KR101506491B1 - 비정질 복합분말의 용매 추출을 이용한 멤브레인용 가스필터 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

비정질 복합분말의 용매 추출을 이용한 멤브레인용 가스 필터 제조 방법에 대하여 개시한다.
본 발명에 따른 멤브레인용 가스 필터 제조 방법은 (a) 산 용액에 비용해성이며 비정질 상인 합금 모 분말과 상기 산 용액에 용해성인 희생 입자를 혼합하여, 비정질 복합분말을 형성하는 단계; (b) 방전플라즈마 소결을 이용하여 상기 비정질 복합분말로부터 전구체를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 전구체를 상기 산 용액에 투입하여, 상기 전구체로부터 상기 희생 입자를 선택적으로 추출하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

비정질 복합분말의 용매 추출을 이용한 멤브레인용 가스필터 제조 방법 {METHOD OF MANUFACTURING GAS FILTER FOR MEMBRANE USING SOLVENT EXTRACTION OF AMORPHOUS COMPOSITE POWDER}
본 발명은 멤브레인용 가스필터에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비정질 복합분말의 용매 추출을 이용한 멤브레인용 가스필터 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 멤브레인용 가스 필터에 관한 것이다.
비정질 금속은 독특한 기계적 특성을 갖는 것으로 널리 알려져 있다. 특히, 비정질 금속 재료가 넓은 표면적을 가질 경우, 에너지 흡수체, 초경량 재료, 각종 센서, 촉매, 수소 저장체 등 다양한 용도로 이용될 수 있다.
이러한 비정질 금속 재료의 넓은 표면적을 확보하기 위하여 비정질 금속 다공체(amorphous metal foams)가 많은 주목을 받고 있다.
비정질 금속 다공체를 제조하는 방법으로는 염(salts)이나 수소(H2)와 같은 기포 조제를 이용하는 방법이 주로 이용되고 있다. 그러나, 이 방법의 경우, 기포 조제에 의한 반응이나 오염으로 인하여 불균질한(heterogeneous) 핵 생성이 일어날 수 있으며, 이 역시 비정질화에 장애로 작용한다.
즉, 종래 가스 필터 소재로 비정질 금속 다공체가 이용되고는 있으나, 제조된 비정질 금속 다공체의 비표면적이 넓지 못하여, 가스 필터링 효율이 높지 못하였다.
따라서, 이러한 비정질 금속 다공체 제조시 문제점들을 해결하여, 최종적으로는 가스 필터링 효율을 향상시킬 수 있는 기술이 요구된다.
본 발명에 관련된 배경기술로는 대한민국 공개특허공보 제10-2009-0035886호(2009.04.13. 공개)가 있다. 상기 문헌에는 금속산화물 분말과 기공 형성제인 폴리머 분말을 혼합하고 압축하여 성형체를 형성하는 단계, 상기 성형체를 전기로에 로딩하고, 상기 전기로의 온도를 상기 기공 형성제가 열분해되는 온도보다 높은 온도로 상승시키는 단계, 상기 전기로에 환원제 가스를 주입하여 일정 온도에서 소결시키면서 상기 금속산화물이 금속으로 환원되게 하여 다공성 기공을 갖는 금속 멤브레인을 형성하는 단계, 그리고 상기 전기로의 온도를 하강시켜 상기 금속 멤브레인을 언로딩하는 단계를 포함하는 다공성 금속 멤브레인의 제조방법이 개시되어 있다.
본 발명의 하나의 목적은 비정질 형성능이 높지 않더라도 충분히 적용될 수 있으며, 비표면적이 넓은 멤브레인용 가스 필터 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 상기 방법으로 제조되어, 높은 비표면적을 통하여 가스 필터링 효율이 향상된 멤브레인용 가스 필터를 제공하는 것이다.
상기 하나의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 멤브레인용 가스 필터 제조 방법은 (a) 산 용액에 비용해성이며 비정질 상인 합금 모 분말과 상기 산 용액에 용해성인 희생 입자를 혼합하여, 비정질 복합분말을 형성하는 단계; (b) 방전플라즈마 소결을 이용하여 상기 비정질 복합분말로부터 전구체를 형성하는 단계; 및 (c) 상기 전구체를 상기 산 용액에 투입하여, 상기 전구체로부터 상기 희생 입자를 선택적으로 추출하는 단계; 및 (d) 상기 희생 입자가 추출된 전구체를 세척 및 건조하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 합금 모 분말의 재질은 몰(mol) 기준으로 니켈(Ni)의 함량이 가장 높은 합금일 수 있다.
또한, 상기 희생 입자의 재질은 구리 또는 구리합금일 수 있다.
또한, 상기 합금 모 분말은 용융 상태의 금속을 가스 분사법으로 냉각하여 형성될 수 있다. 이 경우, 상기 가스는 질소 가스를 이용하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 희생 입자는 10㎛~100㎛의 입경을 가질 수 있다.
또한, 상기 비정질 복합 분말은 합금 모 분말 및 희생 입자 전체에 대하여, 합금 모 분말 50vol%~70vol% 및 희생 입자 30vol%~50vol%로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 방전플라즈마 소결은 550~700℃에서 수행되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 (b) 단계는 (b1) 상기 비정질 복합분말을 몰드에 장입하여 가압 성형하여 예비 전구체를 형성하는 단계와, (b2) 상기 예비 전구체를 방전 플라즈마 소결 장치에 투입한 후, 방전 플라즈마를 사용하여 소결하는 단계와, (b3) 상기 소결된 전구체를 냉각시키는 단계를 포함할 수 있다.
또한, 상기 산 용액은 증류수와 질산을 포함하고, 상기 증류수와 질산 전체에 대하여, 증류수 55vol%~80vol% 및 질산 45vol%~20vol%로 이루어질 수 있다.
또한, 용매 추출은 1시간 이상 수행될 수 있다. 이 경우, 용매 추출이 진공 하에서 수행되는 경우, 1~6시간동안 수행되는 것이 바람직하다. 반면, 용매 추출이 상압 하에서 수행되는 경우, 12~24시간동안 수행되는 것이 바람직하다.
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 멤브레인용 가스 필터는 상기 제시된 방법에 의해 제조되어, 비정질 상을 가지면서, 희생 입자가 선택적으로 추출된 부분에 기공이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 멤브레인용 가스 필터는 질소(N2) 가스 통과용일 수 있다.
본 발명에 따른 비정질 복합분말의 용매 추출에 의한 멤브레인용 가스 필터 제조 방법에 의하면, 제조하고자 하는 반도체 장치 등의 멤브레인용 가스 필터의 원재료가 되는 비정질 금속의 비정질 형성능이 높지 않더라도 쉽게 적용할 수 있다. 또한, 진공 하에서 용매 추출을 수행할 경우, 비표면적을 보다 크게 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 멤브레인용 가스 필터 제조 방법은 희생 금속의 선택적 추출 방법을 이용하므로, 멤브레인용 가스 필터 제조를 위한 비용을 절감할 수 있으며, 또한 가스 필터 내 기공들이 균일하게 분산될 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 멤브레인용 가스 필터 제조 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
도 2는 진공 용매 추출 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 3은 실시예 1~6에 따라 제조된 Ni59Zr20Ti16Sn3Si2의 비표면적 평가 결과를 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 이용된 가스 유량 테스트기를 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 실시예 4~7에 따라 제조된 멤브레인용 가스 필터의 질소 가스 통과 테스트 결과를 나타낸 것이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 비정질 복합분말의 용매 추출을 이용한 멤브레인용 가스 필터 제조 방법 및 그 방법으로 제조된 멤브레인용 가스 필터에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 진공 용매 추출을 이용한 멤브레인용 가스 필터 제조 방법을 개략적으로 나타내는 순서도이다.
도 1을 참조하면, 도시된 멤브레인용 가스 필터 제조 방법은 분말 혼합체 형성 단계(S110), 전구체 형성 단계(S120) 및 용매 추출 단계(S130)를 포함한다.
분말 혼합체 형성
먼저, 분말 혼합체 형성 단계(S110)에서는 제조하고자 하는 비정질 상의 멤브레인용 가스 필터의 모체가 되는 비정질 금속 분말(이하, 합금 모 분말)을 희생 입자와 혼합하여 분말 혼합체(powder mixture)(이하, 비정질 복합분말)를 형성한다.
구체적으로, 본 단계(S110)에서는 산 용액(acid solution)에 비용해성인 합금 모 분말과, 산 용액에 용해성을 갖는 희생 입자(sacrifice particle or fugitive phase)를 혼합하여 비정질 복합분말을 형성한다. 혼합은 볼 밀링 등으로 수행될 수 있다.
이때, 희생 입자는 후술하는 진공 용매 추출 단계(S130)에서 용매인 산 용액에 용해되어 비정질 복합분말로부터 추출됨으로써, 제조되는 멤브레인용 가스 필터에 기공을 형성하는 역할을 한다.
산 용액에 대하여 비용해성을 갖는 합금 모 분말의 재질은 Ni59Zr20Ti16Sn3Si2와 같이 몰(mol) 기준으로 니켈(Ni)의 함량이 가장 높은 비정질 합금일 수 있다. 이러한 합금 모 분말은 용융 상태에서 고압의 질소 가스 등을 이용하여 가스 분사법을 통한 급냉 방법을 적용하여 비정질 상으로 형성할 수 있다. 이때, 가스는 고압 가스 분사에 유리한 질소 가스를 이용하는 것이 바람직하다.
즉, 본 발명에 따른 비정질상의 멤브레인용 가스 필터 제조를 위한 원료로서 선택될 수 있는 합금 모 분말은 상기와 같은 가스 분사법에 의하여 쉽게 비정질 상을 가질 수 있다. 따라서, 산 용액에 대하여 비용해성을 갖는 금속원소 혹은 합금이라면 비정질 형성능이 매우 높지 않더라도 질소 고압 가스 분사법과 같은 가스 분사법에 의해 비정질 상의 금속 분말로 형성할 수 있다.
또한, 산 용액에 대하여 용해성을 갖는 희생 입자의 재질은 구리 혹은 구리 합금이 될 수 있으며, 바람직하게는 황동을 제시할 수 있다.
희생 입자의 사이즈는 특별한 제한은 없다. 다만, 멤브레인용 가스 필터에서 요구하는 기공의 입경이 통상 10㎛~100㎛ 정도임을 고려할 때, 기공 형성을 위하여 필요한 희생 입자의 입경 역시 대략 10㎛~100㎛가 될 수 있다.
한편, 비정질 복합분말은 합금 모 분말 및 희생 입자 전체에 대하여, 합금 모 분말 50vol%~70vol% 및 희생 입자 30vol%~50vol%로 이루어지는 것이 바람직하다.
희생 입자가 30vol% 미만으로 포함될 경우, 후술하는 용매 추출 단계(S130)에서 희생 입자의 선택적 추출에 의하여 형성되는 기공의 비율이 상대적으로 낮아 다공체로서 활용하기에 불충분할 수 있다. 반대로, 희생 입자가 50vol%를 초과하여 포함될 경우, 제조되는 멤브레인용 가스 필터의 강도가 불충분하게 되는 문제점이 있다.
전구체 형성
다음으로, 전구체 형성 단계(S120)에서는 합금 모 분말과 희생 입자가 혼합된 비정질 복합분말을 벌크화하여, 제조하고자 하는 멤브레인용 가스 필터의 전구체(precursor)에 해당하는 전구체를 형성한다.
이때, 비정질 복합분말의 벌크화는 방전플라즈마 소결을 포함하여 수행할 수 있다. 방전플라즈마 소결은 빠른 속도로 소결 및 성형이 가능하여 전구체 제조시 합금 모 분말의 결정화를 억제할 수 있다.
방전플라즈마 소결을 포함하여 전구체를 형성하는 예는 다음과 같다. 우선, 비정질 복합분말을 몰드에 장입하여 가압 성형하여 예비 전구체를 형성한다. 이후, 예비 전구체를 방전 플라즈마 소결 장치에 투입한 후, 방전 플라즈마를 사용하여 순간적으로 온도를 대략 600℃로 상승시켜 방전플라즈마 소결한 후, 대략 50℃/min 정도의 냉각속도로 냉각시켜 목표로 하는 사이즈를 갖는 전구체를 형성한다.
이때, 방전플라즈마 소결은 550~700℃에서 수행되는 것이 바람직하다. 방전플라즈마 소결 온도가 550℃미만일 경우 소결에 의해 형성되는 전구체의 강도가 약한 문제점이 있다. 반대로 방전플라즈마 소결 온도가 700℃을 초과할 경우, 비정질 금속의 결정화가 진행되어 비정질 특성이 저하될 우려가 있다.
용매 추출
다음으로 용매 추출 단계(S130)에서는 전구체 형성 단계(S120)를 통하여 형성된 전구체를 산 용액(acid solution)에 투입하여 희생 입자를 전구체로부터 선택적으로 추출하여 전구체에 기공을 형성한다.
이때, 진공 용매 추출시 이용될 수 있는 산 용액은 질산 용액(HNO3 solution)이 될 수 있으며, 이외에도 합금 모 분말과 희생 입자의 재질에 따라서 다양한 산 용액이 선택될 수 있다. 즉, 합금 모 분말이 비용해성이며, 희생 입자가 용해성일 수 있는 산 용액이라면 제한없이 이용될 수 있다.
산 용액으로 질산 용액이 이용될 경우, 상기 산 용액은 증류수와 질산을 포함하고, 증류수와 질산 전체에 대하여, 증류수 55vol%~80vol% 및 질산 45vol%~20vol%로 이루어질 수 있다. 질산이 20vol% 미만으로 포함될 경우 희생 입자의 선택적 추출 효과가 불충분할 수 있으며, 질산이 45vol%를 초과할 경우 희생 입자의 추출을 위하여 반응 용기 소재의 제한이 있는 등 과다한 비용이 소요되어 바람직하지 못하다.
산 용액에 전구체를 투입하면 희생 입자가 선택적으로 추출되어 원래의 비정질 금속 성분만이 남게 되고, 희생입자가 위치하는 자리는 기공으로 남게 되어 전구체는 다공체로 변화된다. 예를 들어, Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말과 같은 합금 모 분말의 경우 질산 용액에 대하여 비용해성을 가지므로 질산 용액에 의하여 영향을 받지 않으나, 황동(brass) 입자와 같은 희생 입자의 경우 질산 용액에 용해성을 가지므로 질산 용액에 선택적으로 용해되면서 전구체로부터 추출되고, 그 결과 비정질 Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 다공체가 형성될 수 있다.
본 단계(S130)는 별도의 가열과정 없이 대략 15℃~30℃ 정도의 상온에서 실시될 수 있으며, 희생 입자가 충분히 추출될 수 있도록 10분 이상, 보다 바람직하게는 1시간 이상 수행될 수 있다.
한편, 용매 추출은 도 2에 도시된 예와 같은 진공 용매 추출 장치 내에서, 즉 진공 하에서 수행되는 것이 바람직하다. 도 2를 참조하면, 진공 용매 추출 장치는 크게 챔버(210)와 흡기 장치(aspirator)(220)를 포함한다. 챔버(210) 내에 산 용액(202)과 전구체(203)가 저장된 반응 용기(201)가 투입된 상태에서, 흡기 장치(220)를 이용하여 챔버 내부를 진공화하면, 진공 상태에서 희생 입자에 대한 선택적 용매 추출이 수행될 수 있다.
도 3을 참조할 때, 진공 하에서 용매추출의 경우, 장시간 용매 추출시에는 과다한 에칭이 발생하여 비표면적이 감소할 수 있으므로, 1~6시간동안 수행하는 것이 보다 바람직하며, 1~3시간동안 수행하는 것이 가장 바람직하다.
또한, 용매 추출은 상압 하에서도 수행될 수 있다. 이 경우에도 용매추출을 1시간 이상 수행할 수 있으며, 후술하는 실시예의 표 1을 고려할 때, 12~24시간 동안 용매추출을 수행하는 것이 보다 바람직하고, 12시간 정도 수행하는 것이 가장 바람직하다.
전술한 용매 추출 단계(S130)에 의하여 희생 입자가 선택적으로 추출되어 다공성을 갖는 결과물을 증류수 등으로 세척하고, 이후 건조 과정을 거치면 다공성의 비정질 멤브레인용 가스 필터 제조가 완료될 수 있다.
제조된 멤브레인용 가스 필터에서 기공이 차지하는 부피비, 즉 기공률은 전구체에서 희생 입자의 부피비, 그리고 진공 용매 추출 과정에서 희생 입자의 선택적 추출 효율에 의해 결정될 수 있다. 전구체에서 희생 입자의 부피비가 클수록 기공률이 높아지고, 또한 용매 추출 과정에서 희생 입자의 선택적 추출 효율이 높을수록 기공률이 높아진다.
따라서, 본 발명에 따른 멤브레인용 가스 필터 제조 방법은 기공 제어가 용이하므로, 기공 사이즈, 기공률, 비표면적 제어가 용이하다.
실시예
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다. 여기에 기재되지 않은 내용은 이 기술 분야에서 숙련된 자이면 충분히 기술적으로 유추할 수 있는 것이므로 그 설명을 생략하기로 한다.
1. 멤브레인용 가스 필터의 제조
실시예 1~6에서 사용된 합금 모 분말은 Ni59Zr20Ti16Sn3Si2로서, 용융 상태에서 고압 질소 분사로 급냉되어 제조된 분말을 이용하였다. 희생 입자는 평균 입경이 50㎛인 황동을 이용하였다. 산 용액은 증류수 60vol%, 질산 40%로 이루어진 질산 용액을 이용하였다.
실시예 1
우선, Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말과 평균 입경이 황동 입자(부피비로, Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말 : 황동 입자 = 60:40)를 볼 밀링을 통하여 혼합하였다.
이후, 비정질 복합분말을 몰드에 투입하여 가압하여 예비 성형한 후, 방전 플라즈마 소결 장치(웰텍사 제조)에 투입하여 570℃에서 방전 플라즈마 소결한 후, 50℃/min 정도의 냉각속도로 냉각하여, 최종 직경 10mm, 길이 150mm 사이즈의 전구체를 제조하였다 .
이후, 전구체를 질산 용액이 저장된 반응 용기에 투입하고, 반응 용기를 챔버 내에 배치하였다. 이후, 챔버 내부를 진공화한 후 1시간동안 진공 용매 추출을 수행하였다.
이후, 진공 용매 추출이 완료된 전구체를 증류수로 세척한 후, 건조하여 멤브레인용 가스 필터를 제조하였다.
실시예 2
Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말과 황동 입자의 비율을, 부피비로, Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말 : 황동 입자 = 60:40으로 하여 질산 용액이 저장된 반응 용기에 챔버 내부를 진공화한 후 6시간 동안 진공 용매 추출을 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건에서 멤브레인용 가스 필터를 제조하였다.
실시예 3
Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말과 황동 입자의 비율을, 부피비로, Ni59Zr20Ti16Sn3Si2 분말 : 황동 입자 = 60:40으로 하여 질산 용액이 저장된 반응 용기에 챔버내부를 진공화한 후 12시간 동안 진공 용매 추출을 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건에서 멤브레인용 가스 필터를 제조하였다.
실시예 4
용매 추출을 대기압 하에서 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 조건에서 멤브레인용 가스 필터를 제조하였다.
실시예 5
용매 추출을 대기압 하에서 수행한 것을 제외하고는 실시예 2와 동일한 조건에서 멤브레인용 가스 필터를 제조하였다.
실시예 6
용매 추출을 대기압 하에서 수행한 것을 제외하고는 실시예 3과 동일한 조건에서 멤브레인용 가스 필터를 제조하였다.
2. 비표면적 평가
실시예 1~6에 따라 제조된 Ni59Zr20Ti16Sn3Si2의 비표면적을 평가하였으며, 그 결과를 표 1 및 도 3에 나타내었다.
[표 1]
Figure 112013047779754-pat00001
표 1을 참조하면, 용매 추출을 적용한 실시예 1~6의 경우, 0.15~1.23 m2/g의 비표면적을 나타내었으며, 특히 진공에서 1~6시간동안 용매추출을 수행하였을 때, 보다 높은 비표면적을 나타내었으며, 진공에서 1시간동안 수행하였을 때가 가장 높은 비표면적을 나타내었다. 또한, 상압 하에서 용매추출을 수행하는 경우는 용매추출 시간이 길수록 비표면적이 증가하는 경향을 나타내었다.
도 4는 본 발명의 실시예에 이용된 가스 유량 테스트기를 나타낸 것이다. 도 5는 본 발명의 실시예 4~6에 따라 제조된 멤브레인용 가스 필터 및 상압 하에서 24시간동안 용매추출을 수행하여 제조된 멤브레인용 가스 필터(실시예 7)의 질소 가스 통과 테스트 결과를 나타낸 것이다.
도 5를 참조하면,본 발명에 의한 제조 방법으로 제조된 멤브레인용 가스 필터의 질소 가스 유량 테스트 결과, 최대 70psi에서 질소 가스의 통과량이 최대 86L/min으로 우수한 가스 유량을 나타내었다.
따라서, 본 발명에 따른 제조 방법으로 제조된 멤브레인용 가스 필터는 질소 가스 등의 통과용으로 적합하다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명 의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 변 형될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수 적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.
그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
S110 : 분말 혼합체 형성 단계 S120 : 전구체 형성 단 계
S130 : 진공 용매 추출 단계
201 : 반응 용기 202 : 산 용액
203 : 전구체 210 : 챔버
220 : 흡기 장치

Claims (14)

  1. (a) 산 용액에 비용해성이며 비정질 상인 합금 모 분말과 상기 산 용액에 용해성인 희생 입자를 혼합하여, 비정질 복합분말을 형성하는 단계;
    (b) 방전플라즈마 소결을 이용하여 상기 비정질 복합분말로부터 전구체를 형성하는 단계; 및
    (c) 상기 전구체를 상기 산 용액에 투입하여, 상기 전구체로부터 상기 희생 입자를 선택적으로 추출하는 단계;를 포함하고,
    상기 (c) 단계는, 진공 하에서 1~6시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 합금 모 분말의 재질은 몰(mol) 기준으로 니켈의 함량이 가장 높은 합금인 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 희생 입자의 재질은 구리 또는 구리합금인 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 합금 모 분말은 용융 상태의 금속을 가스 분사법으로 냉각하여 형성된 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 희생 입자는 10㎛~100㎛의 입경을 갖는 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 비정질 복합분말은 합금 모 분말 및 희생 입자 전체에 대하여, 합금 모 분말 50vol%~70vol% 및 희생 입자 30vol%~50vol%로 이루어진 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 방전플라즈마 소결은 550~700℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 단계는
    (b1) 상기 비정질 복합분말을 몰드에 장입하여 가압 성형하여 예비 전구체를 형성하는 단계와,
    (b2) 상기 예비 전구체를 방전 플라즈마 소결 장치에 투입한 후, 방전 플라즈마를 사용하여 소결하는 단계와,
    (b3) 상기 소결된 전구체를 냉각시키는 단계를 포함하는 것을 특징으 로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 산 용액은 증류수와 질산을 포함하고, 상기 증류수와 질산 전체에 대하여, 증류수 55vol%~80vol% 및 질산 45vol%~20vol%로 이루어진 것을 특징으로 하는 멤브레인용 가스 필터 제조 방법.
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