KR101200724B1 - A transparent subtrate with anti-reflection functionality - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 반사방지 기능을 구비한 투명기판에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 교대로 형성된 고 굴절률의 박막층과 저 굴절률의 박막층을 포함하는 반사방지층을 통해, 투과율과 반사율을 개선하고, 기계적 강도와 화학적 저항성의 성능을 향상시킬 수 있는 투명기판에 관한 것이다.
The present invention relates to a transparent substrate having an antireflection function, and more particularly, an antireflection layer including an alternating high refractive index thin film layer and a low refractive index thin film layer to improve transmittance and reflectance, and to improve mechanical strength and The present invention relates to a transparent substrate capable of improving the performance of chemical resistance.
반사방지 코팅은 통상적으로, 고 굴절률의 유전성 물질 및 저 굴절률의 유전성 물질을 주원료로 하는 층이 교대 하는, 간섭의 얇은 층을 포함하는 다층으로 이루어진다. 투명한 기판 상에 증착되는 경우, 그러한 코팅의 기능은 기판의 광 반사를 감소시키고 기판의 광 투과를 증가시키는 것이다. 따라서 그렇게 코팅된 기판의 투과된 광/반사된 광의 비가 증가하고, 이로 인해 기판의 뒤에 위치된 물체의 선명도를 향상시킨다.
Antireflective coatings typically consist of a multilayer comprising a thin layer of interference, with alternating layers of high refractive index dielectric material and low refractive index dielectric material. When deposited on a transparent substrate, the function of such a coating is to reduce the light reflection of the substrate and to increase the light transmission of the substrate. The ratio of transmitted / reflected light of the substrate so coated is thus increased, thereby improving the sharpness of the object located behind the substrate.
지금까지 대부분의 반사방지 코팅은 고굴절률 층/저굴절률 층/고굴절률 층/저굴절률 층을 갖는 4층의 구조이고, 고 굴절률 층은 통상적으로 약 2.45의 매우 높은 굴절률을 갖는 TiO2로 만들어지며, 저 굴절률 층은 통상적으로 SiO2로 만들어진다.To date, most antireflective coatings have a structure of four layers with a high refractive index layer / low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer, and the high refractive index layer is typically made of TiO2 having a very high refractive index of about 2.45, The low refractive index layer is typically made of SiO2.
그러나, 스퍼터링에 의한 AR 코팅의 경제적인 생산이 문제가 된다. 우선, 높은 굴절율의 제3 층에 바람직한 물질인 산화티타늄은 낮은 증착 속도를 갖는다. 따라서, 두꺼운 제3 층의 스퍼터링에 상당한 시간과 다수의 스퍼터 캐소드들을 들여야 한다. 둘째로, 약 60℃ 이상의 온도를 견딜 수 없는 플라스틱 기판이나 유리의 경우에도 인쇄부위들은 TiO2 스퍼터 소스들의 높은 전력에 의해 쉽게 변질될 수 있다. 과열을 피하기 위해 TiO2 타게트들은 낮은 전력에서 작동할 수 있지만, 상당히 느린 코팅 처리 또는 상당한 TiO 2 타게트들을 필요로 하는 희생이 따른다.However, economical production of AR coatings by sputtering is a problem. First, titanium oxide, which is the preferred material for the high refractive index third layer, has a low deposition rate. Therefore, a considerable time and a large number of sputter cathodes are required for sputtering of the thick third layer. Secondly, even in the case of plastic substrates or glass that cannot withstand temperatures above about 60 ° C., the printed areas can be easily deteriorated by the high power of the TiO 2 sputter sources. TiO2 targets can operate at low power to avoid overheating, but at the expense of requiring a significantly slower coating or significant TiO 2 targets.
또한, TiO2를 고굴절률 층으로 사용하면 기계적 강도가 취약하다는 점이 알려져 있으며, 이를 개선시키는 방법으로 굴절율이 2.05인 ZrO2를 사용하는 방법도 제안되었다. 하지만 이 경우에도 느린 증착속도는 피할 수 없으므로 개선이 필요하다.In addition, when TiO 2 is used as a high refractive index layer, it is known that the mechanical strength is weak. As a method of improving the refractive index, ZrO 2 having a refractive index of 2.05 has also been proposed. However, even in this case, the slow deposition rate is inevitable and needs improvement.
그리고, 4층으로 반사방지층을 만들면 가시광선의 단파장대인 400-420nm 부근과 장파장대인 650-700nm 부근의 반사가 높기 때문에 보다 층수를 증가시킬 필요가 있다.In addition, when the antireflection layer is formed of four layers, the number of layers needs to be increased because the reflection is high in the vicinity of 400-420 nm of the short wavelength band of visible light and in the vicinity of 650-700 nm of the long wavelength band.
하지만 층수를 증가시키면 요구되는 박막의 총두께가 증가되기 때문에 요구되는 반사율을 만족시킬 수 있는 한 층수를 줄이는 것이 생산에 유리하므로 적정한 층수의 다층박막으로 제작하는 것이 필요하다.
However, increasing the number of layers increases the total thickness of the thin film required, so reducing the number of layers as long as it can satisfy the required reflectance is advantageous for production. Therefore, it is necessary to manufacture a multilayer thin film having an appropriate number of layers.
한편, 최근까지 개발된 대부분의 반사 방지 코팅은 수직 입사에의 광반사를 최소화하도록 최적화시키는 데에만 초점을 두고 있을 뿐, 내마모성 등의 기계적 저항성(mechanical resistance) 및 내화학성(chemical resistance) 등과 같이 실제 사용시 발생하는 외부조건을 견디는 능력을 고려하지 않았으며, 또한 생산성을 고려하지 않았다. 따라서 기존의 반사 방지 코팅과 동등 수준 이상의 우수한 반사방지성을 나타내면서 동시에 내마모성 등의 기계적 특성 및 내화학성이 우수하여 가혹조건 하에 노출되어도 반사방지성의 저하가 현저히 적은 반사 방지 코팅 및 이를 표면에 갖는 유리 등의 투명 기판에 대한 요구가 증가하고 있는 실정이다On the other hand, most of the anti-reflective coatings developed until recently are focused only on optimizing to minimize light reflection at normal incidence, and can be used for practical purposes such as mechanical resistance and chemical resistance such as wear resistance. It did not take into account its ability to withstand the external conditions encountered during use, nor did it consider productivity. As a result, it exhibits excellent anti-reflective properties equivalent to those of conventional anti-reflective coatings, and at the same time, has excellent mechanical properties and chemical resistance such as wear resistance, so that the anti-reflective coating having a significant decrease in anti-reflective properties even when exposed to severe conditions and glass having the same on the surface Demand for transparent substrates is increasing
또한, 전자제품 특히 휴대폰의 경우 근래 터치입력방식의 스마트폰의 경우 디스플레이부위를 손으로 접촉하여 동작시키기 때문에 반사방지층의 기계적강도와 화학적 저항성의 성능을 만족시키는 것이 더욱 중요해졌고 지문이 쉽게 지워지거나 잘 묻지 않는 지문방지의 기능도 요구되고 있다.
In addition, in the case of electronic products, especially mobile phones, since touch-type smart phones operate by touching the display part by hand, it is more important to satisfy the performance of the mechanical strength and chemical resistance of the anti-reflection layer, and fingerprints are easily erased or Non-fingerprint protection is also required.
본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 투명기판의 반사방지 기능을 현저히 향상시키는 것을 해결과제로 한다.A transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is a problem to significantly improve the anti-reflection function of the transparent substrate.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 높은 기계적 저항성과 내화학성의 성능을 갖는 반사방지층을 구현하는 것을 해결과제로 한다. In addition, a transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention, to implement an anti-reflection layer having a high mechanical resistance and chemical resistance performance as a problem.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 반사방지층을 형성하는 속도를 현저하게 향상시키는 것을 해결과제로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention, it is a problem to significantly improve the speed of forming the anti-reflection layer.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 한쪽 면에 반사방지층을 형성했던 종래의 투명기판과 비교하여, 반사방지의 성능을 향상시키고, 반사방지 이외의 기능도 부가할 수 있는 것을 해결과제로 한다. In addition, the transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention improves the performance of anti-reflection, compared to the conventional transparent substrate having an anti-reflection layer formed on one surface thereof, and has functions other than anti-reflection. What can be added is the problem.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 표면에 플루오로 중합체로 형성된 내지문방지층을 더 포함할 수 있어서, 반사방지 기능은 물론 오염방지 기능까지 구현할 수 있는 것을 해결과제로 한다.
In addition, the transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention may further include an anti-fingerprint layer formed of a fluoropolymer on the surface, so that the anti-reflection function as well as the anti-fouling function may be realized. Make it a challenge.
상기와 같은 과제를 해결하기 위한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 투명한 물질로 이루어진 투명기판; 및 상기 투명기판의 한쪽 면에 형성된 반사방지층을 포함하고, 상기 반사방지층은 6층의 박막층들을 포함하며, 상기 6층의 박막층들은 고 굴절률의 박막층과 저 굴절률의 박막층이 교대로 형성된 박막층들인 것을 특징으로 한다. In order to solve the above problems, according to an embodiment of the present invention, a transparent substrate having an anti-reflection function, a transparent substrate made of a transparent material; And an antireflection layer formed on one side of the transparent substrate, wherein the antireflection layer includes six thin film layers, wherein the six thin film layers are thin film layers in which a high refractive index thin film layer and a low refractive index thin film layer are alternately formed. It is done.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 고 굴절률이 1.75 내지 2.1인 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an antireflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that the high refractive index is 1.75 to 2.1.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 저 굴절률이 1.35 내지 1.55인 것을 특징으로 한다.In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that the low refractive index is 1.35 to 1.55.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층을 형성하는 제1층의 박막층이 두께가 10 내지 25nm인 고 굴절률의 박막층이고, 상기 반사방지층을 형성하는 제2층의 박막층은, 두께가 20 내지 50nm인 저 굴절률의 박막층이며, 상기 반사방지층을 형성하는 제3층의 박막층은, 두께가 35 내지 75nm인 고 굴절률의 박막층이고, 상기 반사방지층을 형성하는 제4층의 박막층은, 두께가 1 내지 5nm인 저 굴절률의 박막층이며, 상기 반사방지층을 형성하는 제5층의 박막층은, 두께가 70 내지 110nm인 고 굴절률의 박막층이고, 상기 반사방지층을 형성하는 제6층의 박막층은, 두께가 60 내지 95nm인 저 굴절률의 박막층인 것을 특징으로 한다. In addition, according to an embodiment of the present invention, the transparent substrate having an antireflection function is a thin film layer having a high refractive index having a thickness of 10 to 25 nm of the first layer forming the antireflection layer, and forming the antireflection layer. The thin film layer of the second layer is a low refractive index thin film layer having a thickness of 20 to 50 nm, and the thin film layer of the third layer forming the antireflection layer is a high refractive index thin film layer having a thickness of 35 to 75 nm and forms the antireflection layer. The thin film layer of the fourth layer is a low refractive index thin film layer having a thickness of 1 to 5 nm, and the thin film layer of the fifth layer forming the antireflection layer is a high refractive index thin film layer having a thickness of 70 to 110 nm, and forms the antireflection layer. The thin film layer of the sixth layer is a low refractive index thin film layer having a thickness of 60 to 95 nm.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 고 굴절률의 박막층이 주석 산화물, 규소 산화물 또는 규소옥시질화물을 성분으로 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that the high refractive index thin film layer includes tin oxide, silicon oxide or silicon oxynitride as a component.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 저 굴절률의 박막층이 규소산화물, 규소 옥시질화물 또는 옥시탄화물을 성분으로 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that the low refractive index thin film layer includes silicon oxide, silicon oxynitride or oxycarbide as a component.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 제1층, 제3층 또는 제5층의 박막층이 다수의 고 굴절률 박막들이 중첩되어 형성된 층인 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that the thin film layer of the first layer, the third layer or the fifth layer is a layer formed by overlapping a plurality of high refractive index thin films.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 제1층, 제3층 또는 제5층의 박막층이 SnO2(Tin Dioxide) 및 Si3N4(Silicon Nitride)의 2개의 박막이 중첩되어 형성되는 것을 특징으로 한다. In addition, according to an embodiment of the present invention, in the transparent substrate having an antireflection function, the thin film layer of the first layer, the third layer, or the fifth layer may be formed of two layers of SnO 2 (Tin Dioxide) and Si 3 N 4 (Silicon Nitride). It is characterized in that the thin film is formed by overlapping.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층이 스퍼터링(Sputtering)에 의해 형성되는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that the anti-reflection layer is formed by sputtering.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 실리콘 타게트(target)를 사용하여, 상기 고 굴절률의 박막층 및 상기 저 굴절률의 박막층 모두를 형성할 수 있는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention, it is possible to form both the high refractive index thin film layer and the low refractive index thin film layer using a silicon target (target). do.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층 위에 형성된 오염방지층을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention is characterized in that it further comprises an anti-fouling layer formed on the anti-reflection layer.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 오염방지층이 플루오로 중합체로 형성된 내지문방지층인 것을 특징으로 한다. In addition, according to an embodiment of the present invention, the transparent substrate having an antireflection function is characterized in that the antifouling layer is an anti-fingerprint layer formed of a fluoropolymer.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층이 상기 투명기판의 양면에 형성되는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention, characterized in that the anti-reflection layer is formed on both sides of the transparent substrate.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층이 형성되지 않은 상기 투명기판의 다른 면에, 터치입력용 투명도전층, 태양광선 차단층, 오염방지층 또는 김서림 방지층이 형성되는 것을 특징으로 한다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention, the other surface of the transparent substrate on which the anti-reflection layer is not formed, a transparent conductive layer for touch input, a sun blocking layer, a pollution prevention layer or The anti-fog layer is formed.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른, 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 투명기판이 전자제품의 디스플레이에 사용될 수 있는 투명기판인 것을 특징으로 한다.
In addition, according to an embodiment of the present invention, the transparent substrate having an anti-reflection function is characterized in that the transparent substrate is a transparent substrate that can be used in the display of electronic products.
본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 투명기판의 반사방지 기능을 현저히 향상시킬 수 있다. 구체적으로 광 반사가 1.5% 미만이 되도록 할 수 있으며, 최선의 조건에서는 광 반사를 1.0% 미만까지 낮출 수 있다. A transparent substrate having an antireflection function according to an embodiment of the present invention can significantly improve the antireflection function of the transparent substrate. Specifically, the light reflection can be made to be less than 1.5%, and under the best conditions, the light reflection can be lowered to less than 1.0%.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 넓은 낮은-광-반사 밴드(broad low-light-reflection band)에 걸쳐서 투과시 중간색을 갖고 반사시에 매력적인 외형을 갖는 반사방지 효과를 얻을 수 있다. 구체적으로, 반사시에 통상적으로 거의 중간인 색이 얻어지며, 최악의 경우 수직 입사 하에서 녹색 또는 청색이 얻어진다. In addition, a transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention has a reflection having an intermediate color in transmission and an attractive appearance in reflection over a broad low-light-reflection band. Prevention effect can be obtained. In particular, a color which is usually almost intermediate upon reflection is obtained, and in the worst case green or blue color is obtained under normal incidence.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 높은 기계적 저항성과 내화학성의 성능을 갖는 반사방지층을 구현할 수 있다. 구체적으로, 투명기판에 형성된 반사방지층이 높은 기계적 내구성을 가질 수 있으며, 내염수성, 내자외선, 내약품성의 우수한 성능도 가질 수 있다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention can implement an anti-reflection layer having high mechanical resistance and chemical resistance. Specifically, the antireflection layer formed on the transparent substrate may have high mechanical durability, and may also have excellent performance of saline resistance, UV resistance, and chemical resistance.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 반사방지층을 형성하는 속도를 현저하게 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 주석산화물, 규소질화물, 규소옥시질화물 등을 고 굴절률 재료로 사용하여, 증착 공정의 속도를 향상시킬 수 있으며, 하나의 실리콘 타게트(target)를 이용하여서도 고 굴절률의 박막층과 저 굴절률의 박막층을 형성할 수 있어, 반사방지층의 형성 속도를 현저하게 향상시킬 수 있다. In addition, the transparent substrate having the anti-reflection function according to an embodiment of the present invention can significantly improve the speed of forming the anti-reflection layer. Specifically, by using tin oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, etc. as a high refractive index material, it is possible to improve the speed of the deposition process, even using a single silicon target (target) of the high refractive index thin film layer and low refractive index A thin film layer can be formed, and the formation speed of an antireflection layer can be improved significantly.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 양쪽면에 반사방지층을 형성하여, 한쪽 면에 반사방지층을 형성했던 종래의 투명기판보다 반사방지의 성능을 향상시킬 수 있다. In addition, the transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention can improve the performance of anti-reflection than the conventional transparent substrate having the anti-reflection layer formed on both sides, thereby forming the anti-reflection layer on one side. have.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 표면에 플루오로 중합체로 형성된 내지문방지층을 더 포함할 수 있어서, 반사방지 기능은 물론 오염방지 기능까지 구현할 수 있다.
In addition, the transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention may further include an anti-fingerprint layer formed on the surface of a fluoropolymer, thereby realizing anti-reflection function as well as anti-fouling function.
도 1은, 본 발명의 일 실시예에 따른 투명기판의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는, 본 발명의 다른 실시예에 따른 투명기판의 구성을 나타내는 도면이다.
도 3은, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 투명기판의 구성을 나타내는 도면이다. 1 is a view showing the configuration of a transparent substrate according to an embodiment of the present invention.
2 is a diagram showing the configuration of a transparent substrate according to another embodiment of the present invention.
3 is a view showing the configuration of a transparent substrate according to another embodiment of the present invention.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판을 상세하게 설명한다. 설명하는 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 당업자가 용이하게 이해할 수 있도록 제공되는 것으로 이에 의해 본 발명이 한정되지 않는다. 또한, 첨부된 도면에 표현된 사항들은 본 발명의 실시 예들을 쉽게 설명하기 위해 도식화된 도면으로 실제로 구현되는 형태와 상이할 수 있다.
Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a transparent substrate having an antireflection function according to an embodiment of the present invention. The embodiments are provided so that those skilled in the art can easily understand the technical spirit of the present invention, and thus the present invention is not limited thereto. In addition, matters represented in the accompanying drawings may be different from the form actually embodied in the schematic drawings in order to easily explain the embodiments of the present invention.
이하, 도 1을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판을 상세하게 설명한다.
Hereinafter, a transparent substrate having an antireflection function according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1.
도 1을 참조하면, 본 발명이 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 투명한 물질로 이루어진 투명기판(100); 및 상기 투명기판의 한쪽 면에 형성된 반사방지층(200)을 포함할 수 있다.
Referring to Figure 1, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention, the
상기 투명기판은, 투명 물질로 이루어지는 기판을 의미하며, 바람직하게는 전자제품의 디스플레이에 적용될 수 있는 투명기판을 의미한다. 이러한 상기 투명기판은 다양한 재질로 형성될 수 있는데, 구체적으로 글래스(Glass), 셀롤로오스계 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylene naphthalate; PEN), 폴리에틸렌 수지, 염화 폴리비닐 수지, 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC), 폴리에테르 술폰(polyethersulfone; PES), 폴리에테르 에테르케톤(polyetherether ketone; PEEK), 황화 폴리페닐렌(polyphenylene sulfide; PPS), 폴리이미드(polyimide, PI) 또는 폴리메틸메타크릴레이트(polymethyl methacrylate, PMMA)이거나, 이들의 조합을 포함할 수 있다.
The transparent substrate means a substrate made of a transparent material, and preferably means a transparent substrate that can be applied to a display of an electronic product. The transparent substrate may be formed of various materials, specifically, glass, cellulose-based resin, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene resin, chloride Polyvinyl resin, polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), polyetherether ketone (PEEK), polyphenylene sulfide (PPS), polyimide (PI) Or polymethyl methacrylate (PMMA), or a combination thereof.
상기 반사방지층(200)은, 말 그대로 광 반사를 방지하는 역할을 하는 구성으로서, 6층의 박막층들을 포함할 수 있는데, 구체적으로 상기 6층의 박막층들은 고 굴절률의 박막층과 저 굴절률의 박막층이 교대로 형성된 박막층일 수 있다.The
여기서, 상기 고 굴절률의 박막층은, 주석 산화물, 규소 산화물 또는 규소옥시질화물을 주성분으로 하는 재질로 형성될 수 있고, 굴절률은 1.75 내지 2.1의 값을 가질 수 있다. 또한, 더욱 바람직하게는 고 굴절률의 값으로 1.8 내지 1.9의 값을 가지도록 형성되어 성능을 더욱 향상시킬 수 있다. 이러한 고 굴절률의 박막층은, 종래의 사용되던 굴절률 2.45의 산화티타늄층(Ti02)과 비교하여, 수직 입사에서의 우수한 광 반사값(RL)을 갖는 향상된 반사방지 효과를 구현할 수 있는데, 이러한 장점 이외에도 스퍼터링 공정 시 더 높은 증착속도로 형성될 수 있다는 이점을 가진다. Here, the high refractive index thin film layer may be formed of a material mainly containing tin oxide, silicon oxide, or silicon oxynitride, and the refractive index may have a value of 1.75 to 2.1. In addition, it is more preferably formed to have a value of 1.8 to 1.9 as the value of the high refractive index can further improve the performance. This high refractive index thin film layer can realize an improved antireflection effect with excellent light reflection value (RL) at normal incidence, compared to the conventional titanium oxide layer (Ti02) having a refractive index of 2.45. It has the advantage that it can be formed at a higher deposition rate in the process.
다음으로, 상기 저 굴절률의 박막층은, 규소산화물, 규소옥시질화물 또는 옥시탄화물을 주성분으로 하는 재질로 형성될 수 있는데, 굴절률은 1.35 내지 1.55의 값을 가질 수 있다. Next, the low refractive index thin film layer may be formed of a material mainly containing silicon oxide, silicon oxynitride, or oxycarbide, and the refractive index may have a value of 1.35 to 1.55.
한편, 상기 고 굴절률의 박막층 또는 상기 저 굴절률의 박막층의 재질들은, 화학적, 기계적, 전기적인 성질을 향상시키기 위해 선택적으로 도핑될 수 있으며, 약간의 전도성을 갖도록 변형될 수도 있다.
Meanwhile, materials of the high refractive index thin film layer or the low refractive index thin film layer may be selectively doped to improve chemical, mechanical, and electrical properties, and may be modified to have some conductivity.
도 1을 참조하여, 상기 반사방지층(200)이 포함할 수 있는 6층의 박막층들을 상세하게 살펴보면, 상기 반사방지층(200)은 제1층의 박막층(210), 제2층의 박막층(220), 제3층의 박막층(230), 제4층의 박막층(240), 제5층의 박막층(250), 제6층의 박막층(260)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, in detail, the six
상기 제1층의 박막층(210)은, 상기 투명기판상에 형성되는 두께가 10 내지 25nm인 박막층일 수 있는데, 이러한 상기 제1층의 박막층(210)은 고 굴절률의 박막층으로 형성될 수 있다. The
상기 제2층의 박막층(220)은 두께가 20 내지 50nm로 형성될 수 있는데, 이러한 상기 제2층의 박막층(220)은 저 굴절률의 박막층으로 형성될 수 있다. The
상기 제3층의 박막층(230)은 두께가 35 내지 75nm로 형성될 수 있는데, 이러한 상기 제3층의 박막층(230)은 고 굴절률의 박막층으로 형성될 수 있다. The
상기 제4층의 박막층(240)은 두께가 1 내지 5nm로 형성될 수 있는데, 이러한 상기 제4층의 박막층(240)은 저 굴절률의 박막층으로 형성될 수 있다. The
상기 제5층의 박막층(250)은 두께가 70 내지 110nm로 형성될 수 있는데, 이러한 상기 제5층의 박막층(250)은 고 굴절률의 박막층으로 형성될 수 있다. The
상기 제6층의 박막층(260)은 두께가 60 내지 95nm로 형성될 수 있는데, 이러한 상기 제6층의 박막층(260)은 저 굴절률의 박막층으로 형성될 수 있다. The
한편, 더욱 바람직하게는, 상기 제1층의 박막층(210)의 두께는 12 내지 20nm로 형성되고, 상기 제2층의 박막층(220)의 두께는 25 내지 40nm로 형성되며, 상기 제3층의 박막층(230)의 두께는 45 내지 65nm로 형성되고, 상기 제4층의 박막층(240)의 두께는 2 내지 4nm로 형성되며, 상기 제5층의 박막층(250)의 두께는 80 내지 100nm로 형성되고, 상기 제6층의 박막층(260)의 두께는 75 내지 95nm로 형성될 수 있는데, 이러한 상태로 상기 반사방지층(200)을 형성하면 상기 반사방지층(200)의 성능을 가장 극대화시킬 수 있다. On the other hand, more preferably, the thickness of the
또한, 상기 고 굴절률의 박막층으로 형성되는 제1층의 박막층(210), 제3층의 박막층(230), 제5층의 박막층(250)은, 그 자체로 다수의 고 굴절률 박막들이 중첩되어 형성된 층으로 형성될 수 있는데, 이러한 구조를 통해 반사방지층(200)의 성능을 더욱 향상시킬 수 있다. 구체적인 예를 살펴보면, 상기 제1층의 박막층(210), 제3의 박막층, 제5층의 박막층(250)은, 적어도 하나의 층이 그 자체로 SnO2/Si3N4의 2층 구조이거나 Si3N4/SnO2의 2층 구조일 수 있다.
In addition, the
이상에서 살핀, 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 반사방지층(200)은 다양한 방식에 의해 상기 투명기판상에 형성될 수 있는데, 바람직하게는 마그네트론 스퍼터링 등의 스퍼터링(Sputtering) 방식에 의해 형성될 수 있다. Salping, the
이러한, 스퍼터링 방식에 의해 상기 반사방지층(200)을 형성하는 경우를 살펴보면, 상기 반사방지층(200)은 종래에 비해 증착 공정의 속도를 현저하게 향상시킬 수 있는데, 2.45의 굴절률을 가지고 증착 속도가 느린 TiO2 등의 물질을 사용하지 않고, 고 굴절 물질로서 Si3N4, SnO2 등의 주석 산화물, 규소 산화물, 규소옥시질화물 등을 사용하기 때문이다. Looking at the case of forming the
특히, 배치형 스퍼터 장비를 상기 반사방지층(200)의 고 굴절률의 물질로서 Si3N3를 사용하는 경우에는, 저 굴절 물질인 SiO2 코팅이 사용되는 실리콘 타게트(target)을 고 굴절 물질인 Si3N4 코팅에도 사용할 수 있기 때문에, 증착 공정의 속도를 더욱더 현저하게 단축할 수 있다.
In particular, when the batch type sputtering equipment uses Si 3 N 3 as the material of the high refractive index of the
이하, 도 2를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판을 살펴본다.
Hereinafter, a transparent substrate having an antireflection function according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 2.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층(200) 위에 형성된 오염방지층을 더 포함할 수 있다. Referring to FIG. 2, the transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention may further include an anti-fouling layer formed on the
상기 오염방지물질은, 물체의 표면에서 발생될 수 있는 지문에 의한 오염이나 주변환경에 의한 스크래치(scratch) 등을 방지하는 물질로써, 바람직하게는 상기 반사방지층(200)의 표면에서 발생할 수 있는 오염을 방지하는 물질을 의미한다. 이러한 오염방지물질은 플루오로 중합체의 재질로 형성될 수 있는데, 바람직하게는 플로오로실란(fluorosilnae)으로 구성될 수 있다.
The antifouling material is a material that prevents contamination by fingerprints or scratches caused by the surrounding environment, which may occur on the surface of an object. Preferably, contamination may occur on the surface of the
이하, 도 3을 참조하여, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판을 살펴본다.
Hereinafter, referring to FIG. 3, a transparent substrate having an anti-reflection function according to another embodiment of the present invention will be described.
도 3을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층을 상기 투명기판의 양면(200, 300)에 형성할 수 있다. Referring to FIG. 3, in the transparent substrate having the anti-reflection function according to another embodiment of the present invention, the anti-reflection layer may be formed on both
이러한 구조를 통해 상기 투명기판은, 반사 방지의 성능을 더욱 향상시킬 수 있는데, 일례로 한 면만 코팅된 투명기판(3%)과 비교하여, 가시광선 범위에 있어서 광 반사값(RL)을 더욱 감소(6% 감소)시킬 수 있다.
Through this structure, the transparent substrate can further improve the anti-reflection performance. For example, compared with the transparent substrate coated with only one surface (3%), the light reflection value RL is further reduced in the visible light range. (6% reduction).
또한, 도 3을 참조하면, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 상기 반사방지층(200)이 형성된 투명기판의 다른면에 타기능층(400)을 형성할 수 있는데, 이러한 타기능층(400)을 통해 반사방지기능 외에도 다양한 기능을 구비한 투명기판을 형성할 수 있다. 구체적으로, 상기 타기능층(400)을 투명도전층, 태양광선 차단층, 저 방사율층, 오염방지층, 김서림 방지층, 발수 또는 가열유형의 기타 기능층 등 다양한 기능의 박막층 등으로 형성하여, 상기 투명기판에 다양한 기능을 부여할 수 있다.
In addition, referring to FIG. 3, in the transparent substrate having the anti-reflection function according to another embodiment of the present invention, the other
이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판의 구체적인 실시예들에 대하여 상세하게 살펴본다.
Hereinafter, specific embodiments of a transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention will be described in detail.
[실시예 1-3]
Example 1-3
6층의 반사방지층이 다음의 방법에 따라 투명기판에 합성되었는데, 여기서 상기 투명기판은 유리기판이 사용되었으며, 고 굴절 물질로는 Si3N4가 사용되고 저 굴질 물질로는 SiO2가 사용되었다. Six antireflection layers were synthesized on the transparent substrate according to the following method, wherein the transparent substrate was a glass substrate, Si3N4 was used as the high refractive material, and SiO2 was used as the low flexural material.
또한, 상기 반사방지층들은 마그네트론 스퍼터링에 의해 연속적으로 번갈아 증착되었으며, SiO2 및 Si3N4의 층은 충분한 전도성을 갖도록, 산소의 존재 하에(SiO2), 그리고 질소의 존재 하에(SiN4), 보론으로 약간 도핑된 규소 타게트의 반응성 스퍼터링에 의해 얻어졌다.
In addition, the antireflective layers were successively deposited alternately by magnetron sputtering, and the layers of SiO 2 and Si 3 N 4 were slightly doped with boron in the presence of oxygen (SiO 2) and in the presence of nitrogen (SiN 4) so as to have sufficient conductivity. Obtained by reactive sputtering of the target.
다층박막의 구조는 모든 예에 대하여, 유리기판으로부터 시작하여 다음과 같다. The structure of the multilayer thin film starts from the glass substrate for all examples as follows.
제1층의 박막층 : Si3N4 굴절률 n1=1.9Thin film layer of the first layer: Si3N4 refractive index n1 = 1.9
제2층의 박막층 : SiO2 굴절률 n2=1.46Thin film layer of the second layer: SiO2 refractive index n2 = 1.46
제3층의 박막층 : Si3N4 굴절률 n3=1.9Thin film layer of third layer: Si3N4 refractive index n3 = 1.9
제4층의 박막층 : SiO2 굴절률 n4=1.46Thin film layer of the fourth layer: SiO2 refractive index n4 = 1.46
제5층의 박막층 : Si3N4 굴절률 n5=1.9Thin film layer of a fifth layer: Si3N4 refractive index n5 = 1.9
제6층의 박막층 : SiO2 굴절률 n6=1.46
Thin film layer of sixth layer: SiO2 refractive index n6 = 1.46
투명기판은 코닝글라스의 고릴라 유리를 이온강화시킨 강화유리였다. The transparent substrate was an ion-reinforced glass of Corning Glass gorilla glass.
상기 투명기판의 한쪽 면에만 반사방지층을 형성하였는데, 4개의 실리콘 타게트가 장착된 배치형(batch type) 마그네트론 스퍼터링 장비에서 제1층, 제3층, 제5층은 질소분위기에서 SiN4를 코팅하였으며, 제2층, 제4층, 제6층은 산소 분위기에서 SiO2를 코팅하였다. An anti-reflection layer was formed on only one side of the transparent substrate. In a batch type magnetron sputtering apparatus equipped with four silicon targets, the first layer, the third layer, and the fifth layer were coated with SiN4 in a nitrogen atmosphere. The second, fourth, and sixth layers were coated with SiO 2 in an oxygen atmosphere.
고 굴절률과 저 굴절률층 공통으로 동일한 실리콘타게트를 사용하기 때문에, 증착에 소요된 시간이 65%이상 단축되었다. Since the same silicon target is used for both the high refractive index and the low refractive index layer, the deposition time was reduced by more than 65%.
하기의 표1은 여러 다층에 대하여 각각의 층의 두께(nm)와 코팅 소요 시간(min) 그리고 550nm에서의 투과율과 반사율이다. Table 1 below shows the thickness of each layer (nm), coating time (min), and transmittance and reflectance at 550 nm for the various multilayers.
투과율은 시편 그대로 측정하였고 반사율은 반대쪽 면을 샌딩 처리하여 난반사시켜서 한쪽 면의 반사를 없애고 측정하였다.
The transmittance was measured as it was in the specimen, and the reflectance was measured by removing the reflection of one side by the diffuse reflection by sanding the opposite side.
본 발명에 따른 실시예 1,2,3은 모두 투과율 95% 이상이고 반사율은 1% 미만의 결과를 보였고, 비교예는 업계에서 만족할 수준이 달성되지 않았다.
Examples 1, 2, and 3 according to the present invention all had a transmittance of 95% or more and a reflectance of less than 1%, and the comparative examples did not achieve satisfactory levels in the industry.
[실시예 4-6]
Example 4-6
6층의 반사방지층이 다음의 방법에 따라 투명기판에 합성되었는데, 여기서 상기 투명기판은 유리기판이 사용되었으며, 고 굴절 물질로는 SnO2가 사용되고 저 굴질 물질로는 SiO2가 사용되었다.Six anti-reflection layers were synthesized on the transparent substrate according to the following method, wherein the transparent substrate was a glass substrate, SnO 2 was used as a high refractive material, and SiO 2 was used as a low refractive material.
층들은 마그네트론 스퍼터링에 의해 연속적으로 번갈아 증착되었다. SiO2 의 층은, 충분한 전도성을 갖도록, SiO2 층을 위해 산소 존재 하에 , 보론으로 약간 도핑된 규소 타게트의 반응성 스퍼터링에 의해 얻어졌다. The layers were successively deposited alternately by magnetron sputtering. The layer of SiO 2 was obtained by reactive sputtering of a silicon target slightly doped with boron in the presence of oxygen for the SiO 2 layer to have sufficient conductivity.
다층박막의 구조는 모든 예에 대하여, 유리 기판(G)으로부터 시작하여 다음과 같다:The structure of the multilayer thin film is as follows starting from the glass substrate G for all examples:
제1층의 박막층 : SnO2 굴절률 n1 = 1.82Thin film layer of the first layer: SnO2 refractive index n1 = 1.82
제2층의 박막층 : SiO2 굴절률 n2 = 1.46Thin film layer of the second layer: SiO2 refractive index n2 = 1.46
제3층의 박막층 : SnO2 굴절률 n3 = 1.82Thin film layer of third layer: SnO2 refractive index n3 = 1.82
제4층의 박막층 : SiO2 굴절률 n4 = 1.46Thin film layer of the fourth layer: SiO2 refractive index n4 = 1.46
제5층의 박막층 : SnO2 굴절률 n3 = 1.82Thin film layer of the fifth layer: SnO2 refractive index n3 = 1.82
제6층의 박막층 : SiO2 굴절률 n4 = 1.46
Thin film layer of sixth layer: SiO2 refractive index n4 = 1.46
투명 기판은 코닝글라스의 고릴라 유리를 이온강화시킨 강화유리였다.The transparent substrate was a tempered glass obtained by ionizing the gorilla glass of Corning Glass.
상기 투명기판의 한쪽 면에만 반사방지층을 형성하였는데, 2개의 실리콘 타게트와 2개의 주석타게트가가 장착된 배치형(batch type) 마그네트론 스퍼터링 장비에서 제 1층, 제 3층, 제 5층은 산소분위기에서 주석을 스퍼터링하여 SnO2를 코팅하였으며 제2층, 4층, 6층은 산소분위기에서 보론 도핑된 실리콘을 스퍼터링하여 SiO2를 코팅하였다.An anti-reflection layer was formed on only one surface of the transparent substrate. In a batch type magnetron sputtering apparatus equipped with two silicon targets and two tin targets, the first layer, the third layer, and the fifth layer are oxygen atmospheres. SnO 2 was coated by sputtering tin at, and the second, fourth, and sixth layers were coated with SiO 2 by sputtering boron-doped silicon in an oxygen atmosphere.
Si3N4를 코팅하는 것에 비하여는 시간이 걸렸지만 비교예로 ZrO2나 Nb2O5, TiO2를 고굴절층으로 사용하는 것에 비하면 SnO2의 증착율이 2배 이상 높아 시간이 50%정도 단축되었다. It took time compared to coating Si3N4, but compared with using ZrO2, Nb2O5 and TiO2 as the high refractive layer, the deposition rate of SnO2 was more than doubled and the time was reduced by 50%.
하기의 표 2와 3은 여러 다층에 대하여 각각의 층의 기하학적 두께(nm)와 코팅소요 시간(min) 그리고 550nm에서의 투과율과 반사율이다.Tables 2 and 3 below show the geometric thickness (nm), coating time (min) and transmittance and reflectance at 550 nm of each layer for the various multilayers.
투과율은 시편 그대로 측정하였고 반사율은 반대쪽 면을 샌딩처리하여 난반사시켜서 한 쪽면의 반사를 없애고 측정하였다.
The transmittance was measured as it was, and the reflectance was measured by removing the reflection of one side by diffuse reflection by sanding the opposite side.
ZrO2Comparative Example 10
ZrO2
Nb2O5Comparative Example 11
Nb2O5
TiO2Comparative Example 12
TiO2
실시예 4,5,6 모두 95%이상의 투과율과 1%미만의 반사율을 보였고 비교예10,11,12도 광특성은 만족하였지만 고굴절층의 증착율이 낮기 때문에 코팅시간이 길어지는 단점이 있다.
In Examples 4, 5 and 6, the transmittance was more than 95% and the reflectance was less than 1%. The optical properties of Comparative Examples 10, 11, and 12 were satisfied, but the coating time was long because the deposition rate of the high refractive layer was low.
[내구성 테스트]
[Durability test]
한편, 상기 실시예 및 비교예에 의해 제조된 유리 샘플들에 대하여 내마모성테스트, 내염수 테스트 및 항온항습테스트를 하기의 방법에 따라 실시하였다. 각 테스트 전후의 투과율을 측정한 결과를 하기 표 4에 나타내었다.
On the other hand, the wear resistance test, salt water test and constant temperature and humidity test for the glass samples prepared by the above Examples and Comparative Examples were carried out according to the following method. The results of measuring the transmittance before and after each test are shown in Table 4 below.
- 내마모성 테스트: 고무지우개 500g 하중으로 분당 35회 왕복으로 1,500회 내마모 테스트 하였다. 스틸울 1Kg 하중으로 분당 35회 왕복으로 10,000회 내마모 테스트 하였다..-Abrasion resistance test: 1,500 abrasion tests were performed with 35 reciprocations per minute with a 500g rubber eraser. Steel wool was tested 10,000 times at 35 reciprocations per minute with a 1 kg load.
- 내염수 테스트: 5% 염수분무 72시간 처리하였다.Saline test: 72 hours of 5% saline spray treatment.
- 항온항습 테스트: 50℃ 90%RH 에서 유지되는 챔버 내에서 3주간 처리하였다. 본 테스트는 가속내구성 시험으로 장기 내구성을 단시간내에 비교 확인하여 볼 수 있는 시험이다.
Constant temperature and humidity test: Treatment was performed for 3 weeks in a chamber maintained at 50 ° C. 90% RH. This test is an accelerated endurance test that can compare and confirm long-term durability in a short time.
내마모테스트Rubber eraser
Wear test
내마모테스트Steel wool
Wear test
테스트Saline
Test
테스트Constant temperature and humidity
Test
상기 표 4에서 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예 1-6의 코팅유리의 변화량은 0.8 이하로 비교예 11, 12의 변화량보다 적어 내마모성, 내염수성 및 내항온항습성에 있어서 모두 우수함을 알 수 있다.As can be seen in Table 4, the change amount of the coated glass of Example 1-6 according to the present invention is less than 0.8, less than the change amount of Comparative Examples 11 and 12, all excellent in wear resistance, saline resistance and constant temperature and humidity Able to know.
비교예 중 ZrO2를 사용한 비교예 10은 본 발명의 변화량과 비슷한 변화량으로 우수한 특성을 보이지만 ZrO2의 증착율이 낮은 점이 단점이다.
Comparative Example 10 using the ZrO 2 of the comparative examples shows excellent characteristics in the amount of change similar to the amount of change of the present invention, but the disadvantage is that the deposition rate of ZrO 2 is low.
이상에서 살핀, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 투명기판의 반사방지 기능을 현저히 향상시킬 수 있다. 구체적으로 광 반사가 1.5% 미만이 되도록 할 수 있으며, 최선의 조건에서는 광 반사를 1.0% 미만까지 낮출 수 있다. The above-described salping, the transparent substrate with an antireflection function according to an embodiment of the present invention, can significantly improve the antireflection function of the transparent substrate. Specifically, the light reflection can be made to be less than 1.5%, and under the best conditions, the light reflection can be lowered to less than 1.0%.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 넓은 낮은-광-반사 밴드(broad low-light-reflection band)에 걸쳐서 투과시 중간색을 갖고 반사시에 매력적인 외형을 갖는 반사방지 효과를 얻을 수 있다. 구체적으로, 반사시에 통상적으로 거의 중간인 색이 얻어지며, 최악의 경우 수직 입사 하에서 녹색 또는 청색이 얻어진다. In addition, a transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention has a reflection having an intermediate color in transmission and an attractive appearance in reflection over a broad low-light-reflection band. Prevention effect can be obtained. In particular, a color which is usually almost intermediate upon reflection is obtained, and in the worst case green or blue color is obtained under normal incidence.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 높은 기계적 저항성과 내화학성의 성능을 갖는 반사방지층을 구현할 수 있다. 구체적으로, 투명기판에 형성된 반사방지층이 높은 기계적 내구성을 가질 수 있으며, 내염수성, 내자외선, 내약품성의 우수한 성능도 가질 수 있다. In addition, the transparent substrate with an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention can implement an anti-reflection layer having high mechanical resistance and chemical resistance. Specifically, the antireflection layer formed on the transparent substrate may have high mechanical durability, and may also have excellent performance of saline resistance, UV resistance, and chemical resistance.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 반사방지층을 형성하는 속도를 현저하게 향상시킬 수 있다. 구체적으로, 주석산화물, 규소질화물, 규소옥시질화물 등을 고 굴절률 재료로 사용하여, 증착 공정의 속도를 향상시킬 수 있으며, 하나의 실리콘 타게트(target)를 이용하여서도 고 굴절률의 박막층과 저 굴절률의 박막층을 형성할 수 있어, 반사방지층의 형성 속도를 현저하게 향상시킬 수 있다. In addition, the transparent substrate having the anti-reflection function according to an embodiment of the present invention can significantly improve the speed of forming the anti-reflection layer. Specifically, by using tin oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, etc. as a high refractive index material, it is possible to improve the speed of the deposition process, even using a single silicon target (target) of the high refractive index thin film layer and low refractive index A thin film layer can be formed, and the formation speed of an antireflection layer can be improved significantly.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 기능을 구비한 투명기판은, 양쪽면에 반사방지층을 형성하여, 한쪽 면에 반사방지층을 형성했던 종래의 투명기판보다 반사방지의 성능을 향상시킬 수 있다.
In addition, the transparent substrate having an anti-reflection function according to an embodiment of the present invention can improve the performance of anti-reflection than the conventional transparent substrate having the anti-reflection layer formed on both sides, thereby forming the anti-reflection layer on one side. have.
위에서 설명된 본 발명의 실시 예는 예시의 목적을 위해 개시된 것이고, 본 발명에 대한 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 사상과 범위 안에서 다양한 수정, 변경, 부가가 가능할 것이며, 이러한 수정, 변경 및 부가는 본 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.
It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the spirit and scope of the invention, , Changes and additions should be considered to fall within the scope of the claims of this patent.
100 : 투명기판 200 : 반사방지층
210 : 제1층의 박막층 220 : 제2층의 박막층
230 : 제3층의 박막층 240 : 제4층의 박막층
250 : 제5층의 박막층 260 : 제6층의 박막층
300 : 반사방지층 400 : 타기능층100: transparent substrate 200: antireflection layer
210: thin film layer of first layer 220: thin film layer of second layer
230: thin film layer of third layer 240: thin film layer of fourth layer
250: thin film layer of the fifth layer 260: thin film layer of the sixth layer
300: antireflection layer 400: other functional layer
Claims (15)
상기 투명기판의 한쪽 면에 형성된 반사방지층;
을 포함하되,
상기 반사방지층은 6층의 박막층들을 포함하며,
상기 반사방지층을 형성하는 제1층의 박막층은, 두께가 10 내지 25nm인 고 굴절률의 박막층이고,
상기 반사방지층을 형성하는 제2층의 박막층은, 두께가 20 내지 50nm인 저 굴절률의 박막층이며,
상기 반사방지층을 형성하는 제3층의 박막층은, 두께가 35 내지 75nm인 고 굴절률의 박막층이고,
상기 반사방지층을 형성하는 제4층의 박막층은, 두께가 1 내지 5nm인 저 굴절률의 박막층이며,
상기 반사방지층을 형성하는 제5층의 박막층은, 두께가 70 내지 110nm인 고 굴절률의 박막층이고,
상기 반사방지층을 형성하는 제6층의 박막층은, 두께가 60 내지 95nm인 저 굴절률의 박막층인 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
Transparent substrate made of a transparent material; And
An anti-reflection layer formed on one surface of the transparent substrate;
Including,
The anti-reflection layer includes six thin film layers,
The thin film layer of the first layer forming the anti-reflection layer is a high refractive index thin film layer having a thickness of 10 to 25 nm,
The thin film layer of the second layer forming the antireflection layer is a low refractive index thin film layer having a thickness of 20 to 50 nm,
The thin film layer of the third layer forming the anti-reflection layer is a high refractive index thin film layer having a thickness of 35 to 75 nm,
The thin film layer of the fourth layer forming the antireflection layer is a low refractive index thin film layer having a thickness of 1 to 5 nm,
The thin film layer of the fifth layer forming the anti-reflection layer is a high refractive index thin film layer having a thickness of 70 to 110 nm,
The thin film layer of the sixth layer which forms the said antireflection layer is a low refractive index thin film layer whose thickness is 60-95 nm, The transparent substrate with an antireflection function.
상기 고 굴절률은 1.75 내지 2.1인 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
The high refractive index is 1.75 to 2.1, characterized in that the transparent substrate with an anti-reflection function.
상기 저 굴절률은 1.35 내지 1.55인 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 2,
The low refractive index is 1.35 to 1.55, characterized in that the transparent substrate with an anti-reflection function.
상기 고 굴절률의 박막층은, 주석 산화물, 규소 산화물 또는 규소옥시질화물을 성분으로 포함하는 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
The high refractive index thin film layer includes tin oxide, silicon oxide, or silicon oxynitride as a component, wherein the transparent substrate having an antireflection function.
상기 저 굴절률의 박막층은, 규소산화물, 규소 옥시질화물 또는 옥시탄화물을 성분으로 포함하는 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
The low refractive index thin film layer includes silicon oxide, silicon oxynitride or oxycarbide as a component, wherein the transparent substrate with an antireflection function.
상기 제1층, 제3층 또는 제5층의 박막층은, 다수의 고 굴절률 박막들이 중첩되어 형성된 층인 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
The thin film layer of the first layer, the third layer or the fifth layer is a layer formed by overlapping a plurality of high refractive index thin film, the transparent substrate with an anti-reflection function.
상기 제1층, 제3층 또는 제5층의 박막층은, SnO2(Tin Dioxide) 및 Si3N4(Silicon Nitride)의 2개의 박막이 중첩되어 형성되는 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 7, wherein
The thin film layer of the first layer, the third layer or the fifth layer is formed of two thin films of SnO 2 (Tin Dioxide) and Si 3 N 4 (Silicon Nitride) overlapping each other.
상기 반사방지층은 스퍼터링(Sputtering)에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는, 반사방지 기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
The anti-reflection layer is formed by sputtering, characterized in that the transparent substrate having an anti-reflection function.
실리콘 타게트(target)를 사용하여, 상기 고 굴절률의 박막층 및 상기 저 굴절률의 박막층 모두를 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는, 반사방지기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 9,
A silicon substrate (target), it is possible to form both the high refractive index thin film layer and the low refractive index thin film layer, characterized in that the transparent substrate with an anti-reflection function.
상기 반사방지층 위에 형성된 오염방지층;
을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 반사방지기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
An antifouling layer formed on the antireflective layer;
The transparent substrate with an anti-reflection function, characterized in that it further comprises.
상기 오염방지층은, 플루오로 중합체로 형성된 내지문방지층인 것을 특징으로 하는, 반사방지기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 11,
The antifouling layer is a transparent substrate with an antireflection function, characterized in that the anti-fingerprint layer formed of a fluoropolymer.
상기 반사방지층이 상기 투명기판의 양면에 형성되는 것을 특징으로 하는, 반사방지기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
And the anti-reflection layer is formed on both sides of the transparent substrate.
상기 반사방지층이 형성되지 않은 상기 투명기판의 다른 면에,
터치입력용 투명도전층, 태양광선 차단층, 오염방지층 또는 김서림 방지층이 형성되는 것을 특징으로 하는, 반사방지기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
On the other side of the transparent substrate, the anti-reflection layer is not formed,
Transparent substrate with an anti-reflection function, characterized in that the transparent conductive layer for the touch input, the sun blocking layer, anti-fouling layer or anti-fog layer is formed.
상기 투명기판은, 전자제품의 디스플레이에 사용될 수 있는 투명기판인 것을 특징으로 하는, 반사방지기능을 구비한 투명기판.
The method of claim 1,
The transparent substrate is a transparent substrate having an anti-reflection function, characterized in that the transparent substrate that can be used for display of electronic products.
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