KR101257763B1 - 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치, 그리고 방사성 의약품 합성 반응기의 온도를 보정하는 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 방사성 의약품의 합성 반응기를 가열 및 냉각시키는 장치와, 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법에 관한 것이다.
본 발명에 한 실시예에 따른 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법은, 가열로 설정온도(TS), 반응기 설정온도(TR), 온도 유지시간(Δt)을 설정하는 제1단계, 가열로 현재온도(TSP)를 읽는 제2단계, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 낮으면 상기 가열로를 상기 가열로 설정온도(TS)까지 온도를 높이고, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 높으면 상기 가열로를 상기 가열로 설정온도(TSP)까지 온도를 내리는 제3단계, 상기 반응기 설정온도(TR)와 반응기 현재온도(TRP)를 비교하는 제4단계, 그리고 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 다르면 상기 가열로 설정온도(TS)를 수학식 에 의해 재설정한 후 상기 제2단계로 되돌아가고, 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 동일하면 상기 온도 유지시간의 경과 여부를 확인하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 한 실시예에 따른 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법은, 가열로 설정온도(TS), 반응기 설정온도(TR), 온도 유지시간(Δt)을 설정하는 제1단계, 가열로 현재온도(TSP)를 읽는 제2단계, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 낮으면 상기 가열로를 상기 가열로 설정온도(TS)까지 온도를 높이고, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 높으면 상기 가열로를 상기 가열로 설정온도(TSP)까지 온도를 내리는 제3단계, 상기 반응기 설정온도(TR)와 반응기 현재온도(TRP)를 비교하는 제4단계, 그리고 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 다르면 상기 가열로 설정온도(TS)를 수학식 에 의해 재설정한 후 상기 제2단계로 되돌아가고, 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 동일하면 상기 온도 유지시간의 경과 여부를 확인하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 발명은 방사성 의약품의 합성 반응기를 가열 및 냉각시키는 장치와, 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성 반응기의 온도를 보정하는 방법에 관한 것이다.
PET(Positron Emission Tomography; 양전자 방출 단층촬영)는 종양, 뇌질환 등 다양한 인체 질환의 진단을 위한 특정의 방사성 의약품을 환자에게 주사한 후 환자 몸에서 방출되는 방사선을 실시간으로 측정하여 영상을 구성하여 질병을 진단하는 검사장비다.
검사에 사용되는 방사성 의약품은 싸이클로트론(cyclotron)에서 생성된 방사성 물질을 전구체(precursor)에 표지(labeling)하여 가수분해, 정제과정 등을 거쳐 합성하게 된다. PET용 방사성 의약품은 진단하려는 질병의 종류에 따라서 다른 시약(reagent)과 다른 화학적 프로세스를 통하여 합성된다. 그러나 방사성 물질을 전구체에 표지하기 위하여 반응기(reactor)에 방사성 물질과 시약(reagent)을 넣고, 전구체 표지반응을 활성화하기 위하여 반응기를 가열 냉각하는 과정은 공통적인 프로세스로서 사용된다.
일반적으로 방사성 의약품의 합성을 위해서는 화학적 반응의 활성화를 위하여 가열과 냉각이 반복된다. 한 예로 방사성 물질에 포함된 약간의 물을 제거하기 위하여 수회의 시약 혼합, 가열, 냉각을 반복하며, 이러한 가열 및 냉각 과정은 방사성 의약품 수율에 크게 영향을 준다. 따라서 가열 및 냉각 장치의 효율성은 전체 합성 수율에 영향을 준다고 할 수 있다.
일반적인 반응기 가열 및 냉각 장치는 도 1에 도시된 바와 같은 방사성 의약품 자동 합성 장치의 내부에 장착된다. 도 2에서 도시된 바와 같이 종래의 가열장치(반응기 가열로)는 열전도가 높은 구리재질을 사용하며 전기 가열방식을 사용한다. 가열로에는 온도 측정을 위한 센서가 부착되어 있으며 실시간으로 온도를 확인할 수 있다. 가열로의 냉각은 일반적으로 공기(compressed air)를 이용하여 설정한 온도까지 공기를 불어 냉각한다.
고수율의 방사성 의약품 합성을 위해서는 반응기가 정확하고 신속하게 설정온도에 도달할 필요가 있으며, 또한 일정한 온도를 설정한 시간 동안 유지할 수 있어야 한다.
종래의 반응기 가열 및 냉각 장치는 다음과 같은 문제점이 있다.
ⅰ) 일반적인 시약의 비등점 특성으로 인하여 100℃ 이상의 고온으로 반응기를 가열하여도 반응기 온도는 일반적으로 100℃ 이상 가열되지 않는다. 즉, 가열장치(heater)와 반응기 내부의 온도차가 발생하여 원하는 온도를 유지하기 어렵다.
ⅱ) 싸이클로트론(cyclotron)에서 생성된 방사성 물질은 2시간 내외의 짧은 반감기로 인하여 신속한 합성을 필요로 함으로, 한 번 가열된 반응기는 다음 화학적 반응을 위한 적정 온도까지 짧은 시간 안에 냉각될 수 있어야 하는데, 그렇지 못한 문제점이 있었다.
ⅲ) 가열 중에 반응기 내부의 정확한 온도 측정은 방사능으로 인하여 수작업에 의한 측정이 불가능하며, 온도 측정을 위하여 반응기를 열고 수시로 측정하기는 더욱 어렵다.
ⅳ) 합성한 방사성 의약품에 따라서 프로세스가 달라지며, 또한 반응기와 가열로의 온도차는 반응기에 존재하는 시약 비등점에 의해 영향을 받는다. 따라서 반응기와 가열로의 온도 차이를 한 번의 보정에 의해 영구적으로 다양한 합성에 대체할 수 없으며, 정확한 반응기의 온도 유지 및 가열시간 단축을 위해서는 이를 실시간으로 보정하여 사용할 필요가 있다.
ⅴ) 반응기를 삽입하는 홀더는 가열장치의 열팽창에 대비해 약간의 유격이 있는데, 이러한 유격은 가열시 열효율을 떨어뜨리게 된다.
본 발명의 목적은 상기와 같은 문제점을 해결할 수 있는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치와, 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법을 제공하는 것이다.
상기의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 한 실시예에 따른 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법은, 가열로 설정온도(TS), 반응기 설정온도(TR), 온도 유지시간(Δt)을 설정하는 제1단계, 가열로 현재온도(TSP)를 읽는 제2단계, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 낮으면 상기 가열로를 상기 가열로 설정온도(TS)까지 온도를 높이고, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 높으면 상기 가열로를 상기 가열로 설정온도(TS)까지 온도를 내리는 제3단계, 상기 반응기 설정온도(TR)와 반응기 현재온도(TRP)를 비교하는 제4단계, 그리고 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 다르면 상기 가열로 설정온도(TS)를 수학식 에 의해 재설정한 후 상기 제2단계로 되돌아가고, 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 동일하면 상기 온도 유지시간의 경과 여부를 확인하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 온도 유지시간이 경과하지 않은 경우에는 상기 제2 단계로 되돌아가고, 상기 온도 유지시간이 경과한 경우에는 상기 반응기의 온도 보정을 종료하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치는 반응기를 가열하는 가열로와, 상기 가열로를 둘러싸는 튜브를 포함하며, 상기 튜브에는 상기 가열로 쪽을 향하여 개구(開口)되어 있는 복수 개의 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 튜브는 상기 가열로를 나선형으로 둘러싸는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가열로는 상기 반응기가 장착되는 홀을 구비하고, 상기 홀의 측벽에는 복수 개의 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가열로와 상기 튜브의 나선형으로 형성된 부분을 내포하는 격벽을 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 튜브의 내부로는 압축 공기가 흐르는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가열로는 상기 반응기가 장착되는 홀을 구비하고, 상기 홀의 내벽과 상기 반응기 사이의 간극에는 상기 간극을 제거하기 위한 반응기 클립이 장착되는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반응기 클립은 복수 개의 박막 띠 형상을 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 반응기 클립은 상기 가열로와 동일한 재질로 구성되고, 탄성을 구비하는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 복수 개의 박막 띠는, 일단이 상기 가열로에 연결되고, 타단이 자유단으로 구성되며, 서로 간격을 두고 배치되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 반응기가 정확하고 신속하게 설정온도에 도달할 수 있음과 동시에, 일정한 온도를 설정한 시간 동안 효과적으로 유지할 수 있다.
또한, 한 번 가열된 반응기를 다음 화학적 반응을 위하여 적정 온도까지 단시간에 냉각시킬 수 있다.
또한, 실시간 온도 보정을 통하여 정확한 반응기의 온도 유지 및 가열시간 단축을 달성할 수 있다.
도 1은 일반적인 방사성 의약품 합성 장치의 한 예를 나타낸다.
도 2는 반응기를 가열하는 종래의 가열로의 한 예이다.
도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 주요 구성을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기의 온도 보정 방법의 플로우 차트이다.
도 5는 도 4의 방법을 사용할 경우, 가열로와 반응기의 온도 상승 곡선을 나타낸다.
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 가열로를 나타낸다.
도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 평면도이다.
도 8은 도 7의 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 사시도이다.
도 9는 도 7의 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 튜브를 나타낸다.
도 2는 반응기를 가열하는 종래의 가열로의 한 예이다.
도 3은 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 주요 구성을 나타낸다.
도 4는 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기의 온도 보정 방법의 플로우 차트이다.
도 5는 도 4의 방법을 사용할 경우, 가열로와 반응기의 온도 상승 곡선을 나타낸다.
도 6은 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 가열로를 나타낸다.
도 7은 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 평면도이다.
도 8은 도 7의 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 사시도이다.
도 9는 도 7의 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치의 튜브를 나타낸다.
이하에서는 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 설명한다.
도 4에는 본 발명에 한 실시예에 따른 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법의 플로우 차트가 도시되어 있다. 한편, 온도 확인을 위하여, 도 3에 도시된 바와 같이, 반응기 및 가열로에는 별도의 온도센서(100,200)가 각각 설치되어 있다. 여기서, 가열로에 부착된 온도센서(200)는 가열로의 온도제어에 사용하며, 반응기에 밀착된 온도센서(100)는 반응기 내부의 시약과 방사성 물질 사이의 물리 화학적 반응을 일정하게 유지하기 위한 온도 보정에 사용된다. 온도센서에 의한 온도 측정 프로세스 시간은 무시하며 오차는 ±0.5℃, 실시간 온도 제공을 가정한다.
먼저, 가열로 설정온도(TS), 반응기 설정온도(TR), 온도 유지시간(Δt)을 설정한다(S1).
다음, 가열로 현재온도(TSP)를 읽는다(S2).
다음, 가열로 현재온도(TSP)가 가열로 설정온도(TS)를 서로 비교한다(S3).
다음, 가열로 현재온도(TSP)가 가열로 설정온도(TS)보다 낮으면 가열로를 가열로 설정온도(TS)까지 온도를 높인다(S4).
다음, 가열로 현재온도(TSP)가 가열로 설정온도(TS)보다 높으면 가열로를 가열로 설정온도(TSP)까지 온도를 내린다(S5).
다음, 반응기 설정온도(TR)와 반응기 현재온도(TRP)를 비교한다(S6).
다음, 반응기 현재온도(TRP)가 반응기 설정온도(TR)와 다르면 가열로 설정온도(TS)를 다음의 [수학식 1]에 의해 재설정한다(S7). 그리고, 다시 S2 단계로 돌아가 이후의 단계를 진행한다.
[수학식 1]
다음, 반응기 현재온도(TRP)가 반응기 설정온도(TR)와 동일하면 온도 유지시간(Δt)이 경과했는지 확인한다(S8). 이때, 온도 유지시간(Δt)이 경과한 경우 온도 제어를 종료하며, 만일 온도 유지시간(Δt)이 경과하지 않은 경우에는 S2 단계로 돌아가 이후의 단계를 진행한다.
이와 같은, 온도 보정 방법을 사용할 경우, 반응기와 가열로의 온도 상승곡선은 도 5에 도시된 바와 같다. 여기서 점선(①)은 가열로의 온도 상승 곡선, 실선은(②) 반응기의 온도 상승 곡선이다.
이하에서는 도 6 내지 도 9를 참조하여 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치에 대하여 설명한다. 이러한 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치는 상술한 바와 같은 온도 보정 방법을 사용하여 반응기의 온도를 관리할 수 있다.
본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치는, 반응기를 가열하는 가열로(1)와, 가열로(1)를 둘러싸는 튜브(2), 격벽(3)을 포함한다.
가열로(1)는 반응기(R)가 장착되는 홀(11)을 구비하고, 홀(11)의 측벽에는 복수 개의 구멍(미도시)이 형성되어 있다.
도 9에 도시된 바와 같이, 튜브(2)는 가열로(1)를 나선형으로 둘러싸고 있으며, 또한 튜브(2)에는 가열로(1) 쪽을 향하여 개구되어 있는 복수 개의 구멍(21)이 형성되어 있다. 여기서, 튜브(2)의 내부로는 압축 공기가 흐른다.
격벽(3)은 가열로(1)와 튜브(2)의 나선형으로 형성된 부분을 내포하면서 챔버(chamber)를 형성함으로써, 공기 사용 효율을 높인다.
가열된 반응기(R)는 방사성 의약품 합성의 다음 합성 단계를 위하여 신속히 냉각될 필요가 있다. 일반적으로 압축된 공기(compressed air)를 불어 가열로(1)를 냉각하며, 냉각된 가열로(1)는 반응기(R)의 열을 흡수하여 반응기(R)를 간접적으로 냉각한다.
본 실시예에서는 반응기(R)를 신속하게 냉각시키기 위하여, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 가열로(1)를 챔버(chamber)라는 격벽(3)으로 덮어씌워 공기 사용 효율을 높인다.
압축 공기는 가열로(1)를 감싸는 나선형의 금속제 튜브(2)를 따라서 가열로(1)에 도달하며, 튜브(2)의 안쪽에는 작은 구멍(21)들을 통하여 압축 공기를 배출하도록 한다. 이렇게 함으로서 가열로(1) 전체를 고르게 냉각시킬 수 있으며, 또한, 반응기(R)가 장착되는 홀(11)은 미세한 복수 개의 구멍(미도시)을 구비하고 있어 가열로(1)에 도달한 일부 공기가 반응기(R)를 직접 냉각시킨다.
또한, 도 6을 참조하여, 본 발명의 한 실시예에 따른 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치는, 반응기(R)가 장착되는 홀(11)을 구비하는 가열로(1)를 구비한다. 그리고 홀(11)의 내벽과 반응기(R) 사이의 간극에는 반응기 클립(4)이 장착된다.
반응기 클립(4)은 홀(11)의 내벽과 반응기(R) 사이의 간극을 제거하기 위하여 사용된다. 반응기 클립(4)은 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 복수 개의 박막 띠(41)를 구비하고 있으며, 이들 띠(41)의 일단은 가열로(1)에 고정되고, 타단은 자유단 형식으로 구성되어 있다.
참고로, 반응기(R)는 화학적 반응을 위한 장소를 제공하는데, 물리 화학적 반응을 위한 고열(100℃ 이상)의 조건에서 사용하기 위해 강화유리로 되어 있고, 상단부는 실리콘 재질로 반응기(R)의 밀폐를 유지시킨다.
반응기(R)를 가열로(1)에 장착하는 홀(11)은 가열로(1)의 열팽창에 대비하여 반응기(R)와 약간의 유격을 갖는다. 이러한 유격은 열전달 효율을 떨어뜨리게 되는바, 본 발명에서는 복수 개의 얇은 띠 모양의 반응기 클립(4)을 홀(11)의 내부에 장착하여 반응기(R)와 홀(11) 사이의 간극을 제거한다. 구체적으로는, 복수 개의 얇은 띠를 도 6에서와 같이 배치시킨다.
반응기 클립(4) 내부로 반응기(R)를 위치시키면, 탄성력을 가진 반응기 클립(3)이 반경 바깥 방향으로 벌어지게 되고, 이때 반응기 클립(4)은 반응기(R)에 밀착될 수 있다. 한편, 반응기 클립(4)의 재질로는 가열로(1)와 동일한 재질이 사용될 수 있다. 그리고 반응기 클립(4)은 반응기(R)를 삽입시킨 후에 반응기(R)와 가열로(1) 사이의 간극을 메울 정도의 두께로 형성되는 것이 바람직하다.
이상에서 본 발명의 실시예를 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 아니하며 본 발명의 실시예로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 용이하게 변경되어 균등한 것으로 인정되는 범위의 모든 변경 및 수정을 포함한다.
R. 반응기 P. 히팅용 파이프
1. 가열로 11. 홀
2. 튜브 21. 복수 개의 구멍
3. 격벽(챔버) 4. 반응기 클립
41. 박막 띠 42. 간격
100, 200. 온도센서
1. 가열로 11. 홀
2. 튜브 21. 복수 개의 구멍
3. 격벽(챔버) 4. 반응기 클립
41. 박막 띠 42. 간격
100, 200. 온도센서
Claims (11)
- 가열로에 의해 가열 및 냉각되는 방사성 의약품 합성용 반응기의 온도를 보정하는 방법에 있어서,
가열로 설정온도(TS), 반응기 설정온도(TR), 온도 유지시간(Δt)을 설정하는 제1단계,
가열로 현재온도(TSP)를 읽는 제2단계,
상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 낮으면 상기 가열로 설정온도(TS)까지 상기 가열로의 온도를 높이고, 상기 가열로 현재온도(TSP)가 상기 가열로 설정온도(TS)보다 높으면 상기 가열로 설정온도(TS)까지 상기 가열로의 온도를 내리는 제3단계,
상기 반응기 설정온도(TR)와 반응기 현재온도(TRP)를 비교하는 제4단계, 그리고
상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 다르면 상기 가열로 설정온도(TS)를 수학식 에 의해 재설정한 후 상기 제2단계로 되돌아가고, 상기 반응기 현재온도(TRP)가 상기 반응기 설정온도(TR)와 동일하면 상기 온도 유지시간의 경과 여부를 확인하는 제5단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기의 온도 보정 방법. - 제1항에서,
상기 온도 유지시간이 경과하지 않은 경우에는 상기 제2 단계로 되돌아가고, 상기 온도 유지시간이 경과한 경우에는 상기 반응기의 온도 보정을 종료하는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기의 온도 보정 방법. - 반응기를 가열하는 가열로와, 상기 가열로를 둘러싸는 튜브
를 포함하며,
상기 튜브에는 상기 가열로 쪽을 향하여 개구되어 있는 복수 개의 구멍이 형성되어 있으며,
상기 가열로는 상기 반응기가 장착되는 홀을 구비하고, 상기 홀의 측벽에는 복수 개의 구멍이 형성되어 있는 것
을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 제3항에서,
상기 튜브는 상기 가열로를 나선형으로 둘러싸는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 삭제
- 제3항에서,
상기 가열로와 상기 튜브의 나선형으로 형성된 부분을 내포하는 격벽을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 제3항, 제4항, 및 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 튜브의 내부로는 압축 공기가 흐르는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 제3항에서,
상기 가열로는 상기 반응기가 장착되는 홀을 구비하고,
상기 홀의 내벽과 상기 반응기 사이의 간극에는 상기 간극을 제거하기 위한 반응기 클립이 장착되는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 제8항에서,
상기 반응기 클립은 복수 개의 박막 띠 형상을 구비하는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 제9항에서,
상기 반응기 클립은 상기 가열로와 동일한 재질로 구성되고, 탄성을 구비하는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치. - 제9항에서,
상기 복수 개의 박막 띠는, 일단이 상기 가열로에 연결되고, 타단이 자유단으로 구성되며, 서로 간격을 두고 배치되는 것을 특징으로 하는 방사성 의약품 합성 반응기 가열 및 냉각 장치.
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Citations (4)
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US5297234A (en) * | 1990-05-09 | 1994-03-22 | Lifesource Advanced Blood Bank Systems, Inc. | Method and apparatus for the rapid thermal processing of transfusion fluid |
KR0180626B1 (ko) * | 1995-10-27 | 1999-05-15 | 이종훈 | 고온 가압 석탄가스화 반응장치 |
JP2005500675A (ja) * | 2001-05-16 | 2005-01-06 | サンミナエスシーアイ コーポレイション | 冷却空気流れ分与装置 |
JP2010216793A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Masahisa Fujimoto | 吸収冷却器、熱交換器 |
-
2011
- 2011-01-06 KR KR1020110001217A patent/KR101257763B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
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