KR101247253B1 - Apparatus and method for double-sided exposure using liquid crystal mask - Google Patents

Apparatus and method for double-sided exposure using liquid crystal mask Download PDF

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Abstract

액정 마스크를 이용한 양면 노광 장치 및 방법이 개시된다.
양면 노광 장치는 패널 몸체, 패널 몸체의 일면에 부착된 제1 액정 마스크, 패널 몸체의 다른 면에 부착되어 제1 액정 마스크와 공간을 두고 서로 마주보도록 형성되어 있는 제2 액정 마스크, 제1 액정 마스크와 제2 액정 마스크 사이의 공간에 기판을 위치시킬 수 있도록 형성된 패널 몸체 상의 기판 삽입부를 포함한다. 기판 삽입부에는 패턴 형성을 위한 기판이 위치하며, 기판을 중심으로 두 장의 액정 마스크와의 사이에 생기는 공간에 감광층이 삽입된다. 액정 마스크들의 위치가 고정된 초기 위치에서, 기판에 대한 일면 노광이 이루어지고, 액정 마스크들이 결합된 상태로 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 해당 기판에 대한 다른 면 노광이 이루어진다.
이러한 구성에 따르면, 앞면/밑면 노광 과정에서 마스크를 변경하거나 얼라인먼트를 맞출 필요가 없어서 양면 노광을 할 때 얼라인먼트에 소요되는 시간을 현저히 낮출 수 있고, 공정의 정확성과 효율성을 높일 수 있다.Disclosed are a double-sided exposure apparatus and method using a liquid crystal mask.
The double-sided exposure apparatus includes a panel body, a first liquid crystal mask attached to one side of the panel body, a second liquid crystal mask attached to the other side of the panel body and formed to face each other with a space between the first liquid crystal mask and the first liquid crystal mask. And a substrate inserting portion on the panel body formed to position the substrate in the space between the second liquid crystal mask and the second liquid crystal mask. A substrate for forming a pattern is positioned at the substrate inserting portion, and a photosensitive layer is inserted into a space formed between two liquid crystal masks around the substrate. At the initial position where the positions of the liquid crystal masks are fixed, one surface exposure is performed on the substrate, and the other surface exposure is performed on the substrate while being rotated 180 ° from the initial position with the liquid crystal masks combined.
According to this configuration, it is not necessary to change the mask or align the alignment in the front / bottom exposure process, it is possible to significantly reduce the time required for the alignment when double-sided exposure, and to increase the accuracy and efficiency of the process.

Figure R1020100105863
Figure R1020100105863

Description

액정 마스크를 이용한 양면 노광 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR DOUBLE-SIDED EXPOSURE USING LIQUID CRYSTAL MASK}A double-sided exposure apparatus and method using a liquid crystal mask {APPARATUS AND METHOD FOR DOUBLE-SIDED EXPOSURE USING LIQUID CRYSTAL MASK}

본 발명은 포토리소그래피(Photolithography) 공정의 마스크 기술에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정 마스크를 이용한 양면 노광 장치 및 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a mask technology of a photolithography process, and more particularly, to a double-sided exposure apparatus and method using a liquid crystal mask.

종래의 양면 노광 방법으로는, 빛을 양면에서 주사하는 방식이 있고, 거울을 이용하는 방식 또는 롤을 이용한 연성 기판 노광 등이 있다. 그러나, 이러한 방식의 양면 노광 장치들은 부피가 크거나 한 번 이상 얼라인먼트를 맞추어야 하며, 고가의 장비라는 단점이 있다.Conventional double-sided exposure methods include a method of scanning light from both sides, and a method using a mirror or a flexible substrate exposure using a roll. However, this type of double-sided exposure apparatus is bulky or needs to be aligned more than once, and has the disadvantage of being expensive equipment.

전술한 방법에서는, 앞면용 마스크와 밑면용 마스크에 얼라인먼트 키라는 포인트를 두어 이 얼라인먼트 키를 기준으로 기판을 일정 위치에 맞추어 노광을 수행하며, 앞면 노광을 하고 밑면 노광을 할 때 밑면용 마스크의 얼라인먼트 키와 기판에 있는 얼라인먼트 키를 정확하게 맞추어야 한다.In the above-described method, an alignment key is placed on the front mask and the bottom mask so that the substrate is exposed at a predetermined position based on the alignment key, and the bottom mask is aligned when the front exposure and the bottom exposure are performed. The alignment key on the key and the board must be aligned correctly.

패턴의 간격이 큰 도면에서는 얼라인먼트 키가 비교적 쉽게 맞추어지지만 패턴 간격이 적어지는 도면에서는 얼라인먼트 키를 맞추는 작업에 소요되는 시간이 많아져 하루에 노광할 수 있는 제품이 그만큼 적어지는 단점이 있다. 즉, 기판 양면에 노광을 할 때 먼저 기판 앞면에 회로의 앞면용 마스크를 사용하여 노광을 하고, 그 기판을 뒤집어 회로의 밑면용 마스크를 놓고 얼라인먼트를 맞춘 후 다시 노광을 해야 하므로, 작업이 번거롭고, 많은 시간이 소요되는 것이다.
In the drawing with a large pattern interval, the alignment key is relatively easily matched. However, in the drawing with a small pattern interval, the time required for the alignment key is increased so that there are fewer products that can be exposed in one day. In other words, when exposing both sides of the substrate, the front face of the circuit is first exposed using a mask for the front side of the circuit, the substrate is turned over, the mask for the bottom side of the circuit is aligned, the alignment is required, and the exposure is cumbersome. It takes a lot of time.

본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로, 그 목적은 얼라인먼트에 소요되는 시간을 줄이고, 마스크 교체 및 얼라인먼트 일치 작업을 생략하여 공정의 정확성과 효율성을 높일 수 있도록 하는 양면 노광 장치 및 방법을 제공함에 있다.The present invention has been proposed to solve the problems of the prior art as described above, the object of which is to reduce the time required for alignment, eliminating the mask replacement and alignment matching operations to increase the accuracy and efficiency of the process An exposure apparatus and method are provided.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
It is to be understood that both the foregoing general description and the following detailed description are exemplary and explanatory and are not intended to limit the invention to the precise form disclosed. There will be.

본 발명에 따른 액정 마스크를 이용한 양면 노광 장치는 패널 몸체; 상기 패널 몸체의 일면에 부착된 제1 액정 마스크; 상기 패널 몸체의 다른 면에 부착되어 상기 제1 액정 마스크와 공간을 두고 서로 마주보도록 형성되어 있는 제2 액정 마스크; 및 상기 제1 액정 마스크와 상기 제2 액정 마스크 사이의 공간에 기판을 위치시킬 수 있도록 형성된 상기 패널 몸체 상의 기판 삽입부를 포함한다.A double-sided exposure apparatus using a liquid crystal mask according to the present invention includes a panel body; A first liquid crystal mask attached to one surface of the panel body; A second liquid crystal mask attached to the other surface of the panel body and formed to face each other with a space between the first liquid crystal mask; And a substrate insertion portion on the panel body formed to position the substrate in a space between the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask.

양면 노광 장치는 상기 기판 삽입부에 설치된 기판; 및 상기 제1 액정 마스크와 상기 기판 사이, 상기 기판과 상기 제2 액정 마스크 사이의 공간에 삽입된 감광층을 더 포함할 수 있다.A double-sided exposure apparatus includes a substrate provided in the substrate inserting portion; And a photosensitive layer inserted in a space between the first liquid crystal mask and the substrate and between the substrate and the second liquid crystal mask.

양면 노광 장치는 상기 제1 액정 마스크 및 상기 제2 액정 마스크에 동일한 도면 이미지를 전송하여 동일 시점에서 상기 기판을 중심으로 상기 제1 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 일면이, 상기 제2 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 다른 면이 각각 디스플레이 되도록 제어하는 마스크 패널 구동부를 더 포함할 수 있다.The double-sided exposure apparatus transmits the same drawing image to the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask, and at one time, one surface of the drawing image is on the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask is on the substrate. The apparatus may further include a mask panel driver configured to control different surfaces of the drawing image to be displayed.

양면 노광 장치는 상기 제1 액정 마스크와 상기 제2 액정 마스크가 결합된 상태에서 상기 패널 몸체를 초기 위치에 고정하며, 상기 제1 액정 마스크와 상기 제2 액정 마스크의 결합을 유지한 상태 그대로 상기 패널 몸체를 초기 위치로부터 180° 회전하여 고정할 수 있도록 형성된 마스크 패널 고정부를 더 포함할 수 있다.The double-sided exposure apparatus fixes the panel body to an initial position while the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask are coupled to each other, and maintains the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask in combination with the panel. The apparatus may further include a mask panel fixing part configured to fix the body by rotating the body 180 ° from the initial position.

양면 노광 장치는 초기 위치에서 상기 제1 액정 마스크의 상부에서 빛을 조사하여 상기 제1 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 일면에 감광물질 패턴을 형성하고, 상기 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 상기 제2 액정 마스크의 상부로 빛을 조사하여 상기 제2 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 다른 면에 감광물질 패턴을 형성하도록 동작할 수 있다.The double-sided exposure apparatus irradiates light from the upper portion of the first liquid crystal mask at an initial position to selectively pattern the photosensitive layer on the substrate according to the mask pattern of the first liquid crystal mask to form a photosensitive material pattern on one surface of the substrate. And irradiating light to the upper portion of the second liquid crystal mask in a state of rotating the first position by 180 ° to selectively pattern the photosensitive layer on the substrate according to the mask pattern of the second liquid crystal mask to expose the other surface of the substrate. It may be operable to form a material pattern.

본 발명에 따른 액정 마스크를 이용한 양면 노광 방법은 서로 마주보는 제1 액정 마스크와 제2 액정 마스크 사이에 기판이 위치하고, 상기 기판의 양면에 감광층이 형성된 양면 노광 장치를 이용한 양면 노광 방법에 있어서, 상기 양면 노광 장치가 상기 제1 액정 마스크 및 상기 제2 액정 마스크에 동일한 도면 이미지를 전송하여 상기 기판을 중심으로 상기 제1 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 일면이, 상기 제2 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 다른 면이 각각 디스플레이 되도록 제어하는 단계; 상기 양면 노광 장치가 초기 위치에서 상기 제1 액정 마스크로 빛을 조사하여 상기 제1 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 일면에 감광물질 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 양면 노광 장치가 상기 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 상기 제2 액정 마스크의 상부로 빛을 조사하여 상기 제2 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 다른 면에 감광물질 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
In the double-sided exposure method using the liquid crystal mask according to the present invention, in the double-sided exposure method using a double-sided exposure apparatus in which a substrate is positioned between the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask facing each other, the photosensitive layer is formed on both sides of the substrate, The double-sided exposure apparatus transmits the same drawing image to the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask so that one surface of the drawing image is on the first liquid crystal mask and the drawing image is on the second liquid crystal mask. Controlling the other sides of the display to be displayed respectively; Irradiating light to the first liquid crystal mask at an initial position by the double-sided exposure apparatus to selectively pattern a photosensitive layer on the substrate according to a mask pattern of the first liquid crystal mask to form a photosensitive material pattern on one surface of the substrate ; And irradiating light to the upper portion of the second liquid crystal mask while the double-sided exposure apparatus is rotated 180 ° from the initial position to selectively pattern the photosensitive layer on the substrate according to a mask pattern of the second liquid crystal mask. Forming a photosensitive material pattern on the other side of the substrate.

본 발명의 양면 노광 장치 및 방법에 따르면, 앞면/밑면 노광 과정에서 마스크를 변경하거나 얼라인먼트를 맞출 필요가 없어서 양면 노광을 할 때 얼라인먼트에 소요되는 시간을 현저히 낮출 수 있고, 공정의 정확성과 효율성을 높일 수 있다.According to the double-sided exposure apparatus and method of the present invention, there is no need to change the mask or align the alignment in the front / bottom exposure process, it is possible to significantly reduce the time required for alignment when double-sided exposure, and to increase the accuracy and efficiency of the process Can be.

또한, 본 발명의 양면 노광 장치 및 방법에 따르면, 액정 마스크를 사용하여 마스크 사용 비용을 최소화함으로써 반도체, 디스플레이 및 PCB(Printed Circuit Board) 소자의 제조 비용을 현저히 낮출 수 있다.
In addition, according to the double-sided exposure apparatus and method of the present invention, it is possible to significantly lower the manufacturing cost of semiconductors, displays, and printed circuit board (PCB) devices by minimizing the cost of using a mask using a liquid crystal mask.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 마스크를 이용한 양면 노광 장치의 구성도이다.
도 2 및 도 3은 도 1에 나타난 양면 노광용 액정 마스크 패널의 구성도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 마스크를 이용한 양면 노광 방법의 흐름도이다.1 is a block diagram of a double-sided exposure apparatus using a liquid crystal mask according to an embodiment of the present invention.
2 and 3 are structural diagrams of the liquid crystal mask panel for double-sided exposure shown in FIG. 1.
4 is a flowchart of a double-sided exposure method using a liquid crystal mask according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 양면 노광 장치 및 방법에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a double-sided exposure apparatus and method according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 마스크를 이용한 양면 노광 장치의 구성도이다.1 is a block diagram of a double-sided exposure apparatus using a liquid crystal mask according to an embodiment of the present invention.

도 1의 일 실시예는 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)를 갖는 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 포함하며, 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 고정하기 위한 지지대 타입의 마스크 패널 고정부(120), 외부 컴퓨터(200)에서 오는 신호를 받아 처리할 수 있게 하는 보드 타입의 아날로그/디지털 변환부(130), 아날로그/디지털 변환부(130)에서 처리된 신호를 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)에 구비된 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)로 전송하기 위한 마스크 패널 구동부(140), 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)로 자외선 등의 빛을 조사하여 노광을 수행하기 위한 노광부(150)로 이루어져 있다.1 includes a double-sided exposure liquid crystal mask panel 110 having two liquid crystal masks LC1 and LC2, and a supporter type mask panel fixing part for fixing the double-sided exposure liquid crystal mask panel 110 ( 120, a signal processed by the board-type analog / digital converter 130 and the analog / digital converter 130, which receive and process a signal from the external computer 200, may be used. The exposure unit 150 for performing exposure by irradiating light such as ultraviolet rays with the mask panel driver 140 for transmitting to the two liquid crystal masks LC1 and LC2 and the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure. Consists of

일 실시예의 양면 노광은 단면 노광과 비교하여 보다 편리하게 노광을 수행하기 위하여 양면 노광 장치 내에 포토 레지스터 또는 드라이필름 레지스트 등의 감광층(PR1, PR2)을 삽입한 후 해당 장치를 앞뒤로 뒤집어 가면서 노광을 할 수 있는 방식이며, 이러한 방식은 노광할 때마다 얼라인먼트를 해야 할 필요성이 없다. 이는 앞면과 밑면의 도트 피치 차이가 없는 액정 마스크(LC1, LC2)를 사용하기 때문이다. 또한, 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)에 같은 패턴을 보여주기 때문에, 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)에 디스플레이 되는 패턴의 간격 차이가 없다.The double-sided exposure of one embodiment inserts photosensitive layers PR1 and PR2 such as photoresist or dry film resist into the double-sided exposure apparatus in order to perform exposure more conveniently than single-sided exposure, and then turns the device upside down. This is the way to do it, and this way there is no need to align every exposure. This is because liquid crystal masks LC1 and LC2 do not have a difference in dot pitch between the front and bottom surfaces. In addition, since the same pattern is shown on the two liquid crystal masks LC1 and LC2, there is no difference in the gap between the patterns displayed on the two liquid crystal masks LC1 and LC2.

컴퓨터(200)에서 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)에 도면 이미지를 전송할 때 도면의 양면(앞면과 밑면)을 동시에 전송해주어야 하는데, 이러한 문제는 액정 마스크(LC1, LC2)의 특징을 사용하여 해결하면 된다. 즉 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)를 차례로 놓고 같은 도면 이미지를 디스플레이 해 주는 것이다.When the drawing image is transferred from the computer 200 to the two liquid crystal masks LC1 and LC2, both sides (front and bottom) of the drawing must be simultaneously transferred. This problem is solved by using the characteristics of the liquid crystal masks LC1 and LC2. Just do it. That is, two liquid crystal masks LC1 and LC2 are placed in sequence to display the same drawing image.

두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)가 차례로 놓여져 있기 때문에, 이러한 방법으로 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)에 동일한 도면 이미지를 디스플레이 하게 되면, 하나의 액정 마스크(LC1)에는 도면의 일면(예컨대, 앞면)이 디스플레이 되고, 다른 액정 마스크(LC2)에는 도면의 다른 면(예컨대, 밑면)이 디스플레이 된다. 이러한 경우, 도면 디스플레이를 위하여 한 대의 컴퓨터(200)만을 사용해도 되고, 같은 도면을 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)에 분배하여 전송해 주면 된다. 또한, 노광에 영향을 주지 않는 간단한 구조의 마스크 패널 고정부(120)를 제작하여 앞면 노광이 끝나면 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 회전시켜 앞/밑면을 뒤집은 상태로 다시 고정해 줄 수 있도록 한다.Since the two liquid crystal masks LC1 and LC2 are placed in turn, when the same drawing image is displayed on the two liquid crystal masks LC1 and LC2 in this manner, one liquid crystal mask LC1 has one surface (for example, The front side), and the other liquid crystal mask LC2 displays the other side (for example, the bottom side) of the figure. In this case, only one computer 200 may be used for drawing display, and the same drawing may be distributed to two liquid crystal masks LC1 and LC2 for transmission. In addition, by manufacturing a mask panel fixing part 120 of a simple structure that does not affect the exposure to rotate the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure after the front exposure is completed so that the front / bottom can be fixed again in the inverted state. .

도 2 및 도 3은 도 1에 나타난 양면 노광용 액정 마스크 패널의 구성도이다.2 and 3 are structural diagrams of the liquid crystal mask panel for double-sided exposure shown in FIG. 1.

도 2를 참조하면, 일 실시예의 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)은 패널 몸체(111), 패널 몸체(111) 상에 서로 마주보도록 고정 결합되는 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2), 패널 몸체(111) 상의 기판 삽입부(112)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure according to an embodiment includes two panel liquid crystal masks LC1 and LC2 fixedly coupled to face each other on the panel body 111, the panel body 111, and the panel body ( And substrate insert 112 on 111.

두 장의 액정 마스크(LC1, LC2) 각각은 액정을 이용하여 패턴 변형이 자유로운 노광용 마스크를 구현한 것으로, 마스크 패널 구동부(140)의 제어에 따라 화면을 이루는 픽셀들을 구동하여 화면 상에 도면 이미지를 디스플레이 하여 사용자가 원하는 특정 마스크패턴을 구현한다.Each of the two liquid crystal masks LC1 and LC2 implements an exposure mask free of pattern deformation by using liquid crystal, and drives the pixels forming the screen under the control of the mask panel driver 140 to display a drawing image on the screen. To implement the specific mask pattern you want.

제1 액정 마스크(LC1)는 패널 몸체(111)의 일면에 부착되며, 제2 액정 마스크(LC2)는 패널 몸체(111)의 다른 면에 부착되어 제1 액정 마스크(LC1)와 공간을 두고 서로 마주보도록 형성되어 있다. 기판 삽입부(112)는 제1 액정 마스크(LC1)와 제2 액정 마스크(LC2) 사이의 공간에 기판(Substrate)을 위치시킬 수 있도록 패널 몸체(111) 상에 인입 형성된다.The first liquid crystal mask LC1 is attached to one surface of the panel body 111, and the second liquid crystal mask LC2 is attached to the other surface of the panel body 111 to be spaced apart from the first liquid crystal mask LC1. It is formed to face each other. The substrate insertion part 112 is formed to be drawn on the panel body 111 so that the substrate can be positioned in the space between the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2.

일 실시예는 패턴 변형이 자유로운 액정 마스크(LC1, LC2)를 채용하며, 특히 양면 노광 시 얼라인먼트 작업을 하면서 소요되는 시간과 그에 따른 생산성 저하를 줄이기 위한 방법으로 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)를 하나의 지지대 타입의 마스크 패널 고정부(120)로 고정시키고, 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2) 사이에 포토 레지스트나 드라이필름 레지스트 등의 감광층(PR1, PR2)을 삽입시켜 얼라인먼트 없이 노광이 가능하도록 구성한다.One embodiment employs liquid crystal masks LC1 and LC2 free of pattern deformation. In particular, two liquid crystal masks LC1 and LC2 are used as a method for reducing the time required for alignment during double-sided exposure and a decrease in productivity. It is fixed by one support panel type mask panel fixing part 120, and photosensitive layers PR1 and PR2 such as photoresist or dry film resist are inserted between two liquid crystal masks LC1 and LC2 so that exposure can be performed without alignment. Configure to

사용자는 지지대 타입의 마스크 패널 고정부(120)에 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)를 구비한 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 거치하고, 그 사이에 기판(Substrate)과 포토 레지스트 또는 드라이필름 레지스트 등의 감광층(PR1, PR2)을 삽입하여 양면 노광을 수행할 수 있도록 한다. 양면 노광 시, 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)가 사용되며, 마스크 패널 고정부(120)는 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 180° 회전시켜 노광할 수 있도록 구성된다.The user mounts the double-sided exposure liquid crystal mask panel 110 including two liquid crystal masks LC1 and LC2 on the support panel type mask panel fixing part 120, and a substrate, a photoresist, or a dry film therebetween. The photosensitive layers PR1 and PR2 such as a resist may be inserted to perform double-sided exposure. In the double-sided exposure, two liquid crystal masks LC1 and LC2 are used, and the mask panel fixing part 120 is configured to expose the liquid crystal mask panel 110 by rotating the double-sided exposure 180 °.

노광 공정에서, 기판 삽입부(112)에는 노광을 통해 패턴을 형성하기 위한 기판(Substrate)이 삽입 설치된다. 기판(Substrate)의 앞면과 밑면, 즉 제1 액정 마스크(LC1)와 기판(Substrate) 사이, 기판(Substrate)과 제2 액정 마스크(LC2) 사이의 공간에는 포토 레지스트(PR: Photo-resist)나 드라이필름 레지스트(DFR: Dry Film Resist) 등의 감광층(PR1, PR2)이 삽입된다. 도 3은 도 2의 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)에 기판(Substrate)이 삽입되고, 기판(Substrate)의 양면에 감광층(PR1, PR2)이 삽입된 상태를 예시하고 있다.In the exposure process, a substrate (Substrate) for forming a pattern through the exposure is inserted into the substrate inserting portion (112). Photo-resist or photoresist is formed in the space between the front and bottom surfaces of the substrate, that is, between the first liquid crystal mask LC1 and the substrate and between the substrate and the second liquid crystal mask LC2. Photosensitive layers PR1 and PR2, such as a dry film resist (DFR), are inserted. 3 illustrates a state in which a substrate is inserted into the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure, and photosensitive layers PR1 and PR2 are inserted into both surfaces of the substrate.

마스크 패널 구동부(140)는 제1 액정 마스크(LC1) 및 제2 액정 마스크(LC2)에 동일한 도면 이미지를 전송하여 동일 시점에서 기판(Substrate)을 중심으로 제1 액정 마스크(LC1)에는 도면 이미지의 일면(예컨대, 앞면)이 디스플레이 되고, 제2 액정 마스크(LC2)에는 해당 도면 이미지의 다른 면(예컨대, 밑면)이 디스플레이 되도록 제어한다.The mask panel driver 140 transmits the same drawing image to the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2 so that the first liquid crystal mask LC1 has a drawing image on the substrate at the same time. One side (eg, the front side) is displayed, and the second liquid crystal mask LC2 controls to display the other side (eg, bottom side) of the corresponding drawing image.

마스크 패널 고정부(120)는 제1 액정 마스크(LC1)와 제2 액정 마스크(LC2)를 결합하여 일면 노광을 위한 초기 위치에 고정한다. 다른 면 노광 시에는, 제1 액정 마스크(LC1)와 제2 액정 마스크(LC2)의 결합을 유지한 상태에서 초기 위치로부터 180° 회전한 상태로 고정할 수 있도록 형성된다.The mask panel fixing part 120 combines the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2 and fixes the initial position for one surface exposure. In the other surface exposure, the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2 are formed so as to be fixed in a state of being rotated by 180 ° from the initial position.

일면(예컨대, 앞면) 노광 시, 마스크 패널 고정부(120)는 제1 액정 마스크(LC1)와 제2 액정 마스크(LC2)가 결합된 상태에서 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)의 패널 몸체(111)를 초기 위치에 고정한다. 다른 면(예컨대, 밑면) 노광 시에는, 마스크 패널 고정부(120)가 제1 액정 마스크(LC1)와 제2 액정 마스크(LC2)의 결합을 유지한 상태 그대로 패널 몸체(111)를 초기 위치로부터 180° 회전하여 고정한다.When exposing one surface (eg, the front surface), the mask panel fixing part 120 is the panel body 111 of the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure in a state in which the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2 are combined. ) In the initial position. In the other side (eg, bottom) exposure, the panel panel 111 moves the panel body 111 from the initial position as it is while the mask panel fixing part 120 maintains the coupling between the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2. Rotate by 180 ° to fix.

일면 노광 시, 노광부(150)는 초기 위치에서 제1 액정 마스크(LC1)의 상부에서 자외선 등의 빛을 조사하여 제1 액정 마스크(LC1)의 마스크패턴에 따라 기판(Substrate) 상의 감광층(PR1)을 선택적으로 패터닝하여 기판(Substrate)의 일면에 감광물질 패턴을 형성한다. 또한, 다른 면 노광 시에는, 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)이 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 노광부(150)가 제2 액정 마스크(LC2)의 상부로 빛을 조사하여 제2 액정 마스크(LC2)의 마스크패턴에 따라 기판(Substrate) 상의 감광층(PR2)을 선택적으로 패터닝하여 기판(Substrate)의 다른 면에 감광물질 패턴을 형성한다.During one surface exposure, the exposure unit 150 irradiates light such as ultraviolet rays from the upper portion of the first liquid crystal mask LC1 at an initial position to form a photosensitive layer on the substrate according to a mask pattern of the first liquid crystal mask LC1. The photosensitive material pattern is formed on one surface of the substrate by selectively patterning PR1). In addition, during another surface exposure, the exposure unit 150 irradiates light to the upper portion of the second liquid crystal mask LC2 while the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure is rotated by 180 ° from the initial position, thereby causing the second liquid crystal mask. The photosensitive layer PR2 on the substrate is selectively patterned according to the mask pattern of the LC2 to form a photosensitive material pattern on the other surface of the substrate.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 마스크를 이용한 양면 노광 방법의 흐름도로서, 도 1과 같은 양면 노광 장치를 이용한 노광 방법을 예시하고 있다.4 is a flowchart of a double-sided exposure method using a liquid crystal mask according to an embodiment of the present invention, illustrating an exposure method using a double-sided exposure apparatus as shown in FIG.

도 1에서 설명한 바와 같이, 양면 노광 장치는 서로 마주보는 제1 액정 마스크(LC1)와 제2 액정 마스크(LC2) 사이에 기판(Substrate)이 위치하고, 기판(Substrate)의 양면에 감광층(PR1, PR2)이 형성되는 구조를 갖는 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 채용한다. 편의상, 양면 중에서 윗면을 먼저 노광한 후 밑면 노광을 수행하는 경우를 가정한다.As described with reference to FIG. 1, in the double-sided exposure apparatus, a substrate is positioned between the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2 facing each other, and the photosensitive layers PR1, The double-sided exposure liquid crystal mask panel 110 having a structure in which the PR2) is formed is employed. For convenience, it is assumed that the top surface is exposed first and then the bottom surface is exposed.

먼저, 양면 노광을 수행하고자 하는 사용자는 제1, 제2 액정 마스크(LC1, LC2)가 부착된 양면 노광용 액정 마스크 패널(110) 내에 패턴 형성을 위한 기판(Substrate)을 삽입하고, 기판(Substrate)을 중심으로 분리되는 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)의 내부 공간에 감광층(PR1, PR2)을 삽입한다(S110).First, a user who wants to perform a double-sided exposure inserts a substrate to form a pattern into the double-sided liquid crystal mask panel 110 to which the first and second liquid crystal masks LC1 and LC2 are attached, and then the substrate. The photosensitive layers PR1 and PR2 are inserted into the internal space of the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure separated from each other (S110).

이후, 사용자는 컴퓨터(200)에서 마스크패턴을 디자인한 도면 이미지를 로딩하여 양면 노광 장치에 구비된 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)로 전송한다(S120). 컴퓨터(200)에서 전송된 도면 이미지의 마스크패턴은 양면 노광 장치에 포함된 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)의 화면에 디스플레이 된다. 이와 같이, 양면 노광 장치는 제1 액정 마스크(LC1) 및 제2 액정 마스크(LC2)에 동일한 도면 이미지를 전송하여 중간에 놓은 기판(Substrate)을 중심으로 제1 액정 마스크(LC1)에는 도면 이미지의 일면(예컨대, 앞면)이, 제2 액정 마스크(LC2)에는 도면 이미지의 다른 면(예컨대, 밑면)이 각각 디스플레이 되도록 제어한다. 이때, 양면 노광 장치에 부착되어있는 두 장의 액정 마스크(LC1, LC2)는 같은 방향으로 고정되어 있기 때문에, 거울에 비치는 물체의 형상처럼 양면 노광 장치의 윗면에 놓인 제1 액정 마스크(LC1)에는 앞면 패턴이, 밑면에 놓인 제2 액정 마스크(LC2)에는 밑면 패턴이 디스플레이 된다.Thereafter, the user loads the drawing image of the mask pattern designed by the computer 200 and transmits the image to the two liquid crystal masks LC1 and LC2 provided in the double exposure apparatus (S120). The mask pattern of the drawing image transmitted from the computer 200 is displayed on the screen of two liquid crystal masks LC1 and LC2 included in the double-sided exposure apparatus. As described above, the double-sided exposure apparatus transmits the same drawing image to the first liquid crystal mask LC1 and the second liquid crystal mask LC2 so that the first liquid crystal mask LC1 has the drawing image centered on the substrate. One side (eg, the front side) is controlled to display the other side (eg, the bottom side) of the drawing image on the second liquid crystal mask LC2, respectively. At this time, since the two liquid crystal masks LC1 and LC2 attached to the double-sided exposure apparatus are fixed in the same direction, the front surface of the first liquid crystal mask LC1 placed on the upper side of the double-sided exposure apparatus, like the shape of an object reflected on the mirror, is The bottom pattern is displayed on the second liquid crystal mask LC2 on which the pattern is placed.

이후, 사용자는 먼저 윗면을 노광한다(S130). 양면 노광 장치는 초기 위치에서 제1 액정 마스크(LC1)로 빛을 조사함으로써 제1 액정 마스크(LC1)의 마스크패턴에 따라 기판(Substrate) 상의 감광층(PR1)을 선택적으로 패터닝하여 기판(Substrate)의 윗면에 감광물질 패턴을 형성한다(S130).After that, the user first exposes the top surface (S130). The double-sided exposure apparatus selectively patterns the photosensitive layer PR1 on the substrate according to the mask pattern of the first liquid crystal mask LC1 by irradiating light to the first liquid crystal mask LC1 at an initial position, thereby causing the substrate to be exposed. Forming a photosensitive material pattern on the upper surface of (S130).

윗면 노광이 끝나면 사용자는 양면 노광 장치의 양면 노광용 액정 마스크 패널(110)을 전체적으로 뒤집어 밑면이 위로 오게 만들어 고정한 후(S140), 다시 노광을 수행한다(S150). 양면 노광 장치는 윗면 노광 시의 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 제2 액정 마스크(LC2)의 상부로 빛을 조사하여 제2 액정 마스크(LC2)의 마스크패턴에 따라 기판(Substrate) 상의 감광층(PR2)을 선택적으로 패터닝하여 기판(Substrate)의 밑면에 감광물질 패턴을 형성한다(S150).After the top surface exposure is completed, the user flips the liquid crystal mask panel 110 for double-sided exposure of the double-sided exposure apparatus as a whole so that the bottom side is upwardly fixed (S140), and then performs exposure again (S150). The double-sided exposure apparatus irradiates light to the upper portion of the second liquid crystal mask LC2 while being rotated by 180 ° from the initial position at the time of the upper surface exposure, and according to the mask pattern of the second liquid crystal mask LC2, a photosensitive layer on the substrate. The photoresist pattern is formed on the bottom surface of the substrate by selectively patterning the PR2 (S150).

S130의 윗면 노광, S150의 밑면 노광이 모두 끝나면 사용자가 기판(Substrate) 양면에 남은 감광물질 패턴을 기판(Substrate)으로부터 제거한 후 후속적으로 다음 공정을 진행하면 된다.
After both the top surface exposure of S130 and the bottom surface exposure of S150, the user may remove the photosensitive material pattern remaining on both sides of the substrate from the substrate, and then proceed to the next process.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, You will understand.

따라서, 이상에서 기술한 실시예들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이므로, 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 하며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
Therefore, it should be understood that the above-described embodiments are provided so that those skilled in the art can fully understand the scope of the present invention. Therefore, it should be understood that the embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive, The invention is only defined by the scope of the claims.

110: 양면 노광용 액정 마스크 패널
111: 패널 몸체
112: 기판 삽입부
LC1, LC2: 액정 마스크
Substrate: 기판
PR1, PR2: 감광층
120: 마스크 패널 고정부
130: 아날로그/디지털 변환부
140: 마스크 패널 구동부
150: 노광부110: liquid crystal mask panel for double-sided exposure
111: panel body
112: substrate insert
LC1, LC2: liquid crystal mask
Substrate: Substrate
PR1, PR2: photosensitive layer
120: mask panel fixing part
130: analog / digital conversion unit
140: mask panel driver
150: exposed part

Claims (6)

패널 몸체;
상기 패널 몸체의 일면에 부착된 제1 액정 마스크;
상기 패널 몸체의 다른 면에 부착되어 상기 제1 액정 마스크와 공간을 두고 서로 마주보도록 형성되어 있는 제2 액정 마스크;
상기 제1 액정 마스크와 상기 제2 액정 마스크 사이의 공간에 기판을 위치시킬 수 있도록 형성된 상기 패널 몸체 상의 기판 삽입부; 및
상기 제1 액정 마스크와 상기 제2 액정 마스크가 결합된 상태에서 상기 패널 몸체를 초기 위치에 고정하며, 상기 제1 액정 마스크와 상기 제2 액정 마스크의 결합을 유지한 상태 그대로 상기 패널 몸체를 초기 위치로부터 180° 회전하여 고정할 수 있도록 형성된 마스크 패널 고정부를 포함하는 양면 노광 장치.
Panel body;
A first liquid crystal mask attached to one surface of the panel body;
A second liquid crystal mask attached to the other surface of the panel body and formed to face each other with a space between the first liquid crystal mask;
A substrate insertion portion on the panel body formed to position the substrate in a space between the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask; And
The panel body is fixed to an initial position while the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask are coupled, and the panel body is initially positioned as it is while the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask are coupled. A double-sided exposure apparatus comprising a mask panel fixing portion formed to be rotated by 180 ° from the mask.
제1항에 있어서,
상기 기판 삽입부에 설치된 기판; 및
상기 제1 액정 마스크와 상기 기판 사이, 상기 기판과 상기 제2 액정 마스크 사이의 공간에 삽입된 감광층을 더 포함하는 양면 노광 장치.
The method of claim 1,
A substrate provided in the substrate inserting portion; And
And a photosensitive layer inserted in a space between the first liquid crystal mask and the substrate and between the substrate and the second liquid crystal mask.
제1항에 있어서,
상기 제1 액정 마스크 및 상기 제2 액정 마스크에 동일한 도면 이미지를 전송하여 동일 시점에서 상기 기판을 중심으로 상기 제1 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 일면이, 상기 제2 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 다른 면이 각각 디스플레이 되도록 제어하는 마스크 패널 구동부를 더 포함하는 양면 노광 장치.
The method of claim 1,
One surface of the drawing image is transferred to the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask to the first liquid crystal mask, and one surface of the drawing image is different from the second liquid crystal mask. A double-sided exposure apparatus further comprising a mask panel driver for controlling surfaces to be displayed respectively.
삭제delete 제1항에 있어서,
초기 위치에서 상기 제1 액정 마스크의 상부에서 빛을 조사하여 상기 제1 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 일면에 감광물질 패턴을 형성하고, 상기 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 상기 제2 액정 마스크의 상부로 빛을 조사하여 상기 제2 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 다른 면에 감광물질 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 양면 노광 장치.
The method of claim 1,
Irradiating light from the upper portion of the first liquid crystal mask at an initial position to selectively pattern the photosensitive layer on the substrate according to the mask pattern of the first liquid crystal mask to form a photosensitive material pattern on one surface of the substrate, and the initial position Irradiating light to the upper part of the second liquid crystal mask in a state of rotating from 180 ° to selectively patterning the photosensitive layer on the substrate according to the mask pattern of the second liquid crystal mask to form a photosensitive material pattern on the other side of the substrate. A double-sided exposure apparatus, characterized in that.
서로 마주보는 제1 액정 마스크와 제2 액정 마스크 사이에 기판이 위치하고, 상기 기판의 양면에 감광층이 형성된 양면 노광 장치를 이용한 양면 노광 방법에 있어서,
상기 양면 노광 장치가 상기 제1 액정 마스크 및 상기 제2 액정 마스크에 동일한 도면 이미지를 전송하여 상기 기판을 중심으로 상기 제1 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 일면이, 상기 제2 액정 마스크에는 상기 도면 이미지의 다른 면이 각각 디스플레이 되도록 제어하는 단계;
상기 양면 노광 장치가 초기 위치에서 상기 제1 액정 마스크로 빛을 조사하여 상기 제1 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 일면에 감광물질 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 양면 노광 장치가 상기 초기 위치로부터 180° 회전한 상태에서 상기 제2 액정 마스크의 상부로 빛을 조사하여 상기 제2 액정 마스크의 마스크패턴에 따라 상기 기판 상의 감광층을 선택적으로 패터닝하여 상기 기판의 다른 면에 감광물질 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 양면 노광 방법.In the double-sided exposure method using a double-sided exposure apparatus in which a substrate is positioned between the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask facing each other, and the photosensitive layer is formed on both surfaces of the substrate,
The double-sided exposure apparatus transmits the same drawing image to the first liquid crystal mask and the second liquid crystal mask so that one surface of the drawing image is on the first liquid crystal mask and the drawing image is on the second liquid crystal mask. Controlling the other sides of the display to be displayed respectively;
Irradiating light to the first liquid crystal mask at an initial position by the double-sided exposure apparatus to selectively pattern a photosensitive layer on the substrate according to a mask pattern of the first liquid crystal mask to form a photosensitive material pattern on one surface of the substrate ; And
The photosensitive layer on the substrate is selectively patterned by irradiating light to the upper portion of the second liquid crystal mask while the double-sided exposure apparatus is rotated by 180 ° from the initial position to selectively pattern the photosensitive layer on the substrate according to the mask pattern of the second liquid crystal mask. Forming a photosensitive material pattern on the other side;
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005181493A (en) 2003-12-17 2005-07-07 Tokai Shoji Kk Exposure apparatus
JP2006251016A (en) 2005-03-08 2006-09-21 Eastern Co Ltd Substrate exposing method and substrate heating device, and substrate exposing device
JP2010181519A (en) 2009-02-04 2010-08-19 Adtec Engineeng Co Ltd Exposure device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010092571A (en) * 2000-03-22 2001-10-26 노자키 토우타로우 double-sided exposure system
JP2005181493A (en) 2003-12-17 2005-07-07 Tokai Shoji Kk Exposure apparatus
JP2006251016A (en) 2005-03-08 2006-09-21 Eastern Co Ltd Substrate exposing method and substrate heating device, and substrate exposing device
JP2010181519A (en) 2009-02-04 2010-08-19 Adtec Engineeng Co Ltd Exposure device

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