KR101467281B1 - Apparatus for nano metal wire grid by oblique deposition and method for protection coating thereof - Google Patents
Apparatus for nano metal wire grid by oblique deposition and method for protection coating thereof Download PDFInfo
- Publication number
- KR101467281B1 KR101467281B1 KR1020080025556A KR20080025556A KR101467281B1 KR 101467281 B1 KR101467281 B1 KR 101467281B1 KR 1020080025556 A KR1020080025556 A KR 1020080025556A KR 20080025556 A KR20080025556 A KR 20080025556A KR 101467281 B1 KR101467281 B1 KR 101467281B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- deposition
- substrate
- protective coating
- metal wire
- nano
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3058—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
- H01L21/02109—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates
- H01L21/02112—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer
- H01L21/02123—Forming insulating materials on a substrate characterised by the type of layer, e.g. type of material, porous/non-porous, pre-cursors, mixtures or laminates characterised by the material of the layer the material containing silicon
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
- G02F1/133548—Wire-grid polarisers
Abstract
본 발명은 바이오 센서용, 광학계 편광자용, LCD용 휘도증가 및 편광자 등에 적용 될 수 있는 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자 보호코팅 및 그의 보호 코팅 방법을 제공하기 위한 것으로, 기판, UV 레진, 금속 리브에 의해 나노 사이즈로 이루어진 선격자 기판을 형성하는 선격자 기판 형성 단계와; 상기 선격자 기판에서 경사각 형성에 의한 경사증착으로 에어 갭을 형성하는 경사 증착 단계와; 상기 경사 증착 단계 후 평탄 보호 코팅을 형성하는 보호 코팅 단계;를 포함하여 구성함으로서, 경사 증착을 통해 나노 금속 선격자의 Al Rib 과 Al Rib 사이에 Air Gap(공기층 n=1)을 유지하여 광학적 변화를 최소화 하는 동시에 추가적인 보호코팅을 형성하여 외부의 물리적/화학적 작용에 의한 손상으로부터 나노 금속 선격자를 보호하고 또한 광학적 특성변화를 최소한으로 하여 나노 금속 선격자로 제작된 센서, 광학 및 디스플레이(Display) 분야의 모든 소자 및 부품을 상업적으로 제한되지 않고 넓은 분야에서 사용 되어 질 수 있도록 내구성 및 광특성을 확보할 수 있게 되는 것이다.The present invention provides a nano metal wire lattice protection coating and a protective coating method thereof by a gradient deposition which can be applied to a biosensor, an optical system polarizer, an LCD, and the like, and can be applied to a polarizer, Forming a nano-sized line grid substrate on the substrate; An inclined deposition step of forming an air gap by oblique deposition by forming an inclined angle on the linear grid substrate; And a protective coating step of forming a flat protective coating after the tilted deposition step. The air gap (air layer n = 1) is maintained between the Al Rib and the Al Rib of the nano metal wire grating through the oblique deposition, Optical and display devices made of nano-metal wire gratings with minimal changes in optical properties, while protecting the nano-metal wire grid from damage caused by external physical / chemical action, It is possible to secure durability and optical characteristics so as to be used in a wide range of fields without being restricted to all devices and parts of the field commercially.
경사 증착, 나노 금속, 선격자, 편광자, 보호 코팅, 평탄 보호 코팅 Inclined deposition, nanometals, line grating, polarizer, protective coating, flat protective coating
Description
본 발명은 나노 금속 선격자에 관한 것으로, 특히 경사 증착을 통해 나노 금속 선격자의 Al Rib 과 Al Rib 사이에 Air Gap(공기층 n=1)을 유지하여 광학적 특성 변화를 최소화 하는 동시에 추가적인 보호코팅을 형성하여 외부의 물리적/화학적 작용에 의한 손상으로부터 나노 금속 선격자를 보호하고 또한 광학적 특성변화를 최소한으로 하여 나노 금속 선격자로 제작된 센스,광학 및 디스플레이(Display) 분야의 모든 소자 및 부품을 상업적으로 제한되지 않고 넓은 분야에서 사용 되어 질 수 있도록 내구성 및 광특성을 확보하기에 적당하도록 한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자 보호코팅 및 그의 보호코팅에 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a nano metal wire lattice, in particular by providing an air gap (air layer n = 1) between Al Rib and Al Rib of a nano metal wire lattice through tapered deposition to minimize optical property changes, And protects the nano-metal wire grid from damage caused by external physical / chemical actions and minimizes the change in optical characteristics. Therefore, all elements and parts of the sense, optical and display fields made of nano- But not limited to, a nano metal wire lattice protective coating which is suitable for ensuring durability and optical properties so that it can be used in a wide range of fields, and a method for its protective coating.
일반적으로 선격자(wire grid)는 전자기파에 대한 편광을 분리 할 수 있는 방법으로 사용 되어 왔었다. 특히 라디오파나 적외선 영역에서 주로 사용 되어왔고 최근에는 반도체 공정을 기술 개발로 인해 나노 단위의 선폭을 갖는 선격자를 제조할 수 있게 되어 가시광선 영역에서도 편광 기능을 제어 할 수 있게 되었다. In general, wire grids have been used as a way to separate polarized light from electromagnetic waves. Especially, it has been mainly used in radio wave and infrared region. Recently, it has become possible to manufacture a line grating having nano unit line width due to the development of semiconductor processing technology, and thus it is possible to control the polarization function in the visible light region.
또한 액정 디스플레이는 두 개의 편광판 사이에 위치하는 액정 패널에서 각 픽셀에 전기 신호를 인가하여 액정의 배열을 변경시킴으로써 빛을 투과시키거나 차단하는 소자이다 이러한 액정 디스플레이의 광 이용 효율과 휘도를 증대시키기 위해 유기물 종류의 편광판이 일반적으로 상용되어지며 최근에는 무기물 종류의 선격자 편광판(Wire Grid Polarizer)을 사용 하려는 시도가 이루어지고 있다.A liquid crystal display is a device that transmits or blocks light by changing the arrangement of liquid crystals by applying an electric signal to each pixel in a liquid crystal panel located between two polarizers. In order to increase the light utilization efficiency and brightness of the liquid crystal display Organic-type polarizers are generally used, and in recent years, attempts have been made to use inorganic-type wire grid polarizers.
도 1은 일반적인 선격자 편광자의 원리 및 구조를 보인 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing the principle and structure of a general line grating polarizer.
도 1에서 참조번호 1은 기판이고, 2는 Al 격벽(barrier rib)이다.1,
도 1과 같은 선격자 편광자의 성능은 편광 소멸비(polarization extinction ratio)와 투과율로써 나타낼 수 있다. 선격자 편광자가 높은 편광 소멸비를 가지기 위해서는 금속 격자의 주기가 입사광의 파장에 비해 상당히 짧아야 한다는 전제 조건이 있다. 주기가 짧을수록 제작이 어려워지기 때문에 지금까지 선격자 편광자는 주로 마이크로파 또는 적외선 영역에서 제작되어 사용되어 왔다. 반도체 제조 장비와 노광 기술의 발달로 미세 패턴 제작이 가능해짐에 따라 가시광선에서 동작하는 선격자 편광자의 제작이 가능해지고 있다. 사람이 눈으로 감지할 수 있는 가시광선 영역은 보통 400nm 에서 700nm 까지의 파장 대를 말한다. 따라서 가시광선 영역에서 동작하는 선격자 편광자는 금속 격자의 주기가 적어도 200nm 이하는 되어야 어느 정도의 편광 특성을 기대할 수 있고, 기존의 편광기보다 동일하거나 보다 우수한 성능을 내기 위해서는 100nm 대의 주기를 갖는 금속 격자를 제작한다.The performance of the line grating polarizer shown in FIG. 1 can be represented by the polarization extinction ratio and the transmittance. In order for a linear polarizer to have a high polarization extinction ratio, there is a precondition that the period of the metal lattice must be considerably shorter than the wavelength of the incident light. The shorter the period, the more difficult it is to manufacture. Thus far, the linear polarizer has been used mainly in the microwave or infrared region. With the development of semiconductor manufacturing equipment and exposure technology, it becomes possible to fabricate fine patterns, and it is becoming possible to manufacture a line grating polarizer that operates in visible light. The range of visible light that a person can perceive with eyes usually refers to a wavelength band from 400 nm to 700 nm. Therefore, in order to achieve the same or better performance than a conventional polarizer, a line grating polarizer which operates in the visible light region can be expected to have a certain polarization characteristic when the period of the metal grating is at least 200 nm or less, .
또한 도 1과 같이 이러한 선격자 편광자는 나노 기술에 의해 제조되며, 선격자로써 반사율이 높은 금속 박막을 증착하여 리소그래피 공정을 통해 건식 식각으로 제작되고, 이러한 선격자 편광자는 편광기능과 반사 투과 기능이 있어 편광자 및 LCD 분야에서 광을 리사이클링(Recycling) 하여 LCD 휘도를 증가시키는 휘도증가용으로 사용되어 질 수 있다. Also, as shown in FIG. 1, such a line-grating polarizer is manufactured by nanotechnology, and a thin metal film having high reflectance is deposited as a grating, and is formed by dry etching through a lithography process. The linear grating polarizer has a polarizing function and a reflection- And can be used for increasing the brightness to increase the LCD brightness by recycling light in the polarizer and LCD fields.
또한 이러한 선격자를 이루는 물질로써 반사율은 높은 Ag, Al, Cu, Cr 또는 그의 합금 등이 금속 물질로 사용되며, 그 중에서도 가격, 반사율, 공정 등을 고려하여 대부분 Al이 많이 사용된다.Al, Al, Cu, Cr, or alloys thereof, which have high reflectance, are used as metal materials, and most of them are used in consideration of price, reflectance and process.
도 2는 종래 선격자 편광자를 보인 개념도이다.2 is a conceptual diagram showing a conventional linear grating polarizer.
도 2에서 참조번호 3은 와이어그리드와 같은 편광장치이고, 4는 편광장치의 기판이며, 5는 전도성을 가지거나 전도성 재료로 이루어진 요소로서 Al 격벽으로 구성되고, 6은 편광장치의 광학특성들에 역효과를 주지않고 부식을 방지하기 위해 부식방지제로부터 제조되는 모노층이다.In FIG. 2,
그러나 Ag, Al, Cu, Cr을 포함한 선격자를 이루는 대부분의 물질 등은 대기 중에 직접적으로 노출되어 있어 물리적 표면 파괴/스크래치 혹은 화학적 부식의 우려가 있으며, 이러한 물리적/화학적 손상은 선격자의 내구성 및 광학적 특성을 저하 시켜 상업적으로 사용이 제한적일 수 있다.However, most of the materials constituting the line grating including Ag, Al, Cu and Cr are directly exposed to the air, and there is a fear of physical surface destruction / scratch or chemical corrosion. Such physical / The optical properties may be deteriorated and commercial use may be limited.
또한 이러한 선격자 편광자를 LCD용 편광자 및 휘도 증가용으로 사용할 경우 LCD에서 타 부품과 마찰 및 접촉 등으로 인하여 선격자의 손상에 의한 기능 상실이 이루어져 상업적으로 넓은 분야에서 적용하기 위한 큰 과제인 내마모성과 같은 내 구성 문제가 제기되어 진다.In addition, when such a linear polarizer is used for an LCD polarizer and an increase in brightness, a loss of function due to the damage of the linear grid due to frictional contact with other components occurs in the LCD, which is a great problem for application in a wide commercial field. The same problem with my composition is raised.
일 예로 도 2에 나와 있는 미국 목스테크 사의 상품용 특허(US 6,785,050)에는 화학적 손상인 부식방지를 위한 보호 코팅막 형성 방법만 있는 반면 물리적 손상에 의한 구체적인 보호코팅에 관한 사항은 없으며, 또한 전통적인 어떠한 방법으로 든 보호코팅을 할 경우 광학적 특성이 변한다고 언급하고 있다. 또한 그레이팅 이론 및 G-Solver를 이용하여 RCWA 광학 시뮬레이션에 의하면 이러한 형상은 전통적 방법으로 행할 경우 금속 선격자 리브(Rib) 사이에 보호 코팅 물질이 채워져 Air Gap( 공기층 n=1) 상실로 인한 선격자의 편광 기능 저하로 편광된 P파, S파의 투과 및 반사 기능이 저하 되어 광학적 특성이 저하 된다. For example, US Pat. No. 6,785,050, US Pat. No. 6,785,050, which is shown in FIG. 2, discloses only a method for forming a protective coating film for preventing corrosion which is a chemical damage, but there is no specific protective coating due to physical damage, And that optical properties change when protective coatings are applied. According to the RCWA optical simulation using the grating theory and the G-solver, these shapes are filled with a protective coating material between the metallic wire grid ribs when the conventional method is used and the wire grid due to the loss of the air gap (air layer n = 1) The transmission and reflection functions of the P-polarized and S-polarized polarized P-polarized and S-polarized light are deteriorated and the optical characteristics are deteriorated.
이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 경사 증착을 통해 나노 금속 선격자의 Al Rib 과 Al Rib 사이에 Air Gap(공기층 n=1)을 유지하는 동시에 추가적인 보호코팅을 형성하여 외부의 물리적/화학적 작용에 의한 손상으로부터 나노 금속 선격자를 보호하고 또한 광학적 특성변화를 최소한으로 하여 나노 금속 선격자로 제작된 바이오 센서, 광학 및 디스플레이(Display) 분야의 모든 소자 및 부품을 상업적으로 제한되지 않고 넓은 분야에서 사용 되어 질 수 있도록 내구성 및 광특성을 확보할 수 있는 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자 보호코팅 및 그의 보호 코팅 방법을 제공하는데 있다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an air gap (air layer n = 1) between Al Rib and Al Rib of a nano metal wire lattice through oblique deposition. In addition, it forms a protective coating to protect the nano metal wire grid from damage due to external physical / chemical action, minimizes the change in optical characteristics, and is used as a biosensor, optical display and display The present invention is to provide a nano metal wire lattice protective coating and a protective coating method thereof by tilted deposition that can ensure durability and optical characteristics so that they can be used in a wide range of fields.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자의 보호 코팅 방법을 보인 흐름도이다.FIG. 3 is a flowchart illustrating a protective coating method of a nano metal wire grid by tilted deposition according to an embodiment of the present invention.
이에 도시된 바와 같이, 기판, UV 레진, 금속 리브에 의해 나노 사이즈로 이루어진 선격자 기판을 형성하는 선격자 기판 형성 단계(ST1)와; 상기 선격자 기판에서 경사각 형성에 의한 경사 증착으로 에어 갭(Air Gap)을 형성하는 경사 증착 단계(ST2)와; 상기 경사 증착 단계 후 평탄 보호 코팅을 형성하는 보호 코팅 단계(ST3);를 포함하여 수행하는 것을 특징으로 한다.As shown in the figure, the step of forming a line grid substrate (ST1) for forming a nano-sized line grid substrate by a substrate, a UV resin, and a metal rib; A tilted deposition step (ST2) of forming an air gap by oblique deposition by forming an inclined angle on the linear grid substrate; And a protective coating step (ST3) for forming a flat protective coating after the oblique deposition step.
상기 선격자 기판 형성 단계는, 나노 금속 선격자의 기판(11)의 상부에 UV 레진(12)이 도포되고 나노 사이즈 몰드로 프레스한 후 투명 기판(11)면에서 UV를 조사하여 경화시키고, 상기 UV 레진(12)의 상부에 리브(13)가 증착되도록 하여 선격자 기판을 형성하는 것을 특징으로 한다.In the step of forming a line grid substrate, a
상기 경사 증착 단계는, 스퍼터를 이용하거나 또는 전자빔증착(E-Beam evaporation, EBE)과 같은 진공 증착 장비 또는 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, 플라즈마 화학기상 증착법) 중에서 하나 이상을 이용하여 수행하는 것을 특징으로 한다.The graded deposition step is performed by using at least one of sputtering or vacuum deposition equipment such as E-beam evaporation (E-beam evaporation) or PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) .
상기 경사 증착 단계는, 상기 기판을 경사지게 하여 경사 증착을 수행하거나 또는 증착 타겟(Target, 이는 진공증착 장비인 Sputter의 Target을 말한다) 및 소스(Source, 이는 진공증착 장비인 Evaporator의 증착될 물질을 말한다)를 경사지게 하여 경사 증착을 수행하는 것을 특징으로 한다.The inclined deposition step may be performed by inclining the substrate to perform inclined deposition, or a deposition target (target, which is a target of a sputter which is a vacuum deposition equipment) and a source (a material to be deposited in a vacuum evaporation apparatus, an evaporator) ) Is inclined so that the oblique deposition is performed.
상기 경사 증착 단계에서 경사각은, 수평을 0도라고 할 때 기울어진 기판의각도를 말하며 60~85도 사이인 것을 특징으로 한다. 여기서 증착 기판의 경사각이 60도 미만으로 작을 경우 증착물질에 의한 그림자 효과가 작아지게 되어 Al Rib과 Rib 사이에 증착 물질이 채워 지게 되므로 광학적 특성이 저하 된다. 그래서 본 발명에서의 나노선격자 위에 경사 증착을 할 경우 기판 경사각이 60~85도가 되게 하여 Al Rib 과 Rib 사이에 경사 증착한 물질이 채워 지는 않는 적정한 각인 60~85도 사이로 설정한다.In the tilted deposition step, the inclination angle is an angle of the inclined substrate when the horizontal angle is 0 degree, and is between 60 and 85 degrees. When the inclination angle of the deposition substrate is smaller than 60 degrees, the shadow effect due to the deposition material becomes small, and the deposition property is filled between the Al Rib and the Rib, thereby deteriorating the optical characteristics. Therefore, when oblique deposition is performed on the nanowire grating in the present invention, the inclination angle of the substrate is set to be 60 to 85 degrees, and the appropriate angle between the Al Rib and the Rib is set to be in the range of 60 to 85 degrees.
상기 경사 증착 단계는, 증착 물질로 SiO2, MgF2, TiO2, Al2O3 등을 포함한 산화물 유전체 물질을 이용하는 것을 특징으로 한다.The inclined deposition step is characterized by using an oxide dielectric material containing SiO 2 , MgF 2 , TiO 2, Al 2 O 3, or the like as an evaporation material.
상기 증착 물질은, 굴절률이 SiO2 n=1.3~1.5, MgF2 n=1.2~1.4,TiO2 n=2.3~2.4 , Al2O3 n=1.5~1.7 의 범위인 것을 특징으로 한다.The deposition material has a refractive index in the range of SiO 2 n = 1.3 to 1.5, MgF 2 n = 1.2 to 1.4, TiO 2 n = 2.3 to 2.4, and Al 2 O 3 n = 1.5 to 1.7.
상기 경사 증착 단계는, 증착되는 박막의 성장 각도는 40~70도인 것을 특징으로 한다. 여기서 박막의 성장 각도는 물질 마다 다르며, 본 발명에서의 성장 각도는 경사 증착 각도를 0도로 하여 성장 시킨 박막의 결정 각을 0도로 정하고 그것 대비 경사 각을 박막 성장각 이라 말하는 것이며, 박막 성장 각도는 40도 미만일 경우 Al Rib과 Rib사이에 박막이 채워 지는 현상이 나타난다. 그러므로 본 발명에서는 박막 성장 각도를 40~70도로 설정했다.The inclined deposition step is characterized in that the growth angle of the deposited thin film is 40 to 70 degrees. Here, the growth angle of the thin film differs from substance to substance. In the present invention, the crystal angle of the thin film grown by the oblique deposition angle is 0, and the inclination angle with respect to the crystal angle is referred to as the thin film growth angle. If it is less than 40 degrees, thin film is filled between Al Rib and Rib. Therefore, in the present invention, the growth angle of the thin film is set at 40 to 70 degrees.
상기 경사 증착 단계는, 선격자의 주기, 높이, 스페이스(space)에 의해 증착 높이가 결정되도록 하는 것을 특징으로 한다.The inclined deposition step is characterized in that the deposition height is determined by the period, height, and space of the line grating.
상기 보호 코팅 단계는, SiO2 또는 MgF2 또는 TiO2 또는 Al2O3 등을 포함한 투명 산화물, 테프론, 페를린, 하드 코팅액, 레진, 플랙시블한 필름 중에서 하나 이상을 사용하여 코딩을 수행하는 것을 특징으로 한다.The protective coating step, SiO 2 or MgF 2, or TiO 2, or to a transparent oxide, Teflon, page including Al 2 O 3 Lin, a hard coating liquid, resin, a flexible one or more of the films to perform coding .
또한 본 발명의 일실시예에 의한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자 보호코팅은, 기판(11)과 UV 레진(12)과 금속 리브(13)에 의해 나노 사이즈로 형성된 선격자 기판과; 상기 선격자 기판의 상부에서 경사 증착에 의해 형성된 유전체막(15)과; 상기 유전체 막(15) 상에서 평탄 보호 코팅으로 형성된 평탄 레이어(20);를 포함하여 구성된 것을 특징으로 한다.In addition, the nano metal wire lattice protection coating according to an exemplary embodiment of the present invention includes a
상기 기판(11)은, PET(Poly ethylene terephthalate), 폴리에틸렌 테레프탈레이트) 또는 PC(Polycarbonate, 폴리카보네이트)를 포함한 플랙시블한 투명 필름을 사용하거나 또는 하드(Hard)하고 투명한 유리 기판을 사용한 것을 특징으로 한다.The
상기 유전체막(15)은, 경사각이 60~85도 사이에서 형성된 것을 특징으로 한다. 여기서 증착 기판의 경사각이 작을 경우 그림자 효과(Shadowing Effect)가 작아 Al Rib과 Rib 사이에 증착 물질이 채워 지게 되어 광학적 특성이 저하 된다. 그래서 본 발명에서의 나노선격자 위에 경사 증착을 할 경우 기판 경사각이 60~85도가 되게 하여 Al Rib 과 Rib 사이에 경사 증착한 물질이 채워 지는 않는 적정한 각인 60~85도 사이에서 형성되도록 한다.)The dielectric film (15) is formed at an inclination angle of 60 to 85 degrees. When the inclination angle of the deposition substrate is small, the shadowing effect is small and the deposition property is filled between the Al Rib and the Rib, thereby deteriorating the optical characteristics. Therefore, when oblique deposition is performed on the nanowire grating in the present invention, the inclination angle of the substrate is set to be 60 to 85 degrees, and the inclined deposition angle between the Al Rib and the Rib is formed to be between 60 and 85 degrees.
상기 유전체막(15)은, SiO2, MgF2, TiO2, Al2O3 등을 포함한 산화물 유전체 물 질인 것을 특징으로 한다.The
상기 유전체막(15)은, 굴절률이 SiO2 n=1.3~1.5, MgF2 n=1.2~1.4, TiO2 n=2.3~2.4 , Al2O3 n=1.5~1.7 의 범위인 것을 특징으로 한다.The
상기 평탄 레이어(20)는, 두께에 따라 투과율과 반사율이 차이가 있지만 두께가 100~1000nm인 것을 특징으로 한다.The
상기 나노 금속 선격자 보호코팅은, 광학 부품용 편광자, LCD용의 흡수용 편광자, LCD 백라이트의 휘도 증가용 필름에 적용되는 것을 특징으로 한다.The nano metal wire lattice protective coating is characterized by being applied to polarizers for optical components, absorption polarizers for LCDs, and films for increasing brightness of LCD backlights.
본 발명에 의한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자 보호코팅 및 상부 평탄층 형성 방법은 나노 금속 선 격자를 외부의 물리적/화학적인 손상으로부터 외부로 노출된 나노 금속 선격자를 보호할 수 있으며 또한 광학적 특성 변화를 최소화 하여 바이오 센서 분야, 광학용 편광자 및 디스플레이 분야 중 LCD용 흡수용 편광자 대체용 혹은 광을 리사이클링(Recycling) 하여 휘도를 증가 시키는 휘도 증가용과 같은 LCD용 광학필름 및 각종 편광을 이용한 부품 등에 상업적으로 널리 적용 가능하게 되는 효과가 있게 된다.The nano metal wire lattice protective coating and the upper flat layer formation method by the inclined deposition according to the present invention can protect the nano metal wire lattice exposed to the outside from the physical / chemical damage of the nano metal wire lattice, In the field of biosensors and optics polarizers and displays, it is possible to minimize the change and commercialize optical films for LCDs and various polarized components such as LCDs for absorbing polarizers for LCDs or for increasing brightness by recycling light So that it can be widely applied.
이와 같이 구성된 본 발명에 의한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자 보호 코팅 및 그의 보호 코팅 방법의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 판례 등에 따라 달라질 수 있으며, 이에 따라 각 용어의 의미는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 해석되어야 할 것이다.FIG. 2 is a cross-sectional view of a nano metal wire grid protective coating according to an embodiment of the present invention. FIG. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. It is to be understood that the following terms are defined in consideration of the functions of the present invention, and may be changed according to the intention of the user, the operator, or the precedent, and the meaning of each term should be interpreted based on the contents will be.
먼저 본 발명은 나노 임프린팅 공정에 의해 제작된 나노 금속 선격자를 경사 증착을 통해 나노 금속 선격자의 Al Rib 과 Al Rib 사이에 Air Gap(공기층 n=1)을 유지하는 동시에 추가적인 보호코팅을 형성하여 외부의 물리적/화학적 작용에 의한 손상으로부터 나노 금속 선격자를 보호하고 또한 광학적 특성변화를 최소한으로 하여 나노 금속 선격자로 제작된 센서, 광학 및 디스플레이(Display) 분야의 모든 소자 및 부품을 상업적으로 제한되지 않고 넓은 분야에서 사용 되어 질 수 있도록 내구성 및 광특성을 확보하고자 한 것이다.In the present invention, the nano metal wire grid fabricated by the nanoimprinting process is maintained at an air gap (air layer n = 1) between the Al Rib and the Al Rib of the nano metal wire grid by the tilted deposition, It protects the nano metal wire grid from damage caused by external physical / chemical action and minimizes the change of the optical characteristics. Therefore, all elements and parts of the sensor, optical and display fields made of nano metal wire grid are commercially And is intended to secure durability and optical characteristics so that it can be used in wide fields without limitation.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자의 보호 코팅 방법을 보인 흐름도이다.FIG. 3 is a flowchart illustrating a protective coating method of a nano metal wire grid by tilted deposition according to an embodiment of the present invention.
그래서 본 발명은 선격자 기판 형성 단계(ST1), 경사 증착 단계(ST2), 보호 코팅 단계(ST3)로 이루어진다.Thus, the present invention comprises a linear grid formation step (ST1), a tilted deposition step (ST2), and a protective coating step (ST3).
선격자 기판 형성 단계에서는 나노 금속 선격자의 기판(11)의 상부에 UV 레진(12)이 도포되고 나노 사이즈 몰드로 프레스한 후 투명 기판(11)면에서 UV를 조 사하여 경화시키고, UV 레진(12)의 상부에 리브(13)가 증착되도록 하여 선격자 기판을 형성한다.In the step of forming a line grid substrate, a
또한 경사 증착 단계에서는 나노 금속 선격자의 보호 코팅 방법을 수행할 때 선격자의 기판에서 리브(Rib)와 리브 사이에 경사각 형성에 의한 경사 증착으로 에어 갭(Air Gap)을 형성한다.Also, in the tilted deposition step, an air gap is formed by oblique deposition between the ribs and the ribs on the substrate of the wire grid when the protective coating method of the nano metal wire grid is performed.
도 4는 도 3에서 경사 증착 수행시 경사면을 형성하여 경사 증착을 실행한 예를 보인 개념도이다.FIG. 4 is a conceptual view showing an example in which the inclined surface is formed and the inclined deposition is performed in the inclined deposition in FIG.
그래서 경사각 형성하는 것은 도 4에서와 같이 기판을 경사지게 하여 경사 증착을 수행하거나 또는 증착 타겟(Target) 및 소스(Source)를 경사지게 하여 경사 증착을 수행할 수 있다. 하지만 도 4에서와 같이 기판에 경사면을 주는 것이 더욱 효과적이다.Thus, as shown in FIG. 4, the substrate may be tilted to perform inclined deposition, or the deposition target and the source may be inclined to perform inclined deposition. However, it is more effective to give the substrate an inclined surface as shown in FIG.
또한 경사 증착 방법으로는 스퍼터를 이용하거나 또는 전자빔증착(EBM)과 같은 진공 증착 장비 또는 PECVD 장비를 이용할 수 있다. 도 4에서와 같이 전자빔증착을 사용하는 것이 더욱 선호된다. 이때 Al 리브 사이의 공간에 증착물질이 채워지지 않게 경사각 60~85도를 유지하여 에어 갭(14)을 형성하는 것이 중요하다.As the inclined deposition method, a vacuum deposition apparatus such as a sputter or electron beam deposition (EBM) or a PECVD apparatus may be used. It is more preferred to use electron beam deposition as in Fig. In this case, it is important to maintain the inclination angle of 60 to 85 degrees to form the
유전체막(15)을 형성하게 되는 증착 물질은 투명한 유전체 물질인 SiO2, MgF2, TiO2 등의 산화물 유전체 물질 모두 가능하다. 하지만 통상 널리 쓰이는 Si02나 MgF2 등이 기능적 측면에서 유리하다.The deposition material for forming the
증착 물질은 굴절률이 최대한 낮은 것이 좋으며, MgF2 n=1.2~1.3, SiO2 n=1.3~1.5, TiO2 n=2.3~2.4 , Al2O3 n=1.5~1.7 범위가 적정하다.The refractive index of the deposition material is preferably as low as possible, and MgF 2 n = 1.2 to 1.3, SiO 2 n = 1.3 to 1.5, TiO 2 n = 2.3 to 2.4, and Al 2 O 3 n = 1.5 to 1.7.
경사 증착된 박막의 성장 각도는 40도 이하가 좋으며, 증착 높이는 선격자의 주기, 높이, Space에 따라 적정하게 조절하는 것이 좋다.The growth angle of the obliquely deposited thin film is preferably less than 40 degrees, and the deposition height is suitably adjusted according to the period, height, and space of the line lattice.
경사 증착에 의해 도 4와 같이 Al Rib과 Rib 사이에 유전체 물질이 모두 비스듬히 증착된 후 Al Rib과 Rib 사이인 Space를 모두 막아 Air Gap(14)이 형성되게 한다.As shown in FIG. 4, the dielectric material is obliquely deposited between the Al Rib and the Rib by inclined deposition, and then the space between the Al Rib and the Rib is closed to form the air gap (14).
도 5은 도 3에서 평탄 보호 코팅을 실행하는 예를 보인 개념도이다.FIG. 5 is a conceptual view showing an example of executing the flat protective coating in FIG.
그래서 도 5와 같이 Air Gap이 형성된 샘플 위에 내구성 향상을 위해 평탄 보호 코팅을 시행 한다.Therefore, as shown in FIG. 5, a flat protective coating is applied on a sample having an air gap formed thereon in order to improve durability.
평탄 보호코팅 방법으로는 진공 증착 방법에 의한 투명산화물 종류 또는 Hard Coating액, 테프론 Resin, 플랙시블한 Film 등 모두 가능하며 단, 본 발명에서는 일 예로 진공 증착에 의해 형성 되었으며, 진공 증착 평탄 보호코팅 방법으로는 Sputter, E-beam Evaporation, PECVD 등이 가능하다.As the flat protective coating method, a transparent oxide type by a vacuum deposition method, a hard coating liquid, a Teflon Resin, a flexible film and the like can be used. However, in the present invention, it is formed by vacuum deposition, Sputter, E-beam Evaporation, PECVD, etc. are available.
평탄 증착 물질로는 경사 증착 때 사용한 경사증착 물질과 동일 물질로 하는 것이 제일 좋으며, 상황에 따라 이종 물질로도 할 수 있다. 통상 위에서 제시된 SiO2 또는 MgF2를 일치 시키거나 서로 이종적인 물질을 사용해도 적용 분야에 따라 적용이 가능 할 수 있다.As the flat deposition material, it is best to use the same material as the inclined deposition material used in the inclined deposition, and it may be a heterogeneous material depending on the situation. It is usually possible to apply
평탄 증착 물질은 두께는 본 발명에서 SiO2 기준으로 100~1000nm 정도를 평탄 증착해야 보호코팅으로서 기능을 유지 하며 또한 광 특성 변화를 최소화 할 수 있다.In the present invention, the flat deposition material should be flat deposited to a thickness of about 100 to 1000 nm on the basis of SiO 2 to maintain its function as a protective coating and to minimize the change in optical characteristics.
도 6에서 (a)는 본 발명에서 사용한 샘플의 제작전 모습을 보인 전자현미경 사진이고, (b)는 본 발명에서 사용한 샘플(Air Gap 존재)의 제작 후 모습을 보인 전자현미경 사진이며, (c)는 일반적인 방법에 의해 형성된 샘플(Air Gap 미존재)들의 전자현미경 사진이다. 즉, 도 6의 (a)에서 보는 사진은 보호코팅을 하기 전의 샘플의 모습이며, (b)는 본 발명에 의해 Air Gap이 형성된 샘플의 모습이다 또한 (c)의 그림은 일반적인 방법에 의해 제작된 나노 금속 선격자의 Space에 물질이 채워진 모습이다.6 (a) is an electron microscope photograph showing a state prior to the production of the sample used in the present invention, (b) is an electron micrograph showing a state after production of the sample (air gap present) used in the present invention, and ) Is an electron micrograph of a sample formed by a general method (no air gap). 6 (a) shows a sample before the protective coating, and FIG. 6 (b) shows a sample in which an air gap is formed according to the present invention. The space of the nano metal wire grid is filled with material.
특히 본 발명방법으로 제작된 도 6의 (b)는 Al Rib 위에 경사증착으로 인하여 명백하게 Air Gap 이 형성 되었으며, 나노 금속 선격자 Space에는 증착 물질이 채워 지지 않았다. 또한 내구성 향상을 위한 한 예로 투명한 산화물 박막을 증착 한 결과 Air Gap을 형성하면서도 아주 튼튼한 내구 구조를 갖는 보호코팅막이 형성 되었다.In particular, FIG. 6 (b), which is produced by the method of the present invention, clearly shows air gaps due to inclined deposition on Al Rib, and the nano metal wire grid space is not filled with the deposition material. As an example for improving the durability, a transparent oxide thin film was deposited, forming a protective coating film having a very durable structure while forming an air gap.
도 7에서 (a)는 나노 금속 선격자의 적용 제품군 중 한 예인 LCD용 휘도 증가용 필름에 대한 시뮬레이션 결과를 보인 그래프이고, (b)는 (a)의 실 예를 보인 그래프이다. 이러한 도 7은 나노 금속 선격자의 적용 제품군 중 한 예인 LCD용 휘도 증가용 필름에 관한 시뮬레이션 결과 및 실 예를 보인 것이다.7 (a) is a graph showing a simulation result of a luminance enhancement film for LCD, which is one example of a product line of a nano metal wire grating, and FIG. 7 (b) is a graph showing a practical example of (a). FIG. 7 shows a simulation result and a practical example of a luminance enhancement film for LCD, which is one example of a product family of nano metal wire gratings.
그래서 도 7의 (a)는 광학 시뮬레이션 결과로서, 파란색 라인(33)인 샘플#3의 그래프가 선격자의 Al Rib과 Rib 사이인 Space에 다른 물질이 조금이라도 채워진 조건으로 휘도 증가률이 단파장으로 갈수록 급격하게 감소하는 현상을 보인다. 이러한 결과는 광학제품으로 사용하기에는 아주 부적합 하다는 것을 대변한다.7 (a) shows the result of the optical simulation. As the graph of
도 7의 (b)는 본 발명 방법으로 제작된 샘플을 실제 LCD BLU(Liquid Crystal Display Back Light Unit)에 적용하여 광학 측정을 한 결과이다. 도 7의 (b)에서 참조번호 41, 42, 43은 도 7의 (a)에서의 31, 32, 33과 각각 대응된다. 실제 측정에서 본 발명에 의한 방법으로 제작한 샘플의 분홍색라인(42)은 보호코팅을 하지 않은 샘플과 거의 동등한 휘도를 보여 거의 변화 없는 것으로 측정 되었다. 반면 Air Gap이 형성 되지 않은 샘플인 녹색계열선(43)은 시뮬레이션 결과와 같이 휘도가 감소하는 현상이 발생 했다.7 (b) is a result of optical measurement by applying a sample manufactured by the method of the present invention to an actual LCD BLU (Liquid Crystal Display Back Light Unit). In FIG. 7B,
도 8은 보호 코팅 처리된 샘플에 대해 연필 경도 스크래치 테스트를 한 결과를 보인 것으로, (a)는 보호 코팅을 하지 않은 샘플이며, (b)는 본 발명에 의한 샘플(Air Gap 존재)이고, (c)는 일반적인 방법(Air Gap 미존재)에 의한 샘플이다.Fig. 8 shows the results of a pencil hardness scratch test on a sample coated with a protective coating, wherein (a) is a sample without protective coating, (b) is a sample according to the present invention (presence of air gap) c) is a sample by the general method (no air gap).
도 8의 a, b, c에서 보는 것과 같이 동일 하중에서 본 발명방법에 의해 제작된 샘플은 보호코팅을 형성하지 않은 것보다 내스크래치성이 우수하다는 것을 알 수 있다.As can be seen from FIGS. 8 (a), 8 (b) and 8 (c), it can be seen that the samples prepared by the method of the present invention at the same load have better scratch resistance than those without a protective coating.
이처럼 본 발명은 나노 금속 선 격자를 외부의 물리적/화학적인 손상으로 부터 외부로 노출된 나노 금속 선격자를 보호할 수 있으며 또한 광학적 특성 변화를 최소화 하여 광학용 편광자 및 디스플레이 분야 중 LCD용 흡수용 편광자 대체용 혹은 광을 리사이클링 하여 휘도를 증가 시키는 휘도 증가용과 같은 LCD용 광학필름 및 각종 편광을 이용한 부품 등에 상업적으로 널리 적용 가능하게 되는 것이다.As described above, the present invention can protect the nano metal wire grating exposed to the outside from physical / chemical damage of the nano metal wire grating and minimize the change of the optical characteristics. Thus, it is possible to provide an optical polarizer and an absorption polarizer It can be widely applied to an optical film for an LCD such as a liquid crystal display, a liquid crystal display, a liquid crystal display, or the like.
이상에서 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형실시될 수 있다. 따라서 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술적 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술적 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not to be limited to the details thereof, and various changes and modifications may be made without departing from the spirit and scope of the invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but are intended to illustrate and not limit the scope of the technical spirit of the present invention. The scope of protection of the present invention should be construed according to the claims, and all technical ideas which are within the scope of the same should be interpreted as being included in the scope of the present invention.
도 1은 일반적인 선격자 편광자의 원리 및 구조를 보인 개념도이다.1 is a conceptual diagram showing the principle and structure of a general line grating polarizer.
도 2는 종래 선격자 편광자를 보인 개념도이다.2 is a conceptual diagram showing a conventional linear grating polarizer.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 경사 증착에 의한 나노 금속 선격자의 보호 코팅 방법을 보인 흐름도이다.FIG. 3 is a flowchart illustrating a protective coating method of a nano metal wire grid by tilted deposition according to an embodiment of the present invention.
도 4는 도 3에서 경사 증착 수행시 경사면을 형성하여 경사 증착을 실행한 예를 보인 개념도이다.FIG. 4 is a conceptual view showing an example in which the inclined surface is formed and the inclined deposition is performed in the inclined deposition in FIG.
도 6은 도 3에서 평탄 보호 코팅을 실행하는 예를 보인 개념도이다.FIG. 6 is a conceptual view showing an example of performing the flat protective coating in FIG.
도 7에서 (a)는 본 발명에서 사용한 샘플의 제작전 모습을 보인 전자현미경 사진이고, (b)는 본 발명에서 사용한 샘플(Air Gap 존재)의 제작후 모습을 보인 전자현미경 사진이며, (c)는 일반적인 방법에 의해 형성된 샘플(Air Gap 미존재)들의 전자현미경 사진이다.7 (a) is an electron microscope photograph showing a state prior to the production of the sample used in the present invention, (b) is an electron micrograph showing a state after the production of the sample (air gap present) used in the present invention, and ) Is an electron micrograph of a sample formed by a general method (no air gap).
도 8에서 (a)는 나노 금속 선격자의 적용 제품군 중 한 예인 LCD용 휘도 증가용 필름에 대한 시뮬레이션 결과를 보인 그래프이고, (b)는 (a)의 실 예를 보인 그래프이다.8 (a) is a graph showing a simulation result of a luminance enhancement film for LCD, which is one example of a product family of a nano metal wire grating, and FIG. 8 (b) is a graph showing a practical example of (a).
도 9는 보호 코팅 처리된 샘플에 대해 연필 경도 스크래치 테스트를 한 결과를 보인 것으로, (a)는 보호 코팅을 하지 않은 샘플이며, (b)는 본 발명에 의한 샘플(Air Gap 존재)이고, (c)는 일반적인 방법(Air Gap 미존재)에 의한 샘플이다.Fig. 9 shows the results of a pencil hardness scratch test on a sample coated with a protective coating, wherein (a) is a sample without protective coating, (b) is a sample according to the present invention (presence of air gap) c) is a sample by the general method (no air gap).
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Description of the Related Art [0002]
10 : 경사 레이어10: Slope layer
11 : 기판(PET 등)11: substrate (PET or the like)
12 : UV 레진12: UV resin
13 : 리브(Al 등)13: rib (Al, etc.)
14 : 에어 갭14: air gap
15 : 유전체막(SiO2 등)15: a dielectric film (SiO 2, etc.)
16 : 소스16: source
20 : 평탄 레이어20: Flat layer
Claims (17)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080025556A KR101467281B1 (en) | 2008-03-19 | 2008-03-19 | Apparatus for nano metal wire grid by oblique deposition and method for protection coating thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020080025556A KR101467281B1 (en) | 2008-03-19 | 2008-03-19 | Apparatus for nano metal wire grid by oblique deposition and method for protection coating thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090100133A KR20090100133A (en) | 2009-09-23 |
| KR101467281B1 true KR101467281B1 (en) | 2014-12-02 |
Family
ID=41358543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080025556A KR101467281B1 (en) | 2008-03-19 | 2008-03-19 | Apparatus for nano metal wire grid by oblique deposition and method for protection coating thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101467281B1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200017204A (en) * | 2018-08-08 | 2020-02-18 | 국방과학연구소 | Preparation method of wire grid polarizer using oblique angle deposition and wire grid polarizer prepared thereby |
| KR20210003322A (en) * | 2019-07-01 | 2021-01-12 | 한국생산기술연구원 | Color implementing method of metal surface and surface color implemented metal panel by tilted dry thin film deposition process |
| KR20230016434A (en) | 2021-07-26 | 2023-02-02 | 고려대학교 산학협력단 | Method for fabricating nano structure and photocatalyst device using oblique angle deposition and photocatalyst device using the same method |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101244006B1 (en) * | 2011-06-28 | 2013-03-15 | 중앙대학교 산학협력단 | Florescence signal amplication substrate |
| KR101243634B1 (en) * | 2011-06-30 | 2013-03-15 | 포항공과대학교 산학협력단 | A method of manufacturing substrate for surface-enhanced raman scattering spectroscope and the substrate manufactured by the method |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH077130B2 (en) * | 1988-06-10 | 1995-01-30 | トヨタ自動車株式会社 | Birefringent plate |
| JP2006003447A (en) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Sony Corp | Polarized light separating element and manufacturing method thereof |
| JP2007033558A (en) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Nippon Zeon Co Ltd | Grid polarizer and its manufacturing method |
-
2008
- 2008-03-19 KR KR1020080025556A patent/KR101467281B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH077130B2 (en) * | 1988-06-10 | 1995-01-30 | トヨタ自動車株式会社 | Birefringent plate |
| JP2006003447A (en) * | 2004-06-15 | 2006-01-05 | Sony Corp | Polarized light separating element and manufacturing method thereof |
| JP2007033558A (en) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Nippon Zeon Co Ltd | Grid polarizer and its manufacturing method |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20200017204A (en) * | 2018-08-08 | 2020-02-18 | 국방과학연구소 | Preparation method of wire grid polarizer using oblique angle deposition and wire grid polarizer prepared thereby |
| KR102115336B1 (en) * | 2018-08-08 | 2020-06-05 | 국방과학연구소 | Preparation method of wire grid polarizer using oblique angle deposition and wire grid polarizer prepared thereby |
| KR20210003322A (en) * | 2019-07-01 | 2021-01-12 | 한국생산기술연구원 | Color implementing method of metal surface and surface color implemented metal panel by tilted dry thin film deposition process |
| KR102240121B1 (en) | 2019-07-01 | 2021-04-15 | 한국생산기술연구원 | Color implementing method of metal surface and surface color implemented metal panel by tilted dry thin film deposition process |
| KR20230016434A (en) | 2021-07-26 | 2023-02-02 | 고려대학교 산학협력단 | Method for fabricating nano structure and photocatalyst device using oblique angle deposition and photocatalyst device using the same method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20090100133A (en) | 2009-09-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| USRE48640E1 (en) | Polarizing element and liquid crystal projector | |
| JP2902456B2 (en) | Inorganic polarizing thin film | |
| CN102438822B (en) | Transparent conductive laminate and transparent touch panel | |
| TWI387977B (en) | A crystalline transparent conductive film, a method for producing the same, a transparent conductive film, and a touch panel | |
| Fang et al. | ITO/Au/ITO sandwich structure for near-infrared plasmonics | |
| US20080186576A1 (en) | Polarizing element and liquid crystal projector | |
| KR101467281B1 (en) | Apparatus for nano metal wire grid by oblique deposition and method for protection coating thereof | |
| US10962698B2 (en) | Inorganic polarizing plate | |
| KR20150007247A (en) | Polarizing plate and method of manufacturing the same | |
| WO2009104861A1 (en) | Wire grid polarizer and manufacturing method thereof | |
| TW201213132A (en) | Optical laminate, polarizer and display device | |
| JP2018501410A (en) | Window film and manufacturing method thereof | |
| Peres et al. | ZnS| Ag| TiO 2 multilayer electrodes with broadband transparency for thin film solar cells | |
| Kim et al. | Electronic and optical properties of indium zinc oxide thin films prepared by using nanopowder target | |
| Suzuki et al. | Low-reflective wire-grid polarizers with absorptive interference overlayers | |
| Hong et al. | Enhanced properties of In2O3–ZnO thin films deposited on soda lime glass due to barrier layers of SiO2 and TiO2 | |
| Hurand et al. | Anisotropic optical properties of indium tin oxide thin films prepared by ion beam sputtering under oblique angle deposition | |
| JP2012025066A (en) | Transparent conductive film | |
| Htwe et al. | Ultrafast carrier dynamics and third order nonlinear optical properties of aluminum doped zinc oxide (AZO) thin films | |
| Stach et al. | Post-lithography pattern modification and its application to a tunable wire grid polarizer | |
| KR102313377B1 (en) | Anti-glare film and display apparatus | |
| Çetinörgü | Characteristics of filtered vacuum arc deposited ZnO–SnO2 thin films on room temperature substrates | |
| Tripathi et al. | Annealing dependent evolution of columnar nanostructures in RF magnetron sputtered PTFE films for hydrophobic applications | |
| KR20180075968A (en) | Nano wire grid polarizer and display device empolying the same | |
| KR102350469B1 (en) | Anti-glare film, polarizing plate and display apparatus |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |