KR101211625B1 - Continuous Remove Method and Equipment of LED Manufacturing Process Exhaust Gas Using Wet-Scrubber and Catalyst Reaction Scrubber - Google Patents
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Abstract
본 발명은 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LED 제조공정에서 사용되는 유독성, 가연성가스 등의 공정가스를 배출하는데 있어서, 1 단계 습식 스크러버와 2 단계 촉매 반응 스크러버를 통과시켜 배출가스에 의한 환경오염 및 안전사고를 방지하기 위한 습식 스크러버와 촉매 칼럼을 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for continuously removing the exhaust gas of a LED manufacturing process, and more particularly, in a process gas, such as toxic and flammable gas used in the LED manufacturing process, a one-stage wet scrubber and a two-stage catalytic reaction. The present invention relates to a method and apparatus for continuously removing the exhaust gas of a LED manufacturing process using a wet scrubber and a catalyst column to prevent environmental pollution and safety accidents caused by the exhaust gas through a scrubber.
Description
본 발명은 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 LED 제조공정에서 배출되는 배출가스 중에서 유독성, 가연성가스 등의 물질 중에서 암모니아 가스를 제거하는 습식 스크러버와 수소를 연소시켜 제거하는 촉매 반응 스크러버를 통과시켜 배출가스에 의한 환경오염 및 안전사고를 방지하기 위한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법 및 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a method and apparatus for continuously removing exhaust gas from an LED manufacturing process, and more particularly, to a wet scrubber and hydrogen for removing ammonia gas from substances such as toxic and flammable gases from the exhaust gas emitted from the LED manufacturing process. The present invention relates to a method and apparatus for continuously removing the exhaust gas of a LED manufacturing process to prevent environmental pollution and safety accidents caused by the exhaust gas by passing through a catalytic reaction scrubber.
일반적으로 LED 제조설비에서 LED를 생산하기 위해서는 사파이어 웨이퍼에 공정 가스를 화학기상증착하여 제조되는데, 이때 사용되는 공정 가스로는 암모니아, 수소, 실란, 유기금속화합물 및 질소 등 이다. In general, in order to produce an LED in an LED manufacturing facility, a process gas is deposited on a sapphire wafer by chemical vapor deposition, and the process gas used here is ammonia, hydrogen, silane, organometallic compound and nitrogen.
이들 공정가스가 별도의 정화과정이 없이 외부로 유출될 경우 심각한 환경오염과 안전사고를 초래하게 됨으로 각 제조 설비마다 배출되는 배출가스를 처리하기 위한 스크러버가 설치된다. If these process gases are leaked to the outside without any separate purification process, serious environmental pollution and safety accidents will occur, so scrubbers are installed to treat the emitted gases at each manufacturing facility.
LED 제조공정 중 배출되는 배출가스 처리하기 위한 스크러버는 열을 이용해 가연성 가스인 수소, 실란과 유독성 가스인 암모니아를 연소시키고, 연소 시 발생하는 열량을 제거하면서, 미반응 가스 및 2차 생성물을 처리하기 위한 습식 스크러버를 통과하도록 구성되어져 있다. The scrubber for treating the exhaust gas emitted during the LED manufacturing process uses heat to burn the combustible gas hydrogen, the silane and the toxic gas ammonia, remove the heat generated during the combustion, and to process the unreacted gas and the secondary product. It is configured to pass through a wet scrubber.
스크러버에 열을 가하는 방식은 챔버 내에서 연소 불꽃을 태워서 직접 가열 연소하는 Burn 방식과, 챔버 외벽면의 히터를 이용해 간접 가열 연소하는 Heat방식의 두 가지로 나눌 수 있다. The method of applying heat to the scrubber can be divided into two types: a burn method in which a combustion flame is directly burned by burning combustion in the chamber, and a heat method indirectly heated and burned using a heater on the outer wall of the chamber.
직접 가열 연소하는 Burn 방식에 사용되는 연료는 LPG 또는 LNG를 이용하며, 불꽃이 발생하여 가스를 연소시키는 부분의 온도는 대략 700~800℃를 유지하도록 구성한다. LPG or LNG is used as the fuel used in the burn method of direct heating and combustion, and the temperature of the portion where the flame is generated to burn the gas is maintained to be approximately 700 to 800 ° C.
간접 가열 연소하는 Heat 방식에서는 챔버 외벽에 부착되어 있는 전기히터를 가동하여 챔버 내부의 온도를 대략 1000℃부근으로 유지하도록 하여 수소와 암모니아를 태우도록 하고 있다. In the heat method of indirect heating and combustion, the electric heater attached to the outer wall of the chamber is operated to maintain the temperature inside the chamber at about 1000 ° C to burn hydrogen and ammonia.
Burn 또는 Heat 방식에 의해 연소된 가스는 연소실에서 500℃이상의 고온으로 챔버를 빠져 나오는데, 연소가스의 온도를 낮추고, 연소가스 중에 포함되어 있는 미반응 암모니아, 암모니아와 산소가 반응하여 발생할 수 있는 NO(이하, "일산화질소"), NO2(이하, "이산화질소") 등을 처리하기 위하여 습식 스크러버를 사용하고 있다. Gas burned by the burn or heat method exits the chamber at a high temperature of 500 ℃ or higher in the combustion chamber, lowers the temperature of the combustion gas, and reacts with NO (which may be generated by reaction of unreacted ammonia, ammonia and oxygen contained in the combustion gas). Hereinafter, a wet scrubber is used to treat “nitrogen monoxide”), NO 2 (hereinafter “nitrogen dioxide”), and the like.
상기와 같은 방법으로 LED 제조공정의 배출가스를 처리하는 스크러버는 가열 챔버의 온도가 지나치게 높을 뿐만 아니라, 높은 온도를 유지하기 위해 많은 열량이 소모되는 문제점 및 가열 챔버에서 발생하는 부생성물을 처리하고, 고온의 배출가스를 냉각하기 위해 대량의 물이 사용됨으로써 대량의 폐수가 발생한다는 문제점이 있다. The scrubber treating the exhaust gas of the LED manufacturing process in the above manner is not only excessively high in the temperature of the heating chamber, but also a problem in that a large amount of heat is consumed in order to maintain a high temperature and by-products generated in the heating chamber, There is a problem that a large amount of waste water is generated by the use of a large amount of water to cool the hot exhaust gas.
또한, 챔버의 온도를 높이기 위한 에너지 비용을 지불하고 다시 고온의 가스를 냉각시키기 위한 별도의 에너지 비용을 지불함으로써 비용이 배가되고, 대량의 폐수를 처리하기 위한 비용이 추가적으로 발생함으로써 LED 제조원가를 높이는 문제점이 있다. In addition, the cost is increased by paying an energy cost for raising the temperature of the chamber and a separate energy cost for cooling the hot gas again, and an additional cost for treating a large amount of wastewater increases the LED manufacturing cost. There is this.
본 발명이 해결하려는 과제는 기존의 LED 제조공정 배출가스 처리 스크러버의 사용하는 방식과는 달리 암모니아 가스를 흡수 또는 중화제로 중화 처리하여 재판매하여 폐수 처리 비용을 절감하고, 수소의 처리는 촉매를 이용하여 저온에서 연소시킴으로써 배출가스 처리에 소요되는 에너지 비용을 절감하는데 있다. The problem to be solved by the present invention is to reduce the waste water treatment cost by neutralizing the ammonia gas by absorbing or neutralizing with a neutralizing agent, unlike the conventional method of using the exhaust gas treatment scrubber of the LED manufacturing process, the treatment of hydrogen using a catalyst Combustion at low temperatures is to reduce the energy cost of the exhaust gas treatment.
본 발명이 해결하려는 또 다른 과제는 기존의 스크러버와는 다르게 습식 스크러버를 1단계로 하고, 가연성 가스를 연소하는 촉매 반응 스크러버를 2단계로 구성하여 상기 두 단계로 이루어진 스크러버를 이용하여 LED 제조설비에서 나오는 배출 가스를 비교적 낮은 온도에서 폐수를 발생시키지 않고 처리하므로 LED 제조 제조단가를 낮추고 안전성을 향상시키는데 있다. Another problem to be solved by the present invention, unlike the conventional scrubber, the wet scrubber in one step, and the catalytic reaction scrubber combusting the combustible gas in two steps by using a scrubber consisting of the two steps in the LED manufacturing equipment The emission gas is treated at a relatively low temperature without generating wastewater, thereby reducing the manufacturing cost of LEDs and improving safety.
본 발명 과제의 해결 수단은 LED 제조설비에서 LED 생산 시에 거치는 화학기상증착 방법을 사용하는 사파이어 웨이퍼 공정 중에 사용되는 암모니아 가스와 수소를 포함한 혼합가스를 처리하기 위하여 1 단계 습식 스크러버를 통과시켜 암모니아를 제거하는 단계와, 2 단계 촉매 반응 스크러버를 통과시켜 수소를 제거 처리할 수 있는 단계로 이루어진 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법을 제공하는데 있다.The solution of the present invention is to pass ammonia by passing a one-step wet scrubber to process a mixed gas containing ammonia gas and hydrogen used during the sapphire wafer process using a chemical vapor deposition method that is subjected to LED production in the LED manufacturing facility. The present invention provides a method for continuously removing the exhaust gas of the LED manufacturing process comprising a step of removing and passing a two-stage catalytic reaction scrubber to remove hydrogen.
본 발명의 또 다른 과제의 해결 수단은 배출가스 중에서 암모니아를 제거 처리하기 위한 습식 스크러버와, 배출가스 중에서 수소를 연소시켜 제거하기 위한 촉매 반응 스크러버로 이루어진 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치를 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a continuous scrubber of the LED manufacturing process exhaust gas consisting of a wet scrubber for removing ammonia in the exhaust gas, and a catalytic reaction scrubber for burning and removing hydrogen in the exhaust gas. have.
본 발명의 또 다른 과제의 해결 수단은 다수의 MOCVD LED칩 제조 장비로부터 배출되는 배출가스 라인을 한 개의 통합라인으로 합하고, 한 개로 만든 통합라인으로부터 나오는 배출가스를 하나의 버퍼탱크에 저장하고, 습식 스크러버의 상부로 물, 순수 또는 중화액을 주입하여 배출가스와 반응시켜 암모니아가스를 흡수 또는 중화시켜 제거하는 공정으로 이루어진 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법 및 장치를 제공하는데 있다.Another solution of the present invention is to combine the exhaust gas lines discharged from a plurality of MOCVD LED chip manufacturing equipment into one integrated line, and to store the exhaust gas from one integrated line in one buffer tank, The present invention provides a method and apparatus for continuously removing the exhaust gas of the LED manufacturing process comprising a process of injecting water, pure water, or a neutralizing liquid into the upper portion of the scrubber to react with the exhaust gas to absorb or neutralize and remove ammonia gas.
본 발명의 또 다른 과제의 해결 수단은 배출가스를 습식 스크러버 하부로 유입시키고, 습식 스크러버 내부에는 냉각을 위한 열교환기가 설치되며, 습식 스크러버 상부의 온도는 상기 열교환기를 이용하여 -30℃내지 30℃사이구간에서 유지하며, 습식 스크러버 하부의 온도는 -30℃내지 30℃사이구간으로 유지하도록 구성된 LED 제조공정에서 발생되는 배출가스 처리방법 및 장치를 제공하는데 있다.Another solution of the present invention is to introduce the exhaust gas into the bottom of the wet scrubber, a heat exchanger for cooling is installed inside the wet scrubber, the temperature of the top of the wet scrubber is between -30 ℃ to 30 ℃ using the heat exchanger Maintaining in the section, the temperature of the bottom of the wet scrubber is to provide an exhaust gas treatment method and apparatus generated in the LED manufacturing process configured to maintain the interval between -30 ℃ to 30 ℃.
본 발명의 또 다른 과제의 해결 수단은 촉매 반응을 위한 촉매 담지체로는 활성탄, 규조토, 제올라이트 및 알루미나 중에서 하나를 선택하고, Ag(NO3), Pd(NO3), Pt(NO3) 금속용액 중에서 하나를 선택하여 상기 촉매 담지체를 함침시켜 건조 및 소성시켜 제조한 촉매로 사용하여 LED 제조공정에서 발생되는 배출가스 처리방법 및 장치를 제공하는데 있다. Another solution of the present invention is to select one of activated carbon, diatomaceous earth, zeolite and alumina as catalyst support for the catalytic reaction, Ag (NO 3 ), Pd (NO 3 ), Pt (NO 3 ) metal solution The present invention provides a method and apparatus for treating exhaust gas generated in an LED manufacturing process by using one of the catalysts prepared by impregnating the catalyst carrier to dry and fire the catalyst carrier.
본 발명은 암모니아 가스를 물 또는 중화제인 황산을 이용하여 제거하고, 수소는 촉매로 연소하여 제거하므로 폐수 발생을 줄일 수 있고, 중화반응에 의해 발생하는 황산암모늄은 다시 수집하여 비료 등의 원료로 재판매함으로써 부가적인 수익을 얻을 수 있으므로 폐수 처리 비용을 크게 절감할 수 있는 유리한 효과가 있다. The present invention removes ammonia gas using water or sulfuric acid which is a neutralizing agent, and hydrogen is burned by a catalyst to remove wastewater, and ammonium sulfate generated by the neutralization reaction is collected and resold as a raw material such as fertilizer. There is an advantageous effect of significantly reducing the cost of wastewater treatment, since additional revenue can be obtained.
본 발명의 또 다른 효과는 기존의 스크러버와는 달리 상온에서 반응을 진행하므로 에너지 비용을 줄일 수 있고, 기존의 장치에서 문제가 되었던 고온의 가스를 식혀주면서 발생하는 냉각 폐수를 획기적으로 줄일 수 있는 장점을 가지고 있다. Another effect of the present invention is that unlike the conventional scrubber, the reaction proceeds at room temperature, thereby reducing energy costs, and dramatically reducing the cooling waste water generated by cooling the hot gas that has been a problem in the existing apparatus. Have
도 1은 본 발명에 따른 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법의 흐름도이다.
도 2는 본 발명에 따른 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치의 하나의 실시 예를 도시한 것이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
11 : 배출가스 입구 12 : 중화제 탱크
13 : 순환펌프 14 : 습식 스크러버 컬럼
15 : 촉매 반응 스크러버 컬럼 16 : 산소 또는 공기 투입구
17 : 냉각코일 18 : 응축수 탱크
19 : 배출가스 출구 20 : 레벨계
21 : 폐액배출구 22 : 암모니아 센서
23 : 냉각수 출구 24 : 냉각수 입구
25 : 수소센서 26 : 응축수 배출구1 is a flowchart illustrating a method of continuously removing the exhaust gas of a LED manufacturing process using a wet scrubber and a catalytic reaction scrubber according to the present invention.
Figure 2 shows one embodiment of a continuous removal of the exhaust gas of the LED manufacturing process using a wet scrubber and a catalytic reaction scrubber according to the present invention.
Description of the Related Art
11 exhaust gas inlet 12 neutralizer tank
13: circulation pump 14: wet scrubber column
15: catalytic reaction scrubber column 16: oxygen or air inlet
17
19: exhaust gas outlet 20: level meter
21: waste liquid outlet 22: ammonia sensor
23: cooling water outlet 24: cooling water inlet
25: hydrogen sensor 26: condensate outlet
본 발명을 실시하기 위한 구체적인 내용에 대하여 살펴본다. 본 발명의 LED 제조 공정 중 발생하는 배출가스를 처리하기 위한 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 사용하므로 배출가스 처리에 소요되는 에너지 비용과 LED 제조 단가를 획기적으로 줄이고, 안전성 및 장치의 내구성을 향상시킬 수 있도록 구성하는데 있다. 본 발명에 따른 구체적인 실시 예를 살펴본다. Hereinafter, the present invention will be described in detail. By using a wet scrubber and a catalytic reaction scrubber for treating the exhaust gas generated during the LED manufacturing process of the present invention, it is possible to drastically reduce the energy cost and LED manufacturing cost required for the exhaust gas treatment, and improve safety and durability of the device. To make it work. A specific embodiment according to the present invention will be described.
<실시 예><Examples>
<실시 예1>≪ Example 1 >
본 발명에 따른 구체적인 실시 예1을 도면에 기초하여 살펴본다. 본 발명에 따른 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법의 흐름도를 도시한 것이다. A first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. A flowchart of a method of continuously removing the exhaust gas of the LED manufacturing process using the wet scrubber and the catalytic reaction scrubber according to the present invention is shown.
본 발명에 따른 장치의 구성은 도1에서와 같이 2 단계로 구성되어 있고, 각 단계별 구성된 기술적 구성을 구체적으로 살펴본다. The configuration of the apparatus according to the present invention is composed of two stages as shown in FIG. 1, and the technical configuration of each stage will be described in detail.
본 발명에 따른 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법은 크게 2단계로 구성되며, 1단계는 습식 스크러버를 이용하여 암모니아 가스를 제거 처리하는 단계이고, 2단계는 촉매 반응 스크러버를 이용하여 수소를 제거 처리하는 단계이다. LED scrubbing process using a wet scrubber and catalytic reaction scrubber according to the present invention is a continuous removal of the exhaust gas is composed of two steps, the first step is a step of removing ammonia gas using a wet scrubber, the second step is a catalyst It is a step of removing hydrogen using a reaction scrubber.
LED 제조공정 중에 배출되는 배출가스의 성분에 대하여 살펴본다. LED 제조 설비의 챔버에 투입한 후, 사용이 완료된 가스는 제조 설비 후단의 진공펌프에 의해서 챔버에서 배출되는데, 진공펌프에 의해 배출된 가스는 질소에 의해 희석되어 본 발명에 따라 설치된 습식 스크러버로 투입되게 된다. Let's take a look at the composition of exhaust gas emitted during LED manufacturing process. After entering the chamber of the LED manufacturing equipment, the used gas is discharged from the chamber by a vacuum pump at the rear of the manufacturing equipment, and the gas discharged by the vacuum pump is diluted with nitrogen and introduced into a wet scrubber installed according to the present invention. Will be.
도 1에서, 습식 스크러버로 들어가기 전의 배출가스의 조성비는 부피비로 일반적으로 암모니아 20%, 수소 40%, 질소 40% 및 기타 가스 1% 미만으로 알려져 있다. In Fig. 1, the composition ratio of the exhaust gas before entering the wet scrubber is generally known to be less than 20% ammonia, 40% hydrogen, 40% nitrogen, and other gases 1% by volume.
상기한 바와 같은 다양한 조성을 가진 혼합된 배출가스는 1단계인 암모니아 가스 제거단계에 투입되며, 본 발명에 따른 1단계 암모니아 가스 처리 단계의 기술적 구성을 살펴본다. The mixed exhaust gas having various compositions as described above is introduced into a first stage ammonia gas removal step, and looks at the technical configuration of the first stage ammonia gas treatment step according to the present invention.
1단계 암모니아 가스 처리 단계는 암모니아 가스와 중화액이 접촉하는 충진물이 충진된 습식 스크러버, 황산용액과 같은 중화액이 담기는 하부 탱크, 중화액을 순환시켜 주는 순환펌프로 구성되어 있다. The first stage ammonia gas treatment step consists of a wet scrubber filled with a filling material in contact with the ammonia gas, a lower tank containing a neutralizing liquid such as sulfuric acid solution, and a circulation pump for circulating the neutralizing liquid.
LED 장비에서 배출되는 배출가스는 중화액이 담겨있는 하부 탱크로 버블링시켜 투입하면서 1차로 암모니아 가스를 제거하는 단계를 거치고, 탱크에서 제거되지 않은 암모니아 가스는 상부 칼럼으로 흐르게 된다. Exhaust gas emitted from the LED equipment is first bubbled into the lower tank containing the neutralizing liquid and then ammonia gas is removed. The ammonia gas not removed from the tank flows to the upper column.
상부 칼럼에는 하부 탱크의 중화액을 펌프를 이용해 칼럼 상부로 이송하여 칼럼 내부에 중화액을 뿌려주어 중화액이 중력에 의해 하부 탱크로 흐르면서 암모니아 가스를 제거하도록 구성되어 있다. In the upper column, the neutralizing liquid of the lower tank is transferred to the upper part of the column by using a pump, and the neutralizing liquid is sprayed inside the column to remove the ammonia gas while the neutralizing liquid flows to the lower tank by gravity.
상기 칼럼 내부에 뿌려주는 중화액은 물, 순수, 황산, 질산 및 염산 용액 중 하나 또는 둘 이상을 선택하여 혼합 사용하도록 구성되어 있다. The neutralization liquid to be sprayed into the column is configured to select and use one or two or more of water, pure water, sulfuric acid, nitric acid and hydrochloric acid solution.
습식 스크러버의 하부 탱크에서 올라오는 암모니아 가스와 칼럼 상부에서 내려오는 중화액이 칼럼 내부의 충진물을 통과하면서 중화반응이 진행되어 암모니아 가스를 제거하는 단계를 포함한다.The neutralization reaction proceeds by removing the ammonia gas while the ammonia gas from the lower tank of the wet scrubber and the neutralizing liquid from the top of the column pass through the filling in the column.
상기 암모니아 가스를 제거하기 위해 사용되는 중화액은 황산, 염산 또는 질산을 물에 희석하여 사용하며, 중화액의 pH는 반응효율을 높이기 위하여 pH 센서를 이용하여 pH4내지 pH5 사이에서 유지되도록 하는 것이 바람직하고, 중화반응에 의해 생성된 황산암모늄 용액의 pH는 6내지 7 사이를 유지하도록 하여 배출한다. 암모니아 가스와 황산의 중화 반응식은 식(1)과 같다.
The neutralizing liquid used to remove the ammonia gas is used by diluting sulfuric acid, hydrochloric acid or nitric acid in water, and the pH of the neutralizing liquid is preferably maintained between pH 4 and pH 5 using a pH sensor to increase the reaction efficiency. And, the pH of the ammonium sulfate solution produced by the neutralization reaction is discharged by maintaining between 6 and 7. The neutralization reaction of ammonia gas and sulfuric acid is shown in equation (1).
2NH3 + H2SO4 -> (NH4)SO4 (1)
2NH 3 + H 2 SO 4- > (NH 4 ) SO 4 (1)
상기 반응식에 의해 LED 제조 장비에서 배출되는 암모니아 가스, 수소 및 질소의 혼합가스 중 암모니아 가스가 제거되고, 반응하지 않은 수소와 질소는 2단계의 촉매 반응 스크러버로 투입된다.The ammonia gas is removed from the mixed gas of ammonia gas, hydrogen and nitrogen discharged from the LED manufacturing equipment by the reaction formula, and the unreacted hydrogen and nitrogen are introduced into the catalytic reaction scrubber in two stages.
상기 1단계 습식 스크러버를 통과하여 암모니아 가스가 제거된 수소와 질소가 혼합된 가스는 2단계 촉매 반응 스크러버로 투입하는 단계를 거친다. The gas mixed with hydrogen and nitrogen from which the ammonia gas is removed by passing through the first stage wet scrubber is introduced into a two stage catalytic reaction scrubber.
상기 2단계 촉매 반응 스크러버에서는 촉매를 이용해 수소를 공기 또는 산소와 함께 연소시켜 수증기로 만들어서 수소를 제거하고 질소만 배출구를 통해서 외부로 배출되도록 구성되어 있다.The two-stage catalytic reaction scrubber is configured to burn hydrogen with air or oxygen by using a catalyst to make water vapor to remove hydrogen and discharge only nitrogen through the outlet.
즉, 상기 2단계 촉매 반응 스크러버에서 촉매를 이용해 수소를 공기 또는 산소와 함께 연소시켜 수증기로 만들어서 수소를 제거하고 질소만 외부로 배출하는 단계를 거친다.That is, in the two-stage catalytic reaction scrubber, hydrogen is combusted with air or oxygen to form water vapor to remove hydrogen and discharge only nitrogen to the outside.
상기 2단계 촉매 반응 스크러버는 촉매가 충진되어 있는 반응칼럼, 스크러버 내부의 온도를 조절하기 위한 냉각 코일, 반응시 발생하는 수분을 모아두기 위한 응축 탱크 및 가스의 흐름을 원활하게 하는 블로워 등으로 구성되어 있다. The two-stage catalytic reaction scrubber is composed of a reaction column filled with a catalyst, a cooling coil for adjusting the temperature inside the scrubber, a condensation tank for collecting moisture generated during the reaction, and a blower for smoothing the flow of gas. have.
1단계 암모니아 가스 제거를 위한 습식 스크러버에서 배출된 수소와 질소의 혼합가스는 촉매 반응 스크러버의 상부로 유입되어 촉매 반응 스크러버에 충진된 촉매와 접촉하게 되고, 수소를 태우기 위해 필요한 공기 또는 산소는 안전성을 위하여 촉매 반응 스크러버의 상부 일측에 배관을 연결하여 내부에 충진된 촉매 근처 또는 촉매 층 내부에 배출구를 두어 수소와 산소가 촉매 없이 만나 반응하는 것을 방지하도록 구성되어 있다. The mixed gas of hydrogen and nitrogen discharged from the wet scrubber for the first stage ammonia gas flows into the upper portion of the catalytic reaction scrubber and comes into contact with the catalyst charged in the catalytic reaction scrubber. In order to prevent the hydrogen and oxygen from reacting without a catalyst by connecting a pipe to the upper side of the catalytic reaction scrubber and having an outlet near the catalyst packed therein or inside the catalyst bed.
촉매를 이용해 수소와 공기 또는 산소를 반응시킬 때에는 상온에서 연소반응이 일어나므로 별도의 가열이 필요하지 않으며, 수소의 연소반응 시에 발생하는 열로 인하여 반응기 온도가 상승하게 된다. When the hydrogen is reacted with air or oxygen using a catalyst, a combustion reaction occurs at room temperature, and thus no additional heating is required, and the reactor temperature is increased due to the heat generated during the combustion reaction of hydrogen.
따라서 반응기의 온도가 지속적으로 상승하는 것을 방지하기 위하여 촉매 반응 스크러버의 일측에 촉매층을 냉각시키기 위한 촉매층 냉각 코일을 설치하고, 냉각 코일 내부로 냉각수를 주입하여 반응열을 낮추도록 구성하는 것이 바람직하다. Therefore, in order to prevent the temperature of the reactor from continuously rising, it is preferable to install a catalyst layer cooling coil for cooling the catalyst layer on one side of the catalytic reaction scrubber, and to configure the reaction heat to lower the reaction heat by injecting cooling water into the cooling coil.
수소가 산소와 결합하면 수분이 발생하게 되는데, 그에 대한 반응식은 식 (2)과 같다.
When hydrogen combines with oxygen, water is generated, and the reaction formula is shown in Equation (2).
2H2 + O2 = 2H2O (2)
2H 2 + O 2 = 2H 2 O (2)
상기 반응식 (2)에서, 수소가 산소와 반응하여 수분이 발생하게 된다. 따라서, 촉매 반응 스크러버 하부에 수분을 응축하여 모아둘 수 있는 수분 응축 탱크를 구비하도록 하는 것이 바람직하다. In Scheme (2), hydrogen reacts with oxygen to generate water. Therefore, it is preferable to have a water condensation tank capable of condensing and collecting water under the catalytic reaction scrubber.
상기 반응식은 발열반응으로 급격하게 진행되므로, 반응속도를 조절하는 것이 바람직하다. 반응속도를 조절하는 방법은 촉매를 사용하는 방법과 불활성가스를 투입하는 방법으로 이룰 수 있으며, 본 발명에서는 촉매를 사용하여 반응속도를 조절하는 방법을 제공한다. Since the reaction scheme proceeds rapidly with exothermic reaction, it is preferable to control the reaction rate. The method of controlling the reaction rate may be achieved by using a catalyst and adding an inert gas. The present invention provides a method of controlling the reaction rate using a catalyst.
반응속도 조절을 위한 촉매는 촉매 담지체의 종류에 따라 활성도, 활성화 주기 등이 달라질 수 있다. The catalyst for controlling the reaction rate may vary in activity, activation cycle, etc. according to the type of catalyst carrier.
상기 촉매를 제조하기 위한 주요 담지체로는 활성탄, 규조토, 제올라이트 및 알루미나 중에서 하나를 선택하여 사용할 수 있으며, Ag(NO3), Pd(NO3), Pt(NO3) 금속용액 중에서 하나를 선택하여 상기 선택된 담지체에 함침시켜 건조 및 소성시켜 촉매로 사용한다. As the main carrier for preparing the catalyst, one of activated carbon, diatomaceous earth, zeolite and alumina may be selected and used, and one of Ag (NO 3 ), Pd (NO 3 ), and Pt (NO 3 ) metal solution may be selected. The selected carrier is impregnated, dried and calcined to use as a catalyst.
상기 촉매 반응 스크러버를 통과한 수소와 질소의 혼합가스는 수소가 대부분 제거되고, 질소와 잉여 산소 및 일부 수증기가 배출 배관을 통하여 외부로 배출되므로, LED 제조 설비에서 배출되는 암모니아, 수소와 같은 유독성, 가연성 가스가 대기 중으로 방출되는 것을 방지함으로써 환경오염과 안전사고를 예방할 수 있다. The mixed gas of hydrogen and nitrogen passing through the catalytic reaction scrubber is mostly hydrogen is removed, nitrogen and excess oxygen and some water vapor is discharged to the outside through the discharge pipe, toxic such as ammonia, hydrogen discharged from the LED manufacturing equipment, By preventing the release of flammable gases into the atmosphere, environmental pollution and safety accidents can be prevented.
<실시 예2>≪ Example 2 >
본 발명에 따른 구체적인 실시 예2를 도면에 기초하여 살펴본다. 도 2는 본 발명에 따른 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치의 하나의 실시 예를 도시한 것이다. A second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Figure 2 shows one embodiment of a continuous removal of the exhaust gas of the LED manufacturing process using a wet scrubber and a catalytic reaction scrubber according to the present invention.
본 발명에 따른 장치의 구성은 도 2에서와 같이 구성되어 있고, 각각의 기술적 구성을 구체적으로 살펴본다. The configuration of the apparatus according to the present invention is configured as shown in FIG. 2 and looks at each technical configuration in detail.
본 발명에 따른 LED 제조 공정 배출가스 처리용 스크러버 장치는 크게 습식 스크러버에서 암모니아 가스를 제거 처리하고, 암모니아 가스가 제거된 배출가스를 촉매 반응 스크러버를 이용하여 수소를 제거 처리하도록 구성되어 있다.The scrubber apparatus for processing exhaust gas of the LED manufacturing process according to the present invention is largely configured to remove ammonia gas from a wet scrubber, and to remove hydrogen using a catalytic reaction scrubber from which the ammonia gas has been removed.
상기한 바와 같은 다양한 조성을 가진 혼합된 배출가스는 암모니아 가스의 제거를 위하여 습식 스크러버로 투입되며, 본 발명에 따른 암모니아 가스를 제거 처리하는 기술적 구성을 살펴본다. The mixed exhaust gas having various compositions as described above is introduced into a wet scrubber to remove ammonia gas, and looks at the technical configuration of the ammonia gas removing process according to the present invention.
암모니아 가스를 처리하기 위한 습식 스크러버는 암모니아 가스와 중화액이 접촉하는 충진물이 충진된 칼럼, 중화액이 담기는 하부 탱크, 중화액을 순환시켜주는 순환 펌프로 구성되어 있다. The wet scrubber for treating ammonia gas is composed of a column filled with a filler in contact with the ammonia gas, a lower tank containing the neutralizing liquid, and a circulation pump for circulating the neutralizing liquid.
LED 장비에서 배출되는 배출가스는 중화액이 담겨있는 하부 탱크로 버블링시켜 투입하면서 1차로 암모니아 가스를 제거하고, 탱크에서 제거되지 않은 암모니아 가스는 상부 칼럼으로 흐르게 된다. Exhaust gas emitted from the LED equipment is first bubbled into the lower tank containing the neutralizing liquid to remove ammonia gas, and the ammonia gas not removed from the tank flows to the upper column.
상부 칼럼에는 하부 탱크의 중화액을 펌프를 이용해 칼럼 상부로 이송하여 칼럼 내부에 중화액을 뿌려주어 중화액이 중력에 의해 하부 탱크로 흐르도록 구성되어 있다. In the upper column, the neutralizing liquid of the lower tank is transferred to the upper part of the column by using a pump, and the neutralizing liquid is sprayed inside the column so that the neutralizing liquid flows to the lower tank by gravity.
상기 습식 스크러버 내부에는 냉각을 위한 열교환기가 설치되며, 습식 스크러버 상부의 온도는 상기 열교환기를 이용하여 -30℃내지 30℃사이에서 설정된 온도를 유지하며, 습식 스크러버 하부의 온도는 -30℃내지 30℃사이에서 설정된 온도로 유지하도록 구성되어 있다.A heat exchanger for cooling is installed inside the wet scrubber, and the temperature of the wet scrubber is maintained at a temperature set between -30 ° C. and 30 ° C. using the heat exchanger, and the temperature of the bottom of the wet scrubber is -30 ° C. to 30 ° C. It is configured to maintain the temperature set in between.
LED 제조공정 중에 배출되는 배출가스에 포함된 암모니아의 농축농도에 따라 습식 스크러버 상부로 들어오는 물 또는 중화액의 양을 서로 달리하며, 고농도의 암모니아수를 만들 경우에는 소량의 물 또는 중화액을 주입하고, 암모니아 가스만을 제거 위하여서는 많은 양의 물 또는 중화액이 주입되도록 구성할 수 있다. Depending on the concentration of ammonia contained in the exhaust gas emitted during the LED manufacturing process, the amount of water or neutralization liquid entering the upper part of the wet scrubber is different from each other.In case of making a high concentration of ammonia water, a small amount of water or neutralization liquid is injected. In order to remove only ammonia gas, a large amount of water or neutralizing liquid may be injected.
상기 암모니아 가스를 제거하기 위해 사용되는 중화액은 황산, 염산 및 질산 중에서 하나 또는 둘 이상을 선택하고, 물에 희석하여 사용하는데 중화액의 pH는 반응효율을 높이기 위하여 pH 센서와 연동시켜 pH 4내지 pH 5사이에서 유지하도록 하는 것이 바람직하고, 중화반응에 의해 생성된 황산암모늄 용액의 pH는 6내지 7 사이에서 유지하도록 하여 배출한다. 암모니아 가스와 황산의 중화 반응식은 식(1)과 같다.
The neutralizing liquid used to remove the ammonia gas is selected from sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, and one or two or more of them are diluted in water. The pH of the neutralizing liquid is linked with a pH sensor to increase the reaction efficiency. It is preferable to maintain the pH between 5, and the pH of the ammonium sulfate solution produced by the neutralization reaction is maintained between 6 and 7 and discharged. The neutralization reaction of ammonia gas and sulfuric acid is shown in equation (1).
2NH3 + H2SO4 -> (NH4)SO4 (1)
2NH 3 + H 2 SO 4- > (NH 4 ) SO 4 (1)
상기 반응식에 의해 LED 제조 장비에서 배출되는 암모니아 가스, 수소 가스 및 질소의 혼합가스 중 암모니아 가스가 제거되고, 반응하지 않은 수소와 질소는 다음단의 촉매 반응 스크러버로 투입된다.By the reaction scheme, the ammonia gas is removed from the mixed gas of ammonia gas, hydrogen gas and nitrogen discharged from the LED manufacturing equipment, and the unreacted hydrogen and nitrogen are introduced into the next catalytic reaction scrubber.
상기 습식 스크러버를 통과하면서 암모니아가 제거되고, 수소와 질소가 혼합된 가스는 다음단의 촉매 반응 스크러버로 투입되도록 구성되어 있다. The ammonia is removed while passing through the wet scrubber, and the gas mixed with hydrogen and nitrogen is introduced to the next catalytic reaction scrubber.
상기 촉매 반응 스크러버에서는 촉매를 이용해 수소를 공기 또는 산소와 함께 연소시켜 수증기를 만들어서 수소를 제거하고 질소만 외부로 배출하도록 구성되어 있다.The catalytic reaction scrubber is configured to burn hydrogen with air or oxygen using a catalyst to make water vapor to remove hydrogen and to discharge nitrogen only to the outside.
상기 촉매 반응 스크러버는 촉매가 충진되어 있는 반응칼럼, 스크러버 내부의 온도를 조절하기 위한 냉각 코일, 반응시 발생하는 수분을 모아두기 위한 응축 탱크 및 가스의 흐름을 원활하게 하는 블로워 등으로 구성되어 있다. The catalytic reaction scrubber is composed of a reaction column filled with a catalyst, a cooling coil for adjusting the temperature inside the scrubber, a condensation tank for collecting moisture generated during the reaction, and a blower for smoothing the flow of gas.
상기 암모니아 가스 제거를 위한 습식 스크러버에서 배출된 수소와 질소의 혼합가스는 촉매 반응 스크러버의 상부로 유입되어 촉매 칼럼의 촉매와 접촉하게 되고, 수소를 태우기 위해 필요한 공기는 안전성을 확보하기 위하여 촉매 반응 스크러버의 상부 일측에 배관을 연결하여 촉매 근처 또는 촉매 층 내부에 배출구를 두어 수소와 산소가 촉매 없이 만나 반응하는 것을 방지하도록 구성되어 있다. The mixed gas of hydrogen and nitrogen discharged from the wet scrubber for removing the ammonia gas flows into the upper portion of the catalytic reaction scrubber and comes into contact with the catalyst of the catalyst column, and the air necessary to burn hydrogen is catalytically reacted scrubber to ensure safety. A pipe is connected to the upper one side of the reactor to have a discharge port near the catalyst or inside the catalyst layer to prevent hydrogen and oxygen from reacting without the catalyst.
촉매를 이용해 수소와 산소를 반응시킬 때에는 상온에서 연소반응이 일어나므로 별도의 가열이 필요하지 않으며, 수소의 연소반응에 의한 발열로 인하여 촉매 반응 스크러버의 내부 온도가 상승하게 된다. When hydrogen and oxygen are reacted by using a catalyst, a combustion reaction occurs at room temperature, and thus no additional heating is required, and the internal temperature of the catalytic reaction scrubber is increased due to the exotherm caused by the combustion reaction of hydrogen.
따라서 촉매 반응 스크러버의 온도가 지속적으로 상승하는 것을 방지하기 위하여 촉매 반응 스크러버의 일측에 촉매층을 냉각시키기 위한 촉매층에 냉각 코일을 설치하고, 냉각 코일 내부로 냉각수를 주입하여 반응열을 낮출 수 있도록 구성하는 것이 바람직하다. Therefore, in order to prevent the temperature of the catalytic reaction scrubber from continuously rising, a cooling coil may be installed in the catalyst layer for cooling the catalyst layer on one side of the catalytic reaction scrubber, and the cooling water may be injected into the cooling coil to lower the reaction heat. desirable.
수소가 산소와 결합하면 수분이 발생하게 되는데, 그에 대한 반응식은 식 (2)과 같다.When hydrogen combines with oxygen, water is generated, and the reaction formula is shown in Equation (2).
2H2 + O2 = 2H2O (2)
2H 2 + O 2 = 2H 2 O (2)
상기 반응식 (2)에서, 수소가 산소와 반응하여 수분이 발생하게 된다. 따라서, 촉매 반응 스크러버 하부에 수분을 응축하여 모아둘 수 있는 수분 응축 탱크를 구비하도록 하는 것이 바람직하다. In Scheme (2), hydrogen reacts with oxygen to generate water. Therefore, it is preferable to have a water condensation tank capable of condensing and collecting water under the catalytic reaction scrubber.
상기 반응식은 발열반응으로 급격하게 진행되므로, 반응속도를 조절하는 것이 바람직하다. 반응속도를 조절하는 방법은 촉매를 사용하는 방법과 불활성가스를 다량 투입하는 방법으로 이룰 수 있으며, 본 발명에서는 촉매를 사용하여 반응속도를 조절하는 방법을 제공한다. Since the reaction scheme proceeds rapidly with exothermic reaction, it is preferable to control the reaction rate. Method for controlling the reaction rate can be achieved by a method using a catalyst and a large amount of inert gas, the present invention provides a method for controlling the reaction rate using a catalyst.
반응속도 조절을 위한 촉매는 촉매 담지체의 종류에 따라 활성도, 활성화 주기 등이 달라질 수 있다. The catalyst for controlling the reaction rate may vary in activity, activation cycle, etc. according to the type of catalyst carrier.
상기 촉매를 제조하기 위한 주요 담지체로는 활성탄, 규조토, 제올라이트 및 알루미나 중에서 하나를 선택하여 사용할 수 있으며, Ag(NO3), Pd(NO3), Pt(NO3) 금속용액 중에서 하나 또는 둘 이상을 혼합 사용하여 상기 선택된 담지체에 함침시켜 건조 및 소성시켜 촉매로 사용한다. The main carrier for preparing the catalyst may be selected from one of activated carbon, diatomaceous earth, zeolite and alumina, and at least one of Ag (NO 3 ), Pd (NO 3 ), and Pt (NO 3 ) metal solution. The mixture was impregnated with the selected carrier to be dried, calcined and used as a catalyst.
상기 촉매 반응 스크러버의 칼럼을 통과한 수소와 질소의 혼합가스는 수소가 대부분 제거되고, 질소와 잉여 산소 및 일부 수증기가 배출 배관을 통하여 외부로 배출되므로, LED 제조 설비에서 배출되는 암모니아, 수소와 같은 유독성, 가연성 가스가 대기 중으로 방출되는 것을 방지함으로써 환경오염과 안전사고를 예방할 수 있다. The mixed gas of hydrogen and nitrogen passing through the column of the catalytic reaction scrubber is mostly hydrogen is removed, the nitrogen and surplus oxygen and some water vapor is discharged to the outside through the exhaust pipe, such as ammonia, hydrogen discharged from the LED manufacturing equipment By preventing the release of toxic and flammable gases into the atmosphere, environmental pollution and safety accidents can be prevented.
상기 습식 스크러버 및 촉매 반응 스크러버의 일측에는 수소 및 암모니아 농도를 확인하기 위하여 수소센서 및 암모니아 센서가 부착 설치되어 있다.One side of the wet scrubber and the catalytic reaction scrubber is attached to the hydrogen sensor and ammonia sensor to check the concentration of hydrogen and ammonia.
<실시 예3>≪ Example 3 >
실시 예 3은 상기 실시 예1 및 실시 예2에 기초하여 습식 스크러버와 촉매 반응 스크러버를 이용한 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법 및 장치를 이용하여 실시한 실험 결과를 나타낸 것이다. Example 3 shows the results of experiments using a method and apparatus for continuously removing the exhaust gas of the LED manufacturing process using a wet scrubber and a catalytic reaction scrubber based on Examples 1 and 2 above.
본 발명의 구체적인 실시 예 3을 도면에 기초하여 살펴본다. 도 2에서와 같이 전체공정은 2단계로 구성되어 있으며, 1단계 공정인 습식 스크러버는 순환펌프를 사용하여 황산용액(10w/w% 농도)을 순환시키면 중화제와 암모니아 가스가 중화반응을 일으켜 배출가스 중에 암모니아 가스를 제거하도록 구성되어 있다. A third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in Figure 2, the whole process consists of two stages, and the wet scrubber, which is a one-step process, circulates sulfuric acid solution (10w / w% concentration) using a circulating pump to neutralize the ammonia gas and the ammonia gas causes exhaust gas. It is comprised so that ammonia gas may be removed.
촉매 반응 스크러버는 촉매(Pd) 존재 하에서 배출가스 중에 수소를 제거하는 단계로서 공기를 주입하여 수소와 연소반응을 발생시켜 수소를 제거하도록 구성되어 있다. Catalytic reaction scrubber is a step of removing hydrogen in the exhaust gas in the presence of the catalyst (Pd) is configured to inject air to generate a combustion reaction with hydrogen to remove hydrogen.
1단계 공정인 촉매 반응 스크러버에서 암모니아가 제거되는지 알아보기 위해 실험을 실시하였다. 배출가스의 조성은 암모니아(40~100LPM), 수소(60~180LPM) 및 질소(100~200LPM)이다. An experiment was conducted to see if ammonia was removed from the catalytic reaction scrubber. The composition of the exhaust gas is ammonia (40 ~ 100LPM), hydrogen (60 ~ 180LPM) and nitrogen (100 ~ 200LPM).
배출 가스는 도 2의 배출가스입구(11)를 통하여 투입하였으며, 배출가스입구(11)는 황산탱크(12)의 액면 아래에 위치하도록 설치하여 배출가스가 황산용액 내부에서 버블링된 후, 습식 스크러버(14)로 이동되도록 구성되어 있다. 컬럼의 크기는 직경 200mm, 길이 1000mm이다.The exhaust gas was introduced through the exhaust gas inlet 11 of FIG. 2, and the exhaust gas inlet 11 was installed under the liquid level of the
황산용액은 순환펌프(13)를 이용하여 순환시킨다. 배출가스와 황산용액의 접촉면적을 넓히기 위해 습식 스크러버(14) 내부에 충진제로 폴(Pall)링을 채웠다. Sulfuric acid solution is circulated using the circulation pump (13). Pall rings were filled with a filler inside the
황산 탱크 내부에 pH 메터(meter)를 설치하여 pH가 6내지 7 사이의 설정 값 이상이 되면 자동으로 황산이 투입되도록 구성한다. 또한 황산 액위를 레벨계로 측정하여 설정 값 이상이 되면 자동으로 배출되도록 구성한다. A pH meter is installed inside the sulfuric acid tank to automatically add sulfuric acid when the pH is above the set value between 6 and 7. In addition, the sulfuric acid liquid level is measured by a level meter so that it is automatically discharged when it exceeds the set value.
상기와 같이 실험장치를 세팅하여 실험하였을 때, 실험 결과는 표 1과 같이 암모니아가 99.9%이상 제거된 것을 볼 수 있다. 분석은 FT-IR 분석기를 사용하여 측정하였다.When the experiment was set up as described above, the experimental results can be seen that more than 99.9% of ammonia is removed as shown in Table 1. Analysis was measured using an FT-IR analyzer.
표 1은 1단계 습식 스크러버를 통과한 가스 중 암모니아 농도를 측정한 값을 나타낸 것이다.Table 1 shows the measured values of ammonia concentration in the gas passed through the first stage wet scrubber.
1단계 습식 스크러버를 통과한 배출가스는 2단계 촉매 스크러버(15)의 상부로 유입되게 한다. 촉매 스크러버의 크기는 직경 150mm, 길이 600mm이다. 배출가스 중에 있는 수소를 공기 또는 산소와 반응 연소시켜 제거하게 되는데, 공기 또는 산소의 투입구(16)는 따로 설치하며 투입구의 끝단은 촉매층 내부로 20mm 삽입하여 설치하였다. 촉매는 알루미나에 팔라듐(Pd)을 담지시켜 제조하였다.The exhaust gas passing through the first stage wet scrubber is introduced into the upper portion of the second
촉매층에는 냉각수가 흐르는 냉각코일(17)을 설치하여 촉매층의 온도를 제어하고 반응시 생성되는 수증기를 응축시키도록 한다. 응축된 수증기는 응축탱크(18)에 모이고, 나머지 가스는 배출구(19)를 통하여 배출된다. In the catalyst layer, a cooling
배출구에서 나오는 가스 중 수소 농도를 측정하기 위하여 배출구 일측에 수소 센서를 설치하였다. 상기와 같이 2단계 촉매 반응 스크러버에서 나오는 가스를 연소시킨 후 배출되는 가스 중 수소의 농도를 측정한 결과 아래 표와 같이 수소가 연소됨을 알 수 있다. 분석은 자동 흡입형 수소 센서를 사용하여 측정하였다.A hydrogen sensor was installed on one side of the outlet to measure the hydrogen concentration in the gas exiting the outlet. As a result of measuring the concentration of hydrogen in the exhaust gas after burning the gas coming out of the two-stage catalytic reaction scrubber as described above, it can be seen that hydrogen is combusted as shown in the table below. The analysis was measured using an automatic suction hydrogen sensor.
표 2는 2단계 촉매 반응 스크러버를 통과한 가스 중 수소 농도를 나타낸 것이다.Table 2 shows the concentration of hydrogen in the gas that passed through the two-stage catalytic reaction scrubber.
본 발명은 LED제조공정에서 이들 가스 중에 암모니아가스의 처리에 관한 것이며, 암모니아 가스를 흡수 탑을 이용해서 물에 흡수시켜 암모니아수로 만든 후 정화필터를 거쳐서 정화시켜 제품으로 제조하고, 흡수되지 않고 배출되는 미량의 암모니아를 황산 등으로 중화 처리함으로써 폐수 발생을 최소화할 수 있는 LED 제조공정에서 발생되는 배출가스 처리방법 및 장치를 제공하여 유지 및 설치비용을 크게 절감할 수 있음으로써 산업상 이용가능성이 매우 높다.The present invention relates to the treatment of ammonia gas in these gases in the LED manufacturing process, the ammonia gas is absorbed into water by using an absorption tower to make ammonia water and then purified through a purifying filter to produce a product, which is discharged without being absorbed. By neutralizing trace amounts of ammonia with sulfuric acid, etc., it is possible to greatly reduce the maintenance and installation costs by providing the exhaust gas treatment method and device generated in the LED manufacturing process that can minimize waste water generation. .
Claims (20)
습식 스크러버를 사용하여 배출가스 중에서 암모니아를 제거 처리하는 단계; 및
촉매 반응 스크러버를 이용하여 배출가스 중에서 수소를 연소시켜 제거하는 단계를 포함하되,
상기 촉매 반응 스크러버에 충진되는 충진물의 담지체로 활성탄, 규조토, 제올라이트 및 알루미나 중에서 하나를 선택하고,
상기 선택한 담지체를 Ag(NO3), Pd(NO3) 및 Pt(NO3) 금속 용액 중 하나를 선택하여 함침시켜 담지한 후 건조 및 소성시켜서 제조됨을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.In the continuous removal method of the LED manufacturing process exhaust gas,
Removing ammonia from the off-gas using a wet scrubber; And
Comprising the combustion by removing hydrogen in the exhaust gas using a catalytic reaction scrubber,
Select one of activated carbon, diatomaceous earth, zeolite and alumina as a carrier of the packing material filled in the catalytic reaction scrubber,
The selected carrier is impregnated by selecting one of Ag (NO 3 ), Pd (NO 3 ), and Pt (NO 3 ) metal solution to be loaded, dried, and fired. How to remove.
상기 습식 스크러버에서 암모니아를 처리하는 단계는 습식 스크러버의 하부 탱크에서 올라오는 암모니아 가스와 칼럼 상부에서 내려오는 중화액이 칼럼 내부의 충진물을 통과하면서 중화반응이 진행되어 암모니아 가스를 제거함을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.The method according to claim 1,
The step of treating ammonia in the wet scrubber is characterized in that the ammonia gas from the lower tank of the wet scrubber and the neutralization liquid from the top of the column passes through the filling in the column and the neutralization reaction proceeds to remove the ammonia gas. Continuous removal of manufacturing process emissions.
상기 습식 스크러버에서 암모니아를 처리하는 단계는 습식 스크러버의 충진물에 뿌러주는 중화액을 물, 순수, 황산, 질산, 염산 중 하나를 선택하거나 2 이상을 선택하여 혼합 사용함을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.The method according to claim 1,
The step of treating ammonia in the wet scrubber is the LED manufacturing process exhaust gas, characterized in that the neutralized liquid sprayed on the filling of the wet scrubber is selected from water, pure water, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, or two or more selected and mixed. Method of continuous removal.
상기 촉매 반응 스크러버를 이용하여 배출가스 중에서 수소를 처리하는 단계는 공기 또는 산소를 별도의 주입구로 투입하며, 촉매로 Pd 혹은 Pt 가 포함된 조성물로 구성됨을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.The method according to claim 1,
Treatment of hydrogen in the exhaust gas by using the catalytic reaction scrubber is carried out in a separate injection port of air or oxygen, and the continuous removal of the exhaust gas of the LED manufacturing process, characterized in that composed of a composition containing Pd or Pt as a catalyst Way.
상기 촉매 반응 스크러버의 내부 혹은 외부 일측에는 수소 연소 반응에서 발생하는 열을 냉각하기 위한 수냉식 코일이 감겨있어 내부 열을 냉각시키도록 구성된 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.The method according to any one of claims 1 to 4,
The internal or external side of the catalytic reaction scrubber is wound around a water-cooled coil for cooling the heat generated from the hydrogen combustion reaction is configured to cool the internal heat exhaustion method of the LED manufacturing process exhaust gas.
상기 습식 스크러버 및 촉매 반응 스크러버의 일측에는 암모니아 및 수소 농도를 확인하기 위하여 암모니아 센서 및 수소센서가 부착 설치됨을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.The method according to claim 1,
One side of the wet scrubber and the catalytic reaction scrubber is a continuous removal method of the exhaust gas of the LED manufacturing process, characterized in that the ammonia sensor and a hydrogen sensor is installed to check the concentration of ammonia and hydrogen.
상기 습식 스크러버 및 촉매 반응 스크러버의 일측에는 암모니아 및 수소 농도를 확인하기 위하여 각각 암모니아와 수소센서가 부착 설치됨을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 방법.The method according to claim 1,
One side of the wet scrubber and catalytic reaction scrubber is a continuous removal method of the exhaust gas of the LED manufacturing process characterized in that the ammonia and hydrogen sensors are attached to each other in order to check the ammonia and hydrogen concentration.
배출가스 중에서 암모니아 가스를 제거 처리하기 위한 습식 스크러버; 및
배출가스 중에서 수소를 연소시켜 제거하기 위한 촉매 반응 스크러버로 구성하되,
상기 촉매 반응 스크러버에 충진되는 충진물의 담지체로 활성탄, 규조토, 제올라이트 및 알루미나 중에서 하나를 선택하고,
상기 선택한 담지체를 Ag(NO3), Pd(NO3) 및 Pt(NO3) 금속용액 중 하나를 선택하여 함침시켜 담지한 후 건조 및 소성시켜서 제조됨을 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.In the continuous removal device of the LED manufacturing process exhaust gas,
A wet scrubber for removing ammonia gas from the exhaust gas; And
Catalytic reaction scrubber for burning and removing hydrogen in the exhaust gas,
Select one of activated carbon, diatomaceous earth, zeolite and alumina as a carrier of the packing material filled in the catalytic reaction scrubber,
The selected carrier is impregnated by selecting one of Ag (NO 3 ), Pd (NO 3 ) and Pt (NO 3 ) metal solution to be carried out, and then dried and fired to be manufactured by the LED manufacturing process.
상기 습식 스크러버는 하부 탱크에서 올라오는 암모니아 가스와 칼럼 상부에서 내려오는 중화액이 칼럼 내부의 충진물을 통과하면서 중화반응이 진행되어 암모니아 가스를 제거함을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 10,
The wet scrubber is a continuous removal device of the exhaust gas of the LED manufacturing process characterized in that the neutralization reaction proceeds to remove the ammonia gas while the ammonia gas from the lower tank and the neutralization liquid coming down from the column passes through the filling in the column.
상기 습식 스크러버는 습식 스크러버의 충진물에 뿌러주는 중화액으로 물, 황산, 질산, 염산 중 하나를 선택하거나 2 가지 이상을 혼합 사용함을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 11,
The wet scrubber is a neutralizing liquid sprayed on the filling of the wet scrubber water, sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, or any one or more of the LED manufacturing process, characterized in that the mixture of two or more used to remove the exhaust gas.
상기 촉매 반응 스크러버는 공기 또는 산소를 별도의 주입구로 투입하며, 촉매로 Pd 혹은 Pt 가 포함된 조성물로 이루어짐을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 10,
The catalytic reaction scrubber is a device for continuously removing the exhaust gas of the LED manufacturing process, characterized in that the air or oxygen is injected into a separate inlet, made of a composition containing Pd or Pt as a catalyst.
상기 촉매 반응 스크러버의 외부 일측에는 수소 연소 반응에서 발생하는 열을 냉각하기 위한 수냉식 코일이 감겨있어 내부 열을 냉각시키도록 구성된 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method according to any one of claims 10 to 13,
The outer side of the catalytic reaction scrubber is wound around a water-cooled coil for cooling the heat generated from the hydrogen combustion reaction is configured to cool the internal heat of the LED manufacturing process continuous removal device.
상기 습식 스크러버 및 촉매 반응 스크러버의 일측에는 암모니아 및 수소 농도를 확인하기 위하여 암모니아 센서 및 수소센서가 부착 설치됨을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 10,
One side of the wet scrubber and the catalytic reaction scrubber, the ammonia sensor and a hydrogen sensor is attached to the continuous removal apparatus of the LED manufacturing process, characterized in that the attachment is installed to check the ammonia and hydrogen concentration.
상기 습식 스크러버에는 레벨계가 부착되어 암모니아 가스를 제거하기 위하여 중화액이 뿌려지고, 이로 인해 발생되는 폐액을 배출시키도록 제작됨을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 10,
The wet scrubber is attached to the level gauge is a neutralization liquid is sprayed to remove the ammonia gas, the continuous removal device of the LED manufacturing process exhaust gas, characterized in that is produced to discharge the waste liquid generated thereby.
상기 촉매 반응 스크러버로 수소를 태우기 위해 필요한 공기 또는 산소는 안전성을 위하여 촉매 반응 스크러버의 상부 일측에 배관을 연결하여 내부에 충진된 촉매에 인접하게 또는 촉매 층 내부에 배출구를 두어 수소와 산소가 촉매 없이 접촉하여 반응하는 것을 방지하도록 구성함을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 10,
Air or oxygen required to burn hydrogen with the catalytic reaction scrubber is connected to the upper side of the catalytic reaction scrubber for safety so that the hydrogen or oxygen is free from the catalyst adjacent to the catalyst packed therein or the outlet inside the catalyst bed. Continuous removal device of the LED manufacturing process exhaust gas, characterized in that configured to prevent the reaction by contact.
상기 습식 스크러버 내부에는 냉각을 위한 열교환기가 설치되며, 습식 스크러버 상부의 온도는 상기 열교환기를 이용하여 -30℃내지 30℃사이에서 설정된 온도를 유지하며, 습식 스크러버 하부의 온도는 -30℃내지 30℃사이에서 설정된 온도를 유지하도록 구성함을 특징으로 하는 LED 제조공정 배출가스의 연속 제거 장치.The method of claim 10,
A heat exchanger for cooling is installed inside the wet scrubber, and the temperature of the wet scrubber is maintained at a temperature set between -30 ° C. and 30 ° C. using the heat exchanger, and the temperature of the bottom of the wet scrubber is -30 ° C. to 30 ° C. Continuous removal device of the LED manufacturing process exhaust gas, characterized in that configured to maintain a set temperature between.
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Cited By (2)
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Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101467879B1 (en) * | 2013-05-31 | 2014-12-04 | 코아텍주식회사 | Manufacturing method of filling sticking ion-exchange resin for acid and alkali gas removal and filling manufacturing method |
| CN107930364A (en) * | 2017-11-14 | 2018-04-20 | 江苏理工学院 | A kind of cleaning system for microparticle and the mixture of volatile organic gases |
| KR102103703B1 (en) * | 2018-05-16 | 2020-04-23 | 정상택 | System for removing malodor of livestock excretions |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000271429A (en) | 1999-03-26 | 2000-10-03 | Kashiyama Kogyo Kk | Waste gas treating method and treating device |
| JP2004067849A (en) * | 2002-08-06 | 2004-03-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Wet-type gas refining process |
-
2010
- 2010-11-03 KR KR1020100108520A patent/KR101211625B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000271429A (en) | 1999-03-26 | 2000-10-03 | Kashiyama Kogyo Kk | Waste gas treating method and treating device |
| JP2004067849A (en) * | 2002-08-06 | 2004-03-04 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Wet-type gas refining process |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11491435B2 (en) | 2019-05-24 | 2022-11-08 | Entegris, Inc. | Methods and systems for removing ammonia from a gas mixture |
| US11712653B2 (en) | 2019-05-24 | 2023-08-01 | Entegris, Inc. | Methods and systems for adsorbing organometallic vapor |
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