KR101429685B1 - 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법 - Google Patents
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- 238000004049 embossing Methods 0.000 title claims abstract description 141
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 48
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 42
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 32
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 9
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 claims description 8
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 239000011343 solid material Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 229920002430 Fibre-reinforced plastic Polymers 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 239000011151 fibre-reinforced plastic Substances 0.000 description 4
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229920001684 low density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004702 low-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/10—Cleaning by methods involving the use of tools characterised by the type of cleaning tool
- B08B1/14—Wipes; Absorbent members, e.g. swabs or sponges
- B08B1/143—Wipes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
- C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
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- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/10—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet
- C09J2301/16—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive tape or sheet by the structure of the carrier layer
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
본 발명은 기판에 묻은 먼지나 각종 이물질을 점착하여 제거할 수 있는 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 엠보싱 가공을 통해 표면에 미세한 엠보싱 돌기들을 형성함으로써 표면이 편평한 기판에 쌓인 먼지나 이물질은 물론, 기판 표면에 미세 요홈이 형성된 경우 미세 요홈 내에 쌓인 먼지나 이물질도 점착하여 제거할 수 있는 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 기판에 묻은 먼지나 각종 이물질을 점착하여 제거할 수 있는 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 엠보싱 가공을 통해 표면에 미세한 엠보싱 돌기들을 형성함으로써 표면이 편평한 기판에 쌓인 먼지나 이물질은 물론, 기판 표면에 미세 요홈이 형성된 경우 미세 요홈 내에 쌓인 먼지나 이물질도 점착하여 제거할 수 있는 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, LCD, OLED 및 PDP 등과 같은 디스플레이장치나 터치 패널 및 반도체 장치를 비롯한 다양한 분야에서는 PCB 기판, 유리기판, 백라이유닛(BLU)용 필름류 및 섬유 강화 플라스틱(FRP: fiber reinforced plastics) 등의 기판 표면에 묻은 먼지나 각종 이물질을 제거하여 성능 저하를 방지하는 크리닝 작업을 수행한다.
이를 위해 한국공개특허 제1999-67519호 및 한국공개특허 제2011-111273호 등에서는 도 1의 (a)와 같이 기판(10) 표면에 직접 접촉하여 먼지(P)를 점착 제거하는 크리닝 테이프 롤러(21) 및 상기 크리닝 테이프 롤러(21)에 점착된 먼지(P)를 다시 점착하여 수거하는 점착 테이프 롤러(22)를 사용하였으며, 필요시 정전기에 의한 먼지 부착을 방지하기 위해 제전바(23)를 포함하기도 한다.
그러나, 이상과 같은 종래 기술에서는 크리닝 테이프 롤러(21)에 감겨 있으며 일면에 점착재가 코팅되어 있는 테이프의 표면이 편평면으로 이루어져 있기 때문에, 기판(10)의 표면을 강하게 탄성 압착하면서 먼지나 각종 이물질 등을 점착 제거하기가 어렵다는 문제점이 있었다.
특히, 도 1의 (b)와 같이 기판(10) 표면을 에칭하여 요홈(11)을 형성하고 그 요홈(11)에 반도체 칩을 삽입하거나 배선용 도금 패턴 등을 형성하는 경우, 종래의 테이프로는 요홈(11) 내부에 쌓인 먼지를 제거하기 어려워 크리닝 테이프 롤러(21)로 4회 이상 반복 청소해야 하고, 또 반복 청소해도 요홈(11) 내부는 완전히 청소되지 않는다는 문제점이 있었다.
본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 기판에 묻은 먼지나 각종 이물질을 점착하여 제거함에 있어서 엠보싱 가공을 통해 표면에 미세한 엠보싱 돌기들을 형성함으로써 표면이 편평한 기판에 쌓인 먼지나 이물질은 물론, 기판 표면에 미세 요홈이 형성된 경우 미세 요홈 내에 쌓인 먼지나 이물질도 점착하여 깨끗이 제거할 수 있는 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.
이를 위해, 본 발명에 따른 엠보싱 크리팅 테이프는 기판 표면의 먼지나 이물질을 점착 제거하는 엠보싱 크리닝 테이프에 있어서 원재료 테이프를 엠보싱(embossing) 가공하여 형성된 엠보싱 돌기가 표면에 돌출되어 있는 엠보싱 테이프 및 상기 엠보싱 돌기에만 코팅되어 있는 점착재를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 기판은 요홈이 형성되어 있는 기판이고, 상기 엠보싱 돌기는 상기 요홈 중 가장 작은 요홈에 일부 또는 전부가 삽입되는 크기로 이루어져 있어서, 상기 엠보싱 돌기가 상기 요홈 내부에 삽입되어 있는 먼지나 이물질도 제거하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 원재료 테이프는 열과 압력을 가하여 상기 엠보싱 가공한 뒤 냉각만 시키면 되는 비반응성 고체인 열가소성 수지 재질로 이루어져 있는 것이 바람직하다.
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한편, 이상과 같은 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법은 원재료 테이프를 예열시키는 예열 단계와; 상기 예열된 원재료 테이프를 가압하여 표면에 엠보싱 돌기를 형성하는 엠보싱 가공 단계와; 상기 엠보싱 돌기에만 점착재를 코팅하는 점착재 코팅 단계; 및 상기 코팅된 점착재를 숙성시키는 숙성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이때, 상기 엠보싱 가공 단계는 상기 기판에 형성된 요홈 중 가장 작은 요홈에 일부 또는 전부가 삽입되는 크기의 엠보싱 돌기를 형성하는 단계인 것이 바람직하다.
또한, 상기 엠보싱 가공 단계는 표면에 패턴이 형성되어 있으며 열을 방출하는 히팅 로울러로 열가소성 수지로 이루어진 상기 원재료 테이프를 가압하는 단계인 것이 바람직하다.
또한, 상기 점착재 코팅 단계는 상기 엠보싱 돌기와 동일한 패턴을 갖는 코팅 돌기에 점착재가 묻어 있는 점착재 코팅 롤러로 상기 엠보싱 테이프를 가압하되, 롤링시 상기 엠보싱 돌기와 코팅 돌기가 일치되게 롤링하여 상기 엠보싱 돌기에만 점착재가 코팅되게 하는 것이 바람직하다.
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또한, 상기 숙성 단계 이후 상기 엠보싱 테이프를 리와인더(rewinder)로 리와인딩하고, 상기 리와인딩된 엠보싱 테이프에 절단선을 형성하는 펀칭 단계를 더 포함하는 것이 바람직하다.
이상과 같은 본 발명은 엠보싱 가공을 통해 테이프 표면에 미세한 엠보싱 돌기들을 형성하고 상기 엠보싱 돌기에는 점착재가 코팅되어 있기 때문에 엠보싱 돌기가 기판 표면을 강하게 탄성 압착하면서 먼지나 이물질을 제거하므로 크리닝 효과를 높일 수 있게 한다.
또한, 본 발명은 기판 표면에 미세 요홈이 형성된 경우에도 엠보싱 돌기가 상기 미세 요홈 내부로 삽입된 후 강하게 탄성 압착하면서 먼지나 이물질을 제거하므로 미세 요홈 내에 쌓인 먼지나 이물질에 대한 크리팅 효과 역시 높일 수 있게 한다.
도 1은 종래 기술에 따른 기판 크리닝 장치를 나타낸 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 엠보싱 크리닝 테이프를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예 따른 엠보싱 크리닝 테이프를 이용한 기판 크리닝 상태를 나타낸 도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 엠보싱 크리닝 테이프를 나타낸 부분 확대도이다.
도 5는 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 6은 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프의 제작장치를 나타낸 구성도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 엠보싱 크리닝 테이프를 나타낸 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예 따른 엠보싱 크리닝 테이프를 이용한 기판 크리닝 상태를 나타낸 도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 엠보싱 크리닝 테이프를 나타낸 부분 확대도이다.
도 5는 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 6은 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프의 제작장치를 나타낸 구성도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 엠보싱 크리팅 테이프 및 그 제조방법에 대해 상세히 설명한다.
단, 이하에서 설명할 크리닝 대상 기판은 LCD, OLED 및 PDP 등과 같은 디스플레이장치나 터치 패널 및 반도체 장치를 비롯한 다양한 분야에서 사용되는 PCB 기판, 유리기판, 백라이유닛(BLU)용 필름류 및 섬유 강화 플라스틱(FRP: fiber reinforced plastics)를 비롯한 다양한 기판을 포함하는 것으로 한다.
또한, 이상과 같은 기판 표면에 적어도 하나 이상의 요홈이 형성되어 있는 경우 상기 요홈은 일 예로 기판 표면을 에칭(etching)하여 형성된 것이고, 그 목적도 요홈에 반도체 칩을 삽입하거나 배선용 도금 패턴을 형성하기 위한 것을 비롯하여 다양한 목적을 포함하는 것으로 한다.
도 2에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프(100)는 기판(10) 표면의 먼지나 각종 이물질(이하, '먼지'라 함)을 점착 제거하는 방식으로 기판(10)을 크리닝 하는 것으로, 원재료 테이프를 엠보싱(embossing) 가공하여 형성된 엠보싱 돌기(120)가 표면에 돌출되어 있는 엠보싱 테이프(110) 및 상기 엠보싱 돌기(120)에만 코팅되어 있는 점착재(130)를 포함한다.
엠보싱 가공은 일 예로 표면에 특정 패턴으로 돌출부가 형성되어 있는 엠보스 히팅 롤러(도 6의 231 참조)로 가공 전인 원재료 테이프의 표면을 가압함으로써, 원재료 테이프의 표면 중 일부분(140)은 상기 엠보스 히팅 롤러(231)의 돌출부에 대응하는 형상으로 가압된다.
반면 가압에 의해 움푹 패인 부분(140)의 주변 부분은 엠보싱 돌기(120)가 되는데, 원재료 테이프 자체를 가압하면 원재료 테이프가 압축되면서 엠보싱 돌기(120)가 상측으로 돌출 형성되므로 당해 엠보싱 돌기(120)가 충분한 탄성을 가지게 된다.
따라서, 기판(10)이 편평면으로 이루어진 경우에는 점착재(130)가 코팅된 엠보싱 돌기(120)로 강하게 탄성 가압하며 먼지를 점착 제거하므로 크리닝 효과가 상승된다.
아울러, 본 발명의 엠보싱 크리닝 테이프를 롤러에 감아 롤링 방식으로 먼지를 제거하면 종래에 비해 더 적은 횟수만 왕복하여도 먼지가 제거되므로 크리닝 작업 시간을 월등히 단축시킬 수 있게 한다.
또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 기판(10)에 요홈(11)들이 형성되어 있는 경우에는 요홈(11) 내부로 엠보싱 돌기(120)가 삽입된 후 요홈(11)에 밀착되도록 탄성 변형되면서 먼지를 점착 제거하므로, 기판(10)에 요홈(11)들이 형성되어 있는 경우라도 충분한 크리닝 효과를 갖는다.
따라서, 차후 요홈(11)에 반도체 칩이나 배선 패턴 등이 삽입 혹은 실장되더라도 반도체 칩이나 배선 패턴이 먼지에 의해 성능 저하되거나 요홈(11)으로부터 이탈되는 박리 현상 등을 방지할 수 있게 한다.
이에, 이상과 같이 기판(10)에 요홈(11)이 형성되어 있는 경우라면 엠보싱 돌기(120)도 그에 맞게 요홈(11)들 중 가장 작은 요홈(11)에 엠보싱 돌기(120)의 일부 또는 전부가 삽입되는 크기로 이루어진다.
엠보싱 돌기(120)는 그 전부가 요홈(11) 내부에 삽입되어 먼지를 점착할 수 있지만, 엠보싱 돌기(120)가 강하게 압착되면 요홈(11) 내부 형상에 맞게 탄성 변형되면서 요홈(11) 내부에 밀착되므로 요홈(11)에 일부만 삽입되는 크기를 가져도 된다.
또한, 점착재(130)도 엠보싱 돌기(120) 전부에 코팅될 수 있지만, 엠보싱 돌기(120)가 탄성 변형되면서 요홈(11) 내부 전체와 충분히 밀착되므로 재료비 절약 측면에서 엠보싱 돌기(120)의 일부(즉, 기판(10)과 접촉하는 상단부분)에만 코팅되어 있어도 된다.
또한, 엠보싱 돌기(120) 이외에 엠보스 히팅 롤러(231)의 돌출 패턴에 의해 가압되어 상대적으로 움푹 패인 부분(140)까지 점착재(130)가 채워지면 엠보싱 돌기(120)가 갖는 효과가 저감되지만, 본 발명은 이상과 같이 엠보싱 돌기(120)에만 점착재(130)가 코팅되어 있으므로 이러한 문제점을 해결한다.
다만, 엠보싱 돌기(120)의 입체적 형상은 기판(10)의 용도, 요홈(11)의 형상이나 크기 및 엠보싱 돌기(120)의 크기에 따라 달라질 수 있으므로, 도 4에 도시한 바와 같이 필요에 따라서는 전체적으로 반구 형상으로 이루어진 엠보싱 돌기(120a)를 비롯한 그 외 다양한 형상의 엠보싱 돌기(미도시)도 사용 가능할 것이다.
한편, 엠보싱 돌기(120)가 가공되기 전의 원재료 테이프 재질에 특별한 제한은 없으나, 가급적 PE, LDPE, PP 및 PET 등과 같은 열가소성 수지 재질을 사용함으로써 엠보싱 공정 작업을 용이하게 하고, 엠보싱 공정에 의해 형성된 엠보싱 돌기(120)가 충분한 탄성력을 갖도록 하는 것이 바람직하다.
열경화성 수지는 가열에 의한 화학반응이 일어나고 또한 경화과정이 필요함에 비해, 열가소성 수지는 열과 압력을 가하면서 엠보싱 가공한 뒤 냉각만 시키면 되는 비반응성 고체에 해당한다. 따라서, 열가소성 수지를 사용하는 것이 성형 측면에서 유리함은 물론, 가압에 의해 주변 부분이 압축 돌출됨으로써 형성된 엠보싱 돌기(120)가 충분한 탄성을 가질 수 있게 한다.
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이하, 첨부된 도면을 참조하여 이상과 같은 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법에 대해 상세히 설명한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 엠보싱 크리닝 테이프 제조방법은 원재료 테이프를 예열시키는 예열 단계(S110)와, 예열된 원재료 테이프를 가압하여 표면에 엠보싱 돌기(120)를 형성하는 엠보싱 가공 단계(S120)와, 엠보싱 테이프(110)를 냉각시키는 냉각 단계(S130a)와, 엠보싱 돌기(120)에만 점착재(130)를 코팅하는 점착재 코팅 단계(S130) 및 상기 코팅된 점착재를 숙성시키는 숙성 단계(S140)를 포함한다.
또한, 제조된 엠보싱 크리닝 테이프를 리와인더(270)에 감아 기판(10) 크리닝에 사용되는 크리닝 테이프 롤러를 만드는 리와인딩 단계(S150) 및 리와인딩된 엠보싱 테이프(110)에 절단선을 형성하는 펀칭 단계(S160)를 더 포함하고, 특히 리와인딩 작업(S150)시에는 상술한 바와 같이 엠보싱 테이프(110)에 장력을 가해 텐션을 줄 수 있다.
좀더 구체적으로 설명하면, 예열 단계(S110)는 원재료 테이프를 미리 가열하여 둠으로써 당해 원재료 테이프 재질을 다소 소프트하게 만드는 공정으로, 도 6에 도시된 바와 같이 언와인더(unwinder)(210)에서 공급된 원재료 테이프를 예열 챔버(220)에 통과시켜 약 60℃ 내지 120℃의 온도로 예열을 한다. 예열 수단으로는 증기식 가열기나 전기식 히팅 코일 혹은 가열 램프 등이 사용될 수 있다.
다음, 엠보싱 가공 단계(S120)에서는 하부에 배치된 엠보스 히팅 롤러(231)와 상부에 배치된 가압 지지 롤러(232)를 갖는 엠보싱 장치(230)에 상기 예열을 마친 원재료 테이프를 통과시킴으로써, 하부에 배치된 엠보스 히팅 롤러(231)가 원재료 테이프의 표면을 가압하여 특정 패턴의 엠보싱 돌기(120)가 돌출되게 한다.
이를 위해, 상기 언와인더(210)에서 공급된 원재료 테이프는 엠보싱 가공면이 하측을 바라도록 공급되며, 엠보스 히팅 롤러(231)는 증기 가열장치나 히팅 코일이 내장되어 있어서 원재료 표면을 약 200℃ 내지 400℃의 온도로 가열하면서 가압한다.
원재료 테이프는 PE, LDPE, PP, PET 등과 같은 열가소성 수지 재질로 이루어져 있어서, 열과 압력을 가하면서 엠보싱 가공한 뒤 냉각시키면 엠보싱 가공이 완료된다. 따라서, 엠보싱 공정을 용이하게 하고, 엠보싱 돌기(120)가 충분한 탄성력을 갖게 한다.
다만, 이러한 엠보싱 가공 단계(S120)에서는 바람직하게 기판(10)에 형성된 요홈(11) 중 가장 작은 요홈(11)에 일부 또는 전부가 삽입되는 크기의 엠보싱 돌기(120)를 형성함으로써 요홈(11) 내부에 엠보싱 돌기(120)가 삽입 변형되면서 요홈(11) 내부까지 충분한 점착 크리닝 효과를 갖도록 하는 것이 바람직하다.
다음, 상기 엠보싱 가공 단계(S120)에서 열과 압력을 가하여 온도가 상승한 엠보싱 테이프(110)를 냉각 챔버(240)에 통과시켜 대략 0℃ 환경하에서 냉각(S130a)시키고, 냉각된 엠보싱 테이프(110)를 점착재 코팅장치(250)에 통과킴으로써 점착재 코팅 단계(S130)를 수행한다.
점착재 코팅장치(250)는 엠보싱 돌기(120)에 점착재(130)를 코팅하는 것으로, 엠보스 히팅 롤러(231)에 의해 가압되어 상대적으로 움푹 패인 부분(140)까지 점착재(130)가 채워지면 엠보싱 돌기(120)가 갖는 효과가 저감되므로 엠보싱 돌기(120)에만 점착재가 코팅되게 한다.
이를 위해, 점착재 코팅장치(250)는 하부에 배치되며 표면에 엠보싱 돌기(120)에 대응하는 패턴의 코팅 돌기가 있는 점착재 코팅 롤러(251)와, 상기 점착재 코팅 롤러(251)의 코팅 돌기에 점착재(130)를 공급하도록 상부가 개방된 저장조(252) 및 점착재 코팅 롤러(251)의 상부에 배치되어 한 쌍을 이루는 코팅 지지 롤러(253)를 포함한다.
따라서, 점착재 코팅 롤러(251)의 코팅 돌기가 저장조(252)의 점착재(130)에 닿도록 한 상태에서 점착재 코팅 롤러(251)를 회전시키면 각각의 코팅 돌기들에 점착재(130)가 묻고, 이때 회전 중인 점착재 코팅 롤러(251)와 코팅 지지 롤러(253) 사이에 엠보싱 테이프(110)를 통과시키면, 서로 동일한 패턴을 갖는 엠보싱 돌기(120)와 코팅 돌기가 서로 맞닿아 엠보싱 돌기(120)에만 점착재가 코팅된다.
즉, 점착재 코팅 단계(S130)에서는 엠보싱 돌기(120)와 동일한 패턴을 갖는 코팅 돌기에 점착재(130)가 묻어 있는 점착재 코팅 롤러(251)로 엠보싱 테이프(110)를 가압하되, 롤링시 엠보싱 돌기(120)와 코팅 돌기가 일치되게 롤링하여 엠보싱 돌기(120)에만 점착재가 코팅된다.
다음, 숙성 단계(S140)는 에이징 단계라고도 하는 것으로, 이상과 같이 엠보싱 돌기(120)에 코팅된 점착재를 숙성(aging)시킴으로써 점착재(130)가 점착력을 잃지는 않으면서도 약간 경화되도록 하여 유동적으로 흘러내리거나 변형되는 것을 방지하게 하는 단계이다.
이를 위해 상기 점착재 코팅 단계(S130)를 마친 엠보싱 테이프(110)를 에이징실(260)에 투입하여 약 60℃에서 약 3일간 숙성시킨다.
다음, 리와인딩 단계(S150)는 숙성을 마친 엠보싱 테이프(110)를 리와인더(270)에 감아 기판(10) 크리닝에 사용되는 크리닝 테이프 롤러를 만드는 단계이다. 이때, 엠보싱 테이프(110)의 이동 경로를 따라서 텐션 롤러(271, 272)를 상하 방향에 교번적으로 설치함으로써 리와인딩을 돕는다.
삭제
다음, 펀칭 단계(S160)는 리와인딩된 엠보싱 테이프(110)에 절단선을 형성하는 하는 단계로서, 장시간 사용으로 엠보싱 돌기(120)에 먼지가 묻어 더 이상 점착 크리닝 테이프의 역할을 수행하지 못하면, 상기 절단선 부분을 잘라내어 최외각에 감겨있는 엠보싱 테이프(110)는 제거하고 그 내측의 엠보싱 테이프(110)가 노출되게 한다.
이를 위해 보통은 점선 패턴의 블레이드(281)를 갖는 펀칭 장치(280)를 이용하여 리와인딩된 엠보싱 테이프(110)를 가압함으로써 절단선을 형성한다.
이상, 본 발명의 특정 실시예에 대하여 설명하였다. 그러나, 본 발명의 사상 및 범위는 이러한 특정 실시예에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 요지를 변경하지 않는 범위 내에서 다양하게 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이해할 것이다.
따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
110: 엠보싱 테이프 120: 엠보싱 돌기
130: 점착재 210: 언와인더
220: 예열 챔버 230: 엠보싱 장치
231: 엠보스 히팅 롤러 232: 가압 지지 롤러
240: 냉각 챔버 250: 점착재 코팅장치
251: 점착재 코팅 롤러 252: 저장조
253: 코팅 지지 롤러 260: 에이징실
270: 리와인더 271, 272: 텐션 롤러
280: 펀칭 장치 281: 블레이드
130: 점착재 210: 언와인더
220: 예열 챔버 230: 엠보싱 장치
231: 엠보스 히팅 롤러 232: 가압 지지 롤러
240: 냉각 챔버 250: 점착재 코팅장치
251: 점착재 코팅 롤러 252: 저장조
253: 코팅 지지 롤러 260: 에이징실
270: 리와인더 271, 272: 텐션 롤러
280: 펀칭 장치 281: 블레이드
Claims (10)
- 기판 표면의 먼지나 이물질을 점착 제거하는 엠보싱 크리닝 테이프에 있어서,
원재료 테이프를 엠보싱(embossing) 가공하여 형성된 엠보싱 돌기가 표면에 돌출되어 있는 엠보싱 테이프; 및
상기 엠보싱 돌기에만 코팅되어 있는 점착재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프. - 제1항에 있어서,
상기 기판은 요홈이 형성되어 있는 기판이고, 상기 엠보싱 돌기는 상기 요홈 중 가장 작은 요홈에 일부 또는 전부가 삽입되는 크기로 이루어져 있어서, 상기 엠보싱 돌기가 상기 요홈 내부에 삽입되어 있는 먼지나 이물질도 제거하는 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프. - 제1항에 있어서,
상기 원재료 테이프는 열과 압력을 가하여 상기 엠보싱 가공한 뒤 냉각만 시키면 되는 비반응성 고체인 열가소성 수지 재질로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프. - 삭제
- 기판 표면의 먼지나 이물질을 점착 제거하는 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법에 있어서,
원재료 테이프를 예열시키는 예열 단계와;
상기 예열된 원재료 테이프를 가압하여 표면에 엠보싱 돌기를 형성하는 엠보싱 가공 단계와;
상기 엠보싱 돌기에만 점착재를 코팅하는 점착재 코팅 단계; 및
상기 코팅된 점착재를 숙성시키는 숙성 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법. - 제5항에 있어서,
상기 엠보싱 가공 단계는 상기 기판에 형성된 요홈 중 가장 작은 요홈에 일부 또는 전부가 삽입되는 크기의 엠보싱 돌기를 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법. - 제5항에 있어서,
상기 엠보싱 가공 단계는 표면에 패턴이 형성되어 있으며 열을 방출하는 히팅 로울러로 열가소성 수지로 이루어진 상기 원재료 테이프를 가압하는 단계인 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법. - 제5항에 있어서,
상기 점착재 코팅 단계는 상기 엠보싱 돌기와 동일한 패턴을 갖는 코팅 돌기에 점착재가 묻어 있는 점착재 코팅 롤러로 상기 엠보싱 테이프를 가압하되, 롤링시 상기 엠보싱 돌기와 코팅 돌기가 일치되게 롤링하여 상기 엠보싱 돌기에만 점착재가 코팅되게 하는 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법. - 삭제
- 제5항에 있어서,
상기 숙성 단계 이후 상기 엠보싱 테이프를 리와인더(rewinder)로 리와인딩하고, 상기 리와인딩된 엠보싱 테이프에 절단선을 형성하는 펀칭 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 엠보싱 크리닝 테이프의 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120054729A KR101429685B1 (ko) | 2012-05-23 | 2012-05-23 | 엠보싱 크리닝 테이프 및 그 제조방법 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20130131015A KR20130131015A (ko) | 2013-12-03 |
KR101429685B1 true KR101429685B1 (ko) | 2014-08-13 |
Family
ID=49980390
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---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101429685B1 (ko) |
Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
CN111495885A (zh) * | 2020-05-31 | 2020-08-07 | 郑鹏艺 | 一种驱动控制的led数码显示屏 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220046867A (ko) | 2020-10-08 | 2022-04-15 | 박형수 | 미세먼지 점착 집진 막 |
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JP2004250567A (ja) * | 2003-02-20 | 2004-09-09 | Dainippon Printing Co Ltd | 粘着シート |
KR20110105634A (ko) * | 2010-03-19 | 2011-09-27 | 김민구 | 엠보싱 조각벽지 |
KR20110111273A (ko) * | 2011-08-04 | 2011-10-10 | 주식회사 테크라인 | 크리닝기기 용 낱장 이물제거 점착테이프 |
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2012
- 2012-05-23 KR KR1020120054729A patent/KR101429685B1/ko active IP Right Grant
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20130131015A (ko) | 2013-12-03 |
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