KR101272381B1

KR101272381B1 - 광도파로용 화합물, 이의 공중합체 및 이를 이용한 광도파로

Info

Publication number: KR101272381B1
Application number: KR1020100037801A
Authority: KR
Inventors: 윤근병
Original assignee: 경북대학교 산학협력단
Priority date: 2010-04-23
Filing date: 2010-04-23
Publication date: 2013-06-07
Also published as: KR20110118290A

Abstract

본 발명은 광도파로용 화합물, 이의 공중합체 및 이를 이용한 광도파로에 관한 것으로, 구체적으로 본 발명의 광도파로용 화합물은 하기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표현될 수 있다:
<화학식 1> <화학식 2>

<화학식 3>

본 발명의 공중합체는 광손실을 최소화할 수 있으며 굴절률을 조절할 수 있을 뿐만 아니라 UV에 의해 중합 반응을 할 수 있어 나노임프린린트 공정에 사용할 수 있으므로 광도파로의 제조에 적용가능하다.

Description

광도파로용 화합물, 이의 공중합체 및 이를 이용한 광도파로 {Compound for optical waveguide, copolymer thereof and optical waveguide using thereof}

본 발명은 광도파로용 화합물, 이의 공중합체 및 이를 이용한 광도파로에 관한 것으로, 구체적으로 광손실을 최소화하며, 굴절률 조절이 용이하여 코어와 클래드층간의 굴절률 차이를 증가시킬 수 있는 나노임프린트 공정에 적용가능한 광도파로용 화합물, 이의 공중합체 및 이를 이용한 광도파로에 관한 것이다.

현재, 광도파로 소자는 반도체 제작 기술이나 MEMS기술을 활용하여 제작하는 것이 통상적이며, 평면상 제작 및 제작된 광도파로를 직접화하기 위한 연구가 지속적으로 진행되고 있다.

일반적인 광도파로 소자의 제조방법은 다음과 같다. 기판위에 하부 클래드층을 형성하고, 이 하부 클래드층 위에 코아를 형성한다. 이어서 코아에 다양한 방법으로 패턴을 형성하고, 식각하여 패터닝한다. 그 후 코아 상부에 상부 클래드층을 형성함으로써 평면 광도파로가 제작된다. 상기 클래드층이나 코아는 통상적으로 스핀 코팅이나 스크린 프린팅법에 의하여 형성되며, 그 형성재료로는 굴절률이 상이한 실리카 또는 고분자를 이용한다.

현재까지 개발된 대부분의 고분자로는 상기 클래드층과 코아의 굴절률 차이를 최대 1%까지 얻을 수 있다. 따라서 광도파로의 규모가 제한되어 초소형 광통신용 수동소자를 제작하기에는 어려운 문제점이 있다. 또한 이러한 실리카 또는 고분자 재료는 코아 형성을 위하여 포토리소그래피와 같은 복잡한 공정으로 패턴 형성이 가능하다.

현재 포토리소그래피 공정보다 간단하며, 대면적의 패턴이 용이한 나노임프린트 공정이 개발되었지만, 이에 적용할 수 있는 광도파로용 고분자 소재의 개발이 이루어지고 있지 않다. 또한 현재까지 알려진 고분자는 굴절율 차이를 단량체 내의 불소기 또는 염소기 함량으로 조절을 하고 있어 원하는 굴절율 차이를 조절하는 것이 용이하지 않다는 문제점이 있다.

상기의 문제점을 해결하고자 본 발명의 목적은 광손실을 최소화하며, 굴절률 조절이 용이하여 코어와 클래드간의 굴절률 차이를 증가시킬 수 있는 나노임프린트 공정에 적용가능한 광도파로용 화합물, 이의 공중합체 및 이를 이용한 광도파로를 제공하는 것이다.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,

하기 화학식 1 내지 3 중 어느 하나로 표현되는 광도파로용 화합물을 제공한다:

<화학식 1>

(화학식 1에서,

n 은 4 내지 16 의 정수이며,

R 은 탄소수 6 내지 14 의 하나 이상의 불소로 치환된 방향족 화합물 또는

에서 선택되며, m 은 0 내지 6 의 정수이다.)

<화학식 2>

(화학식 2에서,

X는 F 또는 H 이며,

R 은 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물 또는

에서 선택되며, m 은 0의 정수이며, n 은 0의 정수이다.)

<화학식 3>

(화학식 3에서,

X 는 H 또는 F 이며,

이며, m 은 0 내지 6 이다.)

본 발명의 다른 목적을 달성하고자 본 발명은,

상기 화학식 1 내지 3 으로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 1 종 이상의 단량체; 와 불소를 포함하는 스티렌계 단량체 및 불소를 포함하는 아크릴계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상의 단량체의 중합반응에 의해 형성된 공중합체를 제공한다.

상기 화학식 1 로 표현되는 화합물에서 선택된 단량체는 공중합체에 대하여 20 내지 30 중량부로 포함될 수 있다.

상기 화학식 2 로 표현되는 화합물에서 선택된 단량체는 공중합체에 대하여 20 내지 40 중량부로 포함될 수 있다.

상기 화학식 3 으로 표현되는 화합물에서 선택된 단량체는 공중합체에 대하여 10 내지 30 중량부로 포함될 수 있다.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,

상기 공중합체로 형성된 클래드층 및 코아를 포함하고 나노임프린트 공정에 의하여 제조된 광도파로를 제공한다.

상기 광도파로는 클래드층과 코아의 굴절률 차이가 0.2 내지 2.0 % 일 수 있다.

본 발명의 화합물은 유기용매를 사용하지 않고 광에 의해 중합 또는 가교반응을 일으킬 수 있다.

본 발명의 중합체는 광손실을 최소화할 수 있으며, 굴절률 조절이 용이하여 광도파로의 제조에 사용될 수 있으며, 나노임프린트 공정에 적용될 수 있다.

본 발명의 중합체를 이용하여 코아와 클래드층의 굴절률 차이가 큰 광도파로를 제조할 수 있으므로, 다양한 크기 및 형태를 갖는 광도파로의 제조가 가능하다.

이하, 당업자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다.

본 발명은 광도파로용 화합물을 제공한다.

본 발명의 광도파로용 화합물은 2 이상의 관능기를 가지고 있어 이의 공중합체는 UV에 의해 가교 또는 중합 반응이 일어날 수 있으므로 UV 나노임프린트 공정에 적용될 수 있다.

본 발명의 광도파로용 화합물은 하기 화학식 1 로 표현될 수 있다:

<화학식 1>

상기 화학식 1에서, n 은 4 내지 16 의 정수이며, R 은 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물 또는

에서 선택되며, m 은 0 내지 6 의 정수이다. 상기 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물은 바람직하게는,

일 수 있다.

상기 화학식 1 로 표현되는 광도파로용 화합물은 염기성 촉매의 존재 하에, 지방족 불소화 디올과 아크릴로일 할라이드를 반응시켜 제조할 수 있다. 상기 지방족 불소화 디올은 불소를 포함하는 지방족 디올이라면 당업계에 공지된 것을 제한없이 사용할 수 있으며, 구체적으로, 옥타플루오로 헥산디올(octafluoro hexanediol) 또는 퍼플루오로 옥탄디올(perfluoro octanediol) 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 아크릴로일 할라이드는 바람직하게는 아크릴로일 클로라이드를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 염기성 촉매는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디페닐메틸아민 또는 피리딘 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 바람직하게는, 트리에틸아민을 사용할 수 있다.

본 발명의 광도파로용 화합물은 하기 화학식 2 로 표현될 수 있다:

<화학식 2>

상기 화학식 2에서, X 는 F 또는 H 이며, R 은 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물 또는

에서 선택되며, 상기 m 은 0의 정수이며, 상기 n 은 0의 정수이다. 상기 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물은 바람직하게는,

일 수 있다.

상기 화학식 2 로 표현되는 화합물은 불소 및 적어도 2 이상의 히드록시기를 포함하는 방향족 화합물 및 아크릴로일 할라이드의 반응에 의하여 형성될 수 있다. 상기 불소 및 적어도 2 이상의 히드록시기를 포함하는 방향족 화합물은 구체적으로, 2,2′-(퍼플루오로-1,4-페닐렌)비스(2,3,3,3-테트라플루오로프로판-1-올)(2,2′-(perfluoro-1,4-phenylene)bis(2,3,3,3-tetrafluoropropane-1-ol))을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 아크릴로일 할라이드는 바람직하게는 아크릴로일 클로라이드를 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 염기성 촉매는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디페닐메틸아민 또는 피리딘 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 바람직하게는 트리에틸아민을 사용할 수 있다.

본 발명의 광도파로용 화합물은 하기 화학식 3 으로 표현될 수 있다:

<화학식 3>

상기 화학식 3 에서, X 는 H 또는 F 이며, R 은 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물 또는

이며, m 은 0 내지 6 이다. 상기 하나 이상의 불소로 치환된 탄소수 6 내지 14 의 방향족 화합물은 바람직하게는,

일 수 있다.

상기 화학식 3 으로 표현되는 화합물은 염기성 촉매의 존재하에 트리아진계 화합물과 불소 및 적어도 2 이상의 히드록시기를 포함하는 방향족 화합물을 반응시켜 얻어진 생성물과 아크릴로일 할라이드를 반응시켜 생성될 수 있다. 상기 염기성 촉매는, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 디페닐메틸아민 또는 피리딘 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며, 바람직하게는 트리에틸아민을 사용할 수 있다. 구체적으로, 1,3,5-트리아진-2,4,6-트리카르보닐트리클로라이드(1,3,5-triazine -2,4,6-tricarbonyltrichloride) 1 당량과 3 당량의 2,2′-(퍼플루오로-1,4-페닐렌)비스(2,3,3,3-테트라플루오로프로판-1-올)을 염기 촉매하에서 반응시켜 중간 생성물을 얻고 여기에 염기 촉매하에서 아크릴로일 할라이드 3당량을 반응시켜 얻을 수 있다.

본 발명은 또한, 상기 화학식 1 내지 3 으로 표시되는 화합물 중에서 선택되는 1 종 이상의 단량체;와 불소를 포함하는 스티렌계 단량체 및 불소를 포함하는 아크릴계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상의 단량체의 중합반응에 의해 형성된 공중합체를 제공한다.

본 발명의 화학식 1 내지 3 으로 표시되는 화합물을 단량체로 하여 중합된 공중합체는 광손실이 낮고 굴절률을 용이하게 제조할 수 있다.

상기 화학식 1 로 표현되는 화합물을 단량체로 사용하여 공중합체를 형성하는 경우 상기 화학식 1 로 표현되는 화합물은 공중합체에 대하여 20 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 화학식 1 로 표현되는 화합물이 20 중량부 미만으로 포함되는 경우 굴절률을 조절하고자 하는 효과가 미미하여 바람직하지 않을 수 있으며, 30 중량부를 초과하는 경우 굴절률이 낮아져 바람직하지 않을 수 있다.

상기 공중합체에 단량체로 사용되는 상기 화학식 1 로 표현되는 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 4 로 표현되는 화합물일 수 있다:

<화학식 4>

상기 화학식 2 로 표현되는 화합물은 불소 및 방향족 화합물의 함량이 높아 이를 단량체로 하여 중합된 공중합체는 광흡수 손실을 줄이고 굴절률을 증가시킬 수 있다. 상기 화학식 2 로 표현되는 화합물을 단량체로 사용하는 경우 상기 화학식 2로 표현되는 화합물은 공중합체에 대하여 20 내지 40 중량부로 포함될 수 있다. 20 중량부 미만으로 포함되는 경우 광흡수 손실을 줄이지만 굴절률을 증가시키려는 효과가 미미할 수 있어 바람직하지 않을 수 있으며, 40 중량부를 초과하여 포함되는 경우 경화반응이 급격히 증가하여 제조된 공중합체의 유연성이 감소하여 광도파로 기능을 저하시킬 수 있어 바람직하지 않을 수 있다.

상기 공중합체에 단량체로 사용되는 상기 화학식 2 로 표현되는 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 5 로 표현되는 화합물일 수 있다:

<화학식 5>

상기 화학식 3으로 표현되는 화합물은 가교반응이 용이하여 굴절률을 증가시키기에 적합하다. 상기 화학식 3으로 표현되는 화합물을 단량체로 사용하는 경우 공중합체에 대하여 10 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 10 중량부 미만으로 포함되는 경우 굴절률 증가 효과가 미미하며, 30 중량부를 초과하여 포함되는 경우에는 경화반응이 급격히 증가하여 제조된 공중합체의 유연성이 감소하여 광도파로 기능을 저하시킬 수 있어 바람직하지 않을 수 있다.

상기 공중합체에 단량체로 사용되는 상기 화학식 3으로 표현되는 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 6으로 표현되는 화합물일 수 있다:

<화학식 6>

본 발명은 또한, 상술한 공중합체로 형성된 클래드층 및 코아를 포함하고 나노임프린트 공정에 의하여 제조된 광도파로를 제공한다. 상술한 공중합체는 2 이상의 관능기를 포함하고 있어 소량의 광중합 개시제에 의해 광중합 및 가교 반응이 용이하여 나노임프린트 공정에 적용이 가능하다.

상기 나노임프린트 공정을 이용한 광도파로의 제조 방법은 당업계에 공지된 방법을 제한없이 사용할 수 있으며, 상기 광도파로는 당업계에 공지된 구조를 채용할 수 있다.

상기 광도파로는 클래드층과 코아의 굴절률 차이가 0.2 내지 2.0 % 일 수 있다. 상기 공중합체를 사용하여 클래드층과 코아를 형성하는 경우 굴절률을 조절할 수 있어 상기와 같은 범위의 굴절률 차이가 나도록 광도파로를 제조할 수 있는 바, 다양한 크기와 형태를 갖는 광도파로를 제조할 수 있다.

이하, 실시예 및 비교예를 통하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명한다. 이는 본 발명의 설명을 위한 것일 뿐, 이로 인해 본 발명의 범위가 제한되지 않는다.

하기 실시예 및 비교예에 사용된 Acryloyl chloride는 wako사, Cyanuric chloride, 1,3,5-Benzenetricarbonyl trichloride, 2,2,3,4,4,4-Hexafluoro butyl acrylate, 2-Hydroxy-2-methyl-propiophenone, 2,6-Di-tert-Butyl-4-methoxy phenol, Chloroform-d, Acetone-d 는 aldrich사, 2,2,3,3,4,4,5,5-Octafluoro-1,6 -Hexanediol, 4,4’-(Hexafluoroisopropylidene)diphenol, 1H,1H-Perfluoro-1- octanol, 1H,1H-Perfluoro-1-decanol는 alfa사, 1,4-Bis(hexafluoro-α-hydroxy -isopropyl)benzene, Pyrogallol는 TCI사의 제품을 구입하여 사용하였다. 또한 Tetrahydrofuran, Dimethyl chloride, Chloroform은 덕산케미칼 제품을 정제하여 사용하였고, H₂0는 3차증류수를 사용하였다.

모든 합성된 화합물은 1H-NMR로 구조를 확인하였다. 1H-NMR은 Bruker사의 400MHz Spectrometer를 사용하여 기록하였고, 모든 화학적 이동도는 내부 표준물질인 테트라메틸실란(TMS)을 기준으로 ppm 단위로 기록되었다.

< 실시예 1> 화학식 1 로 표현되는 화합물의 합성

2,2,3,3,4,4,5,5- octafluorohexane -1,6- diyl diacrylate

1.389 g (0.005 mol)의 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diol을 50 ml의 Dichloromethane에 녹인 후, 1.0 ml (0.0125 mol)의 acryloyl chloride를 첨가하였다. 여기에 0℃에서 1.9ml(0.0125mol)의 triethylamine을 서서히 Droplet으로 가하고 혼합물을 상온에서 3시간정도 반응시켰다. 혼합물을 100 ml의 증류수로 3회 세척하고 Chloroform을 사용하여 유기층을 추출하였다. Magnesium sulfate를 사용하여 건조시킨 후, 필터로 걸러내고 용매를 제거하여 표제의 생성물을 얻었다. 수득률은 약 50%이며 1H-NMR: δ6.40 (d, 3H), 6.12 (m, 3H), 5.82 (d, 3H), 4.15 (m, 12H)

< 실시예 2> 화학식 1 로 표현되는 화합물의 합성

2,2,3,3,4,4,5,5- octafluorohexane -1,6- diyl diacrylate

1.11 g (0.003 mol)의 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diol을 50 ml의 DCM에 용해한 후, acryloyl chloride 0.50 ml(0.006 mol)를 첨가하고 여기에 1.0 ml(0.007 mol)의 triethylamine을 서서히 가하였다. 반응물을 상온에서 3시간이상 반응시킨 후, 100 ml의 증류수로 3 회 세척하고 Magnesium sulfate를 사용하여 건조시킨 후, 필터로 걸러내고 용매를 제거하여 표제의 생성물을 얻었다. 수득률은 약 95%이며 1H-NMR : δ6.53 (d, 1H), 6.20 (m, 1H), 5.99 (d, 1H), 4.68 (m, 2H)

< 실시예 3> 화학식 2 로 표현되는 화합물의 합성

2,2'-( perfluoro -1,4- phenylene ) bis (2,3,3,3- tetrafluoropropane -2,1- diyl ) diacrylate

2.590 g (0.005 mol)의 2,2’-(perfluoro-1,4-phenylene)bis(2,3,3,3-tetra fluoropropane-1-ol) 을 50 ml의 Dichloromethane에 녹인 후, 1.0 ml(0.0125 mol)의 acryloyl chloride를 첨가하였다. 여기에 0 ℃에서 1.9 ml(0.0125 mol)의 triethylamine을 서서히 Droplet으로 가하고 혼합물을 상온에서 3시간정도 반응시켰다. 혼합물을 100 ml의 증류수로 3회 세척하고 Chloroform을 사용하여 유기층을 추출하였다. Magnesium sulfate를 사용하여 건조시킨 후, 필터로 걸러내고 용매를 제거하여 표제의 생성물을 얻었다. 수득률은 약 70%이며 1H-NMR: δ6.45 (d, 4H), 6.18 (m, 2H), 3.78 (m, 4H)

< 실시예 4> 화학식 3 으로 표현되는 화합물의 합성

tris(2-(4-(3-( acryloyloxy )-1,1,1,2- tetrafluoropropan -2- yl )-2,3,5,6- tetrafluorophenyl )-2,3,3,3- tetrafluoropropyl )1,3,5- triazine -2,4,6- tricarboxylate

3.108 g (0.006 mol)의 2,2’-(perfluoro-1,4-phenylene)bis(2,3,3,3- tetrafluoropropane-1-ol 을 50 ml의 tetrahydrofuran에 녹인 용액에, 0.34 g(0.002 mol)의 cyanuric chloride를 25 ml tetrahydrofuran에 녹여 첨가하고, 이 용액에 0 ℃에서 1.0 ml(약 0.007 mol)의 triethylamine을 droplet으로 서서히 가하였다. 혼합물을 하룻밤동안 반응시키고 0.25 ml(0.003 mol)의 acryloyl chloride를 가한 후, 0 ℃에서 0.5 ml(약 0.0035 mol)의 triethylamine을 droplet으로 서서히 가하였다. 염을 걸러낸 후, 용매를 제거하여 표제의 생성물을 얻었다. 수득률은 약 46%이며 1H-NMR: δ6.49 (d, 6H), 6.13 (m, 3H), 3.59 (m, 6H)

< 실시예 5> 공중합체의 제조

2,2,3,4,4,4-Hexafluorobutyl acrylate와 실시예 1에서 합성한 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diyl diacrylate 및 실시예 3에서 합성한 2,2'-(perfluoro-1,4-phenylene)bis(2,3,3,3-tetrafluoropropane-2,1-diyl) diacrylate를 5:2:3의 질량비로 혼합하여 공중합하였다. 중합반응은 광중합 반응을 이용하였고, 자외선 영역의 광개시제인 2-Hydroxy-2-methyl-propiophenone를 사용하였다. 두 단량체와 광개시제의 혼합물을 slide glass나 silicon wafer에 도포하여 345nm 파장 부근의 자외선을 사용하는 ADAC사의 Cure zone2 노광기를 사용하여 10분간 반응시켜 필름 형태로 생성물을 얻었다. 이와 같이 하여 생성된 공중합체는 약 650nm 파장대에서 굴절률은 1.48정도의 값을 가지며 T_d(10 wt%)는 312 ℃이다.

< 실시예 6> 공중합체의 제조

2,2,3,4,4,4-Hexafluorobutyl acrylate와 화학식 1 및 2 로 표현되는 단량체2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexane-1,6-diyl diacrylate 및 2,2′-(perfluoro-1,4-phenylene)bis(2,3,3,3-tetrafluoropropane-2,1-diyl) diacrylate와 불소가 치환된 스티렌인 펜타플루오로 스티렌 단량을 질량비 3:2:2:3로 혼합하여 공중합하였다. 중합반응은 광중합 반응을 이용하였고, 자외선 영역의 광개시제인 2-Hydroxy-2-methyl-propiophenone를 사용하였다. 두 단량체와 광개시제의 혼합물을 slide glass나 silicon wafer에 도포하여 345nm 파장 부근의 자외선을 사용하여 5 분간 반응시켜 필름 형태로 생성물을 얻었다. 이와 같이 하여 생성된 공중합체는 약 650nm 파장대에서 굴절률은 1.51정도의 값을 가지며 T_d(10 wt%)는 352 ℃이다. 또한 이 공중합체의 조성은 3.6:1.8:1.7:2.9이었으며, 공중합체의 흡수손실은 850 nm에서 0.002 dB/cm 이었다.

본 발명의 공중합체는 각각의 단량체의 함량을 조절함으로써 공중합체의 광학적 특성을 변화시킬 수 있다. 본 발명의 공중합체는 하나의 중합 관능기를 가진 단량체에 2~3개의 중합관능기를 가지는 단량체를 혼합하여 공중합한 것으로 2~3개의 중합관능기를 가지는 단량체에 의해 삼차원 가교가 일어난 형태의 분자구조를 가지는 가교중합체이다. 본 발명의 화학식 1 내지 3 의 2~3개의 중합관능기를 가지는 단량체의 함량이 늘어날수록 본 발명의 공중합체의 가교밀도는 증가하게 되며 이에 따라 광학적 특성인 굴절률과 복굴절률, 열적 안정성이 증가하므로 본 발명의 공중합체는 새로운 광도파로용 소자로써 다양한 응용이 가능하다.

Claims

하기 화학식 2로 표현되는 것을 특징으로 하는 광도파로용 화합물:
<화학식 2>

(화학식 2에서,
X 는 F 또는 H 이며,
R 은 카르보닐(-C(=O)-)이다.)
청구항 1 의 화학식 2 로 표현되는 화합물 중에서 선택된 1 종 이상의 단량체; 와
불소를 포함하는 스티렌계 단량체 및 불소를 포함하는 아크릴계 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상의 단량체의 중합반응에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광도파로용 공중합체.
삭제
청구항 2 에 있어서,
상기 화학식 2 로 표현되는 화합물에서 선택된 단량체가 상기 공중합체에 대하여 20 내지 40 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 광도파로용 공중합체.
삭제
청구항 2 또는 4의 공중합체로 형성된 클래드층 및 코아를 포함하고, 나노임프린트 공정에 의하여 제조된 것을 특징으로 하는 광도파로.
청구항 6 에 있어서,
상기 광도파로가 상기 클래드층과 코아의 굴절률 차이가 0.2 내지 2.0 % 인 것을 특징으로 하는 광도파로.