KR101473367B1 - Preparation Method of Magnetic Particle Coated with Abrasive Anf The Abrasive Filler for Magnetic Abrasion - Google Patents
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Abstract
본 발명은 (a) 모입자인 판상의 자성 입자를 함유하는 수용액에 자입자인 연마제를 넣은 후 연마제를 균일하게 상기 자성입자에 코팅하는 단계; (b) 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 건조하는 단계; 및 (c) 상기 건조된 판상의 자성입자를 건식 해쇄하여 균일한 입자로 회수하는 단계를 포함하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법을 제공한다.(A) coating an abrasive, which is a magnetic particle, into an aqueous solution containing magnetic particles in the form of a mother particle, and then uniformly coating the magnetic particle with the abrasive; (b) drying the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive; And (c) dry-shredding the dried plate-like magnetic particles to recover uniform particles. The present invention also provides a method for producing magnetic particles coated with an abrasive.
Description
본 발명은 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법 및 자기 연마 필러에 관한 것으로, 보다 상세하게는 판상을 갖는 자성입자의 수용액에 pH조절, 온도 조절 등의 반응속도 제어를 통해 헤테로코아귤레이션(Heterocoagulation) 방법으로 구형 또는 구형에 가까운 30nm~ 2㎛의 연마제를 코팅하여 고정밀 연마가 가능하고, 자성특성이 오래 유지되며, 내구성이 우수한 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법 및 자기 연마 필러에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for producing magnetic particles coated with an abrasive and a magnetic polishing pad, and more particularly, to a method for preparing magnetic particles having an abrasive coated with magnetic particles, The present invention relates to a method for manufacturing magnetic particles coated with an abrasive having high durability and a long-lasting magnetic characteristic, and a self-polishing filler capable of high-precision polishing by coating a spherical or spherical abrasive of 30 nm to 2 탆.
일반적으로, 기계 가공 부품의 표면을 원하는 정밀도로 다듬질하는 방법으로 다양한 가공 방법이 있는데, 그 한 예로 연마제를 피가공물의 표면에 마찰시켜서 다듬질하게 되는 연마방법이 있다.In general, there are various machining methods for finishing the surface of a machined part to a desired precision. For example, there is a grinding method in which an abrasive is rubbed on a surface of a workpiece to be polished.
보다 구체적으로, 상기와 같은 연마방법은 자력의 영향을 받는 연마제를 사용하여 부품을 가공하게 되는데, 이때 자력을 발생시키는 자력발생수단에서 제공되는 자력에 의해 상기 연마제가 피가공물의 가공표면에 밀착된 상태에서 피가공물과 상기 연마제와의 상대적인 마찰이 일어나도록 하여 연마작업을 하는 방법이다.More specifically, in the above-described polishing method, a part is processed by using an abrasive which is influenced by a magnetic force. At this time, by the magnetic force provided by the magnetic force generating means for generating a magnetic force, And the abrasive is caused to undergo a relative friction between the workpiece and the abrasive article in the state of the abrasive.
그러나, 기존의 일반적인 연마제는 통상적으로 자성입자와 연마제 입자가 기계적인 혼합된 형태의 것만을 이용하게 되는데, 이러한 기계적인 혼합방법에 의해 제조된 자기연마제의 경우 연마제 자체의 입자가 너무 굵고, 자성입자와 기계적인 혼합에 의한 것이므로 쉽게 자성입자와 연마제가 서로 덜어지는 현상이 심해 초정밀한 영역의 연마가 이루어지기 어렵고, 자성입자의 자성이 오래 유지되지 않으며, 내구성이 특히 취약하다는 문제가 제기되고 있다.
However, conventional general abrasives usually use only a mixture of magnetic particles and abrasive particles mechanically. In the case of the magnetic abrasive produced by such a mechanical mixing method, particles of the abrasive itself are too thick, And thus the magnetic particles and the abrasive are easily separated from each other. Therefore, it is difficult to polish the ultra-precise area, the magnetic properties of the magnetic particles are not maintained for a long time, and the durability is particularly weak.
본 발명은 상기한 바와 같이 종래기술이 가지는 문제를 해결하기 위해 제안된 것으로, 그 목적은 자성을 가진 수 마이크론에서 수십 마이크론의 판상 자성입자에 구형 또는 구형에 가까운 입자의 크기가 30nm~ 2㎛에 가까운 연마제를 균일하게 코팅함으로서 기존 자성연마제의 특성을 향상시킴으로서 미세 연마를 가능하게 하고, 자성특성이 오래 유지됨과 동시에 내구력이 우수한 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법 및 자기 연마 필러를 제공함에 있다.
Disclosure of the Invention The present invention has been proposed in order to solve the problems of the prior art, as described above. The object of the present invention is to provide a magnetic recording medium, The present invention provides a method for manufacturing magnetic particles and a magnetic polishing filler coated with an abrasive agent which is capable of performing fine polishing by improving the characteristics of an existing magnetic polishing agent by uniformly coating a nearby abrasive and maintaining its magnetic characteristics for a long period of time and having excellent durability.
상기한 바와 같은 본 발명의 기술적 과제는 다음과 같은 수단에 의해 달성되어진다.The technical problem of the present invention as described above is achieved by the following means.
(1) (One)
(a) 모입자인 판상의 자성 입자를 함유하는 수용액에 자입자인 연마제를 넣은 후 연마제를 균일하게 상기 자성입자에 코팅하는 단계;(a) coating an abrasive, which is a magnetic particle, into an aqueous solution containing magnetic particles in the form of a mother particle, and then uniformly coating the magnetic particle with an abrasive;
(b) 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 건조하는 단계; 및(b) drying the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive; And
(c) 상기 건조된 판상의 자성입자를 건식 해쇄하여 균일한 입자로 회수하는 단계;(c) dry-shredding the dried magnetic particles on the plate to recover uniform particles;
를 포함하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
Wherein the magnetic particles are coated with an abrasive.
(2) 제 1항에 있어서, (2) The method according to claim 1,
단계 (a)에서 연마제를 판상의 자성입자에 코팅하는 과정은 pH와 온도를 조절하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
Wherein the process of coating the abrasive on the plate-shaped magnetic particles in the step (a) further comprises a step of adjusting the pH and the temperature.
(3) 제 2항에 있어서, (3) The method according to
pH는 판상의 자성입자의 등전점과 연마제의 등전점의 평균값으로 하여 조절하는 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
wherein the pH is adjusted by an average value of the isoelectric point of the magnetic particles in the plate and the isoelectric point of the abrasive.
(4) 제 2항에 있어서, (4) The method according to
온도는 10~40℃로 유지하는 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
Wherein the temperature is maintained at 10 to 40 占 폚.
(5) 제 1항에 있어서, (5) The method according to claim 1,
자성입자는 Fe2O3, Fe3O4, BaO·6Fe2O3, SrO·6Fe2O3, FeOFe2O3, LiOFe2O3, NiOFe2O3, CuOFe2O3,, MgOFe2O3,, MnOFe2O3,, Y3Fe5O12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO2, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Mn-Mg-Zn계 페라이트, Ni-Cu-Zn계 페라이트, 및 Cu-Zn계 페라이트의 군에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
The magnetic particles are Fe 2 O 3, Fe 3 O 4, BaO · 6Fe 2 O 3, SrO · 6Fe 2 O 3, FeOFe 2 O 3, LiOFe 2 O 3, NiOFe 2 O 3, CuOFe 2 O 3 ,, MgOFe 2 O 3 ,, MnOFe 2 O 3 ,, Y 3 Fe 5 O 12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi,
(6) 제 1항에 있어서, (6) The method according to claim 1,
연마제는 알루미나, 세리아, 실리카, 지로코니아, 티타니아, 게르마니아, 망가니아, 크롬옥사이드, 티아늄 카바이드, 보론 카바이드, 입방정 질화붕소 화합물(cBN), 실리콘, 실리콘 카바이드, 실리콘 나이트라이드, 다이아몬드 입자, 폴리스티렌, 폴리아크릴, 및 폴리염화비닐의 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
The abrasive may be selected from alumina, ceria, silica, zirconia, titania, germania, manganese, chromium oxide, thiarum carbide, boron carbide, cubic boron nitride compound (cBN), silicon, silicon carbide, silicon nitride, diamond particles, polystyrene, Wherein the magnetic particles are at least one selected from the group consisting of polyacrylic acid, polyacrylic acid, and polyvinyl chloride.
(7) 제 1항에 있어서, (7) The method according to claim 1,
연마제는 구형의 직경이 30nm~ 2㎛인 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.
Wherein the polishing agent has a spherical diameter of 30 nm to 2 占 퐉.
(8) 제 1항 내지 제 7항 중 선택된 어느 한 항에 의하여 제조된 연마제가 코팅된 자성입자.
(8) A magnetic particle coated with an abrasive produced by any one of claims 1 to 7.
(9) 판상의 자성입자에 연마제가 균일하게 코팅된 자성 입자를 포함하는 자기 연마 필러.
(9) A self-polishing filler comprising magnetic particles uniformly coated with an abrasive on a plate-like magnetic particle.
(10) 제 9항에 있어서, (10) The method according to claim 9,
자성입자는 Fe2O3, Fe3O4, BaO·6Fe2O3, SrO·6Fe2O3, FeOFe2O3, LiOFe2O3, NiOFe2O3, CuOFe2O3,, MgOFe2O3,, MnOFe2O3,, Y3Fe5O12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO2, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Mn-Mg-Zn계 페라이트, Ni-Cu-Zn계 페라이트, 및 Cu-Zn계 페라이트의 군에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.
The magnetic particles are Fe 2 O 3, Fe 3 O 4, BaO · 6Fe 2 O 3, SrO · 6Fe 2 O 3, FeOFe 2 O 3, LiOFe 2 O 3, NiOFe 2 O 3, CuOFe 2 O 3 ,, MgOFe 2 O 3 ,, MnOFe 2 O 3 ,, Y 3 Fe 5 O 12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi,
(11) 제 9항에 있어서, (11) The method according to claim 9,
연마제는 알루미나, 세리아, 실리카, 지로코니아, 티타니아, 게르마니아, 망가니아, 크롬옥사이드, 티아늄 카바이드, 보론 카바이드, 입방정 질화붕소 화합물(cBN), 실리콘, 실리콘 카바이드, 실리콘 나이트라이드, 다이아몬드 입자, 폴리스티렌, 폴리아크릴, 및 폴리염화비닐의 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.
The abrasive may be selected from alumina, ceria, silica, zirconia, titania, germania, manganese, chromium oxide, thiarum carbide, boron carbide, cubic boron nitride compound (cBN), silicon, silicon carbide, silicon nitride, diamond particles, polystyrene, Polyacrylic acid, polyvinyl chloride, polyacrylic acid, and polyvinyl chloride.
(12) 제 9항에 있어서, (12) The method according to claim 9,
연마제는 구형의 직경이 30nm~ 2㎛인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.
Wherein the polishing agent has a spherical diameter of 30 nm to 2 占 퐉.
(13) 제 9항에 있어서,(13) The method according to claim 9,
자성입자에 연마제 코팅시 연마제의 함량은 자성입자 대비 중량비로 5~100 wt%인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.
Wherein the content of the abrasive in coating the magnetic particles with the abrasive is 5 to 100 wt%, based on the weight of the magnetic particles.
본 발명에 의하면, 일반적인 연마에 비해 자성입자에 구형에 가까운 수 나노에서 수 마이크론의 구형입자가 균일하게 코팅되어 있어 자성에 의한 미세 연마가 가능할 수 있고, 평면이 아닌 곡면 또는 구조물 등의 연마의 어려움을 해결할 수 있어 특수 미세 연마로의 응용이 가능하며, 자성특성이 오래 유지됨과 동시에 내구력이 우수한 효과를 제공한다.
According to the present invention, since spherical particles of several nanometers to several nanometers close to a spherical shape are uniformly coated on the magnetic particles as compared with general polishing, it is possible to perform fine polishing by magnetism and difficulty in polishing of curved surfaces or structures It is possible to apply it to a special fine grinding, and the magnetic property is maintained for a long time, and at the same time, an excellent durability is obtained.
도 1은 본 발명의 실시예 1에 사용된 판상 Fe2O3 자성입자의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에 사용된 SiO2 입자의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.
도 3은 본 발명의 실시예 2에 의해 SiO2가 코팅된 Fe2O3 자성입자의 주사전자현미경(SEM) 사진이다.1 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of platelet-like Fe 2 O 3 magnetic particles used in Example 1 of the present invention.
2 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of SiO 2 particles used in Example 1 of the present invention.
3 is a scanning electron microscope (SEM) photograph of Fe 2 O 3 magnetic particles coated with SiO 2 according to Example 2 of the present invention.
이하, 본 발명의 내용을 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, the contents of the present invention will be described in more detail.
본 발명은 (a) 모입자인 판상의 자성 입자를 함유하는 수용액에 자입자인 연마제를 넣은 후 연마제를 균일하게 상기 자성입자에 코팅하는 단계;(A) coating an abrasive, which is a magnetic particle, into an aqueous solution containing magnetic particles in the form of a mother particle, and then uniformly coating the magnetic particle with the abrasive;
(b) 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 건조하는 단계; 및(b) drying the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive; And
(c) 상기 건조된 판상의 자성입자를 건식 해쇄하여 균일한 입자로 회수하는 단계;(c) dry-shredding the dried magnetic particles on the plate to recover uniform particles;
를 포함하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법을 포함한다.
And a method of producing magnetic particles coated with an abrasive containing the abrasive.
상기 본 발명에서 사용되는 판상의 자성입자로는 판상의 상자성체, 강자성체 혹은 반강자성체 물질을 포함하며, 예를 들어 Fe2O3, Fe3O4, BaO·6Fe2O3, SrO·6Fe2O3, FeOFe2O3, LiOFe2O3, NiOFe2O3, CuOFe2O3,, MgOFe2O3,, MnOFe2O3,, Y3Fe5O12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO2 등이 포함되며, 이외에도 Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Mn-Mg-Zn계 페라이트, Ni-Cu-Zn계 페라이트, Cu-Zn계 페라이트 등이 포함되어진다.The plate-like magnetic particles used in the present invention include a plate-shaped paramagnetic material, a ferromagnetic material or an antiferromagnetic material, for example, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , BaO 6 Fe 2 O 3 , SrO 6 Fe 2 O 3, FeOFe 2 O 3, LiOFe 2 O 3, NiOFe 2 O 3, CuOFe 2 O 3 ,, MgOFe 2 O 3 ,, MnOFe 2 O 3 ,, Y 3 Fe 5 O 12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO 2 is incorporated, such as, in addition to be included such as Mn-Zn ferrite, Ni-Zn ferrite, Mn-Mg-Zn based ferrites, Ni-Cu-Zn ferrite, Cu-Zn-based ferrite.
상기 판상의 자성입자는 미세연마를 가능하게 하기 위해 평균입경이 5~50㎛ 인 것이 바람직하다.The plate-like magnetic particles preferably have an average particle diameter of 5 to 50 mu m in order to enable fine polishing.
또한, 연마제로는 알루미나, 세리아, 실리카, 지로코니아, 티타니아, 게르마니아, 망가니아, 크롬옥사이드, 티아늄 카바이드, 보론 카바이드, 입방정 질화붕소 화합물(cBN), 실리콘, 실리콘 카바이드, 실리콘 나이트라이드, 다이아몬드 입자, 뿐만 아니라, 폴리스티렌, 폴리아크릴, 폴리염화비닐 등의 유기물 입자 등을 포함한다. Examples of the abrasive include alumina, ceria, silica, zirconia, titania, germania, manganese, chromium oxide, thionium carbide, boron carbide, cubic boron nitride compound (cBN), silicon, silicon carbide, silicon nitride, diamond particles , As well as organic particles such as polystyrene, polyacrylic, polyvinyl chloride, and the like.
상기 본 발명에 따른 단계 (a)는 모입자인 판상의 자성입자를 함유하는 수용액에 자입자인 연마제를 넣은 후 pH조절, 온도 조절 등의 반응속도 제어를 통해 헤테로 코아귤레이션(Heterocoagulation)으로 균일하게 코팅하는 단계이다.The step (a) according to the present invention is characterized in that the abrasive, which is a magnetic particle, is put into an aqueous solution containing magnetic particles of a plate, which is a mother particle, and is then uniformly distributed in a heterocoagulation manner by controlling the reaction rate, .
상기 단계에서는 pH 조절시 자성입자와 연마제의 등전점(Point of Zero Charge)을 찾은 후 두 입자 중간의 pH로 조절하여 코팅하는 것이 바람직하다.In the above step, it is preferable to find the point of zero charge of the magnetic particles and the abrasive during the pH control, and then adjust the pH to the intermediate pH of the two particles.
또한, 반응온도로는 10~40℃를 유지해 주는 것이 바람직하다. 만약 pH 조절시 어느 한쪽의 pH로 조절하거나, 등전점을 벋어난 pH로 조절할 경우 코팅이 제대로 되지 않거나, 전혀 되지 않는 특성이 있고, 온도가 10℃보다 낮으면 입자 응집이 발생하여 균일코팅이 어렵고, 40℃를 넘으면 연마제 입자의 직경이 100nm이하일 경우 브라운 운동이 심해 코팅이 제대로 이루어지지 않아 연마 효과가 떨어지게 된다. The reaction temperature is preferably maintained at 10 to 40 占 폚. If the pH is adjusted to either one of the pH values or adjusted to the pH of the isoelectric point, the coating will be insufficient or not at all. If the temperature is lower than 10 ° C, particle agglomeration will occur and uniform coating will be difficult, If the diameter of the abrasive particles is less than 100 nm when the temperature is higher than 40 ° C, the abrasive effect is deteriorated because the brown movement is not satisfactorily applied.
상기 본 발명의 단계 (b)는 연마제가 코팅된 판상 자성입자를 세정하여 건조 소성하는 과정이다. In the step (b) of the present invention, the plate-like magnetic particles coated with the abrasive are washed, followed by drying and firing.
상기 과정은 단계 (a)에서 얻은 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 회수하는 단계로서, 여과를 통해 코팅되지 않은 연마제 입자를 제거하고, 균일하게 코팅된 자성입자를 분리하여 회수한다. The above process is a step of recovering the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive obtained in step (a), removing uncoated abrasive particles through filtration, separating and recovering the uniformly coated magnetic particles.
회수된 자기 연마 필러는, 용액상에 존재하는 알칼리 또는 산 이온을 제거해 주기 위해 다시 증류수를 첨가하여 불순이온의 농노를 100㎲ 이하로 관리하는 것이 바람직하다. 불순이온의 함량이 높으면 건조 후에 자성 효과가 떨어지거나, 연마하고자하는 기재에 영향을 끼칠 수 있어 반드시 이온을 제거해야 한다.
It is preferable that the recovered magnetic polishing filler is further added with distilled water so as to remove alkali or acid ions present in the solution to control the concentration of impurity ions to 100 ㎲ or less. If the content of the impurity ion is high, the magnetic effect after drying may be deteriorated, or the substrate to be polished may be affected, so that the ions must be removed.
본 발명의 상기 단계 (c)에서는, 상기 단계 (b)에서 자기 연마 필러 입자를 건식 해쇄 분급하는 단계로, 습식에서 제거되지 않는 연마제 단독입자 및 균일하지 못한 자성입자를 제거하여 균일한 자기연마용 필러를 제조할 수 있다. In the step (c) of the present invention, the step of smoothing and classifying the self-polishing filler particles in the step (b) includes a step of removing the abrasive-only particles and the non- A filler can be produced.
상기에서 얻어진 자기 연마 필러의 평균입경은 5~50㎛ 정도 이며, 코팅된 연마제 입자의 사이즈는 미세연마를 가능하게 하기 위해 30nm ~ 2㎛로 하는 것이 바람직하다. The average particle size of the self-polishing filler obtained above is about 5 to 50 占 퐉, and the size of the coated abrasive particles is preferably 30 nm to 2 占 퐉 in order to enable fine polishing.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the scope of the present invention is not limited to the following examples.
[실시예 1] 자성 입자(Fe2O3) 및 연마제(SiO2) 등전점(Point of Zero Charge) 측정[Example 1] Measurement of magnetic particles (Fe 2 O 3 ) and abrasive (SiO 2 ) Point of Zero Charge
자성입자 Fe2O3 (도 1) 10g을 수용액 100ml에 교반하면서 산과 알카리 용액을 가지고 pH를 적정 하면서 등전점(Zetasizer 2000HSA(MALVERN社))을 확인하였다. pH를 조절하여 등전점을 확인 한 결과 pH 3.5이었다. 다음으로, 연마제인 SiO2(도 2)를 자성입자와 동일한 방법으로 교반하면서 산과 알카리 용액을 가지고 pH를 적정 하면서 등전점을 확인하였다. pH를 조절하여 등전점을 확인 한 결과 사용된 SiO2의 경우 pH 2.5이었다.
10 g of the magnetic particles Fe 2 O 3 (FIG. 1) were stirred in 100 ml of the aqueous solution and the pH was titrated with an acid and an alkali solution while confirming the isoelectric point (Zetasizer 2000HS A (MALVERN)). The isoelectric point was confirmed by adjusting the pH to be 3.5. Next, the isoelectric point was confirmed by titrating the pH with an acid and an alkali solution while stirring SiO 2 (FIG. 2) as an abrasive in the same manner as the magnetic particles. The isoelectric point was confirmed by controlling the pH, and the pH of the used SiO 2 was 2.5.
[실시예 2] 자성입자(Fe2O3)에 연마제(SiO2) 균일 코팅[Example 2] Coating of abrasive (SiO 2 ) with magnetic particles (Fe 2 O 3 )
1ℓ 비이커에 증류수 500 ml, 판상 Fe2O3 자성입자 100g을 넣고 테프론 교반봉을 이용하여 교반하면서 가열하여 35 ℃까지 승온 하였다. 또 다른 500 ml 비이커에 SiO2 분산액(SG-SO100SW(SiO2 함량 20wt%, pH 9.5, 제조사 : SukgyungAT) 100g을 넣은 후 상기 판상자성입자 수용액에 한번에 투입하여 교반 및 온도를 35℃를 유지하였다.500 ml of distilled water and 100 g of platelet-like Fe 2 O 3 magnetic particles were put in a 1-liter beaker and heated with stirring using a Teflon stirrer to 35 ° C. 100 g of SiO 2 dispersion (SG-SO100SW (SiO 2 content 20 wt%, pH 9.5, pH 9.5, manufacturer: SukgyungAT) was added to another 500 ml beaker, and the mixture was poured into the plate parasitic particle solution at once to maintain stirring and temperature at 35 ° C.
상기 용액 혼합후 pH를 측정한 결과 pH는 9.3이었으며, 등전점에 맞추기 위해 HCl(1N HCl 수용액)을 상기 용액에 조금씩 투입하여 pH를 3으로 맞춘 후 2시간 동안 교반한 후 12시간 동안 정치하였다. After the pH of the solution was adjusted to pH 9.3, HCl (1N HCl aqueous solution) was slowly added to the solution to adjust the pH to 3, and the solution was stirred for 2 hours and then allowed to stand for 12 hours.
이 결과 침전된 슬러리를 여과 및 건조하여 SiO2가 균일하게 코팅된 Fe2O3 자성입자(도 3)를 수득하였다.
As a result, the precipitated slurry was filtered and dried to obtain Fe 2 O 3 magnetic particles (FIG. 3) uniformly coated with SiO 2 .
[실시예 3][Example 3]
자성입자로 Fe3O4를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Plate-like magnetic particles coated with an abrasive were prepared by the same procedure as in Example 2, except that Fe 3 O 4 was used as magnetic particles.
[실시예 4][Example 4]
자성입자로 BaO·6Fe2O3를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Except that the BaO · 6Fe 2 O 3 with the magnetic particles and the magnetic particles were prepared in the plate-shaped abrasive is coated by the same procedure as in Example 2.
[실시예 5][Example 5]
자성입자로 SrO·6Fe2O3를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Except that the SrO · 6Fe 2 O 3 with the magnetic particles and the magnetic particles were prepared in the plate-shaped abrasive is coated by the same procedure as in Example 2.
[실시예 6][Example 6]
연마제로 알루미나를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Plate-like magnetic particles coated with an abrasive were prepared by the same procedure as in Example 2 except that alumina was used as an abrasive.
[실시예 7][Example 7]
연마제로 세리아를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Plate-like magnetic particles coated with an abrasive were prepared by the same procedure as in Example 2 except that ceria was used as an abrasive.
[실시예 8][Example 8]
연마제로 지르코니아를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Plate-like magnetic particles coated with an abrasive were prepared by the same procedure as in Example 2 except that zirconia was used as the abrasive.
[실시예 9][Example 9]
연마제로 실리콘 카바이드를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Plate-like magnetic particles coated with an abrasive were prepared by the same procedure as in Example 2 except that silicon carbide was used as an abrasive.
[실시예 10][Example 10]
연마제로 실리콘 나이트라이드를 사용한 것을 제외하고 실시예 2와 동일한 과정에 의해 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 제조하였다.
Plate-like magnetic particles coated with an abrasive were prepared by the same procedure as in Example 2 except that silicon nitride was used as an abrasive.
[실험예] 자성 연마 Test[Experimental Example] A magnetic polishing test
상기 실시예 2 내지 10을 통해 얻은 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 대상으로 연마 특성, 자성 특성, 내구성을 측정하고 그 결과를 하기 표 1에 각각 나타내었다.
The polishing characteristics, magnetic characteristics and durability of the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive obtained in Examples 2 to 10 were measured, and the results are shown in Table 1 below.
♩ O: 우수, △: 중간, X: 나쁨♩ O: excellent, △: medium, X: poor
♪ 100회 사용시 처음 대비 자성의 유지정도를 100분율로 측정♪ 100 times the degree of maintenance of the magnetic force for the first time when using 100 times
상기 실험결과 본 발명의 실시예에 따른 연마제가 코팅된 판상의 자성입자가 연마제가 코팅되지 않은 자성입자를 사용한 것에 비해 효과가 우수한 것을 확인할 수 있다.As a result of the experiment, it can be confirmed that the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive according to the embodiment of the present invention are more effective than those using the magnetic particles not coated with the abrasive.
Claims (13)
(b) 연마제가 코팅된 판상의 자성입자를 건조하는 단계; 및
(c) 상기 건조된 판상의 자성입자를 건식 해쇄하여 균일한 입자로 회수하는 단계;
를 포함하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.(a) coating an abrasive having a spherical diameter of 30 nm to 2 m in diameter, which is self-particles, into an aqueous solution containing magnetic particles in the form of mother particles, and then uniformly coating the abrasive with the magnetic particles;
(b) drying the plate-shaped magnetic particles coated with the abrasive; And
(c) dry-shredding the dried magnetic particles on the plate to recover uniform particles;
Wherein the magnetic particles are coated with an abrasive.
단계 (a)에서 연마제를 판상의 자성입자에 코팅하는 과정은 pH와 온도를 조절하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.The method according to claim 1,
Wherein the process of coating the abrasive on the plate-shaped magnetic particles in the step (a) further comprises a step of adjusting the pH and the temperature.
pH는 판상의 자성입자의 등전점과 연마제의 등전점의 평균값으로 하여 조절하는 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.3. The method of claim 2,
wherein the pH is adjusted by an average value of the isoelectric point of the magnetic particles in the plate and the isoelectric point of the abrasive.
온도는 10~40℃로 유지하는 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.3. The method of claim 2,
Wherein the temperature is maintained at 10 to 40 占 폚.
자성입자는 Fe2O3, Fe3O4, BaO·6Fe2O3, SrO·6Fe2O3, FeOFe2O3, LiOFe2O3, NiOFe2O3, CuOFe2O3,, MgOFe2O3,, MnOFe2O3,, Y3Fe5O12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO2, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Mn-Mg-Zn계 페라이트, Ni-Cu-Zn계 페라이트, 및 Cu-Zn계 페라이트의 군에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.The method according to claim 1,
The magnetic particles are Fe 2 O 3, Fe 3 O 4, BaO · 6Fe 2 O 3, SrO · 6Fe 2 O 3, FeOFe 2 O 3, LiOFe 2 O 3, NiOFe 2 O 3, CuOFe 2 O 3 ,, MgOFe 2 O 3 ,, MnOFe 2 O 3 ,, Y 3 Fe 5 O 12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO 2, Mn-Zn based ferrites, Ni-Zn ferrite, Mn-Mg-Zn ferrite, Ni- Cu-Zn-based ferrite, and Cu-Zn-based ferrite.
연마제는 알루미나, 세리아, 실리카, 지로코니아, 티타니아, 게르마니아, 망가니아, 크롬옥사이드, 티아늄 카바이드, 보론 카바이드, 입방정 질화붕소 화합물(cBN), 실리콘, 실리콘 카바이드, 실리콘 나이트라이드, 다이아몬드 입자, 폴리스티렌, 폴리아크릴, 및 폴리염화비닐의 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 연마제가 코팅된 자성입자의 제조방법.The method according to claim 1,
The abrasive may be selected from alumina, ceria, silica, zirconia, titania, germania, manganese, chromium oxide, thiarum carbide, boron carbide, cubic boron nitride compound (cBN), silicon, silicon carbide, silicon nitride, diamond particles, polystyrene, Wherein the magnetic particles are at least one selected from the group consisting of polyacrylic acid, polyacrylic acid, and polyvinyl chloride.
자성입자는 Fe2O3, Fe3O4, BaO·6Fe2O3, SrO·6Fe2O3, FeOFe2O3, LiOFe2O3, NiOFe2O3, CuOFe2O3,, MgOFe2O3,, MnOFe2O3,, Y3Fe5O12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO2, Mn-Zn계 페라이트, Ni-Zn계 페라이트, Mn-Mg-Zn계 페라이트, Ni-Cu-Zn계 페라이트, 및 Cu-Zn계 페라이트의 군에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.10. The method of claim 9,
The magnetic particles are Fe 2 O 3, Fe 3 O 4, BaO · 6Fe 2 O 3, SrO · 6Fe 2 O 3, FeOFe 2 O 3, LiOFe 2 O 3, NiOFe 2 O 3, CuOFe 2 O 3 ,, MgOFe 2 O 3 ,, MnOFe 2 O 3 ,, Y 3 Fe 5 O 12, MnBi, FeNi, FeCo, CoNi, CrO 2, Mn-Zn based ferrites, Ni-Zn ferrite, Mn-Mg-Zn ferrite, Ni- Cu-Zn-based ferrite, and Cu-Zn-based ferrite.
연마제는 알루미나, 세리아, 실리카, 지로코니아, 티타니아, 게르마니아, 망가니아, 크롬옥사이드, 티아늄 카바이드, 보론 카바이드, 입방정 질화붕소 화합물(cBN), 실리콘, 실리콘 카바이드, 실리콘 나이트라이드, 다이아몬드 입자, 폴리스티렌, 폴리아크릴, 및 폴리염화비닐의 군에서 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.10. The method of claim 9,
The abrasive may be selected from alumina, ceria, silica, zirconia, titania, germania, manganese, chromium oxide, thiarum carbide, boron carbide, cubic boron nitride compound (cBN), silicon, silicon carbide, silicon nitride, diamond particles, polystyrene, Polyacrylic acid, polyvinyl chloride, polyacrylic acid, and polyvinyl chloride.
자성입자에 연마제 코팅시 연마제의 함량은 자성입자 대비 중량비로 5~100 wt%인 것을 특징으로 하는 자기 연마 필러.10. The method of claim 9,
Wherein the content of the abrasive in coating the magnetic particles with the abrasive is 5 to 100 wt%, based on the weight of the magnetic particles.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020120125644A KR101473367B1 (en) | 2012-11-07 | 2012-11-07 | Preparation Method of Magnetic Particle Coated with Abrasive Anf The Abrasive Filler for Magnetic Abrasion |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020120125644A KR101473367B1 (en) | 2012-11-07 | 2012-11-07 | Preparation Method of Magnetic Particle Coated with Abrasive Anf The Abrasive Filler for Magnetic Abrasion |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20140059046A KR20140059046A (en) | 2014-05-15 |
| KR101473367B1 true KR101473367B1 (en) | 2014-12-17 |
Family
ID=50889080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020120125644A KR101473367B1 (en) | 2012-11-07 | 2012-11-07 | Preparation Method of Magnetic Particle Coated with Abrasive Anf The Abrasive Filler for Magnetic Abrasion |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101473367B1 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018080755A1 (en) * | 2016-10-25 | 2018-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Method of making magnetizable abrasive particles |
| US10947432B2 (en) | 2016-10-25 | 2021-03-16 | 3M Innovative Properties Company | Magnetizable abrasive particle and method of making the same |
| US11072732B2 (en) | 2016-10-25 | 2021-07-27 | 3M Innovative Properties Company | Magnetizable abrasive particles and abrasive articles including them |
| US11253972B2 (en) | 2016-10-25 | 2022-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive articles and methods of making the same |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106747390B (en) * | 2016-12-30 | 2020-06-09 | 攀枝花钢城集团有限公司 | Strontium ferrite pre-sintering material and preparation method thereof |
-
2012
- 2012-11-07 KR KR1020120125644A patent/KR101473367B1/en active IP Right Grant
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018080755A1 (en) * | 2016-10-25 | 2018-05-03 | 3M Innovative Properties Company | Method of making magnetizable abrasive particles |
| US10655038B2 (en) | 2016-10-25 | 2020-05-19 | 3M Innovative Properties Company | Method of making magnetizable abrasive particles |
| US10947432B2 (en) | 2016-10-25 | 2021-03-16 | 3M Innovative Properties Company | Magnetizable abrasive particle and method of making the same |
| US11072732B2 (en) | 2016-10-25 | 2021-07-27 | 3M Innovative Properties Company | Magnetizable abrasive particles and abrasive articles including them |
| US11253972B2 (en) | 2016-10-25 | 2022-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Structured abrasive articles and methods of making the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20140059046A (en) | 2014-05-15 |
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