KR101303905B1 - Touch panel, display device and manufacturing method of touch panel - Google Patents

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Abstract

터치 패널은 제1 기판, 및 상기 제1 기판 상에 위치하며, 제1 저항을 가지는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 이웃하며 상기 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지는 제2 영역을 포함하는 제1 터치 패드를 포함한다.The touch panel includes a first substrate and a first region disposed on the first substrate, the first region having a first resistance and a second region neighboring the first region and having a second resistance higher than the first resistance. It includes a first touch pad.

Description

터치 패널, 표시 장치 및 터치 패널의 제조 방법{TOUCH PANEL, DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF TOUCH PANEL}Touch panel, display device and manufacturing method of touch panel {TOUCH PANEL, DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF TOUCH PANEL}

본 발명은 터치 패널에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 정전 용량식 터치 패널, 표시 장치 및 터치 패널의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a touch panel, and more particularly, to a capacitive touch panel, a display device, and a manufacturing method of a touch panel.

터치 패널은 펜 또는 사용자의 손가락에 의한 터치를 인식하는 장치로서, 최근 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display) 또는 액정 표시 장치(liquid crystal display device) 등의 표시 유닛 상에 배치되어 표시 장치에 신호를 입력하기 위한 수단으로서 사용되고 있었다.The touch panel is a device for recognizing a touch by a pen or a user's finger. The touch panel is recently disposed on a display unit such as an organic light emitting diode display or a liquid crystal display device. It was used as a means for inputting a signal.

터치 패널 중 정전 용량식 터치 패널은 터치 패널에 포함된 터치 패드에 터치가 수행되면, 터치가 수행된 위치에 대응하는 터치 패드의 정전 용량이 변화하는 것을 측정하여 터치가 수행된 입력 위치를 검출한다.When the capacitive touch panel of the touch panel is touched on the touch pad included in the touch panel, the capacitive touch panel detects the change in the capacitance of the touch pad corresponding to the touched position and detects the touched input position. .

이러한 종래의 정전 용량식 터치 패널은 도전성 물질인 터치 패드를 포함하는데, 이러한 터치 패드는 습식 식각에 의해 패터닝된 ITO(Indium Tin Oxide), 도전성 폴리머, 탄소나노튜브, 그래핀을 포함하는 탄소기반 소재, ZnO, SnO2, In2O3, CdSnO4, Au. Al, Ag 등과 같은 다양한 물질들을 포함하였다.The conventional capacitive touch panel includes a touch pad which is a conductive material, which is a carbon-based material including indium tin oxide (ITO), a conductive polymer, carbon nanotubes, and graphene patterned by wet etching. , ZnO, SnO 2 , In 2 O 3 , CdSnO 4 , Au. Various materials such as Al, Ag and the like were included.

본 발명의 일 실시예는, 레이저 직접 조사 패터닝에 의해 제조된 터치 패드를 포함하는 터치 패널, 표시장치 및 터치 패널의 제조 방법을 제공하고자 한다.An embodiment of the present invention is to provide a touch panel, a display device, and a manufacturing method of a touch panel including a touch pad manufactured by laser direct irradiation patterning.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 제1 측면은 제1 기판, 및 상기 제1 기판 상에 위치하며, 제1 저항을 가지는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 이웃하며 상기 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지는 제2 영역을 포함하는 제1 터치 패드를 포함하는 터치 패널을 제공한다.A first aspect of the present invention for achieving the above-described technical problem is a first substrate and a first region having a first resistance, and is located on the first substrate and neighboring the first region and compared to the first resistance A touch panel including a first touch pad including a second area having a higher second resistance is provided.

상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함할 수 있다.Each of the first region and the second region may include at least one of carbon nanotubes and graphene.

상기 제2 영역에 포함된 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상은 상기 제1 영역에 포함된 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상 대비 배열이 다를 수 있다.One or more of the carbon nanotubes and graphene included in the second region may have a different arrangement compared to one or more of the carbon nanotubes and graphene included in the first region.

상기 제2 영역에 포함된 상기 탄소나노튜브 및 상기 그래핀 중 하나 이상은 레이저에 의해 배열이 변화될 수 있다.The arrangement of one or more of the carbon nanotubes and the graphene included in the second region may be changed by a laser.

상기 제2 영역은 상기 제1 영역 대비 요철 형상의 표면을 가질 수 있다.The second region may have an uneven surface compared to the first region.

상기 제2 영역에 대응하는 상기 제1 기판의 일부는 일부가 노출될 수 있다.A portion of the first substrate corresponding to the second region may be partially exposed.

상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 동일한 층에 위치할 수 있다.The first region and the second region may be located on the same layer.

상기 제1 터치 패드는 10% 이상의 투명도를 가질 수 있다.The first touch pad may have a transparency of 10% or more.

상기 제1 영역의 상기 제1 저항은 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속할 수 있다.The first resistance of the first region may be in the range of 1 kW to 10 5 kW.

상기 제1 기판은 플랙서블(flexible)할 수 있다.The first substrate may be flexible.

상기 제1 영역은 상기 제1 기판 상에서 제1 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제1 서브 영역을 포함하며, 상기 터치 패널은 상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판, 및 상기 제2 기판 상에 위치하며, 제3 저항을 가지며 상기 제2 기판 상에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제2 서브 영역을 포함하는 제3 영역 및 상기 제3 영역과 이웃하며 상기 제3 저항 대비 더 높은 제4 저항을 가지는 제4 영역을 포함하는 제2 터치 패드를 더 포함할 수 있다.The first region includes a plurality of first sub-regions extending in a first direction on the first substrate, wherein the touch panel is on a second substrate facing the first substrate, and on the second substrate. And a third region including a plurality of second sub-regions having a third resistance and extending in a second direction crossing the first direction on the second substrate and adjacent to the third region. The display device may further include a second touch pad including a fourth area having a fourth resistance higher than the third resistance.

또한, 본 발명의 제2 측면은 이미지(image)를 표시하는 표시 유닛, 및 상기 표시 유닛 상에 위치하는 상기 터치 패널을 포함하는 표시 장치를 제공한다.In addition, a second aspect of the present invention provides a display device including a display unit displaying an image, and the touch panel positioned on the display unit.

또한, 본 발명의 제3 측면은 제1 기판 상에 제1 도전층을 형성하는 단계, 및 상기 제1 도전층을 패터닝하여 제1 저항을 가지는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 이웃하며 상기 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지는 제2 영역을 포함하는 제1 터치 패드를 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법을 제공한다.In addition, a third aspect of the present invention provides a method of forming a first conductive layer on a first substrate, and patterning the first conductive layer so as to be adjacent to the first region having the first resistance and the first region. A method of manufacturing a touch panel includes forming a first touch pad including a second region having a second resistance higher than a first resistance.

상기 제1 도전층은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The first conductive layer may include one or more of carbon nanotubes and graphene.

상기 제1 도전층을 패터닝하는 단계는 상기 제2 영역에 레이저를 조사하여 수행할 수 있다.The patterning of the first conductive layer may be performed by irradiating a laser to the second region.

상기 레이저는 펄스레이저일 수 있다.The laser may be a pulsed laser.

상기 제1 도전층을 패터닝하는 단계는 상기 제2 영역에 대응하여 상기 레이저를 투과시키는 마스크를 이용하여 수행할 수 있다.The patterning of the first conductive layer may be performed using a mask that transmits the laser corresponding to the second region.

상기 제1 도전층을 패터닝하는 단계는 상기 제1 영역이 상기 제1 기판 상에서 제1 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제1 서브 영역을 포함하도록 수행하며, 상기 터치 패널의 제조 방법은 제2 기판 상에 제2 도전층을 형성하는 단계, 상기 제2 도전층을 패터닝하여, 제3 저항을 가지며 상기 제2 기판 상에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제2 서브 영역을 포함하는 제3 영역 및 상기 제3 영역과 이웃하며 상기 제3 저항 대비 더 높은 제4 저항을 가지는 제4 영역을 포함하는 제2 터치 패드를 형성하는 단계, 및 상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 합착하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법을 제공한다.The patterning of the first conductive layer is performed such that the first region includes a plurality of first sub-regions extending in a first direction on the first substrate, and the method of manufacturing the touch panel includes a second substrate. Forming a second conductive layer on the second conductive layer by patterning the second conductive layer, the second conductive layer having a third resistance and extending in a second direction crossing the first direction on the second substrate; Forming a second touch pad including a third region including a region and a fourth region neighboring the third region and having a fourth resistance higher than the third resistance, and the first substrate and the first substrate; 2 provides a method for manufacturing a touch panel comprising the step of bonding the substrate.

상술한 본 발명의 과제 해결 수단의 일부 실시예 중 하나에 의하면, 레이저 직접 조사 패터닝에 의해 제조된 터치 패드를 포함하는 터치 패널, 표시장치 및 터치 패널의 제조 방법이 제공된다.According to some embodiments of the above-described problem solving means of the present invention, there is provided a touch panel, a display device and a manufacturing method of a touch panel including a touch pad manufactured by laser direct irradiation patterning.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 순서도이다.
도 2 내지 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 평면도이다.
도 7은 도 6에 도시된 제1 터치 패드의 제1 영역 및 제2 영역을 확대하여 나타낸 사진이다.
도 8은 도 7에 나타낸 제1 영역 및 제2 영역을 전자현미경으로 관찰한 사진이다.
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시 장치를 나타낸 분해 사시도이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention.
2 to 5 are diagrams for describing a method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention.
6 is a plan view illustrating a touch panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.
FIG. 7 is an enlarged photograph of the first region and the second region of the first touch pad illustrated in FIG. 6.
8 is a photograph of an electron microscope of the first region and the second region illustrated in FIG. 7.
9 is an exploded perspective view illustrating a display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 여러 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention may be embodied in many different forms and is not limited to the embodiments described herein.

본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.In order to clearly illustrate the present invention, parts not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

또한, 도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.In addition, since the sizes and thicknesses of the respective components shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of explanation, the present invention is not necessarily limited to those shown in the drawings.

도면에서 여러 층 및 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 나타내었다. 그리고 도면에서, 설명의 편의를 위해, 일부 층 및 영역의 두께를 과장되게 나타내었다. 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 "상에" 있다고 할 때, 이는 다른 부분 "바로 상에" 있는 경우뿐 아니라 그 중간에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.In the drawings, the thickness is enlarged to clearly represent the layers and regions. In the drawings, for the convenience of explanation, the thicknesses of some layers and regions are exaggerated. It will be understood that when a layer, film, region, plate, or the like is referred to as being "on" another portion, it includes not only the other portion "directly on" but also the other portion in between.

또한, 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "~상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것은 아니다.Also, throughout the specification, when an element is referred to as "including" an element, it is understood that the element may include other elements as well, without departing from the other elements unless specifically stated otherwise. Also, throughout the specification, the term "on " means to be located above or below a target portion, and does not necessarily mean that the target portion is located on the image side with respect to the gravitational direction.

이하, 도 1 내지 도 5를 참조하여 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 나타낸 순서도이다. 도 2 내지 도 5는 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.1 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention. 2 to 5 are diagrams for describing a method of manufacturing a touch panel according to a first embodiment of the present invention.

우선, 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이, 제1 기판(100) 상에 제1 도전층(201)을 형성한다(S100).First, as shown in FIGS. 1 and 2, the first conductive layer 201 is formed on the first substrate 100 (S100).

구체적으로, 유리, 석영, 세라믹 또는 폴리머 등의 광투과성 절연 기판으로 형성되며, 플렉서블(flexible)한 제1 기판(100) 상에 제1 도전층(201)을 형성한다. 제1 도전층(201)은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함한다. 보다 상세하게, 제1 도전층(201)은 진공 여과법(vacuum filtration), 스프레이 코팅법(spray coating), 인크젯(inkjet) 또는 롤투롤(roll to roll) 등 다양한 공정을 이용해 제1 기판(100) 상에 형성되며, 투명도가 10% 이상으로 이루어질 수 있다. 또한, 제1 도전층(201)은 전기 저항이 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속하는 제1 저항을 가진다. Specifically, the first conductive layer 201 is formed on the flexible first substrate 100 formed of a light transmissive insulating substrate such as glass, quartz, ceramic, or polymer. The first conductive layer 201 includes at least one of carbon nanotubes and graphene. In more detail, the first conductive layer 201 may be formed by using various processes such as vacuum filtration, spray coating, inkjet, or roll to roll. It is formed on the), the transparency may be made of 10% or more. In addition, the first conductive layer 201 has a first resistance in which the electrical resistance is within the range of 1 kPa to 10 5 kPa.

또한, 제1 도전층(201)이 탄소나노튜브를 포함할 경우, 탄소나노튜브는 단일벽, 이중벽 및 다중벽 중 하나 이상으로 이루어질 수 있으며, 두께가 100 nm이하인 탄소로 이루어진 튜브 혹은 속이 채워진 막대형의 물질을 포함할 수 있다. 한편, 제1 도전층(201)은 탄소나노튜브 뿐만 아니라, 금속산화물, 반도체 금속, 폴리머 및 반도체 산화물 중 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 탄소나노튜브는 네트워크(network) 형태 또는 정렬된 형태로 제1 도전층(201) 내부에 배열될 수 있다.In addition, when the first conductive layer 201 includes carbon nanotubes, the carbon nanotubes may be formed of at least one of a single wall, a double wall, and a multiwall, and a tube or a filled film made of carbon having a thickness of 100 nm or less. It may comprise a large amount of material. The first conductive layer 201 may further include not only carbon nanotubes, but also one or more of metal oxides, semiconductor metals, polymers, and semiconductor oxides. The carbon nanotubes may be arranged inside the first conductive layer 201 in a network form or in an aligned form.

또한, 제1 도전층(201)이 그래핀을 포함할 경우, 그래핀은 단층, 이중층 및 다중층 중 하나 이상으로 이루어질 수 있다. 한편, 제1 도전층(201)은 그래핀 뿐만 아니라, 금속화합물, 반도체 금속, 폴리머 및 반도체 산화물 중 하나 이상을 더 포함할 수 있다. 그래핀은 네트워크 형태 또는 정렬된 형태로 제1 도전층(201) 내부에 배열될 수 있다.In addition, when the first conductive layer 201 includes graphene, the graphene may be formed of one or more of a single layer, a double layer, and multiple layers. The first conductive layer 201 may further include not only graphene, but also one or more of a metal compound, a semiconductor metal, a polymer, and a semiconductor oxide. Graphene may be arranged inside the first conductive layer 201 in a network form or in an aligned form.

다음, 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 제1 도전층(201)을 패터닝(patterning)하여 제1 터치 패드(200)를 형성한다(S200).Next, as illustrated in FIGS. 3 and 4, the first conductive layer 201 is patterned to form the first touch pad 200 (S200).

구체적으로, 레이저(L)를 조사하는 레이저 유닛(10) 및 마스크(20)를 이용해 제1 도전층(201)에 레이저(L)를 직접 조사하여 제1 도전층(201)을 패터닝함으로써, 제1 저항을 가지는 제1 영역(210) 및 제1 영역(210)과 이웃하며 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지는 제2 영역(220)을 포함하는 제1 터치 패드(200)를 형성한다.Specifically, the first conductive layer 201 is patterned by directly irradiating the laser L onto the first conductive layer 201 using the laser unit 10 and the mask 20 that irradiate the laser L. A first touch pad 200 including a first region 210 having a first resistance and a second region 220 adjacent to the first region 210 and having a second resistance higher than the first resistance is formed. .

레이저 유닛(30)은 펨토초 레이저(femtosecond laser), 피코초 레이저(picosecond laser) 및 나노초(nanosecond laser) 등 중 하나 이상을 포함한 고출력 펄스 레이저를 발생하는 레이저 발생기(31), 셔터(shutter)(32), 제1 포커싱 렌즈(focusing lens)(33), 스패시알 필터(spatial filter)(34), 빔 콜리메이터(beam collimator)(35), 1/4λ위상차판(36), 제1 미러(37), 제2 미러(38), 어테뉴에이터(attenuator)(39), 디퓨져(diffuser)(40), 제2 포커싱 렌즈(41) 및 갈바노 스캐너(galvano scanner)(42)를 포함하며, 레이저 발생기(31)로부터 발생된 레이저(L)가 상기한 구성들을 거친 후 갈바노 스캐너(42)에 의해 제1 도전층(201) 전체에 대응하여 조사된다. 이때, 마스크(20)가 제2 영역(220)에 대응하여 제2 영역(220)에만 레이저(L)를 투과시킴으로써, 레이저(L)는 제2 영역(220) 조사된다. 제2 영역(220) 조사된 레이저(L)는 제2 영역(220)에 대응하는 제1 도전층(201)의 내부에 위치하는 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상의 배열을 변화시킨다. 상세하게, 레이저(L)에 의해 제1 도전층(201)의 제2 영역(220)에 대응하여 위치하는 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상이 부분적 또는 전체적으로 제거됨으로써, 제1 도전층(201)의 제2 영역(220)이 제1 영역(210)의 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지게 된다. 이러한 제2 영역(220)의 제2 저항은 제1 저항 대비 대략 10배 정도 높은 면저항을 가질 수 있다. 이와 같이, 제2 영역(220)에 레이저(L)가 직접 조사되어 제2 영역(220)은 제1 영역(210) 대비 요철(凹凸) 형태의 표면을 가질 수 있으며, 제2 영역(220)의 요(凹) 형태의 표면에 대응하는 제1 기판(100)의 일부는 노출될 수 있다. 또한, 제2 영역(220) 및 제1 영역(210)은 제1 도전층(201)으로부터 패터닝되어 형성된 영역이므로, 동일한 층에 위치한다. 제1 영역(210)은 제1 방향으로 따라 스트라이프 패턴(stripe pattern)으로 연장되어 위치하는 복수의 제1 서브 영역(211)을 포함한다.The laser unit 30 includes a laser generator 31 and a shutter 32 for generating a high power pulse laser including at least one of a femtosecond laser, a picosecond laser, a nanosecond laser, and the like. ), A first focusing lens 33, a spatial filter 34, a beam collimator 35, a 1 / 4λ phase difference plate 36, a first mirror 37 And a second mirror 38, an attenuator 39, a diffuser 40, a second focusing lens 41, and a galvano scanner 42. The laser L generated from 31 is irradiated correspondingly to the entire first conductive layer 201 by the galvano scanner 42 after the above-described configurations. In this case, the mask 20 transmits the laser L only to the second region 220 corresponding to the second region 220, so that the laser L is irradiated to the second region 220. The laser L irradiated to the second region 220 changes the arrangement of at least one of carbon nanotubes and graphene positioned in the first conductive layer 201 corresponding to the second region 220. In detail, at least one of carbon nanotubes and graphene positioned corresponding to the second region 220 of the first conductive layer 201 by the laser L is partially or wholly removed, whereby the first conductive layer 201 is removed. ) Has a second resistance higher than the first resistance of the first region 210. The second resistance of the second region 220 may have a sheet resistance about 10 times higher than the first resistance. As such, the laser L is directly irradiated onto the second region 220 such that the second region 220 may have a surface having an uneven shape compared to the first region 210, and the second region 220. A portion of the first substrate 100 corresponding to the surface of the yaw shape may be exposed. In addition, since the second region 220 and the first region 210 are regions formed by patterning from the first conductive layer 201, they are located in the same layer. The first region 210 includes a plurality of first sub-regions 211 extending in a stripe pattern in a first direction.

한편, 제1 기판(100) 상에는 제1 영역(210)과 연결되어 제1 기판(100)의 단부까지 연장된 배선(W)이 형성되는데, 이 배선(W)은 제1 영역(210)과 동일한 방법을 통해 제1 영역(210)과 함께 형성되거나, 추가적인 도전 물질의 증착에 의해 형성될 수 있다. 이 배선(W)은 제1 영역(210)과 편의상 도시하지 않은 제어부 사이를 연결한다.On the other hand, a wiring W is formed on the first substrate 100 and extends to an end of the first substrate 100, and the wiring W is connected to the first region 210. The same method may be used to form the first region 210 or may be formed by deposition of an additional conductive material. The wiring W connects between the first region 210 and a controller (not shown) for convenience.

이상과 같이, 레이저(L)가 제2 영역(220)에 직접 조사됨으로써, 제1 영역(210)은 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속하는 제1 저항을 가지게 되고, 제2 영역(220)은 제1 영역(210) 대비 대략 10 정도 높은 면저항인 제2 저항을 가지게 되기 때문에, 제1 터치 패드(200)에 터치(touch)가 수행될 경우, 터치가 수행된 위치에 대응하는 제1 영역(210)에 발생한 전기적 신호는 제1 영역(210) 및 배선(W)을 통해 제어부로 전송되어 터치가 수행된 위치에 대응하는 좌표가 인식된다.As described above, since the laser L is directly irradiated to the second region 220, the first region 210 has a first resistance within a range of 1 kV to 10 5 kV, and the second region 220 is Since the second resistance is about 10 times higher than that of the first region 210, when the touch is performed on the first touch pad 200, the first region corresponding to the position where the touch is performed ( The electrical signal generated at 210 is transmitted to the controller through the first region 210 and the wire W to recognize the coordinates corresponding to the position where the touch is performed.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법에 의해 형성된 제1 터치 패드(200)는 제1 기판(100) 전체에 걸쳐서 형성되어 있으나, 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법에 의해 형성된 제1 터치 패드는 제1 기판의 일부분에만 형성되어 있을 수 있다.Meanwhile, although the first touch pad 200 formed by the method of manufacturing the touch panel according to the first embodiment of the present invention is formed over the entire first substrate 100, the touch panel according to another embodiment of the present invention. The first touch pad formed by the manufacturing method may be formed only on a portion of the first substrate.

다음, 제2 기판(300) 상에 제2 도전층을 형성한다(S300).Next, a second conductive layer is formed on the second substrate 300 (S300).

구체적으로, 제1 기판(100) 실질적으로 동일한 재료로 이루어지는 제2 기판(300) 상에 제2 도전층을 형성하는데, 제2 도전층은 상술한 제1 도전층(201)과 실질적으로 동일한 방법으로 형성할 수 있다. Specifically, a second conductive layer is formed on the second substrate 300 made of substantially the same material as the first substrate 100, the second conductive layer being substantially the same as the first conductive layer 201 described above. It can be formed as.

다음, 도 5에 도시된 바와 같이, 제2 도전층을 패터닝하여 제2 터치 패드(400)를 형성한다(S400).Next, as shown in FIG. 5, the second conductive layer is patterned to form a second touch pad 400 (S400).

구체적으로, 레이저(L)를 조사하는 레이저 유닛(30) 및 마스크(20)를 이용해 제2 도전층에 레이저(L)를 직접 조사하여 제2 도전층을 패터닝함으로써, 제3 저항을 가지는 제3 영역(410) 및 제3 영역(410)과 이웃하며 제3 저항 대비 더 높은 제4 저항을 가지는 제4 영역(420)을 포함하는 제2 터치 패드(400)를 형성한다. 이때, 마스크(20)가 제4 영역(420)에 대응하여 제4 영역(420)에만 레이저(L)를 투과시킴으로써, 레이저(L)는 제4 영역(420) 조사된다. 제4 영역(420) 조사된 레이저(L)는 제4 영역(420)에 대응하는 제2 도전층의 내부에 위치하는 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상의 배열을 변화시킨다. 상세하게, 레이저(L)에 의해 제2 도전층의 제4 영역(420)에 대응하여 위치하는 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상이 부분적 또는 전체적으로 제거됨으로써, 제2 도전층의 제4 영역(420)이 제3 영역(410)의 제3 저항 대비 더 높은 제4 저항을 가지게 된다. 이러한 제4 영역(420)의 제4 저항은 제3 저항 대비 대략 10배 정도 높은 면저항을 가질 수 있다. 이와 같이, 제4 영역(420)에 레이저(L)가 직접 조사되어 제4 영역(420)은 제3 영역(410) 대비 요철(凹凸) 형태의 표면을 가질 수 있으며, 제3 영역(410)의 요(凹) 형태의 표면에 대응하는 제2 기판(300)의 일부는 노출될 수 있다. 또한, 제4 영역(420) 및 제3 영역(410)은 제2 도전층으로부터 패터닝되어 형성된 영역이므로, 동일한 층에 위치한다. 제3 영역(410)은 제1 방향과 교차하는 제2 방향을 따라 스트라이프 패턴(stripe pattern)으로 연장되어 위치하는 복수의 제2 서브 영역(411)을 포함한다.Specifically, by irradiating the laser (L) directly to the second conductive layer using the laser unit 30 and the mask 20 for irradiating the laser (L) by patterning the second conductive layer, a third having a third resistance The second touch pad 400 is formed to include the fourth region 420 adjacent to the region 410 and the third region 410 and having a fourth resistance higher than the third resistance. In this case, the mask 20 transmits the laser L only to the fourth region 420 corresponding to the fourth region 420, so that the laser L is irradiated to the fourth region 420. The laser L irradiated to the fourth region 420 changes the arrangement of at least one of carbon nanotubes and graphene positioned inside the second conductive layer corresponding to the fourth region 420. In detail, at least one of carbon nanotubes and graphene positioned corresponding to the fourth region 420 of the second conductive layer by the laser L is partially or wholly removed, whereby the fourth region of the second conductive layer ( The 420 may have a fourth resistance higher than the third resistance of the third region 410. The fourth resistor of the fourth region 420 may have a sheet resistance about 10 times higher than that of the third resistor. As such, the laser L is directly irradiated onto the fourth region 420 so that the fourth region 420 may have a surface having an uneven shape compared to the third region 410, and the third region 410. A portion of the second substrate 300 corresponding to the surface of the yaw shape may be exposed. In addition, since the fourth region 420 and the third region 410 are patterns formed by patterning from the second conductive layer, the fourth region 420 and the third region 410 are located in the same layer. The third region 410 includes a plurality of second sub-regions 411 extending in a stripe pattern along a second direction crossing the first direction.

한편, 제2 기판(300) 상에는 제3 영역(410)과 연결되어 제2 기판(300)의 단부까지 연장된 배선(W)이 형성되는데, 이 배선(W)은 제3 영역(410)과 동일한 방법을 통해 제3 영역(410)과 함께 형성되거나, 추가적인 도전 물질의 증착에 의해 형성될 수 있다. 이 배선(W)은 제3 영역(410)과 편의상 도시하지 않은 제어부 사이를 연결한다.On the other hand, the wiring W is formed on the second substrate 300 to extend to the end of the second substrate 300 by being connected to the third region 410, and the wiring W is connected to the third region 410. The same method may be used to form the third region 410 or by deposition of an additional conductive material. The wiring W connects between the third region 410 and a controller (not shown) for convenience.

이상과 같이, 레이저(L)가 제4 영역(420)에 직접 조사됨으로써, 제3 영역(410)은 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속하는 제3 저항을 가지게 되고, 제4 영역(420)은 제3 영역(410) 대비 대략 10 정도 높은 면저항인 제4 저항을 가지게 되기 때문에, 제1 터치 패드(200)에 터치(touch)가 수행될 경우, 터치가 수행된 위치에 대응하는 제2 터치 패드(400)의 제3 영역(410)에 발생한 전기적 신호는 제3 영역(410) 및 배선(W)을 통해 제어부로 전송되어 터치가 수행된 위치에 대응하는 좌표가 인식된다.As described above, since the laser L is directly irradiated to the fourth region 420, the third region 410 has a third resistance within a range of 1 kV to 10 5 kV, and the fourth region 420 is Since a fourth resistance having a sheet resistance of about 10 higher than that of the third area 410 is provided, when a touch is performed on the first touch pad 200, the second touch pad corresponding to the touched position is performed. The electrical signal generated in the third region 410 of 400 is transmitted to the controller through the third region 410 and the wire W to recognize the coordinates corresponding to the position where the touch is performed.

다음, 제1 기판(100)과 제2 기판(300)을 합착한다(S500).Next, the first substrate 100 and the second substrate 300 are bonded to each other (S500).

구체적으로, 제1 터치 패드(200)에 제1 방향으로 연장되어 형성된 제1 영역(210)과 제2 터치 패드(400)에 제2 방향으로 연장되어 형성된 제3 영역(410)이 상호 교차하도록 제1 기판(100)과 제2 기판(300)을 합착한다.Specifically, the first region 210 extending in the first direction on the first touch pad 200 and the third region 410 extending in the second direction on the second touch pad 400 cross each other. The first substrate 100 and the second substrate 300 are bonded to each other.

이상과 같은 공정에 의해 후술할 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널이 제조된다.Through the above process, the touch panel according to the second embodiment of the present invention to be described later is manufactured.

이하, 도 6 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널을 설명한다.Hereinafter, a touch panel according to a second exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 6 to 8.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널을 나타낸 평면도이다.6 is a plan view illustrating a touch panel according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 제1 기판(100), 제1 터치 패드(200), 제2 기판(300) 및 제2 터치 패드(400)를 포함한다.As illustrated in FIG. 6, the touch panel 1000 according to the second embodiment of the present invention may include a first substrate 100, a first touch pad 200, a second substrate 300, and a second touch pad ( 400).

제1 기판(100)은 유리, 석영, 세라믹 또는 폴리머 등의 광투과성 절연 기판으로 형성되며, 플렉서블(flexible)할 수 있다.The first substrate 100 may be formed of a light transmissive insulating substrate such as glass, quartz, ceramic, or polymer, and may be flexible.

제1 터치 패드(200)는 제1 기판(100) 상에 위치하며, 제1 영역(210) 및 제1 영역(210)과 이웃하는 제2 영역(220)을 포함한다. 제1 영역(210) 및 제2 영역(220)은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함하며, 투명도가 10% 이상으로 이루어질 수 있다. 제1 영역(210)은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상이 네트워크 형태 또는 정렬된 형태로 배열됨으로써 전기 저항이 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속하는 제1 저항을 가지는 반면, 제2 영역(220)은 레이저 직접 조사 방식에 의한 레이저에 의해 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상의 일부 또는 전체가 제거되어 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상의 배열이 변형됨으로써 제1 영역(210)의 제1 저항 대비 대략 10배 정도 더 높은 면저항인 제2 저항을 가진다. 제2 영역(220)은 제1 영역(210) 대비 요철(凹凸) 형태의 표면을 가질 수 있으며, 제2 영역(220)의 요(凹) 형태의 표면에 대응하는 제1 기판(100)의 일부는 노출될 수 있다. 또한, 제2 영역(220) 및 제1 영역(210)은 동일한 층에 위치한다. 제1 영역(210)은 제1 방향으로 따라 스트라이프 패턴(stripe pattern)으로 연장되어 위치하는 복수개의 제1 서브 영역(211)을 포함한다. 제1 영역(210)은 제1 기판(100)의 단부까지 연장된 배선(W)과 연결되어 있으며, 이 배선(W)은 편의상 도시하지 않은 제어부와 연결된다.The first touch pad 200 is positioned on the first substrate 100 and includes a first region 210 and a second region 220 adjacent to the first region 210. The first region 210 and the second region 220 may include at least one of carbon nanotubes and graphene, and may have a transparency of 10% or more. The first region 210 has a first resistance in which at least one of carbon nanotubes and graphene is arranged in a network form or in an aligned form, and thus has a first resistance within a range of 1 kV to 10 5 kW, while the second region 220 ) Is a portion of one or more of the carbon nanotubes and graphene is removed by a laser by the laser direct irradiation method to modify the arrangement of one or more of the carbon nanotubes and graphene compared to the first resistance of the first region 210 It has a second resistance which is about 10 times higher sheet resistance. The second region 220 may have a concave-convex surface than the first region 210, and may have a surface of the first substrate 100 corresponding to the concave-shaped surface of the second region 220. Some may be exposed. In addition, the second region 220 and the first region 210 are located on the same layer. The first region 210 includes a plurality of first sub-regions 211 extending in a stripe pattern in a first direction. The first region 210 is connected to a wire W extending to an end of the first substrate 100, and the wire W is connected to a controller (not shown) for convenience.

제1 영역(210)은 제1 터치 패드(200)에 터치(touch)가 수행될 경우, 터치가 수행된 위치에 대응하여 정전 용량이 변화됨으로써, 전기적 신호를 발생하며, 이 전기적 신호는 제1 영역(210) 및 배선(W)을 따라 제어부로 전달된다.When the touch is performed on the first touch pad 200, the first region 210 generates an electrical signal by changing the capacitance corresponding to the position where the touch is performed, and the electrical signal is a first signal. It is transmitted to the controller along the region 210 and the wiring (W).

이하, 제1 영역(210) 및 제2 영역(220)을 관찰한 실험을 설명한다.Hereinafter, an experiment in which the first region 210 and the second region 220 are observed will be described.

도 7은 도 6에 도시된 제1 터치 패드의 제1 영역 및 제2 영역을 확대하여 나타낸 사진이다. 도 7에 나타낸 제1 터치 패드는 탄소나노튜브를 포함한다.FIG. 7 is an enlarged photograph of the first region and the second region of the first touch pad illustrated in FIG. 6. The first touch pad shown in FIG. 7 includes carbon nanotubes.

도 7에 나타난 바와 같이, 제1 터치 패드(200)의 제2 영역(220)은 레이저가 직접 조사된 영역이기 때문에, 제1 영역(210) 대비 레이저가 조사되어 요철 형태의 표면을 가지는 것을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 7, since the second region 220 of the first touch pad 200 is a region directly irradiated with a laser, the laser is irradiated with respect to the first region 210 to confirm that the surface has an uneven surface. Can be.

나아가, 이를 전자 현미경으로 관찰하였다.Furthermore, this was observed with an electron microscope.

도 8은 도 7에 나타낸 제1 영역 및 제2 영역을 전자현미경으로 관찰한 사진이다. 도 8의 (A)는 제1 영역(210)을 관찰한 사진이며, (B)는 제2 영역(220)을 관찰한 사진이다.8 is a photograph of an electron microscope of the first region and the second region illustrated in FIG. 7. FIG. 8A is a photograph observing the first region 210, and (B) is a photograph observing the second region 220.

도 8에 나타난 바와 같이, 제2 영역(220)은 레이저가 직접 조사된 영역이기 때문에, 제1 영역(210) 대비 탄소나노튜브의 배열이 다른 것을 확인하였다.As shown in FIG. 8, since the second region 220 is a region directly irradiated with a laser, the arrangement of carbon nanotubes is different from that of the first region 210.

이와 같이, 제1 영역(210)에 포함된 탄소나노튜브는 네트워크 형태로 배열되는 반면, 제2 영역(220)에 포함된 탄소나노튜브는 레이저에 의해 배열이 변형되었기 때문에, 제1 영역(210)의 제1 저항 대비 제2 영역(220)의 제2 저항이 더 높은 저항을 가진다.As described above, the carbon nanotubes included in the first region 210 are arranged in the form of a network, whereas the carbon nanotubes included in the second region 220 are deformed by the laser. The second resistance of the second region 220 has a higher resistance than the first resistance of.

제2 기판(300)은 제1 기판(100)과 대향하고, 유리, 석영, 세라믹 또는 폴리머 등의 광투과성 절연 기판으로 형성되며, 플렉서블(flexible)할 수 있다.The second substrate 300 may face the first substrate 100, be formed of a light-transmissive insulating substrate such as glass, quartz, ceramic, or polymer, and may be flexible.

제2 터치 패드(400)는 제2 기판(300) 상에 위치하며, 제3 영역(410) 및 제3 영역(410)과 이웃하는 제4 영역(420)을 포함한다. 제3 영역(410) 및 제4 영역(420)은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함하며, 투명도가 10% 이상으로 이루어질 수 있다. 제3 영역(410)은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상이 네트워크 형태 또는 정렬된 형태로 배열됨으로써 전기 저항이 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속하는 제3 저항을 가지는 반면, 제4 영역(420)은 레이저 직접 조사 방식에 의한 레이저에 의해 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상의 일부 또는 전체가 제거되어 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상의 배열이 변형됨으로써 제3 영역(410)의 제3 저항 대비 대략 10배 정도 더 높은 면저항인 제4 저항을 가진다. 제4 영역(420)은 제3 영역(410) 대비 요철(凹凸) 형태의 표면을 가질 수 있으며, 제4 영역(420)의 요(凹) 형태의 표면에 대응하는 제2 기판(300)의 일부는 노출될 수 있다. 또한, 제3 영역(410) 및 제4 영역(420)은 동일한 층에 위치한다. 제3 영역(410)은 제2 방향으로 따라 스트라이프 패턴(stripe pattern)으로 연장되어 위치하는 복수개의 제2 서브 영역(411)을 포함한다. 제3 영역(410)은 제2 기판(300)의 단부까지 연장된 배선(W)과 연결되어 있으며, 이 배선(W)은 편의상 도시하지 않은 제어부와 연결된다.The second touch pad 400 is positioned on the second substrate 300 and includes a third region 410 and a fourth region 420 neighboring the third region 410. The third region 410 and the fourth region 420 may include one or more of carbon nanotubes and graphene, and may have a transparency of 10% or more. The third region 410 has a third resistance in which at least one of the carbon nanotubes and graphene is arranged in a network form or in an aligned form, so that the electrical resistance is within a range of 1 k? To 10 5 k? ) Is a portion of one or more of the carbon nanotubes and graphene is removed by a laser by the laser direct irradiation method to modify the arrangement of one or more of the carbon nanotubes and graphene compared to the third resistance of the third region 410 It has a fourth resistance which is about 10 times higher sheet resistance. The fourth region 420 may have a concave-convex surface than the third region 410, and may have a surface of the second substrate 300 corresponding to the concave-shaped surface of the fourth region 420. Some may be exposed. In addition, the third region 410 and the fourth region 420 are located on the same layer. The third region 410 includes a plurality of second sub-regions 411 extending in a stripe pattern in a second direction. The third region 410 is connected to a wiring W extending to an end of the second substrate 300, and the wiring W is connected to a controller (not shown) for convenience.

제3 영역(410)은 제1 터치 패드(200)에 터치(touch)가 수행될 경우, 터치가 수행된 위치에 대응하여 정전 용량이 변화됨으로써, 전기적 신호를 발생하며, 이 전기적 신호는 제3 영역(410) 및 배선(W)을 따라 제어부로 전달된다.When the touch is performed on the first touch pad 200, the third region 410 generates an electrical signal by changing the capacitance corresponding to the position where the touch is performed, and the electrical signal is generated by the third region. It is transmitted to the controller along the region 410 and the wiring (W).

이와 같이 구성된 터치 패널(1000)에서, 복수의 제1 서브 영역(211)과 복수의 제2 서브 영역(411)에 제어부로부터 순차적으로 전압이 인가되어 제1 서브 영역(211) 및 제2 서브 영역(411) 각각에 전하가 충진될 때, 제1 터치 패드(200)에 터치가 수행되면, 터치가 수행된 위치에 대응하는 제1 서브 영역(211) 또는 제2 서브 영역(411)의 정전 용량이 변화되어 어느 위치에 터치가 수행 되었는지를 알 수 있다.In the touch panel 1000 configured as described above, voltages are sequentially applied from the control unit to the plurality of first sub-areas 211 and the plurality of second sub-areas 411 so that the first sub-area 211 and the second sub-area are provided. When a charge is performed on each of the first touch pads 200 when the charges are filled in each of the respective ones 411, the capacitance of the first sub-region 211 or the second sub-region 411 corresponding to the position where the touch is performed is performed. This changes to know where the touch was performed.

이상과 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 터치 패널의 제조 방법에 의해 제조된 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널(1000)은 제1 터치 패드(200) 및 제2 터치 패드(400) 각각이 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함하는 도전성 투명 박막으로 형성됨으로써, ITO처럼 습식 에칭을 사용하지 않고 패터닝이 가능하기 때문에, 제조 시간 및 제조 비용이 절감된다.As described above, the touch panel 1000 according to the second embodiment of the present invention manufactured by the method for manufacturing the touch panel according to the first embodiment of the present invention may include the first touch pad 200 and the second touch pad ( 400) Since each is formed of a conductive transparent thin film including at least one of carbon nanotubes and graphene, patterning is possible without using wet etching like ITO, thereby reducing manufacturing time and manufacturing cost.

또한, 제1 터치 패드(200) 및 제2 터치 패드(400) 각각은 고열의 박막 증착 방식이 아닌 진공 여과법(vacuum filtration), 스프레이 코팅법(spray coating), 인크젯(inkjet) 또는 롤투롤(roll to roll) 등의 다양한 저온 환경에서 형성되기 때문에, 제1 기판(100) 및 제2 기판(300) 각각이 폴리머로 구성되어 고온에 열화되는 플렉서블한 기판이더라도 용이하게 제1 기판(100) 및 제2 기판(300) 각각에 제1 터치 패드(200) 및 제2 터치 패드(400) 각각을 형성할 수 있다.In addition, each of the first touch pad 200 and the second touch pad 400 may be vacuum filtration, spray coating, inkjet, or roll-to-roll, rather than high-temperature thin film deposition. Since it is formed in various low temperature environments such as a roll to roll, the first substrate 100 and the second substrate 300 are each made of a polymer and thus are flexible substrates deteriorated at a high temperature. Each of the first touch pad 200 and the second touch pad 400 may be formed on each of the second substrates 300.

또한, 대표적으로 제1 터치 패드(200)의 제1 영역(210)에 포함된 탄소나노튜브 및 그래핀의 양 또는 배열 형태를 미세하게 조절하고, 레이저를 이용해 제2 영역(220)에 포함된 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 변형시키는 정도를 미세하게 조절할 경우, 제1 터치 패드(200) 자체의 광 투과도와 전도성을 미세하게 제어할 수 있다. 이는 제1 터치 패드(200)가 대면적으로 형성되더라도 터치에 대응되는 전기적 신호의 지연을 방지할 수 있는 요인으로서 작용될 수 있다.In addition, the amount or arrangement of carbon nanotubes and graphene included in the first region 210 of the first touch pad 200 is finely adjusted, and is included in the second region 220 using a laser. When finely adjusting the degree of deformation of one or more of the carbon nanotubes and graphene, it is possible to finely control the light transmittance and conductivity of the first touch pad 200 itself. This may act as a factor that can prevent a delay of an electrical signal corresponding to the touch even if the first touch pad 200 is formed in a large area.

이하, 도 9를 참조하여 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시 장치를 설명한다. 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시 장치에는 상술한 본 발명의 제2 실시예에 따른 터치 패널(1000)이 포함된다.Hereinafter, a display device according to a third exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 9. The display device according to the third embodiment of the present invention includes the touch panel 1000 according to the second embodiment of the present invention described above.

도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시 장치를 나타낸 분해 사시도이다.9 is an exploded perspective view illustrating a display device according to a third exemplary embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에 따른 표시 장치는 표시 유닛(2000) 및 터치 패널(1000)을 포함한다.As shown in FIG. 9, the display device according to the third embodiment of the present invention includes a display unit 2000 and a touch panel 1000.

표시 유닛(2000)은 이미지(image)를 표시하며, 유기 발광 표시 장치(organic light emitting diode display), 액정 표시 장치(liquid crystal display device, LCD), 전계 방출 디스플레이(field emission display), 플라즈마 표시 패널(plasma display panel, PDP) 등의 표시 장치일 수 있다.The display unit 2000 displays an image, and includes an organic light emitting diode display, a liquid crystal display device (LCD), a field emission display, and a plasma display panel. It may be a display device such as a plasma display panel (PDP).

터치 패널(1000)은 표시 유닛(2000) 상에 위치하며, 상술한 구성들을 포함함으로써 터치 패널(1000)에 대한 터치를 인식한다.The touch panel 1000 is positioned on the display unit 2000 and includes the above-described components to recognize a touch on the touch panel 1000.

본 발명을 앞서 기재한 바에 따라 바람직한 실시예를 통해 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 한, 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 본 발명이 속하는 기술 분야에 종사하는 자들은 쉽게 이해할 것이다.While the invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments thereof, it will be understood by those skilled in the art that various changes and modifications may be made therein without departing from the spirit and scope of the following claims. Those who are engaged in the technology field will understand easily.

제1 기판(100), 제1 영역(210), 제2 영역(220), 제1 터치 패드(200)First substrate 100, first region 210, second region 220, first touch pad 200

Claims (18)

제1 기판; 및
상기 제1 기판 상에 위치하며, 제1 저항을 가지는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 이웃하며 상기 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지는 제2 영역을 포함하는 제1 터치 패드
를 포함하며,
상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함하는 터치 패널.A first substrate; And
A first touch pad on the first substrate, the first touch pad including a first region having a first resistance and a second region adjacent to the first region and having a second resistance higher than the first resistance
Including;
Each of the first region and the second region includes at least one of carbon nanotubes and graphene. 삭제delete 제1항에서,
상기 제2 영역에 포함된 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상은 상기 제1 영역에 포함된 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상 대비 배열이 다른 터치 패널.In claim 1,
At least one of the carbon nanotubes and graphene included in the second region is different from the arrangement of at least one of the carbon nanotubes and graphene included in the first region. 제3항에서,
상기 제2 영역에 포함된 상기 탄소나노튜브 및 상기 그래핀 중 하나 이상은 레이저에 의해 배열이 변화된 터치 패널.4. The method of claim 3,
One or more of the carbon nanotubes and the graphene included in the second region are changed in arrangement by a laser. 제1항에서,
상기 제2 영역은 상기 제1 영역 대비 요철 형상의 표면을 가지는 터치 패널.In claim 1,
The second region has a surface having an uneven shape compared to the first region. 제1항에서,
상기 제2 영역에 대응하는 상기 제1 기판의 일부는 일부가 노출되는 터치 패널.In claim 1,
A portion of the first substrate corresponding to the second region is partially exposed. 제1항에서,
상기 제1 영역과 상기 제2 영역은 동일한 층에 위치하는 터치 패널.In claim 1,
The first region and the second region are on the same layer. 청구항 8은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 8 was abandoned when the registration fee was paid. 제1항에서,
상기 제1 터치 패드는 10% 이상의 투명도를 가지는 터치 패널.In claim 1,
The first touch pad has a transparency of 10% or more. 청구항 9은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 9 has been abandoned due to the setting registration fee. 제1항에서,
상기 제1 영역의 상기 제1 저항은 1Ω 내지 105Ω의 범위 내에 속하는 터치 패널.In claim 1,
The first resistance of the first region is in the range of 1 kW to 10 5 kW. 청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 10 has been abandoned due to the setting registration fee. 제1항에서,
상기 제1 기판은 플랙서블(flexible)한 터치 패널. In claim 1,
The first substrate is a flexible touch panel. 제1항에서,
상기 제1 영역은 상기 제1 기판 상에서 제1 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제1 서브 영역을 포함하며,
상기 제1 기판과 대향하는 제2 기판; 및
상기 제2 기판 상에 위치하며, 제3 저항을 가지며 상기 제2 기판 상에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제2 서브 영역을 포함하는 제3 영역 및 상기 제3 영역과 이웃하며 상기 제3 저항 대비 더 높은 제4 저항을 가지는 제4 영역을 포함하는 제2 터치 패드
를 더 포함하는 터치 패널.In claim 1,
The first region includes a plurality of first sub-regions extending in a first direction on the first substrate.
A second substrate facing the first substrate; And
A third region and a third region on the second substrate, the third region including a plurality of second sub-regions having a third resistance and extending in a second direction crossing the first direction on the second substrate; A second touch pad adjacent to an area and including a fourth area having a fourth resistance higher than the third resistance
Touch panel further comprising. 이미지(image)를 표시하는 표시 유닛; 및
상기 표시 유닛 상에 위치하는 제1항 또는 제3항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따른 터치 패널
을 포함하는 표시 장치.A display unit for displaying an image; And
The touch panel according to any one of claims 1 or 3 to 11, positioned on the display unit.
. 제1 기판 상에 제1 도전층을 형성하는 단계; 및
상기 제1 도전층을 패터닝하여, 제1 저항을 가지는 제1 영역 및 상기 제1 영역과 이웃하며 상기 제1 저항 대비 더 높은 제2 저항을 가지는 제2 영역을 포함하는 제1 터치 패드를 형성하는 단계
를 포함하며,
상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 각각은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함하는 터치 패널의 제조 방법.Forming a first conductive layer on the first substrate; And
Patterning the first conductive layer to form a first touch pad including a first region having a first resistance and a second region adjacent to the first region and having a second resistance higher than the first resistance step
Including;
And each of the first region and the second region comprises at least one of carbon nanotubes and graphene. 제13항에서,
상기 제1 도전층은 탄소나노튜브 및 그래핀 중 하나 이상을 포함하는 터치 패널의 제조 방법.In claim 13,
The first conductive layer is a method of manufacturing a touch panel including at least one of carbon nanotubes and graphene. 제13항에서,
상기 제1 도전층을 패터닝하는 단계는 상기 제2 영역에 레이저를 조사하여 수행하는 터치 패널의 제조 방법.In claim 13,
The patterning of the first conductive layer is performed by irradiating a laser to the second region. 제15항에서,
상기 레이저는 펄스레이저인 터치 패널의 제조 방법.16. The method of claim 15,
And said laser is a pulsed laser. 제15항에서,
상기 제1 도전층을 패터닝하는 단계는 상기 제2 영역에 대응하여 상기 레이저를 투과시키는 마스크를 이용하여 수행하는 터치 패널의 제조 방법.16. The method of claim 15,
The patterning of the first conductive layer is performed using a mask that transmits the laser corresponding to the second region. 제13항 내지 제17항 중 어느 한 항에서,
상기 제1 도전층을 패터닝하는 단계는 상기 제1 영역이 상기 제1 기판 상에서 제1 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제1 서브 영역을 포함하도록 수행하며,
제2 기판 상에 제2 도전층을 형성하는 단계;
상기 제2 도전층을 패터닝하여, 제3 저항을 가지며 상기 제2 기판 상에서 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장되어 위치하는 복수의 제2 서브 영역을 포함하는 제3 영역 및 상기 제3 영역과 이웃하며 상기 제3 저항 대비 더 높은 제4 저항을 가지는 제4 영역을 포함하는 제2 터치 패드를 형성하는 단계; 및
상기 제1 기판과 상기 제2 기판을 합착하는 단계
를 포함하는 터치 패널의 제조 방법.The method according to any one of claims 13 to 17,
The patterning of the first conductive layer is performed such that the first region includes a plurality of first sub-regions extending in a first direction on the first substrate.
Forming a second conductive layer on the second substrate;
A third region and a third region including a plurality of second sub-regions having a third resistance and extending in a second direction crossing the first direction on the second substrate by patterning the second conductive layer Forming a second touch pad that is adjacent to an area and includes a fourth area having a fourth resistance higher than the third resistance; And
Bonding the first substrate and the second substrate to each other;
The method comprising the steps of:
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KR20080031725A (en) * 2008-01-04 2008-04-10 한국기계연구원 Method for manufacturing transparent electrode and transparent electrode manufactured thereby
KR20110024742A (en) * 2009-09-03 2011-03-09 삼성전자주식회사 Touch panel and touch input/output apparatus having the same

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