KR101379746B1 - Laminated Structure of Liquid Crystal Display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 엘시디 셀의 적층 구조에 관한 것이고, 구체적으로 이중 모드 엘시디 패널을 위한 엘시디 셀의 적층 구조에 관한 것이다. 엘시디 셀의 적층 구조는 유리 기판, 유리 기판 위에 형성된 제1 투명 전극 층, 제1 투명 전극 층 위에 형성된 하나의 보호 층, 하나의 보호 층 위에 형성된 절연 층, 절연 층 위에 형성된 다른 보호 층 및 다른 보호 층 위에 형성된 제2 투명 전극 층을 포함한다. The present invention relates to a stacked structure of LCD cells, and more particularly, to a stacked structure of LCD cells for a dual mode LCD panel. The stacked structure of the LCD cell includes a glass substrate, a first transparent electrode layer formed on the glass substrate, one protective layer formed on the first transparent electrode layer, an insulating layer formed on one protective layer, another protective layer formed on the insulating layer and other protective And a second transparent electrode layer formed over the layer.

Description

엘시디 셀의 적층 구조{Laminated Structure of Liquid Crystal Display}Laminated Structure of Liquid Crystal Display

본 발명은 엘시디 셀의 적층 구조에 관한 것이고, 구체적으로 이중 모드 엘시디 패널을 위한 엘시디 셀의 적층 구조에 관한 것이다. The present invention relates to a stacked structure of LCD cells, and more particularly, to a stacked structure of LCD cells for a dual mode LCD panel.

일반적으로 엘시디는 인가전압에 따른 액정 투과도의 변화를 이용하여 전기적인 정보를 시각적으로 표시될 수 있도록 하는 평판 디스플레이를 말한다. 엘시디는 TFT(Thin Film Transistor) 공정, CF(Color Filter) 공정 및 셀 공정을 통하여 TFT(Thin Film Transistor) LCD 패널 구조로 만들어져 디스플레이를 위하여 사용될 수 있다. TFT 공정은 플로트 공정(Float Process), 다운드로우 공정(Down Draw Process), 리-드로우 공정(Re-draw Process) 또는 오버 플로어 다운드로우 공정(Overflow Down-Fusion Process)을 통하여 만들어지는 유리 기판 위에서 진행될 수 있다. 유리 기판은 이물질의 제거 또는 부착력의 향상을 위하여 SiO2, MgF2, CeF4 또는 CeO2와 같은 소재로 코팅이 될 수 있다. 코팅이 된 유리 소재 위에 다시 예를 들어 스퍼터링(Sputtering)과 같은 방식에 의하여 ITO(Indium-Tin Oxide)를 사용하여 투명 전극이 형성될 수 있다. 이후 투명 전극이 형성된 ITO 유리 기판은 TFT 공정, CF 공정 및 셀 공정을 통하여 TFT 엘시디 패널로 만들어질 수 있다. 이와 같이 제조된 TFT 엘시디 패널은 2개의 유리 기판 사이에 예를 들어 폴리이미드와 같은 소재의 배향 막, 액정 또는 스페이스(spacer)와 같은 것이 배치되고 유리 기판의 외부에 편광 필름 및 배광 판이 배치되는 구조를 가질 수 있다. In general, an LCD refers to a flat panel display that allows electrical information to be visually displayed using a change in liquid crystal transmittance according to an applied voltage. LCD can be used for display by making thin film transistor (TFT) LCD panel structure through thin film transistor (TFT) process, color filter (CF) process, and cell process. The TFT process can be carried out on a glass substrate made through a Float Process, Down Draw Process, Re-draw Process, or Overflow Down-Fusion Process. Can be. In order to remove foreign substances or improve adhesion, the glass substrate is SiO 2 , MgF 2 , CeF 4 Or it may be coated with a material such as CeO 2 . A transparent electrode may be formed on the coated glass material again using, for example, indium tin oxide (ITO) by a method such as sputtering. Thereafter, the ITO glass substrate on which the transparent electrode is formed may be made of a TFT LCD panel through a TFT process, a CF process, and a cell process. The TFT LCD panel manufactured as described above has a structure in which an alignment film, a liquid crystal or a spacer, such as a polyimide material, is disposed between two glass substrates, and a polarizing film and a light distribution plate are disposed outside the glass substrate. It can have

엘시디 기판과 관련된 선행기술로 특허공개번호 제2008-0033893호 ‘LCD TFT 어레이 기판 및 그 제조방법’이 있다. 상기 선행기술은 기판 상에 투명 도전 층을 형성하는 공정, 상기 투명 도전 층과 상기 기판에 패턴을 형성하여 평행으로 또는 교대로 배열된 적어도 1개의 주사 트렌치 및 적어도 1개의 용량 트렌치를 형성하는 공정으로 상기 주사 트렌치를 적어도 하나의 TFT 영역, 주사 영역 및 제1 단자 영역을 가지고 상기 용량 트렌치가 적어도 1개의 용량 영역 및 제2 단자 영역을 가지도록 하는 공정; 상기 주사 트렌치 및 상기 용량 트렌치에 제1 금속 층, 유전체 층, 규소 층 및 도프가 된 규소 층을 각각 순차적으로 형성하는 공정 및 단일 노광 공정에 의한 포토리소그래피 및 에칭 공정에 의해 상기 TFT 영역 중 TFT 구조, 상기 용량 영역 중의 축척 용량 및 데이터 선 그리고 제1 및 제2 단자 영역 중 2개의 단자 구조를 동시에 규정하는 공정을 특징으로 하는 LCD TFT 어레이 기판의 제조 방법에 대하여 개시하고 있다. Prior arts related to LCD substrates include Patent Publication No. 2008-0033893, 'LCD TFT Array Substrate and a Manufacturing Method Thereof.' The prior art is a process of forming a transparent conductive layer on a substrate, forming a pattern on the transparent conductive layer and the substrate to form at least one scanning trench and at least one capacitive trench arranged in parallel or alternately. The scanning trench having at least one TFT region, a scanning region and a first terminal region and the capacitive trench having at least one capacitive region and a second terminal region; A TFT structure in the TFT region by a process of sequentially forming a first metal layer, a dielectric layer, a silicon layer, and a doped silicon layer in the scanning trench and the capacitive trench, respectively, and a photolithography and etching process by a single exposure process. A method of manufacturing an LCD TFT array substrate is disclosed which comprises simultaneously defining a storage capacitor and a data line in the capacitance region and two terminal structures of the first and second terminal regions.

엘시디 기판과 관련된 다른 선행기술로 특허공개번호 제2007-0103322호 ‘다중 패널 액정 디스플레이 디바이스’가 있다. 상기 선행기술은 하나가 다른 하나 위에 적층되고, 각각이 한 쌍의 투명 기판 및 그 사이에 끼워진 액정 층을 포함하는 복수의 LCD 패널; 상기 적층된 LCD 패널을 사이에 끼우는 한 쌍의 제1 편광 필름 및 각각 인접하는 2개의 상기 적층된 LCD 패널 사이에 개재된 하나 이상의 제2 편광 필름을 포함하고, 상기 적층된 LCD 패널 중 하나는 컬러 필터 층을 포함하고, 상기 적층된 LCD 패널 중 다른 하나는 컬러 필터 층을 포함하지 않는 액정 디스플레이 장치에 대하여 개시하고 있다. Another prior art associated with LCD substrates is Patent Publication No. 2007-0103322, 'Multi-Panel Liquid Crystal Display Device'. The prior art comprises: a plurality of LCD panels, one stacked on top of the other, each comprising a pair of transparent substrates and a liquid crystal layer sandwiched therebetween; A pair of first polarizing films sandwiching the stacked LCD panels and at least one second polarizing film interposed between two adjacent stacked LCD panels, each one of which is colored A liquid crystal display device including a filter layer and another of the laminated LCD panels does not include a color filter layer is disclosed.

제시된 선행기술은 유리 기판 위에 형성된 하나의 투명 전극을 가지는 LCD 패널에 대하여 개시하고 있으며 유리 기판 위에 형성되는 각각의 층의 두께에 대하여 개시하고 있지 아니하다. The prior art presented discloses an LCD panel having one transparent electrode formed on a glass substrate and does not disclose the thickness of each layer formed on the glass substrate.

각각의 층의 두께는 LCD 패널의 성능에 영향을 미칠 수 있고 그리고 서로 다른 두께를 가지는 투명 전극을 형성하는 것에 의하여 입체 영상의 형성이 가능하도록 할 수 있다. The thickness of each layer can affect the performance of the LCD panel and make it possible to form a stereoscopic image by forming transparent electrodes having different thicknesses.

본 발명은 선행기술에서 제시되지 않는 이와 같은 기술적 과제를 제안하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다. The present invention is to propose such a technical problem that is not presented in the prior art has the following object.

본 발명의 목적은 LCD 패널의 성능을 향상시키고 입체 영상의 실현이 가능하도록 하는 엘시디 셀 또는 엘시디 셀의 적층 구조를 제공하는 것이다. An object of the present invention is to provide an LCD cell or a stacked structure of an LCD cell to improve the performance of the LCD panel and to realize a stereoscopic image.

본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 엘시디 셀의 적층 구조는 유리 기판, 유리 기판 위에 형성된 제1 투명 전극 층, 제1 투명 전극 층 위에 형성된 하나의 보호 층, 하나의 보호 층 위에 형성된 절연 층, 절연 층 위에 형성된 다른 보호 층 및 다른 보호 층 위에 형성된 제2 투명 전극 층을 포함한다. According to a preferred embodiment of the present invention, the stacked structure of the LCD cell comprises a glass substrate, a first transparent electrode layer formed on the glass substrate, one protective layer formed on the first transparent electrode layer, an insulating layer formed on one protective layer, insulation Another protective layer formed over the layer and a second transparent electrode layer formed over the other protective layer.

본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 제1 투명 전극 층은 100 내지 3,000 Å의 두께로 형성되고 그리고 제2 투명 전극 층은 100 내지 3,000 Å의 두께로 형성된다. According to another suitable embodiment of the present invention, the first transparent electrode layer is formed to a thickness of 100 to 3,000 mm 3 and the second transparent electrode layer is formed to a thickness of 100 to 3,000 mm 3.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 유리 기판에 형성된 보호 층을 더 포함한다. According to another suitable embodiment of the present invention, it further comprises a protective layer formed on the glass substrate.

본 발명에 따른 적층 구조는 LCD 패널의 디스플레이 성능이 향상되도록 하면서 무안경식 입체 영상의 실현이 가능하도록 한다는 이점을 가진다. 또한 본 발명에 따른 적층 구조는 무안경식 입체 영상의 실현 과정에서 서로 다른 시각에 따른 휘도의 차이가 감소될 수 있도록 한다는 장점을 가진다. The laminated structure according to the present invention has an advantage of enabling an autostereoscopic 3D image to be realized while improving display performance of the LCD panel. In addition, the stacked structure according to the present invention has the advantage that the difference in luminance according to different views can be reduced in the process of realizing the autostereoscopic 3D image.

도 1은 본 발명에 따른 적층 구조의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2는 본 발명에 따른 적층 구조가 적용되는 엘시디 모듈의 실시 예를 개략적으로 도시한 것이다. 1 illustrates an embodiment of a laminated structure according to the present invention.
2 schematically illustrates an embodiment of an LCD module to which a stacked structure according to the present invention is applied.

아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings, but the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명에 따른 적층 구조의 실시 예를 도시한 것이다. 1 illustrates an embodiment of a laminated structure according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 엘시디 셀의 적층 구조는 유리 기판, 유리 기판 위에 형성된 제1 투명 전극 층, 제1 투명 전극 층 위에 형성된 하나의 보호 층, 하나의 보호 층 위에 형성된 절연 층, 절연 층 위에 형성된 다른 보호 층 및 다른 보호 층 위에 형성된 제2 투명 전극 층을 포함할 수 있다. 제1 투명 전극 층은 100 내지 3,000 Å의 두께로 형성되고 그리고 제2 투명 전극 층은 100 내지 3,000 Å의 두께로 형성될 수 있고 동일하거나 또는 서로 다른 두께로 형성될 수 있다. 또한 필요에 따라 유리 기판 위에 보호 층이 형성될 수 있다. 구체적으로 엘시디 셀의 적층 구조(10)는 제1 보호 층(11)이 형성된 유리된 유리 기판(G), 유리 기판(G) 위에 형성된 100 내지 300 Å의 두께로 형성된 제1 투명 전극 층(12), 제1 투명 전극 층(12) 위에 형성된 제2 보호 층(11a), 제2 보호 층(11a) 위에 형성된 절연 층(13), 절연 층(13) 위에 형성된 제3 보호 층(11b) 및 제3 보호 층(11b) 위에 형성된 1500 내지 2500 Å의 두께로 형성된 제2 투명 전극(12a) 층을 포함한다. Referring to FIG. 1, the stacked structure of an LCD cell according to the present invention includes a glass substrate, a first transparent electrode layer formed on the glass substrate, one protective layer formed on the first transparent electrode layer, an insulating layer formed on one protective layer, Another protective layer formed over the insulating layer and a second transparent electrode layer formed over the other protective layer. The first transparent electrode layer may be formed to a thickness of 100 to 3,000 mm 3 and the second transparent electrode layer may be formed to a thickness of 100 to 3,000 mm 3 and may be formed to the same or different thicknesses. In addition, a protective layer may be formed on the glass substrate as necessary. Specifically, the stacked structure 10 of the LCD cell 10 includes a glass substrate G having the first protective layer 11 formed thereon and a first transparent electrode layer 12 having a thickness of 100 to 300 μm formed on the glass substrate G. ), A second protective layer 11a formed on the first transparent electrode layer 12, an insulating layer 13 formed on the second protective layer 11a, a third protective layer 11b formed on the insulating layer 13, and And a second transparent electrode 12a layer formed to a thickness of 1500 to 2500 kPa formed on the third protective layer 11b.

유리 기판(G)은 예를 들어 알칼리 성분을 포함하지 않는 무-알칼리 유리 기판이 될 수 있고 디스플레이 방식에 따라 소다 보로실리케이트(soda borosilicate), 알루미노 보로실리케이트 계통의 유리 기판과 같이 이 분야에서 공지된 성분으로부터 제조될 수 있다. 유리 기판은 0.3 내지 1.2 mm의 두께를 가질 수 있지만 이에 제한되지 않고 LCD 셀의 종류에 따라 적절하게 선택될 수 있다. 유리 기판(G)은 이 분야에서 요구되는 적절한 열 특성, 표면 거칠기(Roughness) 또는 평탄도를 가질 수 있고 본 발명에 이에 의하여 제한되지 않는다. The glass substrate G can be, for example, an alkali-free glass substrate that does not contain an alkali component and is known in the art, such as soda borosilicate and alumino borosilicate based glass substrates, depending on the display method. Can be prepared from the prepared components. The glass substrate may have a thickness of 0.3 to 1.2 mm, but is not limited thereto and may be appropriately selected according to the type of LCD cell. Glass substrate G may have suitable thermal properties, surface roughness or flatness required in the art and are not limited by this invention.

제1 보호 층(11)은 유리 기판(G) 위에 존재하는 이물질은 제거하는 한편 제1 투명 전극 층(12)의 부착력을 향상 또는 유리 기판(G)에 함유된 나트륨 이온과 같은 것이 제1 투명 전극 층(12)을 손상시키는 것을 방지하기 위하여 SiO 또는 Al2O3과 같은 코팅이 될 수 있다. 코팅은 예를 들어 코팅 룸에서 RF 스퍼터링(Radio Frequency Sputtering) 방식으로 400 내지 600 Å의 두께가 되도록 이루어질 수 있다. The first protective layer 11 removes foreign substances present on the glass substrate G while improving the adhesion of the first transparent electrode layer 12 or the first transparent layer such as sodium ions contained in the glass substrate G. A coating such as SiO or Al 2 O 3 can be used to prevent damaging the electrode layer 12. The coating may be made to have a thickness of 400 to 600 Hz, for example by RF sputtering in a coating room.

제1 보호 층(11)이 코팅이 된 유리 기판(G)이 제조되면 제1 투명 전극 층(12)이 형성될 수 있다. 제1 투명 전극 층(12)은 예를 들어 산화 인듐 주석(Indium Tin Oxide: ITO), 산화 아연(ZnO), 산화주석(Tin Oxide) 또는 탄소 나노 튜브와 같은 유기투명전극 소재로 스프터링 방식에 의하여 100 내지 300 Å의 두께로 유리 기판(G) 위에 형성될 수 있다. 제1 투명 전극 층(12)의 소재 또는 형성 방법은 특별히 제한되지 않으며 이 분야에서 공지된 방법에 따라 이루어질 수 있다. When the glass substrate G coated with the first protective layer 11 is manufactured, the first transparent electrode layer 12 may be formed. The first transparent electrode layer 12 may be sputtered with an organic transparent electrode material such as, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide, or carbon nanotubes. By the thickness of 100 to 300 kPa can be formed on the glass substrate (G). The material or forming method of the first transparent electrode layer 12 is not particularly limited and may be made according to methods known in the art.

제1 투명 전극 층(12)이 형성되면 다시 제2 보호 층(11a)이 형성될 수 있다. 제2 보호 층(11a)은 제1 보호 층(11)과 동일 또는 유사한 기능을 가지고 이로 인하여 동일 또는 유사한 소재로 형성될 수 있다. 또한 제2 보호 층(11a)은 제1 보호 층(11)과 마찬가지로 400 내지 600 Å의 두께로 형성될 수 있다. When the first transparent electrode layer 12 is formed, the second protective layer 11a may be formed again. The second protective layer 11a may have the same or similar function as the first protective layer 11, and thus may be formed of the same or similar material. In addition, like the first protective layer 11, the second protective layer 11a may be formed to a thickness of 400 to 600 mm 3.

제2 보호 층(11a)의 위쪽에 절연 층(Over Coating)(13)이 형성될 수 있다. 절연 층(13)은 예를 들어 PES(Polyethersulfone), PC(Polycarbonate), PEN(Polyethylenenaphthalate) 또는 PET(Polyethyleneterephtalate)와 같은 투명 고분자 소재로 1.2 내지 2.0 ㎛의 두께로 형성될 수 있다. 절연 층(13)은 투명 절연 막으로 접착성을 향상시키면서 제1 투명 전극 층(12)과 제2 투명 전극 층(12a) 사이의 절연을 위하여 형성될 수 있다. 절연 층(13)은 다양한 방법으로 형성될 수 있고 예를 들어 스핀 코팅과 같은 방법으로 형성될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. An insulating layer 13 may be formed on the second protective layer 11a. The insulating layer 13 may be formed of a transparent polymer material such as polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), polyethylenenaphthalate (PEN), or polyethylene terephtalate (PET), for example, to a thickness of 1.2 to 2.0 μm. The insulating layer 13 may be formed for insulation between the first transparent electrode layer 12 and the second transparent electrode layer 12a while improving adhesion with a transparent insulating film. The insulating layer 13 can be formed in various ways and can be formed, for example, by spin coating, but is not limited thereto.

절연 층(13)의 위쪽에 제3 보호 층(11b)이 형성될 수 있다. 제3 보호 층(11b)은 제1 또는 제2 보호 층(11, 11a)과 동일 또는 유사한 기능을 가질 수 있고 위에서 이미 설명한 것과 동일 또는 유사한 소재 또는 두께로 형성될 수 있다. The third protective layer 11b may be formed on the insulating layer 13. The third protective layer 11b may have the same or similar function as the first or second protective layers 11 and 11a and may be formed of the same or similar material or thickness as described above.

제3 보호 층(11b)의 위쪽에 형성되는 제2 투명 전극 층(12a)과 제1 투명 전극 층(12)과 동일 또는 유사한 소재로 형성될 수 있다. 다만 제2 투명 전극 층(12a)은 제1 투명 전극 층(12)과 달리 1500 내지 2500 Å의 두께로 형성될 수 있다. 제2 투명 전극 층(12a)의 두께가 이와 달리 제1 투명 전극 층(12)에 비하여 큰 두께로 형성되는 것은 제2 투명 전극 층(12a)의 위쪽에 배향 막, 액정 또는 스페이서와 같은 것이 배치되고 이와 같은 것에 의하여 제2 투명 전극 층(12a)이 보호될 수 있도록 하기 위함이다. 제2 투명 전극 층(12a)이 형성되면 엘시디 셀 또는 엘시디 기판의 형성을 위한 한쪽 면이 완성된다. The second transparent electrode layer 12a and the first transparent electrode layer 12 formed on the third protective layer 11b may be formed of the same or similar material. However, unlike the first transparent electrode layer 12, the second transparent electrode layer 12a may be formed to a thickness of 1500 to 2500 mm 3. The thickness of the second transparent electrode layer 12a is different from that of the first transparent electrode layer 12 so that the thickness of the second transparent electrode layer 12a is disposed above the second transparent electrode layer 12a. And the second transparent electrode layer 12a can be protected by the same. When the second transparent electrode layer 12a is formed, one surface for forming an LCD cell or an LCD substrate is completed.

도 1에서 설명이 되지 않았지만 기판의 형성 과정에서 엘시디 셀 또는 엘시디 기판의 형성을 위하여 요구되는 공정이 진행될 수 있고 필요에 따라 이와 같은 공정 과정에서 요구되는 층이 형성될 수 있다. 예를 들어 TFT 공정을 위하여 유리 기판에 축척 커패시터 또는 게이트 전극과 같은 것이 배치될 수 있고 필요에 따라 절연 막이 게이트 전극 또는 축척 커패시터의 보호를 위하여 형성될 수 있다. 다른 한편으로 제1 또는 제2 투명 전극 층(12 또는 12a)은 표면 전체가 아니라 도포(coating), 노광(expose), 현상(develop) 및 에칭(etching)과 같은 공정을 통하여 픽셀 전극 형태로 만들어질 수 있다. Although not described in FIG. 1, a process required for forming an LCD cell or an LCD substrate may be performed in the process of forming a substrate, and a layer required in the process may be formed as needed. For example, a scale capacitor or a gate electrode may be disposed on a glass substrate for a TFT process, and an insulating film may be formed for protection of the gate electrode or scale capacitor as necessary. On the other hand, the first or second transparent electrode layer 12 or 12a is formed in the form of pixel electrodes through a process such as coating, exposure, development and etching, not the entire surface. Can lose.

도 1에 제시된 적층 구조가 형성되면 동일한 형태의 적층 구조가 만들어지고 필요에 따라 칼라 필터, 배향 막, 평관 판 또는 확산 판과 같은 것이 설치될 수 있다. 또한 2개의 적층 구조 사이에 액정(Liquid Crystal)이 채워지게 되고 스페이서와 같은 것에 의하여 2개의 적층 구조가 서로 일정 간격만큼 이격되어 유지될 수 있다. 다른 한편으로 실(seal)에 의하여 액정이 외부 누설이 방지될 수 있다. 이와 같은 소재의 배치 및 엘시디 모듈의 제작은 이 분야에서 공지된 방법에 따라 이루어질 수 있다. 엘시디 모듈은 예를 들어 무안경 방식의 입체 영상의 실현을 위하여 사용될 수 있다. Once the lamination structure shown in Fig. 1 is formed, a lamination structure of the same shape is made, and if necessary, such as a color filter, an alignment film, a flat plate or a diffusion plate can be installed. In addition, a liquid crystal is filled between the two stacked structures, and the two stacked structures may be spaced apart from each other by a predetermined distance by a spacer or the like. On the other hand, external leakage of the liquid crystal can be prevented by a seal. Placement of such materials and fabrication of the LCD module can be made according to methods known in the art. The LCD module may be used, for example, for realizing an autostereoscopic 3D image.

아래에서 본 발명에 다른 적층 구조의 적용 예에 대하여 설명한다. Below, the application example of the other laminated structure to this invention is demonstrated.

도 2는 본 발명에 따른 적층 구조가 적용되는 엘시디 모듈의 실시 예를 개략적으로 도시한 것이다. 2 schematically illustrates an embodiment of an LCD module to which a stacked structure according to the present invention is applied.

도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 적층 구조(10, 10a) 사이에 액정(LC)이 채워질 수 있고 백라이트(21)가 뒤쪽에 배치될 수 있다. 제1 적층 구조(10a)는 2개의 투명 전극(T1, T2)을 가질 수 있고 제2 적층 구조(10)는 다른 2개의 투명 전극(T3, T4)로 이루어질 수 있다. 도 2에 제시된 실시 예에서 설명의 편의를 위하여 TFT, 절연 층, 보호 층 또는 확산 판과 같은 것은 생략이 되었고 이는 단지 설명의 편의를 위한 것이다. 시청자의 시각은 다양한 위치(E1, E2, E3)에 존재할 수 있고 시청자의 위치는 예를 들어 추적 장치(eye-tracker)와 같은 장치에 의하여 확인될 수 있다. 위치(E1, E2, E3)의 변화에 따라 예를 들어 제1 위치(E1)에서 2개의 투명 전극(T1, T3)을 작동시키고 다시 제2 위치(E2)에서 다른 2개의 투명 전극(T2, T4)을 작동시키고 다시 제3 위치에서 2개의 투명 전극(T1, T3)을 작동시킬 수 있다. 이와 같이 위치(E1, E2, E3)에 따라 서로 다른 2개의 투명 전극(T1, T2, T3, T4)을 작동시키는 것에 의하여 시청자의 위치(E1, E2, E3)에 상관없이 선명한 무안경식 입체 영상이 실현될 수 있도록 한다. Referring to FIG. 2, the liquid crystal LC may be filled between the stacked structures 10 and 10a according to the present invention, and the backlight 21 may be disposed at the rear side. The first stacked structure 10a may have two transparent electrodes T1 and T2, and the second stacked structure 10 may include two other transparent electrodes T3 and T4. In the embodiment shown in FIG. 2, for convenience of description, such as a TFT, an insulating layer, a protective layer, or a diffusion plate is omitted, which is merely for convenience of description. The viewer's time can be at various locations E1, E2, E3 and the viewer's location can be confirmed by a device such as, for example, an eye-tracker. According to the change of the positions E1, E2, E3, for example, the two transparent electrodes T1, T3 are operated at the first position E1, and again the other two transparent electrodes T2, T4) can be operated and again two transparent electrodes T1, T3 can be operated in the third position. Thus, by operating two different transparent electrodes T1, T2, T3, and T4 according to the positions E1, E2, and E3, a clear autostereoscopic 3D image regardless of the viewer's positions E1, E2, and E3. This can be realized.

이와 같이 본 발명에 따른 이중 모드 엘시디 기판의 제조를 위한 적층 구조는 무안경식 입체 영상의 실현에 유리하면서 시청자의 위치에 관계없이 선명한 입체 영상의 시청이 가능하도록 한다는 이점을 가진다. As described above, the laminated structure for manufacturing the dual mode LCD substrate according to the present invention has the advantage of enabling the realization of the autostereoscopic 3D image and enabling the viewing of the clear 3D image regardless of the position of the viewer.

본 발명에 따른 적층 구조는 LCD 패널의 디스플레이 성능이 향상되도록 하면서 무안경식 입체 영상의 실현이 가능하도록 한다는 이점을 가진다. 또한 본 발명에 따른 적층 구조는 서로 다른 시각에 따른 휘도의 차이가 감소될 수 있도록 한다는 장점을 가진다. The laminated structure according to the present invention has an advantage of enabling an autostereoscopic 3D image to be realized while improving display performance of the LCD panel. In addition, the laminated structure according to the present invention has the advantage that the difference in luminance according to different times can be reduced.

10, 10a: 적층 구조 11: 제1 보호 층
11a: 제2 보호 층 11b: 제3 보호 층
12: 제1 투명 전극 층 12a: 제2 투명 전극 층
13: 절연 층
G: 유리 기판 T1, T2, T3, T4: 투명 전극 10, 10a: laminated structure 11: first protective layer
11a: second protective layer 11b: third protective layer
12: first transparent electrode layer 12a: second transparent electrode layer
13: insulation layer
G: glass substrate T1, T2, T3, T4: transparent electrode

Claims (3)

액정(LC)이 사이에 형성되고 그리고 백라이트(21)의 위쪽 부분에 형성되는 2개의 적층 구조로 이루어지는 입체 영상의 실현을 위한 엘시디 셀의 적층 구조에 있어서,
상기 2개의 적층 구조의 각각의 층은
유리 기판;
유리 기판 위에 형성된 제1 투명 전극 층;
제1 투명 전극 층 위에 형성된 하나의 보호 층;
하나의 보호 층 위에 형성된 절연 층;
절연 층 위에 형성된 다른 보호 층; 및
다른 보호 층 위에 형성된 제2 투명 전극 층을 포함하고,
상기 각각의 적층 구조는 2개의 투명 전극을 가지는 것을 특징으로 하는 엘시디 셀의 적층 구조.In the stacked structure of an LCD cell for realizing the stereoscopic image which consists of two laminated structures formed between the liquid crystal LC and formed in the upper part of the backlight 21,
Each layer of the two laminated structures
A glass substrate;
A first transparent electrode layer formed on the glass substrate;
One protective layer formed over the first transparent electrode layer;
An insulating layer formed over one protective layer;
Another protective layer formed over the insulating layer; And
A second transparent electrode layer formed over the other protective layer,
And each laminated structure has two transparent electrodes. 청구항 1에 있어서, 제1 투명 전극 층은 100 내지 3000 Å의 두께로 형성되고 그리고 제2 투명 전극 층은 1500 내지 2500 Å의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 엘시디 셀의 적층 구조. The stacked structure of an LCD cell according to claim 1, wherein the first transparent electrode layer is formed to a thickness of 100 to 3000 mm 3 and the second transparent electrode layer is formed to a thickness of 1500 to 2500 mm 3. 청구항 1에 있어서, 유리 기판에 형성된 보호 층을 더 포함하는 엘시디 셀의 적층 구조.
The stacked structure of an LCD cell according to claim 1, further comprising a protective layer formed on the glass substrate.
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