KR101353033B1 - Apparatus for febrication of thin film type solar cell and buffer chamber used for the same - Google Patents
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Abstract
본 발명의 일 측면은 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되는 버퍼 챔버를 통하여 제1공정 챔버에서 반출되는 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 제2공정 챔버로 반입함으로써 박막형 태양전지의 연속 공정을 가능하게 하여 생산성을 향상시킬 수 있는 박막형 태양전지 제조장치 및 이에 이용되는 버퍼 챔버를 제공하는 것에 있으며, 이러한 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치는, 가요성 기판에 제1박막을 형성하는 제1공정 챔버;와, 상기 가요성 기판의 제1박막 상에 제2박막을 형성하는 제2공정 챔버;와, 상기 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되어 상기 제1공정 챔버에서 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절하여 상기 제2공정 챔버로 반입시키기 위한 버퍼 챔버;를 포함하는 것을 특징으로 한다. One aspect of the present invention is a thin-film solar cell by controlling the speed of the flexible substrate taken out of the first process chamber through the buffer chamber disposed between the first process chamber and the second process chamber and then brought into the second process chamber The present invention provides a thin-film solar cell manufacturing apparatus and a buffer chamber used therein, which can improve the productivity by enabling a continuous process of the thin film solar cell manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, A first process chamber forming a thin film; and a second process chamber forming a second thin film on the first thin film of the flexible substrate; and disposed between the first process chamber and the second process chamber. And a buffer chamber for controlling the speed of the flexible substrate continuously carried out from the first process chamber and bringing it into the second process chamber.
Description
본 발명은 박막형 태양전지 제조장치 및 이에 이용되는 버퍼 챔버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되는 버퍼 챔버를 통하여 제1공정 챔버에서 반출되는 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 제2공정 챔버로 반입함으로써 박막형 태양전지의 연속 공정을 가능하게 하여 생산성을 향상시킬 수 있는 박막형 태양전지 제조장치 및 이에 이용되는 버퍼 챔버에 관한 것이다. The present invention relates to a thin film solar cell manufacturing apparatus and a buffer chamber used therein, and more particularly, to a flexible substrate carried out from a first process chamber through a buffer chamber disposed between the first process chamber and the second process chamber. The present invention relates to a thin-film solar cell manufacturing apparatus and a buffer chamber used therein, which can improve the productivity by enabling a continuous process of a thin-film solar cell by controlling the speed of the wafer and then bringing it into a second process chamber.
일반적으로, 태양전지는 태양으로부터 지구에 전달되는 빛 에너지를 전기 에너지로 변환하여 에너지를 생산하는 청정 에너지원으로써 지구 온난화 방지를 위한 이산화탄소 발생량을 줄일 수 있다는 장점이 있다. Generally, a solar cell is a clean energy source that generates energy by converting light energy transferred from the sun to the earth into electric energy, thereby reducing the amount of carbon dioxide generated to prevent global warming.
이와 같은 태양전지는 기판형 태양전지와 박막형 태양전지로 구분할 수 있다.Such a solar cell can be classified into a substrate type solar cell and a thin film solar cell.
기판형 태양전지는 실리콘과 같은 반도체물질 자체를 기판으로 이용하여 태양전지를 제조한 것이고, 박막형 태양전지는 유리 등과 같은 기판 상에 박막의 형태로 반도체를 형성하여 태양전지를 제조한 것이다. The substrate type solar cell is a solar cell manufactured using a semiconductor material itself such as silicon as a substrate, and the thin film type solar cell is a solar cell by forming a semiconductor in the form of a thin film on a substrate such as glass.
기판형 태양전지는 상기 박막형 태양전지에 비하여 효율이 다소 우수하기는 하지만, 공정상 두께를 최소화하는데 한계가 있고 고가의 반도체 기판을 이용하기 때문에 제조비용이 상승되는 단점이 있다. Although the substrate type solar cell has a somewhat higher efficiency than the thin film type solar cell, there is a limitation in minimizing the thickness in the process and a manufacturing cost is increased because an expensive semiconductor substrate is used.
박막형 태양전지는 기판형 태양전지에 비하여 효율이 다소 떨어지기는 하지만, 얇은 두께로 제조가 가능하고 저가의 재료를 이용할 수 있어 제조비용이 감소되는 장점이 있어 대량생산에 적합하다는 장점이 있다. Thin-film solar cells have advantages in that they are suitable for mass production because they can be manufactured with a thin thickness and use low-cost materials, thereby reducing manufacturing costs, although the efficiency is somewhat lower than that of a substrate-type solar cell.
일반적으로 박막형 태양전지는 유리 기판을 사용하고 있지만, 경량화, 시공성, 및 양산성을 높일 수 있는 가요성 기판을 이용한 박막형 태양전지에 대한 연구 개발이 활발히 진행되고 있다.In general, a thin film solar cell uses a glass substrate, but research and development on a thin film solar cell using a flexible substrate capable of reducing weight, workability, and mass productivity have been actively conducted.
종래의 가요성 기판을 이용한 박막형 태양전지는 가요성 기판 상에 제1전극층, 반도체층, 및 제2전극층으로 이루어지는 복수의 태양전지 셀을 포함하며, 인접한 태양전지 셀은 서로 전기적으로 직렬 접속된다.A conventional thin film solar cell using a flexible substrate includes a plurality of solar cells including a first electrode layer, a semiconductor layer, and a second electrode layer on a flexible substrate, and adjacent solar cells are electrically connected in series with each other.
도 1은 박막형 태양전지의 제조 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic view for explaining an apparatus for manufacturing a thin film solar cell.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 박막형 태양전지의 제조 장치(1)는 외곽 챔버(2), 기판 피딩 롤러(3), 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6), 기판 권취 롤러(7)를 포함하여 구성된다. 1, a conventional apparatus 1 for manufacturing a thin film solar cell includes an
외곽 챔버(2)는 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6), 기판 피딩 롤러(3), 기판 권취 롤러(7)를 감싸도록 설치된다. 이러한, 외곽 챔버(2)의 내부는 복수의 제1진공펌프(8A)에 의해 진공 상태를 유지한다. The
기판 피딩 롤러(3)는 외곽 챔버(2)의 일측에 설치된다. 이때, 기판 피딩 롤러(3)에는 소정의 길이를 가지는 가요성 기판(1A)이 감겨져 있다. 여기서, 가요성 기판(1A) 상에는 박막형 태양전지의 전극층(미도시)이 소정 간격으로 형성되어 있다. The
이러한, 기판 피딩 롤러(3)는 스테핑 롤링 방식으로 회전하면서 가요성 기판(1A)을 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6)으로 공급한다. The
제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6) 각각은 기판 피딩 롤러(3)와 기판 권취 롤러(7) 사이에 배치되도록 외곽 챔버(2) 내부에 설치된다. Each of the first to third process chamber units 4 to 6 is installed inside the
이러한, 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6) 각각은 PECVD을 이용하여 스테핑 롤링 방식에 따라 기판 피딩 롤러(3)로부터 공급되는 가요성 기판(1A) 상에 반도체층을 형성한다. Each of the first to third process chamber units 4 to 6 forms a semiconductor layer on the flexible substrate 1A supplied from the
이를 위해, 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6) 각각은 하부 챔버(9A), 히터(9B), 상부 챔버(9C), 샤워 헤드(9D), 제2진공펌프(8B)를 구비한다. To this end, each of the first to third process chamber units 4 to 6 is provided with a
하부 챔버(9A)는 외곽 챔버(2)의 바닥면에 설치된다. The
히터(9B)는 하부 챔버(9A) 내부에 설치되어 스테핑 방식으로 반송되는 가요성 기판(1A)을 소정의 온도로 가열한다. The heater 9B is installed inside the
상부 챔버(9C)는 상부 챔버 승강부(미부호)에 의해 지지되도록 외곽 챔버(2)의 상부에 설치된다. The upper chamber 9C is installed at the upper part of the
샤워 헤드(9D)는 상부 챔버(9C) 내부에 설치되어 외부로부터 공급되는 공정 가스를 반응 공간에 분사한다. The showerhead 9D is installed inside the upper chamber 9C and injects the process gas supplied from the outside into the reaction space.
제2진공펌프(8B)는 외곽 챔버(2)의 바닥면을 관통하여 하부 챔버(9A)에 연통되도록 설치되어 반응 공간에 진공 분위기를 형성한다. The
기판 권취 롤러(7)는 외곽 챔버(2)의 타측에 설치된다. 이러한, 기판 권취 롤러(7)는 스테핑 롤링 방식으로 회전하는 기판 피딩 롤러(3)와 연동되어 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6)에 의해 공정이 완료된 가요성 기판(1A)을 회수한다. The substrate take-up roller 7 is provided on the other side of the
한편, 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6)에서 반도체 층 및 광 변환층을 연속으로 증착하여야 하므로, 각 제1 내지 제3공정 챔버 유닛(4~6)에서 레이어의 증착시간, 증착조건에 따라 챔버의 크기가 달라지게 되는데, 이러한 이유로 기판 피딩 롤러는 스테핑 롤링(Stepping Rolling) 방식으로 가요성 기판(1A)을 반송하여 생산성이 저하된다는 문제가 있었다. Meanwhile, since the semiconductor layer and the light conversion layer must be continuously deposited in the first to third process chamber units 4 to 6, the deposition time and the deposition time of the layer in each of the first to third process chamber units 4 to 6 are deposited. The size of the chamber is changed depending on the conditions. For this reason, the substrate feeding roller conveys the flexible substrate 1A in a stepping rolling manner, thereby lowering productivity.
본 발명의 일 측면은 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되는 버퍼 챔버를 통하여 제1공정 챔버에서 반출되는 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 제2공정 챔버로 반입함으로써 박막형 태양전지의 연속 공정을 가능하게 하여 생산성을 향상시킬 수 있는 박막형 태양전지 제조장치 및 이에 이용되는 버퍼 챔버를 제공하는 것에 있다. One aspect of the present invention is a thin-film solar cell by controlling the speed of the flexible substrate taken out of the first process chamber through the buffer chamber disposed between the first process chamber and the second process chamber and then brought into the second process chamber It is to provide a thin-film solar cell manufacturing apparatus and a buffer chamber used for enabling a continuous process of the can improve the productivity.
본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치는, 가요성 기판에 제1박막을 형성하는 제1공정 챔버;와, 상기 가요성 기판의 제1박막 상에 제2박막을 형성하는 제2공정 챔버;와, 상기 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되어 상기 제1공정 챔버에서 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절하여 상기 제2공정 챔버로 반입시키기 위한 버퍼 챔버;를 포함하는 것을 특징으로 한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a thin-film solar cell manufacturing apparatus comprising: a first process chamber for forming a first thin film on a flexible substrate; and a second process for forming a second thin film on the first thin film of the flexible substrate. A buffer chamber disposed between the first process chamber and the second process chamber to adjust the speed of the flexible substrate continuously carried out from the first process chamber and to load the flexible substrate into the second process chamber; Characterized in that it comprises a.
또한, 버퍼 챔버는, 상기 가요성 기판의 변위차 발생을 통하여 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절하는 적어도 하나 이상의 위치 가변 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the buffer chamber is characterized in that it comprises at least one or more variable position rollers for adjusting the speed of the flexible substrate continuously carried out through the displacement difference generation of the flexible substrate.
또한, 위치 가변 롤러는, 상기 가요성 기판의 이송 방향의 수직 방향 또는 대각선 방향으로 변위차를 발생시키는 것을 특징으로 한다. In addition, the variable position roller is characterized by generating a displacement difference in the vertical direction or the diagonal direction of the conveyance direction of the flexible substrate.
또한, 버퍼 챔버는, 상기 제1공정 챔버에 인접하도록 상기 버퍼 챔버의 내부 일측에 고정 위치되는 제1고정 롤러;와, 상기 제2공정 챔버에 인접하도록 상기 위치 가변 롤러를 사이에 두고 상기 버퍼 챔버의 내부 타측에 고정 위치되는 제2고정 롤러;를 포함하는 것을 특징으로 한다. The buffer chamber may further include a first fixing roller fixedly positioned at an inner side of the buffer chamber so as to be adjacent to the first process chamber, and the buffer chamber having the variable position roller disposed adjacent to the second process chamber. It characterized in that it comprises a; second fixing roller which is fixed to the other inner side of the.
또한, 위치 가변 롤러는, 상기 제1고정 롤러와 제2고정 롤러에 의해 정의된 중심선을 기준으로 하측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제1위치 가변 롤러;와, 상기 중심선을 기준으로 상측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제2위치 가변 롤러;를 포함하는 것을 특징으로 한다. The variable position roller may include a first variable position roller in which a lift displacement occurs in a downward direction with respect to a center line defined by the first fixed roller and the second fixed roller; and a lift in an upward direction based on the center line. And a second position variable roller in which displacement occurs.
또한, 제1위치 가변 롤러와 제2위치 가변 롤러는 복수로 마련되되 서로 교번적으로 배치되는 것을 특징으로 한다. In addition, the first variable position roller and the second variable position roller is provided in plurality, characterized in that arranged alternately with each other.
또한, 위치 가변 롤러는, 상기 가요성 기판의 이송 방향으로 변위차를 발생시키는 것을 특징으로 한다. Moreover, the variable position roller is characterized by generating a displacement difference in the conveyance direction of the said flexible substrate.
또한, 버퍼 챔버는, 상기 가요성 기판이 반입되는 상기 버퍼 챔버의 입구 측에 배치되는 제1기밀 부재;과, 상기 가요성 기판이 반출되는 상기 버퍼 챔버의 출구 측에 배치되는 제2기밀 부재;을 포함하는 것을 특징으로 한다. The buffer chamber may further include a first hermetic member disposed at an inlet side of the buffer chamber into which the flexible substrate is loaded, and a second hermetic member disposed at an outlet side of the buffer chamber through which the flexible substrate is carried out; Characterized in that it comprises a.
또한, 제1기밀 부재는, 상기 버퍼 챔버의 입구 측 제1면에 설치된 제1에어 커튼부와, 상기 버퍼 챔버의 입구 측 제2면에 설치된 제2에어 커튼부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The first hermetic member may include a first air curtain portion provided on the inlet side first surface of the buffer chamber and a second air curtain portion provided on the inlet side second surface of the buffer chamber.
또한, 제1 및 제2에어 커튼부는 각각, 상기 버퍼 챔버의 입구 측 제1면 및 제2면에 각각 부착되는 제1 및 제2몸체;와, 상기 제1 및 제2몸체의 일측 가장 자리에 각각 설치되어 기밀용 가스를 분사하는 제1 및 제2가스 분사부;와, 상기 제1 및 제2몸체의 타측 가장 자리에 각각 설치되어 상기 제1 및 제2가스 분사부에서 분사되는 기밀용 가스를 흡입하는 제1 및 제2가스 흡입부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. The first and second air curtain parts may include first and second bodies attached to first and second surfaces of the inlet side of the buffer chamber, respectively, and at one edge of the first and second bodies. First and second gas injectors, respectively installed to inject gas for airtightness; and airtight gases installed at the other edges of the first and second bodies, respectively, and injected from the first and second gas injectors. It characterized in that it comprises a; first and second gas suction portion for sucking the.
또한, 제1공정 챔버, 제2공정 챔버, 버퍼 챔버를 감싸는 외곽 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. The apparatus may further include an outer chamber surrounding the first process chamber, the second process chamber, and the buffer chamber.
본 발명의 실시예에 따른 박막형 반도체 제조장치를 다른 측면에서 본다면, 기판 피딩 롤러에서 공급되는 가요성 기판을 지지하는 제1기판 지지 롤러와, 상기 가요성 기판에 제1박막을 형성하기 위하여 상기 제1기판 지지 롤러에 대응 설치되는 제1샤워 헤드를 가지는 제1공정 챔버;와, 기판 회수 롤러로 회수되는 가요성 기판을 지지하는 제2기판 지지 롤러와, 상기 가요성 기판에 제2박막을 형성하기 위하여 상기 제2기판 지지 롤러에 대응 설치되는 제2샤워 헤드를 가지는 제2공정 챔버;와, 상기 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되어 상기 제1기판 지지 졸러에서 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 상기 제2기판 지지 롤러로 반입하기 위한 버퍼 챔버;를 포함하는 것을 특징으로 한다.In another aspect, a thin film type semiconductor manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, a first substrate support roller for supporting a flexible substrate supplied from a substrate feeding roller, and the first substrate to form a first thin film on the flexible substrate A first process chamber having a first shower head corresponding to the first substrate support roller; a second substrate support roller supporting the flexible substrate recovered by the substrate recovery roller; and a second thin film formed on the flexible substrate. A second process chamber having a second shower head corresponding to the second substrate support roller, the second process chamber being disposed between the first process chamber and the second process chamber to be continuously removed from the first substrate support roller. And a buffer chamber for adjusting the speed of the flexible substrate to be loaded into the second substrate supporting roller.
또한, 버퍼 챔버는, 수직 방향 변위차를 발생시켜 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절하는 적어도 하나 이상의 위치 가변 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the buffer chamber is characterized in that it comprises at least one or more variable position rollers for generating a vertical displacement difference to control the speed of the flexible substrate continuously carried out.
또한, 버퍼 챔버는, 상기 제1공정 챔버에 인접하도록 상기 버퍼 챔버의 내부 일측에 고정 위치되는 제1고정 롤러와, 상기 제2공정 챔버에 인접하도록 상기 위치 가변 롤러를 사이에 두고 상기 버퍼 챔버의 내부 타측에 고정 위치되는 제2고정 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.The buffer chamber may include a first fixing roller fixedly positioned at an inner side of the buffer chamber so as to be adjacent to the first process chamber, and a position variable roller disposed to be adjacent to the second process chamber. And a second fixing roller fixedly positioned at the other side of the inside.
또한, 위치 가변 롤러는, 상기 제1고정 롤러와 제2고정 롤러에 의해 정의된 중심선을 기준으로 하측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제1위치 가변 롤러와, 상기 중심선을 기준으로 상측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제2위치 가변 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.The variable position roller may include a first variable position roller in which a lift displacement occurs in a downward direction based on a center line defined by the first fixed roller and a second fixed roller, and a lift displacement in an upward direction based on the center line. It characterized in that it comprises a second variable position roller.
본 발명의 실시예에 따른 박막형 반도체 제조장치의 버퍼 챔버는, 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되어 상기 제1공정 챔버에서 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 변위차를 발생시키는 위치 가변 롤러를 통하여 상기 가요성 기판의 속도를 완충하여 상기 제2공정 챔버로 반입시키는 것을 특징으로 한다.The buffer chamber of the thin film type semiconductor manufacturing apparatus according to the embodiment of the present invention is disposed between the first process chamber and the second process chamber to generate a displacement difference of the flexible substrate continuously carried out from the first process chamber. It is characterized in that the speed of the flexible substrate is buffered through the variable position roller and brought into the second process chamber.
또한, 버퍼 챔버는, 상기 제1공정 챔버에 인접하도록 상기 버퍼 챔버의 내부 일측에 고정 위치되는 제1고정 롤러와, 상기 제2공정 챔버에 인접하도록 상기 위치 가변 롤러를 사이에 두고 상기 버퍼 챔버의 내부 타측에 고정 위치되는 제2고정 롤러를 포함하며, 상기 위치 가변 롤러는, 상기 제1고정 롤러와 제2고정 롤러에 의해 정의된 중심선을 기준으로 제1방향으로 승강 변위가 발생하는 제1위치 가변 롤러와, 상기 중심선을 기준으로 제1방향과 반대되는 제2방향으로 승강 변위가 발생하는 제2위치 가변 롤러를 포함하는 것을 특징으로 한다.The buffer chamber may include a first fixing roller fixedly positioned at an inner side of the buffer chamber so as to be adjacent to the first process chamber, and a position variable roller disposed to be adjacent to the second process chamber. And a second fixed roller fixedly positioned at the other inner side, wherein the variable position roller has a first position in which a lifting displacement occurs in a first direction based on a center line defined by the first fixed roller and the second fixed roller. And a variable roller and a second position variable roller in which a lifting displacement occurs in a second direction opposite to the first direction with respect to the center line.
따라서, 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치 및 이에 이용되는 버퍼 챔버는 버퍼 챔버를 통하여 제1공정 챔버에서 반출되는 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 제2공정 챔버로 반입함으로써 박막형 태양전지의 연속 공정을 가능하게 하여 생산성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.Accordingly, the thin film solar cell manufacturing apparatus and the buffer chamber used therein according to the embodiment of the present invention control the speed of the flexible substrate carried out from the first process chamber through the buffer chamber and then import the thin film solar cell into the second process chamber. It is possible to improve the productivity by enabling the continuous process of the battery.
도 1은 종래 기술에 따른 박막형 태양전지 제조장치를 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치를 나타낸 구성도이다.
도 3은 도 2에 도시된 버퍼 챔버를 나타낸 도면이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가요성 기판의 이동 속도 감소시 위치 가변 롤러의 이동상태를 나타낸 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 가요성 기판의 이동 속도 증가시 위치 가변 롤러의 이동상태를 나타낸 도면이다.
도 6은 도 3에 도시된 버퍼 챔버의 샤워 헤드를 나타낸 도면이다.
도 7은 도 3에 도시된 버퍼 챔버의 기밀 부재를 나타낸 도면이다.
도 8 및 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지의 제조방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a view showing a conventional thin film solar cell manufacturing apparatus.
2 is a configuration diagram showing a thin film solar cell manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a diagram illustrating the buffer chamber shown in FIG. 2.
4 is a view showing a moving state of the variable position roller when the moving speed of the flexible substrate according to the embodiment of the present invention.
5 is a view showing a moving state of the variable position roller when the moving speed of the flexible substrate according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a view illustrating a shower head of the buffer chamber illustrated in FIG. 3.
7 is a view showing an airtight member of the buffer chamber shown in FIG.
8 and 9 are views for explaining a method of manufacturing a thin film solar cell according to an embodiment of the present invention.
이하 상기의 목적을 구체적으로 실현할 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치를 나타낸 구성도이며, 도 3은 도 2에 도시된 버퍼 챔버를 나타낸 도면이며, 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 가요성 기판의 이동 속도 감소시 위치 가변 롤러의 이동상태를 나타낸 도면이며, 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 가요성 기판의 이동 속도 증가시 위치 가변 롤러의 이동상태를 나타낸 도면이며, 도 6은 도 3에 도시된 버퍼 챔버의 샤워 헤드를 나타낸 도면이다. 2 is a block diagram showing a thin film solar cell manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a view showing a buffer chamber shown in Figure 2, Figure 4 is a flexible substrate according to an embodiment of the
도 2 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치(10)는 외곽 챔버(100), 제1공정 챔버(200), 제2공정 챔버(300), 버퍼 챔버(400)를 포함하여 구성된다. As shown in Figure 2 to 6, the thin film solar
외곽 챔버(100)는 제1공정 챔버(200)와 제2공정 챔버(300)를 감싸도록 설치된다. 이러한, 외곽 챔버(100)의 내부 압력은 복수의 외곽 펌핑 장치(100A)에 의해 소정의 압력으로 낮아진 상태를 유지한다. The
외곽 챔버(100)에는 제1 및 제2공정 챔버(200,300)에 가요성 기판(20)을 반송함과 아울러 제1 및 제2공정 챔버(200,300)에서 공정 완료된 가요성 기판(20)을 회수하기 위하여 기판 피딩 롤러(110), 제1기판 반송 롤러(120), 제2기판 반송 롤러(130), 제3기판 반송 롤러(140), 기판 회수 롤러(150)가 설치된다. In the
기판 피딩 롤러(110)는 외곽 챔버(100)의 일측에 설치된다. 이때, 기판 피딩 롤러(110)에는 소정의 길이를 가지는 가요성 기판(20)이 감겨져 있다. 여기서, 가요성 기판(20) 상에는 박막형 태양전지의 제1전극층(미도시)이 소정 간격으로 형성되어 있다. 이러한, 기판 피딩 롤러(110)는 구동 장치(미도시)의 회전에 따라 회전되면서 가요성 기판(20)을 제1공정 챔버(200)로 공급한다. The
이때, 기판 피딩 롤러(110)는 생산성 향상을 위해 연속 공정이 가능하도록 가요성 기판(20)의 반송을 정지시키지 않고 연속적으로 제1공정 챔버(200)로 반송할 수 있다.In this case, the
제1기판 반송 롤러(120)는 제1공정 챔버(200)의 기판 로딩부에 인접하도록 설치된 제1A기판 반송 롤러(121)와, 제1공정 챔버(200)의 기판 언로딩부에 인접하도록 설치된 제1B기판 반송 롤러(122)를 포함한다. The first
제1A기판 반송 롤러(121)는 가요성 기판(20)이 투입되는 제1공정 챔버(200)의 기판 로딩부에 인접하도록 설치되어 기판 피딩 롤러(110)에 감겨진 가요성 기판(20)이 제1공정 챔버(200)로 반송되도록 한다. The first
제1B기판 반송 롤러(122)는 제1공정 챔버(200) 내에서 플라즈마 공정이 완료된 가요성 기판(20)이 외부로 반송되는 제1공정 챔버(200)의 기판 언로딩부에 인접하도록 설치되어 가요성 기판(20)이 버퍼 챔버(400)로 반송되도록 한다. The first B
제2기판 반송 롤러(130)는 버퍼 챔버(400)의 입구 측에 인접하도록 설치된 제2A기판 반송 롤러(131)와, 버퍼 챔버의 출구 측에 인접하도록 설치된 제2B기판 반송 롤러(132)를 포함한다. The second
제2A기판 반송 롤러(131)는 가요성 기판(20)이 투입되는 버퍼 챔버(400)의 입구 측에 인접하도록 설치되어 제1B기판 반송 롤러(122)를 통과한 가요성 기판(20)이 버퍼 챔버(400)로 반송되도록 한다. The 2A
제2B기판 반송 롤러(132)는 버퍼 챔버에서 속도 조절된 가요성 기판(20)이 외부로 반송되는 버퍼 챔버(400)의 출구 측에 인접하도록 설치되어 가요성 기판(20)이 제2공정 챔버(300)로 반송되도록 한다. The 2B
제3기판 반송 롤러(140)는 제2공정 챔버(300)의 기판 로딩부에 인접하도록 설치된 제3A기판 반송 롤러(141)와, 제2공정 챔버(300)의 기판 언로딩부에 인접하도록 설치된 제3B기판 반송 롤러(142)를 포함한다. The third
제3A기판 반송 롤러(141)는 가요성 기판(20)이 투입되는 제2공정 챔버(300)의 기판 로딩부에 인접하도록 설치되어 제2B기판 반송 롤러(132)를 통과한 가요성 기판(20)이 제2공정 챔버(300)로 반송되도록 한다. The 3A
제3B기판 반송 롤러(142)는 제2공정 챔버(300) 내에서 플라즈마 공정이 완료된 가요성 기판(20)이 외부로 반송되는 제2공정 챔버(300)의 기판 언로딩부에 인접하도록 설치되어 가요성 기판(20)이 기판 회수 롤러(150)로 반송되도록 한다. The 3B substrate conveying roller 142 is installed to be adjacent to the substrate unloading part of the
기판 회수 롤러(150)는 외곽 챔버(100)의 타측에 설치된다. 이러한, 기판 회수 롤러(150)는 기판 피딩 롤러(110)의 회전에 연동되어 제1 및 제2공정 챔버(200,300)에 의해 공정이 완료된 가요성 기판(20)을 회수한다. The
공정 챔버(200,300)는 기판 피딩 롤러(110)에 인접하게 설치되어 가요성 기판(20)에 제1박막을 형성하는 제1공정 챔버(200)와, 기판 회수 롤러(150)에 인접하게 설치되어 가요성 기판(20)에 제2박막을 형성하는 제2공정 챔버(300)를 포함한다. The
제1공정 챔버(200)는 기판 피딩 롤러(110)에 인접하게 설치되어 플라즈마 공정을 통해 가요성 기판(20) 상에 제1박막을 형성하기 위한 공정 공간을 제공한다. 이를 위해, 제1공정 챔버(200)는 제1하부 챔버(210), 제1상부 챔버(220), 제1기밀 부재(230)를 포함하여 구성된다. The
제1하부 챔버(210)는 기판 피딩 롤러(110)에 인접한 외곽 챔버(100)의 바닥면에 설치된다. The first lower chamber 210 is installed on the bottom surface of the
제1상부 챔버(220)는 제1하부 챔버(210)를 덮도록 제1하부 챔버(210) 상에 설치되어 공정 공간을 제공한다. The first
제1기밀 부재(230)는 제1공정 챔버(200)의 기판 로딩부에 대응되게 설치되는 제1A기밀 부재(231)와, 제1공정 챔버(200)의 기판 언로딩부에 대응되게 설치되는 제1B기밀 부재(232)를 포함한다. The first
제1A기밀 부재(231)는 제1공정 챔버(200)의 기판 로딩부에 대응되는 제1하부 챔버(210)와 제1상부 챔버(220)의 일측 경계부에 설치된다. The first A-sealing member 231 is installed at one boundary of the first lower chamber 210 and the first
이러한, 제1A기밀 부재(231)는 기판 로딩부에 위치한 가요성 기판(20)의 상면과 제1상부 챔버(220) 사이를 기밀함과 동시에 가요성 기판(20)의 하면과 제1하부 챔버(210) 사이를 기밀한다. The first A hermetic member 231 hermetically seals between the upper surface of the
제1B기밀 부재(232)는 제1공정 챔버(200)의 기판 언로딩부에 대응되는 제1하부 챔버(210)와 제1상부 챔버(220)의 타측 경계부에 설치된다. The first B
이러한, 제1B기밀 부재(232)는 기판 언로딩부에 위치한 가요성 기판(20)의 상면과 제1상부 챔버(220) 사이를 기밀함과 동시에 가요성 기판(20)의 하면과 제1하부 챔버(210) 사이를 기밀한다. The first B
이러한, 제1공정 챔버(200)의 내부 압력은 복수의 제1펌핑 장치(240)에 의해 소정의 압력으로 낮아진 상태를 유지한다. The internal pressure of the
제1기판 지지 롤러(250)는 제1공정 챔버(200)의 공정 공간에 회전 가능하도록 설치되어 제1샤워 헤드(260)와 마주보도록 반송되는 가요성 기판(20)을 지지한다. 이를 위해, 제1기판 지지 롤러(250)는 원 기둥 또는 드럼 형태를 가지도록 형성된다. The first
한편, 제1기판 지지 롤러(250)의 일측에는 가요성 기판(20)이 제1기판 지지 롤러(250)의 원주곡면으로 반송되도록 안내하는 제1A가이드 롤러(251)가 설치되고, 제1기판 지지 롤러(250)의 타측에는 가요성 기판(20)이 제1기판 지지 롤러(250)의 원주곡면으로부터 외부로 반송되도록 안내하는 제1B가이드 롤러(252)가 설치된다. 이에 따라, 제1공정 챔버(200)의 내부로 반송되는 가요성 기판(20)은 제1A 및 제1B가이드 롤러(251,252)에 의해 제1기판 지지 롤러(250)의 원주곡면을 따라 제1샤워 헤드(260)와 대향되도록 반송되거나 외부로 반송된다. On the other hand, one side of the first
제1샤워 헤드(260)는 제1기판 지지 롤러(250)의 원주곡면에 대향되는 곡면을 가지도록 제1공정 챔버(200)의 내부에 설치되어 제1기판 지지 롤러(250)의 원주곡면에 대향된다. The
제1샤워 헤드(260)에는 가요성 기판(20) 상에 제1박막을 형성하기 위한 제1공정 가스가 공급되고, 제1공정 가스를 플라즈마로 변환하기 위한 고주파 전력이 공급된다. 이때, 제1공정 가스는 Ar, CF4 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 가요성 기판(20) 상에 형성될 박막의 재질에 따라 다양하게 변경될 수 있다. The
이러한, 제1샤워 헤드(260)는 제1공정 가스를 가요성 기판(20) 상으로 분사함으로써 고주파 전력에 의해 제1공정 가스가 플라즈마 상태로 변환되도록 한다. 이를 위해, 제1샤워 헤드(260)는, 제1몸체(261), 제1가스 공급관(262), 제1가스 분사 홀(263), 제1배플(264)을 포함하여 구성된다. The
제1몸체(261)는 제1기판 지지 롤러(250)의 원주곡면에 대응되는 곡면을 포함하도록 아치 형태로 형성된다. The
이러한, 제1몸체(261)에는 제1가스 공급관(262)을 통해 외부로부터 고주파 전력이 공급된다. 여기서, 제1몸체(261)는 알루미늄 이외의 전극용 재질로 형성될 수 있다. The high frequency power is supplied to the
제1가스 공급관(262)은 제1몸체(261)에 연통되도록 접속되어 외부로부터 공급되는 제1공정 가스를 제1배플(264)로 공급한다. The first
제1가스 분사 홀(263)은 제1몸체(261)의 곡면에 형성되어 제1배플(264)에 의해 균일하게 분배되어 공급되는 제1공정 가스를 가요성 기판(20) 쪽으로 분사한다. 이때, 제1가스 분사 홀(263) 각각은 제1공정 가스가 가요성 기판(20)에 균일하게 분사되도록 제1몸체(261)의 곡면에 일정한 간격 또는 소정 간격으로 형성된다. The first
제1배플(264)은 제1가스 공급관(262)에 연통되도록 제1몸체(261)의 내부에 형성되어 제1공정 가스가 제1가스 분사 홀(263)을 통해 균일하게 분사되도록 제1가스 공급관(262)으로부터 공급되는 제1공정 가스를 균일하게 분배한다. 이러한, 제1배플(264)에는 제1가스 분사 홀(263) 각각에 공급되는 공정 가스의 공급 경로를 균일하게 하기 위한 제1패스 홀(265)이 소정 간격 또는 각기 다른 간격으로 형성된다.The
제1롤러 구동부(270)는 제1롤러 구동축(271), 제1승강 플레이트(272), 제1벨로우즈(273)를 포함하여 구성된다. The
제1롤러 구동축(271)은 제1기판 지지 롤러(250)를 회전 가능하게 지지하도록 제1공정 챔버(200)의 제1하부 챔버(210)를 관통하여 설치된다. 이러한, 제1롤러 구동축(271)은 롤러 구동 장치(미도시)의 구동에 따라 제1기판 지지 롤러(250)를 연속적으로 소정 각도로 회전시킨다. The first
제1승강 플레이트(272)는 제1롤러 구동축(271)의 단부에 접속되어 제1롤러 승강 장치(미도시)의 구동에 따라 제1롤러 구동축(271)을 소정 높이로 승강시킨다.The first elevating
제1벨로우즈(273)는 제1롤러 구동축(271)이 관통되는 제1하부 챔버(210)의 관통 부분을 밀봉하도록 제1승강 플레이트(272)와 제1하부 챔버(210) 사이에 설치된다. The first bellows 273 is installed between the first elevating
이러한, 제1롤러 구동부(270)는 제1공정 챔버(200)의 공정 상태에 따라 제1기판 지지 롤러(250)를 회전시킨다. 또한, 제1롤러 구동부(270)는, 제1기판 지지 롤러(250)를 소정 높이로 승강시켜 가요성 기판(20)에 형성되는 박막의 재질에 따라 가요성 기판(20)과 제1샤워 헤드(260) 간의 거리를 조절한다. The
제1기판 가열 부재(280)는 제1기판 지지 롤러(250)에 인접하도록 제1하부 챔버(210)에 설치되어 제1기판 지지 롤러(250)를 소정 온도로 가열함으로써 가열된 제1기판 지지 롤러(250)를 통해 가요성 기판(20)을 간접적으로 가열한다. The first
제2공정 챔버(300)는 기판 회수 롤러(150)에 인접하게 설치되어 플라즈마 공정을 통해 가요성 기판(20) 상에 제2박막을 형성하기 위한 공정 공간을 제공한다. 이를 위해, 제2공정 챔버(300)는 제2하부 챔버(310), 제2상부 챔버(320), 제2기밀 부재(330)를 포함하여 구성된다. The
제2하부 챔버(310)는 기판 회수 롤러(150)에 인접한 외곽 챔버(100)의 바닥면에 설치된다. The second lower chamber 310 is installed on the bottom surface of the
제2상부 챔버(320)는 제2하부 챔버(310)를 덮도록 제2하부 챔버(310) 상에 설치되어 공정 공간을 제공한다.The second
제2기밀 부재(330)는 제2공정 챔버(300)의 기판 로딩부에 대응되게 설치되는 제2A기밀 부재(331)와, 제2공정 챔버(300)의 기판 언로딩부에 대응되게 설치되는 제2B기밀 부재(332)를 포함한다.The second
제2A기밀 부재(331)는 제2공정 챔버(300)의 기판 로딩부에 대응되는 제2하부 챔버(310)와 제2상부 챔버(320)의 일측 경계부에 설치된다. The second A
이러한, 제2A기밀 부재(331)는 기판 로딩부에 위치한 가요성 기판(20)의 상면과 제2상부 챔버(320) 사이를 기밀함과 동시에 가요성 기판(20)의 하면과 제2하부 챔버(310) 사이를 기밀한다. The second A
제2B기밀 부재(332)는 제2공정 챔버(300)의 기판 언로딩부에 대응되는 제2하부 챔버(310)와 제2상부 챔버(320)의 타측 경계부에 설치된다. The second B hermetic member 332 is installed at the other boundary of the second lower chamber 310 and the second
이러한, 제2B기밀 부재(332)는 기판 언로딩부에 위치한 가요성 기판(20)의 상면과 제2상부 챔버(320) 사이를 기밀함과 동시에 가요성 기판(20)의 하면과 제2하부 챔버(310) 사이를 기밀한다. The second B hermetic member 332 seals between the upper surface of the
이러한, 제2공정 챔버(300)의 내부 압력은 복수의 제2펌핑 장치(340)에 의해 소정의 압력으로 낮아진 상태를 유지한다. The internal pressure of the
제2기판 지지 롤러(350)는 제2공정 챔버(300)의 공정 공간에 회전 가능하도록 설치되어 제2샤워 헤드(360)와 마주보도록 반송되는 가요성 기판(20)을 지지한다. 이를 위해, 제2기판 지지 롤러(350)는 원 기둥 또는 드럼 형태를 가지도록 형성된다. The second
한편, 제2기판 지지 롤러(350)의 일측에는 가요성 기판(20)이 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면으로 반송되도록 안내하는 제2A가이드 롤러(351)가 설치되고, 제2기판 지지 롤러(350)의 타측에는 가요성 기판(20)이 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면으로부터 외부로 반송되도록 안내하는 제2B가이드 롤러(352)가 설치된다. 이에 따라, 제2공정 챔버(300)의 내부로 반송되는 가요성 기판(20)은 제2A 및 제2B가이드 롤러(351,352)에 의해 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면을 따라 제2샤워 헤드(360)와 대향되도록 반송되거나 외부로 반송된다. On the other hand, one side of the second
제2샤워 헤드(360)는 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면에 대향되는 곡면을 가지도록 제2공정 챔버(300)의 내부에 설치되어 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면에 대향된다. The
제2샤워 헤드(360)에는 가요성 기판(20) 상에 박막을 형성하기 위한 제2공정 가스가 공급되고, 제2공정 가스를 플라즈마로 변환하기 위한 고주파 전력이 공급된다. 이때, 제2공정 가스는 Ar, CF4 등으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 가요성 기판(20) 상에 형성될 박막의 재질에 따라 다양하게 변경될 수 있다. The
이러한, 제2샤워 헤드(360)는 제2공정 가스를 가요성 기판(20) 상으로 분사함으로써 고주파 전력에 의해 공정 가스가 플라즈마 상태로 변환되도록 한다. 이를 위해, 제2샤워 헤드(360)는, 제2몸체(361), 제2가스 공급관(362), 제2가스 분사 홀(363), 제2배플(364)을 포함하여 구성된다. The
제2몸체(361)는 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면에 대응되는 곡면을 포함하도록 아치 형태로 형성된다. The
이러한, 제2몸체(361)에는 제2가스 공급관(362)을 통해 외부로부터 고주파 전력이 공급된다. 여기서, 제2몸체(361)는 알루미늄 이외의 전극용 재질로 형성될 수 있다.The
제2가스 공급관(362)은 제2몸체(361)에 연통되도록 접속되어 외부로부터 공급되는 제2공정 가스를 제2배플(364)로 공급한다.The second
제2가스 분사 홀(363)은 제2몸체(361)의 곡면에 형성되어 제2배플(364)에 의해 균일하게 분배되어 공급되는 제2공정 가스를 가요성 기판(20) 쪽으로 분사한다. 이때, 제2가스 분사 홀(363) 각각은 제2공정 가스가 가요성 기판(20)에 균일하게 분사되도록 제2몸체(361)의 곡면에 일정한 간격 또는 소정 간격으로 형성된다.The second
제2배플(364)은 제2가스 공급관(362)에 연통되도록 제2몸체(361)의 내부에 형성되어 제2공정 가스가 제2가스 분사 홀(363)을 통해 균일하게 분사되도록 제2가스 공급관(362)으로부터 공급되는 제2공정 가스를 균일하게 분배한다. 이러한, 제2배플(364)에는 제2가스 분사 홀(363) 각각에 공급되는 제2공정 가스의 공급 경로를 균일하게 하기 위한 제2패스 홀(365)이 소정 간격 또는 각기 다른 간격으로 형성된다.The
제2롤러 구동부(370)는 제2롤러 구동축(371), 제2승강 플레이트(372), 제2벨로우즈(373)를 포함하여 구성된다. The
제2롤러 구동축(371)은 제2기판 지지 롤러(350)를 회전 가능하게 지지하도록 제2공정 챔버(300)의 제2하부 챔버(310)를 관통하여 설치된다. 이러한, 제2롤러 구동축(371)은 롤러 구동 장치(미도시)의 구동에 따라 제2기판 지지 롤러(350)를 연속적으로 소정 각도로 회전시킨다. The second
제2승강 플레이트(372)는 제2롤러 구동축(371)의 단부에 접속되어 제2롤러 승강 장치(미도시)의 구동에 따라 제2롤러 구동축(371)을 소정 높이로 승강시킨다.The second elevating
제2벨로우즈(373)는 제2롤러 구동축(371)이 관통되는 제2하부 챔버(310)의 관통 부분을 밀봉하도록 제2승강 플레이트(372)와 제2하부 챔버(310) 사이에 설치된다. The second bellows 373 is installed between the
이러한, 제2롤러 구동부(370)는 제2공정 챔버(300)의 공정 상태에 따라 제2기판 지지 롤러(350)를 회전시킨다. 또한, 제2롤러 구동부(370)는, 제2기판 지지 롤러(350)를 소정 높이로 승강시켜 가요성 기판(20)에 형성되는 박막의 재질에 따라 가요성 기판(20)과 제2샤워 헤드(360) 간의 거리를 조절한다. The
제2기판 가열 부재(380)는 제2기판 지지 롤러(350)에 인접하도록 제2하부 챔버(310)에 설치되어 제2기판 지지 롤러(350)를 소정 온도로 가열함으로써 가열된 제2기판 지지 롤러(350)를 통해 가요성 기판(20)을 간접적으로 가열한다. The second
본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치(10)는, 제1공정 챔버(200)와 제2공정 챔버(300)의 사이에서 제1공정 챔버(200)에서 연속적으로 반출되는 가요성 기판(20)의 속도를 조절하여 제2공정 챔버(300)로 반입하기 위한 버퍼 챔버(400)를 포함하여 구성된다. In the thin film type solar
제1공정 챔버(200)에서 연속적으로 제공되는 가요성 기판(20)은 소정의 위치에서 버퍼 챔버(400)에 반입된다. The
가요성 기판(20)의 연속적인 증착 공정 시, 제1공정 챔버(200)에서 제1박막이 증착되는 시간과 제2공정 챔버(300)에서 제2박막이 증착되는 시간이 상이한 경우 일정 시간을 정지해야 하는 등 연속 공정을 수행할 수 없게 되는데, 본 발명의 실시예에 따른 버퍼 챔버(400)는 제1공정 챔버(200)와 제2공정 챔버(300)에서 전체적인 공정의 연속 흐름을 맞추기 위하여 이송 방향의 수직 방향으로 승강하여 가요성 기판(20)의 반출 속도를 조절한다. In the continuous deposition process of the
버퍼 챔버(400)는, 가요성 기판(20)의 변위차 발생을 통하여 연속적으로 반출되는 가요성 기판(20)의 속도를 조절하는 적어도 하나 이상의 위치 가변 롤러(410)를 포함하여 구성되는데, 이러한 위치 가변 롤러(410)는, 가요성 기판(20)의 이송 방향의 수직 방향으로 변위차를 발생시킨다. The
또한, 버퍼 챔버(400)는, 제1공정 챔버(200)에 인접하도록 버퍼 챔버(400)의 내부 일측에 고정 위치되는 제1고정 롤러(420)와, 제2공정 챔버(300)에 인접하도록 위치 가변 롤러(410)를 사이에 두고 버퍼 챔버(400)의 내부 타측에 고정 위치되는 제2고정 롤러(430)를 포함하여 구성된다. In addition, the
구체적으로 설명하면, 제1공정 챔버(200)와 제2공정 챔버(300) 사이에 배치된 버퍼 챔버(400)에는 제1고정 롤러(420)와 제2고정 롤러(430)가 형성되는데, 제1고정 롤러(420)와 제2고정 롤러(430)는 가요성 기판(20)이 버퍼 챔버(400) 내부로 반입되어 반출되는 과정에서 그 위치가 고정되는 고정 롤러다. Specifically, the
그리고, 제1고정 롤러(420)와 제2고정 롤러(430) 사이에는 가요성 기판(20)의 이송 방향의 수직 방향으로 승강하는 위치 가변 롤러(410)가 형성된다. 위치 가변 롤러(410)는 적어도 하나 이상으로 형성될 수 있으며, 도면에서는 참고적으로 4개를 도시하고 있을 뿐이며, 하나 또는 복수로 형성될 수 있음은 물론이다. In addition, between the
도면을 참조하면, 위치 가변 롤러(410)는 제1고정 롤러(420)와 제2고정 롤러(430)의 중심선(L)을 기준으로 승강 변위가 변화된다. 여기서, 중심선(L)은 제1고정 롤러(420)와 제2고정 롤러(430)의 이송 방향에 대한 수직 변위의 평균값이다.Referring to the drawings, the position-
이러한 제1고정 롤러(420)는, 수직 변위의 평균값인 중심선(L)에 위치하는 제1A고정 롤러(421)와, 제1A고정 롤러(421)의 하측에 위치하는 제1B고정 롤러(422)와, 제1A고정 롤러(421)의 상측에 위치하는 제1C고정 롤러(423)를 포함할 수 있다.The
그리고, 제2고정 롤러(430)는, 수직 변위의 평균값인 중심선(L)에 위치하는 제2A고정 롤러(431)와, 제2A고정 롤러(431)의 하측에 위치하는 제2B고정 롤러(432)와, 제2A고정 롤러(431)의 상측에 위치하는 제2C고정 롤러(433)를 포함할 수 있다.The
제1A고정 롤러(421)와 제2A고정 롤러(431)의 중심선(L)을 기준으로 제1위치 가변 롤러(411)는 하측으로 승강 변위가 변화되며, 제2위치 가변 롤러(412)는 제1고정 롤러(420)와 제2고정 롤러(430)의 중심선(L)을 기준으로 상측으로 승강 변위가 변화된다.Lifting displacement of the first
따라서, 제1공정 챔버(200)에서 제2공정 챔버(300)로 가요성 기판(20)의 반출 속도를 감소할 경우에는 제1위치 가변 롤러(411)는 하측 방향으로 이동하고, 제2위치 가변 롤러(412)는 상측 방향으로 이동한다. 이로써, 제1위치 가변 롤러(411)와 제2위치 가변 롤러(412) 사이의 수직 변위차를 증가시킴으로써, 가요성 기판(20)의 반출 속도가 감속함에 따라 가요성 기판(20)이 급작스럽게 쳐지는 것을 방지한다. Therefore, when the carrying-out speed of the
또한, 제1공정 챔버(200)에서 제2공정 챔버(300)로 가요성 기판(20)의 반출 속도를 증가할 경우에는 제1위치 가변 롤러(411)는 상측 방향으로 이동하고, 제2위치 가변 롤러(412)는 하측 방향으로 이동한다. 이로써, 제1위치 가변 롤러(411)와 제2위치 가변 롤러(412)간의 수직 변위차를 줄임으로써, 가요성 기판(20)의 반출 속도가 가속함에 따라 가요성 기판(20)이 급작스럽게 당겨지는 것을 방지한다. In addition, when increasing the carrying speed of the
한편, 도면에서는 위치 가변 롤러(410)가 가요성 기판(20)의 이송 방향의 수직 방향으로 승강 변위가 변화하는 것에 대하여만 도시하고 있으나, 이러한 위치 가변 롤러는 가요성 기판(20)의 이송 방향 또는 대각선 방향으로 위치가 가변되어 변위차를 발생시킴으로써 가요성 기판(20)의 속도를 조절할 수 있음은 물론이다.On the other hand, in the drawing, the position-
다음, 도 7을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치 버퍼 챔버의 기밀부재에 대하여 설명한다. Next, the airtight member of the thin film solar cell manufacturing apparatus buffer chamber according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 7.
버퍼 챔버(400)의 입구 측 및 출구 측에 각각 인접하게 기밀 부재(440)가 구비된다. 버퍼 챔버(400)의 입구 측과 출구 측에 구비된 기밀 부재(440)는 서로 동일한 구성이므로 입구 측에 구비된 기밀 부재(440)를 설명하는 것으로 출구 측에 인접하여 구비된 기밀 부재의 설명을 대신한다. An
이러한 기밀 부재(440)는, 버퍼 챔버(400)의 입구 측 제1면(400A)에 설치된 제1에어 커튼부(441)와, 버퍼 챔버(400)의 입구 측 제2면(400B)에 설치된 제2에어 커튼부(442)를 포함하여 구성된다. The
제1에어 커튼부(441)는 제1몸체(441A), 제1가스 분사부(441B), 제1가스 흡입부(441C)를 포함하여 구성된다. The first
제1몸체(441A)는 버퍼 챔버(400)의 입구 측 상부 버퍼 챔버(400A)에 설치된다. The
제1가스 분사부(441B)는 제1몸체(441A)의 일측 가장자리에 설치되어 외부로부터 공급되는 소정 압력의 기밀용 가스를 제1가스 흡입부(441C) 쪽으로 분사한다. 여기서, 기밀용 가스는 질소(N2) 가스가 될 수 있다. The
제1가스 흡입부(441C)는 제1가스 분사부(441B)의 설치 위치와 반대되도록 제1몸체(441A)의 타측 가장자리에 설치되어 제1가스 분사부(441B)로부터 분사되는 기밀용 가스를 흡입한다. The
한편, 제1몸체(441A)는 기밀용 가스의 원활한 흐름을 위해 제1가스 분사부(441B)와 제1가스 흡입부(441C) 사이에 형성된 제1곡면을 더 포함하여 구성될 수 있다. Meanwhile, the
제2에어 커튼부(442)는 제2몸체(442A), 제2가스 분사부(442B), 제2가스 흡입부(442C)를 포함하여 구성된다. The second
제2몸체(442A)는 버퍼 챔버(400)의 입구 측 하부 버퍼 챔버(400B)에 설치된다. 여기서, 제2몸체(442A)는 제1에어 커튼부(441)의 제1몸체(441A)와 마주보도록 설치되거나 소정 간격으로 엇갈리게 설치될 수 있다. The
제2가스 분사부(442B)는 제2몸체(442A)의 일측 가장자리에 설치되어 외부로부터 공급되는 소정 압력의 상술한 기밀용 가스를 제2가스 흡입부(442C) 쪽으로 분사한다. 이때, 제2가스 분사부(442B)는 제1에어 커튼부(441)의 제1가스 분사부(441B)와 마주보도록 설치되거나 제1가스 흡입부(441C)와 마주보도록 설치될 수 있다. The
제2가스 흡입부(442C)는 제2가스 분사부(442B)의 설치 위치와 반대되도록 제2몸체(442A)의 타측 가장자리에 설치되어 제2가스 분사부(442B)로부터 분사되는 기밀용 가스를 흡입한다. The
한편, 제2몸체(442A)는 기밀용 가스의 원활한 흐름을 위해 제2가스 분사부(442B)와 제2가스 흡입부(442C) 사이에 형성된 제2곡면을 더 포함하여 구성될 수 있다. Meanwhile, the
이와 같은 기밀 부재(440)는 가요성 기판(20)이 버퍼 챔버(400)로 반송되면, 제1 및 제2가스 분사부(441B,442B)를 통해 소정 압력의 기밀용 가스를 가요성 기판(20)의 양면에 분사함과 아울러 제1 및 제2가스 흡입부(441C,442C)를 통해 기밀용 가스를 흡입함으로써 버퍼 챔버(400)의 기밀을 유지하게 된다. When the
도 8 및 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 가요성 기판을 이용한 박막형 태양전지의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다. 8 and 9 are views for explaining a method of manufacturing a thin film solar cell using a flexible substrate according to an embodiment of the present invention.
도 8 및 도 9를 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 가요성 기판을 이용한 박막형 태양전지의 제조 방법을 설명하면 다음과 같다. Referring to FIGS. 8 and 9, a method of manufacturing a thin film solar cell using a flexible substrate according to an exemplary embodiment of the present invention is as follows.
먼저, 도 8에 도시된 바와 같이, 기판 피딩 롤러(110), 기판 회수 롤러(150), 제1기판 지지 롤러(250), 제2기판 지지 롤러(350), 위치 가변 롤러(410)를 회전시켜 제1기판 지지 롤러(250)와 제2기판 지지 롤러(350)의 원주곡면에 지지된 가요성 기판(20)을 제1공정 챔버(200)의 공정 위치와 제2공정 챔버(300)의 공정 위치로 반송한다. First, as shown in FIG. 8, the
그런 다음, 제1샤워 헤드(260)에 제1공정 가스를 공급함과 아울러 고주파 전력을 공급함으로써, 가요성 기판(20)과 제1샤워 헤드(260) 사이에 플라즈마(P)를 형성하여 가요성 기판(20) 상에 제1박막을 형성한다. Then, by supplying a first process gas to the
동시에, 제2샤워 헤드(360)에 제2공정 가스를 공급함과 아울러 고주파 전력을 공급함으로써, 가요성 기판(20)과 제2샤워 헤드(360) 사이에 플라즈마(P)를 형성하여 가요성 기판(20) 상에 제2박막을 형성한다. At the same time, by supplying a second process gas to the
그런 다음, 기판 피딩 롤러(110), 기판 회수 롤러(150), 제1기판 지지 롤러(250), 제2기판 지지 롤러(350), 위치 가변 롤러(410)를 회전시켜 제2박막이 형성된 가요성 기판(20)을 기판 회수 롤러(150)로 회수함과 동시에 제1박막 상에 제2박막을 형성하기 위한 가요성 기판(20)을 제2공정 챔버(300)의 공정 위치로 반송한다. Then, the
이때, 제1공정 챔버(200)와 제2공정 챔버(300)에서의 증착 시간이 상이하여 제1공정 챔버(200)에서 제2공정 챔버(300)로 가요성 기판(20)의 반출 속도를 감소할 필요가 있는 경우에는 제1위치 가변 롤러(411)는 하측 방향으로 이동시키고, 제2위치 가변 롤러(412)는 상측 방향으로 이동시킴으로써 제1위치 가변 롤러(411)와 제2위치 가변 롤러(412) 사이의 수직 변위차를 증가시켜 반출 속도를 조절한다. At this time, the deposition time in the
또한, 제1공정 챔버(200)와 제2공정 챔버(300)에서의 증착 시간이 상이하여 제1공정 챔버(200)에서 제2공정 챔버(300)로 가요성 기판(20)의 반출 속도를 증가할 필요가 있는 경우에는 제1위치 가변 롤러(411)는 상측 방향으로 이동시키고, 제2위치 가변 롤러(412)는 하측 방향으로 이동시킴으로써 제1위치 가변 롤러(411)와 제2위치 가변 롤러(412)간의 수직 변위차를 줄여 반출 속도를 조절한다. In addition, since the deposition time in the
따라서, 제1공정 챔버(200)에서 반출되는 가요성 기판(20)을 버퍼 챔버(400)의 위치 가변 롤러(410)를 통하여 속도를 조절한 다음 제2공정 챔버(300)로 반입함으로써 박막형 태양전지의 연속 공정을 가능하게 하여 생산성을 향상시킬 수 있도록 한다. Therefore, the
한편, 가요성 기판(20)을 제1기판 지지 롤러(250)와 제2기판 지지 롤러(350)로 반송하기 이전에, 제1롤러 구동부(270)와 제2롤러 구동부(370)를 구동하여 가요성 기판(20)에 형성된 제1박막과 제2박막의 공정 조건에 대응되도록 가요성 기판(20)과 제1샤워 헤드(260) 및 제2샤워 헤드(360) 사이의 간격을 조절하는 과정을 수행할 수도 있다. Meanwhile, before conveying the
상술한 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 박막형 태양전지 제조장치는 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되는 버퍼 챔버를 통하여 제1공정 챔버에서 반출되는 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 제2공정 챔버로 반입함으로써 박막형 태양전지의 연속 공정을 가능하게 하여 생산성을 향상시킬 수 있는 것을 기본적인 기술적 사상으로 하고 있음을 알 수 있다. 따라서, 본 발명의 기본적인 기술적 사상의 범주 내에서 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서는 다른 많은 변형이 가능함은 물론이다.As described above, the thin film type solar cell manufacturing apparatus according to the embodiment of the present invention controls the speed of the flexible substrate carried out from the first process chamber through a buffer chamber disposed between the first process chamber and the second process chamber. Then, it can be seen that the basic technical idea is to enable the continuous process of the thin-film solar cell by improving the productivity by bringing it into the second process chamber. Therefore, many modifications may be made by those skilled in the art without departing from the scope and spirit of the present invention.
10…박막형 태양전지 제조장치 100…외곽 챔버
110…기판 피딩 롤러 120…제1기판 반송 롤러
130…제2기판 반송 롤러 140…제3기판 반송 롤러
150…기판 회수 롤러 200…제1공정 챔버
210…제1하부 챔버 220…제1상부 챔버
230…제1기밀부재 240…제1펌핑 장치
250…제1기판 지지 롤러 260…제1샤워 헤드
270…제1롤러 구동부 280…제1기판 가열 부재
300…제2공정 챔버 310…제2하부 챔버
320…제2상부 챔버 330…제2기밀부재
340…제2펌핑 장치 350…제2기판 지지 롤러
360…제2샤워 헤드 370…제2롤러 구동부
380…제2기판 가열 부재 400…버퍼 챔버
410…위치 가변 롤러 411…제1위치 가변 롤러
412…제2위치 가변 롤러 420…제1고정 롤러
430…제2고정 롤러 440…기밀부재10... Thin-film solar
110 ...
130 ... Second
150 ...
210... First
230 ... First
250 ... First
270 ...
300 ... Second process chamber 310. 2nd lower chamber
320 ... Second
340...
360 ...
380 ... Second
410 ... Position
412 ... Second position
430 ... Second fixing
Claims (17)
상기 가요성 기판의 제1박막 상에 제2박막을 형성하는 제2공정 챔버;와,
상기 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되어 상기 제1공정 챔버에서 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절하여 상기 제2공정 챔버로 반입시킬 수 있는 위치 가변롤러를 포함하는 버퍼 챔버를 포함하고,
상기 위치 가변 롤러는 상기 가요성 기판의 이송 방향의 대각선 방향으로 변위차를 발생시키도록 마련되며,
상기 위치 가변 롤러는 일측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제1 위치 가변롤러와, 타측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제2위치 가변 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. A first process chamber for forming a first thin film on the flexible substrate;
A second process chamber forming a second thin film on the first thin film of the flexible substrate;
And a position variable roller disposed between the first process chamber and the second process chamber to adjust the speed of the flexible substrate continuously carried out from the first process chamber and to be loaded into the second process chamber. A buffer chamber,
The variable position roller is provided to generate a displacement difference in a diagonal direction of a transfer direction of the flexible substrate,
The position variable roller includes a first position variable roller in which the lift displacement occurs in one direction, and a second position variable roller in which the lift displacement occurs in the other direction.
상기 위치 가변 롤러는
상기 가요성 기판의 변위차 발생을 통하여 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절할 수 있도록 마련되는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치.
The method of claim 1,
The variable position roller
Thin film solar cell manufacturing apparatus characterized in that it is provided to control the speed of the flexible substrate that is continuously carried out through the displacement difference generation of the flexible substrate.
상기 버퍼 챔버는,
상기 제1공정 챔버에 인접하도록 상기 버퍼 챔버의 내부 일측에 고정 위치되는 적어도 하나의 제1고정 롤러;와,
상기 제2공정 챔버에 인접하도록 상기 위치 가변 롤러를 사이에 두고 상기 버퍼 챔버의 내부 타측에 고정 위치되는 적어도 하나의 제2고정 롤러;를
포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. The method of claim 1,
The buffer chamber,
At least one first fixing roller fixedly located at one side of the buffer chamber to be adjacent to the first process chamber;
At least one second fixing roller fixedly positioned at the other inner side of the buffer chamber with the variable position roller interposed to be adjacent to the second process chamber;
Type solar cell manufacturing apparatus.
상기 제1위치 가변 롤러는 상기 제1고정 롤러와 제2고정 롤러에 의해 정의된 중심선을 기준으로 하측 방향으로 승강 변위가 발생하도록 마련되고,
상기 제2위치 가변 롤러는 상기 중심선을 기준으로 상측 방향으로 승강 변위가 발생하도록 마련되는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. 5. The method of claim 4,
The first variable position roller is provided to raise and lower the displacement relative to the center line defined by the first fixed roller and the second fixed roller,
The second position variable roller is a thin film type solar cell manufacturing apparatus, characterized in that the lifting displacement is generated in an upward direction with respect to the center line.
상기 제1위치 가변 롤러와 제2위치 가변 롤러는 복수로 마련되되 서로 교번적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. The method of claim 5,
The first variable position roller and the second variable position roller is provided with a plurality of thin film type solar cell manufacturing apparatus, characterized in that arranged alternately with each other.
상기 위치 가변 롤러는,
상기 가요성 기판의 이송 방향으로 변위차를 발생시키는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. 3. The method of claim 2,
The variable position roller,
Thin film solar cell manufacturing apparatus, characterized in that for generating a displacement difference in the conveying direction of the flexible substrate.
상기 버퍼 챔버는,
상기 가요성 기판이 반입되는 상기 버퍼 챔버의 입구 측에 배치되는 제1기밀 부재;과,
상기 가요성 기판이 반출되는 상기 버퍼 챔버의 출구 측에 배치되는 제2기밀 부재;을
포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치.The method of claim 1,
The buffer chamber,
A first hermetic member disposed at an inlet side of the buffer chamber into which the flexible substrate is carried;
A second hermetic member disposed at an outlet side of the buffer chamber from which the flexible substrate is carried out;
Type solar cell manufacturing apparatus.
상기 제1기밀 부재는,
상기 버퍼 챔버의 입구 측 제1면에 설치된 제1에어 커튼부와,
상기 버퍼 챔버의 입구 측 제2면에 설치된 제2에어 커튼부를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. 9. The method of claim 8,
The first hermetic member,
A first air curtain part provided on the first side of the inlet side of the buffer chamber;
Thin film solar cell manufacturing apparatus comprising a second air curtain portion provided on the second surface of the inlet side of the buffer chamber.
상기 제1 및 제2에어 커튼부는 각각,
상기 버퍼 챔버의 입구 측 제1면 및 제2면에 각각 부착되는 제1 및 제2몸체;와,
상기 제1 및 제2몸체의 일측 가장 자리에 각각 설치되어 기밀용 가스를 분사하는 제1 및 제2가스 분사부;와,
상기 제1 및 제2몸체의 타측 가장 자리에 각각 설치되어 상기 제1 및 제2가스 분사부에서 분사되는 기밀용 가스를 흡입하는 제1 및 제2가스 흡입부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. 10. The method of claim 9,
The first and second air curtain portion, respectively
First and second bodies attached to first and second surfaces of the inlet side of the buffer chamber, respectively;
First and second gas injectors installed at one edge of each of the first and second bodies to inject gas for airtightness; and
And first and second gas suction parts installed at the other edges of the first and second bodies, respectively, for sucking the gaseous gas injected from the first and second gas injection parts. Solar cell manufacturing apparatus.
상기 제1공정 챔버, 제2공정 챔버, 버퍼 챔버를 감싸는 외곽 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치.The method of claim 1,
Thin-film solar cell manufacturing apparatus further comprises an outer chamber surrounding the first process chamber, the second process chamber, the buffer chamber.
기판 회수 롤러로 회수되는 가요성 기판을 지지하는 제2기판 지지 롤러와, 상기 가요성 기판에 제2박막을 형성하기 위하여 상기 제2기판 지지 롤러에 대응 설치되는 제2샤워 헤드를 가지는 제2공정 챔버;와
상기 제1공정 챔버와 제2공정 챔버의 사이에 배치되어 상기 제1기판 지지 졸러에서 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절한 다음 상기 제2기판 지지 롤러로 반입하기 위한 버퍼 챔버;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. A first process having a first substrate support roller for supporting a flexible substrate supplied from a substrate feeding roller, and a first shower head corresponding to the first substrate support roller for forming a first thin film on the flexible substrate. Chamber;
A second process having a second substrate support roller for supporting the flexible substrate recovered by the substrate recovery roller, and a second shower head installed corresponding to the second substrate support roller to form a second thin film on the flexible substrate Chamber; and
A buffer chamber disposed between the first process chamber and the second process chamber to adjust the speed of the flexible substrate continuously carried out from the first substrate support roller and to be loaded into the second substrate support roller; Thin film solar cell manufacturing apparatus comprising a.
상기 버퍼 챔버는,
수직 방향 변위차를 발생시켜 연속적으로 반출되는 상기 가요성 기판의 속도를 조절하는 적어도 하나 이상의 위치 가변 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. The method of claim 12,
The buffer chamber,
Thin film type solar cell manufacturing apparatus comprising at least one variable position roller for controlling the speed of the flexible substrate continuously carried out by generating a vertical displacement difference.
상기 버퍼 챔버는,
상기 제1공정 챔버에 인접하도록 상기 버퍼 챔버의 내부 일측에 고정 위치되는 제1고정 롤러;와,
상기 제2공정 챔버에 인접하도록 상기 위치 가변 롤러를 사이에 두고 상기 버퍼 챔버의 내부 타측에 고정 위치되는 제2고정 롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. The method of claim 12,
The buffer chamber,
A first fixing roller fixedly positioned at an inner side of the buffer chamber to be adjacent to the first process chamber;
And a second fixing roller fixedly positioned on the other side of the buffer chamber with the variable position roller interposed therebetween so as to be adjacent to the second process chamber.
상기 위치 가변 롤러는,
상기 제1고정 롤러와 제2고정 롤러에 의해 정의된 중심선을 기준으로 하측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제1위치 가변 롤러;와,
상기 중심선을 기준으로 상측 방향으로 승강 변위가 발생하는 제2위치 가변 롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 태양전지 제조장치. 15. The method of claim 14,
The variable position roller,
A first position variable roller having a lifting displacement in a downward direction based on a center line defined by the first fixing roller and the second fixing roller;
Thin-film solar cell manufacturing apparatus comprising a; a second position variable roller that the lifting displacement occurs in the upward direction with respect to the center line.
상기 버퍼 챔버는,
상기 제1공정 챔버에 인접하도록 상기 버퍼 챔버의 내부 일측에 고정 위치되는 제1고정 롤러;와,
상기 제2공정 챔버에 인접하도록 상기 위치 가변 롤러를 사이에 두고 상기 버퍼 챔버의 내부 타측에 고정 위치되는 제2고정 롤러;를 포함하며,
상기 위치 가변 롤러는,
상기 제1고정 롤러와 제2고정 롤러에 의해 정의된 중심선을 기준으로 제1방향으로 승강 변위가 발생하는 제1위치 가변 롤러;와,
상기 중심선을 기준으로 제1방향과 반대되는 제2방향으로 승강 변위가 발생하는 제2위치 가변 롤러;를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막형 반도체 제조장치의 버퍼 챔버. 17. The method of claim 16,
The buffer chamber,
A first fixing roller fixedly positioned at an inner side of the buffer chamber to be adjacent to the first process chamber;
And a second fixing roller fixedly positioned at the other inner side of the buffer chamber with the variable position roller interposed to be adjacent to the second process chamber.
The variable position roller,
A first position variable roller in which a lifting displacement occurs in a first direction based on a center line defined by the first fixing roller and the second fixing roller;
And a second position variable roller generating a lifting displacement in a second direction opposite to the first direction with respect to the center line.
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