KR101521390B1 - Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith - Google Patents

Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith Download PDF

Info

Publication number
KR101521390B1
KR101521390B1 KR1020140077700A KR20140077700A KR101521390B1 KR 101521390 B1 KR101521390 B1 KR 101521390B1 KR 1020140077700 A KR1020140077700 A KR 1020140077700A KR 20140077700 A KR20140077700 A KR 20140077700A KR 101521390 B1 KR101521390 B1 KR 101521390B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
grid
gas
decomposition apparatus
bending plates
air supply
Prior art date
Application number
KR1020140077700A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
윤성진
이동채
안상재
조성종
Original Assignee
주식회사 에코프로
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에코프로 filed Critical 주식회사 에코프로
Priority to KR1020140077700A priority Critical patent/KR101521390B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101521390B1 publication Critical patent/KR101521390B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
    • B01D3/16—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid
    • B01D3/22—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid with horizontal sieve plates or grids; Construction of sieve plates or grids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/01—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with flat filtering elements
    • B01D29/012—Making filtering elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

Disclosed is a grid for an apparatus for decomposing harmful gas. The grid includes an edge member, support units which are arranged with a preset gap on the edge member, bending plates which are vertically separated with a preset gap from the support units and are arranged on the edge member. The gap between the bending plates becomes a gas connection hole. A grid set including at least one individual grid is installed at an apparatus for decomposing harmful gas so that a necessary individual grid can be replaced or repaired.

Description

유해가스 분해 장치의 그리드 및 그를 포함하는 유해가스 분해 장치{GRID AND APPARATUS FOR DECOMPOSING HARMFUL GAS THEREWITH}Technical Field [0001] The present invention relates to a grid of a noxious gas decomposition apparatus and a noxious gas decomposition apparatus containing the same.

본 발명은 유해가스 분해 장치 분야에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해 장치에 이용되는 그리드 및 그를 채용하는 분해 장치에 관한 것이다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the field of noxious gas decomposition apparatus, and more particularly, to a grid used in a noxious gas decomposition apparatus including a perfluorinated compound and a decomposition apparatus employing the same.

과불화화합물(PFCs)은 지방족 탄화수소에서 다량의 플루오르가 치환되어 있는 화합물로서 최근 그에 대한 규제가 강화되고 있다. 이러한 과불화화합물은 지구온난화지수(global warming potential)가 이산화탄소 대비 수천~수만 배로 매우 높아 지구 온난화의 주범으로 지목 받고 있다. 또한 이러한 과불화화합물의 일부는 조리용기나 종이컵의 코팅제나 냉매로도 사용되고 있지만, 뇌, 신경, 간 독성을 유발하고 호르몬을 교란한다고 추정되고 있다.Perfluorocompounds (PFCs) are compounds in which a large amount of fluorine is substituted in aliphatic hydrocarbons. These perfluorinated compounds are considered to be the main cause of global warming because of their global warming potential which is thousands to tens of thousands times higher than that of carbon dioxide. Some of these perfluorinated compounds are also used as coatings or refrigerants in cooking vessels and paper cups, but they are believed to cause brain, nerve, and liver toxicity and disturb hormones.

과불화화합물은 메모리나 LCD와 같은 반도체 디바이스 생산 공정이 주 발생원이다. 이를테면, 식각공정의 에칭제(etchant) 및 화학증착공정(chemical vapor deposition process)의 반응기(chamber) 세정제로 많이 사용되면서 대량으로 배출되고 있고, 대표적으로는 CF4, CHF3, C3F6, CH2F2, C3F4, C2F6, C3F8, C4F10, C5F8, SF6, NF3 등을 들 수 있다. 그 외 PFCs는 종래에 사용되던 클로로-플루오로카본(chloro-fluorocarbon; CFC)을 대체하여 세정제, 에칭제, 용매, 반응원료 등의 목적으로 사용하거나 제조하는 공정 및 작업장에서 배출되는 폐가스에도 포함된다.Perfluorinated compounds are the main source of semiconductor device manufacturing processes such as memory and LCD. For example, it is widely used as a cleaning agent for an etching etchant and a chemical vapor deposition process, and is discharged in large quantities. Typically, CF 4 , CHF 3 , C 3 F 6 , CH 2 F 2 , C 3 F 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 10 , C 5 F 8 , SF 6 and NF 3 . Other PFCs are also included in the waste gas discharged from the workplace and processes used or manufactured for the purpose of replacing chloro-fluorocarbon (CFC), which is conventionally used, for cleaning agents, etching agents, solvents, reaction materials .

이와 같이 과불화화합물이 반도체 디바이스 공정과 같은 공산품의 생산 과정에서 주로 발생되고 있기 때문에, 이를 효율적으로 분해 처리하는 것이 매우 중요하고 또한 필수적이라고 할 수 있다.Since the perfluorinated compound is mainly generated in the production process of a commercial product such as a semiconductor device process, it is very important and necessary to efficiently decompose the product.

종래의 과불화화합물 등의 유해가스를 분해하는 장치는 챔버 내에 축열체, 촉매등을 수용시키고, 유해가스를 챔버 내부로 공급하여 분해처리되도록 하는 구성을 가진다. 챔버 내에 수용된 축열체를 지지하는데 그리드 부재가 이용된다. 이러한 그리드 부재는 축열체를 지지하면서 유해가스 또는 처리된 가스를 통과시킬 수 있는 구조를 가진다. 한편, 종래의 그리드는 챔버를 제공하는 반응기 본체의 저면에 고정되는 방식이었으며 그리드 자체가 금속으로 제작되는 고중량이기 때문에 유지 보수 및 교체가 매우 까다로운 문제가 있었다.
Conventional apparatuses for decomposing noxious gases such as perfluorinated compounds have a configuration in which a heat accumulator, a catalyst, and the like are accommodated in a chamber, and noxious gas is supplied into the chamber for decomposition treatment. A grid member is used to support the regenerator housed in the chamber. Such a grid member has a structure capable of passing noxious gas or treated gas while supporting the regenerator. On the other hand, the conventional grid was fixed to the bottom of the reactor body providing the chamber, and since the grid itself was made of metal, the maintenance and replacement were very troublesome.

한국특허출원 제 10-2006-0008037호Korean Patent Application No. 10-2006-0008037

본 발명은 상술한 종래의 문제점을 감안한 것으로서, 장착과 분해가 편리한 유해가스 분해 장치용 그리드를 제공한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a grid for a noxious gas decomposition apparatus that is easy to install and disassemble, taking the above-mentioned problems into consideration.

본 발명은 제작 과정에서 균일한 개구 분포 및 원하는 개구율 구현이 용이한 유해가스 분해 장치용 그리드를 제공한다.The present invention provides a grid for a noxious gas decomposition apparatus which is easy to realize a uniform opening distribution and a desired opening ratio in a manufacturing process.

본 발명은 상술한 개선된 그리드를 채용하는 유해가스 분해 장치를 제공한다.
The present invention provides a noxious gas decomposition apparatus employing the above-described improved grid.

본 발명은 유해가스 분해 장치용 그리드를 제공하며, 이는: 테두리 부재; 상기 테두리 부재에 소정 간격으로 배열된 다수개의 지지대; 및 상기 다수개의 지지대에 대하여 교차하는 방향으로 소정간격 이격하여 상기 테두리 부재에 배열된 다수개의 절곡판;을 포함하고, 상기 절곡판들 사이의 간격이 가스 소통구가 된다.The present invention provides a grid for a noxious gas decomposition device comprising: a rim member; A plurality of supports arranged at predetermined intervals on the frame members; And a plurality of bending plates arranged on the frame member spaced apart from each other by a predetermined distance in a direction intersecting the plurality of supports, wherein a distance between the bending plates is a gas communication hole.

상기 다수개의 절곡판 각각은 길이방향의 절곡선을 중심으로 실질적인 역 V자 형으로 절곡된 것일 수 있고, 상기 테두리 부재에 역 V자 형으로 배열될 수 있다.Each of the plurality of bending plates may be substantially inverted V-shaped around a folding line in the longitudinal direction, and may be arranged in an inverted V-shape on the frame member.

상기 다수개의 지지대 각각은 상기 절곡판들의 돌출측 외면이 삽입되도록 길이방향으로 형성된 다수개의 결합홈을 구비할 수 있다.Each of the plurality of support rods may include a plurality of coupling grooves formed in the longitudinal direction so that the protruding side outer surfaces of the bending plates are inserted.

상기 테두리 부재, 상기 다수개의 지지대, 및 상기 다수개의 절곡판은 접촉 부위의 일부 또는 전부가 접합되어 결합될 수 있다.The rim member, the plurality of supports, and the plurality of bending plates may be joined to each other by a part or whole of the contact portion.

상기 다수개의 지지대 각각은 상기 다수개의 결합홈이 형성된 반대측인 상단부에 배치된 보호부재를 더 포함한다.Each of the plurality of support rods further includes a protection member disposed at an upper end portion of the opposite side of the plurality of coupling grooves.

상기 테두리 부재는 외측면의 일부 또는 전부에 거치 날개부가 구비될 수 있다.The rim member may be provided with a mounting wing on a part or all of the outer surface.

상기 그리드가 하나 이상 포함된 그리드 세트가 유해가스 분해 장치의 설치 위치에 장착되어, 상기 그리드 세트의 개별 그리드가 개별적으로 교체가능할 수 있다.A grid set including one or more of the grids may be mounted at an installation position of the harmful gas decomposition apparatus so that the individual grids of the grid set may be individually replaceable.

본 발명은 유해가스 분해 장치를 제공하며, 이는: 내부에 처리 챔버를 제공하고, 유해가스의 유입 또는 처리된 가스의 배출이 이루어지는 급배기구를 구비하는 반응기 본체; 및 상기 급배기구에 배치되어 상기 처리 챔버 내에 수용된 요소룰 지지하면서 유해가스 및 처리된 가스가 소통하는 가스 소통구를 제공하는 제1그리드;를 포함하고, 상기 제1그리드는 개별적으로 교체가능한 하나 이상의 개별 그리드를 포함하는 그리드 세트로 이루어진다.The present invention provides a noxious gas decomposition apparatus comprising: a reactor body provided with a processing chamber therein and having an exhaust port through which a noxious gas is introduced or a processed gas is discharged; And a first grid disposed in the air supply port and providing gas communication through which the harmful gas and the treated gas are communicated while supporting the elements accommodated in the processing chamber, wherein the first grid includes one or more And a grid set containing individual grids.

상기 제1그리드의 개별 그리드는: 테두리 부재; 상기 테두리 부재에 소정 간격으로 배열된 다수개의 지지대; 및 상기 다수개의 지지대에 대하여 교차하는 방향으로 소정간격 이격하여 상기 테두리 부재에 배열된 다수개의 절곡판;을 포함하고, 상기 절곡판들 사이의 간격이 가스 소통구가 된다.The individual grids of the first grid comprising: a rim member; A plurality of supports arranged at predetermined intervals on the frame members; And a plurality of bending plates arranged on the frame member spaced apart from each other by a predetermined distance in a direction intersecting the plurality of supports, wherein a distance between the bending plates is a gas communication hole.

상기 다수개의 절곡판 각각은 길이방향의 절곡선을 중심으로 실질적인 역 V자 형으로 절곡되고, 상기 다수개의 절곡판들은 상기 테두리 부재에 역 V자 형으로 배열되며, 상기 다수개의 지지대 각각은 상기 절곡판들의 돌출측 외면이 삽입되도록 길이방향으로 형성된 다수개의 결합홈을 구비한다.Wherein each of the plurality of bending plates is bent in a substantially inverted V-shape around a longitudinal folding line, the plurality of bending plates are arranged in an inverted V-shape on the frame member, And a plurality of coupling grooves formed in the longitudinal direction so that the projecting side outer surfaces of the plates are inserted.

상기 급배기구 부위의 상기 반응기 본체의 저면에는 호퍼부가 더 구비되고, 상기 호퍼부에 제2그리드가 설치된다.
A hopper is further provided on a bottom surface of the reactor main body at the air supply / discharge port, and a second grid is installed in the hopper.

본 발명에 따르면, 용이하게 장착과 교체가 가능한 유해가스 분해 장치용 그리드가 제공된다. 이는 유해가스 분해 장치의 설치 위치에 다수개의 개별 그리드를 포함하는 그리드 세트가 설치되기 때문에 개별 그리드를 각각 교체 및 수리 가능하다. 따라서 유지 보수 및 교체 시에 간단하게 해당 개별 그리드 만을 교체할 수 있어서 신속하게 적합한 조치를 취할 수 있다. 또한 개별 그리드는 제작 과정에서 지지대의 결합홈의 배치 간격을 조절함으로써 쉽게 원하는 개구율이 구현할 수 있다. 더구나, 이러한 그리드의 구성요소들은 각각 제작된 이후에 간단하게 용접 등의 방식으로 접합할 수 있기 때문에 제작 역시 매우 경제적/생산적이다. 또한 유해가스 분해 장치에 이중 그리드로 적용되기 때문에 열손실을 억제 및 열회수율이 향상된다.
According to the present invention, there is provided a grid for a harmful gas decomposition apparatus that can be easily mounted and replaced. This permits the individual grids to be replaced and repaired, respectively, since a grid set including a plurality of individual grids is installed at the installation position of the harmful gas decomposition apparatus. Therefore, it is possible to replace only the individual grids simply during maintenance and replacement, so that appropriate measures can be taken quickly. In addition, a desired opening ratio can be easily realized by adjusting the arrangement interval of the coupling grooves of the support rods in the manufacturing process of the individual grids. Moreover, the components of these grids are also very economical / productive since they can be simply welded together after being fabricated. In addition, since it is applied to the harmful gas decomposition device as a double grid, the heat loss is suppressed and the heat recovery rate is improved.

도 1은 본 발명의 그리드가 채용된 유해가스 분해 장치를 도시한 사시도이다.
도 2는 본 발명의 그리드가 채용된 유해가스 분해 장치를 도시한 정면도이다.
도 3은 본 발명의 그리드가 채용된 유해가스 분해 장치를 도시한 측면도이다.
도 4는 본 발명의 그리드가 채용된 유해가스 분해 장치를 도시한 평면도이다.
도 5는 도 1의 유해가스 분해 장치에서 반응기 본체의 측벽과 천정부를 제거하여 내부가 보이도록 도시한 도면이다.
도 6은 도 1의 유해가스 분해 장치에 채용되는 급배기장치부를 도시한 도면이다.
도 7은 본 발명의 그리드를 도시한 도면이다.
도 8은 본 발명의 개별 그리드를 하나 이상의 포함하는 그리드 세트를 도시한 도면이다.
도 9은 본 발명의 그리드가 유해가스 분해 장치의 설치 위치의 프레임에 놓여진 상태의 예시를 보여주는 도면이다.
도 10은 본 발명의 그리드를 제작하는 과정을 나타낸 도면이다.
도 11은 본 발명의 그리드로서, 다수개의 지지부재 각각에 배치되는 보호부재를 구비하는 예를 도시한 도면이다.1 is a perspective view showing a noxious gas decomposition apparatus employing the grid of the present invention.
2 is a front view showing a noxious gas decomposition apparatus employing the grid of the present invention.
3 is a side view showing a noxious gas decomposition apparatus employing the grid of the present invention.
4 is a plan view showing a noxious gas decomposition apparatus employing the grid of the present invention.
FIG. 5 is a view showing the inside of the reactor main body by removing side walls and a ceiling portion of the reactor main body in the noxious gas decomposition apparatus of FIG. 1;
6 is a view showing an air supply and exhaust unit employed in the noxious gas decomposition apparatus of FIG.
7 is a diagram showing a grid of the present invention.
Figure 8 is a diagram illustrating a grid set comprising one or more of the individual grids of the present invention.
9 is a view showing an example of a state in which the grid of the present invention is placed on a frame at the installation position of the noxious gas decomposition apparatus.
10 is a view showing a process of manufacturing the grid of the present invention.
11 is a view showing an example of a grid according to the present invention, which includes a protection member disposed on each of a plurality of support members.

이하 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예를 설명함에 있어서, 관련된 공지기능 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description of the embodiments of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

도 7 내지 도 10은 본 발명의 그리드를 설명하기 위해 도시한 도면이다.7 to 10 are diagrams for explaining the grid of the present invention.

참고적으로, 본 발명의 그리드는 후술되는 바와 같이 유해가스 분해 장치에 채용되어 축열체와 같은 다른 요소를 지지하면서 가스 소통구를 제공하는 요소이다. 유해가스 분해 장치의 예에서 본 발명의 그리드가 2 개소에 설치될 수 있고, 유해가스 분해 장치에 장착된 상태에서는 그의 구별을 위해 제1그리드(14)와 제2그리드(17)로 각각 호칭하기로 하지만, 여기서는 개별 그리드를 도면부호 14를 부여하고 설명하기로 한다.For reference, the grid of the present invention is an element that is employed in a harmful gas decomposition apparatus as described below to provide a gas communication port while supporting other elements such as a regenerator. In the example of the noxious gas decomposition apparatus, the grid of the present invention can be installed at two places, and in the state of being mounted in the noxious gas decomposition apparatus, the first grid 14 and the second grid 17 However, here, the individual grids are denoted by the reference numeral 14 and will be described.

도 7 내지 10을 참조하여, 본 발명의 그리드(14)는 테두리 부재(141), 테두리 부재(141)에 소정 간격으로 배열된 다수개의 지지대(142), 및 다수개의 지지대(142)에 대하여 교차하는 방향으로 소정간격 이격하여 테두리 부재(141)에 배열된 다수개의 절곡판(143)을 포함한다. 이렇게 절곡판(143)들이 이격되어 배치되기 때문에 그 사이의 간격에 가스 소통구(144)가 제공된다.7 to 10, the grid 14 of the present invention includes a frame member 141, a plurality of support members 142 arranged at predetermined intervals on the frame member 141, and a plurality of supports 142, And a plurality of bending plates 143 arranged in the frame member 141 at a predetermined interval in a direction in which the bending members 141 are arranged. Since the bent plates 143 are arranged so as to be spaced apart from each other, a gas communication hole 144 is provided at an interval therebetween.

특히 도 10에서 잘 보이는 바와 같이, 다수개의 절곡판(143) 각각은 길이방향의 절곡선을 중심으로 실질적인 역 V자 형으로 절곡된다. 또한 이들 절곡판(143)들은 테두리 부재(141)에 역 V자 형으로 배열된다.10, each of the plurality of bending plates 143 is bent in a substantially inverted V-shape around the folding line in the longitudinal direction. Further, these bent plates 143 are arranged in an inverted V-shape on the frame member 141.

절곡판(143)들이 역 V자 형으로 배열된 상태의 그리드(14)가 유해가스 분해 장치의 급배기구(113) 등에 장착된다. 즉, 절곡판(143)들은 돌출측 외면이 위로 향한 상태로 유해가스 분해 장치의 설치 위치에 장착된다.The grid 14 in a state in which the bent plates 143 are arranged in an inverted V-shape is mounted on the air supply / discharge port 113 of the noxious gas decomposition apparatus or the like. That is, the bent plates 143 are mounted at the installation position of the noxious gas decomposition apparatus with the projecting side outer surface facing upward.

다수개의 지지대(142) 각각은 절곡판(143)들의 돌출측 외면이 삽입되도록 길이방향으로 형성된 다수개의 결합홈(1421)을 구비한다. 이러한 결합홈(1421)들 각각에 절곡판(143)의 돌출측 외면이 삽입되어 예컨대 용접과 같은 접합 방식으로 결합된다.Each of the plurality of support rods 142 has a plurality of engagement grooves 1421 formed in the longitudinal direction so that the protruding side outer surfaces of the bending plates 143 are inserted. The projecting side outer surface of the bending plate 143 is inserted into each of the engaging grooves 1421 and is joined by a joining method such as welding.

테두리 부재(141), 다수개의 지지대(142), 및 다수개의 절곡판(143)은 접촉 부위의 일부 또는 전부가 예컨대 용접과 같은 접합 방식으로 결합될 수 있다.The rim member 141, the plurality of supports 142, and the plurality of bending plates 143 may be partly or entirely joined to each other in a joining manner such as welding.

도면에서 알 수 있는 바와 같이, 이러한 그리드(14)는 매우 견고한 상태가 될 수 있다. 더구나, 절곡판(143)의 배치 간격의 조정, 예를 들어 지지대(142)들에 형성된 결합홈(1421)들의 배치 간격을 조정함으로써, 가스 소통구(144)의 크기 및 개구율을 조정할 수 있다.As can be seen in the drawing, such a grid 14 can be in a very solid state. In addition, the size and the aperture ratio of the gas communication hole 144 can be adjusted by adjusting the arrangement intervals of the bending plates 143, for example, by arranging the intervals of the engagement grooves 1421 formed in the support members 142.

바람직하게는 테두리 부재(141)는 외측면의 일부 또는 전부에 거치 날개부(1411)가 구비될 수 있다. 이러한 거치 날개부(1411)는, 도 9에 도시한 바와 같이 유해가스 분해 장치의 급배기구(113)에 장착될 때 설치 위치에 마련되는 거치 프레임(1311) 상에 거치되는 방식으로 설치될 때 이용될 수 있다. 이들 거치 날개부(1411)는 도면에서 도시한 바와 같이 테두리 부재(141)에 견고한 결합과 부착 상태를 유지하도록 보강요소들을 추가로 부착하여 하는 것이 좋다.Preferably, the rim member 141 may be provided with a mounting wing 1411 on a part or the whole of its outer surface. As shown in FIG. 9, when the stowing wing 1411 is mounted on the stowage frame 1311 provided at the installation position when the stowing wing 1411 is mounted to the air supply / discharge port 113 of the noxious gas decomposition apparatus, . As shown in the drawing, these stowing wings 1411 may be additionally provided with reinforcing elements so as to maintain a firm engagement and attachment to the frame member 141.

또한, 아래에서 상세하게 설명되는 바와 같이, 본 발명의 그리드(14)는 설치 위치에 개별 그리드(14)가 다수개 포함되는 그리드 세트로서 장착될 수 있다(도 8 및 도 9 참조). 이와 같이, 개별 그리드(14)가 하나 이상 포함된 그리드 세트가 유해가스 분해 장치의 설치 위치에 장착되기 때문에, 그리드 세트의 개별 그리드를 개별적으로 교체할 수 있다. 따라서 필요한 개별 그리드(14) 만을 교체 및 수리할 수 있을 뿐만 아니라, 상대적으로 적은 중량이 되기 때문에 현실적으로도 작업자가 다루기 용이한 이점이 있다.Further, as will be described in detail below, the grid 14 of the present invention can be mounted as a grid set including a plurality of individual grids 14 in the installation position (see Figs. 8 and 9). In this way, since the grid set including at least one of the individual grids 14 is mounted at the installation position of the harmful gas decomposition apparatus, the individual grids of the grid sets can be individually replaced. Therefore, not only the necessary individual grids 14 can be replaced and repaired, but also the weight is relatively small, so that there is an advantage that the operator is easy to handle in reality.

이와 같이 개별 그리드(14)가 서로 밀착하여 설치 위치의 프레임(1311)에 장착되기 때문에, 각 그리드(14)는 거치 날개부(1411)가 필요한 부위에 설치될 수 있는 것이며, 만일 그리드(14)가 1개 설치될 경우에는 거치 날개부(1411)가 테두리 부재(141) 외측면 전체에 설치될 수도 있다.Since the individual grids 14 are closely attached to each other and mounted on the frame 1311 at the mounting position, the grids 14 can be installed at the required portions of the mounting wing 1411, The mounting wing 1411 may be provided on the entire outer surface of the frame member 141. In this case,

이상의 그리드(14)는 도 10과 같은 순서로 제작될 수 있다. 이를테면, 테두리 부재(141), 지지대(142), 및 절곡판(143)을 제작한 후, 절곡판(143)들과 지지대(142)들을 용접 등의 방식으로 접합한다. 이어, 절곡판(143)과 지지대(142)이 결합체를 테두리 부재(141)에 용접 방식으로 접합시킨다.The grid 14 described above can be manufactured in the order as shown in FIG. For example, after the frame member 141, the support member 142, and the bending plate 143 are manufactured, the bending plates 143 and the support members 142 are joined together by welding or the like. Then, the folding plate 143 and the support base 142 are joined to the frame member 141 by welding.

이렇게 제작된 개별 그리드(14)를 도 9와 같이 설치 위치에 필요한 수만큼 장착할 수 있다.As shown in Fig. 9, the individual grids 14 manufactured as described above can be mounted as many as necessary at the installation position.

이하에서는 본 발명의 그리드(14)가 채용되는 유해가스 분해 장치를 설명한다.Hereinafter, a noxious gas decomposition apparatus employing the grid 14 of the present invention will be described.

도 1 내지 도 5은 본 발명의 그리드가 채용되는 유해가스 분해 장치를 나타내는 도면이다. 도 1은 개략적인 사시도이고, 도 2는 개략적인 정면도이며, 도 3은 개략적인 측면도이며, 도 4는 위에서 내려다본 평면도이다. 참고적으로, 도 2에서는 이해의 편의를 위해, 반응기 본체 내부가 보이도록 도시하였다. 또한 도 5는 도 1의 유해가스 분해 장치에서 반응기 본체의 측벽과 천정부를 제거하여 내부가 보이도록 도시한 도면이다. 도 6은 도 1의 유해가스 분해 장치에 채용되는 급배기장치부를 도시한 도면이다.1 to 5 are views showing a noxious gas decomposition apparatus employing the grid of the present invention. Figure 1 is a schematic perspective view, Figure 2 is a schematic front view, Figure 3 is a schematic side view, and Figure 4 is a top plan view from above. For reference, in FIG. 2, for the sake of understanding, the inside of the reactor body is shown to be seen. FIG. 5 is a view showing the inside of the reactor main body in which the side walls and the ceiling portion are removed in the noxious gas decomposition apparatus of FIG. 1. FIG. 6 is a view showing an air supply and exhaust unit employed in the noxious gas decomposition apparatus of FIG.

도 1 내지 도 6을 참조하여, 본 발명의 그리드가 채용되는 유해가스 분해 장치는 유해가스가 처리되는 처리 챔버(111)를 내부에 제공하는 반응기 본체(11)와, 처리 챔버(111)로 유해가스를 공급하고 처리된 가스를 배기하기 위해 반응기 본체(11)에 연결되는 급배기장치부(12)를 포함한다.1 to 6, a harmful gas decomposition apparatus employing the grid of the present invention includes a reactor body 11 for providing a process chamber 111 in which harmful gas is treated, And an air supply and exhaust unit 12 connected to the reactor body 11 for supplying gas and exhausting the treated gas.

반응기 본체(11)는 그 내부에 유해가스의 분해 처리가 수행되는 밀폐된 처리 챔버(111)를 제공한다. 이를 위해, 반응기 본체(11)는 내부에 밀폐된 공간을 가지도록 바닥부, 측벽부, 및 천정부를 형성하는 벽체들로 이루어질 수 있다. 도시한 바와 같이 반응기 본체(11)는 육면체와 같은 형태를 가질 수 있지만, 그에 한정되는 것은 아니다. 또한 벽체들은 내면에 내화부재가 배치될 수 있다.The reactor body 11 provides a sealed processing chamber 111 within which the decomposition treatment of noxious gases is performed. To this end, the reactor body 11 may be composed of walls forming a bottom portion, a side wall portion, and a ceiling portion so as to have a closed space therein. As shown, the reactor main body 11 may have the same shape as a hexahedron, but is not limited thereto. Also, the walls may have a refractory member disposed on the inner surface thereof.

도면에서 알 수 있는 바와 같이, 반응기 본체(11)는 지지프레임(13)에 의해 소정 높이로 지지되고, 급배기장치부(12)는 반응기 본체(11)의 아래에서 가스를 공급하거나 배기할 수 있다.As can be seen in the figure, the reactor body 11 is supported at a predetermined height by the support frame 13, and the air supply and exhaust unit 12 is capable of supplying or discharging gas below the reactor body 11 have.

반응기 본체(11) 내부에 제공되는 처리 챔버(111)는 바람직하게는 소정 높이의 하나 이상의 파티션(112)들에 의해 다수개의 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 나뉠 수 있다. 파티션(112)들이 반응기 본체(11)의 천정보다 낮은 높이를 가지기 때문에 처리 챔버(111) 내부에서 상부 공간은 가스가 이동가능하도록 연결되어 있다.The processing chamber 111 provided inside the reactor body 11 can be divided into a plurality of compartment spaces 1111, 1112 and 1113 by one or more partitions 112, preferably at a predetermined height. Because the partitions 112 have a lower height than the ceiling of the reactor body 11, the upper space inside the processing chamber 111 is connected so that the gas can move.

도 5에서 보이는 바와 같이, 반응기 본체(11)에는 유해가스가 유입되거나 처리된 가스가 배출되는 하나 이상의 급배기구(113)가 구비되며, 이들은 다수개의 구획 공간(1111, 1112, 1113) 각각에 배치된다. 바람직하게 급배기구(113)들은 각 구획 공간(1111, 1112, 1113)의 저면 부위에 형성되고, 이를 통해 처리 챔버(111)의 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부로 유해가스가 유입되거나 처리된 가스가 배출된다. 도 4에서는 급배기구(113)에 제1그리드(14)가 배치된 상태를 보여준다. 여기에서 제1그리드(14)는 상술한 개별 그리드를 하나 이상 포함하는 그리드 세트일 수 있다.5, the reactor main body 11 is provided with one or more air exhaust ports 113 through which a harmful gas is introduced or a processed gas is discharged, and these are arranged in a plurality of compartment spaces 1111, 1112, and 1113, respectively do. Preferably, the air supply / exhaust ports 113 are formed in the bottom portions of the compartment spaces 1111, 1112, and 1113, and the harmful gas is introduced into the compartment spaces 1111, 1112, and 1113 of the process chamber 111 The treated gas is discharged. FIG. 4 shows a state in which the first grid 14 is disposed in the air supply opening 113. FIG. Here, the first grid 14 may be a grid set including one or more of the above-described individual grids.

처리 챔버(111)의 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부에는 축열체(151)와 촉매(152)가 수용된다. 축열체(151)와 촉매(152)는 도시한 한 바와 같이 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내에서 적층된 일체형으로 배치될 수 있다.The regenerator 151 and the catalyst 152 are accommodated in the respective compartment spaces 1111, 1112 and 1113 of the process chamber 111. The regenerator 151 and the catalyst 152 may be arranged in an integrated manner stacked in each of the partition spaces 1111, 1112, and 1113 as shown in the figure.

도 5에서 잘 보이는 바와 같이, 각각의 급배기구(113)에는 본 발명의 그리드(14)가 배치된다. 참고적으로, 본 발명의 그리드(14)가 채용되는 유해가스의 예는 반응기 본체(11)의 급배기구(113) 외에 후술하는 바와 같이 호퍼부(116)에도 배치될 수 있다. 따라서 위에서 말한 바와 같이, 급배기구(113)에 배치되는 그리드를 제1그리드(14)라고 칭하고, 호퍼부(116)에 배치되는 그리드를 제2그리드(17)라고 칭한다.5, the grid 14 of the present invention is disposed in each of the air supply / exhaust ports 113. As shown in FIG. For reference, examples of the harmful gas employing the grid 14 of the present invention may be disposed in the hopper portion 116 as well as the air supply / discharge port 113 of the reactor main body 11 as described later. Therefore, as described above, the grid disposed in the air discharge opening 113 is referred to as a first grid 14, and the grid disposed in the hopper portion 116 is referred to as a second grid 17.

제1그리드(14)는 처리 챔버(111)의 각 구획 공간(1111, 1112, 1113)에 배치된 축열체(151) 및 촉매(152)를 지지하면서 유입 또는 배출되는 가스를 통과시킨다.The first grid 14 allows gas to flow in or out while supporting the regenerator 151 and the catalyst 152 disposed in the respective compartment spaces 1111, 1112 and 1113 of the processing chamber 111.

따라서 제1그리드(14)는 처리 챔버(111), 구체적으로 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부로 유입되는 가스의 기류를 분산시켜서 균일한 풍량이 각 구획 공간(1111, 1112, 1113) 내부로 이송되도록 하는 역할을 수행할 수 있어야 한다. 또한 제1그리드(14)는 처리 챔버(111) 내부로 분진이 유입되는 것을 방지하고 축열체(151)의 열손실을 방지하는 역할도 수행한다.Therefore, the first grid 14 disperses the flow of gas flowing into the processing chamber 111, specifically, the compartment spaces 1111, 1112, and 1113, so that a uniform air volume flows through the compartment spaces 1111, 1112, and 1113, To be transferred to the inside. The first grid 14 also prevents dust from flowing into the processing chamber 111 and prevents heat loss of the heat storage element 151.

또한 각 급배기구(113) 부위의 반응기 본체(11)의 저면의 외측에는 호퍼부(116)가 배치된다. 아래에서 설명되는 급배기장치부(12)는 이러한 호퍼부(116)를 통해 각 급배기구(113)에 연결된다.A hopper portion 116 is disposed outside the bottom surface of the reactor main body 11 at each of the air supply / exhaust ports 113. The air supply and exhaust unit 12, which will be described below, is connected to each air supply port 113 through this hopper unit 116.

또한 호퍼부(116)에는 제2그리드(17)가 배치된다. 제2그리드(17) 역시 기류를 분산시키고, 처리 챔버(111) 내부로 유입되는 가스에 함유된 분진을 저감시키며, 처리 챔버(111) 내에 배치된 축열체(151)의 열손실을 방지하는 기능을 수행한다.And the second grid 17 is disposed in the hopper portion 116. [ The second grid 17 also functions to disperse the airflow and to reduce the dust contained in the gas flowing into the processing chamber 111 and to prevent the heat loss of the heat storage element 151 disposed in the processing chamber 111 .

여기서, 제2그리드(117) 역시 상술한 개별 그리드가 하나 이상 포함된 그리드 세트로 적용될 수 있음은 물론이다.Here, it goes without saying that the second grid 117 can also be applied as a grid set including at least one of the above-described individual grids.

이와 같이 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해 장치는 제1그리드(14)와 제2그리드(17)의 이중 그리드 구조를 가지기 때문에, 축열체(151)의 열손실이 효율적으로 방지됨과 더불어 및 열회수율이 향상될 수 있다.As described above, since the noxious gas decomposition apparatus including the perfluorinated compound of the present invention has the double grid structure of the first grid 14 and the second grid 17, the heat loss of the heat storage element 151 is effectively prevented In addition, the heat recovery rate can be improved.

상술한 바와 같이, 급배기장치부(12)는 호퍼부(116)를 통해서 각 급배기구(113)에 연결되며, 도 6은 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해 장치에 채용되는 급배기장치부(12)를 보여주는 도면이다.As described above, the air supply and exhaust unit 12 is connected to the air supply and exhaust port 113 through the hopper 116, and FIG. Fig. 7 is a view showing the exhaust device part 12; Fig.

도 6을 참조하여, 급배기장치부(12)는 반응기 본체(11)의 급배기구(113)들과 연결된 배관으로서 연결라인(121)을 포함한다. 연결라인(121)들의 일측에는 배관 형태의 급기라인(122)이 연결되고, 연결라인(121)의 타측에는 배기라인(123)이 연결된다. 연결라인(121)들과 급기라인(122)의 연결부위 그리고 연결라인(121)들과 배기라인(123)의 연결부위에는 연결을 개폐할 수 있는 댐퍼부(124)가 배치된다. 이러한 각각의 댐퍼부(124)의 개폐 동작에 의해서 각 연결라인(121)들은 급기라인(122)에 연결되거나 배기라인(123)에 연결된다. 따라서, 처리 챔버(111)의 해당 구획 공간(1111, 1112, 1113)으로 유해가스를 공급하거나 처리된 가스를 배기하게 된다.6, the air supply and exhaust unit 12 includes a connection line 121 as a pipe connected to the air supply and exhaust ports 113 of the reactor main body 11. An air supply line 122 in the form of a pipe is connected to one side of the connection lines 121 and an exhaust line 123 is connected to the other side of the connection line 121. A damper portion 124 is provided at a connection portion between the connection lines 121 and the air supply line 122 and at a connection portion between the connection lines 121 and the exhaust line 123. Each of the connecting lines 121 is connected to the air supply line 122 or to the air exhaust line 123 by the opening and closing operation of each of the damper portions 124. Accordingly, the noxious gas is supplied to the corresponding compartment spaces 1111, 1112, and 1113 of the processing chamber 111, or the processed gas is exhausted.

바람직하게는, 본 발명의 과불화화합물을 포함하는 유해가스 분해 장치의 급배기장치부(12)는 각 댐퍼부(124)의 개폐 동작을 제어하여 주기적으로 가스의 흐름을 공급하는 방향 또는 배기하는 방향으로 전환할 수 있다. 즉, 어느 구획 공간의 급배기구(113)로는 유해가스가 유입되고, 다른 구획 공간의 급배기구(113)로는 배기되도록 할 수 있고, 이러한 가스 흐름 방향을 주기적으로 전환할 수 있다. 따라서, 열회수율이 향상될 수 있다.Preferably, the air supply / discharge unit 12 of the noxious gas decomposition apparatus including the perfluorinated compound of the present invention controls opening and closing operations of the respective damper units 124 so as to periodically supply the flow of gas, Direction. Namely, noxious gas can be introduced into the air supply / discharge port 113 of any partition space and exhausted to the air supply / exhaust port 113 of another partition space, and the gas flow direction can be periodically switched. Therefore, the heat recovery rate can be improved.

참고적으로, 도 5에서와 같이 댐퍼부(124)의 실린더가 횡방향으로 동작하도록 설치된 형태의 수평형 댐퍼부가 적용될 수도 있고, 나머지 도면들에서 보여주는 바와 같이 댐퍼부(124)의 실린더가 종방향으로 동작하는 수직형 댐퍼부가 적용될 수도 있다.5, a horizontal damper unit in which the cylinders of the damper unit 124 are installed to operate in the horizontal direction may be applied, and as shown in the remaining drawings, the cylinder of the damper unit 124 may be in the vertical direction A vertical damper unit which operates as a vertical damper unit may be applied.

도 2에서 잘 보이는 바와 같이, 각 연결라인(121)의 하부에는 포집통(125)이 배치되어 배출되는 분진을 수용하게 된다.As shown in FIG. 2, a collecting container 125 is disposed below each connection line 121 to receive dust to be discharged.

또한, 호퍼부(116), 포집통(125) 등에는 투시창(18)을 배치하여 내부 상태를 관찰할 수 있도록 함으로써, 문제 발생시에 신속한 조치를 취할 수 있도록 할 수 있다.In addition, the hopper portion 116, the collecting container 125, and the like can be provided with a sight window 18 to observe the internal state, so that quick measures can be taken when a problem occurs.

도 11은 본 발명의 그리드로서, 다수개의 지지부재 각각에 배치되는 보호부재를 구비하는 예를 도시한 도면이다.11 is a view showing an example of a grid according to the present invention, which includes a protection member disposed on each of a plurality of support members.

도 11에 도시한 바와 같이, 본 발명의 그리드는 적어도 그 상부에 지지되는 축열체(151)와 접촉되는 부위에 보호부재(1422)가 배치될 수 있다. 이를테면, 그리드는 실질적으로 다수개의 지지부재(142)의 상단부가 축열체(151)와 접촉하게 되는데, 각각의 지지부재의 상단부에 예컨대 보호캡 형태로 배치될 수 있다. 도시한 예와 같이 보호부재가 보호캡 형태로 적용될 경우, 각 지지부재(142)의 상단부위가 끼워지는 구조를 가질 수 있다.As shown in Fig. 11, the grid of the present invention may be provided with a protection member 1422 at least in contact with the heat accumulator 151 supported on the upper portion thereof. For example, the grid substantially contacts the upper end of the plurality of support members 142 with the regenerator 151, and may be disposed, for example, in the form of a protective cap at the upper end of each support member. When the protective member is applied in the form of a protective cap as in the illustrated example, it may have a structure in which the upper end portions of the respective support members 142 are fitted.

보호부재(1422)는 예를 들어 PTFE(polytetrafluoroethylene), PFA(perfluoroalkoxy), FEP(fluorinated ethylene propylene copolymer) 또는 ETFE(ethylene tetrafluoroethylene copolymer)일 수 있다. 이러한 소재들은 내부식 성능이 우수하고 축열체(151)와의 사이에 마찰력이 작다. 따라서, 그리드 상부 표면을 보호 및 부식을 방지하고, 나아가 축열체(151) 설치 시에 정위치 정렬 등을 위한 축열체(151)의 이동이 용이하다.The protective member 1422 may be, for example, polytetrafluoroethylene (PTFE), perfluoroalkoxy (PFA), fluorinated ethylene propylene copolymer (FEP), or ethylene tetrafluoroethylene copolymer (ETFE). These materials have excellent corrosion resistance and a small frictional force with the heat accumulator 151. Therefore, the upper surface of the grid can be protected and prevented from corrosion, and furthermore, the heat accumulator 151 can be easily moved for proper alignment when the heat accumulator 151 is installed.

또한, 이러한 보호부재(1422)는 다수개의 지지대(142) 외에도 테두리 부재(141) 등과 같이 상부로 노출되는 부위에 더 배치될 수 있음은 물론이다.It is needless to say that the protective member 1422 may be disposed at a position exposed to the upper part such as the frame member 141 in addition to the plurality of supporting members 142.

이상, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관해서 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명하다 할 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments.

11: 반응기 본체 12: 급배기장치부
13: 지지프레임 14: 제1그리드
17: 제2그리드 111: 처리 챔버
112: 파티션 113: 급배기구
1111, 1112, 1113: 구획 공간 116: 호퍼부
118: 투시창 121: 연결라인
122: 급기라인 123: 배기라인
124: 댐퍼부 125: 포집통
141: 테두리 부재 142: 지지대
143: 절곡판 144: 가스 소통구
1311: 프레임 1411: 거치 날개부
1421: 결합홈 1422: 보호부재 11: Reactor main body 12: Supply and exhaust unit
13: support frame 14: first grid
17: second grid 111: processing chamber
112: partition 113:
1111, 1112, 1113: compartment space 116: hopper section
118: view window 121: connection line
122: air supply line 123: exhaust line
124: damper part 125: collection container
141: rim member 142: support member
143: bending plate 144: gas communication port
1311: frame 1411:
1421: coupling groove 1422: protective member

Claims (12)

내부에 처리 챔버를 제공하는 반응기 본체의 저면에 배치되어 챔버 내에 수용된 축열체 및 촉매를 포함하는 요소들을 지지하면서 챔버 내부와 외부 간의 가스 소통구를 제공하는 유해가스 분해 장치용 그리드로서:
테두리 부재;
상기 테두리 부재에 소정 간격으로 배열된 다수개의 지지대; 및
상기 다수개의 지지대에 대하여 교차하는 방향으로 소정간격 이격하여 상기 테두리 부재에 배열되고, 각각은 길이방향의 절곡선을 중심으로 역 V 형으로 절곡된 다수개의 절곡판;을 포함하고,
상기 절곡판들 사이의 간격이 가스 소통구가 되며,
상기 다수개의 지지대 각각은 상기 다수개의 절곡판들의 돌출측 외면이 삽입되는 다수개의 결합홈을 구비하며, 결합홈들 각각에 상기 절곡판의 돌출측 외면이 삽입되어 접합되는 것인, 유해가스 분해 장치용 그리드.
There is provided a grid for a noxious gas decomposition apparatus which is provided on a bottom surface of a reactor body for providing a processing chamber therein and which provides a gas communication passage between the inside and the outside of the chamber while supporting elements including a regenerator and a catalyst accommodated in the chamber,
A frame member;
A plurality of supports arranged at predetermined intervals on the frame members; And
And a plurality of bending plates arranged in the frame member spaced apart from each other by a predetermined distance in a direction intersecting the plurality of supports, each of the plurality of bending plates bent in an inverted V-shape about a longitudinal folding line,
The gap between the bending plates serves as a gas communication hole,
Wherein each of the plurality of support rods has a plurality of coupling grooves into which the projecting side outer surfaces of the plurality of bending plates are inserted and the projecting side outer surfaces of the bending plates are inserted into the coupling grooves, For the grid.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 다수개의 지지대 각각은 상기 다수개의 결합홈이 형성된 반대측인 상단부에 배치된 보호부재를 더 포함하는 것인,
유해가스 분해 장치용 그리드.
The method according to claim 1,
Wherein each of the plurality of supports further comprises a protection member disposed at an upper end portion of the opposite side of the plurality of coupling grooves,
Grid for decomposition of harmful gas.
청구항 1에 있어서,
상기 테두리 부재는 외측면의 일부 또는 전부에 거치 날개부가 구비된 것인, 유해가스 분해 장치용 그리드.
The method according to claim 1,
Wherein the rim member is provided with a stationary blade at part or all of the outer side surface thereof.
청구항 1, 6, 및 7 중 어느 하나에 있어서,
상기 그리드가 하나 이상 포함된 그리드 세트가 유해가스 분해 장치의 설치 위치에 장착되어, 상기 그리드 세트의 개별 그리드가 개별적으로 교체가능한 것인, 유해가스 분해 장치용 그리드.
The method according to any one of claims 1, 6, and 7,
Wherein a grid set including one or more of the grids is mounted to an installation position of the noxious gas decomposition apparatus such that the individual grids of the grid set are individually replaceable.
유해가스 분해 장치로서:
내부에 처리 챔버를 제공하고, 저면에 유해가스의 유입 또는 처리된 가스의 배출이 이루어지는 급배기구를 구비하는 반응기 본체; 및
상기 급배기구에 배치되어 상기 처리 챔버 내에 수용된 축열체 및 촉매를 포함하는 요소를 지지하면서 유해가스 및 처리된 가스가 소통하는 가스 소통구를 제공하는 제1그리드;를 포함하고,
상기 제1그리드는, 개별적으로 교체가능한 청구항 1, 6, 및 7 중 어느 하나의 개별 그리드가 하나 이상의 포함된, 그리드 세트로 이루어진 것인,
유해가스 분해 장치.
As the harmful gas decomposition apparatus:
A reactor body provided with a processing chamber therein and having an exhaust port for introducing a noxious gas into the bottom surface or discharging the processed gas; And
And a first grid for supporting the element including the regenerator and the catalyst disposed in the air supply port and accommodated in the processing chamber and providing gas communication through which the harmful gas and the processed gas are communicated,
Wherein the first grid comprises a set of grids, wherein the individual grids of any one of Claims 1, 6, and 7,
Hazardous gas decomposition apparatus.
삭제delete 삭제delete 청구항 9에 있어서,
상기 급배기구 부위의 상기 반응기 본체의 저면에는 호퍼부가 더 구비되고,
상기 호퍼부에 제2그리드가 설치되는 것인, 유해가스 분해 장치.The method of claim 9,
A hopper is further provided on a bottom surface of the reactor main body at the air supply /
And a second grid is installed in the hopper portion.
KR1020140077700A 2014-06-24 2014-06-24 Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith KR101521390B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140077700A KR101521390B1 (en) 2014-06-24 2014-06-24 Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140077700A KR101521390B1 (en) 2014-06-24 2014-06-24 Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101521390B1 true KR101521390B1 (en) 2015-05-20

Family

ID=53395014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140077700A KR101521390B1 (en) 2014-06-24 2014-06-24 Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101521390B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080000805U (en) * 2006-10-27 2008-05-02 문상철 Air filter for spray painting booth
KR101000897B1 (en) * 2010-06-07 2010-12-13 비에이치아이 주식회사 Strainer wall structure and filtering method using the strainer wall structure and manufacturing method for the strainer wall structure
JP2011206753A (en) * 2010-03-30 2011-10-20 Nippon Muki Co Ltd Fan filter unit for determining life
KR20120026755A (en) * 2010-09-10 2012-03-20 한국전력공사 Device and method comprising grid units for flue gas denitrogenization

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080000805U (en) * 2006-10-27 2008-05-02 문상철 Air filter for spray painting booth
JP2011206753A (en) * 2010-03-30 2011-10-20 Nippon Muki Co Ltd Fan filter unit for determining life
KR101000897B1 (en) * 2010-06-07 2010-12-13 비에이치아이 주식회사 Strainer wall structure and filtering method using the strainer wall structure and manufacturing method for the strainer wall structure
KR20120026755A (en) * 2010-09-10 2012-03-20 한국전력공사 Device and method comprising grid units for flue gas denitrogenization

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101521389B1 (en) Apparatus for decomposing harmful gas including perfluorinated compounds
EP2039805B1 (en) Combustion gas generation device and on-vehicle combustion gas generation device using electrolysis
KR102341544B1 (en) Gas enclosure system
KR101482964B1 (en) Cleansing or recovery device for the treatment of highly concentrated water-soluble odor and toxic substances Included in the exhaust gas
KR101623966B1 (en) A washing apparatus
KR101521390B1 (en) Grid and apparatus for decomposing harmful gas therewith
US20120318665A1 (en) Apparatus for Generating Fluorine Gas
KR100823589B1 (en) Welding booth for practical training materials
JP2011017077A (en) Fluorine gas generating device
CA2777423C (en) Low turbulence argon purging system
CN210993760U (en) Amination waste gas treatment device
KR20150080195A (en) Intercepting Apparatus For Residual Selenium In The Process Of Manufacturing Semi-conductors
CN206240625U (en) A kind of fire control smoke exhausting pipeline electrode array distribution deduster
CN201768731U (en) Laminar flow clean chemical dust hood
KR20170108856A (en) Trap apparatus and exhaust system using the same, and substrate processing apparatus
JP2015040672A (en) Cooling tower, installation method of gas-liquid contact part of cooling tower, and maintenance method of cooling tower
KR101553178B1 (en) Harmful gas decompsing apparatus with preheather
US20170233869A1 (en) Reaction Chamber For Chemical Vapor Apparatus
KR102067697B1 (en) Large sized oled enclosure box
CN212378577U (en) Heat energy recovery device
CN209714771U (en) A kind of photooxidation catalytic unit handling escaping gas
CN212068252U (en) A active carbon adsorption equipment for industrial spray booth exhaust-gas treatment
KR100506506B1 (en) Plasma dry scrubber
CN110613949A (en) Water vapor catching device
CN214158874U (en) Clean laminar flow hood for air purification

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180514

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190508

Year of fee payment: 5