KR101407076B1 - 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치 - Google Patents

근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치에 관한 것으로서, 800nm 내지 860nm의 광을 출사하는 복수개의 레이저 다이오드와, 레이저 다이오드에서 각각 출사되는 광을 도파하는 광섬유들과, 광섬유들을 통해 출사되는 광을 인쇄대상 이미지면에 집속하는 렌즈유니트를 구비하고, 렌즈유니트는 광섬유쪽으로부터 이미지면쪽 방향으로 제1렌즈 내지 제8렌즈가 순차적으로 마련되어 있고, 제1렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양면 구면이며 양의 굴절력을 갖으며, 제2렌즈는 양면이 오목한 형태의 양면 구면이며 부의 굴절력을 갖으며, 제3렌즈는 이미지면쪽이 볼록인 메니스커스 형의 양의 굴절력을 갖으며, 제4렌즈는 이미지면쪽이 오목인 메니스커스 형의 부의 굴절력을 갖으며, 제5렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖으며, 제6렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖으며, 제7렌즈는 양면이 오목한 형태의 부의 굴절력을 갖으며, 제8렌즈는 제7렌즈와 대향되는 면이 볼록이며 양의 굴절력을 갖으며, 제4렌즈와 제5렌즈는 상호 접합되어 있으며, 제6렌즈와 제7렌즈는 상호 접합되어 있다. 이러한 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치에 의하면, 개구수를 크게할 수 있고, 광집속율이 향상되며 고해상도를 제공할 있는 장점을 제공한다.

Description

근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치{exposure apparatus for lithography printer using near-infrared ray}
본 발명은 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치에 관한 것으로서, 상세하게는 픽셀 각각에 대한 광빔의 수직입사율을 높일 수 있도록 된 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치에 관한 것이다.
최근 인쇄기술의 발달에 따라 출판업계에서는 CTP(computer to Plate)프린터의 사용이 증대되고 있다.
CTP 프린터는 컴퓨터의 디지털 데이터를 필름 공정없이 직접 PS인쇄판(Pre-sensitized Plate)과 같은 인쇄판으로 출력하는 장치의 약어로 소부공정이 없어짐에 따른 시간단축은 물론 1%의 망점까지 완벽하게 재현하는 기술로 필름 출력보다 망점손상이 없이 정교하게 인쇄할 수 있는 장점을 갖고 있다.
이러한 CTP 방식의 인쇄장치는 국내 등록특허 제10-0251513호 및 국내 공개특허 제10-2006-0132391호 등 다양하게 개시되어 있다.
이러한 CTP방식의 인쇄장치는 대부분 인쇄속도, 인쇄판에 대한 개선 등에 대한 분야에 기술개발이 치중되어 있다.
그런데, CTP 방식의 인쇄장치에서 근적외선 광을 인쇄판으로 디지털 데이터에 대응되게 집속하여 조사하는 렌즈 유니트의 집속 성능이 매우 중요하고, 화소에 대응되게 광원으로부터 출사되는 광을 인쇄판의 이미지면에 각 픽셀위치에 대응되게 수직으로 입사시킬 수 있는 구조가 요구되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 요구사항을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 고해상도와 광집속율이 향상되는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치에 있어서, 800nm 내지 860nm의 광을 출사하는 복수개의 레이저 다이오드와; 상기 레이저 다이오드에서 각각 출사되는 광을 도파하는 광섬유들과; 상기 광섬유들을 통해 출사되는 광을 인쇄대상 이미지면에 집속하는 렌즈유니트;를 구비하고, 상기 렌즈유니트는 상기 광섬유쪽으로부터 상기 이미지면쪽 방향으로 제1렌즈 내지 제8렌즈가 순차적으로 마련되어 있고, 상기 제1렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양면 구면이며 양의 굴절력을 갖으며, 상기 제2렌즈는 양면이 오목한 형태의 양면 구면이며 부의 굴절력을 갖으며, 상기 제3렌즈는 상기 이미지면쪽이 볼록인 메니스커스 형의 양의 굴절력을 갖으며, 상기 제4렌즈는 상기 이미지면쪽이 오목인 메니스커스 형의 부의 굴절력을 갖으며, 상기 제5렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖으며, 상기 제6렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖으며, 상기 제7렌즈는 양면이 오목한 형태의 부의 굴절력을 갖으며, 상기 제8렌즈는 상기 제7렌즈와 대향되는 면이 볼록이며 양의 굴절력을 갖으며, 상기 제4렌즈와 상기 제5렌즈는 상호 접합되어 있으며, 상기 제6렌즈와 상기 제7렌즈는 상호 접합되어 있다.
바람직하게는 상기 제1렌즈의 유효초점거리(f1)와 상기 제2렌즈의 유효초점거리(f2)는 -3.0 < f1/f2 < -2.0 의 조건을 만족한다.
또한, 상기 제4렌즈와 상기 제5렌즈는 60 > V4-V5 > 30, 상기 제6렌즈와 제7렌즈는 60 > V7-V6 > 30 의 조건을 만족하며, 상기 V4는 상기 제4렌즈의 아베수이고, 상기 V5는 상기 제5렌즈의 아베수이고, 상기 V6는 상기 제6렌즈의 아베수이고, 상기 V7는 상기 제7렌즈의 아베수이다.
또한, 상기 제4렌즈는 2.0 > n4 > 1.75, 상기 제7렌즈는 2.0 > n7 > 1.75의 조건을 만족하며, 상기 n4는 상기 제4렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 n7은 상기 제7렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이다.
또한, 상기 제1렌즈는 2.0 > n1 > 1.60, 10 < V1 < 50의 조건을 만족하며, 상기 n1은 상기 제1렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 V1은 상기 제1렌즈의 아베수이다.
또한, 상기 제3렌즈와 상기 제5렌즈는 -0.2 < n3-n5 < 0.2, 상기 제5렌즈와 제6렌즈는 -0.2 < n5-n6 < 0.2의 조건을 만족하며, 상기 n3은 상기 제3렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 n5은 상기 제5렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 n6은 상기 제6렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이다.
본 발명에 따른 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치에 의하면, 개구수를 크게할 수 있고, 광집속율이 향상되며 고해상도를 제공할 있는 장점을 제공한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치를 나타내 보인 도면이고,
도 2는 도 1의 렌즈 유니트에 대한 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 나타내 보인 수차도이고,
도 3은 도 1의 렌즈 유니트의 공간 주파수를 가로축, 비율을 세로축으로 하고, 입사각을 파라미터로 한 MTF 곡선 그래프이고,
도 4는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이고,
도 5는 도 4의 렌즈 유니트에 대한 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 나타내 보인 수차도이고,
도 6은 도 4의 렌즈유니트의 공간 주파수를 가로축, 비율을 세로축으로 하고, 입사각을 파라미터로 한 MTF 곡선 그래프이고,
도 7은 본 발명의 제3 실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이고,
도 8은 도 7의 렌즈 유니트에 대한 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 나타내 보인 수차도이고,
도 9는 도 7의 렌즈유니트의 공간 주파수를 가로축, 비율을 세로축으로 하고, 입사각을 파라미터로 한 MTF 곡선 그래프이고,
도 10은 본 발명의 제4 실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이고,
도 11은 도 10의 렌즈 유니트에 대한 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 나타내 보인 수차도이고,
도 12는 도 10의 렌즈유니트의 공간 주파수를 가로축, 비율을 세로축으로 하고, 입사각을 파라미터로 한 MTF 곡선 그래프이다.
도 13은 본 발명의 제5 실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이고,
도 14은 도 13의 렌즈 유니트에 대한 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 나타내 보인 수차도이고,
도 15는 도 13의 렌즈유니트의 공간 주파수를 가로축, 비율을 세로축으로 하고, 입사각을 파라미터로 한 MTF 곡선 그래프이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시 예에 따른 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치를 더욱 상세하게 설명한다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 예에 따른 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치를 나타내 보인 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 고해상도 노광장치는 레이저 다이오드(10), 광섬유(20) 및 렌즈유니트(30)를 구비한다.
광원으로 적용된 다수의 레이저 다이오드(10)들은 800nm 내지 860nm의 광을 출사하는 것이 적용된다.
레이저 다이오드(10)의 개수은 적용되는 해상도에 따라 적절하게 적용하면 되고, 256채널을 적용하는 경우 256개가 적용되면 된다.
광섬유(20)는 레이저 다이오드(10) 각각에 대응되게 마련되어 레이저 다이오드(10)에서 출사되는 광을 일단을 통해 수신하여 타단을 통해 전송한다.
렌즈유니트(30)는 광섬유(20)의 타단을 통해 출사되는 광을 인쇄대상 이미지면에 집속한다.
렌즈유니트(30)는 물체측(OBJ)이 되는 광섬유(20) 측에서 인쇄판이 설치되는 이미지면(IMG) 방향으로 제1렌즈(L11), 제2렌즈(L21), 제3렌즈(L31), 제4렌즈(L41), 제5렌즈(L51), 제6렌즈(L61), 제7렌즈(L71), 제8렌즈(L81)가 순차적으로 마련되어 있다.
제1렌즈(L11)는 양면이 볼록한 형태의 양면 구면이며 양의 굴절력을 갖는다.
제2렌즈(L21)는 양면이 오목한 형태의 양면 구면이며 부의 굴절력을 갖는다.
제3렌즈(L31)는 이미지면쪽이 볼록인 메니스커스 형의 양의 굴절력을 갖게 형성되어 있다.
제4렌즈(L41)는 이미지면쪽이 오목인 메니스커스 형의 부의 굴절력을 갖게 형성되어 있다.
제5렌즈(L51)는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖는다.
제6렌즈(L61)는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖게 형성되어 있다.
제7렌즈(L71)는 양면이 오목한 형태의 부의 굴절력을 갖게 형성되어 있다.
제8렌즈(L81)는 제7렌즈(L71)와 대향되는 면이 볼록이며 양의 굴절력을 갖게 형성되어 있다.
바람직하게는 제8렌즈(L81)의 이미지(IMG)면과 대향되는 면은 평면으로 형성된다.
여기서, 제4렌즈(L41)와 제5렌즈(L51)는 상호 접합되어 있으며, 제6렌즈(L61)와 제7렌즈(L71)도 상호 접합되어 있다.
조리개(40)는 제3렌즈(L31)의 전방 즉, 제2렌즈(L21)와 제3렌즈(L31) 사이에 마련되어 있다.
이러한 렌즈 유니트에서 제1렌즈(L11) 내지 제8렌즈(L31)는 아래의 조건을 만족하도록 제작된다.
제1렌즈(L11)의 유효초점거리(f1)와 제2렌즈(L21)의 유효초점거리(f2)는
-3.0 < f1/f2 < -2.0 의 조건을 만족하고,
제4렌즈(L41)와 제5렌즈(L51)는
60 > V4-V5 > 30,
제6렌즈(L61)와 제7렌즈(L71)는
60 > V7-V6 > 30,
의 조건을 만족하며.
여기서, V4는 제4렌즈(L41)의 아베수이고, V5는 제5렌즈(L51)의 아베수이고, V6는 제6렌즈(L61)의 아베수이고, V7는 제7렌즈(L71)의 아베수이다.
또한, 제4렌즈(L41)는
2.0 > n4 > 1.75,
제7렌즈(L71)는
2.0 > n7 > 1.75,
의 조건을 만족하며, n4는 제4렌즈(L41)의 파장 587nm에서의 굴절율이고, n7은 제7렌즈(L71)의 파장 587nm에서의 굴절율이다.
또한, 제1렌즈(L11)는
2.0 > n1 > 1.60,
10 < V1 < 50,
의 조건을 만족하며, n1은 제1렌즈(L11)의 파장 587nm에서의 굴절율이고, V1은 제1렌즈(L11)의 아베수이다.
또한, 제3렌즈(L31)와 제5렌즈(L51)는
-0.2 < n3-n5 < 0.2,
제5렌즈(L51)와 제6렌즈(L61)는
-0.2 < n5-n6 < 0.2,
의 조건을 만족하며,
여기서, n3은 제3렌즈(L31)의 파장 587nm에서의 굴절율이고, n5은 제5렌즈(L51)의 파장 587nm에서의 굴절율이고, n6은 제6렌즈(L61)의 파장 587nm에서의 굴절율이다.
이하 실시예를 참조하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
먼저, 아래의 표 1에는 도 1에 도시된 렌즈 유니트(30)를 구성하는 각 렌즈(L11 내지 L81)에 대한 곡률반경(ri), 두께, 굴절률 및 아베수 값을 나타내었다.
여기서, 굴절율은 파장 587nm에서의 굴절율이다.
곡면(ri) 곡률반경 두께 또는 렌즈사이의 거리(di) 굴절률 아베수
OBJ ∞ 28.172270
r1 47.89307 11.460037 1.6968 55.46
r2 -47.89307 19.335258
r3 -17.69300 8.200000 1.6204 60.32
r4 17.69300 1.270000
∞ 37.203388
STO ∞ 1.561314
r5 -126.78651 14.210000 1.6204 60.32
r6 -36.27452 2.138045
r7 162.16437 6.640000 1.8052 25.45
r8 37.80687 12.160000 1.6204 60.32
r9 -119.71114 0.500000
r10 57.06428 11.600000 1.6204 60.32
r11 -57.06428 14.000000 1.8052 25.45
r12 211.50694 14.408938
r13 31.81899 18.000000 1.6204 60.32
r14 ∞ 0.5000000
20.36271
IMG ∞ 0.000000
또한, 앞서 설명된 제1렌즈(L11)의 유효초점거리(f1)는 36.657이고, 제2렌즈(L21)의 유효초점거리(f2)는 -13.283이다.
이러한 렌즈 유니트에 대해 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 보인 수차도가 도 2에 도시되어 있다. 즉, 0.25상면, 0.50상면, 0.75상면, 1.00상면에 각각에 대하여 파장 800nm, 830nm, 860nm인 광에 대한 수차, 상면만곡 및 퍼센트 왜곡을 나타낸 것이다.
또한, 도 3은 도 1의 렌즈 유니트에 대해 수평축은 공간 주파수, 수직축은 비율, 파라미터는 입사각을 나타낼 때 이미지 높이에 대한 MTF 특성을 나타내 보인 그래프이다.
도 2 및 도 3을 통해 알 수 있는 바와 같이 파장 800nm 내지 860nm 영역에 대한 성능 특성이 우수함을 알 수 있다.
도 4는 본 발명의 제2실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이다. 여기서 제1렌즈(L12) 내지 제8렌즈(L82)는 앞서 제1실시예에 부여된 첨자에 대해 두번째 첨자를 실시예에 대응되게 순차적으로 부여하고 이후의 실시예에서도 동일한 방식으로 부재번호를 기재한다.
아래의 표 2에는 도 4에 도시된 렌즈 유니트를 구성하는 각 렌즈(L12 내지 L82)에 대한 곡률반경, 두께, 굴절률 및 아베수 값을 나타내었다.
곡면(ri) 곡률반경 두께 또는 렌즈사이의 거리(di) 굴절률 아베수
OBJ ∞ 27.317077
r1 46.47594 11.460037 1.6968 55.46
r2 -46.47594 18.143913
r3 -17.84980 8.200000 1.6204 60.32
r4 17.84980 1.270000
∞ 39.636663
STO ∞ 1.400927
r5 -141.43349 14.210000 1.6204 60.32
r6 -37.89884 5.431620
r7 113.61965 6.640000 1.8466 23.78
r8 36.32275 12.160000 1.6204 60.32
r9 -172.12275 0.500000
r10 65.10798 11.600000 1.6204 60.32
r11 -65.10798 14.000000 1.8466 23.78
r12 557.47421 14.777381
r13 31.96278 18.000000 1.6204 60.32
r14 ∞ 0.5000000
20.851627
IMG ∞ 0.000000
또한, 앞서 설명된 제1렌즈(L12)의 유효초점거리(f1)는 35.6276이고, 제2렌즈(L22)의 유효초점거리(f2)는 -13.4098이다.
이러한 렌즈 유니트에 대해 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 보인 수차도가 도 5 및 MTF 특성이 도 6에 도시되어 있다.
도 5 및 도 6을 통해 알 수 있는 바와 같이 원적외선 영역에 대한 성능 특성이 우수함을 알 수 있다.
도 7은 본 발명의 제3실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이다.
아래의 표 3에는 도 7에 도시된 렌즈 유니트를 구성하는 각 렌즈(L13 내지 L83)에 대한 곡률반경, 두께, 굴절률 및 아베수 값을 나타내었다.
곡면(ri) 곡률반경 두께 또는 렌즈사이의 거리(di) 굴절률 아베수
OBJ ∞ 27.635682
r1 44.30766 11.460037 1.6968 55.46
r2 -44.30766 15.897276
r3 -18.22342 8.200000 1.6204 60.32
r4 18.22342 1.270000
∞ 51.895975
STO ∞ 1.237639
r5 -205.53235 9.352052 1.6204 60.32
r6 -42.64671 0.500000
r7 216.61879 19.465875 1.8052 25.46
r8 43.84004 10.321963 1.5168 64.20
r9 -110.33946 0.500000
r10 52.56128 15.958138 1.6204 60.32
r11 -52.56128 16.637755 1.8052 25.46
r12 311.06068 4.923186
r13 34.79605 24.275947 1.6204 60.32
r14 ∞ 0.5000000
20.428048
IMG ∞ 0.000000
또한, 앞서 설명된 제1렌즈(L13)의 유효초점거리(f1)는 34.0535이고, 제2렌즈(L23)의 유효초점거리(f2)는 -13.7131이다.
이러한 렌즈 유니트에 대해 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 보인 수차도가 도 8 및 MTF 특성이 도 9에 도시되어 있다.
도 8 및 도 9를 통해 알 수 있는 바와 같이 원적외선 영역에 대한 성능 특성이 우수함을 알 수 있다.
도 10은 본 발명의 제4실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이다.
아래의 표 4에는 도 10에 도시된 렌즈 유니트를 구성하는 각 렌즈(L14 내지 L84)에 대한 곡률반경, 두께, 굴절률 및 아베수 값을 나타내었다.
곡면(ri) 곡률반경 두께 또는 렌즈사이의 거리(di) 굴절률 아베수
OBJ ∞ 30.475054
r1 49.31130 11.460037 1.6968 55.46
r2 -49.31130 19.561351
r3 -18.62423 8.200000 1.6204 60.32
r4 18.62423 1.270000
∞ 42.999887
STO ∞ 3.701900
r5 -191.64892 18.808906 1.6204 60.32
r6 -45.01580 0.500000
r7 232.98389 4.500000 1.8052 25.45
r8 58.80033 13.091120 1.5168 64.20
r9 -66.03757 0.500000
r10 57.53487 13.122885 1.5168 64.20
r11 -57.53487 25.000000 1.8052 25.45
r12 207.25260 14.568927
r13 33.18940 25.000000 1.6204 60.32
r14 ∞ 0.5000000
19.147811
IMG ∞ 0.000000
또한, 앞서 설명된 제1렌즈(L14)의 유효초점거리(f1)는 37.6766이고, 제2렌즈(L24)의 유효초점거리(f2)는 -14.0384이다.
이러한 렌즈 유니트에 대해 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 보인 수차도가 도 11 및 MTF 특성이 도 12에 도시되어 있다.
도 11 및 도 12를 통해 알 수 있는 바와 같이 원적외선 영역에 대한 성능 특성이 우수함을 알 수 있다.
도 13은 본 발명의 제5실시 예에 따른 렌즈 유니트를 나타내 보인 도면이다.
아래의 표 5에는 도 13에 도시된 렌즈 유니트를 구성하는 각 렌즈(L15 내지 L85)에 대한 곡률반경, 두께, 굴절률 및 아베수 값을 나타내었다.
곡면(ri) 곡률반경 두께 또는 렌즈사이의 거리(di) 굴절률 아베수
OBJ ∞ 25.800000
r1 43.06234 11.460037 1.6180 63.40
r2 -43.06234 18.042042
r3 -19.15956 8.200000 1.6204 60.32
r4 19.15956 1.270000
∞ 54.448852
STO ∞ 0.500000
r5 -2469.99071 18.986314 1.6204 60.32
r6 -55.20071 1.264580
r7 187.17096 11.677294 1.8052 25.46
r8 52.96876 13.724132 1.5168 64.20
r9 -71.84129 0.500000
r10 62.01083 12.213103 1.5168 64.20
r11 -62.01083 25.000000 1.8052 25.46
r12 208.98105 17.152831
r13 32.92659 25.000000 1.6204 60.32
r14 1657.92132 0.5000000
18.631296
IMG ∞ 0.000000
또한, 앞서 설명된 제1렌즈(L15)의 유효초점거리(f1)는 37.1583이고, 제2렌즈(L25)의 유효초점거리(f2)는 -14.4732이다.
이러한 렌즈 유니트에 대해 구면수차, 상면만곡 및 왜곡을 보인 수차도가 도 14 및 MTF 특성이 도 15에 도시되어 있다.
도 14 및 도 15를 통해 알 수 있는 바와 같이 원적외선 영역에 대한 성능 특성이 우수함을 알 수 있다.
L11, L12, L13, L14, L15: 제1렌즈
L21, L22, L23, L24, L25: 제2렌즈
L31, L32, L33, L34, L35: 제3렌즈
L41, L42, L43, L44, L45: 제4 렌즈
L51, L52, L53, L54, L55: 제5렌즈
L61, L62, L63, L64, L65: 제6렌즈
L71, L72, L73, L74, L75: 제7렌즈
L81, L82, L83, L84, L85: 제8렌즈

Claims (8)

  1. 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치에 있어서,
    800nm 내지 860nm의 광을 출사하는 복수개의 레이저 다이오드와;
    상기 레이저 다이오드에서 각각 출사되는 광을 도파하는 광섬유들과;
    상기 광섬유들을 통해 출사되는 광을 인쇄대상 이미지면에 집속하는 렌즈유니트;를 구비하고,
    상기 렌즈유니트는 상기 광섬유쪽으로부터 상기 이미지면쪽 방향으로 제1렌즈 내지 제8렌즈가 순차적으로 마련되어 있고,
    상기 제1렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양면 구면이며 양의 굴절력을 갖으며,
    상기 제2렌즈는 양면이 오목한 형태의 양면 구면이며 부의 굴절력을 갖으며,
    상기 제3렌즈는 상기 이미지면쪽이 볼록인 메니스커스 형의 양의 굴절력을 갖으며,
    상기 제4렌즈는 상기 이미지면쪽이 오목인 메니스커스 형의 부의 굴절력을 갖으며,
    상기 제5렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖으며,
    상기 제6렌즈는 양면이 볼록한 형태의 양의 굴절력을 갖으며,
    상기 제7렌즈는 양면이 오목한 형태의 부의 굴절력을 갖으며,
    상기 제8렌즈는 상기 제7렌즈와 대향되는 면이 볼록이며 양의 굴절력을 갖으며,
    상기 제4렌즈와 상기 제5렌즈는 상호 접합되어 있으며, 상기 제6렌즈와 상기 제7렌즈는 상호 접합되어 있는 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1렌즈의 유효초점거리(f1)와 상기 제2렌즈의 유효초점거리(f2)는
    -3.0 < f1/f2 < -2.0 의 조건을 만족하는 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 제4렌즈와 상기 제5렌즈는
    60 > V4-V5 > 30,
    상기 제6렌즈와 제7렌즈는
    60 > V7-V6 > 30,
    의 조건을 만족하며.
    상기 V4는 상기 제4렌즈의 아베수이고, 상기 V5는 상기 제5렌즈의 아베수이고, 상기 V6는 상기 제6렌즈의 아베수이고, 상기 V7는 상기 제7렌즈의 아베수인 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제4렌즈는
    2.0 > n4 > 1.75,
    상기 제7렌즈는
    2.0 > n7 > 1.75,
    의 조건을 만족하며, 상기 n4는 상기 제4렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 n7은 상기 제7렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율인 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 제1렌즈는
    2.0 > n1 > 1.60,
    10 < V1 < 50,
    의 조건을 만족하며, 상기 n1은 상기 제1렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 V1은 상기 제1렌즈의 아베수인 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제3렌즈와 상기 제5렌즈는
    -0.2 < n3-n5 < 0.2,
    상기 제5렌즈와 제6렌즈는
    -0.2 < n5-n6 < 0.2,
    의 조건을 만족하며,
    상기 n3은 상기 제3렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 n5은 상기 제5렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율이고, 상기 n6은 상기 제6렌즈의 파장 587nm에서의 굴절율인 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2렌즈와 상기 제3렌즈 사이에 마련된 조리개;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제8렌즈의 상기 이미지면과 대향되는 면은 평면으로 형성된 것을 특징으로 하는 근적외선을 이용한 인쇄판 프린터용 노광장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN104570310A (zh) * 2014-12-31 2015-04-29 桂林电子科技大学 一种无CaF240×平场复消色差金相显微物镜
TWI664465B (zh) * 2017-07-27 2019-07-01 先進光電科技股份有限公司 光學成像系統
TWI683150B (zh) * 2017-07-27 2020-01-21 先進光電科技股份有限公司 光學成像系統

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980032235A (ko) * 1996-10-01 1998-07-25 고노 시게오 투영광학계와 그를 구비하는 노광장치 및 디바이스 제조방법
KR20010064139A (ko) * 1999-12-24 2001-07-09 오길록 결정화 장비용 광학 시스템
KR20040099307A (ko) * 2002-03-08 2004-11-26 칼 짜이스 에스엠테 아게 침지 리소그래피용 굴절 투영 대물렌즈
KR100446130B1 (ko) 1996-04-25 2005-07-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계및노광장치와그노광방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100446130B1 (ko) 1996-04-25 2005-07-04 가부시키가이샤 니콘 투영광학계및노광장치와그노광방법
KR19980032235A (ko) * 1996-10-01 1998-07-25 고노 시게오 투영광학계와 그를 구비하는 노광장치 및 디바이스 제조방법
KR20010064139A (ko) * 1999-12-24 2001-07-09 오길록 결정화 장비용 광학 시스템
KR20040099307A (ko) * 2002-03-08 2004-11-26 칼 짜이스 에스엠테 아게 침지 리소그래피용 굴절 투영 대물렌즈

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