KR101290606B1 - Stimulating Apparatus for Curing Skin Tissue - Google Patents

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Abstract

본 발명은 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치에 관한 것이고, 구체적으로 고주파 또는 전류를 피부 표면 또는 피부 내부로 전송하여 자극을 통하여 피부 재생 또는 치료가 가능하도록 하는 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치에 관한 것이다. 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치는 고주파 또는 전기 전도에 의하여 피부 조직에 자극을 전달하는 접촉 전극(11), 접촉 전극(11)에 접촉하여 열을 흡수할 수 있는 열 흡수 부재(12a), 열 흡수 부재(12a)에 압력을 가하여 접촉 전극(11)의 방향으로 이동시킬 수 있는 가압 부재(12b), 가압 부재(12b)를 이동시킬 수 있도록 설치된 충격 장치(14), 가압 부재(12b)와 연결된 냉각 몸체(15), 냉각 몸체(15)에 설치된 냉각 소자(151a, 151b) 및 냉각 소자(151a, 151b)를 냉각시키기 위한 유체를 이송시키는 유체 이송 도관(152)을 포함한다.The present invention relates to a stimulation device for the treatment of skin tissue, and more particularly to a stimulation device for the treatment of skin tissue to transmit high frequency or current to the skin surface or inside the skin to enable skin regeneration or treatment through stimulation. will be. The stimulation device for the treatment of skin tissue includes a contact electrode 11 which transmits a stimulus to the skin tissue by high frequency or electric conduction, a heat absorbing member 12a capable of absorbing heat by contacting the contact electrode 11, heat A pressurizing member 12b capable of applying pressure to the absorbing member 12a to move in the direction of the contact electrode 11, an impact device 14 provided to move the pressing member 12b, and a pressing member 12b; A connected cooling body 15, cooling elements 151a and 151b installed in the cooling body 15 and a fluid transfer conduit 152 for transferring fluid for cooling the cooling elements 151a and 151b.

Description

피부 조직의 치료를 위한 자극 장치{Stimulating Apparatus for Curing Skin Tissue} Stimulating Apparatus for Curing Skin Tissue

본 발명은 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치에 관한 것이고, 구체적으로 고주파 또는 전류를 피부 표면 또는 피부 내부로 전송하여 자극을 통하여 피부 재생 또는 치료가 가능하도록 하는 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a stimulation device for the treatment of skin tissue, and more particularly to a stimulation device for the treatment of skin tissue to transmit high frequency or current to the skin surface or inside the skin to enable skin regeneration or treatment through stimulation. will be.

생체의 외부를 덮어 몸을 보호하고 체온 또는 수분 증발을 조절하여 지각과 피부호흡과 같은 작용을 하는 피부는 일반적으로 표피, 진피 및 피하조직으로 이루어지고 피하 조직의 아래쪽에 근육층이 존재한다. 손 또는 발바닥의 경우 0.4 내지 0.6 mm가 되는 것을 제외하고 표피는 0.075~0.15 mm의 두께가 되고, 결합 조직(connective tissue)으로 표피층 아래에 위치하는 진피는 표피의 30 내지 40배가 되는 등을 제외하면 2 내지 4 mm의 두께가 되고 그리고 지방 조직과 결합 조직으로 구성된 피하 조직은 지방 조직으로 인하여 사람에 따라 다양한 두께가 가지게 된다. 인체에서 피부의 평균적인 두께는 약 2mm가 되고 피하조직을 제외하면 약 1.4 mm가 된다. Skin, which covers the outside of the living body and protects the body and regulates body temperature or water evaporation, acts like perception and skin respiration, and is generally composed of epidermis, dermis and subcutaneous tissue, and a muscle layer exists under the subcutaneous tissue. Except for 0.4 to 0.6 mm, the epidermis is 0.075 to 0.15 mm thick for the hands or soles, and the dermis, which is located below the epidermal layer as connective tissue, is 30 to 40 times as large as the epidermis. Subcutaneous tissue, which is 2 to 4 mm thick and composed of adipose tissue and connective tissue, has varying thickness depending on the person due to the adipose tissue. The average thickness of the skin in the human body is about 2 mm and about 1.4 mm except for subcutaneous tissue.

인체의 피부는 표피와 진피로 나누어질 수 있고 진피는 아교질 섬유에 해당하는 콜라겐섬유와 탄력섬유에 해당하는 엘라스틴섬유로 이루어진다. 콜라겐과 엘라스틴 섬유는 진피층 내에 있는 중요 기관들을 보호하면서 피부가 건강하고 탄력을 유지할 수 있도록 만들어준다. 그러나 나이가 들면서 여러 가지 원인으로 인하여 진피를 구성하는 콜라겐과 엘라스틴이 산화 또는 변성이 되면 피부가 탄력을 잃게 되어 피부 노화가 진행될 수 있다. The skin of the human body can be divided into epidermis and dermis, and the dermis is composed of collagen fibers corresponding to gelatin fibers and elastin fibers corresponding to elastic fibers. Collagen and elastin fibers help keep skin healthy and elastic while protecting important organs in the dermis. However, due to various reasons as the age of the collagen and elastin constituting the dermis oxidized or denatured skin loses its elasticity may progress the skin aging.

다른 한편으로 피부 손상이 발생되면 피부 조직을 이루는 세포가 재생이 될 필요가 있고 피부 재생의 과정에서 콜라겐의 수축이 발생하여 증식되는 모세포의 탄력성이 재생될 수 있도록 한다. 콜라겐 또는 콜라겐 매트릭스는 특정 온도에서 수축 및 재형성이 되고 이와 같은 현상은 피부 치료, 상처 치유의 보조 또는 주름 제거와 치료를 위하여 열에너지를 피부 내부의 일정 부위로 전달하는 치료에 이용되고 있다. 피부 내로 열에너지를 전달하기 위한 치료 기술로 고주파(radio frequency), 적외선 또는 초음파를 일정 부위로 조사시키는 방법이 알려져 있다. On the other hand, when skin damage occurs, the cells constituting the skin tissue need to be regenerated, and collagen contraction occurs in the process of skin regeneration, so that the elasticity of the proliferating parent cells can be regenerated. Collagen or collagen matrix is contracted and remodeled at a certain temperature and this phenomenon is used for the treatment of delivering heat energy to a certain area inside the skin for skin treatment, wound healing aid or wrinkle removal and treatment. As a treatment technology for transferring heat energy into the skin, a method of irradiating radio frequency, infrared rays or ultrasonic waves to a predetermined portion is known.

피부 조직의 치료를 위한 장치에 관한 선행기술로 특허공개번호 제2004-0093706호 ‘조직의 RF 치료용 핸드피스’가 있다. 상기 선행기술은 핸드피스 하우징, 핸드피스 하우징에 제거 가능하게 연결되도록 구성된 전극 조립체 및 전극 조립체에 기계적으로 연결된 유체 전달 부재로 이루어진 고주파 치료용 핸드피스에 관련되고 전극 조립체가 고주파 에너지에 의해 피부 표면의 하부조직을 비침투식으로 치료하기 위해 고주파 에너지를 조직과 전기 용량적으로 연결되도록 하고 전극 조립체와 기계적으로 연결되도록 구성되며 유체 전달 부재를 제어하기 위한 듀티 사이클, 전극 조립체가 피부 표면에 대해 이동되는 횟수 또는 전극 조립체에 의해 치료되는 영역의 수 중 하나 이상을 저장하도록 구성된 비휘발성 메모리를 포함하는 핸드피스 장치에 대하여 개시하고 있다. A prior art related to a device for the treatment of skin tissue is Patent Publication No. 2004-0093706 'Tissue for RF treatment handpiece'. The prior art relates to a radiofrequency therapeutic handpiece consisting of a handpiece housing, an electrode assembly configured to be removably connected to the handpiece housing, and a fluid transfer member mechanically connected to the electrode assembly, wherein the electrode assembly is adapted to the surface of the skin by radiofrequency energy. Configured to allow high frequency energy to be capacitively coupled to the tissue and mechanically coupled to the electrode assembly for noninvasive treatment of the underlying tissue, duty cycles for controlling the fluid delivery member, and the number of times the electrode assembly is moved relative to the skin surface Or a non-volatile memory configured to store one or more of the number of areas treated by an electrode assembly.

피부 조직의 치료와 관련된 다른 선행 기술로 특허공개번호 제2011-0080872호 ‘고주파 치료 장치’가 있다. 상기 선행기술은 내부에 고주파발생회로를 구비하여 고주파 전류를 발생시키고 고주파 전류의 출력을 위한 양극출력단자와 음극출력단자가 구비되는 본체, 본체의 양극출력단자와 케이블을 통해 연결되며 피부에 접촉하는 핸드피스, 본체의 양극출력단자와 케이블을 통해 연결되며 피부에 접촉하는 전극판을 포함하는 고주파 치료 장치에 대하여 개시하고 있다. 상기 선행기술에 개시된 장치를 참조하면, 핸드피스는 내부 회로를 보호하는 하우징, 신체의 치료부위에 접촉되어 고주파 전류를 인가하는 것으로 일단은 하우징 내부에 수용 고정되고 또 다른 일단은 하우징 외부로 노출되도록 설치되는 전극, 주파 전류가 신체의 치료부위에 부분적으로 집중 전달되도록 구성된 캡, 하우징 내측에 수용된 전극의 일단에 인접 설치되어 열전 냉각 작용을 통해 전극의 온도를 저온상태로 만들어주는 펠티어 소자 및 펠티어 소자의 열전 냉각 작용시 고온부를 냉각시켜주는 냉각수단으로 이루어진다. Another prior art related to the treatment of skin tissue is Patent Publication No. 2011-0080872, 'High frequency treatment device'. The prior art is provided with a high frequency generating circuit therein to generate a high frequency current and the body is provided with a positive output terminal and a negative output terminal for the output of the high frequency current, the positive output terminal of the main body is connected via a cable and the hand is in contact with the skin Disclosed is a high frequency treatment apparatus including an electrode plate connected to a piece, an anode output terminal of a main body, and in contact with a skin. Referring to the device disclosed in the prior art, the handpiece is applied to the housing to protect the internal circuit, the treatment portion of the body to apply a high frequency current so that one end is fixed inside the housing and the other end is exposed outside the housing. Electrodes to be installed, a cap configured to partially transfer the frequency current to the treatment area of the body, Peltier device and Peltier device is installed adjacent to one end of the electrode accommodated inside the housing to make the temperature of the electrode low temperature through the thermoelectric cooling action It consists of a cooling means for cooling the high temperature part during the thermoelectric cooling action.

제시된 선행기술은 고주파를 인체 내부로 주입시켜 피부에 자극을 주어 치료를 하면서 제어하는 것을 특징으로 한다. 이러한 과정에서 과도한 열의 전달로 인한 손상을 방지하기 위하여 온도 감지 및 냉각이 이루어진다. 그러나 온도 감지에 따른 제어는 열 손상에 대한 완전한 대책이 되지 못한다는 단점을 가진다. The proposed prior art is characterized in that the high frequency is injected into the human body to stimulate and irritate the skin while controlling. In this process, temperature sensing and cooling are performed to prevent damage due to excessive heat transfer. However, the control of temperature sensing has the disadvantage that it is not a complete countermeasure against heat damage.

본 발명은 선행기술이 가진 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로 아래와 같은 목적을 가진다. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems of the prior art and has the following objectives.

본 발명의 목적은 자극 분산성이 높고 과열 방지를 위한 냉각이 효율적으로 이루어질 수 있는 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치를 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a stimulation device for the treatment of skin tissue with high stimulus dispersibility and efficient cooling to prevent overheating.

본 발명의 적절한 실시 형태에 따르면, 피부 조직의 치료를 위한 자극 장치는 고주파 또는 전기 전도에 의하여 피부 조직에 자극을 전달하는 접촉 전극, 접촉 전극에 접촉하여 열을 흡수할 수 있는 열 흡수 부재, 열 흡수 부재에 압력을 가하여 접촉 전극의 방향으로 이동시킬 수 있는 가압 부재, 가압 부재를 이동시킬 수 있도록 설치된 충격 장치, 가압 부재와 연결된 냉각 몸체, 냉각 몸체에 설치된 냉각 소자 및 냉각 소자를 냉각시키기 위한 유체를 이송시키는 유체 이송 도관을 포함한다. According to a preferred embodiment of the present invention, the stimulation device for the treatment of skin tissue includes a contact electrode for transmitting stimulation to the skin tissue by high frequency or electrical conduction, a heat absorbing member capable of absorbing heat in contact with the contact electrode, heat A pressurizing member capable of moving the absorbing member in the direction of the contact electrode by applying pressure to the absorbing member, an impact device provided to move the pressing member, a cooling body connected to the pressing member, a cooling element installed on the cooling body, and a fluid for cooling the cooling element. It includes a fluid transfer conduit for conveying.

본 발명의 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 충격 장치는 구동 수단에 의하여 전진 또는 후진이 된다. According to another suitable embodiment of the present invention, the impact device is advanced or reversed by the drive means.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 냉각 소자는 펠티에 소자가 된다. According to another suitable embodiment of the present invention, the cooling element is a Peltier element.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 유체 이송 도관은 냉각수 이동 도관이 된다. According to another suitable embodiment of the present invention, the fluid transfer conduit is a coolant movement conduit.

본 발명의 또 다른 적절한 실시 형태에 따르면, 접촉 전극은 유전 전극과 도체 전극으로 이루어지고 도체 전극은 분산 구조를 가지거나 또는 유전 전극과 비대칭 구조로 형성이 된다. According to another suitable embodiment of the invention, the contact electrode consists of a dielectric electrode and a conductor electrode and the conductor electrode has a dispersion structure or is formed of an asymmetric structure with the dielectric electrode.

본 발명에 따른 자극 장치는 고주파 또는 전기 자극의 과도한 집중이 방지될 수 있도록 하면서 필요시 냉각이 효율적으로 이루어지도록 한다는 이점을 가진다. 또한 본 발명에 따른 자극 장치는 치료 과정에서 불필요한 자극이 발생하는 것이 방지될 수 있도록 한다는 장점을 가진다. The stimulation device according to the invention has the advantage that cooling can be done efficiently when necessary while allowing excessive concentration of high frequency or electrical stimulation to be avoided. In addition, the stimulation device according to the present invention has the advantage that it is possible to prevent the occurrence of unnecessary stimulation during the treatment process.

도 1은 본 발명에 따른 자극 장치의 실시 예에 대한 개략적인 구조를 도시한 것이다.
도 2a는 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 냉각 구조의 실시 예를 도시한 것이다.
도 2b는 본 발명에 따른 접촉 전극의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3a는 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 접촉 전극의 실시 예를 도시한 것이다.
도 3b는 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 접촉 전극의 다른 실시 예를 도시한 것이다.
도 4는 본 발명에 자극 장치가 제어 장치에 설치된 실시 예를 도시한 것이다. 1 shows a schematic structure of an embodiment of a stimulation device according to the present invention.
Figure 2a shows an embodiment of a cooling structure that can be applied to the stimulation device according to the present invention.
2B illustrates an embodiment of a contact electrode according to the present invention.
Figure 3a shows an embodiment of a contact electrode that can be applied to the stimulation device according to the present invention.
Figure 3b shows another embodiment of the contact electrode that can be applied to the stimulation device according to the present invention.
Figure 4 illustrates an embodiment in which the stimulation device is installed in the control device in the present invention.

아래에서 본 발명은 첨부된 도면에 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되지만 실시 예는 본 발명의 명확한 이해를 위한 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the embodiments shown in the accompanying drawings, but the present invention is not limited thereto.

도 1은 본 발명에 따른 자극 장치의 실시 예에 대한 개략적인 구조를 도시한 것이다.1 shows a schematic structure of an embodiment of a stimulation device according to the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 자극 장치는 고주파 또는 전기 전도에 의하여 피부 조직에 자극을 전달하는 접촉 전극(11), 접촉 전극(11)에 접촉하여 열을 흡수할 수 있는 열 흡수 부재(12a), 열 흡수 부재(12a)에 압력을 가하여 접촉 전극(11)의 방향으로 이동시킬 수 있는 가압 부재(12b), 가압 부재(12b)를 이동시킬 수 있도록 설치된 충격 장치(14), 가압 부재(12b)와 연결된 냉각 몸체(15), 냉각 몸체(15)에 설치된 냉각 소자(151a, 151b) 및 냉각 소자(151a, 151b)를 냉각시키기 위한 유체를 이송시키는 유체 이송 도관(152)을 포함한다. Referring to FIG. 1, a stimulation device according to the present invention includes a contact electrode 11 which transmits a stimulus to skin tissue by high frequency or electric conduction, and a heat absorbing member that may absorb heat by contacting the contact electrode 11. 12a), the pressurizing member 12b which can apply the pressure to the heat absorbing member 12a, and can move it in the direction of the contact electrode 11, the impact apparatus 14 provided so that the pressurizing member 12b can be moved, and the pressurizing member A cooling body 15 connected with 12b, cooling elements 151a and 151b installed in the cooling body 15, and a fluid transfer conduit 152 for transferring fluid for cooling the cooling elements 151a and 151b. .

본 발명에 따른 자극 장치는 RF(Radio Frequency) 고주파, 초음파, 적외선 또는 레이저와 같이 인체 내부로 전자기파 또는 음파를 전송하여 일정 깊이에서 열에너지를 발생시키는 장치를 말한다. 열에너지의 발생은 상처 치유, 주름 제거 또는 피부 세포 활동의 활성화와 같이 치료 또는 피부 미용을 위한 것이 될 수 있다. 자극 장치는 다양한 방법으로 피부 조직에 에너지를 전달하여 열을 발생시킬 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다. The stimulation device according to the present invention refers to a device for generating thermal energy at a predetermined depth by transmitting electromagnetic waves or sound waves inside the human body, such as RF (Radio Frequency) high frequency, ultrasonic wave, infrared ray, or laser. The generation of thermal energy can be for treatment or skin aesthetics such as wound healing, wrinkle removal or activation of skin cell activity. The stimulation device can generate heat by delivering energy to skin tissue in a variety of ways and the invention is not limited to the embodiments shown.

접촉 전극(11)은 피부에 접촉하여 열에너지를 전달하는 기능을 가진다. 접촉 전극(11)은 아래에서 설명을 하는 것처럼 박막 구조로 될 수 있고 전도체 부분과 절연체 부분으로 이루어질 수 있다. 예를 들어 RF 고주파가 접촉 전극(11)에 인가되면 전도체 부분과 절연체 부분을 통하여 열에너지가 인체 내부로 전달될 수 있다. 다른 한편으로 접촉 전극(11)은 예를 들어 초음파를 전달할 수 있는 프로브 구조를 가질 수 있다. 이와 같이 접촉 전극(11)은 피부 조직 내 일정 깊이에 에너지를 전달하여 열을 발생시킬 수 있는 다양한 구조를 가질 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다. The contact electrode 11 has a function of transferring thermal energy in contact with the skin. The contact electrode 11 may be a thin film structure as described below and may be formed of a conductor portion and an insulator portion. For example, when RF high frequency is applied to the contact electrode 11, thermal energy may be transferred into the human body through the conductor portion and the insulator portion. On the other hand, the contact electrode 11 may have a probe structure capable of transmitting ultrasonic waves, for example. As such, the contact electrode 11 may have various structures capable of generating heat by transferring energy to a predetermined depth in the skin tissue, and the present invention is not limited to the present embodiment.

열 흡수 부재(12a)는 예를 들어 열전도율이 높은 금속 소재로 만들어질 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 열 흡수 부재(12a)는 접촉 전극(11)을 향하는 방향으로 또는 반대 방향으로 이동될 수 있다. 열 흡수 부재(12a)는 접촉 전극(11)에 접촉하여 접촉 전극(11) 또는 피부에서 발생하는 과도한 열을 감소시킬 수 있다. 열 흡수 부재(12a)는 가압 부재(12b)와 분리되고 가압 부재(12b)가 접촉 전극(11) 방향으로 이동하면서 충격을 가함에 따라 접촉 전극(11과 접촉하여 열을 흡수할 수 있다. The heat absorbing member 12a may be made of, for example, a metal material having high thermal conductivity, but is not limited thereto. The heat absorbing member 12a may be moved in the direction toward the contact electrode 11 or in the opposite direction. The heat absorbing member 12a may contact the contact electrode 11 to reduce excessive heat generated by the contact electrode 11 or the skin. The heat absorbing member 12a may be separated from the pressing member 12b and the heat absorbing member 12b may be in contact with the contact electrode 11 to absorb heat as the pressing member 12b moves toward the contact electrode 11.

가압 부재(12b)는 냉각 몸체(15)와 연결될 수 있고 필요에 따라 냉각 몸체(15)와 일체로 만들어질 수 있다. 구체적으로 가압 부재(12b)는 냉각 몸체(15)의 앞쪽에 결합되어 열 흡수 부재(12a)로부터 전달되는 열을 냉각 몸체(15)로 전달할 수 있다. The pressing member 12b may be connected to the cooling body 15 and may be made integral with the cooling body 15 as necessary. Specifically, the pressing member 12b may be coupled to the front of the cooling body 15 to transfer heat transferred from the heat absorbing member 12a to the cooling body 15.

냉각 몸체(15)는 열전도율이 높은 금속 소재로 만들어질 수 있고 내부에 냉각 소자(151a, 151b)가 설치될 수 있다. 냉각 소자(151a, 151b)는 열전소자가 될 수 있고 예를 들어 펠티에 소자(Peltier effect device)와 같은 것이 될 수 있다. 냉각 소자(151a,151b)는 냉각 몸체(15)에 설치되어 접촉 전극(11)으로부터 전달되는 열을 흡수하여 외부로 발산할 수 있다. 냉각 소자(151a, 151b)가 설치되어 접촉 전극(11)이 설치된 쪽을 냉각시키면 다른 쪽은 발열이 될 수 있다. 그러므로 냉각 몸체(15) 전체의 열을 외부로 발산될 수 있어야 한다. 냉각 몸체(15)의 열은 예를 들어 공냉식, 수냉식 또는 방열 판 설치 방식과 같이 다양한 방법으로 냉각이 될 수 있고 예를 들어 유체 이송 도관(152)이 설치되어 물을 공급하는 방식으로 냉각이 될 수 있다. The cooling body 15 may be made of a metal material having high thermal conductivity, and cooling elements 151a and 151b may be installed therein. The cooling elements 151a and 151b may be thermoelectric elements and may be, for example, a Peltier effect device. The cooling elements 151a and 151b may be installed in the cooling body 15 to absorb heat transferred from the contact electrode 11 and radiate to the outside. When the cooling elements 151a and 151b are installed to cool the side on which the contact electrode 11 is installed, the other side may generate heat. Therefore, the heat of the entire cooling body 15 should be able to be dissipated to the outside. The heat of the cooling body 15 can be cooled in a variety of ways, such as for example air-cooled, water-cooled or heat-sink mounting, and for example by the fluid transfer conduit 152 installed to supply water. Can be.

유체 이송 도관(152)의 설치에 의한 냉각 몸체(15)의 냉각은 예시적인 것으로 본 발명은 이에 제한되지 않는다. The cooling of the cooling body 15 by the installation of the fluid transfer conduit 152 is exemplary and the invention is not so limited.

열 흡수 부재(12a)는 가압 부재(12b) 또는 냉각 몸체(15)와 분리되어 있고 냉각 몸체(15)의 이동에 의하여 열 흡수 부재(12a)가 전방으로 이동되어 접촉 전극(11)과 접촉될 수 있다. 냉각 몸체(15)는 충격 장치(14)에 의하여 이동될 수 있다. 충격 장치(14)는 전후방으로 왕복 운동을 하면서 냉각 몸체(15)을 전방으로 이동시킬 수 있는 장치가 될 수 있고 예를 들어 모터 방식, 유압 또는 공압 방식, 수압 방식의 장치가 되거나 솔레노이드 진동 장치와 같은 것이 될 수 있다. 충격 장치(14)에 의한 냉각 몸체(15) 또는 가압 부재(12b)의 이동은 아래에서 다시 설명이 된다. The heat absorbing member 12a is separated from the pressurizing member 12b or the cooling body 15, and the heat absorbing member 12a is moved forward to contact the contact electrode 11 by the movement of the cooling body 15. Can be. The cooling body 15 can be moved by the impact device 14. The impact device 14 may be a device capable of moving the cooling body 15 forward while reciprocating forward and backward and may be, for example, a motor type, a hydraulic or pneumatic type, a hydraulic type device, or a solenoid vibration device. It can be the same. The movement of the cooling body 15 or the pressing member 12b by the impact device 14 is described again below.

접촉 전극(11)은 열 흡수 부재(12a)와 분리될 수 있고 도 1에 도시된 것처럼, 자극 몸체(13)의 전면을 형성할 수 있다. 자극 몸체(13)는 자극 장치의 앞쪽 부분에 형성되어 발생된 고주파 또는 초음파를 피부 조직으로 전달되도록 하기 위한 장치로 내부에 열 흡수 부재(12a), 가압 부재(12b), RF 고주파 발생 장치 또는 적외선 발생 장치가 수용될 수 있는 구조를 가질 수 있다. 본 발명은 자극 몸체(13)의 구조에 제한되지 않으며 자극 몸체(13)는 이 분야에서 공지된 임의의 형상을 가질 수 있다. The contact electrode 11 may be separated from the heat absorbing member 12a and may form the front surface of the magnetic pole body 13, as shown in FIG. 1. The stimulus body 13 is a device for transmitting high frequency or ultrasonic waves generated and formed in the front part of the stimulation device to the skin tissue, and therein, a heat absorbing member 12a, a pressing member 12b, an RF high frequency generator or an infrared ray. The generator can have a structure that can be accommodated. The present invention is not limited to the structure of the pole body 13 and the pole body 13 may have any shape known in the art.

도 1에 도시된 것처럼, 자극 장치는 손잡이(200)와 수용 하우징(100)으로 이루어질 수 있고 손잡이(200)에 자극 장치의 제어를 위한 제어 장치(도시되지 않음)와 연결하기 위한 연결 케이블(C)이 설치될 수 있다. As shown in FIG. 1, the stimulation device may consist of a handle 200 and a receiving housing 100 and a connecting cable C for connecting the handle 200 with a control device (not shown) for controlling the stimulation device. ) Can be installed.

아래에서 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 냉각 장치의 실시 예에 대하여 설명한다. An embodiment of a cooling device that can be applied to the stimulation device according to the present invention will be described below.

도 2a는 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 냉각 구조의 실시 예를 도시한 것이다. Figure 2a shows an embodiment of a cooling structure that can be applied to the stimulation device according to the present invention.

본 명세서에서 서로 다른 도면에서 동일 부호를 가지는 구성요소는 동일 또는 유사한 기능을 가진다. 그러므로 설명의 간결함을 위하여 특별히 요구되지 않는다면 중복하여 설명이 되지 않는다. In the present specification, components having the same reference numerals in different drawings have the same or similar functions. Therefore, unless otherwise specifically stated for the sake of brevity, the descriptions will not be repeated.

도 2a의 위쪽은 냉각 구조의 실시 예에 대한 정면도 그리고 아래쪽은 평면도를 개략적으로 도시한 것이다. 2A is a top view of an embodiment of the cooling structure and a bottom view schematically shows a plan view.

도 2a를 참조하면, 냉각 몸체(15)에 걸림 돌기(21)가 설치되어 충격 장치(14)에 의하여 냉각 몸체(15)가 전방으로 이동될 수 있도록 한다. 충격 장치(14)는 냉각 몸체(15)의 표면을 따라 전후방으로 슬라이딩이 될 수 있는 구조로 만들어지고 예를 들어 솔레노이드 진동 구조로 작동될 수 있다. 구체적으로 전원이 인가되면 충격 장치(14)는 냉각 몸체(15)의 표면을 따라 앞쪽으로 이동이 되면서 걸림 돌기(21)에 충격을 가하게 된다. 걸림 돌기(21)는 냉각 몸체(15)에 견고하게 결합이 되고 걸림 돌기(21)에 가해지는 충격으로 인하여 냉각 몸체(15)가 전방으로 이동하게 된다. 냉각 몸체(15)가 전방으로 이동되면 가압 부재(12b)가 함께 이동하여 열 흡수 부재(12a)에 접촉하게 된다. 그리고 열 흡수 부재(12a)는 접촉 전극(11)에 접촉하여 과도하게 발생된 열을 흡수하게 된다. 이와 같은 과정에서 냉각 몸체(15)의 상승된 온도는 냉각 소자(151a, 151b)에 의하여 낮아질 수 있고 그리고 냉각 소자(151a, 151b)의 열은 공급 호스(153)를 통하여 유체 이송 도관(152)으로 유입되는 예를 들어 냉각수에 의하여 외부로 발산될 수 있다. Referring to FIG. 2A, a locking protrusion 21 is installed in the cooling body 15 so that the cooling body 15 may be moved forward by the impact device 14. The impact device 14 is made of a structure that can slide back and forth along the surface of the cooling body 15 and can be operated, for example, with a solenoid vibration structure. Specifically, when power is applied, the impact device 14 moves forward along the surface of the cooling body 15 to impact the locking protrusion 21. The locking protrusion 21 is firmly coupled to the cooling body 15 and the cooling body 15 moves forward due to the shock applied to the locking protrusion 21. When the cooling body 15 is moved forward, the pressing member 12b moves together to come into contact with the heat absorbing member 12a. In addition, the heat absorbing member 12a contacts the contact electrode 11 to absorb excessively generated heat. In this process, the elevated temperature of the cooling body 15 may be lowered by the cooling elements 151a and 151b and the heat of the cooling elements 151a and 151b may be transferred to the fluid transfer conduit 152 through the supply hose 153. For example, it may be emitted to the outside by the cooling water introduced into.

도 2a의 평면도에 도시된 것처럼, 냉각 몸체(14)는 하우징의 내부에 수용될 수 있다. 위에서 설명이 된 것처럼 냉각 몸체(14)의 내부에 냉각 소자(151a)가 설치되고 냉각 몸체(14)는 하우징의 내부에서 충격 장치(14)에 의하여 접촉 전극(11)의 방향으로 슬라이딩이 될 수 있다. 충격 장치(14)는 솔레노이드 진동 구조에 의하여 작동될 수 있고 하우징의 외부 표면을 따라 슬라이딩이 되는 구조를 가질 수 있다. 예를 들어 충격 장치(14)는 하우징의 위쪽 및 아래쪽 외부 표면을 따라 슬라이딩이 되면서 다른 한쪽 끝에 솔레노이드 진동 구조가 연결될 수 있다. 솔레노이드 진동 구조는 충격 장치(14)를 전방으로 이동시킬 수 있고 필요에 따라 유체 이송 도관(152)을 개방할 수 있다. 대안으로 충격 장치(14)와 유체 이송 도관(152)의 개폐는 독립적으로 작동될 수 있다. 충격 장치(14)는 다양한 방법으로 이동될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다. As shown in the plan view of FIG. 2A, the cooling body 14 may be housed inside the housing. As described above, the cooling element 151a is installed inside the cooling body 14, and the cooling body 14 can be slid in the direction of the contact electrode 11 by the impact device 14 inside the housing. have. The impact device 14 may be operated by a solenoid vibration structure and may have a structure that slides along an outer surface of the housing. For example, the impact device 14 may slide along the upper and lower outer surfaces of the housing while the solenoid vibration structure is connected at the other end. The solenoid vibration structure may move the impact device 14 forward and open the fluid transfer conduit 152 as needed. Alternatively, the opening and closing of the impact device 14 and the fluid transfer conduit 152 may be operated independently. The impact device 14 can be moved in various ways and the invention is not limited to the embodiments shown.

냉각 몸체(15)에 형성된 걸림 돌기(21)는 하우징의 외부로 연장될 수 있다. 걸림 돌기(21)의 연장을 위하여 하우징에 이동 홀(22)이 형성될 수 있다. 도 2에 도시된 것처럼, 이동 홀(22)은 냉각 몸체(15)의 이동 방향 또는 걸림 돌기(21)의 이동 방향으로 연장되는 구조를 가질 수 있다. 달리 말하면 이동 홀(22)은 걸림 돌기(21)가 전방 또는 후방으로 이동 가능한 형상을 가질 수 있다. 이와 같은 구조로 인하여 하우징의 외부 표면을 따라 이동되는 충격 장치(14)는 이동 홀(22)을 따라 걸림 돌기(21)을 이동시킬 수 있고 이로 인하여 냉각 몸체(15)는 접촉 전극(11)의 방향으로 이동될 수 있다. The catching protrusion 21 formed on the cooling body 15 may extend to the outside of the housing. The movement hole 22 may be formed in the housing to extend the locking protrusion 21. As shown in FIG. 2, the movement hole 22 may have a structure extending in the movement direction of the cooling body 15 or in the movement direction of the locking protrusion 21. In other words, the movement hole 22 may have a shape in which the locking protrusion 21 may move forward or backward. Due to this structure, the impact device 14 which is moved along the outer surface of the housing can move the catching protrusion 21 along the moving hole 22, whereby the cooling body 15 of the contact electrode 11 can be moved. Can be moved in a direction.

도 2a에 제시된 냉각 구조는 예시적인 것으로 냉각 몸체(15)는 다양한 방법으로 전방 또는 후방으로 이동될 수 있고 본 발명은 제시된 실시 예에 제한되지 않는다.The cooling structure shown in FIG. 2A is exemplary and the cooling body 15 can be moved forward or backward in various ways and the invention is not limited to the embodiment shown.

도2b는 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 냉각 구조의 다른 실시 예를 도시한 것이다. Figure 2b shows another embodiment of a cooling structure that can be applied to the stimulation device according to the present invention.

도 2b를 참조하면, 접촉 전극(11a, 11b)은 유전 전극(11b)과 도체 전극(11a)으로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 2B, the contact electrodes 11a and 11b may be formed of the dielectric electrode 11b and the conductor electrode 11a.

유전 전극(11b)은 유전체 소재 또는 절연 소재로 이루어질 수 있고 예를 들어 0.01 ~ 0.05 ㎜의 두께를 가질 수 있으며 도체 전극(11a)은 유전 전극(11b)에 코팅이 되는 형태로 만들어질 수 있다. 유전 전극(11b)은 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리이미드, 테프론, 실리콘, 사파이어, 다이아몬드, 지르코늄 또는 실리콘 질화물과 같은 것이 될 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 도체 전극(11a)은 예를 들어 구리, 금, 은 또는 알루미늄과 같은 도체가 될 수 있고 유전 전극(11b)에 진공 증착, 화학 기상 증착 또는 플라즈마 증착과 같이 이 분야에서 공지된 임의의 방식으로 유전 전극(11b)에 코팅이 될 수 있다. The dielectric electrode 11b may be made of a dielectric material or an insulating material, and may have a thickness of, for example, 0.01 to 0.05 mm, and the conductor electrode 11a may be formed in a form in which the dielectric electrode 11b is coated. Dielectric electrode 11b may be, for example, but not limited to, polypropylene, polyimide, Teflon, silicon, sapphire, diamond, zirconium or silicon nitride. The conductor electrode 11a can be a conductor such as, for example, copper, gold, silver or aluminum and the dielectric is in any manner known in the art, such as vacuum deposition, chemical vapor deposition or plasma deposition on the dielectric electrode 11b. It may be coated on the electrode (11b).

도 2b에서 유전 전극(11b)과 도체 전극(11a)은 분리된 형태로 도시되어 있지만 실질적으로 도체 전극(11a)이 유전 전극(11b)에 코팅이 된 구조로 될 수 있다. 추가로 도체 전극(11a)은 유전 전극(11a)의 표면 전체에 걸쳐 코팅이 될 수 있지만 바람직하게 도체 전극(11b)은 유전 전극(11b)에 비하여 작은 표면적을 가지고 더욱 바람직하게 유전 전극(11b)의 가장 자리 부분에 도체 전극(11a)이 코팅이 되지 않을 수 있다. In FIG. 2B, the dielectric electrode 11b and the conductor electrode 11a are shown in a separate form, but the conductor electrode 11a may be substantially coated with the dielectric electrode 11b. In addition, the conductor electrode 11a may be coated over the entire surface of the dielectric electrode 11a, but the conductor electrode 11b preferably has a smaller surface area than the dielectric electrode 11b and more preferably the dielectric electrode 11b. Conductor electrode (11a) may not be coated on the edge of the.

접촉 전극은 아래에서 다시 설명이 된다. The contact electrode is described again below.

열 흡수 부재(12a)는 가압 부재(12b)의 앞쪽에 고정되고 가압 부재(12b)는 냉각 몸체(15)에 고정될 수 있다. 이와 같이 열 흡수 부재(12a), 가압 부재(12b) 및 냉각 몸체(15)가 일체로 만들어질 수 있고 충격 장치(14)에 의하여 전진 또는 후진이 될 수 있다. 충격 장치(14)는 이미 설명을 한 것처럼, 이동 홀을 이용하여 전진 또는 후진이 될 수 있다. 냉각 소자(151a, 151b) 및 유체 이송 도관(152)은 도 2a에서 설명한 것과 동일 또는 유사한 구성을 가질 수 있다. The heat absorbing member 12a may be fixed to the front of the pressing member 12b and the pressing member 12b may be fixed to the cooling body 15. In this way, the heat absorbing member 12a, the pressing member 12b and the cooling body 15 may be made integral and may be advanced or reversed by the impact device 14. The impact device 14 can be moved forward or backward using a moving hole, as already described. The cooling elements 151a, 151b and the fluid transfer conduit 152 may have the same or similar configuration as described in FIG. 2A.

가압 부재(12b) 또는 냉각 몸체(15)의 이동을 유도하기 위한 가이드 수단(26)이 필요에 따라 설치될 수 있다. 가이드 수단(26)은 터널 구조가 될 수 있지만 이에 제한되지 않고 예를 들어 레일 또는 유도 홈 구조가 될 수 있고 본 발명은 이에 제한되지 않는다. 충격 장치(14)의 이동을 구동 장치(23)가 설치될 수 있고 구동 장치(23)는 예를 들어 솔레노이드 진동 구조, 모터 작동 구조, 유압 구동 장치, 공기압 구동 장치, 수압 구동 장치 또는 갈바노미터 구동 방식과 같이 이 분야에서 공지된 임의의 방식이 될 수 있다. 구동 장치(23)에 의한 충격 장치(14)의 전진 또는 후진은 이 분야에서 공지된 방법에 따라 이루어질 수 있다. 가압 부재(12b) 또는 다른 적절한 위치에 메모리칩(24)이 설치될 수 있다. 메모리 칩(24)은 예를 들어 접촉 전극(11a, 11b)의 접촉 횟수, 주파수, 접촉 온도, 열 흡수 부재(12a)의 접촉 횟수 또는 시간의 경과에 따른 온도 변화, 각 접촉 과정에서 특정 지점의 전류 크기 또는 접촉 면적 크기와 같은 것이 저장될 수 있다. 구체적으로 치료 과정에서 시간의 경과에 따른 변화가 매개 변수에 따라 저장될 수 있다. 메모리 칩(24)에 저장될 수 있는 매개 변수의 종류 또는 수는 제한되지 않는다. Guide means 26 for guiding movement of the pressing member 12b or the cooling body 15 may be provided as necessary. The guide means 26 may be a tunnel structure, but is not limited thereto and may be, for example, a rail or guide groove structure, and the present invention is not limited thereto. The movement of the impact device 14 may be provided with a drive device 23 and the drive device 23 may be, for example, a solenoid vibration structure, a motor operated structure, a hydraulic drive device, a pneumatic drive device, a hydraulic drive device or a galvanometer. It may be any method known in the art, such as a drive method. Advancing or reversing the impact device 14 by the drive device 23 can be done according to methods known in the art. The memory chip 24 may be installed at the pressing member 12b or at another suitable position. The memory chip 24 may include, for example, the number of contacts of the contact electrodes 11a and 11b, the frequency, the contact temperature, the number of contacts of the heat absorbing member 12a or the temperature change over time, and a specific point in each contact process. Something like current magnitude or contact area magnitude can be stored. In detail, changes over time during the treatment process may be stored according to parameters. The type or number of parameters that can be stored in the memory chip 24 is not limited.

도 2a 또는 도 2b에 제시된 실시 예는 예시적인 것으로 다양한 구조의 냉각 장치가 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있다. The embodiment shown in FIG. 2A or 2B is exemplary and cooling devices having various structures can be applied to the stimulation device according to the present invention.

아래에서 접촉 전극의 실시 예에 대하여 설명한다. An embodiment of the contact electrode will be described below.

도 3a 및 도 3b는 본 발명에 따른 자극 장치에 적용될 수 있는 접촉 전극의 실시 예를 도시한 것이다. 3A and 3B show an embodiment of a contact electrode that can be applied to the stimulation device according to the present invention.

도 3a의 (가)는 유전 전극(11b)의 앞쪽 및 뒤쪽에 각각 도체 전극(11a, 11c)이 형성된 실시 예를, (나)는 유전 전극(11b)이 앞쪽에 분리 전극(11d)이 형성되고 유전 전극(11b)의 뒤쪽에 도체 전극(11a)이 형성된 실시 예를, (다)은 (나)의 구조를 가지는 접촉 전극에 추가로 보호 유전 필름(11e)이 부착된 실시 예를 그리고 (라)는 유전 전극(11b)의 앞쪽 및 뒤쪽에 각각 도체 전극(11a, 11c)이 부착된 다른 실시 예를 각각 도시한 것이다. 3A illustrates an embodiment in which the conductive electrodes 11a and 11c are formed at the front and the rear of the dielectric electrode 11b, respectively, and (b) the separation electrode 11d is formed at the front of the dielectric electrode 11b. And (c) the embodiment in which the protective dielectric film 11e is additionally attached to the contact electrode having the structure of (b), and (c) the conductive electrode 11a formed at the back of the dielectric electrode 11b; D) shows another embodiment in which the conductive electrodes 11a and 11c are attached to the front and the rear of the dielectric electrode 11b, respectively.

도 3a의 좌측에 도시된 것처럼, 접촉 전극(11a, 11b)은 유전 전극(11b)과 도체 전극(11a)으로 이루어질 수 있지만 각각의 유전 전극(11b) 또는 도체 전극(11a)은 다양한 크기 또는 구조로 배열될 수 있다. As shown on the left side of FIG. 3A, the contact electrodes 11a and 11b may consist of the dielectric electrode 11b and the conductor electrode 11a, but each of the dielectric electrodes 11b or the conductor electrodes 11a may have various sizes or structures. Can be arranged as.

도 3a의 (가)에 도시된 실시 예에서, 후면 도체 전극(11a)은 유전 전극(11b)과 동일한 크기를 가질 수 있고 예를 들어 유전 전극(11b)에 증착을 하는 방법을 통하여 만들어질 수 있다. 이에 비하여 전면 도체 전극(11c)은 유전 전극(11b)의 둘레를 따라 또는 가장자리를 따라 형성되도록 할 수 있다. 이와 같은 구조로 인하여 가장자리 또는 둘레 면을 따른 가장자리 효과가 감소될 수 있다. In the embodiment shown in (a) of FIG. 3A, the rear conductor electrode 11a may have the same size as the dielectric electrode 11b and may be made through, for example, a deposition method on the dielectric electrode 11b. have. In contrast, the front conductor electrode 11c may be formed along the periphery or along the edge of the dielectric electrode 11b. Such a structure can reduce the edge effect along the edge or circumferential surface.

도 3a의 (나)에 도시된 실시 예에서, 유전 전극(11b)의 앞쪽에 분리 도체 전극(11d)이 형성될 수 있다. 분리 도체 전극(11d)은 유전 전극(11b)의 가장자리 또는 테두리 부분을 제외한 중앙 또는 중간 부분에 형성될 수 있다. 그리고 도 3a의 (다)에 도시된 것처럼, 분리 도체 전극(11d)의 앞쪽에 보호 유전 필름(11e)이 부착될 수 있다. 보호 유전 필름(11e)이 부착되면 실질적으로 2개의 커패시터가 직렬로 연결된 것과 유사한 구조가 될 수 있다. 이로 2개의 커패시터가 직렬로 연결된 구조는 전류의 분산을 유도할 수 있고 이로 인하여 특정 접촉 부위의 온도가 급격하게 상승하는 것을 방지할 수 있다. In the embodiment illustrated in FIG. 3A (b), a separate conductor electrode 11d may be formed in front of the dielectric electrode 11b. The separating conductor electrode 11d may be formed at the center or the middle portion of the dielectric electrode 11b except for the edge or edge portion thereof. As shown in (c) of FIG. 3A, the protective dielectric film 11e may be attached to the front of the separation conductor electrode 11d. When the protective dielectric film 11e is attached, the structure may be substantially similar to that of two capacitors connected in series. This allows a structure in which two capacitors are connected in series to induce a dispersion of current, thereby preventing the temperature of a specific contact portion from rising sharply.

도 3a의 (라)에 도시된 실시 예에서, 후면 도체 전극(11a)은 유전 전극(11b)에 대하여 작은 면적을 가질 수 있고 그리고 전면 도체 전극(11c)은 유전 전극(11b)의 가장자리 또는 둘레 부분을 따라 형성될 수 있다. 후면 도체 전극(11a)의 크기는 유전 전극(11b)에 비하여 작은 임의의 크기를 가질 수 있지만 바람직하게 전면 도체 전극(11c) 중앙 빈 부분에 비하여 작은 크기를 가질 수 있다. In the embodiment shown in (d) of FIG. 3A, the rear conductor electrode 11a may have a small area with respect to the dielectric electrode 11b and the front conductor electrode 11c may have an edge or circumference of the dielectric electrode 11b. It can be formed along the part. The size of the rear conductor electrode 11a may be any size smaller than that of the dielectric electrode 11b, but preferably may be smaller than the central hollow portion of the front conductor electrode 11c.

도 3b를 참조하면, 유전 전극(11b)은 판 형상으로 될 수 있고 도체 전극(11c)은 다양한 형상으로 만들어 질 수 있다 예를 들어 도체 전극(11b)은 육각 형상을 가지면서 각각의 변에 열린 부분이 형성된 구조를 가지거나 분산된 작은 원형으로 만들어질 수 있다. 또는 유전 전극(11b)의 뒤쪽에 형성되는 후면 도체 전극(11a)은 작은 사각 형상으로 중앙 부부에 배치되고 그리고 앞쪽에 배치되는 전면 도체 전극(11c)은 속이 빈 사각 형상으로 만들어질 수 있다. Referring to FIG. 3B, the dielectric electrode 11b may be in a plate shape and the conductor electrode 11c may be made in various shapes. For example, the conductor electrode 11b may have a hexagonal shape and open at each side. The part may have a formed structure or may be made into a small circle dispersed. Alternatively, the rear conductor electrode 11a formed at the rear of the dielectric electrode 11b may be disposed at the center couple in a small square shape, and the front conductor electrode 11c disposed at the front may have a hollow square shape.

도 3b에 제시된 것과 같이 도체 전극(11c)은 분산된 배열을 가지거나 유전 전극(11b)에 비하여 작은 크기를 가질 수 있다. 대안으로 도체 전극은 유전 전극(11b)의 둘레 면을 따라 배치되는 것과 같이 일정 부위에만 배치될 수 있다. As shown in FIG. 3B, the conductor electrode 11c may have a distributed arrangement or may have a smaller size than the dielectric electrode 11b. Alternatively, the conductor electrode may be disposed only at a predetermined portion, such as along the circumferential surface of the dielectric electrode 11b.

도 3a 및 도 3b에 예시된 접촉 전극의 구조는 특정 신체 접촉 부위에서 과도한 전류의 흐름이 발생하거나 또는 과도한 열이 발생하는 것을 방지하기 위한 것이다. 예를 들어 신체와 접촉하는 유전 전극(11b)의 가장자리 또는 모서리를 따라 과도한 열이 발생할 수 있고 도 3a 또는 도 3b에 제시된 접촉 전극은 이를 방지할 수 있다. 도 3a 및 도 3b에 제시된 실시 예는 예시적인 것은 접촉 전극의 형상, 구조 또는 배열은 다양한 대안 구조로 만들어질 수 있다. 본 명세서에서 도체 전극이 유전 전극과 동일한 크기로 형성되지 않고 예를 들어 도 3a 및 도 3b에 제시된 실시 예와 같은 구조를 가지는 것을 비대칭 구조의 도체 전극이라 한다. The structure of the contact electrodes illustrated in FIGS. 3A and 3B is intended to prevent excessive current flow or excessive heat from occurring at certain body contact sites. For example, excessive heat may occur along the edge or corner of the dielectric electrode 11b in contact with the body and the contact electrode shown in FIG. 3A or 3B may prevent this. 3A and 3B are exemplary, the shape, structure or arrangement of the contact electrode can be made of various alternative structures. In the present specification, the conductor electrode is not formed to have the same size as the dielectric electrode and has a structure similar to that of the embodiment shown in FIGS. 3A and 3B, for example, an asymmetric conductor electrode.

아래에서 본 발명에 따른 자극 장치의 작동 과정에 대하여 간단하게 설명된다. The operation of the stimulation device according to the present invention is briefly described below.

도 4는 본 발명에 자극 장치가 제어 장치에 설치된 실시 예를 도시한 것이다. Figure 4 illustrates an embodiment in which the stimulation device is installed in the control device in the present invention.

도 4를 참조하면, 자극 장치(10)는 케이블(C)에 의하여 제어 장치(40)에 연결되어 작동될 수 있다. 제어 장치(40)는 조작 버튼(41), 디스플레이(42), 몸체(43) 및 이동 수단(44)으로 이루어질 수 있고 자극 장치(10)는 수용 하우징(100)과 손잡이(200)로 이루어질 수 있다. 조작 버튼(41)에 의하여 자극 장치(10)의 작동 조건이 결정될 수 있고 작동 과정은 디스플레이(42)에 표시될 수 있다. Referring to FIG. 4, the stimulation device 10 may be operated by being connected to the control device 40 by a cable C. The control device 40 may consist of an operation button 41, a display 42, a body 43 and a moving means 44 and the stimulation device 10 may consist of a receiving housing 100 and a handle 200. have. The operation conditions of the stimulation device 10 can be determined by the operation button 41 and the operation process can be displayed on the display 42.

피부 조직에 RF 고주파에 의한 에너지를 전달하기 위하여 수용 하우징(100)의 앞쪽에 형성된 접촉 전극이 예를 들어 안면 피부에 접촉될 수 있고 그리고 전극 판(300)이 접촉 전극의 반대편에 위치될 수 있다. 그리고 안면 피부 조직으로 RF 고주파에 의한 에너지가 접촉 전극으로부터 전극 판(300)으로 전달되어 주름 제거를 위한 치료가 진행될 수 있다. 에너지의 전달 과정에서 접촉 부위의 온도가 탐지될 수 있다. 탐지되는 온도가 예를 들어 60 ℃와 같이 미리 결정된 온도가 되면 냉각 장치가 작동될 수 있다. A contact electrode formed in front of the receiving housing 100 may be in contact with the facial skin, for example, and the electrode plate 300 may be located opposite the contact electrode to deliver energy by RF radiofrequency energy to the skin tissue. . And energy by RF radio frequency to the facial skin tissue is transferred from the contact electrode to the electrode plate 300 may be a treatment for wrinkle removal. The temperature of the contact site can be detected during the transfer of energy. The cooling device can be activated when the temperature detected is at a predetermined temperature, for example 60 ° C.

본 발명에 따른 자극 장치는 적절한 구조의 변형을 통하여 예를 들어 초음파 또는 적외선 치료 장치에 적용될 수 있다는 것은 자명하다. It is obvious that the stimulation device according to the invention can be applied to, for example, ultrasound or infrared treatment devices through modification of the appropriate structure.

본 발명에 따른 자극 장치는 고주파 또는 전기 자극의 과도한 집중이 방지될 수 있도록 하면서 필요시 냉각이 효율적으로 이루어지도록 한다는 이점을 가진다. 또한 본 발명에 따른 자극 장치는 치료 과정에서 불필요한 자극이 발생하는 것이 방지될 수 있도록 한다는 장점을 가진다. The stimulation device according to the invention has the advantage that cooling can be done efficiently when necessary while allowing excessive concentration of high frequency or electrical stimulation to be avoided. In addition, the stimulation device according to the present invention has the advantage that it is possible to prevent the occurrence of unnecessary stimulation in the course of treatment.

위에서 본 발명의 제시된 실시 예를 참조하여 상세하게 설명이 되었지만 이 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 제시된 실시 예를 참조하여 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 수정 발명을 만들 수 있을 것이다. 본 발명은 이와 같은 변형 및 수정 발명에 의하여 제한되지 않으면 다만 아래에 첨부된 청구범위에 의하여 제한된다. Although described in detail above with reference to the embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to make various modifications and modifications to the invention without departing from the spirit of the present invention with reference to the embodiments presented. . The invention is not limited by these variations and modifications, but is only limited by the scope of the appended claims.

10: 자극 장치 11: 접촉 전극
12a: 열 흡수 부재 12b: 가압 부재
13: 자극 몸체 14: 충격 장치
15: 냉각 몸체 21: 걸림 돌기
22: 이동 홀 23: 구동 수단
11a, 11c: 도체 전극 11b: 유전 전극
40: 제어 장치 41: 조작 버튼
42: 디스플레이 43: 몸체
44: 이동 수단
151a, 151b: 냉각 소자 152:유체 이송 도관
153:공급 호스 311: 분할 유전 영역
100: 수용 하우징 200: 손잡이
300: 전극 판
C: 케이블10: stimulation device 11: contact electrode
12a: heat absorbing member 12b: pressing member
13: magnetic pole body 14: impact device
15: cooling body 21: locking projection
22: moving hole 23: drive means
11a, 11c: conductor electrode 11b: dielectric electrode
40: control unit 41: operation button
42: display 43: body
44: means of transport
151a, 151b: cooling element 152: fluid transfer conduit
153: supply hose 311: split oil field
100: housing 200: handle
300: electrode plate
C: Cable

Claims (5)

고주파 또는 전기 전도에 의하여 피부 조직에 자극을 전달하는 접촉 전극(11);
접촉 전극(11)에 접촉하여 열을 흡수할 수 있는 열 흡수 부재(12a);
열 흡수 부재(12a)에 압력을 가하여 접촉 전극(11)의 방향으로 이동시킬 수 있는 가압 부재(12b);
가압 부재(12b)를 이동시킬 수 있도록 설치된 충격 장치(14);
가압 부재(12b)와 연결된 냉각 몸체(15);
냉각 몸체(15)에 설치된 냉각 소자(151a, 151b); 및
냉각 소자(151a, 151b)를 냉각시키기 위한 유체를 이송시키는 유체 이송 도관(152)을 포함하고,
상기 충격 장치(14)는 구동 수단(23)에 의하여 전진 또는 후진이 되는 것을 특징으로 하는 자극 장치. A contact electrode 11 which transmits a stimulus to skin tissue by high frequency or electric conduction;
A heat absorbing member 12a capable of contacting the contact electrode 11 to absorb heat;
A pressing member 12b capable of applying pressure to the heat absorbing member 12a to move in the direction of the contact electrode 11;
An impact device 14 installed to move the pressing member 12b;
A cooling body 15 connected with the pressing member 12b;
Cooling elements 151a and 151b installed in the cooling body 15; And
A fluid transfer conduit 152 for transferring fluid for cooling the cooling elements 151a, 151b,
The shock device (14) is characterized in that the stimulation device is moved forward or backward by the drive means (23). 삭제delete 청구항 1에 있어서, 냉각 소자(151a, 151b)는 펠티에 소자가 되는 것을 특징으로 하는 자극 장치. The stimulation device according to claim 1, wherein the cooling elements (151a, 151b) are Peltier elements. 청구항 1에 있어서, 유체 이송 도관(152)은 냉각수 이동 도관이 되는 것을 특징으로 하는 자극 장치. The stimulation device of claim 1, wherein the fluid transfer conduit (152) is a coolant movement conduit. 청구항 1에 있어서, 접촉 전극은 유전 전극과 도체 전극으로 이루어지고 도체 전극은 분산 구조를 가지거나 또는 유전 전극과 비대칭 구조로 형성이 되는 것을 특징으로 하는 자극 장치.The stimulation apparatus according to claim 1, wherein the contact electrode is composed of a dielectric electrode and a conductor electrode, and the conductor electrode has a dispersion structure or is formed in an asymmetric structure with the dielectric electrode.
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