KR101334120B1 - 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게 유연하고 얇은 스탬프를 제작하는데 있어, 마스터 템플리트 상측 얇게 도포된 형태로 경화된 스탬프용 레지스트에 서로 다른 직경의 몰드를 설치하고, 그 사이공간에 인서트를 장착한 다음 추가로 스탬프용 레지스트를 공급하여 경화시킴에 따라, 경화된 스탬프용 레지스트의 가장자리에 인서트가 내부에 장착된 플랜지가 형성됨으로써, 상기 플랜지를 통해 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 분리하는 것이 용이한 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법에 관한 것이다.

Description

임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법{Stamp for imprint lithography and method of fabricating the stamp}
본 발명은 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게 유연하고 얇은 스탬프를 제작하는데 있어, 마스터 템플리트 상측 얇게 도포된 형태로 경화된 스탬프용 레지스트에 서로 다른 직경의 몰드를 설치하고, 그 사이공간에 인서트를 장착한 다음 추가로 스탬프용 레지스트를 공급하여 경화시킴에 따라, 경화된 스탬프용 레지스트의 가장자리에 인서트가 내부에 장착된 플랜지가 형성됨으로써, 상기 플랜지를 통해 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 분리하는 것이 용이하며, 다루기 쉬운 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법에 관한 것이다.
일반적으로 임프린트 리소그래피는 크게 두 가지 방법이 있다. 하나는 레지스트 또는 기판의 열 경화에 의한 것이고 다른 하나는 자외선경화에 의한 것이다.
등록특허 10-0925762의 임프린트 방법과 같이, 열 경화에 의한 임프린트 리소그래피 방법은 기판 또는 레지스트가 도포된 기판에 스탬프를 밀착한 후 가압 및 가열을 수행한 후 냉각시킴으로써 스탬프의 패턴이 기판 또는 기판 위의 레지스트에 전사되도록 하는 것이다.
등록특허 10-0558754의 UV 나노임프린트 리소그래피 공정과 같이 자외선 경화에 의한 임프린트 리소그래피 방법은 레지스트가 도포된 기판에 스탬프를 밀착하고 가압한 후 자외선을 조사함으로써 스탬프의 패턴이 기판위에 도포된 레지스트에 전사되도록 하는 것이다. 자외선 경화방식은 주로 1bar(또는 1kg/cm2) 이하의 낮은 압력을 이용한다.
특히, 기판과 스탬프의 평면도에 따라 모든 면에서 균일한 접촉이 이루어지도록 하는 것에 어려움이 있으므로 일반적으로 유연한 재질의 스탬프를 사용한다.
이 때, 스탬프 재질로 가장 흔히 사용되는 재료가 폴리디메틸실록산(PDMS; Polydimethylsiloxane)라는 폴리머이다.
도 1에서 도시된 바와 같이, 표면에 굴곡이 있는 기판(1)에 임프린트 하는 임프린트 리소그래피 공정에서는 상기 기판 위에 레지스트(2)를 도포한 다음, 유연한 재질의 스탬프(3)를 이용하여 상기 기판(2)위에 스탬프(3)를 밀착하게 된다.
상기와 같은 임프린트 리소그래피 공정에서는 유연스탬프의 재료적인 특성으로 인해 굴곡이 있는 기판의 표면에 유연스탬프가 밀착되고, 모든 면적에 대한 패턴 전사가 이루어질 수 있다.
한편, 이러한 유연스탬프, 특히 PDMS 스탬프는 도2와 같은 방법으로 마스터 템플리트(4)(Master template)를 이용하고 여기에 경화제가 첨가된 액체상태의 폴리머 재질인 스탬프용 레지스트(5)를 도포하고 일정 시간을 기다려 경화시킨 뒤 이를 분리해 냄으로써 얻을 수 있다.
PDMS의 경우 경화가 이루어진 후 나타나는 재료의 특징은 크게 두 가지로 볼 수 있는데, 하나는 실리콘(Si), 유리(Glass) 등과 같이 일반적으로 사용하는 마스터 템플리트 재질과의 점착(Adhesive) 특성이 매우 좋다는 것과, 나머지 하나는 PDMS의 탄성계수(Young's Modulus)가 수백 kPa 수준으로 낮다는 점이다.
따라서 상기 유연스탬프(3)는 경화된 PDMS를 마스터 템플리트(4)로부터 분리해 내는 과정이 용이하고, 이를 이용한 나노 임프린트 리소그래피의 공정이 원활하게 진행될 수 있도록 PDMS의 두께가 수mm에서 수십mm 수준이 되도록 제작되는 것이 일반적이다.
하지만, 얇은 두께의 스탬프를 이용하여야 하는 경우, 특히, 수십에서 수백 마이크로미터 수준의 얇은 스탬프가 제작되어야 하는 경우에는 경화된 스탬프용 레지스트(5)를 마스터 템플리트(4)와 몰드(6)로부터 분리하는 것에서부터 실제 나노 임프린트 리소그래피 공정이 진행될 때까지의 전 과정에서 스탬프가 쉽게 찢어지거나, 스탬프끼리 서로 붙어버리는 등의 문제점이 발생한다.
본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 유연하고 얇은 스탬프를 제작하는데 있어, 마스터 템플리트 상측 얇게 도포된 형태로 경화된 스탬프용 레지스트에 서로 다른 직경의 몰드를 설치하고, 그 사이공간에 인서트를 장착한 다음 추가로 스탬프용 레지스트를 공급하여 경화시킴에 따라, 경화된 스탬프용 레지스트의 가장자리에 인서트가 내부에 장착된 플랜지가 형성됨으로써, 상기 플랜지를 통해 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 분리하는 것이 용이하며, 다루기 쉬운 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프를 제작하는 방법은 a) 일정 패턴이 적어도 한쪽 면에 인각되어 형성된 마스터 템플리트(200)를 준비하는 마스터 템플리트 준비 단계(S10); b) 상기 마스터 템플리트(200)의 패턴이 형성된 측면에 스탬프용 레지스트(300)를 도포하는 레지스트 도포 단계(S20); c) 상기 마스터 템플리트(200)가 일정 속도 및 일정 시간동안 회전되어 상기 스탬프용 레지스트(300)가 골고루 도포되는 스핀 코팅 단계(S30): d) 도포된 상기 스탬프용 레지스트(300)가 경화되면, 상기 마스터 템플리트(200)의 가장자리를 따라 설치되는 제1몰드(410)와, 상기 제1몰드(410) 내측 방향으로 일정거리 이격되어 상기 스탬프용 레지스트(300) 위에 설치되는 제2몰드(420)를 배치하는 몰드 배치 단계(S40); e) 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 인서트(510)가 배치되는 인서트(510) 배치 단계(S50); f) 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 상기 스탬프용 레지스트(300)가 추가적으로 도포되는 레지스트 추가 도포 단계(S60); g) 상기 스탬프용 레지스트(300)가 경화된 후, 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)를 분리하는 몰드 분리 단계(S70); 및 h) 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 도포된 상기 스탬프용 레지스트(300)와 인서트(510)가 함께 경화되어 형성된 플랜지(500)를 잡고 들어 올려 상기 마스터 템플리트(200)로부터 스탬프용 레지스트(300)를 분리하는 스탬프 분리 단계(S80); 를 포함하며, a)~h) 단계가 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제2몰드(420)는 레지스트 도포 단계(S20)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300)와의 접촉 면적이 최소화될 수 있도록 제1몰드(410)에 대응되는 형태이되, 직경이 작은 띠 형태인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 인서트(510)는 PDMS보다 경도가 강한 재질로 제작된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 인서트(510)는 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 배치되되, 상기 제1몰드(410)보다 직경이 작고 상기 제2몰드(420)보다 직경이 큰 띠 형태인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 인서트(510)는 상측면에 일정거리 이격되어 상측으로 돌출되는 돌기부가 더 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플랜지(500)는 상기 인서트(510)가 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300) 내부에 매립되어 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 플랜지(500)는 상기 인서트(510)가 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300) 위로 일정 영역 돌출되어 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 제 1항에 의한 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 이용하여 임프린트 리소그래피용 스탬프가 제작되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법은 경화된 스탬프용 레지스트의 가장자리에 인서트가 내부에 장착된 플랜지가 형성됨으로써, 상기 플랜지를 통해 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 분리하는 것이 용이하며, 다루기 쉽다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법은 인서트가 내부가 장착된 플랜지를 잡고 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 들어 올리면서 분리함으로써, 플랜지가 없이 경화된 스탬프용 레지스트를 들어 올리는 것보다 걸리는 인장력이 약해지기 때문에 잡는 부위를 통해 찢어지는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법은 PDMS 스탬프와 같이 비교적 얇고 유연한 재질의 스탬프를 마스터 템플리트로부터의 분리에서 임프린트 리소그래피 공정의 적용에 이르는 모든 과정에서 다루기 쉽도록 제작할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 통해 제작된 스탬프는 적은 양의 공압이나 진공을 이용해 미세한 접착력을 이용한 자외선 경화 방식의 나노 임프린트 리소그래피, 또는 요철형상의 표면에 나노미터 크기의 패턴을 형성하는 3차원 나노 임프린트 리소그래피 등 다양한 분야로 활용이 가능하다는 장점이 있다.
도 1은 종래의 임프린트 리소그래피 방법을 나타낸 개념도.
도 2는 종래의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 나타낸 개념도.
도 3은 본 발명에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 나타낸 개념도.
도 4는 도 3의 (4) 단계에서 인서트가 놓여있지 않은 상태에서 배치되는 제1몰드 및 제2몰드의 또 다른 실시 예를 나타낸 개념도.
도 5는 도 3의 (4) 단계에서 인서트의 또 다른 실시 예를 나타낸 개념도.
도 6은 도 3의 (5) 단계에서 인서트 매립형태의 또 다른 실시 예를 나타낸 개념도.
도 7은 도 3의 (6) 단계에서 얻어진 임프린트 리소그래피용 스탬프를 나타낸 사시도.
이하, 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 제작방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래의 임프린트 리소그래피 방법을 나타낸 개념도이며, 도 2는 종래의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 나타낸 개념도이고, 도 3은 본 발명에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 나타낸 개념도이며, 도 4는 도 3의 (4) 단계에서 인서트가 놓여있지 않은 상태에서 배치되는 제1몰드 및 제2몰드의 또 다른 실시 예를 나타낸 개념도이고, 도 5는 도 3의 (4) 단계에서 인서트의 또 다른 실시 예를 나타낸 개념도이며, 도 6은 도 3의 (5) 단계에서 인서트 매립형태의 또 다른 실시 예를 나타낸 개념도이고, 도 7은 도 3의 (6) 단계에서 얻어진 임프린트 리소그래피용 스탬프를 나타낸 사시도이다.
본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프(100) 및 제작방법은 크게, a) 마스터 템플리트 준비 단계(S10), b) 레지스트 도포 단계(S20), c) 스핀 코팅 단계(S30), d) 몰드 배치 단계(S40), e) 인서트 배치 단계(S50), f) 추가 도포 단계(S60), g) 몰드 분리 단계(S70) 및 h) 스탬프 분리 단계(S80)를 포함하며, a)~h) 단계가 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 한다.
<실시 예1>
실시 예1은 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법으로 도 3을 참고로 각 단계별로 설명하면, 마스터 템플리트 준비 단계(S10)는 스탬프에 복사하고자 하는 일정 패턴이 적어도 한쪽 면에 인각되어 형성된 판 형상의 마스터 템플리트(200)를 준비하는 단계이다.
그 다음, 상기 마스터 템플리트(200)에는 경화제가 첨가된 스탬프용 레지스트(300)인 PDMS(Polydimethylsiloxane) 재료를 도포하는 레지스트 도포 단계(S20)가 수행된다.
이 때, 상기 스탬프용 레지스트(300)가 얇게 도포될 수 있도록 상기 마스터 템플리트(200)가 일정 속도 및 일정 시간동안 회전되어 상기 스탬프용 레지스트(300)가 골고루 도포되는 스핀 코팅 단계(S30)가 수행된다. 상기 스탬프용 레지스트(300)는 상기 마스터 템플리트(200)의 회전속도 및 회전시간 등의 스핀 코팅 조건에 따라 도포되는 두께가 달라진다.
그 후, 일정시간이 경과되면, 상기 스탬프용 레지스트(300)는 상기 마스터 템플리트(200) 일면에 코팅된 형상대로 경화된다.
그 다음으로, 몰드 배치 단계(S40)가 수행되는데, 상기 마스터 템플리트(200)에는 상기 마스터 템플리트(200)의 가장자리를 따라 설치되는 제1몰드(410)와, 상기 제1몰드(410) 내측 방향으로 일정거리 이격되어 경화된 상기 스탬프용 레지스트(300) 위에 설치되는 제2몰드(420)가 배치되며, 인서트 배치 단계(S50)에서 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 인서트(510)(Insert)가 배치된다.
즉, 얇게 도포되어 경화된 스탬프용 레지스트(300) 위의 내측과 외측에 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)를 장착되고, 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 형성된 공간에 인서트(510)가 설치된다.
상기 인서트(510)는 금속이나 플라스틱과 같이, PDMS보다 강도가 높은 재질로 제작되며, 후술되는 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포되는 상기 스탬프용 레지스트(300) 내부에 삽입되어 유연한 특성을 가진 PDMS 재질의 스탬프용 레지스트(300)를 다루기 용이하도록 해준다.
상기 레지스트 추가 도포 단계(S60)는 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 상기 스탬프용 레지스트(300)가 추가적으로 도포되는 단계이며, 이를 통해 상기 인서트(510)가 추가 도포되는 상기 스탬프용 레지스트(300) 내부에 삽입될 수 있다.
추가 도포된 상기 스탬프용 레지스트(300)가 경화되면, 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)를 분리시키는 몰드 분리 단계(S70)가 수행되며, 마지막으로 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 도포된 상기 스탬프용 레지스트(300)와 인서트(510)가 함께 경화되어 형성된 플랜지(500)를 들어 올려 상기 마스터 템플리트(200)로부터 스탬프용 레지스트(300)를 분리하는 스탬프 분리 단계(S80)가 수행된다.
상술한 바와 같은 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 통해 최종적으로, 도 3의 (6)와 같은 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프(100)가 제작된다.
<실시 예 2>
실시 예 2는 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법에서 이용되는 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)의 형태에 관한 것이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)는 상기 마스터 템플리트(200)가 원판일 경우, 원으로 된 띠 형태로 제작되되, 서로 직경만 다르게 형성될 수 있다.
상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)는 PDMS가 금속, 유리 등의 재질과 점착특성이 매우 좋으므로, 경화된 PDMS 재질의 스탬프용 레지스트(300)로부터 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)를 분리하는 과정에서 PDMS가 찢기거나 손상될 수 있으므로 PDMS와의 접촉 면적이 최소화될 수 있도록 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)는 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프(100)에 형성되는 플랜지(500)의 측면 형상 제작에만 이용될 수 있으며, 이 때, 상기 마스터 템플리트(200) 상측에 도포된 스탬프용 레지스트(300), 즉 PDMS 상면은 외부로 노출되도록 하여 중력의 영향으로 인해 고르게 펼쳐진 형상으로 경화된다.
따라서 상기 제1몰드(410)의 내측에 배치되는 제2몰드(420)는 원판형으로 형성될 수도 있지만, 상기와 같은 이유로 접촉면적을 최소화하되 상기 제1몰드(410)와의 사이에 공간을 형성하기 위해 상기 제1몰드(410)의 형태에 대응되되, 직경만 작게 형성되는 것이 바람직하다.
또한, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 제2몰드(420)는 상기 제1몰드(410)에 대응되는 형태가 아니더라도, 상기 마스터 템플리트(200)가 원판형일 때, 상기 제1몰드(410)가 원으로 된 띠 형태이고, 상기 제2몰드(420)가 사각으로 된 띠 형태가 되도록 형성되어 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 추가로 도포되는 상기 스탬프용 레지스트(300)가 고여 일정 형태로 경화되도록 할 수도 있다.
물론, 제2몰드(420)는 반드시 폐쇄된 곡선의 띠 형태일 필요는 없으며, 각각 따로 분리되는 얇은 바(bar) 형태여도 상관없다. 상기 제2몰드(420)는 상기 제1몰드(410)와의 사이 공간에 추가로 도포되는 상기 스탬프용 레지스트(300)가 고이도록 공간을 형성할 수 있다면 다양한 변경실시가 가능하다. 다만, 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)의 형태에 따라 상기 인서트(510)의 형태도 변경되어야 할 것이다.
<실시 예 3>
실시 예 3은 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법에서 이용되는 인서트(510)에 관한 것이다.
도 3에서 도시된 바와 같이, 상기 인서트(510)는 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 배치되되, 상기 제1몰드(410)보다 직경이 작고 상기 제2몰드(420)보다 직경이 큰 띠 형태일 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 인서트(510)는 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 추가로 도포되는 스탬프용 레지스트(300) 내부에 삽입되어 형성되며, 상기 스탬프용 레지스트(300)와 함께 경화되어 가장자리를 따라 플랜지(500)를 형성하게 된다.
상기 인서트(510)가 삽입된 상기 플랜지(500)에 의해, 본 발명에 따른 임프린트 리소그래피용 스탬프(100)는 제작과정에서 상기 마스터 템플리트(200)로부터의 분리가 쉬워지며, 임프린트 리소그래피 공정 중에도 다루기가 용이해 공정의 효율을 향상시킬 수 있게 된다.
또한, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 인서트(510)는 상측면에 일정거리 이격되어 상측으로 돌출되는 돌기부가 더 형성될 수도 있다.
이 경우, 상기 인서트(510)는 상측으로 돌출된 돌기부를 통해 다른 장치와의 결합이 용이하며, 작업 과정에서 스탬프를 운반할 때 잡고 들어 올릴 수 있다는 장점이 있다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 플랜지(500)는 상기 인서트(510)가 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300) 내부에 매립되어 형성될 수도 있으며, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 인서트(510)가 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300) 위로 일정 영역 돌출되어 형성될 수도 있다.
도 3과 같은 상기 인서트(510)는 상기 스탬프용 레지스트(300) 내부에 매립되어 있으므로, 상기 스탬프용 레지스트(300)와의 결합 면에서의 분리 또는 파열이 발생될 가능성이 적어 안정적이라는 장점이 있다.
한편, 도 5와 같은 상기 인서트(510)는 상기 스탬프용 레지스트(300) 위로 돌출된 부분을 잡고 들어 올리거나, 작업 과정에서 스탬프를 운반해야 할 때 용이하게 사용될 수도 있다는 장점이 있다.
<실시 예 4>
실시 예 4는 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 이용하여 제작된 임프린트 리소그래피용 스탬프(100)에 관한 것이다.
본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프(100)는 가장자리를 따라 돌출되어 형성되는 플랜지(500)를 포함하는 것을 특징으로 하며, 상기 플랜지(500) 내부에는 스탬프의 주재료인 PDMS 보다 상대적으로 강도가 높은 인서트(510)가 삽입되어 형성된다.
따라서 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프는 제작과정에서 상기 플랜지를 통해 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 분리하는 것이 용이하며, 다루기 쉽다는 장점이 있다.
또한, 인서트가 내부가 장착된 플랜지를 잡고 마스터 템플리트로부터 경화된 스탬프용 레지스트를 들어 올리면서 분리함으로써, 플랜지가 없이 경화된 스탬프용 레지스트를 들어 올리는 것보다 걸리는 인장력이 약해지기 때문에 잡는 부위를 통해 찢어지는 것을 방지할 수 있다는 장점이 있다.
또한, 본 발명의 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 통해 제작된 스탬프는 상기 플랜지가 형성되지 않는 종래의 유연한 스탬프에 비해 다루기가 용이하므로, 적은 양의 공압이나 진공을 이용해 미세한 접착력을 이용한 자외선 경화 방식의 나노 임프린트 리소그래피, 또는 요철형상의 표면에 나노미터 크기의 패턴을 형성하는 3차원 나노임프린트리소그래피 등 다양한 분야로 활용이 가능하다는 장점이 있다.
본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 아니하며, 적용범위가 다양함은 물론이고, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이다.
S10~S80 : 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법의 각 단계
100 : 스탬프
200 : 마스터 템플리트
300 : 스탬프용 레지스트
410 : 제1몰드
420 : 제2몰드
500 : 플랜지
510 : 인서트
511 : 돌기부

Claims (8)

  1. 임프린트 리소그래피용 스탬프를 제작하는 방법에 있어서,
    a) 일정 패턴이 적어도 한쪽 면에 인각되어 형성된 마스터 템플리트(200)를 준비하는 마스터 템플리트 준비 단계(S10);
    b) 상기 마스터 템플리트(200)의 패턴이 형성된 측면에 스탬프용 레지스트(300)를 도포하는 레지스트 도포 단계(S20);
    c) 상기 마스터 템플리트(200)가 일정 속도 및 일정 시간동안 회전되어 상기 스탬프용 레지스트(300)가 골고루 도포되는 스핀 코팅 단계(S30):
    d) 도포된 상기 스탬프용 레지스트(300)가 경화되면, 상기 마스터 템플리트(200)의 가장자리를 따라 설치되는 제1몰드(410)와, 상기 제1몰드(410) 내측 방향으로 일정거리 이격되어 상기 스탬프용 레지스트(300) 위에 설치되는 제2몰드(420)를 배치하는 몰드 배치 단계(S40);
    e) 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 인서트(510)가 배치되는 인서트(510) 배치 단계(S50);
    f) 상기 제1몰드(410)와 제2몰드(420) 사이에 상기 스탬프용 레지스트(300)가 추가적으로 도포되는 레지스트 추가 도포 단계(S60);
    g) 상기 스탬프용 레지스트(300)가 경화된 후, 제1몰드(410) 및 제2몰드(420)를 분리하는 몰드 분리 단계(S70); 및
    h) 상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 도포된 상기 스탬프용 레지스트(300)와 인서트(510)가 함께 경화되어 형성된 플랜지(500)를 잡고 들어 올려 상기 마스터 템플리트(200)로부터 스탬프용 레지스트(300)를 분리하는 스탬프 분리 단계(S80); 를 포함하며, a)~h) 단계가 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제1몰드(410), 제2몰드(420) 및 상기 인서트(510)는
    상기 마스터 템플리트(200)가 원판일 경우,
    원으로 된 띠 형태로 제작되되, 서로 직경이 다르게 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스태프 제작방법.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 인서트(510)는
    PDMS보다 경도가 강한 재질로 제작된 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 인서트(510)는
    상기 제1몰드(410) 및 제2몰드(420) 사이에 배치되되,
    상기 제1몰드(410)보다 직경이 작고 상기 제2몰드(420)보다 직경이 큰 띠 형태인 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 인서트(510)의 상측면에는
    상측으로 돌출되는 돌기부(511)가 형성되며,
    상기 돌기부(511)가 원주방향으로 일정거리 이격되어 복수개 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법.
  6. 제 4항 또는 5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플랜지(500)는
    상기 인서트(510)가 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300) 내부에 매립되어 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법.
  7. 제 4항 또는 5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 플랜지(500)는
    상기 인서트(510)가 레지스트 추가 도포 단계(S60)에서 도포된 스탬프용 레지스트(300) 위로 일정 영역 돌출되어 형성되는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법.
  8. 제 1항에 의한 임프린트 리소그래피용 스탬프 제작방법을 이용하여 제작된 임프린트 리소그래피용 스탬프.
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