KR101432361B1 - Coating apparatus - Google Patents

Coating apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR101432361B1
KR101432361B1 KR1020120061535A KR20120061535A KR101432361B1 KR 101432361 B1 KR101432361 B1 KR 101432361B1 KR 1020120061535 A KR1020120061535 A KR 1020120061535A KR 20120061535 A KR20120061535 A KR 20120061535A KR 101432361 B1 KR101432361 B1 KR 101432361B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coating liquid
scanning direction
pressure
liquid supply
nozzle
Prior art date
Application number
KR1020120061535A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20130023055A (en
Inventor
슈이치 사가라
유키히로 다카무라
류스케 이토
무네아키 오에
Original Assignee
다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 filed Critical 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Publication of KR20130023055A publication Critical patent/KR20130023055A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101432361B1 publication Critical patent/KR101432361B1/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05BSPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
    • B05B12/00Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Pipe Accessories (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

왕복 이동하는 노즐에 대해 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액한 경우에서도, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능한 도포 장치를 제공한다.
압력 변동 흡수 기구(70)는, 압력 흡수부(71)와 유량 저항부(72)를 구비한다. 압력 흡수부(71)는, 도포액 공급관(64)으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 것이며, 얇은 수지제의 연질 튜브(73)로 구성된다. 또, 유량 저항부(72)는, 도포액 공급관(64)이나 연질 튜브(73)보다도 내경이 작은, 즉, 보다 작은 오리피스를 가지는 두께의 수지제의 경질 튜브(74)로 구성된다.
Provided is a coating apparatus capable of uniformly applying a coating liquid while maintaining a constant flow rate of a coating liquid even when a coating liquid is fed from a coating liquid reservoir by a flexible coating liquid supply pipe to reciprocating nozzles.
The pressure fluctuation absorbing mechanism 70 includes a pressure absorbing portion 71 and a flow rate resistance portion 72. The pressure absorbing portion 71 changes the volume of the accommodating portion of the coating liquid by elastic deformation accompanied by the pressure fluctuation of the coating liquid fed from the coating liquid supply pipe 64 and is constituted by a thin resin resin tube 73 do. The flow rate resistance portion 72 is made of a resin hard tube 74 having a smaller inner diameter than the coating liquid supply tube 64 and the soft tube 73, that is, a resin having a smaller orifice.

Description

도포 장치{COATING APPARATUS}COATING APPARATUS

본 발명은, 유기 EL 표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 장치용 유리 기판, PDP용 유리 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 혹은 반도체 제조 장치용 마스크 기판 등의 기판에 도포액을 도포하는 도포 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a coating apparatus for coating a coating liquid on a substrate such as a glass substrate for an organic EL display, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a PDP, a substrate for a solar cell, a substrate for an electronic paper, .

예들 들면, 고분자 유기 EL(Electro Luminescence) 재료를 이용한 액티브 매트릭스 구동 방식의 유기 EL 표시 장치를 제조할 때에는, 유리 기판에 대해, TFT(Thin Film Transistor) 회로의 형성 공정, 양극이 되는 ITO(Indium Tin Oxide) 전극의 형성 공정, 격벽의 형성 공정, 정공 수송 재료를 포함하는 유동성 재료의 도포 공정, 가열 처리에 의한 정공 수송층의 형성 공정, 유기 EL 재료를 포함하는 유동성 재료의 도포 공정, 가열 처리에 의한 유기 EL층의 형성 공정, 음극의 형성 공정, 및, 절연막의 형성에 의한 시일링 공정이 순차적으로 실행된다. For example, when manufacturing an active matrix drive type organic EL display device using a polymer organic EL (Electro Luminescence) material, a process of forming a TFT (Thin Film Transistor) circuit on a glass substrate, a process of forming an ITO A process of forming a barrier rib, a process of applying a fluid material including a hole transport material, a process of forming a hole transport layer by a heat treatment, a process of applying a fluid material including an organic EL material, A step of forming an organic EL layer, a step of forming a cathode, and a step of sealing by forming an insulating film are sequentially performed.

이러한 유기 EL 표시 장치의 제조 시에, 정공 수송 재료를 포함하는 유동성 재료나 유기 EL 재료를 포함하는 유동성 재료 등의 도포액을 기판에 도포하는 도포 장치로서, 도포액을 연속적으로 토출하는 복수의 노즐을, 기판에 대해 주주사 방향 및 부주사 방향으로 상대 이동시킴으로써, 기판 상의 도포 영역에 도포액을 스트라이프 형상으로 도포하는 장치가 알려져 있다. In the production of such an organic EL display device, a coating device for applying a coating liquid such as a flowable material including a hole transporting material or a flowable material including an organic EL material to a substrate is provided with a plurality of nozzles Is applied to a coating region on a substrate in a stripe shape by relatively moving the substrate in a main scanning direction and a sub scanning direction with respect to the substrate.

또, 특허 문헌 1에는, 복수의 노즐을 가지는 도포 헤드를 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 헤드 이동 기구로서, 주주사 방향으로 신장하는 가이드부에 걸어 맞춰지면서 가이드부와의 사이에 에어를 분출함으로써, 비접촉 상태로 가이드부에 지지되는 슬라이더를 채용한 것이 제안되어 있다. 이 특허 문헌 1에 기재된 도포 장치에서는, 슬라이더에 에어 공급관을 통하여 에어가 공급된다. 또, 이 슬라이더에 부착되는 도포 헤드에서의 복수의 노즐에는, 도포액 저류부와 접속된 가요성의 도포액 공급관을 통하여 도포액이 공급된다. Patent Document 1 discloses a head moving mechanism that reciprocates an application head having a plurality of nozzles in a main scanning direction and ejects air between itself and a guide portion while being engaged with a guide portion extending in the main scanning direction, And a slider supported by the guide portion. In the coating device described in Patent Document 1, air is supplied to the slider through an air supply pipe. The coating liquid is supplied to the plurality of nozzles in the coating head attached to the slider through a flexible coating liquid supply pipe connected to the coating liquid reservoir.

일본국 특허공개 2009-131735호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-131735

이러한 도포 장치에서는, 도포액의 막두께의 균일성이 요구된다. 이와 같이 도포액의 막두께를 균일하게 하기 위해서는, 노즐로부터 토출되는 도포액의 유량을 균일하게 할 필요가 있다. In such a coating device, uniformity of film thickness of the coating liquid is required. In order to uniformize the film thickness of the coating liquid in this manner, it is necessary to make the flow rate of the coating liquid discharged from the nozzles uniform.

그러나, 도포 헤드에서의 복수의 노즐과 도포액 저류부를 가요성의 도포액 공급관을 통하여 접속한 상태로, 고속으로 왕복 이동하는 노즐에 도포액을 공급한 경우에는, 노즐의 이동에 수반하는 도포액 공급관의 변형이나, 도포액 공급관 내의 도포액에 부여되는 관성력 등의 영향에 의해, 노즐로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 유지하는 것은 곤란해진다. However, in the case where the coating liquid is supplied to the nozzles reciprocating at a high speed in a state where a plurality of nozzles in the coating head and the coating liquid reservoir are connected via a flexible coating liquid supply pipe, It is difficult to maintain the flow rate of the coating liquid discharged from the nozzles at a constant level due to the deformation of the nozzle and the influence of inertia force or the like applied to the coating liquid in the coating liquid supply pipe.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것이며, 왕복 이동하는 노즐에 대해 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액(送液)한 경우에서도, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능한 도포 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the problems described above, and it is an object of the present invention to provide a coating liquid supply apparatus which, even when a coating liquid is fed from a coating liquid reservoir by a flexible coating liquid supply pipe to a reciprocating nozzle, And to provide a coating apparatus capable of uniformly applying a coating liquid.

청구항 1에 기재된 발명은, 기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대해 도포액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 기판의 표면에 대해 평행한 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 주주사 방향 이동 기구와, 상기 기판 유지부를 상기 주주사 방향과 직교하며, 또한, 기판의 표면에 대해 평행한 부주사 방향으로, 상기 노즐에 대해 상대적으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구와, 도포액 저류부로부터 상기 노즐에 대해 도포액을 송액하기 위한 가교성의 도포액 공급관을 구비한 도포 장치에 있어서, 상기 도포액 공급관으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 압력 흡수부와, 상기 도포액 공급관보다 작은 오리피스를 가지는 유량 저항부를 가지며, 상기 노즐과 상기 도포액 공급관의 사이에 배치됨과 함께, 상기 노즐과 일체가 되어 이동하는 압력 변동 흡수 기구를 구비한 것을 특징으로 한다. According to a first aspect of the present invention, there is provided a liquid ejecting apparatus comprising: a substrate holding section for holding a substrate; a nozzle for discharging a coating liquid to the substrate held by the substrate holding section; A sub scanning direction moving mechanism for moving the substrate holding part relative to the nozzle in a sub scanning direction perpendicular to the main scanning direction and parallel to the surface of the substrate; And a crosslinkable coating liquid supply pipe for feeding the coating liquid to the nozzle from the nozzle, wherein the volume of the containing portion of the coating liquid is changed by elastic deformation with pressure fluctuation of the coating liquid fed from the coating liquid supply pipe And a flow resistance portion having a smaller orifice than the coating liquid supply pipe, With the disposed between the coating liquid supply pipe, it characterized in that it includes a pressure fluctuation absorbing mechanism for moving in one body with the nozzle.

청구항 2에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 압력 흡수부는, 수지제의 연질 튜브로 구성된다. According to a second aspect of the present invention, in the invention according to the first aspect, the pressure absorbing portion is formed of a soft tube made of resin.

청구항 3에 기재된 발명은, 청구항 2에 기재된 발명에 있어서, 상기 수지제의 연질 튜브는, 그 외경이 1mm 내지 3mm이며, 그 내경이 0.5mm 내지 2.5mm이다. According to a third aspect of the present invention, in the invention as set forth in the second aspect, the resin-made soft tube has an outer diameter of 1 mm to 3 mm and an inner diameter of 0.5 mm to 2.5 mm.

청구항 4에 기재된 발명은, 청구항 2에 기재된 발명에 있어서, 상기 유량 저항부는, 상기 도포액 공급관 및 상기 연질 튜브보다 작은 내경을 가지는 수지제의 경질 튜브이다. According to a fourth aspect of the present invention, in the invention according to the second aspect, the flow resistance section is a resin hard tube having an inner diameter smaller than that of the coating liquid supply pipe and the soft tube.

청구항 5에 기재된 발명은, 청구항 4에 기재된 발명에 있어서, 상기 경질 튜브는, 그 외경이 1mm 내지 3mm이며, 그 내경이 0.05mm 내지 0.2mm이다. The invention according to claim 5 is the invention according to claim 4, wherein the hard tube has an outer diameter of 1 mm to 3 mm and an inner diameter of 0.05 mm to 0.2 mm.

청구항 6에 기재된 발명은, 기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대해 도포액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 기판의 표면에 대해 평행한 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 주주사 방향 이동 기구와, 상기 기판 유지부를 상기 주주사 방향과 직교하며, 또한, 기판의 표면에 대해 평행한 부주사 방향으로, 상기 노즐에 대해 상대적으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구와, 도포액 저류부로부터 상기 노즐에 대해 도포액을 송액하기 위한 가요성의 도포액 공급관을 구비한 도포 장치에 있어서, 두께가 얇은 연질 튜브로 구성되며, 상기 도포액 공급관으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 압력 흡수부와, 상기 도포액 공급관 및 상기 연질 튜브보다 작은 내경을 가지며, 상기 연질 튜브보다 두께가 두꺼운 수지제의 경질 튜브로 구성된 유량 저항부를 가지며, 상기 노즐과 상기 도포액 공급관의 사이에 배치됨과 함께, 상기 노즐과 일체가 되어 이동하는 압력 변동 흡수 기구를 구비한 것을 특징으로 한다. According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a liquid ejecting apparatus comprising: a substrate holding portion for holding a substrate; a nozzle for discharging a coating liquid to the substrate held by the substrate holding portion; A sub scanning direction moving mechanism for moving the substrate holding part relative to the nozzle in a sub scanning direction perpendicular to the main scanning direction and parallel to the surface of the substrate; And a flexible coating liquid supply pipe for supplying the coating liquid to the nozzle from the nozzle, wherein the coating apparatus comprises a flexible thin tube having elastic deformation A pressure absorbing portion for changing the volume of the containing portion of the coating liquid, A pressure fluctuation absorbing mechanism having an inner diameter and a flow resistance portion formed of a resin hard tube having a thickness greater than that of the soft tube and disposed between the nozzle and the applying liquid supply pipe and moving integrally with the nozzle, .

청구항 7에 기재된 발명은, 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항의 발명에 있어서, 상기 노즐은, 상기 부주사 방향에 관해서 소정의 피치로 복수개 배치되어 있으며, 상기 도포액 공급관과 상기 압력 변동 흡수 기구는, 각 노즐에 대응하여 복수 배치됨과 함께, 상기 복수의 도포액 공급관은, 각각, 상기 도포액 저류부로부터 도포액을 압송하는 펌프와 매스 플로우 컨트롤러를 통하여 연결되어 있다. According to a seventh aspect of the present invention, in the invention according to any one of the first to sixth aspects, the plurality of nozzles are arranged at a predetermined pitch in the sub-scanning direction, and the coating liquid supply pipe and the pressure fluctuation absorption mechanism And a plurality of the coating liquid supply pipes are connected through a mass flow controller and a pump for feeding the coating liquid from the coating liquid reservoir, respectively.

청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 왕복 이동하는 노즐에 대해 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액한 경우에서도, 압력 흡수부와 유량 저항부를 가지는 압력 변동 흡수 기구의 작용에 의해, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다. According to the invention as set forth in claim 1, even when the coating liquid is fed from the coating liquid reservoir portion by the flexible coating liquid supply pipe to the reciprocating nozzle, by the action of the pressure fluctuation absorbing mechanism having the pressure absorbing portion and the flow rate resistance portion , It is possible to apply the coating liquid uniformly while keeping the flow rate of the coating liquid constant.

청구항 2 및 청구항 3에 기재된 발명에 의하면, 압력 흡수부를 간이한 구성으로 할 수 있으며, 또, 연질 튜브의 길이를 변경함으로써 도포액의 압력 변동을 용이하게 제어하는 것이 가능해진다. According to the invention described in Claim 2 and Claim 3, the pressure absorbing portion can be simplified, and the pressure fluctuation of the coating liquid can be easily controlled by changing the length of the soft tube.

청구항 4 및 청구항 5에 기재된 발명에 의하면, 유량 저항부를 간이한 구성으로 할 수 있으며, 또, 경질 튜브의 길이를 변경함으로써 도포액의 압력 변동을 용이하게 제어하는 것이 가능해진다. According to the invention as set forth in claim 4 and claim 5, the flow resistance section can have a simple structure, and the pressure fluctuation of the coating liquid can be easily controlled by changing the length of the hard tube.

청구항 6에 기재된 발명에 의하면, 왕복 이동하는 노즐에 대해 가요성의 도포액 공급관에 의해 도포액 저류부로부터 도포액을 송액한 경우에서도, 압력 흡수부와 유량 저항부를 가지는 압력 변동 흡수 기구의 작용에 의해, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다. 또, 압력 흡수부 및 유량 저항부를 간이한 구성으로 할 수 있으며, 또, 연질 튜브 및 경질 튜브의 길이를 변경함으로써 도포액의 압력 변동을 용이하게 제어하는 것이 가능해진다. According to the sixth aspect of the present invention, even when the coating liquid is fed from the coating liquid reservoir portion by the flexible coating liquid supply pipe to the reciprocating nozzle, the pressure fluctuation absorbing mechanism having the pressure absorbing portion and the flow rate- , It is possible to apply the coating liquid uniformly while keeping the flow rate of the coating liquid constant. Moreover, the pressure absorbing portion and the flow rate resistance portion can be configured to be simple, and the pressure fluctuation of the coating liquid can be easily controlled by changing the lengths of the soft tube and the hard tube.

청구항 7에 기재된 발명에 의하면, 복수의 노즐에 대해 펌프의 작용으로 도포액을 압송한 경우에서도, 각 노즐로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다. According to the invention described in claim 7, even when the coating liquid is pressure-fed by the action of the pump against a plurality of nozzles, the coating liquid can be applied uniformly while the flow rate of the coating liquid discharged from each nozzle is kept constant.

도 1은 본 발명에 관련된 도포 장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명에 관련된 도포 장치의 정면도이다.
도 3은 헤드 이동 기구(21)에서의 슬라이더(31) 부근의 단면도이다.
도 4는 도포액 저류부(24)와 복수의 노즐(23)의 접속 관계를 나타낸 모식도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다.
도 6a는 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 압력 흡수부(71)의 개요도이다.
도 6b는 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 압력 흡수부(71)의 개요도이다.
도 7은 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 유량 저항부(72)의 개요도이다.
1 is a plan view of a coating apparatus according to the present invention.
2 is a front view of a coating apparatus according to the present invention.
3 is a sectional view of the head moving mechanism 21 in the vicinity of the slider 31. Fig.
4 is a schematic view showing the connection relationship between the coating liquid reservoir 24 and the plurality of nozzles 23. As shown in Fig.
5 is a schematic diagram of a pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the first embodiment of the present invention.
6A is a schematic view of a pressure absorber 71 according to a second embodiment of the present invention.
6B is a schematic view of the pressure absorbing portion 71 according to the second embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram of the flow rate resistance section 72 according to the second embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시의 형태를 도면에 기초하여 설명한다. 도 1은 본 발명에 관련된 도포 장치의 평면도이며, 도 2는 그 정면도이다. DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Fig. 1 is a plan view of a coating apparatus according to the present invention, and Fig. 2 is a front view thereof.

이 도포 장치는, 직사각형 형상의 유리 기판(100)에 대해 도포액을 도포하기 위한 것이다. 보다 상세하게는, 이 도포 장치는, 액티브 매트릭스 구동 방식의 유기 EL(Electro Luminescence) 표시 장치용의 유리 기판(100)에, 휘발성의 용매(본 실시의 형태에서는, 방향족의 유기 용매의 하나인 4-메틸아니솔), 및, 발광 재료로서의 유기 EL 재료를 포함하는 도포액을 도포하기 위한 것이다. This coating device is for applying a coating liquid to a rectangular glass substrate 100. More specifically, this coating apparatus is provided with a glass substrate 100 for an organic EL (Electro Luminescence) display device of an active matrix drive system and a volatile solvent (in this embodiment, one of aromatic organic solvents 4 -Methyl anisole), and an organic EL material as a light emitting material.

이 도포 장치는, 유리 기판(100)을 이동시키기 위한 기판 이동 기구(11)를 구비한다. 이 기판 이동 기구(11)는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 유리 기판(100)을 그 이면으로부터 유지하는 기판 유지부(10)를 가진다. 이 기판 유지부(10)는, 한 쌍의 레일(12)을 따라 이동하는 기대(13)와, 이 기대(13) 상에 배치된 회전대(14)에 의해 지지되어 있다. 이 때문에, 이 기판 유지부(10)는, 도 1에 나타낸 Y방향으로, 유리 기판(100)의 표면과 평행하게 이동 가능하게 되어 있다. 이 Y방향은, 후술하는 도포 헤드(20)의 왕복 이동 방향인 주주사 방향(도 1에 있어서의 X방향)과 직교하는 방향이다. 이하, 이 Y방향을 「부주사 방향」이라고도 호칭한다. 또, 이 기판 유지부(10)는, 연직 방향(도 1에 있어서의 Z방향)을 향하는 축을 중심으로, 회전 가능하게 되어 있다. This coating apparatus is provided with a substrate moving mechanism 11 for moving the glass substrate 100. The substrate moving mechanism 11 has a substrate holding portion 10 for holding the glass substrate 100 from the back side thereof, as shown in Fig. The substrate holding portion 10 is supported by a base 13 that moves along a pair of rails 12 and a swivel base 14 that is disposed on the base 13. Therefore, the substrate holding portion 10 is movable in parallel with the surface of the glass substrate 100 in the Y direction shown in Fig. This Y direction is a direction orthogonal to the main scanning direction (X direction in FIG. 1), which is the reciprocating movement direction of the application head 20 described later. Hereinafter, this Y direction is also referred to as a " sub scanning direction ". The substrate holding portion 10 is rotatable about an axis extending in the vertical direction (Z direction in FIG. 1).

이 기판 유지부(10)는, 유리 기판(100)을 하측으로부터 가열하는 히터를 그 내부에 구비한다. 이 유리 기판(100)의 표면에는, 각각이 X방향으로 신장하는 복수의 도포 영역이, Y방향으로, 예를 들면 100~150μm의 피치로 배열 형성되어 있다. 이 도포 영역은, 예를 들면, X방향으로 배치된 격벽 등에 의해 형성되어 있다. The substrate holding portion 10 includes a heater for heating the glass substrate 100 from below. On the surface of the glass substrate 100, a plurality of application regions extending in the X direction are arranged in the Y direction, for example, at a pitch of 100 to 150 mu m. This application region is formed by, for example, partition walls arranged in the X direction.

또, 이 도포 장치는, 유리 기판(100) 상에 형성된, 도시하지 않은 얼라이먼트 마크를 촬상하여 검출함과 함께, 도포 헤드(20)에 의한 도포 궤적을 촬상하기 위한 좌우 한 쌍의 촬상부(15)를 구비한다. 이 한 쌍의 촬상부(15)에는, 각각, CCD 카메라가 배치되어 있다. 또, 이 도포 장치는, 도포 궤적의 시험적인 도포에 사용되는 좌우 한 쌍의 시험 도포 스테이지부(16)를 구비한다. The coating apparatus is provided with a pair of right and left image pickup sections 15 for picking up and detecting alignment marks (not shown) formed on the glass substrate 100 and for picking up the locus of coating by the application head 20 . A CCD camera is disposed in each of the pair of imaging units 15. The applicator is provided with a pair of left and right test application stages 16 used for the test application of the application locus.

기판 유지부(10)에 유지된 유리 기판(100)의 표면을 향해 도포액을 토출하는 도포 헤드(20)는, 헤드 이동 기구(21)에 의해, 한 쌍의 가이드부(22)를 따라, 유리 기판(100) 표면에 평행한 주주사 방향(도 1에 있어서의 X방향)으로 왕복 이동된다. 이 도포 헤드(20)에는, 동일 종류의 도포액을 연속적으로 토출하기 위한 복수의 노즐(23)이 부주사 방향에 관해서 등간격으로 배치되어 있다. 도 1 및 도 2에서는 도시의 형편 상, 5개의 노즐(23) 만을 도시하고 있지만, 노즐(23)의 개수는, 더 다수여도 되고, 또, 1개여도 된다. 또, 노즐(23)의 배치는 소정의 피치이면 등간격이 아니어도 된다. The coating head 20 for discharging the coating liquid toward the surface of the glass substrate 100 held by the substrate holding section 10 is moved by the head moving mechanism 21 along the pair of guide sections 22, (In the X direction in Fig. 1) parallel to the surface of the glass substrate 100. As shown in Fig. In this coating head 20, a plurality of nozzles 23 for continuously discharging the same kind of coating liquid are arranged at equal intervals in the sub-scanning direction. Although only five nozzles 23 are shown in Figs. 1 and 2 for the sake of convenience, the number of the nozzles 23 may be more, or may be one. In addition, the arrangement of the nozzles 23 may not be equally spaced if they are at a predetermined pitch.

도포 헤드(20)는, 후술하는 에어 공급관 및 후술하는 복수의 도포액 공급관(64)을 하나로 합친 공급관군(26)을 통하여, 도포액 저류부(24) 및 에어 공급원(25)과 접속되어 있다. 도포 헤드(20)의 왕복 이동 방향(X방향)에 관해서 기판 유지부(10)의 양측에는, 도포 헤드(20)에서의 노즐(23)로부터의 도포액을 받는 2개의 수액부(受液部)(17, 18)가 배치되어 있다. 또, 도포 헤드(20)의 왕복 이동 방향(X방향)에 관해서 한쪽의 수액부(18)의 측방에는, 상기 서술한 복수의 노즐(23)의 부주사 방향의 피치를 조정하기 위한 노즐 피치 조정 기구(19)가 배치되어 있다. The coating head 20 is connected to the coating liquid reservoir 24 and the air supply source 25 through a supply tube group 26 which is a combination of an air supply pipe to be described later and a plurality of coating liquid supply pipes 64 . Two liquid receiving portions (liquid receiving portions) for receiving the coating liquid from the nozzles 23 in the coating head 20 are provided on both sides of the substrate holding portion 10 with respect to the reciprocating direction (X direction) ) 17 and 18 are disposed. A nozzle pitch adjustment for adjusting the pitch of the plurality of nozzles 23 in the sub scanning direction is provided on the side of one of the liquid receivers 18 with respect to the reciprocating direction (X direction) of the application head 20 A mechanism 19 is disposed.

도 3은, 헤드 이동 기구(21)에서의 슬라이더(31) 부근의 단면도이다. 3 is a cross-sectional view of the head moving mechanism 21 in the vicinity of the slider 31. Fig.

도 1에 나타낸 헤드 이동 기구(21)에서의 가이드 부재(22)에는, 슬라이더(31)가 슬라이드 이동 가능하게 배치되어 있다. 이 슬라이더(31)에는, 가이드 부재(22)가 관통하는 관통 구멍(32)이 형성되어 있다. 이 슬라이더(31)에는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 공급관군(26)에 포함되는 에어 공급관을 통하여, 에어 공급원(25)으로부터 일정 압력의 에어가 공급된다. 이 때문에, 도 3에 나타낸 바와 같이, 관통 구멍(32)의 내주면과 가이드부(22)의 외주면의 사이에 에어(기체)가 분출된다. 도 3에서는, 에어의 분출 방향을 부호 A1을 붙인 화살표로 나타내고 있다. 이것에 의해, 슬라이더(31)가 가이드부(22)에 비접촉 상태로 걸어 맞춰지면서, 주주사 방향으로 이동 가능하게 지지된다. In the guide member 22 in the head moving mechanism 21 shown in Fig. 1, a slider 31 is disposed so as to be slidable. In this slider 31, a through hole 32 through which the guide member 22 passes is formed. 1, air of a constant pressure is supplied to the slider 31 from the air supply source 25 through an air supply pipe included in the supply tube group 26. As shown in Fig. 3, air (gas) is ejected between the inner circumferential surface of the through hole 32 and the outer circumferential surface of the guide portion 22. As shown in Fig. In Fig. 3, the ejecting direction of the air is indicated by an arrow marked with A1. Thereby, the slider 31 is supported movably in the main scanning direction while being engaged with the guide portion 22 in a non-contact state.

도 1을 참조하여, 한 쌍의 가이드부(22)의 양단부 부근에는, Z축 방향을 향하는 축을 중심으로 회전 가능한 한 쌍의 풀리(33)가 배치되어 있다. 이 한 쌍의 풀리(33)에는, 무단 형상의 동기 벨트(34)가 감겨져 있다. 슬라이더(31)의 일단은, 이 동기 벨트(34)에 고정되어 있다. 한편, 슬라이더(31)의 타단에는, 상기 서술한 도포 헤드(20)가 고정되어 있다. 이 때문에, 도시하지 않은 모터의 구동에 의해 동기 벨트(34)를 시계 방향 혹은 반시계 방향으로 회전시킴으로써, 도포 헤드(20)를 (-X) 방향 또는 (+X) 방향으로 왕복 이동시킬 수 있다. 이 때, 상기 서술한 기체의 작용에 의해, 슬라이더(31)를 가이드부(22)에 대해 비접촉 상태로 지지할 수 있으므로, 도포 헤드(20)의 왕복 이동을, 고속이며 또한 원할한 것으로 하는 것이 가능해진다. Referring to Fig. 1, a pair of pulleys 33 rotatable about an axis extending in the Z-axis direction are disposed near both ends of the pair of guide portions 22. As shown in Fig. An endless synchronous belt 34 is wound around the pair of pulleys 33. One end of the slider 31 is fixed to the synchronous belt 34. [ On the other hand, at the other end of the slider 31, the above-described coating head 20 is fixed. Therefore, the application head 20 can be reciprocated in the -X direction or the + X direction by rotating the synchronous belt 34 clockwise or counterclockwise by driving a motor (not shown) . At this time, since the slider 31 can be supported in the non-contact state with respect to the guide portion 22 by the action of the above-described gas, the reciprocating motion of the application head 20 can be made fast and convenient It becomes possible.

이 도포 장치에서는, 이 헤드 이동 기구(21)가, 도포 헤드(20)를 주주사 방향으로 이동시키는 주주사 방향 이동 기구가 되고, 기판 이동 기구(11)가, 기판 유지부(10)를 부주사 방향으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구가 된다. 이 도포 장치에서는, 도포 헤드(20)의 주주사 방향으로의 이동이 완료할 때마다, 유리 기판(100)을 부주사 방향으로 이동시킴으로써, 유리 기판(100)의 표면의 도포 영역에 대해 도포액의 도포를 실행한다. 또한, 도포 헤드(20)의 주주사 시에는, 수액부(17, 18)의 근방에서 가속 또는 감속이 완료되고, 유리 기판(100)의 상방에서는, 도포 헤드(20)는, 예를 들면, 매초 3~5m 정도의 일정 속도로 이동한다. In this coating apparatus, the head moving mechanism 21 serves as a main scanning direction moving mechanism for moving the coating head 20 in the main scanning direction, and the substrate moving mechanism 11 moves the substrate holding section 10 in the sub- Scanning direction moving mechanism. In this coating apparatus, by moving the glass substrate 100 in the sub-scanning direction every time the coating head 20 completes its movement in the main-scanning direction, the coating liquid on the surface of the glass substrate 100, And the application is carried out. Acceleration or deceleration is completed in the vicinity of the liquid receivers 17 and 18 at the time of main scanning of the application head 20 and at the upper side of the glass substrate 100 the application head 20 is rotated, It moves at a constant speed of about 3 ~ 5m.

도 4는, 도 1에 나타낸 도포액 저류부(24)와 복수의 노즐(23)의 접속 관계를 나타낸 모식도이다. 4 is a schematic view showing the connection relationship between the coating liquid reservoir portion 24 and the plurality of nozzles 23 shown in Fig.

상기 서술한 도포액 저류부(24)는, 도포액을 압송하기 위한 단일의 펌프(61)와 연결되어 있다. 이 펌프(61)는, 분기관을 통하여 복수의 매스 플로우 컨트롤러(62)와 연결되어 있다. 도포 헤드(20)에 있어서 부주사 방향으로 등간격으로 배치된 복수의 노즐(23)은, 각각, 본 발명의 특징 부분인 압력 변동 흡수 기구(70)와, 상기 서술한 가요성의 도포액 공급관(64)과, 전자 개폐 밸브(63)를 통하여, 매스 플로우 컨트롤러(62)와 접속되어 있다. The above-described coating liquid reservoir portion 24 is connected to a single pump 61 for press-feeding the coating liquid. The pump 61 is connected to a plurality of mass flow controllers 62 via branch pipes. The plurality of nozzles 23 arranged at equal intervals in the sub scanning direction in the application head 20 are each constituted by a pressure fluctuation absorbing mechanism 70 which is a feature part of the present invention and a flexible coating liquid supply tube 64 and an electromagnetic opening / closing valve 63, as shown in Fig.

또한, 각 노즐(23) 및 압력 변동 흡수 기구(70)는, 도포 헤드(20)에 배치되어 있으며, 복수의 노즐(23)과 압력 변동 흡수 기구(70)는, 일체가 되어 주주사 방향으로 왕복 이동하는 구성으로 되어 있다. The nozzles 23 and the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 are disposed in the application head 20. The plurality of nozzles 23 and the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 are integrally formed as a single body, As shown in FIG.

펌프(61)의 작용에 의해 도포액 저류부(24)에 저류된 도포액은, 매스 플로우 컨트롤러(62)를 향해 압송된다. 그리고, 이 도포액은 매스 플로우 컨트롤러(62)에 있어서 그 유량이 조정된 후, 전자 개폐 밸브(63) 및 가요성의 도포액 공급관(64)을 통하여 압력 변동 흡수 기구(70)에 보내진다. 이 때, 도포 헤드(20)가 고속으로 왕복 이동하는 것에 의한 도포액 공급관(64)의 변형이나, 도포액 공급관(64) 내의 도포액에 부여되는 관성력 등의 영향에 의해, 도포액 공급관(64)에 의해 송액되는 도포액의 압력이 변동하고, 그 유량을 일정하게 유지하는 것은 곤란해진다. 이 때문에, 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서, 이 도포액의 압력의 변동을 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하고 있다. The coating liquid stored in the coating liquid reservoir 24 by the action of the pump 61 is pressure-fed toward the mass flow controller 62. This coating liquid is sent to the pressure variation absorbing mechanism 70 through the electromagnetic opening / closing valve 63 and the flexible coating liquid supply pipe 64 after the flow rate of the coating liquid is adjusted by the mass flow controller 62. At this time, due to the deformation of the coating liquid supply pipe 64 caused by the reciprocating movement of the coating head 20 at a high speed and the influence of the inertia force imparted to the coating liquid in the coating liquid supply pipe 64, The pressure of the coating liquid fed by the nozzle is fluctuated, and it becomes difficult to keep the flow rate constant. Therefore, the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 absorbs fluctuations in the pressure of the coating liquid, so that the flow rate of the coating liquid discharged from each nozzle 23 is made constant.

다음에, 이 압력 변동 흡수 기구(70)의 구성에 대해서 설명한다. 도 5는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 압력 변동 흡수 기구(70)의 개요도이다. Next, the structure of the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 will be described. 5 is a schematic diagram of a pressure fluctuation absorbing mechanism 70 according to the first embodiment of the present invention.

이 압력 변동 흡수 기구(70)는, 압력 흡수부(71)와 유량 저항부(72)를 구비한다. 여기서, 압력 흡수부(71)는, 도포액 공급관(64)으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 것이며, 얇은 수지제의 연질 튜브(73)로 구성된다. 또, 유량 저항부(72)는, 도포액 공급관(64)이나 연질 튜브(73)보다도 내경이 작은, 즉, 보다 작은 오리피스를 가지는 두께의 수지제의 경질 튜브(74)로 구성된다. 연질 튜브(73)는, 커넥터(75)를 통하여 도포액 공급관(64)과 접속되어 있다. 또, 경질 튜브(74)는, 커넥터(77)를 통하여 노즐(23)과 접속되어 있다. 그리고, 연질 튜브(73)와 경질 튜브(74)는, 커넥터(76)에 의해 접속되어 있다. The pressure fluctuation absorbing mechanism (70) includes a pressure absorbing portion (71) and a flow rate resistance portion (72). Here, the pressure absorbing portion 71 changes the volume of the containing portion of the coating liquid by elastic deformation in response to the pressure fluctuation of the coating liquid fed from the coating liquid feeding pipe 64, and the thin resin- . The flow rate resistance portion 72 is made of a resin hard tube 74 having a smaller inner diameter than the coating liquid supply tube 64 and the soft tube 73, that is, a resin having a smaller orifice. The flexible tube 73 is connected to the coating liquid supply pipe 64 through a connector 75. The hard tube 74 is connected to the nozzle 23 through a connector 77. [ The flexible tube 73 and the hard tube 74 are connected to each other by a connector 76.

압력 흡수부(71)를 구성하는 연질 튜브(73)는, 예를 들면, 그 외경이 1.5mm 정도이며, 그 내경이 1.0mm 정도인 PFA(4불화 에틸렌)제의 관체로 구성된다. 이 연질 튜브(73)는, 도포액 공급관(64)으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써, 그 내경, 즉, 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 구성을 가진다. 이 때문에, 이 연질 튜브(73)는, 유연성 및 탄성을 가지는 얇은 관 형상 부재로 구성된다. 이 연질 튜브(73)로서는, 적합한 탄성 변형이 가능하도록, 그 외경이 1mm 내지 3mm 정도인 것이 바람직하고, 그 내경이 0.5mm 내지 2.5mm 정도인 것이 바람직하다. The flexible tube 73 constituting the pressure absorbing portion 71 is made of a tube made of PFA (tetrafluoroethylene) having an outer diameter of about 1.5 mm and an inner diameter of about 1.0 mm, for example. The soft tube 73 has a structure for changing the inner diameter, that is, the volume of the containing portion of the coating liquid, by elastic deformation accompanying the pressure fluctuation of the coating liquid fed from the coating liquid supply pipe 64. Therefore, the soft tube 73 is formed of a thin tubular member having flexibility and elasticity. The soft tube 73 preferably has an outer diameter of about 1 mm to about 3 mm and preferably has an inner diameter of about 0.5 mm to about 2.5 mm so as to allow appropriate elastic deformation.

한편, 유량 저항부(72)를 구성하는 경질 튜브(74)는, 그 외경이 1.5mm 정도이며, 그 내경이 0.1mm 정도인 불소 수지제의 관체로 구성된다. 이 경질 튜브(74)는, 미소 오리피스로서의 작은 관 직경을 가짐으로써, 유량 저항으로서 기능하는 것이다. 이 때문에, 이 경질 튜브(74)는, 비교적 경질의 두께의 관 형상 부재로 구성된다. 이 경질 튜브(74)로서는, 미소 오리피스로서의 기능을 가지도록, 그 외경이 1mm 내지 3mm 정도인 것이 바람직하고, 그 내경이 0.05mm 내지 0.2mm 정도인 것이 바람직하다. 또한, 이 경질 튜브(74)는, 미소 오리피스로서의 기능을 유지할 수 있는 것이면, 유연성이나 소정의 탄성을 가지는 것이어도 된다. 여기서 말하는 경질이란, 연질 튜브(73)보다도 경도가 큰 것을 의미한다. On the other hand, the hard tube 74 constituting the flow rate resistance portion 72 is formed of a tube made of a fluororesin having an outer diameter of about 1.5 mm and an inner diameter of about 0.1 mm. This hard tube 74 functions as a flow resistance by having a small diameter as a micro orifice. For this reason, the rigid tube 74 is formed of a tubular member having a comparatively hard thickness. The hard tube 74 preferably has an outer diameter of about 1 mm to about 3 mm and preferably has an inner diameter of about 0.05 mm to about 0.2 mm so as to have a function as a micro-orifice. The hard tube 74 may have flexibility or a predetermined elasticity as long as it can maintain its function as a micro-orifice. The term "hardness" as used herein means that hardness is higher than that of the soft tube 73.

이러한 구성을 가지는 압력 변동 흡수 기구(70)에서는, 도포액 공급관(64)으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동을, 압력 흡수부(71)와 유량 저항부(72)에 의해 2단계로 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다. In the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 having such a configuration, the pressure fluctuation of the coating liquid fed from the coating liquid supply pipe 64 is absorbed in two steps by the pressure absorbing portion 71 and the flow rate resistance portion 72, The flow rate of the coating liquid discharged from each nozzle 23 can be made constant.

즉, 압력 흡수부(71)를 구성하는 연질 튜브(73)에서는, 도포액 공급관(64)으로부터 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 올라간 경우에는, 연질 튜브(73)가 팽창함으로써 그 내경이 커지고, 도포액의 수용부의 체적이 증가한다. 한편, 도포액 공급관(64)으로부터 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 내려간 경우에는, 연질 튜브(73)가 수축함으로써 그 내경이 작아져, 도포액의 수용부의 체적이 감소한다. 이것에 의해, 도포액의 압력의 변동을 흡수하는 것이 가능해진다. That is, in the soft tube 73 constituting the pressure absorbing portion 71, when the pressure of the coating liquid supplied from the coating liquid supply tube 64 to the nozzle 23 rises, the soft tube 73 expands, The inner diameter increases and the volume of the containing portion of the coating liquid increases. On the other hand, when the pressure of the coating liquid supplied from the coating liquid supply pipe 64 to the nozzle 23 is lowered, the inner diameter of the soft tube 73 is reduced due to the contraction, and the volume of the containing portion of the coating liquid is reduced. This makes it possible to absorb fluctuations in the pressure of the coating liquid.

한편, 유량 저항부(72)를 구성하는 경질 튜브(74)에서는, 미소 오리피스로서의 작은 관 직경의 작용에 의해, 도포액의 압력 변동을 흡수할 수 있다. 즉, 도포액의 유로의 내경이 어느 값으로부터 작아진 후에, 재차, 원래의 내경으로 돌아온 경우에는, 그곳을 통과하는 도포액의 평균적인 유속은, 일단, 빠른 속도가 된 후에, 원래의 속도로 복귀한다. 이 때에, 도포액과 관로 내벽의 마찰에 의한 관로를 흐르는 도포액의 압력 손실은, 그 유속의 2승에 비례한다. 이 때문에, 관로 내에 미소 오리피스를 설치함으로써, 압력 변동을 압력 손실에 의해 흡수할 수 있다. 이 때문에, 이 경질 튜브(72)에 있어서 도포액의 압력의 변동을 흡수하여, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다. On the other hand, in the hard tube 74 constituting the flow resistance section 72, the pressure fluctuation of the coating liquid can be absorbed by the action of the small diameter of the tube as the micro-orifice. That is, when the inside diameter of the flow path of the coating liquid becomes smaller than a certain value and then returns to the original inside diameter, the average flow velocity of the coating liquid passing through the inside of the flow path becomes once again at the original speed Return. At this time, the pressure loss of the coating liquid flowing through the channel due to the friction between the coating liquid and the inner wall of the channel is proportional to the square of the flow velocity. Therefore, by providing a micro-orifice in the channel, the pressure fluctuation can be absorbed by the pressure loss. This makes it possible to absorb fluctuations in the pressure of the coating liquid in the hard tube 72 and make the flow rate of the coating liquid discharged from each nozzle 23 constant.

여기서, 일반적으로, 유량 변동을 감소시키는 효과가 큰 것은, 압력 흡수부(71)보다 유량 저항부(72)이지만, 유량 저항부(72)에 있어서 과도하게 압력 손실을 주면 도포액의 토출 가능 유량이 작아진다는 문제가 있다. 한편, 압력 흡수부(71)에서는, 유량 변동을 억제하는 효과는 유량 저항부(72)보다 작지만, 토출 가능 유량이 작아지는 일은 없다. 이 때문에, 이 실시 형태에서는, 압력 흡수부(71)에 있어서 유량 변동을 저감한 후, 나머지의 유량 변동을 유량 저항부(72)로 제거함으로써, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 구성을 채용하고 있다. Generally, the effect of reducing the fluctuation of the flow rate is larger than the flow resistance portion 72 of the pressure absorbing portion 71, but when excessive pressure loss is applied to the flow resistance portion 72, Is reduced. On the other hand, in the pressure absorbing portion 71, the effect of suppressing the fluctuation of the flow rate is smaller than that of the flow resistance portion 72, but the dischargeable flow amount is not reduced. Therefore, in this embodiment, after the fluctuation of the flow rate in the pressure absorbing portion 71 is reduced, the remaining flow rate fluctuation is removed by the flow rate resistance portion 72 so that the flow rate of the application liquid is kept constant, And a uniform coating is adopted.

이 때, 이 실시 형태에서는, 압력 흡수부(71)를 연질 튜브(73)에 의해 구성하고 있기 때문에, 그 구성이 간이해지고, 또, 연질 튜브(73)의 길이를 변경함으로써 도포액의 압력 변동을 용이하게 제어하는 것이 가능해진다. 마찬가지로, 이 실시 형태에서는, 유량 저항부(72)를 경질 튜브(74)로 구성하고 있기 때문에, 그 구성이 간이해지고, 또, 경질 튜브(74)의 길이를 변경함으로써 도포액의 압력 변동을 용이하게 제어하는 것이 가능해진다. At this time, in this embodiment, since the pressure absorbing portion 71 is composed of the soft tube 73, the structure is simplified and the length of the soft tube 73 is changed to change the pressure fluctuation of the application liquid Can be easily controlled. Likewise, in this embodiment, since the flow resistance section 72 is formed of the hard tube 74, the structure is simplified and the length of the hard tube 74 is changed to facilitate the pressure fluctuation of the application liquid To be controlled.

다음에, 압력 흡수부(71)의 다른 실시 형태에 대해서 설명한다. 도 6a 및 도 6b는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 압력 흡수부(71)의 개요도이다. Next, another embodiment of the pressure absorbing portion 71 will be described. 6A and 6B are schematic diagrams of a pressure absorbing portion 71 according to a second embodiment of the present invention.

이 제2 실시 형태에 관련된 압력 흡수부(71)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)과 연통하고 그 타단이 노즐(23)측과 연통하는 도포액의 유로(82)와, 그 측부에 개구부가 형성됨과 함께 도포액의 저류부(83)를 구비한 챔버(81)와, 이 챔버(81)에서의 개구부에 배치된 탄성 변형 가능한 박막(84)에 의해 구성된다. 이 압력 흡수부(71)에서는, 탄성 변형 가능한 박막(84)의 작용에 의해, 도포액의 압력 변동을 흡수할 수 있다. The pressure absorbing portion 71 according to the second embodiment has a flow path 82 of a coating liquid one end of which communicates with the coating liquid supply pipe 64 and the other end communicates with the side of the nozzle 23, A chamber 81 provided with an opening and a reservoir 83 for the coating liquid and an elastically deformable thin film 84 disposed in the opening in the chamber 81. In the pressure absorbing portion 71, the pressure fluctuation of the coating liquid can be absorbed by the action of the elastically deformable thin film 84.

즉, 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 올라간 경우에는, 도 6a에 나타낸 바와 같이, 박막(84)이 불룩해져 도포액의 저류부(83)의 체적이 커지고, 노즐(23)에 공급되는 도포액의 압력이 내려간 경우에는, 도 6b에 나타낸 바와 같이, 박막(84)이 움푹 들어가 도포액의 저류부(83)의 체적이 작아진다. 이것에 의해, 이 압력 흡수부(71)에 있어서 도포액의 압력의 변동을 흡수하는 것이 가능해진다. That is, when the pressure of the coating liquid supplied to the nozzle 23 rises, the thin film 84 becomes bulged as shown in Fig. 6A, and the volume of the reservoir 83 of the coating liquid becomes large, When the pressure of the supplied coating liquid is lowered, the thin film 84 dents and the volume of the reservoir 83 of the coating liquid becomes smaller, as shown in Fig. 6B. This makes it possible to absorb fluctuations in the pressure of the coating liquid in the pressure absorbing portion 71.

이 때문에, 도 6a 및 도 6b에 나타낸 압력 흡수부(71)를, 도 5에 나타낸 압력 흡수부(71) 대신에, 도포액 공급관(64)과 유량 저항부(72)의 사이에 배치함으로써, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다. Therefore, by disposing the pressure absorbing portion 71 shown in Figs. 6A and 6B between the coating liquid supply pipe 64 and the flow rate resistance portion 72 instead of the pressure absorbing portion 71 shown in Fig. 5, It is possible to uniformly apply the coating liquid by keeping the flow rate of the coating liquid constant.

다음에, 유량 저항부(72)의 다른 실시 형태에 대해서 설명한다. 도 7은, 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 유량 저항부(72)의 개요도이다. Next, another embodiment of the flow rate resistance section 72 will be described. 7 is a schematic diagram of a flow rate resistance section 72 according to a second embodiment of the present invention.

도 7에 나타낸 유량 저항부(72)는, 그 일단이 도포액 공급관(64)측과 연통하고 그 타단이 노즐(23)과 연통함과 함께, 그 내부에 격벽(86)에 의한 미소 오리피스가 형성된 관로(85)로 구성되어 있다. 이 실시 형태에 관련된 유량 저항부(72)에서도, 미소 오리피스의 작용에 의해, 상기 서술한 경질 튜브(74)의 경우와 마찬가지로, 도포액의 압력 변동을 흡수하는 것이 가능해진다. 7 has one end communicating with the side of the coating liquid supply pipe 64 and the other end communicating with the nozzle 23 and a micro orifice formed by the partition wall 86 inside the flow resistance section 72 And a channel 85 formed therein. In the flow rate resistance portion 72 related to this embodiment, the pressure fluctuation of the coating liquid can be absorbed by the action of the minute orifice as in the case of the hard tube 74 described above.

이 때문에, 도 7에 나타낸 유량 저항부(72)를, 도 5에 나타낸 유량 저항부(72) 대신에, 압력 흡수부(71)와 노즐(23)의 사이에 배치함으로써, 도포액의 유량을 일정하게 유지하여 도포액을 균일하게 도포하는 것이 가능해진다. 7 can be disposed between the pressure absorbing portion 71 and the nozzle 23 instead of the flow resistance portion 72 shown in Fig. 5 to adjust the flow rate of the coating liquid to It is possible to uniformly apply the coating liquid.

이상과 같은 구성을 가지는 도포 장치에 있어서, 도포액의 도포를 개시하는 경우에서는, 최초로, 유리 기판(100)이 기판 유지부(10)에 유지된다. 그리고, 촬상부(15)에 의해 유리 기판(100)에 형성된 얼라이먼트 마크를 검출하고, 그 검출 결과에 기초하여 기판 유지부(10)가 이동 및 회전하고, 유리 기판(100)이 도 1에 있어서 실선으로 나타낸 도포 개시 위치에 배치된다. 이 상태에서, 도포 헤드(20)에서의 복수의 노즐(23)로부터 도포액의 토출이 개시됨과 함께, 헤드 이동 기구(21)에 의해 도포 헤드(20)가 주주사 방향으로 이동된다. In the coating apparatus having the above-described configuration, when the application of the coating liquid is started, the glass substrate 100 is first held on the substrate holder 10. The alignment section formed on the glass substrate 100 is detected by the imaging section 15 and the substrate holding section 10 is moved and rotated based on the detection result and the glass substrate 100 is moved And is disposed at the application start position indicated by the solid line. In this state, the dispensing of the coating liquid is started from the plurality of nozzles 23 in the coating head 20, and the coating head 20 is moved in the main scanning direction by the head moving mechanism 21. [

그리고, 복수의 노즐(23)의 각각으로부터 유리 기판(100)의 표면을 향해 도포액이 일정한 유량으로 연속적으로 토출됨과 함께, 도포 헤드(20)가 주주사 방향으로 연속적으로 일정한 속도로 이동하여, 유리 기판(100)의 도포 영역의 복수의 선 형상 영역에 도포액이 스트라이프 형상으로 도포된다. 이 때에는, 압력 흡수부(71)와 유량 저항부(72)를 구비한 압력 변동 흡수 기구(70)에 있어서 도포액의 압력의 변동이 흡수되기 때문에, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다. The coating liquid is continuously discharged from each of the plurality of nozzles 23 at a constant flow rate toward the surface of the glass substrate 100 and at the same time the coating head 20 continuously moves at a constant speed in the main scanning direction, The coating liquid is applied in a stripe shape to a plurality of linear regions of the application region of the substrate 100. At this time, fluctuations in the pressure of the coating liquid are absorbed in the pressure fluctuation absorbing mechanism 70 including the pressure absorbing portion 71 and the flow rate resistance portion 72, so that the amount of the coating liquid discharged from each nozzle 23 The flow rate can be made constant.

그리고, 도포 헤드(20)가 도 1 및 도 2 중에 2점 쇄선으로 나타낸 수액부(18)에 대향하는 대기 위치까지 이동함으로써, 도포액에 의한 스트라이프 형상의 패턴이 형성된다. 도포 헤드(20)가 대기 위치까지 이동하면, 기판 이동 기구(11)가 구동되어, 유리 기판(100)이 기판 유지부(10)와 함께 부주사 방향으로 이동한다. 이 때, 도포 헤드(20)에서는, 복수의 노즐(23)로부터 수액부(18)를 향해 도포액이 연속적으로 토출되어 있다. Then, the application head 20 moves to a standby position opposite to the liquid-receiving portion 18 indicated by the two-dot chain line in Figs. 1 and 2, thereby forming a stripe pattern by the application liquid. When the coating head 20 moves to the standby position, the substrate moving mechanism 11 is driven to move the glass substrate 100 together with the substrate holding section 10 in the sub scanning direction. At this time, in the application head 20, the coating liquid is continuously discharged from the plurality of nozzles 23 toward the liquid receiving section 18. [

이상과 같은 동작을 필요한 도포 동작이 완료될 때까지 계속한다. 그리고, 유리 기판(100)이 도포 종료 위치까지 이동하면, 복수의 노즐(23)로부터의 도포액의 토출이 정지되고, 도포 장치에 의한 유리 기판(100)에 대한 도포액의 도포 동작이 종료된다. 도포가 종료된 유리 기판(100)은, 다른 도포 장치 등으로 반송되고, 이 도포 장치에 의해 도포된 도포액 이외의 다른 2색의 도포액이 도포된다. 그리고, 유리 기판(100)에 대해 소정의 도포 공정이 행해진 후, 다른 부품과 조합되어 유기 EL 표시 장치가 제조된다. The above operation is continued until the necessary application operation is completed. When the glass substrate 100 is moved to the coating end position, the dispensing of the coating liquid from the plurality of nozzles 23 is stopped, and the coating operation of the coating liquid on the glass substrate 100 by the coating apparatus is terminated . The coated glass substrate 100 is transported to another coating apparatus or the like, and two different coating liquids other than the coating liquid applied by the coating apparatus are applied. Then, after a predetermined coating process is performed on the glass substrate 100, the organic EL display device is manufactured by combining with other components.

또한, 상기 서술한 실시 형태에서는, 도포액 공급관(64)측에 압력 흡수부(71)를 배치하고, 노즐(23)측에 유량 저항부(72)를 배치하고 있지만, 이것을 반대로 배치해도 된다. 즉, 도포액 공급관(64)측에 유량 저항부(72)를 배치하고, 노즐(23)측에 압력 흡수부(71)를 배치한 경우에서도, 각 노즐(23)로부터 토출되는 도포액의 유량을 일정하게 하는 것이 가능해진다. In the above-described embodiment, the pressure absorbing portion 71 is disposed on the side of the coating liquid supply pipe 64, and the flow rate resistance portion 72 is disposed on the side of the nozzle 23, but this may be reversed. That is, even when the flow rate resistance portion 72 is disposed on the coating liquid supply pipe 64 side and the pressure absorbing portion 71 is disposed on the nozzle 23 side, the flow rate of the coating liquid discharged from each nozzle 23 Can be made constant.

10: 기판 유지부 11: 기판 이동 기구
12: 레일 13: 기대
14: 회전대 15: 촬상부
16: 시험 도포 스테이지부 17: 수액부
18: 수액부 19: 노즐 피치 조정 기구
20: 도포 헤드 21: 헤드 이동 기구
22: 가이드부 23: 노즐
24: 도포액 저류부 25: 에어 공급원
31: 슬라이더 32: 관통 구멍
33: 풀리 34: 동기 벨트
61: 펌프 62: 매스 플로우 컨트롤러
63: 전자 개폐 밸브 64: 도포액 공급관
70: 압력 변동 흡수 기구 71: 압력 흡수부
72: 유량 저항부 73: 연질 튜브
74: 경질 튜브 81: 챔버
82: 유로 83: 도포액의 저류부
84: 박막 85: 관로
86: 격벽 100: 유리 기판
10: substrate holder 11: substrate moving mechanism
12: rail 13: expectation
14: rotating table 15:
16: Test application stage part 17:
18: liquid receiver 19: nozzle pitch adjusting mechanism
20: applying head 21: head moving mechanism
22: guide portion 23: nozzle
24: coating liquid reservoir 25: air supply source
31: Slider 32: Through hole
33: pulley 34: synchronous belt
61: Pump 62: Mass flow controller
63: electromagnetic opening / closing valve 64: coating liquid supply pipe
70: pressure fluctuation absorbing mechanism 71: pressure absorbing part
72: Flow resistance section 73: Soft tube
74: rigid tube 81: chamber
82: flow path 83: storage portion of the coating liquid
84: thin film 85: channel
86: barrier rib 100: glass substrate

Claims (7)

기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대해 도포액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 기판의 표면에 대해 평행한 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 주주사 방향 이동 기구와, 상기 기판 유지부를 상기 주주사 방향과 직교하며, 또한, 기판의 표면에 대해 평행한 부주사 방향으로, 상기 노즐에 대해 상대적으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구와, 도포액 저류부로부터 상기 노즐에 대해 도포액을 송액(送液)하기 위한 가요성의 도포액 공급관을 구비한 도포 장치에 있어서,
상기 도포액 공급관으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 압력 흡수부와, 상기 압력 흡수부와 상기 노즐 사이에 배치되고, 상기 도포액 공급관보다 작은 오리피스를 가지는 유량 저항부를 가지며, 상기 노즐과 상기 도포액 공급관의 사이에 배치됨과 함께, 상기 노즐과 일체가 되어 이동하는 압력 변동 흡수 기구를 구비하고,
상기 노즐은, 상기 부주사 방향에 관해서 소정의 피치로 복수개 배치되어 있으며, 상기 도포액 공급관과 상기 압력 변동 흡수 기구는, 각 노즐에 대응하여 복수 배치됨과 함께, 상기 복수의 도포액 공급관은, 각각 상기 도포액 저류부로부터 도포액을 압송하는 압송 수단과 상기 복수의 도포액 공급관에 대응하여 배치된 매스 플로우 컨트롤러를 통해 연결되어 있고,
상기 압력 흡수부는 수지제의 연질 튜브로 구성되고, 상기 유량 저항부는, 상기 도포액 공급관 및 상기 연질 튜브보다 작은 내경을 가지는 수지제의 경질 튜브인 것을 특징으로 하는, 도포 장치.
A main scanning direction moving mechanism reciprocating the nozzle in a main scanning direction parallel to the surface of the substrate; and a main scanning direction moving mechanism for moving the nozzle in a main scanning direction parallel to the surface of the substrate, A sub scanning direction moving mechanism that moves the substrate holding portion relative to the nozzle in a sub scanning direction perpendicular to the main scanning direction and parallel to the surface of the substrate; And a flexible coating liquid supply pipe for supplying liquid (liquid)
A pressure absorbing portion for elastically deforming the coating liquid supplied from the coating liquid supply pipe to change the volume of the containing portion of the coating liquid by the pressure change of the coating liquid to be supplied from the pressure applying portion; And a pressure variation absorbing mechanism having a flow rate resistance portion having an orifice and disposed between the nozzle and the coating liquid supply pipe and moving integrally with the nozzle,
Wherein a plurality of the nozzles are arranged at a predetermined pitch with respect to the sub scanning direction and a plurality of the coating liquid supply pipes and the pressure fluctuation absorbing mechanisms are arranged corresponding to the respective nozzles and the plurality of coating liquid supply pipes And a mass flow controller disposed corresponding to the plurality of coating liquid supply pipes, wherein the mass flow controller comprises:
Wherein the pressure absorbing portion is made of a resin soft tube and the flow rate resistance portion is a resin hard tube having an inner diameter smaller than that of the coating liquid supply tube and the soft tube.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 수지제의 연질 튜브는 그 외경이 1mm 내지 3mm이며, 그 내경이 0.5mm 내지 2.5mm인, 도포 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the flexible tube made of resin has an outer diameter of 1 mm to 3 mm and an inner diameter of 0.5 mm to 2.5 mm.
삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 경질 튜브는 그 외경이 1mm 내지 3mm이며, 그 내경이 0.05mm 내지 0.2mm인, 도포 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the hard tube has an outer diameter of 1 to 3 mm and an inner diameter of 0.05 to 0.2 mm.
기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 유지된 기판에 대해 도포액을 토출하는 노즐과, 상기 노즐을 기판의 표면에 대해 평행한 주주사 방향으로 왕복 이동시키는 주주사 방향 이동 기구와, 상기 기판 유지부를 상기 주주사 방향과 직교하며, 또한, 기판의 표면에 대해 평행한 부주사 방향으로, 상기 노즐에 대해 상대적으로 이동시키는 부주사 방향 이동 기구와, 도포액 저류부로부터 상기 노즐에 대해 도포액을 송액하기 위한 가요성의 도포액 공급관을 구비한 도포 장치에있어서,
두께가 얇은 연질 튜브로 구성되며, 상기 도포액 공급관으로부터 송액되는 도포액의 압력 변동에 수반하여 탄성 변형함으로써 도포액의 수용부의 체적을 변화시키는 압력 흡수부와, 상기 압력 흡수부와 상기 노즐 사이에 배치되고, 상기 도포액 공급관 및 상기 연질 튜브보다 작은 내경을 가지며, 상기 연질 튜브보다 두께가 두꺼운 수지제의 경질 튜브로 구성된 유량 저항부를 가지며, 상기 노즐과 상기 도포액 공급관의 사이에 배치됨과 함께, 상기 노즐과 일체가 되어 이동하는 압력 변동 흡수 기구를 구비하고,
상기 노즐은, 상기 부주사 방향에 관해서 소정의 피치로 복수개 배치되어 있으며, 상기 도포액 공급관과 상기 압력 변동 흡수 기구는, 각 노즐에 대응하여 복수 배치됨과 함께, 상기 복수의 도포액 공급관은, 각각 상기 도포액 저류부로부터 도포액을 압송하는 압송 수단과 상기 복수의 도포액 공급관에 대응하여 배치된 매스 플로우 컨트롤러를 통해 연결되어 있는 것을 특징으로 하는, 도포 장치.
A main scanning direction moving mechanism reciprocating the nozzle in a main scanning direction parallel to the surface of the substrate; and a main scanning direction moving mechanism for moving the nozzle in a main scanning direction parallel to the surface of the substrate, A sub scanning direction moving mechanism that moves the substrate holding portion relative to the nozzle in a sub scanning direction perpendicular to the main scanning direction and parallel to the surface of the substrate; And a flexible coating liquid supply pipe for supplying the coating liquid,
A pressure absorbing portion which is made of a soft thin tube and changes the volume of the containing portion of the applying liquid by elastic deformation accompanied by a pressure fluctuation of the applying liquid fed from the applying liquid feeding pipe; And a flow resistance portion formed of a resin hard tube having a thickness smaller than that of the soft tube and having a smaller inner diameter than the coating liquid supply tube and the soft tube, and disposed between the nozzle and the coating liquid supply tube, And a pressure variation absorbing mechanism that moves integrally with the nozzle,
Wherein a plurality of the nozzles are arranged at a predetermined pitch with respect to the sub scanning direction and a plurality of the coating liquid supply pipes and the pressure fluctuation absorbing mechanisms are arranged corresponding to the respective nozzles and the plurality of coating liquid supply pipes And a mass flow controller arranged in correspondence with the plurality of coating liquid supply pipes, and pressure transfer means for pressure-feeding the coating liquid from the coating liquid reservoir portion.
삭제delete
KR1020120061535A 2011-08-25 2012-06-08 Coating apparatus KR101432361B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2011-183418 2011-08-25
JP2011183418A JP5798411B2 (en) 2011-08-25 2011-08-25 Coating device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130023055A KR20130023055A (en) 2013-03-07
KR101432361B1 true KR101432361B1 (en) 2014-08-20

Family

ID=47759809

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020120061535A KR101432361B1 (en) 2011-08-25 2012-06-08 Coating apparatus

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5798411B2 (en)
KR (1) KR101432361B1 (en)
CN (1) CN102950087B (en)
TW (1) TWI508790B (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101689055B1 (en) * 2013-09-27 2016-12-22 주식회사 엘지화학 Slot die coater for production of electrodes
JP6220693B2 (en) * 2014-02-14 2017-10-25 株式会社Screenホールディングス Coating device
JP6347708B2 (en) * 2014-09-26 2018-06-27 株式会社Screenホールディングス Coating apparatus and cleaning method
JP6472139B2 (en) * 2015-06-15 2019-02-20 富士フイルム株式会社 Orifice, liquid feeding device using the same, coating device, and optical film manufacturing method
CN107051767A (en) * 2016-12-01 2017-08-18 无锡溥汇机械科技有限公司 A kind of lithium battery isolation membrane flush coater stock system
DE102017110316B4 (en) * 2017-05-12 2021-02-25 Abb Schweiz Ag Application device for coating components with a coating agent

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005054850A (en) * 2003-08-01 2005-03-03 Kobelco Contstruction Machinery Ltd Hydraulic pulse reducing device
JP2008073997A (en) * 2006-09-22 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd Ink jet printing device and color filter printing device
JP2009131735A (en) * 2007-11-28 2009-06-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Coating apparatus
JP2010078004A (en) * 2008-09-24 2010-04-08 Fujifilm Corp Liquid feeding method and application method

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08303679A (en) * 1995-05-09 1996-11-22 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Piping vibration damping coupling
JP3367836B2 (en) * 1996-08-14 2003-01-20 三菱製紙株式会社 Processing solution supply device for photosensitive material processing equipment
JP4259107B2 (en) * 2002-12-11 2009-04-30 セイコーエプソン株式会社 Droplet discharge head cleaning device, droplet discharge head cleaning method, and droplet discharge device
JP4995167B2 (en) * 2008-09-24 2012-08-08 富士フイルム株式会社 Liquid feeding method and coating method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005054850A (en) * 2003-08-01 2005-03-03 Kobelco Contstruction Machinery Ltd Hydraulic pulse reducing device
JP2008073997A (en) * 2006-09-22 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd Ink jet printing device and color filter printing device
JP2009131735A (en) * 2007-11-28 2009-06-18 Dainippon Screen Mfg Co Ltd Coating apparatus
JP2010078004A (en) * 2008-09-24 2010-04-08 Fujifilm Corp Liquid feeding method and application method

Also Published As

Publication number Publication date
CN102950087A (en) 2013-03-06
KR20130023055A (en) 2013-03-07
JP2013043137A (en) 2013-03-04
CN102950087B (en) 2015-06-17
TW201309395A (en) 2013-03-01
TWI508790B (en) 2015-11-21
JP5798411B2 (en) 2015-10-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101432361B1 (en) Coating apparatus
US9327312B2 (en) Resin coating apparatus and a method for forming a resin layer using the same
KR102635289B1 (en) Cleaning apparatus and cleaning method of ink-jet head and printing apparatus
CN103212514A (en) Sheet coating device
TW201332410A (en) Material deposition system for depositing materials on a substrate
TW201330735A (en) Method for depositing materials on a substrate
TWI359302B (en)
CN113631277B (en) Coating head, coating device and coating method
JP5537223B2 (en) Coating device
KR101596059B1 (en) Fluid dispensing method
CN103802470A (en) Transportation device and recording apparatus
KR101597042B1 (en) Coating apparatus
JP2004247111A (en) Long body arranging structure, liquid drop discharging device, photoelectric device, manufacturing method of the photoelectric device and electronic equipment
TWI571305B (en) Coating device and coating method
JP2007136397A (en) Paste-application device and display panel-manufacturing device using the same
JPWO2008149652A1 (en) Coating device
JP2016016613A (en) Cleaning device
JP5808927B2 (en) Coating device
KR100966089B1 (en) Thin film coating apparatus
JPWO2021048924A1 (en) Coating method, coating barrhead and coating equipment
US11486057B2 (en) Electrospinning apparatus
JP5554609B2 (en) Coating device
JP2012071266A (en) Coating apparatus
JP4887076B2 (en) Solution supply apparatus and method
KR20150096333A (en) Coating apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170720

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee