발명의 실시예에서는 제1 전극층(20a-1) 및 제2 전극층(20a-2) 또는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 각 재료를 상기 예시된 표 1에서와 같이 실시예 1 내지 실시예 12를 각각 적절히 조합하여 적용할 수 있다.

본 발명의 각 전극층이 재료는 기본적으로, 기재층인 제1 전극층(20a-1)은 구리와 니켈을 포함하는 합금, 니켈과 크롬을 포함하는 합금, 티타늄 또는 몰리브덴을 포함하는 합금을 사용할 수 있고, 제2 전극층(20a-2)은 구리, 알루미늄 또는 은을 사용할 수 있으며, 제3 전극층(20a-3)은 구리와 니켈을 포함하는 합금, 니켈과 크롬을 포함하는 합금, 티타늄 또는 몰리브덴을 각각 선택하여 적용할 수 있다. 각 실시예별로 기재되어 있지만, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 재료는 각각 독립한 것으로, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)에 사용될 수 있는 재료를 선택적으로 선택하여 각 전극층을 2층 또는 3층으로 조합하여 형성할 수 있음은 물론이며, 각 실시예상에 제시된 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 조합에 한정되는 것은 아니다.

구체적으로, 제1 전극층(20a-1) 및 제3 전극층(20a-3)은 구리와 니켈의 합금으로 형성될 수 있다. 니켈은 전기전도성이 좋은 구리의 전극패턴(20)을 사용함에 따라 발생되는 구리의 시인특성을 경감시키기 위해 포함될 수 있다. 종래, 구리로 형성된 전극패턴(20)의 시인특성을 저감시키기 위한 흑화처리 등을 행하는 경우에는 흑화처리되는 전극패턴(20)의 상단면의 최소 면적을 확보하기 위해 전극패턴(20)의 두께를 일정 두께 이상으로 유지해야 하는 한계가 있었다. 그러나, 제3 전극층(20a-3)에 니켈을 포함한 합금으로 전극패턴(20)의 노출부에 적층시킴으로써 전극패턴(20)의 두께 제한을 받지 않고도 전극패턴(20)의 시인특성을 저감시킬 수 있는 것이다. 제1 전극층(20a-1) 및 제3 전극층(20a-3)을 이루는 니켈의 함량은 10wt% 내지 90wt%로 포함할 수 있으며, 보다 적절하게는 20wt% 내지 70wt% 포함될 수 있다.

또한, 제1 전극층(20a-1)과 제3 전극층(20a-3)은 니켈과 크롬을 포함하는 합급으로 형성될 수 있다. 이경우 크롬은 5wt% 내지 70wt%로 포함할 수 있으며, 보다 적절하게는 3wt% 내지 50wt%로 포함할 수 있다.

또한, 제1 전극층(20a-1)과 제3 전극층(20a-3)은 티타늄 또는 몰리브덴을 포함하는 합금으로 형성될 수 있다.

또한, 제3 전극층(20a-3)은 전극패턴(20)의 내부식성을 향상시키기 위한 망간, 철 또는 규소를 보다 더 포함시킬 수 있다. 망간, 철 또는 규소는 최소한의 범위로 포함시키는 것이 적절하며, 0.1wt% 내지 1wt% 포함시키는 것이 적절하다.

제2 전극층(20a-2)은 구리,알루미늄 또는 그 조합으로 형성될 수 있으며, 전기전도성을 고려하여 선택, 적용되는 것이 적절하다. 또한, 구리 또는 알루미늄은 전기전도성을 고려하여 98wt% 내지 100wt%로 형성되는 것이 적절하며, 은의 경우에는 80wt% 내지 97wt%를 포함하도록 형성하는 것이 적절하다.

또한, 제2 전극층(20a-2)은 구리와 니켈의 합금으로 형성할 수 있으나, 전기전도성을 고려하여, 니켈은 0.1wt% 내지 5wt% 포함되도록 합금되는 것이 보다 적절할 것이다. 제2 전극층(20a-2)은 이외에도 전도성이 있는 금속이라면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 제1 전극층(20a-1) 및 제3 전극층(20a-3)과의 조합을 위해 전극층(20a)간의 접착력, 전극층(20a)간의 접촉으로 인한 화학적 특성 등을 고려하여 선택, 적용되는 적절할 것이다.

다음, 전극패턴(20)은 상기 설명한 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 세개의 층으로 형성될 수 있지만, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 전극층(20a-1)과 제2 전극층(20a-2) 또는 제2 전극층(20a-2)과 제3 전극층(20a-3)의 두 개의 전극층(20a)으로 형성될 수 있음은 물론이다. 또한, 전극패턴(20)의 전극층(20a)의 적층구조에서, 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 접촉면의 제1 전극층(20a-1)과, 최외곽층에 형성되는 제3 전극층(20a-3)의 내부식성 및 시인특성에 의한 재질적 특성을 만족하는 것이라면, 반드시 둘 또는 세개의 전극층(20a)에 한정되는 것은 아니다. 다만, 터치센서의 박형화 추세에 비추어, 전극패턴(20)의 두께를 적절히 고려하여 적층구조 및 수를 선택하는 것이 바람직할 것이다.

다음, 도 6을 참고하여, 터치센서의 전극패턴을 형성하는 제1 전극층, 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 각 적층방향의 형성두께에 대하여 설명한다.

제1 전극층(20a-1)은 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 접촉면에 형성되어, 투명기판(10)과 전극패턴(20)의 접촉력을 보다 향상시키기 위해 박막층으로 형성될 수 있다. 반면, 제3 전극층(20a-3)은 내부식성 및 전극패턴(20)의 시인특성 저감을 위해 형성되는 것으로, 제1 전극층(20a-1)에서는 적층방향 두께를 보다 두껍게 형성하는 것이 적절할 것이다.

구체적으로, 투명기판(10)일면으로부터 순차적으로 적층되는 제1 전극층(20a-1) 및 제2 전극층(20a-2)을 포함하도록 형성되는 경우에는 제1 전극층(20a-1)은 제2 전극층(20a-2)의 적층방향 두께보다 얇게 형성되는 것이 적절하다. 이러한 상대적 두께의 차이를 통해 기재층은 제1 전극층(20a-1)으로 통해 전극패턴이 투명기판에 접착되는 접착력을 보다 향상시켜 전극패턴의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

제2 전극층(20a-2)상에 제3 전극층(20a-3)을 더 형성하는 경우에, 제3 전극층(20a-3)의 적층방향의 두께는 제2 전극층(20a-2)의 적층방향의 두께보다 더 얇게 형성될 수 있고, 제3 전극층(20a-3)의 적층방향 두께는 제1 전극층(20a-1)의 적층방향 두께보다는 더 얇게 형성되는 것이 적절하다.

보다 구체적으로, 제1 전극층(20a-1)이 투명기판상에 기재층으로 제2 전극층(20a-2)의 접착력을 유지하기 위한 최소두께는 0.01㎛, 제2 전극층(20a-2)이 도전층으로 전극패턴의 전기적 신뢰성을 유지하기 위한 최소두께는 0.04㎛, 제3 전극층(20a-3)이 표면층으로 전극패턴의 시인성 및 부식방지 등을 유지하기 위한 최소두께는 0.015㎛로 각각 형성될 수 있다.

따라서, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 각 두께의 합은 0.05㎛ 내지 2㎛로 형성될 수 있다.

상기와 같은 관계속에서, 제1 전극층(20a-1)은 0.01㎛ 내지 1.945㎛로 형성되어 전극패턴의 박형화와 더불어 제2 전극층(20a-2)인 도전층의 투명기판상의 접착신뢰성을 확보할 수 있다. 제1 전극층(20a-1)의 최소범위 이하로 제1 전극층(20a-1)이 형성되는 경우에 접착력을 상실하여 도전층이 제2 전극층(20a-2)의 접착신뢰성을 확보할 수 없고, 1.935㎛를 초과하는 두께로 형성되는 경우에는 전극패턴의 박형화를 저해할 뿐만 아니라, 도전층인 제2 전극층(20a-2)과의 접착력을 오히려 와해시켜 제1 전극층(20a-1)의 본연의 기능을 수행할 수 없게 된다.

제2 전극층(20a-2)은 0.04㎛ 내지 1.975㎛로 형성되너 도전층으로써 터치센서의 전극패턴에 의한 전기적인 신뢰성 및 작동성능을 확보할 수 있다. 제2 전극층(20a-2)의 두께가 0.04㎛ 미만으로 형성될 경우, 도전층으로써 전기적 신뢰성을 확보할 수 없으며, 1.975㎛를 초과하여 형성되는 경우 기재층인 제1 전극층(20a-1)에 의한 접착력의 확보를 유지할 수 없게 된다.

제3 전극층(20a-3)은 0.015㎛ 내지 1.95㎛로 형성되어 표면층으로 전극패턴의 시인성을 저감시키고, 외부로 노출된 전극패턴의 부식을 방지할 수 있다. 제3 전극층(20a-3)의 두께가 0.015㎛ 미만으로 형성될 경우, 표면층으로써 도전층인 제2 전극층(20a-2)의 시인성 저감을 효과적으로 수행할 수 없으며, 1.95㎛를 초과하는 경우에는 전극패턴의 박형화를 방해할 뿐만 아니라, 과도한 표면층의 두께로 인해 전체적인 전극패턴의 전기적 신뢰성을 저해할 수 있는 문제가 있다.

따라서, 상기의 제1 전극층(20a-1) 및 제2 전극층(20a-2) 또는 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 두께의 상대적 크기의 차이를 두고, 그러한 범위내에서 상기와 같은 각각의 두께를 설계함으로써 터치센서의 작동신뢰성뿐만 아니라, 불투명한 전극패턴을 사용함에 따른 시인성의 저감 및 노출된 전극패턴의 부식을 동시에 방지할 수 있는 이점이 있다.

및 제3 전극층(20a-3)의 적층방향으로 형성되는 각 두께(d1, d2, d3)는 제1 전극층(20a-1)의 두께(d1)가 제3 전극층(20a-3)의 두께(d3)보다는 얇게 형성되며, 제3 전극층(20a-3)의 두께(d3)는 제2 전극층(20a-2)의 두께(d2)보다는 더 얇게 형성될 수 있다.

여기서, 제1 전극층(20a-1), 제2 전극층(20a-2) 및 제3 전극층(20a-3)의 특성 및 재질은 이미 설명한 세개의 전극층(20a) 구성과 동일하므로 중복되는 설명은 생략하기로 한다.

도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 전극배선에 관한 실시예를 나타낸 도면이다.

도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 터치센서의 전극배선(30)은 전극패턴(20)의 전기적 연결을 위해 전극패턴(20)에 연결되며, 전극패턴(20)을 이루는 전극층(20a)에 대응되도록 복수개의 전극배선층(30a)을 포함할 수 있다. 즉, 터치센서의 제조공정에서 전극패턴(20)의 제조공정과 동일한 방법으로 함께 제작됨으로써 전극패턴(20)의 전극층(20a)과 동일한 재질의 대응되는 전극배선층(30a)이 형성될 수 있다. 그러나, 전극배선층(30a)의 제조방법이나 재질은 특별히 한정되는 것은 아니므로, 전극배선(30) 자체의 부식이나 내환경성을 위한 전극배선층(30a)을 복수개로 적층하여 별도로 형성할 수 있음은 물론이다.

구체적으로, 도 9에 도시된 바와 같이, 전극배선(30)은 제1 전극배선층(30a-1), 제2 전극배선층(30a-2) 및 제3 전극배선층(30a-3)이 적층되어 형성될 수 있고, 상기 설명한 터치센서의 전극층(20a)과 대응되도록 형성될 수 있으므로, 2층 또는 3층 이상의 다양한 적층구조의 전극배선층(30a)으로 형성될 수 있음은 자명하다.

또한, 전극배선(30)의 일단부에는 연성인쇄회로기판(도면 미도시) 등과의 전기적 연결을 위한 접속패드(30b)가 메쉬형태로 형성될 수 있다. 이 경우 접속패드(30b)의 경우에도 이미 설명한 전극배선(30)의 전극배선층(30a)과 동일하게 적층 및 제조될 수 있음은 물론이다.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 터치센서는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함은 명백하다고 할 것이다.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.

10: 투명기판 10a: 윈도우기판
10b: 수지층 11: 제1 투명기판
12: 제2 투명기판 20: 전극패턴
20a: 전극층 20a-1: 제1 전극층
20a-2: 제2 전극층 20a-3: 제3 전극층
21: 제1 전극패턴 22: 제2 전극패턴
30: 전극배선 30a: 전극배선층
30a-1: 제1 배선층 30a-2: 제2 배선층
30a-3: 제3 배선층 30b: 접속패드
40: 접착층 50: 디스플레이부
I: 절연패턴

Claims

투명기판; 및
상기 투명기판상에 형성되는 전극패턴을 포함하고,
상기 전극패턴은 적어도 둘 이상의 전극층이 적층되어 형성되며,
상기 전극층은 상기 투명기판 일면으로부터 제1 전극층인 기재층, 제2 전극층인 도전층 및 제3 전극층인 표면층이 순차적으로 적층되어 형성되며,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는
d1 < d3 < d2의 관계식을 만족하며,
상기 제2 전극층은 상기 제1 전극층 및 제3 전극층 보다 전도성이 높은 터치센서.
삭제
삭제
청구항 1에 있어서,
상기 전극패턴의 전기적 연결을 위해 상기 전극패턴에 연결되는 전극배선을 더 포함하며,
상기 전극배선은
상기 제1 전극층과 대응되는 제1 전극배선층;
상기 제2 전극층과 대응되는 제2 전극배선층; 및
상기 제3 전극층과 대응되는 제3 전극배선층을 포함하는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 전극패턴은 메쉬패턴으로 형성되는 터치센서.
청구항 4에 있어서,
상기 전극배선의 전기적 연결을 위한 전극배선 일단에 형성된 메쉬형 접속패드를 더 포함하는 터치센서
삭제
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 상기 제2 전극층 보다 반사율이 낮은 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택되어지며,
상기 제2 전극층은 Cu, Al 및 Ag 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택되어지며,
상기 제3 전극층은 CuNi, NiCr, Ti 및 Mo 또는 이들의 합금으로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택되어진 터치센서.
삭제
삭제
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층 및 제3 전극층은 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)로 이루어진 군으로부터 적어도 하나 이상 선택된 것을 더 포함하는 터치센서.
청구항 12에 있어서,
상기 망간(Mn), 철(Fe) 또는 규소(Si)가 0.1wt% 내지 3wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 10wt% 내지 80wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 니켈(Ni)이 20wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 형성되는 터치센서.
청구항 18에 있어서,
상기 제2 전극층은 구리(Cu) 및 니켈(Ni)을 포함하는 합금으로 상기 니켈(Ni)이 0.1wt% 내지 5wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 3wt% 내지 50wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층은 크롬(Cr)이 5wt% 내지 70wt% 포함되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 투명기판은 투과율이 85%이상으로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 투명기판은 수지층으로 형성되는 터치센서.
청구항 25에 있어서,
상기 수지층은 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리에테르술폰(PES), 고리형 올레핀 고분자(COP), TAC(Triacetylcellulose) 필름, 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcohol; PVA) 필름, 폴리이미드(Polyimide; PI) 필름, 폴리스틸렌(Polystyrene; PS), 이축연신폴리스틸렌(K레진 함유 biaxially oriented PS; BOPS) 또는 그 조합으로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 투명기판은 유리 또는 강화유리로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께는 0.01um 이상이며,
상기 제2 전극층의 적층방향 두께는 0.04um 이상이며,
상기 제3 전극층의 적층방향 두께는 0.015um 이상인 터치센서.
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청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)의 합이 0.05㎛ 내지 2㎛으로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향의 두께는 0.01㎛ 내지 1.935㎛으로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제2 전극층의 적층방향 두께는 0.04㎛ 내지 1.975㎛으로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제3 전극층의 적층방향 두께는 0.015㎛ 내지 1.95㎛으로 형성되는 터치센서.
청구항 1에 있어서,
상기 제1 전극층의 적층방향 두께(d1), 상기 제2 전극층의 적층방향 두께(d2) 및 상기 제3 전극층의 적층방향 두께(d3)는
d2/(d1+d2+d3)×100 의 값이 2% 내지 98.75%를 만족하는 터치센서.