KR101441493B1

KR101441493B1 - Measuring method for membrane fouling index

Info

Publication number: KR101441493B1
Application number: KR1020140006249A
Authority: KR
Inventors: 홍승관; 홍일구; 주영길
Original assignee: 두산중공업 주식회사
Priority date: 2014-01-17
Filing date: 2014-01-17
Publication date: 2014-09-17
Also published as: KR20140016417A

Abstract

본 발명은 여과막 오염 지수 측정 장치에 관한 것으로서,측정 대상 원수를 공급하는 원수 공급부; 상호 상이한 여과 특성을 갖는 복수의 여과막; 상기 원수 공급부에 대해 상기 복수의 여과막을 상호 병렬로 연결하는 경로 라인; 상기 복수의 여과막에 각각 대응하여 상기 각 여과막의 유출 측에 설치되어, 상기 각 여과막을 통과한 원수의 유량을 측정하는 복수의 유량 측정부; 상기 복수의 여과막 중 적어도 어느 하나의 유입 측에 설치되며, 해당 여과막과 상이한 여과 특성을 갖는 적어도 하나의 보조 여과막; 상기 각 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 각 여과막의 오염 지수를 측정하는 오염 지수 측정부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라 구조가 단순하여 해수 담수화 플랜트에 적용하거나 휴대용 측정 장비에 적용하기 적합하고, 측정의 정확성을 보장하면서도 상대적인 측정 시간을 단축할 수 있다.The present invention relates to an apparatus for measuring a filter film contamination index, comprising: a raw water supply unit for supplying raw water to be measured; A plurality of filtration membranes having mutually different filtration characteristics; A path line connecting the plurality of filter membranes to the raw water supply unit in parallel; A plurality of flow rate measurement units provided on the outflow side of the respective filtration membranes respectively corresponding to the plurality of filtration membranes and measuring a flow rate of raw water passing through the respective filtration membranes; At least one auxiliary filtration membrane provided on an inlet side of at least one of the plurality of filtration membranes and having filtration characteristics different from the filtration membranes; And a pollution index measuring unit for measuring a pollution index of each of the filter membranes based on the flow rate measured by each of the flow rate measuring units. Accordingly, the structure is simple and suitable for a seawater desalination plant or a portable measurement instrument, and the relative measurement time can be shortened while ensuring accuracy of measurement.

Description

여과막 오염 지수 측정 방법{MEASURING METHOD FOR MEMBRANE FOULING INDEX}[MEASURING METHOD FOR MEMBRANE FOULING INDEX]

본 발명은 여과막 오염 지수 측정 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 역삼투 방식을 이용한 해수담수화 공정이나 나노 여과공정 등에서 입자물질, 콜로이드 및 유기물 등에 의해 발생하는 여과막의 오염 현상을 보다 정확하게 사전에 측정 가능할 수 있는 여과막 오염 지수 측정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a filtration membrane contamination index measuring apparatus, and more particularly, to a filtration membrane contamination index measuring apparatus capable of accurately measuring a contamination phenomenon of a filtration membrane caused by particulate matter, colloid, organic matter, etc. in a seawater desalination process or a nanofiltration process using a reverse osmosis And to a device for measuring a filter membrane contamination index.

역삼투 방식 또는 나노 여과공정은 최근 다양한 수처리 분야에서 주목받고 있는 기술 분야 중 하나이다. 특히, 근래에는 해수담수화나 하수재 이용분야에서 역삼투 방식을 이용한 공정이 확대되고 있는 추세이다.Reverse osmosis or nanofiltration processes are one of the technology fields that have recently attracted attention in various water treatment fields. In recent years, processes using reverse osmosis have been expanding in the fields of seawater desalination and sewage treatment.

GWI(Global Water Intelligence)의 "Water Reuse Markets 2005-2015 : A Global Assessment & Forecast"에 따르면 물의 재이용 시장은 세계적으로 볼 때, 현재 200 만톤/일 규모이고, 2015년에는 540 만톤/일 규모로 성장할 것으로 전망하고 있다. 또한, 해수담수화 시장은 현재 300 만톤/일 규모이며 2015년에는 620 만톤/일 규모로 성장할 것으로 전망하고 있다. 이외에도 지표수 및 지하수의 처리, 산업 폐수의 처리 및 무방류 재이용 등의 분야에서 역삼투 방식이나 나노 여과공정은 주목받고 있는 고도한 기술의 수처리 방법이다. According to GWI's "Water Reuse Markets 2005-2015: A Global Assessment & Forecast," the water reuse market is expected to grow to 2 million tons per day globally and 5.4 million tons per day by 2015 . In addition, the seawater desalination market is currently estimated at 3 million tons / day and will grow to 6.2 million tons / day by 2015. In addition, reverse osmosis and nanofiltration processes are highly sophisticated water treatment methods in the fields of surface and groundwater treatment, industrial wastewater treatment and non-fired reuse.

그런데, 역삼투 방식이나 나노 여과공정의 기술을 상용화하거나 현장에 설치하여 운영하기에 장애로 작용하는 것이 여과막의 오염 문제, 즉 막오염 문제이다. 막오염이란 여과막에 유입되는 유입수 중에 존재하는 여러 가지 이물질들이 여과막의 표면에 침착되거나 흡착되어 여과막의 물투과도를 감소시키는 현상을 의미한다.However, the problem of membrane filtration, ie, membrane contamination, is an obstacle to the commercialization of reverse osmosis and nanofiltration processes or the installation and operation of the technology. Membrane contamination refers to a phenomenon in which various foreign substances present in the inflow water flowing into the filtration membrane are deposited or adsorbed on the surface of the filtration membrane to reduce the water permeability of the filtration membrane.

이와 같은 막오염을 유발하는 이물질의 종류로는 부유성 입자, 콜로이드, 유기물, 미생물, 칼슘염 등의 무기염 등 다양한 종류가 있다. 이처럼 막오염을 유발하는 다양한 이물질 때문에 막오염 현상을 미리 예측한다는 것은 상당히 어려운 일이다.There are various kinds of foreign substances such as floating particles, colloids, organic matters, microorganisms, inorganic salts such as calcium salts, and the like. It is very difficult to anticipate membrane contamination due to various foreign substances that cause membrane pollution.

일반적으로 역삼투 방식 또는 나노 여과공정에서의 막오염 현상을 미리 예측하기 위한 방법으로는 SDI(Silt Density Index) 측정방법이 사용되고 있다. SDI 측정방법은 분리막에 오염(fouling)이 일어날 수 있는 가능성을 나타내는 척도로 이용되는데, 직경이 47 mm, 공극이 0.45 ㎛의 필터에 30 psi의 압력으로 유입수를 통과시켜 부유물(SS; Suspended Solid) 성분에 의해 일어나는 오염의 정도를 측정하는 방법이다.In general, the SDI (Silt Density Index) measurement method is used as a method for predicting the membrane contamination phenomenon in the reverse osmosis or nanofiltration process. The SDI measurement method is used as a measure of the possibility of fouling in the membrane. The SSI (Suspended Solid) is passed through a filter having a diameter of 47 mm and a pore size of 0.45 μm at a pressure of 30 psi. It is a method of measuring the degree of contamination caused by a component.

이 때, 처음 500 ml의 물이 흐르는데 걸리는 시간(T₀)을 측정하고, 15분(T)이 지난 후 다시 500 ml의 물이 흐르는데 걸리는 시간(T₁)을 측정하여, 측정된 두 시간의 비율을 막오염의 척도로 사용하고 있다.At this time, the time (T ₀ ) required for the first 500 ml of water to flow is measured, and the time (T ₁ ) required for 500 ml of water to flow again after 15 minutes (T) The ratio is just used as a measure of pollution.

SDI 측정방법은 현재 역삼투 방식 또는 나노 여과공정에서 유입수의 막오염 경향을 예측하기 위해 가장 널리 사용되는 방법이다. 일반적으로 SDI 측정방법에 따라 측정된 값, 즉 측정된 SID 값이 3 미만이면 오염은 심하지 않은 것으로 판단하고, 5 이상이 될 경우 심한 오염이 발생될 것으로 판단하게 된다.The SDI measurement method is the most widely used method for predicting the membrane contamination tendency of influent in current reverse osmosis or nanofiltration processes. In general, if the measured value according to the SDI measurement method, that is, the measured SID value is less than 3, it is judged that the contamination is not severe, and if it is 5 or more, the severe contamination is judged to occur.

그런데, 상술한 SDI 측정방법은 역삼투 여과막(RO membrane)에서 일어나는 것과 동일한 현상을 이용하는 것이 아니라는 데 한계점이 있다. 즉, SDI 측정방법은 0.45 ㎛ 이상의 크기를 가지는 부유성 입자에 의한 막오염 가능성을 간접적으로 평가하는 방법이므로, SDI 측정방법으로는 0.45 ㎛ 미만의 크기를 가지는 콜로이드나 유기물 등과 같은 미세물질에 의한 영향을 평가할 수 없게 된다.However, the above-described SDI measurement method has a limitation in that it does not use the same phenomenon as occurs in the RO membrane. That is, since the SDI measurement method indirectly evaluates the possibility of membrane contamination by floating particles having a size of 0.45 쨉 m or more, the SDI measurement method is limited to the influence of micro-materials such as colloid or organic material having a size of less than 0.45 탆 Can not be evaluated.

또한, 역삼투 방식이나 나노 여과공정에서는 크로스-플로우(Cross-flow) 모드, 즉 유입수가 흐르는 방향과 여과막의 투과 방향이 서로 직교하는 방향으로 운전되기 때문에, 막오염의 주요 특성인 유발 물질의 표면특성들은 SDI 측정방법으로는 측정이 불가능하게 된다. 따라서, SDI 측정방법에 따라 측정된 측정값과 실제 공정에서의 운전결과는 상이하다는 것이 많은 연구에서 밝혀졌다.In the reverse osmosis or nanofiltration process, the cross-flow mode, that is, the direction in which the influent flows and the direction in which the filtration membrane is permeated are orthogonal to each other. Therefore, The characteristics can not be measured by the SDI measurement method. Therefore, it has been found in many studies that the measurement values measured according to the SDI measurement method are different from the operation results in the actual process.

이와 같은 문제점을 갖고 있는 SDI 측정방법을 보완하기 위한 방법으로 MFI(Modified fouling index) 측정방법 등이 사용되지만, 기본적으로 MFI 측정방법과 SDI 측정방법은 동일한 여과막을 이용하기 때문에, 측정할 수 있는 막오염 물질에 대한 한계를 가지게 된다.In order to supplement the SDI measurement method having such a problem, a modified fouling index (MFI) measurement method or the like is used. Basically, since the MFI measurement method and the SDI measurement method use the same filtration membrane, They have limitations on pollutants.

이를 극복하기 위해서 MFI-UF (Modified fouling index - Ultrafilter)나 MFI-NF (Modified fouling index - Nanofilter) 등의 방법이 제안되었으나, 이러한 방법 또한, 한 개의 막을 사용하기 때문에 여과막에서 발생될 수 있는 다양한 종류의 막오염 경향을 모두 예측할 수는 없다.In order to overcome this problem, a method such as MFI-UF (Modified Fouling Index-Ultrafilter) or MFI-NF (Modified Fouling Index-Nanofilter) has been proposed. However, since this method also uses one membrane, Can not be predicted.

이에, 본 출원인은 기출원되어 등록된 한국등록특허 제106901호에서 "막오염 지수 측정장치"를 제안하였다. 상기 한국등록특허에 개시된 막오염 지수 측정장치는 역삼투막 또는 나노 여과막을 이용하는 수처리 공정에서 친수성 및 소수성 입자물질 및 콜로이드, 유기물 등에 의한 막의 오염현상을 사전에 예측하기 위한 막오염 지수 측정장치로, 친수성 정밀 여과막과 소수성 정밀 여과막 및 한외 여과막 등 다수 개의 다른 여과막을 조합하여 역삼투 또는 나노 여과막 여과공정의 유입수 내에 존재하는 다양한 종류의 막오염 물질의 막오염 세기를 정량화할 수 있게 구성한데 특징이 있다.Accordingly, the present applicant proposed a " device for measuring a film contamination index "in Korean Registered Patent No. 106901, which is registered and registered. The membrane contamination index measuring apparatus disclosed in the Korean patent is a film contamination index measuring apparatus for predicting the contamination phenomenon of hydrophilic and hydrophobic particulate matter, colloid, organic matter and the like in a water treatment process using a reverse osmosis membrane or a nanofiltration membrane, The filtration membrane, the hydrophobic microfiltration membrane and the ultrafiltration membrane are combined to quantify the membrane contamination intensities of various kinds of membrane contaminants existing in the inflow water of the reverse osmosis membrane or the nanofiltration membrane filtration process.

상기 한국등록특허는 병렬 방식이라는 점에서 측정이 간단하고 막 오염원의 특성에 따른 평가가 가능하다는 점에서 장점이 있으나, 막 오염원에 따른 분리와 그에 따른 평가가 어렵다는 점에서 부족한 부분이 있다.The Korean patent is advantageous in that it can be easily measured and evaluated according to the characteristics of the membrane pollution source because it is a parallel method, but it is insufficient in that it is difficult to separate and evaluate according to the membrane pollution source.

또한, 본 출원인은 기출원되어 공개된 한국공개특허 제2011-0089710호를 통해 "여과막 오염 지수 예측 장치"를 제시하였다. 상기 한국공개특허에서는 상호 상이한 여과 특성을 갖는 복수의 여과막을 직렬 방식으로 연결하여, 막 오염원별로 분리와 그에 따른 평가를 구현하였다. 그런데, 여과막, 펌프, 탱크가 3개가 필요하고, 직렬 구조라는 점에서 측정 시간이 상대적으로 긴 단점이 있다.In addition, the present applicant has proposed "a device for predicting a filtration membrane pollution index " through Korea Publication No. 2011-0089710, which is publicly disclosed. In Korean Unexamined Patent Publication (KOKAI), a plurality of filtration membranes having different filtration characteristics are connected in series to separate and evaluate membrane contamination sources. However, three filtration membranes, pumps, and tanks are required, and the measurement time is relatively long because of the series structure.

이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 역삼투 방식을 이용한 해수담수화 공정이나 나노 여과공정 등에서 입자물질, 콜로이드 및 유기물 등 다양한 이물질에 의한 여과막의 오염현상을 보다 정확하게 사전에 예측 가능하고, 친수성 정밀 여과막(MF), 친수성 한외 여과막(UF) 및 친수성 나노 여과막(NF) 등의 여과막 조합을 통하여 해수 내에 존재하는 다양한 종류의 막오염 물질의 막오염 정도를 정량화할 수 있는 여과막 오염 지수 측정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a method and apparatus for accurately and accurately detecting contamination of a filtration membrane by various foreign substances such as particulate matter, colloids, and organic substances in a seawater desalination process or a nanofiltration process using a reverse osmosis Predictable, filtration membranes that can quantify the degree of membrane contamination of various types of membrane contaminants present in seawater through a combination of filtration membranes such as hydrophilic microfiltration membranes (MF), hydrophilic ultrafiltration membranes (UF), and hydrophilic nanofiltration membranes (NF) The object of the present invention is to provide a pollution index measuring apparatus.

또한, 구조가 단순하여 해수 담수화 플랜트에 적용하거나 휴대용 측정 장비에 적용하기 적합하고, 측정의 정확성을 보장하면서도 상대적인 측정 시간을 단축할 수 있는 여과막 오염 지수 측정 장치를 제공하는데 또 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a filtration membrane contamination index measuring apparatus which is simple in construction and suitable for application to a seawater desalination plant or portable measurement equipment and which can shorten relative measurement time while ensuring accuracy of measurement.

상기 목적은 본 발명에 따라, 측정 대상 원수를 공급하는 원수 공급부와; 상호 상이한 여과 특성을 갖는 복수의 여과막과; 상기 원수 공급부에 대해 상기 복수의 여과막을 상호 병렬로 연결하는 경로 라인과; 상기 복수의 여과막에 각각 대응하여 상기 각 여과막의 유출 측에 설치되어, 상기 각 여과막을 통과한 원수의 유량을 측정하는 복수의 유량 측정부와; 상기 복수의 여과막 중 적어도 어느 하나의 유입 측에 설치되며, 해당 여과막과 상이한 여과 특성을 갖는 적어도 하나의 보조 여과막과; 상기 각 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 각 여과막의 오염 지수를 측정하는 오염 지수 측정부를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for measuring an amount of water, comprising: a raw water supply unit for supplying raw water to be measured; A plurality of filtration membranes having different filtration characteristics; A path line connecting the plurality of filter membranes to the raw water supply unit in parallel; A plurality of flow measuring portions provided on the outflow side of the respective filtration membranes respectively corresponding to the plurality of filtration membranes and measuring the flow rate of the raw water having passed through the respective filtration membranes; At least one auxiliary filtration membrane provided on an inlet side of at least one of the plurality of filtration membranes and having different filtration characteristics from the filtration membranes; And a pollution index measuring unit for measuring a pollution index of each of the filter membranes based on the flow rate measured by each of the flow rate measuring units.

여기서, 상기 보조 여과막은, 상기 복수의 여과막 중 하나의 여과막과 동일한 여과특성을 가질 수 있다.Here, the auxiliary filter membrane may have the same filtration characteristics as one of the plurality of filtration membranes.

또한, 상기 복수의 여과막은 상호 상이한 공극 크기를 가지며; 상기 보조 여과막의 공극 크기는 상기 복수의 여과막 중 하나의 여과막과 동일한 공극 크기를 가지되 해당 여과막의 공극 크기보다 크게 마련될 수 있다.Further, the plurality of filtration membranes have different pore sizes; The pore size of the auxiliary filter membrane may be the same as that of one of the plurality of filter membranes and may be larger than the pore size of the filtration membrane.

그리고 상기 복수의 여과막은 친수성 여과막일 수 있다.The plurality of filtration membranes may be hydrophilic filtration membranes.

그리고, 상기 각 여과막의 유입 측에 설치되어 해당 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 압력 조절기를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a pressure regulator provided on an inlet side of each filtration membrane to regulate the pressure of raw water flowing into the filtration membrane.

한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 실시 형태에 따라, 측정 대상 원수를 공급하는 원수 공급부와; 제1 여과막과; 상기 원수 공급부와 상기 제1 여과막을 연결하는 원수 공급 라인과; 유량을 측정하는 제1 유량 측정부와; 상기 제1 여과막과 상기 제1 유량 측정부를 연결하는 제1 경로 라인과; 상기 제1 경로 라인과 병렬로 연결되는 제2 경로 라인과; 상기 제2 경로 라인 상에 설치되고, 상기 제1 여과막과 상이한 여과 특성을 갖는 제2 여과막과; 상기 원수 공급부로부터의 원수가 상기 제1 여과막을 통과하여 상기 제1 유량 측정부로 유동하는 제1 측정 경로와, 상기 원수 공급부로부터의 원수가 상기 제1 여과막 및 상기 제2 여과막을 순차적으로 통과하여 상기 제1 유량 측정부로 유동하는 제2 측정 경로가 선택적으로 형성되도록 상기 제2 여과막에 대해 병렬로 상기 제1 경로 라인 상에 설치되는 제1 경로 선택 밸브와; 상기 제1 측정 경로와 상기 제2 측정 경로 각각에 대해 상기 제1 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 제1 여과막 및 상기 제2 여과막의 오염 지수를 측정하는 오염 지수 측정부를 포함할 수 있다.According to another aspect of the present invention, the above objects are accomplished by a water supply system comprising: a raw water supply unit for supplying raw water to be measured; A first filter membrane; A raw water supply line connecting the raw water supply unit and the first filtration membrane; A first flow rate measuring unit for measuring a flow rate; A first path line connecting the first filtration membrane and the first flow rate measurement unit; A second path line connected in parallel with the first path line; A second filtration membrane disposed on the second path line and having a filtration characteristic different from that of the first filtration membrane; A first measurement path through which raw water from the raw water supply unit passes through the first filtration membrane and flows to the first flow rate measurement unit, and a second measurement path through which raw water from the raw water supply unit sequentially passes through the first filtration membrane and the second filtration membrane, A first path selection valve installed on the first path line in parallel with the second filtration film so that a second measurement path that flows to the first flow measurement unit is selectively formed; And a contamination index measuring unit for measuring a pollution index of the first filtration membrane and the second filtration membrane based on the flow rate measured by the first flow rate measurement unit for each of the first measurement path and the second measurement path have.

여기서, 상기 제1 여과막의 공극은 상기 제2 여과막의 공극보다 크게 마련될 수 있다.Here, the gap of the first filtration film may be larger than the gap of the second filtration film.

그리고, 상기 원수 공급 라인의 상기 제1 여과막의 유입 측에 설치되어 상기 제1 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제1 압력 조절기와; 상기 제1 압력 조절기가 바이패스되도록 상기 원수 공급 라인과 연결되는 제1 바이패스 라인과; 상기 제1 바이패스 라인에 설치되고, 상기 제1 측정 경로의 형성시 폐쇄되고, 상기 제2 측정 경로의 형성시 개방되는 제1 바이패스 밸브를 더 포함할 수 있다.A first pressure regulator provided on an inlet side of the first filtration membrane of the raw water supply line to regulate the pressure of raw water flowing into the first filtration membrane; A first bypass line connected to the raw water supply line such that the first pressure regulator is bypassed; And a first bypass valve installed at the first bypass line and closed at the time of forming the first measurement path and opened at the time of forming the second measurement path.

그리고, 상기 제2 경로 라인의 상기 제2 여과막의 유입 측에 설치되어 상기 제2 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제2 압력 조절기를 더 포함할 수 있다.The apparatus may further include a second pressure regulator provided on an inlet side of the second filtration membrane of the second path line to regulate the pressure of the raw water flowing into the second filtration membrane.

또한, 상기 제2 경로 라인은 상기 제2 여과막의 유입 측을 형성하는 제2 유입 경로 라인과, 상기 제2 여과막의 유출 측을 형성하는 제2 유출 경로 라인을 포함하며; 상기 제2 유출 경로 라인과 병렬로 연결되는 제3 경로 라인과, 상기 제3 경로 라인 상에 설치되고, 상기 제2 여과막보다 작은 크기의 공극을 갖는 제3 여과막과, 상기 제1 경로 선택 밸브가 폐쇄된 상태에서, 상기 원수 공급부로부터의 원수가 상기 제1 여과막, 상기 제2 여과막 및 상기 제3 여과막을 순차적으로 통과하여 상기 제1 유량 측정부로 유동하는 제3 측정 경로가 형성되도록 상기 제3 여과막에 대해 병렬로 상기 제2 경로 라인 상에 설치되는 제2 경로 선택 밸브를 더 포함하며; 상기 유량 측정부는 상기 제3 측정 경로에 대해 상기 제1 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 제3 여과막의 오염 지수를 측정할 수 있다.The second path line may include a second inflow path line forming the inflow side of the second filtration film and a second outflow path line forming the outflow side of the second filtration film; A third filtration membrane disposed on the third filtration line and having a pore size smaller than that of the second filtration membrane, and a third filtration membrane disposed on the third filtration membrane, The first filtration membrane, the second filtration membrane, and the third filtration membrane in order to form a third measurement path through which the raw water from the raw water supply unit sequentially passes through the first filtration membrane, Further comprising: a second path selection valve installed on the second path line in parallel to the second path selection line; The flow rate measuring unit may measure the contamination index of the third filtration film on the basis of the flow rate measured by the first flow rate measuring unit with respect to the third measurement path.

그리고, 상기 제2 유입 경로 라인에 설치되어 상기 제2 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제2 압력 조절기와; 상기 제2 압력 조절기가 바이패스되도록 상기 제2 유입 경로 라인과 연결되는 제2 바이패스 라인과; 상기 제2 바이패스 라인에 설치되고, 상기 제1 측정 경로 및 상기 제2 측정 경로 형성시 폐쇄되고, 상기 제3 측정 경로의 형성시 개방되는 제2 바이패스 밸브를 더 포함할 수 있다.A second pressure regulator installed in the second inlet line for regulating the pressure of the raw water flowing into the second filtration membrane; A second bypass line connected to the second inlet line so that the second pressure regulator is bypassed; And a second bypass valve provided in the second bypass line and closed when the first measurement path and the second measurement path are formed and opened when the third measurement path is formed.

그리고, 상기 제3 경로 라인의 상기 제3 여과막의 유입 측에 설치되어 상기 제3 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제3 압력 조절기를 더 포함할 수 있다.The third pressure regulator may further include a third pressure regulator provided on an inlet side of the third filtration membrane of the third path line for regulating the pressure of the raw water flowing into the third filtration membrane.

여기서, 상기 제1 바이패스 밸브와 병렬로 연결되도록 상기 원수 공급 라인의 상기 제1 압력 조절기의 입력 측에 설치되어, 상기 제1 바이패스 밸브와 역으로 개방 및 폐쇄되는 제1 경로 단속 밸브와; 상기 제2 바이패스 밸브와 병렬로 연결되도록 상기 제2 경로 라인의 상기 제2 압력 조절기의 입력 측에 설치되어, 상기 제1 측정 경로 및 상기 제3 측정 경로의 형성시 폐쇄되고, 상기 제2 측정 경로의 형성시 개방되는 제2 경로 단속 밸브와; 상기 제3 경로 라인의 상기 제3 압력 조절기의 입력 측에 설치되어 상기 제3 측정 경로의 형성시 개방되는 제3 경로 단속 밸브를 더 포함할 수 있다.A first path intermittent valve installed on an input side of the first pressure regulator of the raw water supply line to be connected in parallel with the first bypass valve and opened and closed in reverse to the first bypass valve; The second bypass valve being provided on an input side of the second pressure regulator of the second path line to be connected in parallel with the second bypass valve and being closed when the first measurement path and the third measurement path are formed, A second path intermittent valve opened when the path is formed; And a third path intermittent valve provided on an input side of the third pressure regulator of the third path line and opened when the third measurement path is formed.

여기서, 상기 오염 지수 측정부는 상기 제3 측정 경로의 형성에 따른 상기 제3 여과막, 상기 제2 측정 경로의 형성에 따른 제2 여과막, 상기 제1 측정 경로의 형성에 따른 제1 여과막 순으로 오염 지수를 측정할 수 있다.Here, the contamination index measuring unit may measure the contamination index in the order of the third filtration membrane according to the formation of the third measurement path, the second filtration membrane according to the formation of the second measurement path, and the first filtration membrane according to the formation of the first measurement path, Can be measured.

또한, 상기 오염 지수 측정부는 상기 제1 측정 경로의 형성에 따른 제1 여과막, 상기 제2 측정 경로의 형성에 따른 상기 제2 여과막, 상기 제3 측정 경로의 형성에 따른 제3 여과막 순으로 오염 지수를 측정할 수 있다.The contamination index measuring unit may measure the contamination index in the order of the first filtration membrane according to the formation of the first measurement path, the second filtration membrane according to the formation of the second measurement path, and the third filtration membrane according to the formation of the third measurement path, Can be measured.

여기서, 상기 제2 경로 라인의 상기 제2 여과막의 유입 측으로부터 분기되는 제3 경로 라인과, 상기 제3 경로 라인 상에 설치되고, 상기 제2 여과막보다 작은 크기의 공극을 갖는 제3 여과막과, 상기 제3 경로 라인의 상기 제3 여과막의 유입 측에 설치되고, 상기 제2 여과막에 대응하는 크기의 공극을 갖는 보조 여과막과, 상기 원수 공급부로부터의 원수가 상기 제1 여과막, 상기 보조 여과막 및 상기 제3 여과막을 순차적으로 통과하여 유입되는 제3 측정 경로가 형성되도록 상기 제3 경로 라인의 상기 제3 여과막의 유출 측에 설치되는 제2 유량 측정부를 더 포함하며; 상기 제2 측정 경로 및 상기 제3 측정 경로는 동시에 형성되며; 상기 오염 지수 측정부는 상기 제3 측정 경로에 대해 상기 제2 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 제3 여과막의 오염 지수를 측정할 수도 있다.A third filtration membrane disposed on the third filtration line and having a gap smaller than that of the second filtration membrane; and a second filtration membrane disposed on the second filtration membrane, An auxiliary filtration membrane provided on an inlet side of the third filtration membrane of the third path line and having a gap of a size corresponding to the second filtration membrane; Further comprising: a second flow rate measuring unit installed on the outflow side of the third filtration membrane of the third path line so as to form a third measurement path which flows sequentially through the third filtration membrane; The second measurement path and the third measurement path are simultaneously formed; The contamination index measuring unit may measure the contamination index of the third filtration membrane based on the flow rate measured by the second flow rate measuring unit with respect to the third measurement path.

그리고, 상기 원수 공급 라인에 설치되어 상기 제1 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제1 압력 조절기와; 상기 제2 경로 라인의 상기 제2 여과막의 유입 측에 설치되어 상기 제2 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제2 압력 조절기와; 상기 제3 경로 라인의 상기 보조 여과막과 상기 제3 여과막 사이에 설치되어 상기 제3 여과막으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제3 압력 조절기를 더 포함할 수 있다.A first pressure regulator installed in the raw water supply line to regulate the pressure of raw water flowing into the first filtration membrane; A second pressure regulator provided on an inlet side of the second filtration membrane of the second path line for regulating pressure of raw water flowing into the second filtration membrane; And a third pressure regulator disposed between the sub-filtration membrane and the third filtration membrane of the third path line and regulating the pressure of the raw water flowing into the third filtration membrane.

여기서, 상기 제1 압력 조절기가 바이패스되도록 상기 원수 공급 라인과 연결되는 제1 바이패스 라인과; 상기 제1 바이패스 라인에 설치되고, 상기 제1 측정 경로의 형성시 폐쇄되고, 상기 제2 측정 경로 및 상기 제3 측정 경로의 형성시 개방되는 제1 바이패스 밸브를 더 포함할 수 있다.A first bypass line connected to the raw water supply line to bypass the first pressure regulator; And a first bypass valve installed in the first bypass line and closed at the time of forming the first measurement path and opened at the time of forming the second measurement path and the third measurement path.

여기서, 상기 제1 바이패스 밸브와 병렬로 연결되도록 상기 원수 공급 라인의 상기 제1 압력 조절기의 입력 측에 설치되어, 상기 제1 바이패스 밸브와 역으로 개방 및 폐쇄되는 제1 경로 단속 밸브와; 원수의 상기 제2 경로 라인으로의 유입을 단속하도록 상기 제2 경로 라인에 설치되어, 제1 측정 경로가 형성될 때 폐쇄되고, 제2 측정 경로가 형성될 때 개방되는 제4 경로 단속 밸브를 더 포함할 수 있다.
A first path intermittent valve installed on an input side of the first pressure regulator of the raw water supply line to be connected in parallel with the first bypass valve and opened and closed in reverse to the first bypass valve; A fourth path intermittent valve installed in the second path line for interrupting the inflow of raw water into the second path line and closed when the first measurement path is formed and opened when the second measurement path is formed .

상기 구성에 따라 본 발명에 따르면, 구조가 단순하여 해수 담수화 플랜트에 적용하거나 휴대용 측정 장비에 적용하기 적합하고, 측정의 정확성을 보장하면서도 상대적인 측정 시간을 단축할 수 있는 여과막 오염 지수 측정 장치가 제공된다.According to the present invention, there is provided a filtration membrane contamination index measuring device which is simple in construction and suitable for application to a seawater desalination plant or portable measurement equipment, and which can shorten the relative measurement time while ensuring accuracy of measurement .

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성을 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성을 도시한 도면이고,
도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치에서 제1 여과막, 제2 여과막 및 제3 여과막의 투과 특성을 설명하기 위한 도면이고,
도 4는 본 발명의 제3 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성을 도시한 도면이고,
도 5는 본 발명의 제4 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성을 도시한 도면이다.1 is a view showing a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention,
2 is a view showing a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention,
3 is a view for explaining the permeation characteristics of the first filtration membrane, the second filtration membrane and the third filtration membrane in the device for measuring a filtration membrane contamination index according to the second embodiment of the present invention,
4 is a view showing a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a third embodiment of the present invention,
5 is a view showing a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들에 대해 상세히 설명한다. 여기서, 본 발명에 따른 실시예들을 설명하는데 있어, 상호 대응하는 구성에 대해서는 동일한 참조번호를 사용하여 설명하며, 필요에 따라 그 설명은 생략할 수 있다.
Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the embodiments according to the present invention, the same reference numerals are used for the corresponding components, and the description thereof may be omitted if necessary.

제1 1st 실시예Example

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성을 도시한 도면이다. 도 1을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 원수 공급부(200), 제1 여과막(110), 제2 여과막(120), 제1 유량 측정부(310), 제1 경로 라인(21), 제2 경로 라인(22), 제1 경로 선택 밸브(41), 및 오염 지수 측정부(400)를 포함한다.1 is a view showing a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a first embodiment of the present invention. 1, the filtration film contamination index measuring apparatus according to the first embodiment of the present invention includes a raw water supply unit 200, a first filtration membrane 110, a second filtration membrane 120, a first flow measurement unit 310 A first path line 21, a second path line 22, a first path selection valve 41, and a contamination index measuring unit 400. [

원수 공급부(200)는 측정 대상이 되는 원수를 공급한다. 여기서, 원수 공급부(200)는 원수가 가압된 상태로 공급되도록 구성되는데, 압축 공기를 이용하는 방식, 펌프를 이용하는 방식 등이 적용될 수 있으며, 해수 담수화 플랜트의 경우 플랜트 자체의 고압 펌프에 의해 압축된 상태로 공급될 수 있다.The raw water supply unit 200 supplies raw water to be measured. Here, the raw water supply unit 200 is configured to supply the raw water in a pressurized state, such as a system using compressed air, a system using a pump, and the like. In the case of a desalination plant, .

제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)은 상호 상이한 여과 특성을 갖는다. 본 발명에서는 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)의 공극이 상호 상이한 것을 예로 하며, 제1 여과막(110)의 공극이 제2 여과막(120)의 공극보다 크게 마련된다.The first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120 have different filtration characteristics. In the present invention, the pores of the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120 are different from each other. The pores of the first filtration membrane 110 are larger than the pores of the second filtration membrane 120.

예를 들어, 친수성 정밀 여과막(MF)이 제1 여과막(110)으로 사용되는 경우, 친수성 정밀 여과막(MF)보다 공극 크기가 작은 친수성 한외 여과막(UF) 또는 친수성 나노 여과막(NF)가 제2 여과막(120)으로 적용될 수 있다. 또한, 친수성 한외 여과막(UF)이 제1 여과막(110)으로 사용되는 경우, 친수성 나노 여과막(NF)이 제2 여과막(120)으로 사용될 수 있다.For example, when the hydrophilic microfiltration membrane MF is used as the first filtration membrane 110, the hydrophilic ultrafiltration membrane UF or the hydrophilic nanofiltration membrane NF having a smaller pore size than the hydrophilic microfiltration membrane MF may be used, (120). In addition, when the hydrophilic ultrafiltration membrane UF is used as the first filtration membrane 110, the hydrophilic nanofiltration membrane NF may be used as the second filtration membrane 120.

원수 공급 라인(10)은 원수 공급부(200)와 제1 여과막(110)을 연결하여, 원수 공급부(200)로부터의 원수가 원수 공급 라인을 통해 제1 여과막(110)으로 유동 가능하게 한다. 여기서, 원수 공급 라인(10) 상에는 원수 공급부(200)로부터 공급되는 원수의 압력을 조절하기 위한 공급측 압력 조절기(500)가 설치될 수 있다.The raw water supply line 10 connects the raw water supply unit 200 and the first filtration membrane 110 so that raw water from the raw water supply unit 200 can flow to the first filtration membrane 110 through the raw water supply line. Here, on the raw water supply line 10, a supply side pressure regulator 500 for regulating the pressure of the raw water supplied from the raw water supply part 200 may be installed.

제1 유량 측정부(310)는 유량을 측정하는데, 후술할 제1 측정 경로를 통해 제1 여과막(110)을 투과한 원수의 유량과, 후술할 제2 측정 경로를 통해 제2 여과막(120)을 투과한 원수의 유량을 각각 측정하는데, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.The first flow rate measuring unit 310 measures a flow rate of the raw water that has passed through the first filtration membrane 110 through a first measurement path and a flow rate of the raw water that has passed through the second filtration membrane 120 through a second measurement path, And the flow rate of the raw water that has permeated through the pipe is measured, and a detailed description thereof will be described later.

제1 경로 라인(21)은 제1 여과막(110)과 제1 유량 측정부(310)를 연결하여, 제1 여과막(110)을 투과한 원수가 제1 유량 측정부(310)로 유동하도록 한다. 그리고, 제2 경로 라인(22)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 경로 라인(21)과 병렬로 연결된다.The first path line 21 connects the first filtration film 110 and the first flow rate measurement unit 310 so that the raw water that has permeated the first filtration film 110 flows to the first flow rate measurement unit 310 . Then, the second path line 22 is connected in parallel with the first path line 21, as shown in Fig.

제1 경로 선택 밸브(41)는 제2 여과막(120)에 대해 병렬로 연결되도록 제1 경로 라인(21) 상에 설치된다. 여기서, 제1 경로 선택 밸브(41)는 제1 측정 경로가 형성되도록 개방되고, 제2 측정 경로가 형성되도록 폐쇄된다. 보다 구체적으로 설명하면, 제1 경로 선택 밸브(41)가 개방되는 경우, 원수 공급부(200)로부터의 원수가 원수 공급 라인(10), 제1 여과막(110), 제1 경로 라인(21)을 거쳐 제1 유량 측정부(310)로 유동하는 제1 측정 경로가 형성된다.The first path selection valve 41 is installed on the first path line 21 so as to be connected in parallel with the second filtration film 120. Here, the first path selection valve 41 is opened to form the first measurement path, and is closed to form the second measurement path. More specifically, when the first path selection valve 41 is opened, the raw water from the raw water supply unit 200 is supplied to the raw water supply line 10, the first filtration film 110, the first path line 21, A first measurement path that flows to the first flow measurement unit 310 is formed.

반면, 제1 경로 선택 밸브(41)가 폐쇄되는 경우, 원수 공급부(200)로부터의 원수가 원수 공급 라인(10), 제1 여과막(110), 제2 경로 라인(22)을 통해 제2 여과막(120)을 투과한 후 제1 유량 측정부(310)로 유동하게 된다.On the other hand, when the first path selection valve 41 is closed, the raw water from the raw water supply part 200 flows through the raw water supply line 10, the first filtration film 110 and the second path line 22, And then flows to the first flow rate measuring unit 310 after passing through the first flow rate measuring unit 120.

상기 구성에 따라, 오염 지수 측정부(400)는 제1 측정 경로와 제2 측정 경로 각각에 대해 제1 유량 측정부(310)에 의해 측정된 유량에 기초하여, 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)의 오염 지수를 각각 측정하게 된다.According to the above configuration, the contamination index measuring unit 400 measures the flow rate of the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 310 based on the flow rate measured by the first flow rate measurement unit 310 for each of the first measurement path and the second measurement path, 2 filter membranes 120, respectively.

보다 구체적으로 설명하면, 오염 지수 측정부(400)는 제1 경로 선택 밸브(41)가 개방된 상태에서, 제1 측정 경로를 통해 제1 여과막(110) 만을 투과한 유량을 제1 유량 측정부(310)를 통해 측정하여, 제1 여과막(110)의 오염 지수를 측정한다. 그런 다음, 오염 지수 측정부(400)는 제2 측정 경로를 통해 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)을 순차적으로 투과한 유량을 제1 유량 측정부(310)를 통해 측정하여, 제2 여과막(120)의 오염 지수를 측정한다.More specifically, the contamination index measuring unit 400 measures the flow rate of the first filtration film 110 through the first measurement path in the state where the first path selection valve 41 is open, (310) to measure the contamination index of the first filtration membrane (110). Then, the contamination index measuring unit 400 measures the flow rate of the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120 sequentially through the second measurement path through the first flow measurement unit 310, The contamination index of the second filtration membrane 120 is measured.

이에 따라, 서로 다른 여과 특성을 갖는 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)이 각각 개별적으로 측정되는데, 제1 여과막(110)보다 공극의 크기가 작은 제2 여과막(120)의 경우 제1 여과막(110)을 거친 원수가 투과되어 1차적으로 입자가 큰 이물질이 제1 여과막(110)을 통해 걸러져 제2 여과막(120)의 막 오염에 영향을 미치는 입자에 의한 영향을 보다 정확히 측정할 수 있게 된다.Accordingly, the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120 having different filtration characteristics are individually measured. In the case of the second filtration membrane 120 having a smaller pore size than the first filtration membrane 110, Raw water having passed through the first filtration membrane 110 is permeated and primary particles of foreign matter are filtered through the first filtration membrane 110 to more accurately measure the influence of the particles affecting membrane contamination of the second filtration membrane 120 .

예를 들어, 친수성 정밀 여과막(MF)을 제1 여과막(110)으로 사용하는 경우 일반적인 부유입자가 제1 여과막(110)의 표면에 침착되거나 흡착된다. 그리고, 친수성 한외 여과막(UF)을 제2 여과막(120)으로 사용하는 경우 콜로이드 입자가 제2 여과막(120)의 표면에 침착되거나 흡착된다. 따라서, 제2 여과막(120)에만 원수를 투과시켜 제2 여과막(120)의 막오염을 측정할 때 일반적인 부유입자의 침착이나 흡착에 의한 막 오염과 콜로이드 입자에 의한 막 오염을 구분하여 평가할 수 있게 된다.For example, when the hydrophilic microfiltration membrane MF is used as the first filtration membrane 110, general suspended particles are deposited or adsorbed on the surface of the first filtration membrane 110. When the hydrophilic ultrafiltration membrane (UF) is used as the second filtration membrane 120, the colloidal particles are deposited or adsorbed on the surface of the second filtration membrane 120. Therefore, when the membrane contamination of the second filtration membrane 120 is measured by passing the raw water only through the second filtration membrane 120, it is possible to distinguish and evaluate membrane fouling due to deposition of adsorbed particles or adsorption and membrane fouling due to colloid particles do.

또한, 제1 여과막(110)에 대한 측정과 제2 여과막(120)에 대한 측정을 제1 경로 선택 밸브(41)를 통해 분리하고, 하나의 원수 공급부(200)와 하나의 제1 유량 측정부(310)로 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)의 막오염을 정확히 측정 가능하게 된다.The measurement of the first filtration membrane 110 and the measurement of the second filtration membrane 120 are separated through the first path selector valve 41 and the one raw water supply unit 200 and one first flow measurement unit It is possible to accurately measure the membrane contamination of the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120 with the membrane filter 310.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 압력 조절기(61), 제1 바이패스 라인(71) 및 제1 바이패스 밸브(51)를 포함할 수 있다.1, the apparatus for measuring the contamination index of a filtering membrane according to the first embodiment of the present invention includes a first pressure regulator 61, a first bypass line 71 and a first bypass valve 51 ).

제1 압력 조절기(61)는 원수 공급 라인(10)의 제1 여과막(110)의 유입 측에 설치되어 제1 여과막(110)으로 유입되는 원수의 압력을 조절한다. 그리고, 제1 바이패스 라인(71)은 제1 압력 조절기(61)가 바이패스 되도록 원수 공급 라인(10)과 병렬로 연결된다.The first pressure regulator 61 is disposed on the inflow side of the first filtration membrane 110 of the raw water supply line 10 to regulate the pressure of the raw water flowing into the first filtration membrane 110. The first bypass line 71 is connected in parallel with the raw water supply line 10 so that the first pressure regulator 61 is bypassed.

여기서, 제1 바이패스 밸브(51)는 제1 바이패스 라인(71)에 설치되는데, 제1 측정 경로의 형성시, 즉 제1 경로 선택 밸브(41)가 개방될 때, 폐쇄되어 원수 공급 라인(10)을 통해 공급되는 원수가 제1 압력 조절기(61)를 거쳐 제1 여과막(110)으로 유입되도록 한다.The first bypass valve 51 is installed in the first bypass line 71 and is closed when the first measurement path is formed, that is, when the first path selection valve 41 is opened, And the raw water supplied through the first pressure regulator (61) is introduced into the first filtration membrane (110).

반면, 제1 바이패스 밸브(51)는 제2 측정 경로의 형성시, 즉 제1 경로 선택 밸브(41)가 폐쇄될 때, 개방되어 원수 공급 라인(10)을 통해 공급되는 원수가 제1 바이패스 라인(71)을 통해 제1 여과막(110)으로 유입되도록 한다.On the other hand, the first bypass valve 51 is opened when the second measurement path is formed, that is, when the first path selection valve 41 is closed, and the raw water supplied through the raw water supply line 10 flows into the first bi- And flows into the first filtration film 110 through the pass line 71. [

여기서, 본 발명의 제1 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제2 경로 라인(22)의 제2 여과막(120)의 유입측에 설치되어 제2 여과막(120)으로 유입되는 원수의 압력을 조절하는 제2 압력 조절기(62)를 포함할 수 있다.1, the apparatus for measuring the contamination index of a filter membrane according to the first embodiment of the present invention is provided with a second filter film (not shown) provided on the inlet side of the second filter membrane 120 of the second path line 22 And a second pressure regulator 62 for regulating the pressure of the raw water flowing into the first pressure regulator 120.

상기와 같이, 제1 여과막(110) 및 제2 여과막(120)의 유입 측에 각각 제1 압력 조절기(61)와 제2 압력 조절기(62)를 각각 설치하고, 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)을 통과하는 원수의 유압을 일정하게 유지시킴으로써, 보다 정확한 측정이 가능하게 된다.As described above, the first pressure regulator 61 and the second pressure regulator 62 are respectively installed on the inflow side of the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120, and the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane By maintaining the hydraulic pressure of the raw water passing through the two filtration membranes 120 constantly, more accurate measurement becomes possible.

또한, 제2 여과막(120)의 막오염 측정을 위한 제2 측정 경로의 형성시 원수가 제1 압력 조절기(61)를 통과하지 않고 제1 바이패스 라인(71)을 통해 바이패스되어 제1 여과막(110)을 통과하도록 함으로써, 제1 압력 조절기(61)에 의한 제2 여과막(120)의 막오염 측정시 측정 압력을 제1 여과막(110) 측정 압력보다 높게 설정할 수 있게 된다.When the second measurement path for measuring the membrane contamination of the second filtration membrane 120 is formed, the raw water is bypassed through the first bypass line 71 without passing through the first pressure regulator 61, The measurement pressure at the time of measuring the membrane fouling of the second filtration membrane 120 by the first pressure regulator 61 can be set higher than the measurement pressure of the first filtration membrane 110. [

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 제1 경로 단속 밸브(81) 및 제2 경로 단속 밸브(82)를 포함할 수 있다. 제1 경로 단속 밸브(81)는 제1 바이패스 밸브(51)와 병렬로 연결되도록 원수 공급 라인(10)의 제1 압력 조절기(61)의 입력 측에 설치된다. 그리고, 제2 경로 단속 밸브(82)는 제2 경로 라인(22)의 제2 압력 조절기(62)의 입력 측에 설치된다.The filtering film contamination index measuring apparatus according to the first embodiment of the present invention may include a first path intermittent valve 81 and a second path intermittent valve 82. The first path control valve 81 is installed on the input side of the first pressure regulator 61 of the raw water supply line 10 so as to be connected in parallel with the first bypass valve 51. The second path control valve 82 is installed on the input side of the second pressure regulator 62 of the second path line 22.

여기서, 제1 경로 단속 밸브(81)는 제1 바이패스 밸브(51)와 역으로 개방 또는 폐쇄된다. 즉, 제1 측정 경로가 형성될 때 제1 바이패스 밸브(51)가 폐쇄되고 제1 경로 단속 밸브(81)가 개방됨으로써, 제1 압력 조절기(61)를 통해 원수가 제1 여과막(110)으로 흐르게 된다. 반면, 제2 측정 경로가 형성될 때 제1 바이패스 밸브(51)가 개방되고 제1 경로 단속 밸브(81)가 폐쇄됨으로써, 원수가 제1 바이패스 라인(71)을 통해 제1 여과막(110)으로 흐르게 된다. 그리고, 제2 경로 단속 밸브(81)는 제1 측정 경로가 형성될 때 폐쇄되고, 제2 측정 경로가 형성될 때 개방된다.Here, the first path control valve 81 is opened or closed inversely to the first bypass valve 51. That is, when the first measurement path is formed, the first bypass valve 51 is closed and the first path valve 81 is opened so that the raw water flows through the first filter membrane 110 through the first pressure regulator 61, Lt; / RTI > On the other hand, when the second measurement path is formed, the first bypass valve 51 is opened and the first path intermittent valve 81 is closed so that the raw water flows through the first bypass line 71 to the first filtration film 110 ). Then, the second path control valve 81 is closed when the first measurement path is formed, and is opened when the second measurement path is formed.

이에 따라, 제1 측정 경로의 형성시 원수가 제2 압력 조절기(62)로 흐르는 것이 완벽하게 차단되고, 마찬가지로 제2 측정 경로의 형성시 원수가 제1 압력 조절기(61)로 흐르는 것이 완벽하게 차단됨으로써, 제1 압력 조절기(61) 및 제2 압력 조절기(62) 자체만으로 원수의 흐름을 차단하는 경우보다 안정적으로 제1 측정 경로 및 제2 측정 경로의 형성이 가능하게 된다.
Accordingly, when the first measurement path is formed, the flow of the raw water to the second pressure regulator 62 is completely blocked, and when the second measurement path is formed, the flow of raw water to the first pressure regulator 61 is completely blocked The first measurement path and the second measurement path can be formed more stably than when the flow of raw water is blocked by only the first pressure regulator 61 and the second pressure regulator 62 themselves.

제2 Second 실시예Example

이하에서는, 도 2를 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성에 대해 상세히 설명한다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 상호 상이한 공극 특성을 갖는 3개의 여과막이 적용되는 실시예로, 제1 실시예를 기본 구성으로 하는 확장된 구성 특성을 가지며, 제1 실시예에 대응하는 구성은 동일한 참조번호를 사용하며, 그 설명은 생략될 수 있다.Hereinafter, with reference to FIG. 2, a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described in detail. The filtration film contamination index measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention is an embodiment in which three filtration membranes having different pore characteristics are applied and has an extended configuration characteristic based on the first embodiment, Structures corresponding to the examples use the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.

여기서, 본 발명의 제2 실시예에서는 친수성 정밀 여과막(MF)이 제1 여과막(110)으로, 친수성 한외 여과막(UF)이 제2 여과막(120)으로, 친수성 나노 여과막(NF)이 제3 여과막(130)으로 적용되는 것을 예로 하여 설명한다.In the second embodiment of the present invention, the hydrophilic microfiltration membrane MF is the first filtration membrane 110, the hydrophilic ultrafiltration membrane UF is the second filtration membrane 120, the hydrophilic nanofiltration membrane NF is the third filtration membrane 120, (130) will be described as an example.

도 2을 참조하여 설명하면, 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 원수 공급부(200), 원수 공급 라인(10), 제1 여과막(110), 제2 여과막(120), 제3 여과막(130), 제1 경로 라인(21), 제2 경로 라인(22), 제3 경로 라인(23), 제1 경로 선택 밸브(41), 제2 경로 선택 밸브(42), 제1 유량 측정부(310) 및 오염 지수 측정부(400)를 포함할 수 있다. 여기서, 원수 공급부(200)와 제1 유량 측정부(310)의 기본적인 구성은 제1 실시예에 대응하는 바, 그 상세한 설명은 생략한다.2, the filtration film contamination index measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a raw water supply unit 200, a raw water supply line 10, a first filtration membrane 110, a second filtration membrane 120, The third path line 23, the first path selection valve 41, the second path selection valve 42, the third path selection line 41, the first path line 21, the second path line 22, 1 flow measuring unit 310 and a contamination index measuring unit 400. [ Here, the basic configuration of the raw water supply unit 200 and the first flow rate measurement unit 310 corresponds to the first embodiment, and a detailed description thereof will be omitted.

제1 경로 라인(21)은 제1 여과막(110)과 제1 유량 측정부(310)를 연결하여, 제1 여과막(110)을 투과한 원수가 제1 유량 측정부(310)로 유동하도록 한다. 그리고, 제2 경로 라인(22)은, 제1 실시예에서와 마찬가지로, 제1 경로 라인(21)과 병렬로 연결된다.The first path line 21 connects the first filtration film 110 and the first flow rate measurement unit 310 so that the raw water that has permeated the first filtration film 110 flows to the first flow rate measurement unit 310 . The second path line 22 is connected in parallel with the first path line 21 as in the first embodiment.

제1 경로 선택 밸브(41)는 제2 여과막(120)에 대해 병렬로 연결되도록 제1 경로 라인(21) 상에 설치된다. 여기서, 제1 경로 선택 밸브(41)는 제1 측정 경로가 형성되도록 개방되고, 제2 측정 경로 및 제3 측정 경로가 형성되도록 폐쇄되는데, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.The first path selection valve 41 is installed on the first path line 21 so as to be connected in parallel with the second filtration film 120. Here, the first path selection valve 41 is opened to form the first measurement path, and closed to form the second measurement path and the third measurement path, and a detailed description thereof will be described later.

한편, 제2 경로 라인(22)은, 제2 여과막(120)을 중심으로, 제2 여과막(120)의 유입 측을 형성하는 제2 유입 경로 라인과, 제2 여과막(120)의 유출 측을 형성하는 제2 유출 경로 라인으로 구분될 수 있다. 여기서, 제3 경로 라인(23)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 제2 유출 경로 라인과 병렬로 연결된다.On the other hand, the second path line 22 includes a second inflow path line forming an inflow side of the second filtration film 120 and a second inflow path line forming the inflow side of the second filtration film 120, And a second outflow path line for forming the second outflow path. Here, the third path line 23 is connected in parallel with the second outflow path line, as shown in Fig.

제3 여과막(130)은 제3 경로 라인(23)상에 설치되며, 상술한 바와 같이, 제1 여과막(110) 및 제2 여과막(120)보다 작은 크기의 공극을 갖는 친수성 나노 여과막(NF)이 적용되는 것을 예로 한다.The third filtration membrane 130 is disposed on the third path line 23. The hydrophilic nanofiltration membrane NF having a pore size smaller than that of the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120, Is applied.

제2 경로 선택 밸브(42)는 제3 여과막(130)에 대해 병렬로 제2 경로 라인(22) 상에 설치된다. 그리고, 제2 경로 선택 밸브(42)는 제1 경로 선택 밸브(41)가 폐쇄된 상태에서, 원수 공급부(200)로부터의 원수가 제1 여과막(110), 제2 여과막(120), 제3 여과막(130)을 순차적으로 통과하여 제1 유량 측정부(310)로 유입되도록 폐쇄된다.The second path selection valve 42 is installed on the second path line 22 in parallel with the third filtration film 130. When the first path selector valve 41 is closed and the raw water from the raw water supply unit 200 is supplied to the first filter membrane 110, the second filter membrane 120, And then flows through the filtration membrane 130 in order to be flowed into the first flow rate measurement unit 310.

한편, 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 제1 압력 조절기(61), 제1 바이패스 라인(71) 및 제1 바이패스 밸브(51)를 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 제2 압력 조절기(62), 제2 바이패스 라인(72) 및 제2 바이패스 밸브(52)와, 제3 압력 조절기(63)를 포함할 수 있다.The filtration film contamination index measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention may include a first pressure regulator 61, a first bypass line 71, and a first bypass valve 51. The filtration film contamination index measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention includes a second pressure regulator 62, a second bypass line 72 and a second bypass valve 52, a third pressure regulator 63 ).

제1 압력 조절기(61)는 원수 공급 라인(10)의 제1 여과막(110)의 유입 측에 설치되어 제1 여과막(110)으로 유입되는 원수의 압력을 조절한다. 그리고, 제1 바이패스 라인(71)은 제1 압력 조절기(61)가 바이패스 되도록 원수 공급 라인(10)과 병렬로 연결된다. 그리고, 제1 바이패스 밸브(51)는 제1 바이패스 라인(71) 상에 설치된다.The first pressure regulator 61 is disposed on the inflow side of the first filtration membrane 110 of the raw water supply line 10 to regulate the pressure of the raw water flowing into the first filtration membrane 110. The first bypass line 71 is connected in parallel with the raw water supply line 10 so that the first pressure regulator 61 is bypassed. The first bypass valve 51 is installed on the first bypass line 71.

마찬가지로, 제2 압력 조절기(62)는 제2 경로 라인(22)의 제2 유입 경로 라인 상에 설치되어 제2 여과막(120)으로 유입되는 원수의 압력을 조절한다. 그리고, 제2 바이패스 라인(72)은 제2 압력 조절기(62)가 바이패스 되도록 제2 유립 경로 라인과 연결되고, 제2 바이패스 밸브(52)는 제2 바이패스 라인(72) 상에 설치된다. 그리고, 제3 경로 라인(23)의 제3 여과막(130)의 유입 측에는 제3 압력 조절기(63)가 설치되어 제3 여과막(130)으로 유입되는 원수의 압력을 조절한다.Similarly, the second pressure regulator 62 is installed on the second inlet line of the second path line 22 to regulate the pressure of the raw water flowing into the second filtration membrane 120. The second bypass line 72 is connected to the second mist path line so that the second pressure regulator 62 is bypassed and the second bypass valve 52 is connected to the second bypass line 72 Respectively. A third pressure regulator 63 is provided on the inlet side of the third filtration membrane 130 of the third path line 23 to regulate the pressure of the raw water flowing into the third filtration membrane 130.

상기 구성에 따라, 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130) 각각의 오염 지수를 제1 유량 측정부(310)에 의해 측정된 유량에 기초하여 측정하는 과정에 대해 상세히 설명한다.According to the above configuration, in the process of measuring the contamination index of each of the first filtration film 110, the second filtration film 120, and the third filtration film 130 based on the flow rate measured by the first flow rate measurement unit 310 Will be described in detail.

본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치에서는 제3 여과막(130), 제2 여과막(120), 제1 여과막(110) 순으로 오염 지수를 측정하는 것을 일 예로 한다.In the apparatus for measuring the contamination index of a filtering membrane according to the second embodiment of the present invention, the contamination index is measured in the order of the third filtration membrane 130, the second filtration membrane 120, and the first filtration membrane 110.

먼저, 제1 경로 선택 밸브(41)와 제2 경로 선택 밸브(42)가 모두 폐쇄되고, 제1 바이패스 밸브(51)와 제2 바이패스 밸브(52)가 모두 개방되어, 제3 측정 경로가 형성된다. 여기서, 제3 측정 경로는 원수 공급부(200), 제1 바이패스 라인(71), 제1 여과막(110), 제2 경로 라인(22), 제2 바이패스 라인(72), 제2 여과막(120), 제3 경로 라인(23), 제3 여과막(130)을 거쳐 제1 유량 측정부(310)로 유입되는 경로로 형성된다.First, both the first path selection valve 41 and the second path selection valve 42 are closed, the first bypass valve 51 and the second bypass valve 52 are both opened, . Here, the third measurement path includes a raw water supply unit 200, a first bypass line 71, a first filtration film 110, a second path line 22, a second bypass line 72, The third flow path 23, and the third filtration film 130 to the first flow rate measuring unit 310. The first flow rate measuring unit 310,

이와 같이, 원수 공급부(200)로부터의 원수가 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)을 순차적으로 통과한 후 제1 유량 측정부(310)로 유입되고, 오염 지수 측정부(400)가 제1 유량 측정부(310)에 유입된 유량에 기초하여 제3 여과막(130)의 오염 지수를 측정하게 된다.The raw water from the raw water supply unit 200 sequentially flows through the first filtration film 110, the second filtration film 120 and the third filtration film 130 and then flows into the first flow rate measurement unit 310, The contamination index measuring unit 400 measures the contamination index of the third filtration membrane 130 based on the flow rate of the water introduced into the first flow rate measuring unit 310.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치에 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)에서 통과되는 이물질과 평가되어지는 이물질을 개념적으로 도시한 도면이다. 도 3에서는 제1 여과막(110)의 공극의 크기가 0.45 ㎛인 친수성 정밀 여과막(MF)이고, 제2 여과막(120)의 분획 분자량이 100 kDa인 친수성 한외 여과막(UF)이고, 제3 여과막(130)의 분획 분자량이 10 kDa인 친수성 나노 여과막(NF)인 것을 예로 하고 있다.3 is a conceptual view of a foreign matter passing through the first filtration membrane 110, the second filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130 and the foreign matter to be evaluated in the filtration membrane contamination index measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention. Fig. 3 shows a hydrophilic ultrafiltration membrane (UF) having a hydrophilic microfiltration membrane (MF) having a pore size of 0.45 μm in the first filtration membrane 110 and a fraction molecular weight of 100 kDa in the second filtration membrane 120, 130) is a hydrophilic nanofiltration membrane (NF) having a cut-off molecular weight of 10 kDa.

도 3에서는, 제1 여과막(110)에는 원수에 포함된 이물질 중 일반적인 부유입자(Particles)가 여과되고, 제2 여과막(120)에서는 원수에 포함된 이물질 중 콜로이드(Colloids) 입자가 여과되고, 제3 여과막(130)에서는 원수에 포함된 이물질 중 유기물질(Organic)이 여과되는 것을 개념적으로 도시하고 있다.In FIG. 3, typical floating particles among the foreign substances contained in the raw water are filtered in the first filtration film 110, and colloid particles among the foreign substances contained in the raw water are filtered in the second filtration film 120, 3 The filtration membrane 130 conceptually shows that organic matter contained in raw water contained in the raw water is filtered.

도 3에 도시된 바와 같이, 제3 여과막(130)의 오염을 평가하는데 있어 일반적인 부유입자(Particles)와, 콜로이드(Colloids) 입자가 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)에서 걸러져, 제3 여과막(130)의 오염 지수를 평가하는데 필요한 유기물질(Organic) 만이 제3 여과막(130)의 오염 지수 측정에 반영될 수 있다.As shown in FIG. 3, typical floating particles and colloid particles are filtered by the first filtration membrane 110 and the second filtration membrane 120 in evaluating the contamination of the third filtration membrane 130, Only the organic matter necessary for evaluating the contamination index of the third filtration membrane 130 can be reflected in the contamination index measurement of the third filtration membrane 130.

상기와 같이, 제3 여과막(130)의 오염 지수의 측정이 완료되면, 제1 경로 선택 밸브(41)의 폐쇄와 제1 바이패스 밸브(51)의 개방이 유지된 상태에서, 제2 경로 선택 밸브(42)가 개방되고, 제2 바이패스 밸브(52)가 폐쇄되어, 제2 측정 경로가 형성된다.As described above, when the contamination index of the third filtration film 130 is measured, in the state where the first path selection valve 41 is closed and the first bypass valve 51 is opened, The valve 42 is opened, the second bypass valve 52 is closed, and a second measurement path is formed.

여기서, 제2 측정 경로는 원수 공급부(200), 원수 공급 라인(10), 제1 바이패스 라인(71), 제1 여과막(110), 제2 경로 라인(22), 제2 여과막(120)을 거쳐 제1 유량 측정부(310)로 유입되는 경로로 형성된다.The second measurement path includes a raw water supply unit 200, a raw water supply line 10, a first bypass line 71, a first filtration membrane 110, a second path line 22, a second filtration membrane 120, And then flows into the first flow rate measuring unit 310 through the first flow rate measuring unit 310.

이와 같이, 원수 공급부(200)로부터의 원수가 제1 여과막(110)과 제2 여과막(120)을 순차적으로 통과한 후 제1 유량 측정부(310)로 유입되고, 오염 지수 측정부(400)가 제1 유량 측정부(310)에 유입된 유량에 기초하여 제2 여과막(120)의 오염 지수를 측정하게 된다. 도 3을 참조하여 설명하면, 제1 여과막(110)을 통해 부유입자(Particles)가 걸러진 상태에서 제2 여과막(120)에 콜로이드(Colloids) 입자가 침착되거나 흡착되어 제2 여과막(120)을 오염시키게 되는데, 크기가 작은 유기물질(Organic)은 제2 여과막(120)을 통과하여 제2 여과막(120)의 오염에 영향을 미치지 않게 된다.The raw water from the raw water supply unit 200 sequentially passes through the first filtration film 110 and the second filtration film 120 and then flows into the first flow rate measurement unit 310. The contamination index measurement unit 400 measures The degree of contamination of the second filtration membrane 120 is measured based on the flow rate flowing into the first flow measurement unit 310. 3, when colloid particles are deposited or adsorbed on the second filtration membrane 120 in the state where suspended particles are filtered through the first filtration membrane 110, the second filtration membrane 120 is contaminated The organic material having a small size passes through the second filtration membrane 120 and does not affect the contamination of the second filtration membrane 120.

그리고, 제2 측정 경로를 통해 제2 여과막(120)의 오염 지수의 측정이 완료되면, 제2 바이패스 밸브(52)를 폐쇄하고, 제1 경로 선택 밸브(41)를 개방하여 제1 측정 경로를 형성한다. 여기서, 제1 측정 경로는 원수 공급부(200), 원수 공급 라인(10), 제1 여과막(110), 제1 경로 라인(21)을 거쳐 제1 유량 측정부(310)로 유입되는 경로로 형성된다.When the contamination index of the second filtration membrane 120 is measured through the second measurement path, the second bypass valve 52 is closed, the first path selection valve 41 is opened, . Here, the first measurement path is formed by a path that flows into the first flow measurement unit 310 through the raw water supply unit 200, the raw water supply line 10, the first filtration film 110, and the first path line 21 do.

상기와 같이, 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)의 오염 지수에 영향을 미치는 부유물 만이 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)에 걸러지도록 하여, 보다 정확한 막오염의 예측이 가능하게 된다.As described above, only the suspended matters affecting the contamination index of the first filtration film 110, the second filtration film 120, and the third filtration film 130 are separated from the first filtration film 110, the second filtration film 120, So that more accurate film contamination can be predicted.

한편, 전술한 예에서는 제3 여과막(130), 제2 여과막(120), 제1 여과막(110) 순으로 오염 지수의 측정이 진행되는 것을 예로 하여 설명하였으나, 제1 여과막(110), 제2 여과막(120), 제3 여과막(130) 순으로 오염 지수의 측정이 가능함은 물론이다. 여기서, 제1 여과막(110)의 측정을 위한 제1 측정 경로의 형성, 제2 여과막(120)의 측정을 위한 제2 측정 경로의 형성, 그리고 제3 여과막(130)의 측정을 위한 제3 측정 경로의 형성을 위한 제1 경로 선택 밸브(41), 제2 경로 선택 밸브(42), 제1 바이패스 밸브(51) 및 제2 바이패스 밸브(52)의 개방 및 폐쇄 상태는 상술한 바와 같다.In the above example, the contamination index is measured in the order of the third filtration membrane 130, the second filtration membrane 120, and the first filtration membrane 110. However, the first filtration membrane 110, It is of course possible to measure the contamination index in the order of the filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130. Here, the formation of the first measurement path for measurement of the first filtration film 110, the formation of the second measurement path for measurement of the second filtration film 120, and the third measurement for measurement of the third filtration film 130 The opening and closing states of the first path selection valve 41, the second path selection valve 42, the first bypass valve 51 and the second bypass valve 52 for forming the path are as described above .

한편, 본 발명의 제2 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 제1 경로 단속 밸브(81), 제2 경로 단속 밸브(82) 및 제3 경로 단속 밸브(83)를 포함할 수 있다. 제1 경로 단속 밸브(81)는 제1 바이패스 밸브(51)와 병렬로 연결되도록 원수 공급 라인(10)의 제1 압력 조절기(61)의 입력 측에 설치된다. 그리고, 제2 경로 단속 밸브(82)는 제2 바이패스 밸브(52)와 병렬로 연결되도록 제2 경로 라인(22)의 제2 압력 조절기(62)의 입력 측에 설치된다. 그리고, 제3 경로 단속 밸브(82)는 제3 경로 라인(23)의 제3 압력 조절기(63)의 입력 측에 설치된다.The filtering film contamination index measuring apparatus according to the second embodiment of the present invention may include a first path intermittent valve 81, a second path intermittent valve 82 and a third path intermittent valve 83. The first path control valve 81 is installed on the input side of the first pressure regulator 61 of the raw water supply line 10 so as to be connected in parallel with the first bypass valve 51. The second path control valve 82 is installed on the input side of the second pressure regulator 62 of the second path line 22 so as to be connected in parallel with the second bypass valve 52. The third path control valve 82 is installed on the input side of the third pressure regulator 63 of the third path line 23.

여기서, 제1 경로 단속 밸브(81)는 제1 바이패스 밸브(51)와 역으로 개방 또는 폐쇄된다. 즉, 제1 측정 경로가 형성될 때 제1 바이패스 밸브(51)가 폐쇄되고 제1 경로 단속 밸브(81)가 개방됨으로써, 제1 압력 조절기(61)를 통해 원수가 제1 여과막(110)으로 흐르게 된다. 반면, 제2 측정 경로 및 제3 측정 경로가 형성될 때 제1 바이패스 밸브(51)가 개방되고 제1 경로 단속 밸브(81)가 폐쇄됨으로써, 원수가 제1 바이패스 라인(71)을 통해 제1 여과막(110)으로 흐르게 된다.Here, the first path control valve 81 is opened or closed inversely to the first bypass valve 51. That is, when the first measurement path is formed, the first bypass valve 51 is closed and the first path valve 81 is opened so that the raw water flows through the first filter membrane 110 through the first pressure regulator 61, Lt; / RTI > On the other hand, when the second measurement path and the third measurement path are formed, the first bypass valve 51 is opened and the first path interruption valve 81 is closed so that the raw water flows through the first bypass line 71 And flows to the first filtration membrane 110.

제2 경로 단속 밸브(82)는 제1 측정 경로 및 제3 측정 경로가 형성될 때 폐쇄되고, 제2 측정 경로가 형성될 때 개방된다. 이에 따라, 제1 측정 경로가 형성될 때에는 원수가 제2 압력 조절기(62) 측으로 흐르는 것이 차단됨으로써, 제1 측정 경로의 형성시 원수가 제1 여과막(110)을 통과한 후 바로 제1 유량 측정부(310) 측으로 흐를 수 있게 된다.The second path intermittent valve 82 is closed when the first measurement path and the third measurement path are formed, and is opened when the second measurement path is formed. Accordingly, when the first measurement path is formed, the raw water is blocked from flowing to the second pressure regulator 62, so that, when the raw water is passed through the first filtration film 110 in forming the first measurement path, So that it can flow toward the portion 310 side.

또한, 제2 경로 단속 밸브(82)는 제2 측정 경로 형성될 때 개방되어 원수가 제2 압력 조절기(62)를 통해 제2 여과막(120)을 통과하도록 한다. 그리고, 제3 측정 경로가 형성될 때, 제2 경로 단속 밸브(82)는 폐쇄되어 원수가 제2 바이패스 라인(72)을 통해 제2 여과막(120)을 통과하도록 한다.Further, the second path control valve 82 is opened when the second measurement path is formed so that the raw water passes through the second filtration film 120 through the second pressure regulator 62. When the third measurement path is formed, the second path control valve 82 is closed to allow the raw water to pass through the second filtration film 120 through the second bypass line 72.

그리고, 제3 경로 단속 밸브(83)은 제1 측정 경로 및 제2 측정 경로의 형성시 폐쇄되고, 제3 측정 경로의 형성시 개방된다.Then, the third path intermittent valve 83 is closed at the time of forming the first measurement path and the second measurement path, and is opened at the time of forming the third measurement path.

이에 따라, 상술한 제1 실시예에서와 마찬가지로, 제1 압력 조절기(61), 제2 압력 조절기(62) 및 제2 압력 조절기(62) 자체만으로 원수의 흐름을 차단하는 경우보다 안정적으로 제1 측정 경로, 제2 측정 경로 및 제3 측정 경로의 형성이 가능하게 된다.
Accordingly, as in the first embodiment described above, when the flow of raw water is blocked by only the first pressure regulator 61, the second pressure regulator 62, and the second pressure regulator 62 itself, The measurement path, the second measurement path, and the third measurement path can be formed.

제3 Third 실시예Example

이하에서는, 도 4를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치의 구성에 대해 상세히 설명한다. 본 발명의 제3 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 상호 상이한 공극 특성을 갖는 3개의 여과막이 적용되는 실시예로, 제1 실시예를 기본 구성으로 하는 확장된 구성 특성을 가지며, 제1 실시예에 대응하는 구성은 동일한 참조번호를 사용하며, 그 설명은 생략될 수 있다.Hereinafter, a configuration of a filtration film contamination index measuring apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. The filtration film contamination index measuring apparatus according to the third embodiment of the present invention is an embodiment in which three filtration membranes having different pore characteristics are applied. The apparatus has an expanded configuration characteristic of the first embodiment, Structures corresponding to the examples use the same reference numerals, and the description thereof may be omitted.

여기서, 본 발명의 제3 실시예에서는 친수성 정밀 여과막(MF)이 제1 여과막(110)으로, 친수성 한외 여과막(UF)이 제2 여과막(120)으로, 친수성 나노 여과막(NF)이 제3 여과막(130)으로 적용되는 것을 예로 하여 설명한다.In the third embodiment of the present invention, the hydrophilic microfiltration membrane MF is the first filtration membrane 110, the hydrophilic ultrafiltration membrane UF is the second filtration membrane 120, the hydrophilic nanofiltration membrane NF is the third filtration membrane 120, (130) will be described as an example.

도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 원수 공급부(200), 원수 공급 라인(10), 제1 여과막(110), 제2 여과막(120), 제3 여과막(130), 제1 경로 라인(21), 제2 경로 라인(22), 제3 경로 라인(23), 제1 경로 선택 밸브(41), 보조 여과막(140), 제1 유량 측정부(310), 제2 유량 측정부(320) 및 오염 지수 측정부(400)를 포함할 수 있다. 여기서, 원수 공급부(200)와, 원수 공급 라인(10), 제1 유량 측정부(310)의 기본적인 구성은 제1 실시예에 대응하는 바, 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.4, the filtration film contamination index measuring apparatus according to the third embodiment of the present invention includes a raw water supply unit 200, a raw water supply line 10, a first filtration membrane 110, a second filtration membrane 120, The second path line 22, the third path line 23, the first path selection valve 41, the auxiliary filtration membrane 140, the first flow path 130, the first path line 21, the second path line 22, A second flow rate measuring unit 320, and a contamination index measuring unit 400. The first flow rate measuring unit 320, the second flow rate measuring unit 320, Here, the basic configuration of the raw water supply unit 200, the raw water supply line 10, and the first flow rate measurement unit 310 corresponds to the first embodiment, and a detailed description thereof can be omitted.

제3 경로 라인(23)은 제2 경로 라인(22)의 제2 여과막(120)의 유입 측으로부터 분기된다. 그리고, 보조 여과막(140)과 제3 여과막(130)이 제3 경로 라인(23) 상에 순차적으로 설치된다. 즉, 제3 여과막(130)은 제3 경로 라인(23) 상에 설치되고, 보조 여과막(140)은 제3 경로 라인(23)의 제3 여과막(130)의 유입 측에 설치된다.The third path line 23 is branched from the inflow side of the second filtration film 120 of the second path line 22. The auxiliary filtration membrane 140 and the third filtration membrane 130 are sequentially installed on the third path line 23. That is, the third filtration membrane 130 is installed on the third path line 23 and the auxiliary filtration membrane 140 is installed on the inflow side of the third filtration membrane 130 of the third path line 23.

여기서, 보조 여과막(140)은 제2 여과막(120)에 대응하는 크기의 공극을 갖는다. 예를 들어, 제2 여과막(120)이 친수성 한외 여과막(UF)으로 마련된 경우, 보조 여과막(140)도 친수성 한외 여과막(UF)으로 마련될 수 있다. 그리고, 제2 유량 측정부(320)는 제3 경로 라인(23)의 제3 여과막(130)의 유출 측에 설치되어 제3 여과막(130)을 투과한 원수의 유량을 측정하도록 마련된다.Here, the auxiliary filtration membrane 140 has a pore size corresponding to the second filtration membrane 120. For example, when the second filtration membrane 120 is provided as a hydrophilic ultrafiltration membrane (UF), the auxiliary filtration membrane 140 may also be provided as a hydrophilic ultrafiltration membrane (UF). The second flow rate measuring unit 320 is provided on the outlet side of the third filtration membrane 130 of the third path line 23 and is adapted to measure the flow rate of the raw water that has permeated the third filtration membrane 130.

한편, 본 발명의 제3 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는, 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 압력 조절기(61), 제1 바이패스 라인(71) 및 제1 바이패스 밸브(51)를 포함할 수 있다. 또한, 여과막 오염 지수 측정 장치는 제2 압력 조절기(62) 및 제3 압력 조절기(63)를 포함할 수 있다.4, a first pressure regulator 61, a first bypass line 71, and a first bypass valve 51 (see FIG. 4) ). In addition, the filtration film contamination index measuring apparatus may include a second pressure regulator 62 and a third pressure regulator 63.

반면, 제1 바이패스 밸브(51)는 제2 측정 경로 및 제3 측정 경로의 형성시, 즉 제1 경로 선택 밸브(41)가 폐쇄될 때, 개방되어 원수 공급 라인(10)을 통해 공급되는 원수가 제1 바이패스 라인(71)을 통해 제1 여과막(110)으로 유입되도록 한다.On the other hand, the first bypass valve 51 opens when the second measurement path and the third measurement path are formed, that is, when the first path selection valve 41 is closed, and is supplied through the raw water supply line 10 So that the raw water flows into the first filtration film 110 through the first bypass line 71.

제2 압력 조절기(62)는 제2 경로 라인(22)의 제2 여과막(120)의 유입측에 설치되어 제2 여과막(120)으로 유입되는 원수의 압력을 조절한다. 그리고, 제3 압력 조절기(63)는 제3 경로 라인(23)의 보조 여과막(140)와 제3 여과막(130) 사이에 설치되어 제3 여과막(130)으로 유입되는 원수의 압력을 조절한다.The second pressure regulator 62 is disposed on the inflow side of the second filtration membrane 120 of the second path line 22 to regulate the pressure of the raw water flowing into the second filtration membrane 120. The third pressure regulator 63 is disposed between the auxiliary filtration membrane 140 and the third filtration membrane 130 of the third path line 23 and regulates the pressure of the raw water flowing into the third filtration membrane 130.

상기와 같은 구성에 따라 오염 지수 측정부(400)가 제1 측정 경로를 형성하여 제1 여과막(110)의 오염 지수를 측정하고, 제2 측정 경로 및 제3 측정 경로를 동시에 형성하여 제2 여과막(120)과 제3 여과막(130)의 오염 지수를 동시에 측정하는 과정에 대해 상세히 설명한다.According to the above configuration, the contamination index measuring unit 400 forms the first measurement path to measure the contamination index of the first filtration film 110, and simultaneously forms the second measurement path and the third measurement path, The process of simultaneously measuring the contamination indexes of the first filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130 will be described in detail.

먼저, 제1 바이패스 밸브(51)가 폐쇄되고, 제1 경로 형성 밸브가 개방되어 제1 측정 경로가 형성된다. 여기서, 제1 측정 경로는 원수 공급부(200), 제1 여과기, 제2 경로 라인(22)을 거쳐 제1 유량 측정부(310)로 유입되는 경로로 형성된다. 이 때, 오염 지수 측정부(400)는 제1 유량 측정부(310)에 의해 측정된 유량에 기초하여 제1 여과막(110)의 오염 지수를 측정하게 된다.First, the first bypass valve 51 is closed, and the first path forming valve is opened to form a first measurement path. Here, the first measurement path is formed as a path that flows into the first flow measurement unit 310 through the raw water supply unit 200, the first filter, and the second path line 22. At this time, the contamination index measuring unit 400 measures the contamination index of the first filtering membrane 110 based on the flow rate measured by the first flow measuring unit 310.

제1 여과막(110)의 오염 지수의 측정이 완료되면, 제1 바이패스 밸브(51)를 개방하고, 제1 경로 선택 밸브(41)를 개방하여 제2 측정 경로와 제3 측정 경로를 동시에 형성된다. 여기서, 제2 측정 경로는 원수 공급부(200), 원수 공급 라인(10), 제1 바이패스 라인(71), 제1 여과막(110), 제2 경로 라인(22), 제2 여과막(120)을 거쳐 제1 유량 측정부(310)로 유입되는 경로로 형성되고, 제3 측정 경로는 원수 공급부(200), 원수 공급 라인(10), 제1 바이패스 라인(71), 제1 여과막(110), 제2 경로 라인(22). 제3 경로 라인(23), 보조 여과막(140), 제3 여과막(130)을 거쳐 제2 유량 측정부(320)로 유입되는 경로로 형성된다.When the measurement of the contamination index of the first filtration film 110 is completed, the first bypass valve 51 is opened and the first path selection valve 41 is opened to simultaneously form the second measurement path and the third measurement path do. The second measurement path includes a raw water supply unit 200, a raw water supply line 10, a first bypass line 71, a first filtration membrane 110, a second path line 22, a second filtration membrane 120, The raw water supply line 10, the first bypass line 71, the first filtration membrane 110, and the second filtration membrane 110, ), A second path line (22). The third flow path 23, the auxiliary filtration membrane 140, and the third filtration membrane 130 to the second flow rate measuring unit 320.

상기와 같이, 제2 경로 라인(22)과 제3 경로 라인(23)이 동시에 형성되고, 제2 여과막(120)을 투과한 원수의 유량이 제1 유량 측정부(310)에 측정되고, 제3 여과막(130)을 투과한 원수의 유량이 제2 유량 측정부(320)에 의해 측정됨으로써, 제2 여과막(120)과 제3 여과막(130)의 오염 지수의 측정 과정이 동시에 진행될 수 있다.As described above, the second path line 22 and the third path line 23 are formed at the same time, and the flow rate of the raw water that has permeated the second filtration film 120 is measured by the first flow rate measuring unit 310, 3 flow rate of the raw water that has permeated the filtration membrane 130 is measured by the second flow rate measurement unit 320 so that the measurement process of the contamination index of the second filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130 can proceed at the same time.

한편, 본 발명의 제3 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 제1 경로 단속 밸브(81) 및 제4 경로 단속 밸브(84)를 포함할 수 있다. 제1 경로 단속 밸브(81)는 제1 바이패스 밸브(51)와 병렬로 연결되도록 원수 공급 라인(10)의 제1 압력 조절기(61)의 입력 측에 설치된다. 그리고, 제4 경로 단속 밸브(82)는 제2 경로 라인(22)에 설치된다.The filtering film contamination index measuring apparatus according to the third embodiment of the present invention may include a first path intermittent valve 81 and a fourth path intermittent valve 84. The first path control valve 81 is installed on the input side of the first pressure regulator 61 of the raw water supply line 10 so as to be connected in parallel with the first bypass valve 51. The fourth path control valve 82 is installed in the second path line 22.

여기서, 제1 경로 단속 밸브(81)는 제1 바이패스 밸브(51)와 역으로 개방 또는 폐쇄된다. 즉, 제1 측정 경로가 형성될 때 제1 바이패스 밸브(51)가 폐쇄되고 제1 경로 단속 밸브(81)가 개방됨으로써, 제1 압력 조절기(61)를 통해 원수가 제1 여과막(110)으로 흐르게 된다. 반면, 제2 측정 경로가 형성될 때 제1 바이패스 밸브(51)가 개방되고 제1 경로 단속 밸브(81)가 폐쇄됨으로써, 원수가 제1 바이패스 라인(71)을 통해 제1 여과막(110)으로 흐르게 된다.Here, the first path control valve 81 is opened or closed inversely to the first bypass valve 51. That is, when the first measurement path is formed, the first bypass valve 51 is closed and the first path valve 81 is opened so that the raw water flows through the first filter membrane 110 through the first pressure regulator 61, Lt; / RTI > On the other hand, when the second measurement path is formed, the first bypass valve 51 is opened and the first path intermittent valve 81 is closed so that the raw water flows through the first bypass line 71 to the first filtration film 110 ).

그리고, 제4 경로 단속 밸브(84)는 원수의 제2 경로 라인(22)으로의 유입을 단속하도록 제2 경로 라인에 설치되어, 제1 측정 경로가 형성될 때 폐쇄되고, 제2 측정 경로가 형성될 때 개방된다.The fourth path intermittent valve 84 is installed in the second path line so as to interrupt the flow of the raw water into the second path line 22 and is closed when the first measurement path is formed, And is opened when it is formed.

이에 따라, 제1 측정 경로의 형성시 원수가 제2 경로 라인(22)으로 흐르는 것이 완벽하게 차단되고, 마찬가지로 제2 측정 경로의 형성시 원수가 제1 압력 조절기(61)로 흐르는 것이 완벽하게 차단됨으로써, 제1 압력 조절기(61), 제2 압력 조절기(62) 및 제3 압력 조절기(63) 자체만으로 원수의 흐름을 차단하는 경우보다 안정적으로 제1 측정 경로 및 제2 측정 경로의 형성이 가능하게 된다.Accordingly, when the first measurement path is formed, the flow of the raw water to the second path line 22 is completely blocked, and when the second measurement path is formed, the raw water flows completely to the first pressure regulator 61 The first measurement path and the second measurement path can be formed more stably than when the flow of raw water is blocked by only the first pressure regulator 61, the second pressure regulator 62 and the third pressure regulator 63 itself .

전술한 실시예에서는 제1 실시예를 기본 구조로 하여 제2 실시예 및 제3 실시예가 확장된 구조를 갖는 것을 예로 하여 설명하였다. 여기서, 본 발명의 기술적 사상이 제2 실시예 및 제3 실시예와 같이 3개의 여과막(110,120,130)까지만 국한되지 않으며, 당업자라면 제1 실시예를 기본으로 하여 제2 실시예 및 제3 실시예에서와 같이, 4개의 이상의 여과막으로 제1 실시예를 확장할 수 있을 것이다.
In the above-described embodiment, the first embodiment is described as an example in which the second embodiment and the third embodiment have an extended structure with the basic structure. Here, the technical idea of the present invention is not limited to the three filtration membranes 110, 120, and 130 as in the second and third embodiments, and those skilled in the art will understand that in the second and third embodiments based on the first embodiment, The first embodiment can be extended with four or more filter membranes.

제4 Fourth 실시예Example

이하에서는, 도 5를 참조하여 본 발명의 제4 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명의 제4 실시예에 따른 여과막 오염 지수 측정 장치는 원수 공급부(200), 복수의 여과막(110,120,130), 경로 라인(21a,22a,23a), 복수의 유량 측정부(310a,310b,310c), 적어도 하나의 보조 여과막(140a,140b), 그리고 오염 지수 측정부(400)를 포함한다.Hereinafter, a filtration film contamination index measuring apparatus according to a fourth embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. The filtration film contamination index measuring apparatus according to the fourth embodiment of the present invention includes a raw water supply unit 200, a plurality of filtration membranes 110, 120 and 130, path lines 21a, 22a and 23a, a plurality of flow rate measuring units 310a, 310b and 310c, , At least one auxiliary filter membrane (140a, 140b), and a contamination index measuring unit (400).

복수의 여과막(110,120,130)은 상호 상이한 여과 특성을 갖는다. 여기서, 본 발명에 따른 복수의 여과막(110,120,130)은 상호 상이한 공극 크기를 가지도록 마련되는 것을 예로 하며, 3개의 여과막(110,120,130)이 적용되는 것을 예로 한다. 그리고, 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)의 순으로 공극의 크기가 크게 마련되는데, 친수성 정밀 여과막(MF)이 제1 여과막(110)으로, 친수성 한외 여과막(UF)이 제2 여과막(120)으로, 친수성 나노 여과막(NF)이 제3 여과막(130)으로 적용되는 것을 예로 하여 설명한다.The plurality of filtration membranes 110, 120, and 130 have different filtration characteristics. Here, the plurality of filtration membranes 110, 120, and 130 according to the present invention are exemplified as having different pore sizes, and three filtration membranes 110, 120, and 130 are applied. The hydrophilic microfiltration membrane MF is formed by the first filtration membrane 110 and the hydrophilic microfiltration membrane MF is formed by the first filtration membrane 110, the second filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130 in this order. The case where the filtration membrane UF is used as the second filtration membrane 120 and the hydrophilic nanofiltration membrane NF is used as the third filtration membrane 130 will be described as an example.

한편, 경로 라인(21a,22a,23a)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 원수 공급부(200)에 대해 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)을 상호 병렬로 연결시킨다. 여기서, 제1 여과막(110)이 설치된 경로 라인(21a)을 제1 경로 라인(21a)이라 하고, 제2 여과막(120)이 설치된 경로 라인(22a)을 제2 경로 라인(22a)이라 하며, 제3 여과막(130)이 설치된 경로 라인(23a)을 제3 경로 라인(23a)이라 정의하여 설명한다.5, the first, second and third filtration membranes 110, 120 and 130 are connected to the raw water supply section 200 by the path lines 21a, 22a, Connect in parallel. The path line 21a provided with the first filtration film 110 is referred to as a first path line 21a and the path line 22a provided with the second filtration film 120 is referred to as a second path line 22a, The path line 23a provided with the third filtration film 130 is defined as a third path line 23a.

보조 여과막(140a,140b)은 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130) 각각의 유입 측에 설치된다. 보다 구체적으로 설명하면, 제1 보조 여과막(140a)은 제2 경로 라인(22a)의 제2 여과막(120)의 유입 측에 설치되고, 제2 보조 여과막(140b)은 제3 경로 라인(23a)의 제3 여과막(130)의 유입 측에 설치된다.The auxiliary filter membranes 140a and 140b are provided on the inflow sides of the second filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130, respectively. The first auxiliary filtration membrane 140a is provided on the inflow side of the second filtration membrane 120 of the second path line 22a and the second auxiliary filtration membrane 140b is provided on the third path line 23a, On the inlet side of the third filtration membrane (130).

여기서, 제1 보조 여과막(140a)은 제2 여과막(120)과 상이한 여과 특성을 갖는데, 제2 여과막(120)의 공극의 크기보다 크게 마련된다. 예컨대, 제1 보조 여과막(140a)의 공극의 크기는 제1 여과막(110)의 공극의 크기에 대응하여 마련됨으로써, 제2 여과막(120)으로 유입되는 원수는 제1 여과막(110)을 통과한 것과 동일한 상태가 될 수 있다.Here, the first auxiliary filter membrane 140a has different filtration characteristics from the second filtration membrane 120, and is larger than the size of the gap of the second filtration membrane 120. For example, the size of the air gap of the first auxiliary filter membrane 140a corresponds to the size of the air gap of the first filter membrane 110, so that the raw water flowing into the second filter membrane 120 passes through the first filter membrane 110 It can be in the same state as.

마찬가지로, 제2 보조 여과막(140b)은 제3 여과막(130)과 상이한 여과 특성을 갖는데, 제3 여과막(130)의 공극의 크기보다 크게 마련된다. 예컨대, 제2 보조 여과막(140b)의 공극의 크기는 제2 여과막(120)의 공극의 크기에 대응하여 마련됨으로써, 제3 여과막(130)으로 유입되는 원수는 제2 여과막(120)을 통과한 것과 동일한 상태가 될 수 있다.Similarly, the second auxiliary filtration membrane 140b has different filtration characteristics from the third filtration membrane 130, which is larger than the size of the gap of the third filtration membrane 130. For example, the size of the pore of the second auxiliary filtration membrane 140b is corresponding to the size of the pore of the second filtration membrane 120, so that the raw water flowing into the third filtration membrane 130 passes through the second filtration membrane 120 It can be in the same state as.

여기서, 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)의 유입 측에는 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)으로 유입되는 원수의 압력을 조절하기 위한 압력 조절기(61a,62a,63a)가 설치될 수 있다.The first filtration membrane 110, the second filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130 are connected to the inlet side of the raw water flowing into the first filtration membrane 110, the second filtration membrane 120 and the third filtration membrane 130 Pressure regulators 61a, 62a, 63a for regulating the pressure may be provided.

그리고, 제1 유량 측정부(310a)는 제1 여과막(110)의 유출 측에 설치되어 제1 여과막(110)을 통과한 원수의 유량을 측정하고, 제2 유량 측정부(310b)는 제2 여과막(120)의 유출 측에 설치되어 제2 여과막(120)을 통과한 원수의 유량을 측정하며, 제3 유량 측정부(310c)는 제3 여과막(130)의 유출 측에 설치되어 제3 여과막(130)을 통과한 원수의 유량을 측정한다.The first flow rate measurement unit 310a measures the flow rate of the raw water that has been provided on the outflow side of the first filtration film 110 and has passed through the first filtration film 110. The second flow rate measurement unit 310b measures the flow rate of the second The third flow rate measuring unit 310c measures the flow rate of the raw water that has passed through the second filtration membrane 120 and is disposed on the outflow side of the filtration membrane 120, The flow rate of the raw water that has passed through the pipe 130 is measured.

상기와 같은 구성에 따라, 원수 공급부(200)로부터 공급되는 원수는 경로 라인(21a,22a,23a)에 의해 병렬로 연결된 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130)을 각각 통과한 후, 제1 유량 측정부(310a), 제2 유량 측정부(310b) 및 제3 유량 측정부(310c)에 유입되고, 오염 지수 측정부(400)가 제1 유량 측정부(310a), 제2 유량 측정부(310b) 및 제3 유량 측정부(310c)에 의해 측정된 유량에 기초하여, 제1 여과막(110), 제2 여과막(120) 및 제3 여과막(130) 각각의 오염 지수를 측정하게 된다.The raw water supplied from the raw water supply unit 200 is supplied to the first filtration film 110, the second filtration film 120 and the third filtration film 130 connected in parallel by the path lines 21a, 22a, and 23a, And then flows into the first flow measuring part 310a, the second flow measuring part 310b and the third flow measuring part 310c, and the contamination index measuring part 400 is connected to the first flow measuring part 310a, The second filtration film 120 and the third filtration film 130 based on the flow rate measured by the first flow rate measuring unit 310a, the second flow rate measuring unit 310b and the third flow rate measuring unit 310c, Each contamination index is measured.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명하였지만 본 발명의 권리범위는 이에 한정되는 것은 아니고 다음의 청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 속하는 것이다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, Of the right.

10 : 원수 공급 라인 21 : 제1 경로 라인
22 : 제2 경로 라인 23 : 제3 경로 라인
41 : 제1 경로 선택 밸브 42 : 제2 경로 선택 밸브
51 : 제1 바이패스 밸브 52 : 제2 바이패스 밸브
61 : 제1 압력 조절기 62 : 제2 압력 조절기
63 : 제3 압력 조절기 71 : 제1 바이패스 라인
72 : 제2 바이패스 라인 81 : 제1 경로 단속 밸브
82 : 제2 경로 단속 밸브 83 : 제3 경로 단속 밸브
110 : 제1 여과막 120 : 제2 여과막
130 : 제3 여과막 200 : 원수 공급부
310 : 제1 유량 측정부 320 : 제2 유량 측정부
400 : 오염 지수 측정부10: raw water supply line 21: first path line
22: second path line 23: third path line
41: first path selection valve 42: second path selection valve
51: first bypass valve 52: second bypass valve
61: first pressure regulator 62: second pressure regulator
63: third pressure regulator 71: first bypass line
72: second bypass line 81: first path intermittent valve
82: second path intermittent valve 83: third path intermittent valve
110: first filtration membrane 120: second filtration membrane
130: Third filtration membrane 200:
310: first flow measuring unit 320: second flow measuring unit
400: Pollution index measuring unit

Claims

원수 공급부로부터 측정 대상 원수를 제1 여과막에 공급하는 단계,
제1 유량 측정부에서 상기 제1 여과막을 통과한 유량을 측정하는 단계,
상기 제1 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 제1 여과막의 오염 지수를 측정하는 단계,
상기 제1 여과막을 통과한 측정 대상 원수를 상기 제1 여과막과 상이한 여과 특성을 갖는 제2 여과막에 공급하는 단계,
상기 제1 유량 측정부에서 상기 제2 여과막을 통과한 유량을 측정하는 단계, 및
상기 제1 유량 측정부에 의해 측정된 유량에 기초하여 상기 제2 여과막의 오염 지수를 측정하는 단계;를 포함하되,
상기 원수 공급부로부터의 원수가 상기 제1 여과막을 통과하여 상기 제1 유량 측정부로 유동하는 제1 측정 경로와, 상기 원수 공급부로부터의 원수가 상기 제1 여과막 및 제2 여과막을 순차적으로 통과하여 상기 제1 유량 측정부로 유동하는 제2 측정 경로가 선택적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 여과막 오염 지수 측정 방법.Supplying raw water to be measured from the raw water supply unit to the first filtration film,
Measuring a flow rate through the first filtration membrane in the first flow rate measurement unit,
Measuring a contamination index of the first filtration membrane based on the flow rate measured by the first flow rate measurement unit,
Supplying raw water to be measured which has passed through the first filtration membrane to a second filtration membrane having a filtration characteristic different from that of the first filtration membrane,
Measuring a flow rate through the second filtration membrane in the first flow rate measurement unit, and
And measuring a contamination index of the second filtration membrane based on the flow rate measured by the first flow measurement unit,
A first measurement path through which raw water from the raw water supply unit passes through the first filtration membrane and flows to the first flow rate measurement unit, and a second measurement path through which raw water from the raw water supply unit sequentially passes through the first filtration membrane and the second filtration membrane, And a second measurement path that flows to the first flow measurement unit is selectively formed.

제1항에 있어서,
상기 제1 여과막 및 제2 여과막은 친수성 여과막인 것을 특징으로 하는 여과막 오염 지수 측정 방법.The method according to claim 1,
Wherein the first filtration membrane and the second filtration membrane are hydrophilic filtration membranes.

제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제2 여과막의 공극 크기가 상기 제1 여과막의 공극 크기보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 여과막 오염 지수 측정 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the pore size of the second filtration membrane is smaller than the pore size of the first filtration membrane.

제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1 여과막은 친수성 정밀 여과막(MF)이고, 상기 제2 여과막은 친수성 한외 여과막(UF)인 것을 특징으로 하는 여과막 오염 지수 측정 방법.3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the first filtration membrane is a hydrophilic microfiltration membrane (MF), and the second filtration membrane is a hydrophilic ultrafiltration membrane (UF).

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