KR101499067B1 - 치과용 임플란트 조립체 - Google Patents

Abstract

본 발명은 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 산화막을 형성함으로써 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지하는 동시에 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있도록 하는 치과용 임플란트 조립체에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체의 상부 구조물에 대하여, 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층을 형성한 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.

Description

치과용 임플란트 조립체 {DENTAL IMPLANT ASSEMBLY}

본 발명은 환자의 상실된 치아를 회복하는데 사용되는 치과용 임플란트 조립체에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 산화막을 형성함으로써 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지하는 동시에 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있도록 하는 치과용 임플란트 조립체에 관한 것이다.

임플란트란 상실된 인체 조직을 회복시켜 주는 대치물을 의미하는데, 치과에서는 일반적으로 상실된 치아의 치근(뿌리)을 대신할 수 있도록 자연치근이 빠져나간 치조골에 픽스츄어(Fixture)를 매식하여 유착시킨 후 인공치아(즉, 보철물)를 고정시켜 치아의 원래 기능을 회복하도록 하는 대치물을 의미한다.

이와 같은 치과용 임플란트는 인공치아와 치근과의 결합방법에 따라서 다양하게 분류될 수 있다. 그 중에서 스크류의 결합력을 이용한 것으로서 스크류 타입 임플란트가 있는데, 종래의 스크류 타입 임플란트 시스템(임플란트 조립체)은, 픽스츄어, 지대주(Abutment) 및 인공치아 등으로 구성된다.

픽스츄어는 치조골에 매식되어 전체 임플란트 시스템을 고정하는 역할을 하는데, 인체 골조직과의 융합을 위해서 생체적합성이 우수한 티타늄 등으로 제조된다. 지대주는 픽스츄어에 결합되어, 인공치아를 고정하여 지지하는 역할을 한다. 인공치아는 인상채득, 작업모형 제작, 납형제작, 매몰 및 소환 공정 등의 공정을 통해 치아의 형태로 제작된다.

도 1에 도시된 바와 같이 종래기술에 따른 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어(1)와, 이 픽스츄어(1)에 결합되는 상부 구조물로서의 지대주(5)와, 이 지대주(5)에 의해 픽스츄어(1)에 고정되는 인공치아(도시생략)를 포함한다. 지대주(5)와 픽스츄어(1) 사이의 결합은 나사결합에 의해 이루어질 수 있는데, 도 1에는 픽스츄어(1)의 내주홀 내주면에 형성되는 암나사부(2)와 지대주(5)의 하단 외주면에 형성되는 숫나사부(6) 사이의 나사결합에 의해 지대주(5)가 픽스츄어(1)에 결합되는 방식이 예시되어 있다.

최근, 임플란트 시술시 기능적인 부분뿐만 아니라 심미적인 요인도 고려하여 임플란트 시술이 이루어질 것이 점차 요구되고 있다. 임플란트 시술을 받는 환자들 중에는 치은이 두꺼운 환자들도 있는 것에 반해서 얇은 치은을 갖는 환자의 수도 적지 않다. 치은이 얇은 환자의 경우, 임플란트 시술을 받은 후, 임플란트 조립체, 특히 지대주와 같은 상부구조물이 얇은 치은을 통해 비치는 경우가 있는데, 이는 심미적으로 매우 좋지 않다.

이러한 문제를 해결하고자 최근에는 상부구조물에 금색의 질화 티타늄(TiN)을 코팅하거나 세라믹 소재를 부착하여 심미적인 부분은 해결하려는 노력을 하고 있다. 하지만 금색은 치은의 색상과 대응되지 않기 때문에 문제해결에 한계가 있고, 세라믹 소재를 부착하는 방식은 세라믹 소재를 지대주에 부착하는 과정에서 필수적으로 실시해야 하는 열처리(베이킹)시 티타늄 소재나 기타 임플란트 제조용 금속소재의 산화를 초래하여 지대주 표면이나 구조상의 변형이나 변질을 발생시키는 문제가 있었다.

또, 치은의 색상은 한가지만 나타나지 않으며, 성별, 식생활 습관, 기호에 따라서 환자마다 다양한 색상이 나타나게 된다. 이와 같이 개개인의 치은 색상이 다르기 때문에 환자의 치은과 유사한 색상을 갖는 상부 구조물을 선택할 수 있다면, 상부구조물이 치은을 통해 비치는 문제점을 해결할 수 있다.

한편, 일반적으로 매립형(submerged type) 임플란트 조립체의 시술시, 픽스츄어의 식립 후 골 높이(bone level)가 1~2mm 정도 낮아지는 골 손실(bone loss)이 발생하게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 상부 구조물에 레이저를 이용하여 미세홈(micro groove)을 형성하여 치은 반응성을 높여 골 손실이 일어나는 것을 방지하기 위한 많은 노력이 있었다. 하지만 레이저를 이용한 미세가공은 많은 비용과 특별한 기술을 요구하며, 대량생산적용이 어렵다는 단점이 있다.

이러한 종래의 문제점들을 해결하기 위한 본 발명은, 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 비정질 이산화티탄 산화막을 형성함으로써 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지하는 동시에 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있도록 하는 치과용 임플란트 조립체를 제공하고자 하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체의 상부 구조물에 대하여, 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층을 형성한 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.

상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 상부 구조물은 상기 지대주일 수 있다.

상기 산화막 코팅층은 비정질의 이산화티탄으로 이루어지는 것이 바람직하다.

상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것이 바람직하다.

상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것이 바람직하다.

상기 산화막 코팅층은 상기 지대주의 적어도 일부 표면에 걸쳐 형성되는 것이 바람직하다.

상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함할 수 있다.

여기에서 상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부에 형성될 수 있다.

상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선으로부터 상기 상단 노출경계선 사이에 형성되는 것이 바람직하다.

상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부와 상기 보철물 결합부에 형성될 수 있다.

상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선을 넘어 상기 픽스츄어 결합부의 상단 일부의 영역까지 추가로 형성될 수 있다. 또, 상기 산화막 코팅층은 상기 상단 노출경계선을 넘어 상기 보철물 결합부의 하단 일부의 영역까지 추가로 형성될 수 있다.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며, 상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며, 상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며, 상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며, 상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.

본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며, 상기 픽스츄어는, 최상단까지 나사산이 형성되어 있는 외부표면과, 상기 지대주와의 결합을 위해 형성되는 내부홀을 포함하며, 상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 상기 내부홀에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며, 상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체가 제공된다.

상술한 바와 같은 본 발명에 의하면, 양극산화 공법을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 비정질 이산화티탄 산화막을 형성한 치과용 임플란트 조립체가 제공될 수 있다.

그에 따라 본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체에 의하면, 산화막에 의해 임플란트 시술시 초기 골 손실을 방지할 수 있게 된다. 즉, 본 발명에 의하면, 치은과 접촉하는 임플란트 조립체의 표면에 산화막이 형성됨에 따라 치은 세포와의 사이에서 반응성(즉, 세포반응성)이 향상될 수 있고, 결과적으로 골 유착을 원활하게 하여 임플란트 조립체의 안정적인 식립이 가능하게 된다.

또한, 본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체에 의하면, 산화막에 의해 상부 구조물이 치은과 대응되는 색상을 나타내도록 하여 심미감을 향상시킬 수 있으며, 종래 행해지던 금색의 질화티타늄 코팅에 비해 심미감을 향상시킬 수 있게 된다.

또한, 본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체에 의하면, 사출 또는 가압성형 후 고온의 열처리가 필요하고 열처리 이후 기계가공이 필요한 종래의 세라믹 제품에 비해 열처리가 필요 없어 가공성이 향상될 수 있고 기계가공이 필요 없다는 장점을 가지며, 세라믹의 낮은 기계적 신뢰성과 난 가공성, 그리고 높은 제조단가로 인한 단점을 극복할 수 있게 된다.

도 1은 종래기술에 따른 임플란트 조립체의 측단면도,
도 2는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 3은 본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 4는 본 발명의 제1 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 5는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 6은 본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도,
도 7은 본 발명의 제2 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 치과용 임플란트 조립체를, 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.

본 발명에 따른 치과용 임플란트 조립체는, 도 1에 도시된 종래의 치과용 임플란트 조립체와 마찬가지로, 치조골에 매식되는 픽스츄어(1)와, 이 픽스츄어(1) 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 픽스츄어(1)에 결합되는 상부 구조물로서의 지대주(5)를 포함한다. 지대주(5)에는 종래와 마찬가지로 보철물(도시생략)이 부착될 수 있다.

도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따르면, 임플란트 조립체의 심미성 향상과 치은 반응성 향상을 위하여, 양극산화 방식을 이용하여 임플란트 제조용 티타늄 또는 티타늄 합금의 표면에 산화막, 즉 비정질의 이산화티탄 산화막 코팅층(10)을 형성한다. 이러한 산화막 코팅층(10)은 임플란트 조립체의 상부 구조물에 형성되는 것이 바람직하다.

도면에는 산화막 코팅층(10)이 지대주(5)에만 형성되어 있는 것으로 예시되어 있지만, 필요에 따라 픽스츄어(1)에도 산화막 코팅층이 형성될 수 있다. 본 명세서에서 "상부 구조물"이란, 임플란트 시술이 이루어진 후 환자의 치은을 통해 색상이 비춰보일 수 있는 임플란트 조립체의 부분을 의미하는 것이다. 따라서, 본 명세서에서 상부 구조물은 지대주를 의미하는 것일 수도 있고, 지대주와 픽스츄어의 상단부분을 함께 의미하는 것일 수도 있다.

양극산화 방식을 이용하여 임플란트 제조용 티타늄 또는 티타늄 합금의 표면에 형성된 산화막 코팅층(10)은, 산화막의 두께 및 표면형상에 따라 빛이 산란되는 각도 및 양이 변화하여 다양한 색상이 나타나게 된다. 이러한 산화막의 특성을 이용하여, 환자의 치은과 대응되는 색상이 상부 구조물에 나타나도록 산화막 코팅층(10)을 형성할 수 있다.

산화막 코팅층(10)의 두께는 환자의 치은과 대응되는 색상을 표현하기 위해 조절될 수 있으며, 바람직하게는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하, 더욱 바람직하게는 20 나노미터 이상 200 나노미터 이하 범위의 두께 중에서 선택된 값의 두께를 갖는다. 산화막 코팅층(10)의 두께가 10 나노미터 미만이거나 500 나노미터 초과의 값을 가질 경우, 산화막 코팅층(10)이 치은과 유사한 색상을 나타낼 수 없어 바람직하지 않다.

치은의 색상은 환자마다 다소 상이하지만, 형성되는 산화막 코팅층(10)의 두께를 적절히 변화시켜 개개의 환자의 치은과 대응되는 색상을 가지도록 할 수 있다. 또한, 사전에 다양한 두께의 산화막 코팅층(10)을 갖는 지대주를 제작해 두고, 환자의 치은 색상과 비교하여 가장 유사한 색상의 지대주를 선택하여 시술에 사용할 수 있다.

산화막 코팅층(10)이 나타내는 색상은, 분광측색계 등의 장비를 이용하여 객관적으로 측정된 Lab 값(lightness, redness, yellowness)을 수치화함으로써, 일반적으로 치은과 대응되는 색상 범위 내에서의 Lab 값을 가지도록 할 수 있다.

본 발명에 따르면, 산화막 코팅층(10)이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것이 바람직하며, L: 55~65, a: 10~40, b: -20~30의 값을 가지는 것이 더욱 바람직하다. 산화막 코팅층이 상기 값을 벗어나면 산화막 코팅층이 나타내는 색상이 치은의 색상에 대응되지 않기 때문에 바람직하지 않다.

한편, 본 발명에 따르면, 임플란트 조립체의 외부 표면에 치은과 유사한 색상의 산화막 코팅층(10)을 형성하여 심미감을 향상시킬 수 있는 동시에 치은 반응성을 향상시켜 초기 임플란트 식립시에 일어나는 골 손실을 예방할 수 있다. 즉, 본 발명에 따라 형성되는 산화막 코팅층(10)은 치은 반응성을 향상시켜 치은조직과 임플란트 조립체 사이의 결합력을 증가시키기 때문에 골 손실을 예방할 수 있다.

도 2에는 본 발명의 제1 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시형태에 따른 임플란트 조립체는, 심미성 향상을 위하여 양극산화 방식을 이용하여 임플란트 조립체의 상부 구조물에 형성되는 산화막 코팅층(10)을 포함한다.

본 제1 실시형태에 있어서 상부 구조물은 임플란트 조립체의 지대주이고, 산화막 코팅층(10)은 상부 구조물로서의 지대주(5)의 일부 표면에 걸쳐 형성된다. 지대주(5)는, 픽스츄어(1)와 지대주가 결합될 때(도 1 참조) 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부(11)와, 보철물(도시생략)이 씌워지는 보철물 결합부(15)와, 이 픽스츄어 결합부(11)와 보철물 결합부(15) 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부(13)를 포함한다. 치은 접촉부(13)는 지대주(5)에 보철물과 픽스츄어가 결합된 상태에서 외부에 노출되어 치은과 직접 접촉하는 부분이다.

픽스츄어 결합부(11)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 하단 노출경계선(12)이라 하고, 보철물 결합부(15)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 상단 노출경계선(14)이라 할 때, 제1 실시형태에 있어서 산화막 코팅층(10)은, 하단 노출경계선(12)으로부터 상단 노출경계선(14) 사이에 형성된다. 상단 노출경계선(14)은 도 2에 도시된 바와 같이 지대주(5)의 폭이 가장 넓은 지점에 상응할 수 있다.

도 3에는 본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 3에 도시된 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 하단 노출경계선(12)과 상단 노출경계선(14) 사이의 치은 접촉부(13)에만 형성되는 것이 아니라, 하단 노출경계선(12)을 지나 아래쪽까지 연장되는 동시에 상단 노출경계선(14)을 지나 위쪽까지 연장되어 형성된다는 점에서 도 2의 지대주와 차이점을 갖는다.

본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 예를 들어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(22)에도 형성될 경우, 지대주가 픽스츄어에 완전히 결합되지 않아 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.

또한, 본 발명의 제1 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 상단 노출 경계선(14)을 넘어 보철물 결합부(15)의 하단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 보철물 결합부(15)의 하단 일부, 예를 들어 보철물 결합부(15)의 하단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(24)에도 형성될 경우, 보철물 결합부(15)가 보철물에 의해 완전히 덮이지 않아 보철물 결합부(15)의 하단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.

도 3에는 산화막 추가형성 영역(22, 24)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부와 보철물 결합부(15)의 하단 일부에 모두 형성된 것으로 도시되어 있지만, 산화막 추가형성 영역은 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에만 형성될 수도 있고 보철물 결합부(15)의 하단 일부에만 형성될 수도 있다.

도 4에는 본 발명의 제1 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 4에 도시된 제1 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 치은 접촉부(13)와 보철물 결합부(15)에 걸쳐 형성된다는 점에서 도 2의 지대주와 차이점을 갖는다.

도 4에 도시된 제1 실시형태의 제2 변형예에 따르면, 도 2와 같이 산화막 코팅층(10)을 중간 부분에 한정하여 형성하는 것에 비해 산화막의 형성작업을 용이하게 실시할 수 있다.

도 4에는 보철물 결합부(15)의 전체 표면에 산화막 코팅층이 형성된 것으로 도시되어 있지만, 보철물 결합부(15)의 상단, 즉 치은 접촉부(13)의 반대쪽 말단 부분에 대해서는 부분적으로 산화막 코팅층이 형성되지 않을 수도 있으며, 본 발명은 보철물 결합부의 전체 표면이 완벽하게 산화막 코팅층으로 덮일 것을 요구하지는 않는다.

또한, 도 4에 도시하지는 않았지만, 도 3에서와 같이, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 즉 산화막 추가형성 영역(22)에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다.

도 5에는 본 발명의 제2 실시형태에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다.

픽스츄어와 지대주 사이의 결합방식에 따라 지대주(5)의 형태는 다양하게 변형될 수 있으며, 도 2 내지 도 4에는 하단에 숫나사부(6)가 형성되는 지대주의 일례가 도시되어 있고 도 5 내지 도 7에는 하단에 숫나사부가 형성되지 않은 지대주의 다른 예가 도시되어 있다. 도 2 내지 도 4에 도시된 지대주의 경우 픽스츄어의 내부에 형성되는 암나사부에 숫나사부가 체결됨으로써 지대주가 픽스츄어에 결합된다. 도 5 내지 도 7에 도시된 지대주의 경우 지대주의 내부에 관통구멍(도시생략)이 형성되고 이 관통구멍을 통하여 나사부재를 삽입하여 픽스츄어의 내부에 형성되는 암나사부에 나사부재를 체결함으로써 지대주가 픽스츄어에 결합된다.

도 5에 도시된 바와 같이, 전술한 제1 실시형태와 마찬가지로, 본 제2 실시형태에 있어서 상부 구조물은 임플란트 조립체의 지대주이고, 산화막 코팅층(10)은 상부 구조물로서의 지대주(5)의 일부 표면에 걸쳐 형성된다. 지대주(5)는, 픽스츄어(1)와 지대주가 결합될 때(도 1 참조) 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부(11)와, 보철물(도시생략)이 씌워지는 보철물 결합부(15)와, 이 픽스츄어 결합부(11)와 보철물 결합부(15) 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부(13)를 포함한다. 치은 접촉부(13)는 지대주(5)에 보철물과 픽스츄어가 결합된 상태에서 외부에 노출되어 치은과 직접 접촉하는 부분이다.

픽스츄어 결합부(11)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 하단 노출경계선(12)이라 하고, 보철물 결합부(15)와 치은 접촉부(13) 사이의 경계선을 상단 노출경계선(14)이라 할 때, 제2 실시형태에 있어서 산화막 코팅층(10)은, 하단 노출경계선(12)으로부터 상단 노출경계선(14) 사이에 형성된다. 상단 노출경계선(14)은 도 5에 도시된 바와 같이 지대주(5)의 폭이 가장 넓은 지점에 상응할 수 있다.

도 6에는 본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 6에 도시된 제1 실시형태의 제1 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 하단 노출경계선(12)과 상단 노출경계선(14) 사이의 치은 접촉부(13)에만 형성되는 것이 아니라, 하단 노출경계선(12)을 지나 아래쪽까지 연장되는 동시에 상단 노출경계선(14)을 지나 위쪽까지 연장되어 형성된다는 점에서 도 5의 지대주와 차이점을 갖는다.

본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 예를 들어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(22)에도 형성될 경우, 지대주가 픽스츄어에 완전히 결합되지 않아 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.

또한, 본 발명의 제2 실시형태의 제1 변형예에 따르면, 상단 노출 경계선(14)을 넘어 보철물 결합부(15)의 하단 일부에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다. 이와 같이 산화막 코팅층(10)이 보철물 결합부(15)의 하단 일부, 예를 들어 보철물 결합부(15)의 하단 대략 10~20% 정도의 산화막 추가형성 영역(24)에도 형성될 경우, 보철물 결합부(15)가 보철물에 의해 완전히 덮이지 않아 보철물 결합부(15)의 하단 일부가 외부에 노출되더라도 심미감을 손상시키지 않을 수 있다.

도 6에는 산화막 추가형성 영역(22, 24)이 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부와 보철물 결합부(15)의 하단 일부에 모두 형성된 것으로 도시되어 있지만, 산화막 추가형성 영역은 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부에만 형성될 수도 있고 보철물 결합부(15)의 하단 일부에만 형성될 수도 있다.

도 7에는 본 발명의 제2 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주의 측면도가 도시되어 있다. 도 7에 도시된 제2 실시형태의 제2 변형예에 따른 임플란트 조립체의 지대주는, 산화막 코팅층(10)이 치은 접촉부(13)와 보철물 결합부(15)에 걸쳐 형성된다는 점에서 도 5의 지대주와 차이점을 갖는다.

도 7에 도시된 제2 실시형태의 제2 변형예에 따르면, 도 5와 같이 산화막 코팅층(10)을 중간 부분에 한정하여 형성하는 것에 비해 산화막의 형성작업을 용이하게 실시할 수 있다.

도 7에는 보철물 결합부(15)의 전체 표면에 산화막 코팅층이 형성된 것으로 도시되어 있지만, 보철물 결합부(15)의 상단, 즉 치은 접촉부(13)의 반대쪽 말단 부분에 대해서는 부분적으로 산화막 코팅층이 형성되지 않을 수도 있으며, 본 발명은 보철물 결합부의 전체 표면이 완벽하게 산화막 코팅층으로 덮일 것을 요구하지는 않는다.

또한, 도 7에 도시하지는 않았지만, 도 6에서와 같이, 하단 노출 경계선(12)을 넘어 픽스츄어 결합부(11)의 상단 일부, 즉 산화막 추가형성 영역(22)에도 산화막 코팅층(10)이 형성될 수 있다.

도 2 내지 도 7에 도시된 바와 같이 산화막 코팅층(10)을 지대주(5)의 일부 구간에 걸쳐서만 형성하기 위해서, 산화막 처리 이전에 마스킹(masking) 처리를 실시하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르면, 마스킹 처리에 의해 지대주(5)의 일부 구간, 특히 지대주와 픽스츄어가 서로 결합되는 픽스츄어 결합부(11)(더욱 상세하게는, 지대주 결합부(11)의 하부 또는 나사산이 형성된 부분)에 대하여 산화막이 형성되지 않도록 함으로써, 기계적인 물성이 변화하는 것을 방지할 수 있다. 즉, 산화막이 형성되면서 지대주의 치수가 변화하는 것을 방지할 수 있어, 지대주가 픽스츄어에 결합된 후 저작운동을 통해 반복적으로 가해지는 하중에 의해 지대주가 쉽게 풀려 버리는 문제나, 피로강도가 저하되어 지대주가 파절되는 문제를 예방할 수 있다.

이상과 같이 본 발명을 예시된 도면을 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 이상에서 설명된 실시예와 도면에 의해 한정되지 않으며, 특허청구범위 내에서 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자들에 의해 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다.

1 : 픽스츄어 2 : 암나사부
5 : 지대주 6 : 숫나사부
10 : 산화막 코팅층 11 : 픽스츄어 결합부
12 : 하단 노출경계선 13 : 치은 접촉부
14 : 상단 노출경계선 15 : 보철물 결합부
22, 24: 산화막 추가형성 영역

Claims (14)

1. 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서, 상기 치과용 임플란트 조립체의 상부 구조물에 대하여, 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층을 형성한 치과용 임플란트 조립체에 있어서,
   상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
   상기 상부 구조물은 상기 지대주이며,
   상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
   상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부에 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
2. 삭제
3. 청구항 1에 있어서,
   상기 산화막 코팅층은 비정질의 이산화티탄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
4. 청구항 1에 있어서,
   상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
5. 청구항 1에 있어서,
   상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
6. 삭제
7. 삭제
8. 청구항 1에 있어서,
   상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선으로부터 상기 상단 노출경계선 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
9. 청구항 1에 있어서,
   상기 산화막 코팅층은 상기 치은 접촉부와 상기 보철물 결합부에 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
10. 청구항 1 또는 청구항 9에 있어서,
    상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 하단 노출경계선을 넘어 상기 픽스츄어 결합부의 상단 일부의 영역까지 추가로 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
11. 청구항 1에 있어서,
    상기 픽스츄어 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 하단 노출경계선이라 하고, 상기 보철물 결합부와 상기 치은 접촉부 사이의 경계선을 상단 노출경계선이라 할 때, 상기 산화막 코팅층은 상기 상단 노출경계선을 넘어 상기 보철물 결합부의 하단 일부의 영역까지 추가로 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
12. 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서,
    상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
    상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
    상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며,
    상기 산화막 코팅층의 두께는 10 나노미터 이상 500 나노미터 이하 범위의 값 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
13. 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서,
    상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
    상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 내부에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
    상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되며,
    상기 산화막 코팅층이 가지는 Lab 값은, L: 50~80, a: -10~50, b: -30~50의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.
14. 치아를 대체하기 위해 구강 내에 시술되는 치과용 임플란트 조립체로서,
    상기 치과용 임플란트 조립체는, 치조골에 매식되는 픽스츄어와, 상기 픽스츄어 상에 보철물을 위치시킬 수 있도록 상기 픽스츄어에 결합되는 지대주를 포함하며,
    상기 픽스츄어는, 최상단까지 나사산이 형성되어 있는 외부표면과, 상기 지대주와의 결합을 위해 형성되는 내부홀을 포함하며,
    상기 지대주는, 상기 픽스츄어와의 결합시 상기 픽스츄어의 상기 내부홀에 삽입되는 픽스츄어 결합부와, 보철물이 씌워지는 보철물 결합부와, 상기 픽스츄어 결합부와 상기 보철물 결합부 사이에 위치되어 치은과 접촉하는 치은 접촉부를 포함하며,
    상기 치은 접촉부에는 심미감 및 치은 반응성을 향상시키기 위해 양극산화 방식을 이용하여 산화막 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트 조립체.

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