KR101416629B1 - Manufacturing method of articles having fine pattern, and articles manufactured by the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것으로서, 공정이 간단하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 판상 제품의 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 또한 본 발명은 낮은 생산 단가로 저가 제품을 생산하는데 적합하며, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴을 형성할 수 있는 방법을 제공하는데 그 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 빛에 반응하는 광 반응 수지를 기판 위에 도포한 뒤, 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 구분되는 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 판상 제품의 제조 방법을 제공한다.The present invention relates to a method of manufacturing a product having a fine pattern, and a method of manufacturing a plate-shaped product, which can simplify the process and solve the problem of the conventional process defects, and can reduce the defect rate, reduce the cost, and improve the production yield There is a main purpose in this. It is another object of the present invention to provide a method of forming a functional multi-layered fine pattern which is suitable for producing a low-cost product at a low production cost and provides a robust and versatile visual effect. In order to accomplish the above object, the present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device, which comprises applying a light-reactive resin on a substrate, irradiating a selected region of the photoreactive resin coated on the substrate with light, Wherein a fine pattern is formed in the resin layer on the substrate by a difference in transparency by causing a difference in transparency between the portions of the substrate that are not covered with the substrate.

Description

미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법, 및 이에 의해 제조되는 제품{Manufacturing method of articles having fine pattern, and articles manufactured by the same}Technical Field [0001] The present invention relates to a method of manufacturing a product having a fine pattern, and a product manufactured thereby,

본 발명은 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것으로서, 공정이 간단하면서 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method of manufacturing a product having a fine pattern, which can simplify the process and reduce the defect rate, reduce the cost, and improve the production yield.

기판 표면에 미세 패턴을 형성하기 위한 종래의 방법으로는, 나노 또는 마이크로 패턴이 가공된 몰드를 이용하여 미세 패턴이 형성된 필름을 직접 성형하거나, 마스터 몰드를 이용하여 필름형 몰드를 제작한 뒤 이 필름형 몰드를 이용하여 기판 표면에 미세 패턴을 성형하는 방법을 들 수 있다. As a conventional method for forming a fine pattern on the surface of a substrate, a film having fine patterns is directly formed by using a mold in which a nano or micro pattern is processed, or a film mold is produced using a master mold, Type mold to form a fine pattern on the surface of the substrate.

여기서, 필름형 몰드를 이용하는 방법은 마스터 몰드의 수명을 연장할 수 있는 이점이 있다. Here, the method using the film-type mold has an advantage that the life of the master mold can be extended.

이러한 공정의 선행문헌으로는 공개특허 제10-2009-0030932호와 등록특허 제10-0601264 등을 들 수 있다. Prior art documents related to such a process include Published Documents 10-2009-0030932 and 10-0601264.

도 1은 종래의 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 몰드(mold)를 이용한 열적 성형 방법을 나타내고 있다. 1 is a view showing a conventional method of forming a fine pattern, which shows a thermal forming method using a mold.

도시된 바와 같이, 미세 패턴이 형성된 몰드(3)를 이용하여 기판(1) 표면의 성형용 수지(2)를 일정한 온도로 가열한 뒤 압력을 가하여 미세 패턴을 성형한다.As shown in the figure, the molding resin 2 on the surface of the substrate 1 is heated to a predetermined temperature by using the mold 3 having the fine pattern formed thereon, and a fine pattern is formed by applying pressure.

그리고, 도 2는 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 몰드를 이용한 자외선 성형 방법을 나타내고 있다.2 is a view showing another conventional method for forming a fine pattern, which shows a method of forming an ultraviolet ray using a mold.

도시된 바와 같이, 미세 패턴이 형성된 몰드(4) 위에 자외선 경화 수지(UV-curable resin)(5)를 균일하게 도포하고, 그 위에 투명 기판(6)을 덮은 다음, 투명 기판(6) 위에서 자외선 경화 수지(5) 쪽으로 자외선을 조사한다. As shown in the figure, the UV-curable resin 5 is uniformly coated on the mold 4 having the fine pattern formed thereon, the transparent substrate 6 is covered with the UV-curable resin 5, And ultraviolet rays are irradiated toward the cured resin 5 side.

이때, 투명 기판(6)을 투과한 자외선에 의해 자외선 경화 수지(5)가 경화되는데, 몰드(4)에 의해 성형되고 자외선에 의해 경화된 수지(5)에 미세 패턴이 형성되며, 몰드(4)로부터 투명 기판(6)을 분리하고 나면, 투명 기판(6) 표면에 미세 패턴이 형성된 제품을 제작할 수 있게 된다.At this time, the ultraviolet curable resin 5 is cured by ultraviolet rays transmitted through the transparent substrate 6, and a fine pattern is formed on the resin 5 molded by the mold 4 and cured by ultraviolet rays, It is possible to manufacture a product in which a fine pattern is formed on the surface of the transparent substrate 6.

또한 도 3은 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 포토마스크와 감광제를 이용한 포토리소그래피(photolithography) 공정을 나타내고 있다.3 is a view showing another conventional method of forming a fine pattern, which shows a photolithography process using a photomask and a photosensitizer.

도시된 바와 같이, 기판(7) 위에 감광제(8)를 균일하게 도포하고, 포토마스크(9)에 의해 노광되는 부분과 노광이 되지 않은 부분을 구분하여 기판(7) 표면의 감광제(8)를 선택적으로 제거함으로써, 기판(7) 위에 원하는 미세 패턴을 형성하게 된다. As shown in the figure, the photoresist 8 is uniformly applied on the substrate 7, and the portion exposed by the photomask 9 is separated from the portion not exposed to the photoresist 8 on the surface of the substrate 7 Thereby selectively forming the desired fine pattern on the substrate 7. [

이때, 기판 표면에서 노광 영역의 감광제 부분이 제거될 수 있도록 양성 감광제가 사용되거나, 노광이 되지 않은 부분이 제거될 수 있도록 음성 감광제가 사용될 수 있다. At this time, a positive photoresist may be used to remove the photoresist portion of the exposed region on the substrate surface, or a negative photoresist may be used to remove the unexposed portion.

그러나, 상기한 몰드를 이용하는 방법은 몰드 제작 공정이 복잡하고, 성형 공정시에 발생하는 공정 결함이 문제가 되고 있다. However, the method using the above-described mold is complicated in the mold making process, and the process defects that occur in the molding process become a problem.

특히, 기판에 마이크로 또는 나노 스케일의 패턴을 전사하기 위해 몰드(또는 스탬프)를 제작함에 있어서, 복잡한 패턴의 경우 몰드를 제작하는데 많은 비용이 소요되고, 이러한 몰드를 이용하여 미세 패턴을 성형하는 과정에서 많은 불량이 발생하여 생산 수율이 낮다는 문제점이 있다.Particularly, in manufacturing a mold (or a stamp) for transferring a micro or nano scale pattern to a substrate, a complicated pattern requires a large amount of cost to manufacture a mold, and in the process of forming a fine pattern using such a mold, There is a problem in that a large number of defects occur and production yield is low.

또한 다층 구조의 미세 패턴을 형성하는 경우에는 매우 취약한 제품 구조를 가지게 된다. In addition, when a fine pattern of a multi-layer structure is formed, a very weak product structure is obtained.

아울러, 반도체나 디스플레이와 같은 고가의 제품을 제조함에 있어서는 포토리소그래피 공정을 적용하여 높은 수율을 얻고 있으나, 이와 같은 공정은 노광-현상-세정 등 공정의 단가가 높기 때문에 필름 제품과 같은 저가 제품에 적용하기에는 적합하지 않으며, 특히 다층 구조의 패턴을 형성하는 경우에 취약한 구조를 가지게 된다. In addition, high-yield products such as semiconductors and displays are produced by applying a photolithography process. However, since such a process has a high process cost such as exposure, development, and cleaning, it is applied to low-cost products such as film products It is not suitable for the following reasons, and it has a weak structure especially when a pattern of a multi-layer structure is formed.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출한 것으로서, 공정이 간단하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a product having a fine pattern, which can simplify the process, solve the conventional process defects problem, And a method for producing the same.

또한 본 발명의 다른 목적은 낮은 생산 단가로 저가 제품을 생산하는데 적합하며, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴을 형성할 수 있는 방법을 제공하는데에 있다.Another object of the present invention is to provide a method for forming a functional multi-layered fine pattern which is suitable for producing a low cost product at a low production cost and which provides a robust and various visual effect.

또한 본 발명의 또 다른 목적은 휴대전화나 휴대용 PC와 같은 제품의 외장재 또는 외장 부품, 디스플레이 부품 등으로 사용 가능한 미세 패턴을 갖는 기능성 제품을 제조할 수 있는 방법을 제공하는데에 있다.
It is still another object of the present invention to provide a method for manufacturing a functional product having a fine pattern usable as an exterior material, an exterior part, or a display part of a product such as a mobile phone or a portable PC.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 빛에 반응하는 광 반응 수지를 기판 위에 도포한 뒤, 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 구분되는 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법을 제공한다.In order to accomplish the above object, the present invention provides a method of manufacturing a semiconductor device, which comprises applying a light-reactive resin on a substrate, irradiating a selected region of the photoreactive resin coated on the substrate with light, And a difference in transparency of a part of the substrate which is not covered with the transparent substrate is caused to occur, thereby forming a fine pattern which is distinguished by the difference in transparency inside the resin layer on the substrate.

여기서, 상기 광 반응 수지의 선택된 영역에만 빛이 조사될 수 있도록 하기 위해, 빛이 통과되는 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재를 기판에 도포된 수지 위로 위치시킨 다음 빛을 조사하거나, 집속 렌즈에 의해 집속된 빛을 직접 원하는 수지 부분에 조사하는 것을 특징으로 한다.Here, in order to allow light to be irradiated only to a selected region of the photoreactive resin, a selective light transmitting member having a patterned through region through which light passes is placed on the resin coated on the substrate, And the light focused by the lens is directly irradiated to a desired resin portion.

또한 상기 광 투과 부재로 포토마스크 또는 나노 스텐실을 이용하는 것을 특징으로 한다.And a photomask or nano stencil is used as the light transmitting member.

또한 상기 빛이 자외선, 레이저, 전자빔 중 어느 하나인 것을 특징으로 한다.And the light is any one of ultraviolet ray, laser, and electron beam.

또한 상기 기판은 고분자 기판, 유리 기판, 세라믹 기판, 또는 금속 기판인 것을 특징으로 한다.The substrate may be a polymer substrate, a glass substrate, a ceramic substrate, or a metal substrate.

또한 상기 수지층 위에서 광 반응 수지를 도포하고 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발하는 과정을 반복함으로써, 내부에 미세 패턴을 갖는 수지층을 기판 위에 이층 이상의 다층 구조로 형성하는 것을 특징으로 한다.Also, by repeating a process of applying a photoreactive resin on the resin layer and irradiating light to cause a difference in transparency between the light-irradiated portion and the non-light-irradiated portion, a resin layer having a fine pattern therein is formed on the substrate Or more.

또한 상기 기판과 미세 패턴이 형성된 수지층 사이에 색을 가지는 색구현층을 적층 형성하는 것을 특징으로 한다.And a color reproduction layer having a color between the substrate and the resin layer on which the fine pattern is formed.

또한 상기 색구현층은 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 형성하거나, 금속, 산화물, 탄화물, 또는 질화물의 박막을 증착하여 형성하는 것을 특징으로 한다.The color developing layer may be formed using an ink containing a dye, or may be formed by depositing a thin film of a metal, an oxide, a carbide, or a nitride.

또한 상기 기판과 색구현층 사이, 또는 상기 색구현층과 미세 패턴이 형성된 수지층 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층을 적층 형성하는 것을 특징으로 한다.And a pattern layer having a concavo-convex structure having a nano or micro pattern is formed between the substrate and the color reproduction layer or between the color reproduction layer and the resin layer having the fine pattern formed thereon.

또한 상기 기판과 미세 패턴이 형성된 수지층 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층을 적층 형성하는 것을 특징으로 한다.And a pattern layer having a concave-convex structure of nano or micro pattern is laminated between the substrate and the resin layer in which the fine pattern is formed.

또한 상기 기판은 디스플레이용 윈도우에 부착되는 고분자 재질의 투명 기판 또는 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용되는 투명 기판인 것을 특징으로 한다.In addition, the substrate is a transparent substrate of a polymer material or a transparent substrate used as a window part for a display attached to a display window.

또한 상기 미세 패턴을 갖는 최 외곽 수지층의 표면에 내지문 필름을 적층하여 내지문 기능을 가지도록 제조하는 것을 특징으로 한다.
And an inner fingerprint film is laminated on the surface of the outermost resin layer having the fine pattern so as to have an inner fingerprint function.

이에 따라, 본 발명의 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에서는 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 부분에 빛을 조사하여 빛을 받은 수지 부분과 빛을 받지 못한 수지 부분의 투명도 차이를 유발하는 간단한 공정으로 미세 패턴을 형성할 수 있는바, 저비용의 생산이 가능하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해진다.Accordingly, in the method of manufacturing a product having a fine pattern according to the present invention, light is irradiated onto a selected portion of a photoreactive resin applied on a substrate to produce a difference in transparency between the light-receiving resin portion and the non- It is possible to produce a fine pattern, and at the same time, it is possible to achieve low-cost production while eliminating the problem of the conventional process defects, and it is possible to reduce the defect rate, reduce the cost, and improve the production yield.

또한 본 발명은 다양한 형상의 패턴을 구현할 수 있고, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴 형성이 용이하며, 다층 구조에서 다양한 패턴 조합이 가능하므로 응용의 폭이 넓은 이점이 있다.Further, the present invention can easily form fine patterns of a functional multilayer structure that can realize patterns of various shapes, provide robust and various visual effects, and can be combined with various patterns in a multi-layer structure.

또한 본 발명은 평면 기판뿐만 아니라 곡면 기판을 사용하여 미세 패턴이 형성된 판상 제품을 제조하는데에도 적용 가능하며, 투명한 필름 기판을 사용하여 디스플레이용 필름을 제조하는데에도 적용될 수 있다.In addition, the present invention can be applied not only to a flat substrate but also to a flat substrate having fine patterns formed by using a curved substrate, and to a display film using a transparent film substrate.

또한 본 발명은 필름이나 시트, 판재 등과 같은 다양한 형태의 기판을 사용한 제품을 제조하는데 적용될 수 있으며, 이러한 기판 제품은 휴대전화나 휴대용 PC, 그 밖에 알려진 여러 기기나 장치 등의 고급 외장재 또는 외장 부품으로 유용하게 사용될 수 있다.In addition, the present invention can be applied to the manufacture of products using various types of substrates such as films, sheets, plates and the like. Such substrate products can be used as high-quality exterior materials or external parts such as mobile phones, portable PCs, Can be usefully used.

또한 본 발명은 필름, 유리, 석영, 기타 세라믹이나 금속판 등 기판의 종류에 상관없이 패턴을 형성할 수 있으며, 특히 기판에 압력을 가하는 방식이 아니므로 쉽게 깨질 수 있는 유리 기판에 대해서도 미세 패턴을 형성할 수 있는 이점이 있다.
Further, the present invention can form a pattern regardless of the type of the substrate, such as film, glass, quartz, other ceramics or metal plates, and in particular, since it is not a method of applying pressure to the substrate, it can form a fine pattern There is an advantage to be able to do.

도 1은 종래의 미세 패턴 형성 방법으로서 몰드를 이용한 열적 성형 방법을 나타내는 도면이다.
도 2는 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법으로서 몰드를 이용한 자외선 성형 방법을 나타내는 도면이다.
도 3은 종래의 또 다른 미세 패턴 형성 방법으로서 포토마스크와 감광제를 이용한 포토리소그래피 공정을 나타내는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.
도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면이다.1 is a view showing a thermal forming method using a mold as a conventional fine pattern forming method.
2 is a view showing a method of forming an ultraviolet ray using a mold as another conventional fine pattern forming method.
3 is a view showing a photolithography process using a photomask and a photosensitive agent as another conventional fine pattern formation method.
4 is a view illustrating a method of forming a fine pattern according to a first embodiment of the present invention.
5 is a view illustrating a method of forming a fine pattern according to a second embodiment of the present invention.
6 is a view illustrating a method of forming a fine pattern according to a third embodiment of the present invention.
7 is a view showing a method of forming a fine pattern according to a fourth embodiment of the present invention.
8 is a view illustrating a method of forming a fine pattern according to a fifth embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, which will be easily understood by those skilled in the art.

본 발명은 공정이 간단하고 저비용으로 생산이 가능하면서도 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능하고, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공할 수 있는 기능성 미세 패턴 구조를 형성할 수 있는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method capable of forming a functional fine pattern structure capable of providing a simple and inexpensive production process, capable of reducing defective rate, reducing cost, improving production yield, and providing robust and versatile visual effects .

본 발명에서 미세 패턴이라 함은 나노 스케일 또는 마이크로 스케일까지 포함하는 미세한 패턴을 의미한다.In the present invention, a fine pattern means a fine pattern including nanoscale or microscale.

먼저, 본 발명은, 기판 위에 미세 패턴을 가지는 수지층을 형성하는 방법으로서, 기판 위에 빛에 반응하는 수지를 도포한 뒤, 기판에 도포된 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 육안 식별되는 미세 패턴을 형성하는 점에 주된 특징이 있는 것이다.A method of forming a resin layer having a fine pattern on a substrate, comprising the steps of: applying a resin that reacts with light on a substrate; irradiating a selected region of the resin coated on the substrate with light; And a difference in transparency between the portions not irradiated with light, thereby forming a fine pattern visually identified by the difference in transparency inside the resin layer on the substrate.

이때, 수지의 선택된 부분에 빛을 조사하는 방법으로는, 포토마스크(photomask)나 나노 스텐실과 같이 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재를 수지 위로 위치시킨 뒤 빛을 조사하는 방법, 또는 집속 렌즈 등에 의해 집속된 빛을 원하는 수지 부분에 직접 조사하는 방법 등이 이용될 수 있다. As a method of irradiating a selected portion of the resin with light, a method of irradiating light with a selective light transmitting member having a patterned through region such as a photomask or a nano stencil is placed on the resin, A method of directly irradiating the desired resin part with light focused by a lens or the like can be used.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대해 좀더 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 빛과 포토마스크를 이용하여 미세 패턴을 형성하는 방법을 나타내고 있다.FIG. 4 is a view showing a method of forming a fine pattern according to the first embodiment of the present invention, and shows a method of forming a fine pattern using light and a photomask.

도시된 바와 같이, 빛에 반응하는 수지(12a)를 기판(11) 표면에 균일하게 도포한 뒤, 형성하고자 하는 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재(13)를 수지(12a)가 도포된 기판(11) 위로 위치시킨다.As shown in the figure, after the resin 12a which reacts with the light is uniformly applied to the surface of the substrate 11, the selective light transmitting member 13 having the patterned penetration region to be formed is coated with the resin 12a (Not shown).

이어 선택적 광 투과 부재(13) 위에서 광 조사 장치(도시하지 않음)를 이용하여 아래쪽, 즉 선택적 광 투과 부재(13) 및 기판(11) 쪽으로 빛을 조사하는데, 이때 기판(11) 표면에 도포된 광 반응 수지(12a)의 전체 영역 중 선택적 광 투과 부재(13)의 관통 영역을 통해 빛을 받은 수지 부분(12b)이 반응하게 된다.The selective light transmitting member 13 and the substrate 11 are irradiated with light on the selective light transmitting member 13 using a light irradiating device (not shown) The light receiving resin portion 12b reacts through the through region of the selective light transmitting member 13 in the entire region of the photoreactive resin 12a.

이에 따라, 수지 전체 영역 중 광 조사 장치의 빛에 의해 반응된 수지 부분(12b), 즉 선택적 광 투과 부재의 관통 영역을 통해 빛을 받은 수지 부분과, 선택적 광 투과 부재(13)(관통 영역을 제외한 나머지 부분)에 의해 가려져 빛을 받지 못한 수지 부분(12a) 사이에는 투명도(투과도)의 차이가 발생하게 된다.Thus, the resin part 12b reacted by the light of the light irradiation device in the entire resin area, that is, the resin part that receives light through the through area of the selective light transmitting member and the selective light transmitting member 13 (the through area A difference in transparency (transparency) occurs between the resin portions 12a which are shielded by the light and are not received.

이러한 투명도의 차이로 인해 수지 전체 영역에서 빛과 반응한 수지 부분(12b)이 나머지 수지 부분(12a)과 외관상으로 구분되어지는 수지층(12) 내부의 미세 패턴을 이루게 되며, 이에 내부에 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)과 기판(11)이 적층된 제품을 제조할 수 있게 된다. Due to such a difference in transparency, the resin portion 12b reacting with light in the entire resin region forms a fine pattern in the resin layer 12 which is apparently distinguished from the remaining resin portion 12a, It is possible to produce a product in which the resin layer 12 having the resin layer 12b and the substrate 11 are laminated.

본 발명에서 기판(11)은 두께가 일정하거나 부분적으로 상이한 판상의 기재가 될 수 있고, 이때 기판의 두께에 대해서는 특정하게 한정하지 않는다. In the present invention, the substrate 11 may be a plate-shaped substrate having a constant thickness or a partially different thickness, and the thickness of the substrate is not particularly limited at this time.

또한 상기 기판(11) 대신 미세 패턴이 형성될 표면을 갖는 특정 형상의 부재나 부품이 사용될 수도 있으며, 평판의 선택적 광 투과 부재뿐만 아니라 휨 가능한 가요성의 선택적 광 투과 부재(13), 곡면판 형상의 선택적 광 투과 부재가 사용될 수 있으므로, 기판(11) 역시 평판의 기판뿐만 아니라 곡면판의 기판을 사용하는 것이 가능하다.In addition, a member or a component having a specific shape having a surface on which a fine pattern is to be formed may be used in place of the substrate 11, and a selective light transmitting member of a flexible type, a flexible light selective transmitting member 13, Since the selective light transmitting member can be used, the substrate 11 can also use a substrate of a curved plate as well as a substrate of a flat plate.

즉, 곡면판에 미세 패턴이 형성된 제품을 제작할 수가 있는 것이다. That is, a product in which a fine pattern is formed on a curved plate can be manufactured.

또한 재질이나 두께에 따라 필름, 시트, 판재 등이 될 수 있으며, 가요성 재질의 기판, 연질의 필름이 될 수도 있다.Further, it may be a film, a sheet, a plate material or the like depending on the material and the thickness, and may be a flexible substrate or a flexible film.

기판(11)의 재질로는 투명, 반투명 또는 불투명 재질의 기판이 사용될 수 있는데, PET, PC, PMMA 등의 고분자 기판이 사용될 수 있고, 그 밖에 유리 기판이나, 석영, Si, SiO2, TiO2, ZrO2, Al2O3, SiC, WC, TiN, Si3N4, BN 등의 세라믹 기판, 또는 Al, Cu, Ti, W, Ni, Cr, Pt, Au, Ag 등의 금속 기판이 사용될 수 있다.As the material of the substrate 11, a transparent, semitransparent or opaque substrate may be used, and a polymer substrate such as PET, PC or PMMA may be used. In addition, a glass substrate, quartz, Si, SiO 2 , TiO 2 , A ceramic substrate such as ZrO 2 , Al 2 O 3 , SiC, WC, TiN, Si 3 N 4 or BN or a metal substrate such as Al, Cu, Ti, W, Ni, Cr, Pt, .

또한 광 조사 장치에 의해 조사되는 빛으로는 자외선(UV), 레이저, 전자빔(electron beam) 등이 될 수 있고, 리소그래피 공정에 사용되는 알려진 다양한 빛 중 하나가 될 수 있다.Also, the light irradiated by the light irradiating device may be ultraviolet (UV), laser, electron beam, or the like, and may be one of various known lights used in the lithography process.

자외선을 이용하는 경우에서 광 반응 수지(12a)로는 자외선에 반응하는 자외선 반응 수지를 사용하며, 이때 공지의 자외선 경화 수지를 이용하거나, 기존 자외선 경화 수지의 성분 중 일부를 조절하여(수지의 조성을 조절하여) 자외선에 효율적으로 반응할 수 있도록 한 수지를 이용하는 것이 가능하다. In the case of using ultraviolet rays, the ultraviolet ray-reactive resin which reacts with ultraviolet rays is used as the photoreactive resin 12a. In this case, it is possible to use a known ultraviolet ray hardening resin or to control a part of the components of the existing ultraviolet ray hardening resin ) It is possible to use a resin capable of efficiently reacting with ultraviolet rays.

또한 자외선을 이용하는 경우에서 기판(11) 표면에 도포된 자외선 반응 수지(12a) 중 자외선을 받은 부분(12b)은 반응과 동시에 경화가 이루어지고, 자외선을 받지 못한 나머지 부분(12a)의 경우에도 건조를 통한 자연 경화가 가능하다.In addition, in the case of using ultraviolet rays, the portion 12b of the ultraviolet reactive resin 12a applied to the surface of the substrate 11 is cured simultaneously with the reaction, and even in the case of the remaining portion 12a which has not received ultraviolet rays, It is possible to natural harden through.

레이저나 전자빔을 이용하는 경우에는 광 반응 수지(12a)로 레이저 반응 수지, 전자빔 반응 수지를 사용하며, 이를 기판(11) 표면에 도포하고 경화시킨 뒤 빛을 조사하게 된다.When a laser or an electron beam is used, a laser reaction resin or an electron beam reaction resin is used as the light-responsive resin 12a. The laser reaction resin is applied to the surface of the substrate 11, cured, and then irradiated with light.

이때, 레이저 및 전자빔에 의한 수지의 반응은, 경화된 수지층(12)에서 선택적 광 투과 부재(13,도 5에서 도면부호 14)의 관통 영역에 의해 노출된 부분을 레이저 또는 전자빔을 이용하여 깨뜨리는 형태의 물리적인 반응이라 할 수 있다.At this time, the reaction of the resin by the laser beam and the electron beam is performed by breaking the portion of the cured resin layer 12 exposed by the through region of the selective light transmitting member 13 (reference numeral 14 in FIG. 5) It is a physical reaction of the form.

이러한 반응을 이용하여 빛이 조사된 영역(노광 영역)과 빛이 조사되지 않은 영역(비노광 영역) 간의 투명도 차이를 유발할 수 있으며, 빛이 조사된 영역이 빛이 조사되지 않은 영역에 비해 투명도가 낮아지면서, 수지층(12) 내부에 투명도 차이로 인한 미세 패턴(12b)이 식별 가능하게 형성될 수 있게 된다. Using this reaction, it is possible to cause a difference in transparency between a region irradiated with light (exposed region) and a region not irradiated with light (non-exposed region), and a region irradiated with light has transparency The fine pattern 12b due to the difference in transparency can be discretely formed inside the resin layer 12.

물론, 본 발명에서 사용되는 수지(12a)는 노광, 비노광에 따라 국부적으로 빛에 반응하여 투명도 차이가 발생할 수 있는 것이어야 하므로, 투명 재질, 또는 완전 투명 재질이 아니더라도, 비노광 상태로 자연 경화되었을 때 어느 정도는 재료 고유의 광 투과도를 가지는 것(투명하거나, 반투명과 같이 일정 수준 이상의 광 투과도를 갖는 재질)이 사용되어야 한다.Of course, since the resin 12a used in the present invention should be able to react with light locally in response to light or non-exposure to cause difference in transparency, the resin 12a may be a transparent material or a completely transparent material, A material having a light transmittance inherent to the material to some extent (a material having transparency of a certain level or higher such as transparent or translucent) should be used.

또한 상기 선택적 광 투과 부재(13,14)로는 자외선과 레이저를 이용하는 경우에 포토마스크(13)를 이용하는 것이 가능하며, 전자빔의 경우 나노 스텐실(nanostencil)(14)을 이용하는 것이 가능하다. The photomask 13 can be used for the selective light transmitting members 13 and 14 when ultraviolet rays and a laser are used and the nanostencil 14 can be used for an electron beam.

물론, 포토마스크(13)와 나노 스텐실(14) 모두 미세 패턴 형상의 관통 영역을 가지도록 제작되는 것으로서, 본 명세서에서 나노 또는 마이크로 스케일의 관통 영역이 형성된 포토마스크의 제조나, 나노 스케일의 관통 영역이 형성된 나노 스텐실의 제조에 대해서는 공지의 기술이므로 상세한 설명을 생략하기로 한다. Of course, both the photomask 13 and the nano stencil 14 are fabricated to have a fine patterned penetration area. In this specification, the manufacturing of a photomask in which a nano or microscale penetration area is formed, The fabrication of the nanostencils is well known in the art and will not be described in detail.

또한 상기와 같은 선택적 광 투과 부재(13,14)를 이용함에 있어서, 선택적 광 투과 부재를 광 조사시에 기판(11) 위의 광 반응 수지(12a)로부터 이격시켜 배치하거나, 광 반응 수지에 밀착시켜 배치하는 것이 모두 가능하다.When the selective light transmitting members 13 and 14 are used as described above, the selective light transmitting member may be disposed apart from the light reactive resin 12a on the substrate 11 at the time of light irradiation, It is possible to arrange them.

또한 본 발명에서는 수지 위로 선택적 광 투과 부재를 위치시킨 뒤 수지에 빛을 조사할 뿐, 기판에 압력을 가하지는 않으므로, 쉽게 깨질 수 있는 유리 기판에 대해서도 미세 패턴을 형성할 수 있는 이점이 있다.In addition, in the present invention, since a selective light transmitting member is placed on a resin and light is irradiated on the resin, no pressure is applied to the substrate, and thus a fine pattern can be formed on a glass substrate which can be easily broken.

종래 공정의 경우 접촉 및 가압을 통한 미세 패턴의 성형이 이루어지므로, 얇은 두께의 유리 기판을 사용하게 되면, 쉽게 깨지거나 기판에 크랙 등의 결함이 발생할 수 있는바, 얇은 두께의 유리 기판에 대해서는 미세 패턴의 형성이 불가하거나 어려움이 있었다.In the case of a conventional process, since a fine pattern is formed through contact and pressurization, if a glass substrate having a small thickness is used, it can easily break or cause defects such as cracks in the substrate. For a thin glass substrate, Formation of patterns was impossible or difficult.

반면, 본 발명에서는 기판에 압력을 가하지 않으므로 상기한 문제가 해소될 수 있고, 유리 기판에 대해서도 미세 패턴의 형성이 가능하다. On the other hand, in the present invention, since the pressure is not applied to the substrate, the above-described problem can be solved and a fine pattern can be formed on the glass substrate.

상기와 같이 유리 기판을 사용하는 경우, 미세 패턴이 형성된 유리 제품을 휴대전화, 휴대용 PC, 대형 가전제품의 외장용 또는 디스플레이용 부품으로 사용하거나, 조명, 창문 등의 건축용 유리로 사용하는 것이 가능하다.When a glass substrate is used as described above, it is possible to use a glass product having a fine pattern formed thereon as a component for external use or display of a mobile phone, a portable PC, a large home appliance, or as a glass for construction such as a lighting or a window.

또한 투명 기판을 사용하는 경우에는 미세 패턴이 형성된 판상 제품을 휴대전화, 휴대용 PC, TV, PC 모니터 등 전기기기의 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용하는 것이 가능하다.When a transparent substrate is used, it is possible to use a plate-like product having a fine pattern formed thereon as a window part for display of electric devices such as a mobile phone, a portable PC, a TV, and a PC monitor.

도 5는 본 발명의 제2실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로, 이는 상술한 나노 스텐실과 전자빔을 이용하여 기판(11) 표면에 미세 패턴을 형성하는 방법을 보여주고 있다.5 shows a method of forming a fine pattern according to a second embodiment of the present invention. This shows a method of forming a fine pattern on the surface of the substrate 11 using the above-described nano stencil and electron beam.

기판(11) 위에 광 반응 수지(12a)로서 전자빔 반응 수지를 균일하게 도포한 뒤 경화시키고, 나노 스텐실(14)을 이용하여 수지(12a)에 일정 패턴을 갖도록 선택적으로 빛을 조사하게 된다.The electron beam reaction resin is uniformly coated on the substrate 11 as the photoreactive resin 12a and then cured to selectively irradiate the resin 12a with a predetermined pattern using the nanostencil 14.

이 경우에도 완성된 수지층(12)에서 나노 스텐실(14)의 미세한 관통 영역(나노 스케일의 관통 영역)을 통과한 전자빔에 의해 노출된 부분(미세 패턴 부분)(12b)과 노출되지 않은 부분(12a)에서 투명도의 차이가 발생한다.Even in this case, the portion (fine pattern portion) 12b exposed by the electron beam passing through the fine penetration region (nano scale penetration region) of the nanostencil 14 in the finished resin layer 12 and the portion 12a).

이러한 투명도 차이에 의해 외관상 구분이 가능한 미세 패턴(12b)을 수지층(12) 내부에 형성할 수 있게 된다.This difference in transparency makes it possible to form the fine pattern 12b which can be distinguished in appearance inside the resin layer 12.

이때, 도 4의 실시예뿐만 아니라 도 5의 실시예에서도, 빛에 노출된 수지 부분과 노출되지 않는 수지 부분의 투명도를 조절할 수 있는 광 반응 수지 조성, 빛의 양과 세기 등의 여러 공정 조건을 적절히 설정하면 수지층 내부에 원하는 미세 패턴을 형성할 수 있게 된다.In this case, not only the embodiment of FIG. 4 but also the embodiment of FIG. 5, various process conditions such as the amount of light-reactive resin, the amount of light and the intensity of light, which can control the transparency of the exposed resin- The desired fine pattern can be formed in the resin layer.

예시된 도 4 및 도 5의 실시예를 설명함에 있어서, 광 반응 수지(12a)의 선택된 부분에 빛을 조사하기 위해 포토마스크(13)나 나노 스텐실(14)의 선택적 광 투과 부재를 이용하는 것으로 설명하였으나, 집속 렌즈 등에 의해 집속된 빛을 원하는 수지 부분에 직접 조사하는 방법도 이용 가능하다.In describing the illustrated embodiments of Figs. 4 and 5, it is described that a selective light transmitting member of the photomask 13 or the nano stencil 14 is used to irradiate a selected portion of the photoreactive resin 12a with light However, a method of directly irradiating the desired resin portion with the light focused by the focusing lens or the like can also be used.

또한 도 4 및 도 5에 예시된 단층 구조 외에, 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 복수개의 수지층(12)을 적층하여 다층 구조를 형성하는 것도 가능하며, 도 4 및 도 5의 미세 패턴 형성 과정을 반복 실시하는 경우 기판(11) 표면에 다층 구조를 형성할 수 있다.It is also possible to form a multilayer structure by stacking a plurality of resin layers 12 having fine patterns 12b therein in addition to the single layer structure illustrated in Figs. 4 and 5, Layer structure may be formed on the surface of the substrate 11 when the process is repeated.

한편, 도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로, 이는 기판(11) 표면에 색을 구현할 수 있는 색구현층(13)을 추가로 형성하는 실시예를 나타낸 것이다.6 is a view showing a method of forming a fine pattern according to a third embodiment of the present invention. This is an embodiment in which a color reproduction layer 13 capable of realizing color is additionally formed on a surface of a substrate 11 will be.

이는 고급 외장재 또는 외장 부품을 제조하는데 적용할 수 있는 것으로, 색구현층(13)을 미세 패턴이 형성된 수지층(12)과 기판(11) 표면 사이에 형성할 수 있는데, 이러한 색구현층(13)은, 기판(11) 표면의 전체 또는 일부에 대해서, 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 인쇄하는 방법이나 금속이나 산화물, 탄화물 또는 질화물의 박막을 증착하는 방법으로 형성할 수 있다.This can be applied to the manufacture of high-quality facings or external components in which the color im- plementation layer 13 can be formed between the resin layer 12 with a fine pattern and the surface of the substrate 11, ) Can be formed by a method of printing using all or a part of the surface of the substrate 11 using an ink including a dye or a method of depositing a thin film of metal, oxide, carbide or nitride.

상기 금속이나 산화물, 탄화물, 질화물의 경우 얇은 두께의 박막으로 증착 형성하게 되면 고유의 색을 나타내므로 색구현층의 재료로 사용하는 것이 가능하다.In the case of the above metal, oxide, carbide, nitride, it is possible to use it as a material of a color reproduction layer because it exhibits a unique color when it is formed into a thin film having a thin thickness.

이때, 금속으로는 Al, Cu, Ti, W, Ni, Cr, Pt, Au, Ag 등이 사용될 수 있고, 산화물로는 SiO2, TiO2, ZrO2, Al2O3, Nb2O5 등이, 탄화물로는 SiC, WC, SiC 등이, 질화물로는 TiN, Si3N4, BN 등이 사용될 수 있다.In this case, the metal may be Al, Cu, Ti, W, Ni, Cr, Pt, Au, or Ag. Examples of the oxides include SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , Nb 2 O 5 SiC, WC, SiC or the like is used as the carbide, and TiN, Si 3 N 4 , BN or the like is used as the nitride.

증착 방법으로는 스퍼터링 등의 진공 증착 방식이나 공지의 박막 형성 방법 또는 코팅 방법이 적용될 수 있다. As the deposition method, a vacuum deposition method such as sputtering or a known thin film formation method or coating method can be applied.

색구현층(13) 위에 형성되는 수지층, 즉 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)의 형성 방법은 도 4 및 도 5의 실시예와 동일하며, 기판(11) 표면 위에 색구현층(13)을 먼저 적층 형성한 뒤 동일한 방법으로 수지층을 형성한다. The method of forming the resin layer 12, that is, the resin layer 12 having the fine pattern 12b, formed on the color rendering layer 13 is the same as the embodiment of FIGS. 4 and 5, (13) are formed first, and then a resin layer is formed by the same method.

물론, 투명한 제품을 제작하기 위해 도 4 및 도 5의 실시예와 같이 색구현층이 생략될 수 있다.Of course, in order to produce a transparent product, the color implementation layer can be omitted as in the embodiment of Figs. 4 and 5.

도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 이에 도시된 실시예 역시 색구현층(13)을 형성하는 실시예로서, 고급 외장재 또는 외장 부품을 제조하는데 적용 가능한 방법이다. 7 is a view showing a method of forming a fine pattern according to a fourth embodiment of the present invention. The embodiment shown therein is also an embodiment for forming the color reproduction layer 13, which is applicable to the manufacture of a high- Method.

도 6과 비교할 때 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 다층 구조로 형성한 점에서 차이가 있으며, 기판(11) 표면에 색구현층(13)을 동일한 방법으로 적층 형성한 뒤, 색구현층(13) 위에 미세 패턴(12b)을 가지는 제1수지층(12)을, 이어 상기 제1수지층(12) 위에 미세 패턴(12b)을 가지는 제2수지층(12')을 차례로 형성한다.6 in that the resin layer 12 having the fine patterns 12b therein is formed in a multilayer structure as compared with the case of FIG. 6, and the color reproduction layer 13 is formed on the surface of the substrate 11 in the same manner A first resin layer 12 having a fine pattern 12b on the color rendering layer 13 and a second resin layer 12 'having a fine pattern 12b on the first resin layer 12, Respectively.

제1수지층(12)과 제2수지층(12')을 형성함에 있어서는 도 4 또는 도 5의 실시예와 동일한 방법이 이용될 수 있고, 각 수지층(12,12') 내 미세 패턴(12b)의 위치는 전체가 모두 다르거나 일부가 같도록 할 수 있다.In forming the first resin layer 12 and the second resin layer 12 ', the same method as in the embodiment of FIG. 4 or 5 may be used, and a fine pattern (not shown) in each resin layer 12, 12' 12b may be all different or partly the same.

또한 도 7에 예시된 실시예에서는 수지층을 제1 및 제2수지층의 이층 구조로 형성하였으나, 수지층의 적층 개수는 3개 이상으로 다양하게 변경될 수 있으며, 투명 제품을 제조하기 위해서는 상기 색구현층 없이 다층 구조의 수지층(12,12')만 기판(11)에 형성한다.In addition, although the resin layer is formed in a two-layer structure of the first and second resin layers in the embodiment illustrated in FIG. 7, the number of laminated layers of the resin layer may be variously changed to three or more. Only a resin layer 12, 12 'of a multilayer structure is formed on the substrate 11 without a color reproduction layer.

그리고, 도 8은 본 발명의 제5실시예에 따른 미세 패턴 형성 방법을 나타내는 도면으로서, 이에 도시된 실시예 역시 색구현층(13)을 형성하는 실시예로서, 고급 외장재 또는 외장 부품을 제조하는데 적용 가능한 방법이다. 8 is a view illustrating a method of forming a fine pattern according to a fifth embodiment of the present invention. The embodiment shown in FIG. 8 is also an embodiment for forming the color reproduction layer 13, This is an applicable method.

특히, 도 8의 실시예에는 별도의 나노 또는 마이크로 패턴층(15)을 추가로 형성하는 실시예로서, 색구현층(13), 나노 또는 마이크로 패턴 층(15), 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 포함하는 다층 구조를 형성하는 실시예이다.8, the color reproduction layer 13, the nano or micro pattern layer 15, and the fine pattern 12b are formed inside the color reproduction layer 13, the nano or micro pattern layer 15, Layer structure including a resin layer 12 having a plurality of openings.

즉, 기판(11) 표면에 색구현층(13)을 형성한 뒤, 상기 색구현층(13) 위의 전체 또는 일부 영역에 대해 나노 또는 마이크로 패턴을 형성하고, 이 나노 또는 마이크로 패턴으로 이루어진 층(15) 위로 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 단층 또는 다층으로 형성하는 것이다.That is, after the color reproduction layer 13 is formed on the surface of the substrate 11, a nano or micro pattern is formed on all or a part of the color reproduction layer 13, The resin layer 12 having the fine pattern 12b is formed as a single layer or multiple layers on the resin layer 15.

이때, 색구현층(13) 위에 나노 또는 마이크로 패턴을 형성하는 방법은 공지의 방법이 이용 가능하나, 나노 패턴의 경우 본 발명에서 제시하는 도 5의 나노 패턴 형성 방법, 즉 나노 스텐실과 전자빔을 이용하여 수지층에 나노 패턴을 형성하는 방법이 적용될 수 있다. At this time, a known method can be used for forming the nano or micro pattern on the color reproduction layer 13. In the case of the nano pattern, the method of forming a nano pattern shown in FIG. 5 of the present invention, that is, A method of forming a nano pattern on the resin layer can be applied.

또는 색구현층(13) 위에 공지의 나노임프린트(nanoimprint) 공정을 이용하여 나노 패턴을 전사시킬 수도 있다. Alternatively, the nanopattern may be transferred onto the color reproduction layer 13 using a known nanoimprint process.

또한 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)의 패턴은 요철(凹凸)을 가지는 구조가 될 수 있는데, 이때 요부 또는 철부가 선, 도트(dot)(예, 상부가 편평한 면을 이루고 있는 도트 모양), 볼록면 또는 오목면을 가지는 렌즈 모양(예, 요부 또는 철부가 반구형인 모양 등), 삼각 단면 형상을 가지는 프리즘 모양, 렌티큘러 렌즈 모양(예, 곡선의 외곽 라인을 가지는 단면 형상 부분이 특정 방향으로 길게 연장된 모양, 비닐하우스 모양), 동심원 구조를 이루는 스핀 모양 등의 다양한 형상으로 형성될 수 있다. The pattern of the nano or micropattern layer 15 may have a concavo-convex pattern. In this case, the concave or convex pattern may be a line, a dot (e.g., a dot having a flat upper surface) A prism shape having a triangular cross-sectional shape, a lenticular lens shape (e.g., a shape in which a cross-sectional shape portion having a curved outline is elongated in a specific direction) A green house shape), a spinning shape having a concentric circular structure, and the like.

그리고, 기판(11) 표면에 색구현층(13)을 형성하는 방법, 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)을 형성하는 방법은 앞서 설명한 바와 동일한 방법이 이용될 수 있고, 투명 제품을 제조하기 위해, 상기 색구현층 없이, 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)과, 내부에 미세 패턴(12b)을 가지는 수지층(12)만을 형성하는 것도 가능하다.The method of forming the color reproduction layer 13 on the surface of the substrate 11 and the method of forming the resin layer 12 having the fine pattern 12b may be the same method as described above, It is also possible to form only the nano- or micropatterned layer 15 having a concave-convex structure and the resin layer 12 having the fine pattern 12b in the interior thereof without the above-mentioned color reproduction layer.

또한 색구현층(13)과 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)의 적층 순서가 반대가 될 수도 있는데, 즉 상기 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)을 먼저 형성한 뒤 그 위에 색구현층(13)을 형성하는 것이 가능하다.Also, the order of stacking the color-rendering layer 13 and the nano- or micropatterned layer 15 of the concave-convex structure may be reversed. That is, the nano- or micropatterned layer 15 of the concave-convex structure may be formed first, It is possible to form the implementation layer 13.

또한 수지층(12)의 미세 패턴(12b)과 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴 층(15)에서 나노 패턴과 마이크로 패턴을 복합적으로 형성하는 것이 가능하며, 이를 통해 외장 고급화 패턴을 구현할 수 있게 된다.In addition, it is possible to form a nanopattern and a micropattern in a complex pattern in the fine pattern 12b of the resin layer 12 and the nano- or micropatterned layer 15 of the concavo-convex structure, thereby achieving an external fine pattern.

이상으로 본 발명의 실시예에 대해 상세히 설명하였는바, 본 발명에 따라 제조되는 판상 제품은 상기한 용도 외에 다양한 용도로 사용하는 것이 가능한데, 예를 들면, PET나 PC와 같은 고분자 필름에 단층 또는 다층의 패턴 층을 형성한 뒤 이 필름을 인몰드 사출용 필름으로 적용하는 것이 가능하다. As described above, the plate-shaped product manufactured according to the present invention can be used in various applications besides the above-mentioned applications. For example, a polymer film such as PET or PC may have a single layer or multi- It is possible to apply this film as an in-mold injection film.

또한 고분자 재질의 기판을 사용하여 단층 또는 다층 구조로 제조한 뒤 기판 후면에 점착 물질을 도포한 판상 제품을 휴대전화, 휴대용 PC 등의 윈도우에 부착할 수 있는 기능성 필름으로 적용하는 것이 가능하다.In addition, it is possible to apply a plate-like product prepared by using a substrate made of a polymer material to a single layer or a multi-layer structure and then applying an adhesive substance to the rear surface of the substrate, as a functional film attachable to a window of a mobile phone or a portable PC.

이때, 수지층 내 미세 패턴의 패턴 폭 대비 높이 비를 크게 하여 필름 기판 위에 구현하면, 휴대용 디스플레이를 위한 개인 프라이버시 보호용 보안 필름으로 적용하는 것이 가능하다. At this time, when the fine pattern in the resin layer has a height-to-height ratio of as high as that of a pattern substrate, it can be applied as a security film for personal privacy protection for a portable display.

또한 미세 패턴을 갖는 수지층의 표면에 최 외곽 층으로서 내지문 필름을 적층하여 내지문 기능을 부여하는 것도 가능하다. It is also possible to laminate an inner fingerprint film as an outermost layer on the surface of a resin layer having a fine pattern to give an inner fingerprint function.

본 발명의 권리범위는 상술한 실시예에 한정되지 않고, 다음의 특허청구범위에서 정의하고 있는 본 발명의 기본 개념을 이용한 당업자의 여러 변형 및 개량 형태 또한 본 발명의 권리범위에 포함된다.
The scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements of those skilled in the art using the basic concept of the present invention defined in the following claims are also included in the scope of the present invention.

11 : 기판
12a : 광 반응 수지(또는 빛을 받지 못한 수지 부분)
12b : 미세 패턴(또는 빛을 받아 반응된 수지 부분)
13 : 포토마스크(또는 선택적 광 투과 부재)
14 : 나노 스텐실(또는 선택적 광 투과 부재)
15 : 나노 또는 마이크로 패턴 층11: substrate
12a: a photoreactive resin (or a resin part not receiving light)
12b: a fine pattern (or a resin part reacted with light)
13: Photomask (or selective light transmitting member)
14: nano stencil (or selective light transmitting member)
15: nano or micropattern layer

Claims (20)

빛에 반응하는 광 반응 수지(12a)를 기판(11) 위에 도포한 뒤, 기판(11) 위에 도포된 광 반응 수지(12a)의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판(11) 위의 수지층(12) 내부에 투명도 차이에 의해 구분되면서 육안 식별되는 미세 패턴(12b)을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
After the light-responsive resin 12a is applied onto the substrate 11, light is irradiated onto a selected region of the photoreactive resin 12a coated on the substrate 11, (12b) that is visually distinguishable by a difference in transparency within the resin layer (12) on the substrate (11) by causing a difference in transparency between the portions Gt;
청구항 1에 있어서,
상기 광 반응 수지(12a)의 선택된 영역에만 빛이 조사될 수 있도록 하기 위해, 빛이 통과되는 패턴 형상의 관통 영역을 가지는 선택적 광 투과 부재(13,14)를 기판(11)에 도포된 수지(12a) 위로 위치시킨 다음 빛을 조사하거나, 집속 렌즈에 의해 집속된 빛을 직접 원하는 수지 부분에 조사하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The selective light transmitting members 13 and 14 having the patterned through regions through which the light passes can be formed on the resin 11 coated on the substrate 11 so that the light can be irradiated only on the selected region of the photoreactive resin 12a 12a, and then irradiating light or irradiating the desired resin portion directly with the light focused by the focusing lens.
청구항 2에 있어서,
상기 광 투과 부재로 포토마스크(13) 또는 나노 스텐실(14)을 이용하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method of claim 2,
Wherein the photomask (13) or the nanostencil (14) is used as the light transmitting member.
청구항 2에 있어서,
상기 빛이 자외선, 레이저, 전자빔 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method of claim 2,
Wherein the light is one of ultraviolet ray, laser, and electron beam.
청구항 1에 있어서,
상기 기판(11)은 고분자 기판, 유리 기판, 세라믹 기판, 또는 금속 기판인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1,
Wherein the substrate (11) is a polymer substrate, a glass substrate, a ceramic substrate, or a metal substrate.
청구항 1에 있어서,
상기 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 위에서 광 반응 수지(12a)를 도포하고 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발하는 과정을 반복함으로써, 내부에 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)을 기판(11) 위에 이층 이상의 다층 구조로 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1,
The photoreactive resin 12a is coated on the resin layer 12 on which the fine pattern 12b is formed and light is irradiated to repeat the process of causing a difference in transparency between a light irradiated portion and a non- Characterized in that a resin layer (12) having fine patterns (12b) therein is formed on the substrate (11) in a multilayer structure of two or more layers.
청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 색을 가지는 색구현층(13)을 적층 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 6,
(13) having a color is formed between the substrate (11) and the resin layer (12) on which the fine pattern (12b) is formed.
청구항 7에 있어서,
상기 색구현층(13)은 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 형성하거나, 금속, 산화물, 탄화물, 또는 질화물의 박막을 증착하여 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method of claim 7,
Wherein the color rendering layer (13) is formed using an ink containing a dye, or formed by depositing a thin film of metal, oxide, carbide, or nitride.
청구항 7에 있어서,
상기 기판(11)과 색구현층(13) 사이, 또는 상기 색구현층(13)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)을 적층 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method of claim 7,
A pattern layer 15 having a nano or micropattern of concavo-convex structure is formed between the substrate 11 and the color reproduction layer 13 or between the color reproduction layer 13 and the resin layer 12 formed with the fine pattern 12b. ) Is laminated on the surface of the substrate.
청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)을 적층 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 6,
Characterized in that a pattern layer (15) having a concave-convex structure of nano or micro pattern is laminated between the substrate (11) and the resin layer (12) on which the fine pattern (12b) is formed .
청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 기판(11)은 디스플레이용 윈도우에 부착되는 고분자 재질의 투명 기판 또는 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용되는 투명 기판인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 6,
Wherein the substrate (11) is a transparent substrate used as a polymer material transparent substrate or a window part for display attached to a display window.
청구항 1 또는 청구항 6에 있어서,
상기 미세 패턴(12b)을 갖는 최 외곽 수지층(12)의 표면에 내지문 필름을 적층하여 내지문 기능을 가지도록 제조하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법.
The method according to claim 1 or 6,
Wherein an inner fingerprint film is laminated on a surface of an outermost resin layer (12) having the fine pattern (12b) so as to have an inner fingerprint function.
청구항 1의 제품의 제조 방법에 의해 제조되어 내부에 외관상으로 구분되어지는 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)이 기판(11) 위에 적층된 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
Characterized in that a resin layer (12) having fine patterns (12b) produced by the method of manufacturing the product of claim 1 and which is internally distinguished inside is laminated on the substrate (11) .
청구항 13에 있어서,
상기 수지층(12) 위에 내부에 미세 패턴(12b)을 갖는 또 다른 수지층(12')이 적층되어, 기판(11) 위에 복수개의 수지층(12,12')으로 이루어진 이층 이상의 다층 구조가 형성되고, 상기 또 다른 수지층(12')은 광 반응 수지(12a)를 도포하고 빛을 광 반응 수지(12a)에 선택적으로 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발하는 과정을 반복하여 형성한 것임을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
14. The method of claim 13,
Another resin layer 12 'having a fine pattern 12b is laminated on the resin layer 12 so that a multilayer structure of two or more layers made of a plurality of resin layers 12 and 12' The resin layer 12 'is formed by applying a photoreactive resin 12a and selectively irradiating light onto the photoreactive resin 12a to form a gap between the light-irradiated portion and the non- Wherein the step of forming the fine pattern is repeatedly performed.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 색을 가지는 색구현층(13)이 개재되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
The method according to claim 13 or 14,
Characterized in that a color reproduction layer (13) having a color is interposed between the substrate (11) and the resin layer (12) on which the fine pattern (12b) is formed.
청구항 15에 있어서,
상기 색구현층(13)은 염료를 포함하는 잉크를 사용하여 형성되거나, 금속, 산화물, 탄화물, 또는 질화물의 박막을 증착하여 형성되는 것임을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
16. The method of claim 15,
Wherein the color rendering layer (13) is formed using an ink containing a dye, or formed by depositing a thin film of a metal, an oxide, a carbide, or a nitride.
청구항 15에 있어서,
상기 기판(11)과 색구현층(13) 사이, 또는 상기 색구현층(13)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)이 개재되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
16. The method of claim 15,
A pattern layer 15 having a nano or micropattern of concavo-convex structure is formed between the substrate 11 and the color reproduction layer 13 or between the color reproduction layer 13 and the resin layer 12 formed with the fine pattern 12b. ) Is interposed between the substrate and the substrate.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기판(11)과 미세 패턴(12b)이 형성된 수지층(12) 사이에 요철 구조의 나노 또는 마이크로 패턴을 갖는 패턴 층(15)이 개재되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
The method according to claim 13 or 14,
Characterized in that a pattern layer (15) having a nano or micropattern of concavo-convex structure is interposed between the substrate (11) and the resin layer (12) on which the fine pattern (12b) is formed.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 기판(11)은 디스플레이용 윈도우에 부착되는 고분자 재질의 투명 기판 또는 디스플레이용 윈도우 부품으로 사용되는 투명 기판인 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.
The method according to claim 13 or 14,
Wherein the substrate (11) is a transparent substrate used as a polymer material transparent substrate or a display window material attached to a display window.
청구항 13 또는 청구항 14에 있어서,
상기 미세 패턴(12b)을 갖는 수지층(12)의 표면에 최 외곽 층으로서 내지문 필름을 적층 형성하여 내지문 기능을 가지도록 제조되는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 제품.The method according to claim 13 or 14,
Characterized in that an inner fingerprint film is laminated as an outermost layer on the surface of the resin layer (12) having the fine pattern (12b) so as to have an inner fingerprint function.
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