KR101187476B1 - 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 장치 - Google Patents

Abstract

플라즈마 디스플레이 패널에 표시되는 화상의 흑휘도를 저감하여 콘트라스트를 높여, 화상 표시 품질을 높인다. 그것을 위해, 초기화 기간에, 강제 초기화 파형과 선택 초기화 파형과 비초기화 파형 중 어느 하나를 주사 전극에 인가함과 아울러, 강제 초기화 파형과 비초기화 파형을 선택적으로 발생시키는 특별 초기화 서브필드와, 선택 초기화 파형만을 발생시키는 복수의 선택 초기화 서브필드로 하나의 필드를 구성하고, 하나의 주사 전극에 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 필드군에서 1회로 하고, 특별 초기화 서브필드에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극의 양측의 주사 전극에, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가한다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 장치{PLASMA DISPLAY PANEL DRIVE METHOD AND PLASMA DISPLAY DEVICE}

본 발명은, 벽걸이 텔레비전이나 대형 모니터에 이용되는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 장치에 관한 것이다.

플라즈마 디스플레이 패널(이하, 「패널」이라고 약기한다)로서 대표적인 교류면 방전형 패널은, 대향 배치된 전면판과 배면판의 사이에 다수의 방전셀이 형성되어 있다. 전면판은, 1쌍의 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍이 전면 유리 기판상에 서로 평행하게 복수 쌍으로 형성되어 있다. 그리고, 그들 표시 전극쌍을 덮도록 유전체층 및 보호층이 형성되어 있다. 배면판은, 배면 유리 기판상에 복수의 평행한 데이터 전극이 형성되고, 그들을 덮도록 유전체층이 형성되고, 그 위에 데이터 전극과 평행하게 복수의 격벽이 형성되어 있다. 그리고, 유전체층의 표면과 격벽의 측면에 형광체층이 형성되어 있다.

그리고, 표시 전극쌍과 데이터 전극이 입체 교차하도록 전면판과 배면판이 대향 배치되어 밀봉되어 있다. 그 내부의 방전 공간에는, 예컨대 분압비 5%의 제논을 포함하는 방전 가스가 봉입되어 있다. 그리고, 표시 전극쌍과 데이터 전극이 대향하는 부분에 방전셀이 형성된다. 이러한 구성의 패널에 있어서, 각 방전셀 내에서 가스 방전에 의해 자외선을 발생시킨다. 이 자외선으로 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색의 형광체를 여기 발광시켜 컬러 표시를 행한다.

패널을 구동하는 방법으로서는 일반적으로 서브필드법이 이용되고 있다. 서브필드법에서는, 1 필드를 복수의 서브필드로 분할하고, 각각의 서브필드에서 각 방전셀의 발광과 비발광을 제어한다. 그리고, 1 필드에 발생하는 발광의 횟수를 제어하는 것에 의해 계조 표시를 행한다.

각 서브필드는, 초기화 기간, 기입 기간 및 유지 기간을 갖는다. 초기화 기간에는, 각 주사 전극에 초기화 파형을 인가하여, 각 방전셀에서 초기화 방전을 발생시킨다. 이에 의해, 계속되는 기입 동작을 위해 필요한 벽전하를 각 방전셀에 형성함과 아울러, 기입 방전을 안정하게 발생시키기 위한 프라이밍 입자(기입 방전을 발생시키기 위한 여기 입자)를 발생시킨다.

기입 기간에는, 주사 전극에는 주사 펄스를 순차적으로 인가하고, 데이터 전극에는 표시해야 할 화상 신호에 대응한 기입 펄스를 선택적으로 인가한다. 이에 의해, 발광해야 할 방전셀에 있어서, 주사 전극과 데이터 전극의 사이에 기입 방전을 발생시켜, 벽전하를 형성한다(이하, 이 동작을 「기입」이라고도 적는다).

유지 기간에는, 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍에, 서브필드마다 정해진 횟수의 유지 펄스를 교대로 인가한다. 이에 의해, 기입 방전에 의한 벽전하 형성이 행해진 방전셀에서 유지 방전을 발생시켜, 그 방전셀의 형광체층을 발광시킨다. 이렇게 하여, 패널의 화상 표시 영역에 화상을 표시한다.

패널에 있어서의 화상 표시 품질을 높이는 데에 있어서 중요한 요인의 하나로 콘트라스트의 향상이 있다. 그리고, 서브필드법의 하나로서, 계조 표시에 관계하지 않는 발광을 최대한 줄여 콘트라스트비를 향상시키는 구동 방법이 개시되어 있다.

이 구동 방법에서는, 1 필드를 구성하는 복수의 서브필드 중, 하나의 서브필드의 초기화 기간에는 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 초기화 동작을 행한다. 또한, 다른 서브필드의 초기화 기간에는 직전의 유지 기간에서 유지 방전을 한 방전셀에 대하여 선택적으로 초기화 방전을 행하는 초기화 동작을 행한다.

유지 방전을 발생시키지 않는 흑표시 영역의 휘도(이하, 「흑휘도」라고 약기한다)는 화상의 표시에 관계가 없는 발광에 의해 변화한다. 이 발광에는, 예컨대, 초기화 방전에 의해 생기는 발광 등이 있다. 그리고, 상술한 구동 방법에서는, 흑표시 영역에서의 발광은, 모든 방전셀에 초기화 동작을 행할 때의 미약 발광만이 된다. 이에 의해, 흑휘도를 저감하여 콘트라스트가 높은 화상 표시가 가능해진다(예컨대, 특허 문헌 1 참조).

또한, 흑휘도를 낮춰 흑의 시인성을 향상시키는 기술이 개시되어 있다(예컨대, 특허 문헌 2 참조). 이 기술에서는, 전압이 서서히 증가하는 완만한 경사 부분을 갖는 상승부와, 전압이 서서히 감소하는 완만한 경사 부분을 갖는 하강부를 갖는 초기화 파형을, 유지 기간에 방전한 방전셀에 인가하는 초기화 기간을 마련한다. 그리고, 1 필드의 임의의 초기화 기간의 직전에, 전체 방전셀을 대상으로 하여 유지 전극과 주사 전극의 사이에서 미약 방전을 일으키는 기간을 마련한다.

상술한 특허 문헌 1에 기재된 기술에서는, 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 초기화 동작을 1 필드에 1회로 함으로써, 서브필드마다 모든 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 경우와 비교하여, 표시 화상의 흑휘도를 낮춰, 콘트라스트를 높일 수 있다.

그러나, 최근, 패널의 대화면화, 고해상도화에 따라 화상 표시 품질의 향상이 더 요구되고 있다.

(선행 기술 문헌)

(특허 문헌)

(특허 문헌 1) 일본 특허 공개 2000-242224호 공보

(특허 문헌 2) 일본 특허 공개 2004-37883호 공보

본 발명의 패널의 구동 방법은, 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 패널을, 초기화 기간과 기입 기간과 유지 기간을 갖는 서브필드를 1 필드 내에 복수 마련하여 계조 표시하는 패널의 구동 방법으로서, 초기화 기간에, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 파형과, 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전이 발생한 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 파형과, 방전셀에 초기화 방전이 발생하지 않는 비초기화 파형 중 어느 하나를 주사 전극에 인가함과 아울러, 초기화 기간에 강제 초기화 파형 또는 비초기화 파형을 선택적으로 주사 전극에 인가하는 특별 초기화 서브필드와, 초기화 기간에 선택 초기화 파형을 모든 주사 전극에 인가하는 복수의 선택 초기화 서브필드로 하나의 필드를 구성하고, 시간적으로 연속하는 복수의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 각각의 주사 전극에 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 필드군에서 1회로 하고, 특별 초기화 서브필드에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극의 양측의 주사 전극에, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가하는 것을 특징으로 한다.

이에 의해, 흑휘도를 상승시키는 주된 요인의 하나인 초기화 방전의 발생 빈도를 저감하여, 흑휘도를 저감할 수 있다. 따라서, 표시 화상의 콘트라스트를 높이는 것이 가능해진다. 또한, 강제 초기화 파형을 이용하여 행하는 초기화 동작의 발생 빈도를 저감하면, 화상 표시면에 플리커(flicker)나 선형 노이즈(linear noise)가 발생하기 쉬워지지만, 이 플리커나 선형 노이즈를 저감하는 것이 가능해진다. 이에 의해, 플라즈마 디스플레이 장치에 있어서의 화상 표시 품질을 높이는 것이 가능해진다.

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 패널의 구조를 나타내는 분해 사시도이다.
도 2는 동 패널의 전극 배열도이다.
도 3은 동 패널의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형도이다.
도 4는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 회로 블록도이다.
도 5는 동 플라즈마 디스플레이 장치의 주사 전극 구동 회로의 한 구성예를 나타내는 회로도이다.
도 6은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간의 주사 전극 구동 회로의 동작의 일례를 설명하기 위한 타이밍 차트이다.
도 7은 동 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 8은 각 필드를, 패널의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 필드와, 전체 방전셀에서 일제히 비초기화 동작을 행하는 필드로 나누는 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 9는 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성이 높은 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시의 형태 1의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 11(a)는 동 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 11(b)는 동 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 실시의 형태 2의 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 13은 동 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 14는 동 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 15는 동 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.
도 16은 동 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

이하, 본 발명의 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치에 대하여, 도면을 이용하여 설명한다.

(실시의 형태 1)

도 1은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 패널(10)의 구조를 나타내는 분해 사시도이다. 유리제의 전면판(21)상에는, 주사 전극(22)과 유지 전극(23)으로 이루어지는 표시 전극쌍(24)이 복수 형성되어 있다. 그리고 주사 전극(22)과 유지 전극(23)을 덮도록 유전체층(25)이 형성되고, 그 유전체층(25)상에 보호층(26)이 형성되어 있다. 또한, 보호층(26)은, 산화마그네슘(MgO)을 주성분으로 하는 재료로 형성되어 있다.

배면판(31)상에는 데이터 전극(32)이 복수 형성되고, 데이터 전극(32)을 덮도록 유전체층(33)이 형성되고, 그 위에 우물정자(井) 형상의 격벽(34)이 형성되어 있다. 그리고, 격벽(34)의 측면 및 유전체층(33)상에는 적색(R), 녹색(G) 및 청색(B)의 각 색으로 발광하는 형광체층(35)이 마련되어 있다.

이들 전면판(21)과 배면판(31)은, 미소한 방전 공간을 사이에 두고 표시 전극쌍(24)과 데이터 전극(32)이 교차하도록 대향 배치되어 있다. 그리고, 그 외주부를 유리 프릿 등의 밀봉재에 의해 밀봉되어 있다. 그리고, 내부의 방전 공간에는, 네온과 제논의 혼합 가스가 방전 가스로서 봉입되어 있다. 또, 본 실시의 형태에서는, 발광 효율을 향상시키기 위해 제논 분압을 약 10%로 한 방전 가스를 이용하고 있다. 방전 공간은 격벽(34)에 의해 복수의 구획으로 나누어져 있고, 표시 전극쌍(24)과 데이터 전극(32)이 교차하는 부분에 방전셀이 형성되어 있다. 그리고 이들 방전셀이 방전, 발광하는 것에 의해 화상이 표시된다.

또, 패널(10)의 구조는 상술한 것에 한정되는 것은 아니고, 예컨대 스트라이프 형상의 격벽을 구비한 것이더라도 좋다. 또한, 방전 가스의 혼합 비율도 상술한 수치에 한정되는 것은 아니고, 그 밖의 혼합 비율이더라도 좋다.

도 2는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 패널(10)의 전극 배열도이다. 패널(10)에는, 행 방향으로 긴 n개의 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn(도 1의 주사 전극(22)) 및 n개의 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn(도 1의 유지 전극(23))이 배열되어 있고, 열 방향으로 긴 m개의 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm(도 1의 데이터 전극(32))이 배열되어 있다. 그리고, 1쌍의 주사 전극 SCi(i=1~n) 및 유지 전극 SUi와 하나의 데이터 전극 Dk(k=1~m)가 교차한 부분에 방전셀이 형성되어 있다. 따라서, 방전셀은 방전 공간 내에 m×n개 형성된다. 그리고, m×n개의 방전셀이 형성된 영역이 패널(10)의 표시 영역이 된다.

다음으로, 패널(10)을 구동하기 위한 구동 전압 파형과 그 동작의 개요에 대하여 설명한다. 또, 본 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치는, 서브필드법에 의해 계조 표시를 행하는 것으로 한다. 즉, 1 필드를 시간축상에서 복수의 서브필드로 분할하고, 각 서브필드에 휘도 가중치를 각각 설정하여, 서브필드마다 각 방전셀의 발광?비발광을 제어하는 것으로 패널(10)에 계조를 표시한다.

이 서브필드법에서는, 예컨대, 1 필드를 8개의 서브필드(제 1 SF, 제 2 SF, …, 제 8 SF)로 구성하고, 각 서브필드는 각각 1, 2, 4, 8, 16, 32, 64, 128의 휘도 가중치를 갖는 구성으로 할 수 있다. 그리고, 각 서브필드의 유지 기간에 있어서는, 각각의 서브필드의 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 표시 전극쌍(24)의 각각에 인가한다.

또, 복수의 서브필드 중, 하나의 서브필드의 초기화 기간에 있어서는, 「강제 초기화 동작」과 「비초기화 동작」을 선택적으로 행하는 「특별 초기화 동작」을 행하고, 다른 서브필드의 초기화 기간에 있어서는 「선택 초기화 동작」을 행함으로써, 계조 표시에 관계하지 않는 발광을 최대한 줄여 콘트라스트비를 향상시키는 것이 가능하다. 이 「강제 초기화 동작」이란, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 초기화 동작이다. 또한, 「비초기화 동작」이란, 초기화 기간에 방전셀에 상향 램프 전압에 의한 초기화 방전이 발생하지 않는 동작이다. 상향 램프 전압에 대해서는 후술한다. 또한 「선택 초기화 동작」이란, 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전이 발생한 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 초기화 동작이다. 또한, 이하, 초기화 기간에 특별 초기화 동작을 행하는 서브필드를 「특별 초기화 서브필드」라고 호칭하고, 초기화 기간에 선택 초기화 동작을 행하는 서브필드를 「선택 초기화 서브필드」라고 호칭한다.

그리고, 본 실시의 형태에서는, 1 필드를 8개의 서브필드(제 1 SF, 제 2 SF, …, 제 8 SF)로 구성하고, 제 1 SF의 초기화 기간에는 특별 초기화 동작을 행하고, 제 2 SF~제 8 SF의 초기화 기간에는 선택 초기화 동작을 행하는 것으로 한다. 이에 의해, 화상의 표시에 관계가 없는 발광은 제 1 SF에서의 특별 초기화 동작의 방전에 따르는는 발광만이 된다. 따라서, 유지 방전을 발생시키지 않는 흑표시 영역의 휘도인 흑휘도는 특별 초기화 동작에 있어서의 미약 발광만이 된다. 이에 의해, 표시 화상에 있어서의 흑휘도를 저감하여, 콘트라스트를 높이는 것이 가능해진다.

그러나, 본 실시의 형태는, 서브필드수나 각 서브필드의 휘도 가중치가 상기의 값에 한정되는 것이 아니고, 또한, 화상 신호 등에 근거하여 서브필드 구성을 전환하는 구성이더라도 좋다.

또, 이 특별 초기화 동작은, 특정한 방전셀에 대해서는 강제 초기화 동작을 행하고, 다른 방전셀에 대해서는 비초기화 동작을 행하는 특정셀 초기화 동작과, 모든 방전셀에 대하여 비초기화 동작을 행하는 전체셀 비초기화 동작으로 나눌 수 있다. 그러나, 본 실시의 형태에서는, 특별 초기화 서브필드를 모두 특정셀 초기화 서브필드로 하는 구성에 대하여 설명한다. 이하, 초기화 기간에 특정셀 초기화 동작을 행하는 서브필드를 「특정셀 초기화 서브필드」라고 호칭하고, 초기화 기간에 전체셀 비초기화 동작을 행하는 서브필드를 「전체셀 비초기화 서브필드」라고 호칭한다.

도 3은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형도이다. 도 3에는, 기입 기간에 있어서 최초로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC1, 기입 기간에 있어서 2번째로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SC2, 기입 기간에 있어서 최후로 기입 동작을 행하는 주사 전극 SCn(예컨대, 주사 전극 SC1080), 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn, 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 구동 파형을 나타낸다.

또한, 도 3에는, 2개의 서브필드의 구동 전압 파형을 나타낸다. 즉, 특정셀 초기화 서브필드인 제 1 서브필드(제 1 SF)와, 선택 초기화 서브필드인 제 2 서브필드(제 2 SF)를 나타낸다. 또한, 이하에 있어서의 주사 전극 SCi, 유지 전극 SUi, 데이터 전극 Dk는, 각 전극 중에서 서브필드 데이터에 근거하여 선택된 전극을 나타낸다. 이 서브필드 데이터란, 서브필드마다의 발광, 비발광을 나타내는 데이터이다.

우선, 특정셀 초기화 서브필드인 제 1 SF에 대하여 설명한다.

또, 도 3에는, 배치적으로 보아 위에서 (1+6×N)번째(N은 정수)의 주사 전극 SC(1+6×N)에는 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 파형을 인가하고, 그 이외의 주사 전극(22)에는 방전셀에 상향 램프 전압에 의한 초기화 방전이 발생하지 않는 비초기화 파형을 인가하는 구성을 나타낸다.

제 1 SF의 초기화 기간 전반부에서는, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 각각 0(V)을 인가하고, 주사 전극 SC(1+6×N)에는, 소정의 전압인 전압 Vi1을 인가하고, 전압 Vi1로부터 전압 Vi2를 향해 완만하게(예컨대, 약 0.5V/㎲의 기울기로) 상승하는 경사 전압(이하, 「상승 램프 전압」이라고 호칭한다) L1을 인가한다. 이때, 전압 Vi1은, 유지 전극 SU(1+6×N)에 대하여 방전 개시 전압 미만의 전압으로 하고, 전압 Vi2는 유지 전극 SU(1+6×N)에 대하여 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 한다.

이 상승 램프 전압 L1이 상승하는 사이에, 주사 전극 SC(1+6×N)과 유지 전극 SU(1+6×N)의 사이, 및 주사 전극 SC(1+6×N)과 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 사이에서 각각 미약한 초기화 방전이 지속하여 일어난다. 그리고, 주사 전극 SC(1+6×N) 상부에 부의 벽전압이 축적됨과 아울러, 주사 전극 SC(1+6×N)과 교차하는 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm 상부 및 유지 전극 SU(1+6×N) 상부에는 정의 벽전압이 축적된다. 이 전극 상부의 벽전압이란, 전극을 덮는 유전체층상, 보호층상, 형광체층상 등에 축적된 벽전하에 의해 생기는 전압을 나타낸다.

초기화 기간 후반부에서는, 주사 전극 SC(1+6×N)의 인가 전압이, 전압 Vi2로부터 전압 Vi2보다 낮은 전압 Vi3으로 하강한다. 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 정의 전압 Ve를 인가하고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 0(V)을 인가한다. 그리고, 주사 전극 SC(1+6×N)에, 전압 Vi3으로부터 부의 전압 Vi4를 향해 완만하게(예컨대, 약 -0.5V/㎲의 기울기로) 하강하는 경사 전압(이하, 「하강 램프 전압」이라고 호칭한다) L2를 인가한다. 이때, 전압 Vi3은, 유지 전극 SU(1+6×N)에 대하여 방전 개시 전압 미만의 전압으로 하고, 전압 Vi4는, 유지 전극 SU(1+6×N)에 대하여 방전 개시 전압을 넘는 전압으로 한다.

이 사이에, 주사 전극 SC(1+6×N)과 유지 전극 SU(1+6×N)의 사이, 및 주사 전극 SC(1+6×N)과 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm의 사이에서, 각각 미약한 초기화 방전이 일어난다. 그리고, 주사 전극 SC(1+6×N) 상부의 부의 벽전압 및 유지 전극 SU(1+6×N) 상부의 정의 벽전압이 약해져, 주사 전극 SC(1+6×N)과 교차하는 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm 상부의 정의 벽전압은 기입 동작에 적합한 값으로 조정된다.

이상의 파형이, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 파형이다. 그리고, 강제 초기화 파형을 주사 전극(22)에 인가하여 행하는 상술한 동작이 강제 초기화 동작이다.

한편, 주사 전극 SC(1+6×N) 이외의 주사 전극(22)은, 제 1 SF의 초기화 기간 전반부에서는, 소정의 전압인 전압 Vi1을 인가하지 않고, 0(V)이 유지되고, 0(V)으로부터 전압 Vi2'를 향해 완만하게 상승하는 상승 램프 전압 L1'를 인가한다. 이 상승 램프 전압 L1'는, 상승 램프 전압 L1과 같은 기울기로, 상승 램프 전압 L1과 같은 시간만큼 상승을 계속하는 것으로 한다. 따라서, 전압 Vi2'는 전압 Vi2로부터 전압 Vi1을 뺀 전압과 같은 전압이 된다. 이때, 전압 Vi2'는 유지 전극(23)에 대하여 방전 개시 전압 미만의 전압이 되도록 각 전압 및 상승 램프 전압 L1'를 설정한다. 이에 의해, 상승 램프 전압 L1'를 인가한 방전셀에서는 방전은 실질적으로 발생하지 않는다.

초기화 기간 후반부에서는, 주사 전극 SC(1+6×N) 이외의 주사 전극(22)에도, 주사 전극 SC(1+6×N)과 같이, 하강 램프 전압 L2를 인가한다.

이상의 파형이, 방전셀에 상향 램프 전압에 의한 초기화 방전이 발생하지 않는 비초기화 파형이다. 그리고, 비초기화 파형을 주사 전극(22)에 인가하여 행하는 상술한 동작이 비초기화 동작이다.

또, 본 발명에 있어서의 강제 초기화 파형은, 조금도 상술한 파형에 한정되는 것이 아니다. 강제 초기화 파형은, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 파형이면 어떠한 파형이더라도 괜찮다. 또한, 본 발명에 있어서의 비초기화 파형도, 조금도 상술한 파형에 한정되는 것이 아니다. 본 실시의 형태에 나타내는 비초기화 파형은 방전셀에 초기화 방전이 발생하지 않는 파형의 일례를 나타낸 것에 지나지 않고, 예컨대, 0(V)으로 클램프하는 파형 등, 초기화 방전이 발생하지 않는 파형이면 어떠한 파형이더라도 괜찮다.

이상에 의해, 소정의 주사 전극(22)(예컨대, 주사 전극 SC(1+6×N))에 강제 초기화 파형을 인가하고, 다른 주사 전극(22)에 비초기화 파형을 인가하여, 특정한 방전셀에서 강제 초기화 동작을 행하고, 다른 방전셀에서 비초기화 동작을 행하는 특정셀 초기화 동작이 종료된다.

계속되는 기입 기간에서는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 대해서는 주사 펄스 전압 Va를 순차적으로 인가하고, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 대해서는 발광시켜야 할 방전셀에 대응하는 데이터 전극 Dk(k=1~m)에 정의 기입 펄스 전압 Vd를 인가한다. 이렇게 해서, 각 방전셀에 선택적으로 기입 방전을 발생시킨다.

구체적으로는, 우선 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve를, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 전압 Vcc를 인가한다.

그리고, 배치적으로 보아 위에서 1번째(1행째)의 주사 전극 SC1에 부의 주사 펄스 전압 Va를 인가함과 아울러, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm 중 1행째에 발광시켜야 할 방전셀의 데이터 전극 Dk(k=1~m)에 정의 기입 펄스 전압 Vd를 인가한다. 이때, 데이터 전극 Dk상과 주사 전극 SC1상의 교차부의 전압차는, 외부 인가 전압의 차이 (전압 Vd-전압 Va)에 데이터 전극 Dk상의 벽전압과 주사 전극 SC1상의 벽전압의 차이가 가산된 것이 되어 방전 개시 전압을 넘는다. 이에 의해, 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 사이에 방전이 발생한다. 또한, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve를 인가하고 있기 때문에, 유지 전극 SU1상과 주사 전극 SC1상의 전압차는, 외부 인가 전압의 차이인 (전압 Ve-전압 Va)에 유지 전극 SU1상의 벽전압과 주사 전극 SC1상의 벽전압의 차이가 가산된 것이 된다. 이때, 전압 Ve를, 방전 개시 전압을 약간 하회하는 정도의 전압치로 설정하는 것으로, 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 사이를, 방전에는 이르지 않지만 방전이 발생하기 쉬운 상태로 할 수 있다. 이에 의해, 데이터 전극 Dk와 주사 전극 SC1의 사이에 발생하는 방전을 트리거로 하여, 데이터 전극 Dk와 교차하는 영역에 있는 유지 전극 SU1과 주사 전극 SC1의 사이에 방전을 발생시킬 수 있다. 이렇게 해서, 발광시켜야 할 방전셀에 기입 방전이 일어나, 주사 전극 SC1상에 정의 벽전압이 축적되고, 유지 전극 SU1상에 부의 벽전압이 축적되고, 데이터 전극 Dk상에도 부의 벽전압이 축적된다.

이렇게 하여, 1행째에 발광시켜야 할 방전셀에서 기입 방전을 일으켜 각 전극상에 벽전압을 축적한다. 한편, 기입 펄스 전압 Vd를 인가하지 않은 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm과 주사 전극 SC1의 교차부의 전압은 방전 개시 전압을 넘지 않기 때문에, 기입 방전은 발생하지 않는다. 이상의 기입 동작을 n행째의 방전셀에 이를 때까지 순차적으로 행하여, 기입 기간이 종료된다.

계속되는 유지 기간에서는, 휘도 가중치에 소정의 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 표시 전극쌍(24)에 교대로 인가한다. 그리고, 기입 방전이 발생한 방전셀에서 유지 방전을 발생시킨다. 이렇게 해서, 기입 방전이 발생한 방전셀을 발광시킨다.

구체적으로는, 우선 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 정의 유지 펄스 전압 Vs를 인가함과 아울러 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 베이스 전위가 되는 접지 전위, 즉 0(V)을 인가한다. 그렇게 하면 기입 방전을 일으킨 방전셀에서는, 주사 전극 SCi상과 유지 전극 SUi상의 전압차가, 유지 펄스 전압 Vs에 주사 전극 SCi상의 벽전압과 유지 전극 SUi상의 벽전압의 차이가 가산된 것이 되어, 방전 개시 전압을 넘는다.

그리고, 주사 전극 SCi와 유지 전극 SUi의 사이에 유지 방전이 일어나고, 이때 발생한 자외선에 의해 형광체층(35)이 발광한다. 그리고 주사 전극 SCi상에 부의 벽전압이 축적되고, 유지 전극 SUi상에 정의 벽전압이 축적된다. 또한 데이터 전극 Dk상에도 정의 벽전압이 축적된다. 또, 기입 기간에 있어서 기입 방전이 일어나지 않은 방전셀에서는 유지 방전은 발생하지 않는다.

계속해서, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는 베이스 전위가 되는 0(V)을, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에는 유지 펄스 전압 Vs를 각각 인가한다. 그렇게 하면, 유지 방전을 일으킨 방전셀에서는, 유지 전극 SUi상과 주사 전극 SCi상의 전압차가 방전 개시 전압을 넘기 때문에, 다시 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이에 유지 방전이 일어나, 유지 전극 SUi상에 부의 벽전압이 축적되고, 주사 전극 SCi상에 정의 벽전압이 축적된다. 이후 마찬가지로, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn과 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에, 휘도 가중치에 휘도 배율을 곱한 수의 유지 펄스를 교대로 인가하여, 표시 전극쌍(24)의 전극 사이에 전위차를 준다. 이에 의해, 기입 기간에 있어서 기입 방전을 일으킨 방전셀에서 유지 방전이 계속하여 발생한다.

그리고, 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생 후에, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn 및 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에는 0(V)을 인가한 채로, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에, 0(V)으로부터 방전 개시 전압을 넘는 전압 Vers를 향해 완만하게(예컨대, 약 10V/㎲의 기울기로) 상승하는 경사 전압(이하, 「소거 램프 전압」이라고 호칭한다) L3을 인가한다. 이에 의해, 유지 방전을 일으킨 방전셀의 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이에, 미약한 방전이 지속하여 발생한다. 그리고, 이 미약한 방전으로 발생한 하전 입자는, 유지 전극 SUi와 주사 전극 SCi의 사이의 전압차를 완화하도록, 유지 전극 SUi상 및 주사 전극 SCi상에 벽전하가 되어 축적되어 간다. 이에 의해, 데이터 전극 Dk상의 정의 벽전압을 남긴 채로, 주사 전극 SCi상의 벽전압 및 유지 전극 SUi상의 벽전압은, 주사 전극 SCi에 인가한 전압과 방전 개시 전압의 차이, 예컨대 (전압 Vers-방전 개시 전압)의 정도까지 약해진다.

그 후, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 전압을 0(V)으로 되돌리고, 유지 기간에 있어서의 유지 동작이 종료된다.

다음으로, 선택 초기화 서브필드인 제 2 SF에 대하여 설명한다.

제 2 SF의 초기화 기간에서는, 선택 초기화 파형을 모든 주사 전극(22)에 인가한다. 본 실시의 형태에 있어서의 선택 초기화 파형은, 강제 초기화 파형의 전반부를 생략한 구동 전압 파형이다. 구체적으로는, 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn에 전압 Ve를, 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 0(V)을 각각 인가한다. 그리고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에는 방전 개시 전압 미만이 되는 전압(예컨대, 0(V))으로부터 부의 전압 Vi4를 향해, 하강 램프 전압 L2와 같은 기울기로 하강하는 하강 램프 전압 L4를 인가한다.

이에 의해 직전의 서브필드(도 3에서는, 제 1 SF)의 유지 기간에 유지 방전을 일으킨 방전셀에서는 미약한 초기화 방전이 발생하고, 주사 전극 SCi 상부 및 유지 전극 SUi 상부의 벽전압이 약해져, 데이터 전극 Dk(k=1~m) 상부의 벽전압도 기입 동작에 적합한 값으로 조정된다.

이상의 파형이, 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전이 발생한 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 파형이다. 그리고, 선택 초기화 파형을 모든 주사 전극(22)에 인가하여 행하는 상술한 동작이 선택 초기화 동작이다. 이상에 의해, 선택 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 선택 초기화 동작이 종료된다.

또, 본 발명에 있어서의 선택 초기화 파형은, 조금도 상술한 파형에 한정되는 것이 아니다. 선택 초기화 파형은, 직전의 서브필드의 유지 기간에 유지 방전이 발생한 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 파형이면 어떠한 파형이더라도 괜찮다. 예컨대, 본 실시의 형태에서는, 하강 램프 전압 L4를 모두 같은 기울기로 발생시키는 구성을 설명했지만, 하강 램프 전압 L4를 복수의 기간으로 나눠, 각 기간에서 기울기를 바꿔 하강 램프 전압 L4를 발생시키는 구성으로 하더라도 좋다.

제 2 SF의 기입 기간에서는, 제 1 SF의 기입 기간과 같은 구동 파형을 각 전극에 인가한다. 또한, 제 2 SF의 유지 기간에서는, 유지 펄스의 발생수를 제외하고, 제 1 SF의 유지 기간과 같은 구동 파형을 각 전극에 인가한다.

또한, 제 3 SF 이후의 서브필드에서는, 유지 기간에 있어서의 유지 펄스의 발생수를 제외하고, 제 2 SF와 같은 구동 파형을 각 전극에 인가한다.

이상이, 본 실시의 형태에 있어서의 패널(10)의 각 전극에 인가하는 구동 전압 파형의 개요이다.

다음으로, 본 실시의 형태에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치의 구성에 대하여 설명한다. 도 4는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(1)의 회로 블록도이다. 플라즈마 디스플레이 장치(1)는, 패널(10), 화상 신호 처리 회로(41), 데이터 전극 구동 회로(42), 주사 전극 구동 회로(43), 유지 전극 구동 회로(44), 타이밍 발생 회로(45) 및 각 회로 블록에 필요한 전원을 공급하는 전원 회로(도시하지 않음)를 구비하고 있다.

화상 신호 처리 회로(41)는, 패널(10)의 화소수에 따라, 입력된 화상 신호 sig를 서브필드마다의 발광, 비발광을 나타내는 서브필드 데이터로 변환한다.

타이밍 발생 회로(45)는, 수평 동기 신호 H 및 수직 동기 신호 V에 근거하여 각 회로 블록의 동작을 제어하는 각종 타이밍 신호를 발생시켜, 각각의 회로 블록(화상 신호 처리 회로(41), 데이터 전극 구동 회로(42), 주사 전극 구동 회로(43) 및 유지 전극 구동 회로(44))에 공급한다.

데이터 전극 구동 회로(42)는, 서브필드마다의 서브필드 데이터를 각 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm에 대응하는 신호로 변환하고, 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 각 데이터 전극 D1~데이터 전극 Dm을 구동한다.

주사 전극 구동 회로(43)는, 초기화 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 초기화 파형을 발생시키는 초기화 파형 발생 회로, 유지 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 유지 펄스를 발생시키는 유지 펄스 발생 회로, 복수의 주사 전극 구동 IC(이하, 「주사 IC」라고 약기한다)를 구비하여 기입 기간에 있어서 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하는 주사 펄스를 발생시키는 주사 펄스 발생 회로를 갖는다. 그리고, 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 각 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 구동한다.

유지 전극 구동 회로(44)는, 유지 펄스 발생 회로 및 전압 Ve를 발생시키는 회로를 구비하고, 타이밍 발생 회로(45)로부터 공급되는 타이밍 신호에 근거하여 유지 전극 SU1~유지 전극 SUn을 구동한다.

다음으로, 주사 전극 구동 회로(43)의 상세와 그 동작에 대하여 설명한다.

도 5는 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 플라즈마 디스플레이 장치(1)의 주사 전극 구동 회로(43)의 한 구성예를 나타내는 회로도이다. 주사 전극 구동 회로(43)는, 유지 펄스를 발생시키는 유지 펄스 발생 회로(50), 초기화 파형을 발생시키는 초기화 파형 발생 회로(51), 주사 펄스를 발생시키는 주사 펄스 발생 회로(52)를 구비한다. 주사 펄스 발생 회로(52)의 각 출력 단자는 패널(10)의 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에 접속되어 있다. 또, 본 실시의 형태에서는, 주사 펄스 발생 회로(52)에 입력되는 전압을 「기준 전위 A」라고 적는다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 스위칭 소자를 도통하는 동작을 「온」, 차단하는 동작을 「오프」라고 표기하고, 스위칭 소자를 온하는 신호를 「Hi」, 오프하는 신호를 「Lo」라고 표기한다.

또한, 도 5에는, 부의 전압 Va를 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(54))를 동작시키고 있을 때에, 그 회로와, 유지 펄스 발생 회로(50) 및 전압 Vr을 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(53)), 전압 Vers를 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(55))를 전기적으로 분리하기 위한 스위칭 소자 Q4를 이용한 분리 회로를 나타내고 있다. 또한, 전압 Vr을 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(53))를 동작시키고 있을 때에, 그 회로와, 전압 Vr보다 낮은 전압의 전압 Vers를 이용한 회로(예컨대, 밀러 적분 회로(55))를 전기적으로 분리하기 위한 스위칭 소자 Q6을 이용한 분리 회로를 나타내고 있다.

유지 펄스 발생 회로(50)는, 일반적으로 이용되고 있는 전력 회수 회로와 클램프 회로를 구비한다. 그리고, 타이밍 발생 회로(45)로부터 출력되는 타이밍 신호에 근거하여, 내부에 구비한 각 스위칭 소자를 전환하여 유지 펄스를 발생시킨다. 또, 도 5에서는, 타이밍 신호의 신호 경로의 상세한 것은 생략한다.

주사 펄스 발생 회로(52)는, n개의 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 각각에 주사 펄스를 인가하기 위한 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn 및 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn을 구비하고 있다. 스위칭 소자 QHj(j=1~n)의 한쪽의 단자와 스위칭 소자 QLj의 한쪽의 단자는 서로 접속되어 있고, 그 접속 부분이 주사 펄스 발생 회로(52)의 출력 단자가 되어, 주사 전극 SCj에 접속되어 있다. 또한, 스위칭 소자 QHj의 다른 쪽의 단자는 입력 단자 INb가 되고 있고, 스위칭 소자 QLj의 다른 쪽의 단자는 입력 단자 INa가 되어 있다. 또, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn은 복수의 출력마다 합쳐져 IC화되어 있다. 이 IC가 주사 IC이다.

또한, 주사 펄스 발생 회로(52)는, 기입 기간에 있어서 기준 전위 A를 부의 전압 Va에 접속하기 위한 스위칭 소자 Q5와, 기준 전위 A에 전압 Vsc를 중첩한 전압 Vc를 발생시키기 위한 전원 VSC, 다이오드 Di31, 콘덴서 C31을 구비하고 있다. 그리고, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn의 입력 단자 INb에는 전압 Vc가 접속되고, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn의 입력 단자 INa에는 기준 전위 A가 접속되어 있다.

이와 같이 구성된 주사 펄스 발생 회로(52)에서는, 기입 기간에 있어서는, 스위칭 소자 Q5를 온으로 하여 기준 전위 A를 부의 전압 Va와 같게 하고, 입력 단자 INa에는 부의 전압 Va를 인가한다. 또한, 입력 단자 INb에는 전압 Va+전압 Vsc가 된 전압 Vc(도 3에 나타내는 전압 Vcc)를 인가한다. 그리고, 서브필드 데이터에 근거하여, 주사 펄스를 인가하는 주사 전극 SCi에 대해서는, 스위칭 소자 QHi를 오프, 스위칭 소자 QLi를 온으로 함으로써, 스위칭 소자 QLi를 경유하여 주사 전극 SCi에 부의 주사 펄스 전압 Va를 인가한다. 주사 펄스를 인가하지 않는 주사 전극 SCh(h는, 1~n 중 i를 제외한 것)에 대해서는, 스위칭 소자 QLh를 오프, 스위칭 소자 QHh를 온으로 함으로써, 스위칭 소자 QHh를 경유하여 주사 전극 SCh에 전압 Va+전압 Vsc를 인가한다.

또한, 주사 펄스 발생 회로(52)는, 유지 기간에 있어서는, 유지 펄스 발생 회로(50)의 전압 파형을 출력하도록 타이밍 발생 회로(45)에 의해 제어되는 것으로 한다.

또, 주사 펄스 발생 회로(52)의 초기화 기간에 있어서의 동작의 상세한 것은 후술한다.

초기화 파형 발생 회로(51)는, 밀러 적분 회로(53), 밀러 적분 회로(54), 및 밀러 적분 회로(55)를 갖는다. 도 5에는, 밀러 적분 회로(53)의 입력 단자를 입력 단자 IN1, 밀러 적분 회로(54)의 입력 단자를 입력 단자 IN2, 밀러 적분 회로(55)의 입력 단자를 입력 단자 IN3으로서 나타내고 있다. 또, 밀러 적분 회로(53) 및 밀러 적분 회로(55)는 상승하는 경사 전압을 발생시키는 경사 전압 발생 회로이며, 밀러 적분 회로(54)는 하강하는 경사 전압을 발생시키는 경사 전압 발생 회로이다.

밀러 적분 회로(53)는, 스위칭 소자 Q1과 콘덴서 C1과 저항 R1을 갖고, 초기화 동작시에, 주사 전극 구동 회로(43)의 기준 전위 A를 전압 Vi2'까지 램프 형상으로 완만하게(예컨대, 0.5V/㎲로) 상승시켜 상승 램프 전압 L1'를 발생시킨다.

밀러 적분 회로(55)는, 스위칭 소자 Q3과 콘덴서 C3과 저항 R3을 갖는다. 그리고, 유지 기간의 최후에, 기준 전위 A를 상승 램프 전압 L1보다 급격한 기울기(예컨대, 10V/㎲)로 전압 Vers까지 상승시켜 소거 램프 전압 L3을 발생시킨다.

밀러 적분 회로(54)는, 스위칭 소자 Q2와 콘덴서 C2와 저항 R2를 갖는다. 그리고, 초기화 동작시에, 기준 전위 A를 전압 Vi4까지 램프 형상으로 완만하게(예컨대, -0.5V/㎲의 기울기로) 하강시켜 하강 램프 전압 L2를 발생시킨다.

다음으로, 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시키는 동작을 도 6을 이용하여 설명한다.

도 6은 본 발명의 실시의 형태 1에 있어서의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간의 주사 전극 구동 회로(43)의 동작의 일례를 설명하기 위한 타이밍 차트이다. 또, 이 도면에서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을 「주사 전극 SCx」라고 나타내고, 비초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을 「주사 전극 SCy」라고 나타낸다. 또한, 선택 초기화 서브필드에 있어서 선택 초기화 파형을 발생시킬 때의 주사 전극 구동 회로(43)의 동작에 대해서는 설명을 생략하지만, 선택 초기화 파형인 하강 램프 전압 L4를 발생시키는 동작은, 도 6에 나타내는 하강 램프 전압 L2를 발생시키는 동작과 같은 것으로 한다.

또한, 도 6에서는, 초기화 기간을 기간 T1~기간 T4로 나타내는 4개의 기간으로 분할하고, 각각의 기간에 대하여 설명한다. 또한, 이하, 전압 Vi1은 전압 Vsc와 같은 것으로 하고, 전압 Vi2는 전압 Vsc+전압 Vr과 같은 것으로 하고, 전압 Vi2'는 전압 Vr과 같은 것으로 하고, 전압 Vi3은 유지 펄스를 발생시킬 때에 이용하는 전압 Vs와 같은 것으로 하고, 전압 Vi4는 부의 전압 Va와 같은 것으로 하여 설명한다. 또한, 도면에는 스위칭 소자를 온하는 신호를 「Hi」, 오프하는 신호를 「Lo」라고 표기한다.

또, 도 6에는, 전압 Vs가 전압 Vsc보다 높은 전압치로 설정된 예를 나타내고 있지만, 전압 Vs와 전압 Vsc가 서로 같은 전압치이더라도 좋고, 혹은, 전압 Vs 쪽이 전압 Vsc보다 낮은 전압치이더라도 괜찮다.

우선, 기간 T1에 들어가기 전에 유지 펄스 발생 회로(50)의 클램프 회로를 동작시켜 기준 전위 A를 0(V)으로 하여 두고, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn을 오프, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn을 온으로 하여, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 기준 전위 A, 즉 0(V)을 인가한다.

(기간 T1)

기간 T1에서는, 주사 전극 SCx에 접속된 스위칭 소자 QHx를 온으로 하고, 스위칭 소자 QLx를 오프로 한다. 이에 의해, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극 SCx에는, 기준 전위 A(이때, 0(V))에 전압 Vsc를 중첩한 전압 Vc(즉, 전압 Vc=전압 Vsc)를 인가한다.

한편, 주사 전극 SCy에 접속된 스위칭 소자 QHy는 오프를, 스위칭 소자 QLy는 온을 각각 유지한 채로 한다. 이에 의해, 비초기화 파형을 인가하는 주사 전극 SCy에는, 기준 전위 A, 즉 0(V)을 인가한다.

(기간 T2)

기간 T2에서는, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn은, 기간 T1과 같은 상태를 유지한다. 즉, 주사 전극 SCx에 접속된 스위칭 소자 QHx는 온을, 스위칭 소자 QLx는 오프를 각각 유지하고, 주사 전극 SCy에 접속된 스위칭 소자 QHy는 오프를, 스위칭 소자 QLy는 온을 각각 유지한다.

다음으로, 상승 램프 전압 L1'를 발생시키는 밀러 적분 회로(53)의 입력 단자 IN1을 「Hi」로 한다. 구체적으로는 입력 단자 IN1에, 소정의 정전류를 입력한다. 이에 의해, 콘덴서 C1을 향해 일정한 전류가 흘러, 스위칭 소자 Q1의 소스전 압이 램프 형상으로 상승하고, 기준 전위 A가 0(V)으로부터 램프 형상으로 상승하기 시작한다. 이 전압 상승은, 입력 단자 IN1을 「Hi」로 하고 있는 기간, 또는, 기준 전위 A가 전압 Vr에 도달할 때까지 계속시킬 수 있다.

이때, 경사 전압의 기울기가 원하는 값(예컨대, 0.5V/㎲)이 되도록, 입력 단자 IN1에 입력하는 정전류를 발생시킨다. 이렇게 해서, 0(V)으로부터 전압 Vi2'(본 실시의 형태에서는, 전압 Vr과 같다)를 향해 상승하는 상승 램프 전압 L1'를 발생시킨다.

스위칭 소자 QHy는 오프, 스위칭 소자 QLy는 온이기 때문에, 주사 전극 SCy에는, 이 상승 램프 전압 L1'가 그대로 인가된다.

한편, 스위칭 소자 QHx는 온, 스위칭 소자 QLx는 오프이기 때문에, 주사 전극 SCx에는, 이 상승 램프 전압 L1'에 전압 Vsc가 중첩된 전압, 즉 전압 Vi1(본 실시의 형태에서는, 전압 Vsc와 같다)로부터 전압 Vi2(본 실시의 형태에서는, 전압 Vsc+전압 Vr과 같다)를 향해 상승하는 상승 램프 전압 L1이 인가된다.

(기간 T3)

기간 T3에서는 입력 단자 IN1을 「Lo」로 한다. 구체적으로는, 입력 단자 IN1로의 정전류 입력을 정지한다. 이렇게 해서, 밀러 적분 회로(53)의 동작을 정지한다. 또한, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn을 오프, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn을 온으로 하여, 기준 전위 A를 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다. 또한, 유지 펄스 발생 회로(50)의 클램프 회로를 동작시켜 기준 전위 A를 전압 Vs로 한다. 이에 의해, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn의 전압은 전압 Vi3(본 실시의 형태에서는, 전압 Vs와 같다)까지 저하된다.

(기간 T4)

기간 T4에서는, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn은, 기간 T3과 같은 상태를 유지한다.

다음으로, 하강 램프 전압 L2를 발생시키는 밀러 적분 회로(54)의 입력 단자 IN2를 「Hi」로 한다. 구체적으로는 입력 단자 IN2에, 소정의 정전류를 입력한다. 이에 의해, 콘덴서 C2를 향해 일정한 전류가 흘러, 스위칭 소자 Q2의 드레인 전압이 램프 형상으로 하강하기 시작하여, 주사 전극 구동 회로(43)의 출력 전압도, 부의 전압 Vi4를 향해 램프 형상으로 하강하기 시작한다. 이 전압 하강은, 입력 단자 IN2를 「Hi」로 하고 있는 기간, 또는, 기준 전위 A가 전압 Va에 도달할 때까지 계속시킬 수 있다.

이때, 경사 전압의 기울기가 원하는 값(예컨대, -0.5V/㎲)이 되도록, 입력 단자 IN2에 입력하는 정전류를 발생시킨다.

그리고, 주사 전극 구동 회로(43)의 출력 전압이 부의 전압 Vi4(본 실시의 형태에서는, 전압 Va와 같다)에 도달하면, 입력 단자 IN2를 「Lo」로 한다. 구체적으로는, 입력 단자 IN2로의 정전류 입력을 정지한다. 이렇게 해서, 밀러 적분 회로(54)의 동작을 정지한다.

이렇게 해서, 전압 Vi3(본 실시의 형태에서는, 전압 Vs와 같다)으로부터 부의 전압 Vi4를 향해 하강하는 하강 램프 전압 L2를 발생시키고, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가한다.

또, 입력 단자 IN2를 「Lo」로 하여 밀러 적분 회로(54)의 동작을 정지하면, 스위칭 소자 Q5를 온으로 하여, 기준 전위 A를 전압 Va로 한다. 또한, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn을 온, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn을 오프로 한다. 이렇게 해서, 기준 전위 A에 전압 Vsc를 중첩한 전압 Vc, 즉, 전압 Vcc(본 실시의 형태에서는, 전압 Va+전압 Vsc와 같다)를 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn에 인가하고, 계속되는 기입 기간에 대비한다.

본 실시의 형태에서는, 이렇게 하여, 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킨다. 그리고, 스위칭 소자 QH1~스위칭 소자 QHn과, 스위칭 소자 QL1~스위칭 소자 QLn을 제어하는 것으로, 강제 초기화 파형을 주사 전극 SCx에 인가하고, 비초기화 파형을 주사 전극 SCy에 인가한다고 하는 것처럼, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 선택적으로 주사 전극(22)에 인가할 수 있다.

또, 하강 램프 전압 L2, 하강 램프 전압 L4는, 도 6에 나타내는 바와 같이 전압 Va까지 하강시키는 구성이더라도 좋지만, 예컨대, 하강하는 전압이, 전압 Va에 소정의 정의 전압 Vset2를 중첩한 전압에 도달한 시점에서, 하강을 정지시키는 구성으로 하더라도 좋다. 또한, 하강 램프 전압 L2 및 하강 램프 전압 L4는, 미리 설정된 전압에 도달한 후, 즉시 상승시키는 구성이더라도 좋지만, 예컨대, 하강하는 전압이, 미리 설정된 전압에 도달하면, 그 후, 그 전압을 일정 기간 유지하는 구성이더라도 좋다.

다음으로, 본 실시의 형태에 있어서의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 때의 규칙에 대하여 설명한다.

플라즈마 디스플레이 장치(1)에 있어서, 화상 표시 품질을 높이는 데에 있어서 중요한 요소의 하나로서, 패널(10)에 표시되는 화상의 콘트라스트를 향상시키는 것을 들 수 있다. 패널(10)의 콘트라스트를 향상시키기 위해서는, 표시 화상의 휘도의 최대치를 높이는 것이나, 혹은 표시 화상의 휘도의 최소치, 즉 흑휘도를 저감하는 것의, 적어도 한쪽을 실현하면 된다. 이때, 가정 내에서의 일반적인 텔레비전 시청 환경을 고려하면, 흑휘도를 저감하여 콘트라스트를 향상시키는 것이, 화상 표시 품질을 높이는 데에 있어서 보다 중요하다고 생각된다.

흑휘도는, 화상의 표시에 관계가 없는 발광에 의해 변화한다. 그 때문에, 화상의 표시에 관계가 없는 발광을 저감하는 것으로 흑휘도를 저감할 수 있다. 화상의 표시에 관계가 없는 발광의 주된 예로, 초기화 방전에 의한 발광이 있다. 단, 상술한 선택 초기화 동작은, 직전의 서브필드에서 유지 방전이 발생하지 않은 방전셀에서는 방전이 발생하지 않기 때문에, 흑휘도의 밝기에 실질적으로 영향을 주지 않는다. 한편, 상술한 강제 초기화 동작은, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 방전셀에 초기화 방전을 발생시키기 때문에, 흑휘도의 밝기에 영향을 준다.

그래서, 본 실시의 형태에서는, 이 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감하는 것에 의해 표시 화상의 흑휘도를 저감하는 것으로 한다.

즉, 본 실시의 형태에서는, 시간적으로 연속하는 복수의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 복수의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성한다. 그리고, 이하의 규칙에 따라, 강제 초기화 동작 및 비초기화 동작을 행하는 것으로 한다.

?하나의 주사 전극(22)에 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 필드군에서 1회로 한다.

?특별 초기화 서브필드(본 실시의 형태에서는, 특정셀 초기화 서브필드)에 있어서, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 하나의 주사 전극군에서 1개로 한다.

?특별 초기화 서브필드(본 실시의 형태에서는, 특정셀 초기화 서브필드)에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 양측의 주사 전극(22)에는, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가한다.

이 구체적인 일례를, 도면을 이용하여 설명한다.

도 7은 본 발명의 실시의 형태 1의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 일례를 나타내는 개략도이다. 도 7에 있어서, 가로축은 필드를, 세로축은 주사 전극(22)을 나타낸다.

또, 도 7에는, 시간적으로 연속하는 5개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 5개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다. 또한, 도 7에 나타내는 예에서는, 제 1 SF를 상술한 특정셀 초기화 서브필드로 하고, 나머지의 서브필드(예컨대, 제 2 SF~제 8 SF)를, 상술한 선택 초기화 서브필드로 한다. 그리고, 도 7에 나타내는 「○」는, 제 1 SF의 초기화 기간에 있어서 강제 초기화 동작을 행하는 것을 나타낸다. 즉, 도 6에 나타낸 상승 램프 전압 L1과 하강 램프 전압 L2를 갖는 강제 초기화 파형을 주사 전극(22)에 인가하는 것을 나타낸다. 도 7에 나타내는 「×」는, 제 1 SF의 초기화 기간에 있어서 상술한 비초기화 동작을 행하는 것을 나타낸다. 즉, 도 6에 나타낸 상승 램프 전압 L1'와 하강 램프 전압 L2를 갖는 비초기화 파형을 주사 전극(22)에 인가하는 것을 나타낸다.

이하, 하나의 주사 전극군을 구성하는 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+4, 및 하나의 필드군을 구성하는 j 필드~j+4 필드를 예로 들어 설명을 행한다.

우선, j 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi에 강제 초기화 파형을 인가하고, 나머지의 주사 전극 SCi+1~주사 전극 SCi+4에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+1 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi+3에 강제 초기화 파형을 인가하고, 나머지의 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+2, 주사 전극 SCi+4에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+2 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi+1에 강제 초기화 파형을 인가하고, 나머지의 주사 전극 SCi, 주사 전극 SCi+2~주사 전극 SCi+4에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+3 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi+4에 강제 초기화 파형을 인가하고, 나머지의 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+3에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+4 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi+2에 강제 초기화 파형을 인가하고, 나머지의 주사 전극 SCi, 주사 전극 SCi+1, 주사 전극 SCi+3, 주사 전극 SCi+4에는 비초기화 파형을 인가한다.

이렇게 해서, 하나의 주사 전극군에 있어서의 하나의 필드군의 동작을 종료한다. 다른 주사 전극군에 대해서도, 상술한 것과 같은 동작을 행하고, 이 이후에서도, 각 필드군에서 상술한 것과 같은 동작을 반복한다.

이와 같이, 본 실시의 형태에서는, 각 방전셀에서 강제 초기화 동작을 행하는 횟수가, 하나의 필드군(도 7에 나타내는 예에서는, 5 필드)에서 각각 1회가 되도록 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 선택적으로 발생시켜 패널(10)을 구동한다.

이에 의해, 필드마다 모든 방전셀에서 강제 초기화 동작을 행하는 구성과 비교하여, 각 방전셀에서 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감할 수 있다. 도 7에 나타내는 예에서는, 5분의 1로 저감할 수 있다. 따라서, 표시 화상의 흑휘도를 저감할 수 있다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 하나의 특정셀 초기화 서브필드에 있어서, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 하나의 주사 전극군에서 1개가 되도록 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 선택적으로 발생시켜 패널(10)을 구동한다.

도 7에 나타내는 예에서는, 예컨대 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+4로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+1 필드에서는 주사 전극 SCi+3으로 하고, j+2 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 하고, j+3 필드에서는 주사 전극 SCi+4로 하고, j+4 필드에서는 주사 전극 SCi+2로 한다.

이에 의해, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀을 각 필드에 분산할 수 있다. 즉, 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 생기는 휘도를, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행할 때에 생기는 휘도와 비교하여 저감할 수 있다.

또한, 각 필드를, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 필드와, 전체 방전셀에서 일제히 비초기화 동작을 행하는 필드로 나누는 구성과 비교하여, 「플리커」라고 불리는 미세한 깜박거림을 저감할 수 있다.

이, 각 필드를, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 필드와, 전체 방전셀에서 일제히 비초기화 동작을 행하는 필드로 나누는 구성의 일례를 도 8에 나타내고, 이 구성으로 하면 플리커가 발생하기 쉬워지는 이유에 대하여 설명한다.

도 8은 각 필드를, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 필드와, 전체 방전셀에서 일제히 비초기화 동작을 행하는 필드로 나누는 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.

도 8에는, 시간적으로 연속하는 3개의 필드로 하나의 필드군을 구성하는 예를 나타낸다. 단, 도 8에 나타내는 구성은, 본 실시의 형태에 있어서의 도 7에 나타내는 구성과 달리, 3 필드에 1회의 주기로 패널(10)의 전체 방전셀에서 초기화 동작을 행한다.

이러한 구성에서는, 예컨대, j 필드의 제 1 SF의 초기화 기간에서는, 패널(10)의 전체 방전셀이 강제 초기화 동작에 의한 방전에 의해 발광한다. 한편, j+1 필드 및 j+2 필드의 제 1 SF의 초기화 기간에서는, 전체 방전셀에서 비초기화 동작이 행해지기 때문에, 상향 램프 전압에 의한 발광은 생기지 않는다. 따라서, 패널(10)의 화상 표시면에서, j 필드의 제 1 SF와 j+1 필드 및 j+2 필드의 제 1 SF의 사이에, 미소하지만 휘도의 차이가 생긴다. 그 때문에, 예컨대, 60 필드/초의 주기로 갱신되는 화상을 패널(10)에 표시하면, 이 미소한 휘도의 변화가 20 필드/초의 주기로 발생하게 된다.

표시 화상이 충분히 밝으면, 이 휘도의 변화가 사용자에게 인식될 가능성은 낮다. 그러나, 상술한 바와 같은 20 필드/초 정도로 비교적 느린 주기로 생기는 휘도의 변화이면, 어두운 화상을 표시했을 때에, 그 변화가, 미세한 깜박거림, 즉 플리커로서 사용자에게 인식될 우려가 있다.

따라서, 흑휘도를 저감하기 위해 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감했다고 해도, 도 8에 나타내는 바와 같은, 각 필드를 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 필드와 전체 방전셀에서 일제히 비초기화 동작을 행하는 필드로 나누는 구성으로 하면, 플리커가 인식되기 쉬워져, 화상 표시 품질을 손상시킬 가능성이 있다.

이에 비하여, 예컨대 도 7에 나타내는 바와 같은 본 실시의 형태에 있어서의 구성으로 패널(10)을 구동하면, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀을 각 필드에 분산함과 아울러, 휘도의 변화의 주기를 충분히 빠르게 할 수 있기 때문에, 도 8에 나타내는 구성과 비교하여 플리커를 저감할 수 있다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 특정셀 초기화 서브필드에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 양측의 주사 전극(22)에, 그 필드에 있어서의 특정셀 초기화 서브필드와, 계속되는 필드에 있어서의 특정셀 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특정셀 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가하도록 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 선택적으로 발생시켜 패널(10)을 구동한다.

예컨대, 도 7에 나타내는 예에서는, 주사 전극 SCi+3에 j+1 필드의 제 1 SF에서 강제 초기화 파형을 인가할 때, 그 양측의 주사 전극 SCi+2와 주사 전극 SCi+4에, j+1 필드 및 j+2 필드의 적어도 2개의 필드의 제 1 SF에서 비초기화 파형을 인가한다.

이에 의해, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성을 저감할 수 있다. 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감했을 때에 패널(10)의 화상 표시면에 선형 노이즈가 발생하기 쉬워지는 것이 확인되고 있지만, 본 실시의 형태에서는, 이에 의해, 이 선형 노이즈를, 강제 초기화 동작을 하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성이 높은 구성과 비교하여, 저감할 수 있다.

이, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성이 높은 구성의 일례를 도 9에 나타내고, 선형 노이즈가 발생하기 쉬운 이유에 대하여 설명한다.

도 9는 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성이 높은 구성의 일례를 개략적으로 나타내는 도면이다.

도 9에는, 시간적으로 연속하는 3개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 3개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다. 단, 도 9에 나타내는 구성은, 본 실시의 형태에 있어서의 도 7에 나타내는 구성과 달리, 강제 초기화 파형을 인가한 주사 전극(22)에 이웃하는 주사 전극(22)에, 계속되는 필드의 특정셀 초기화 서브필드에서 강제 초기화 파형을 인가하고 있다.

예컨대, j 필드의 제 1 SF에서 강제 초기화 파형을 인가한 주사 전극 SCi에 이웃하는 주사 전극 SCi+1에, 계속되는 j+1 필드의 제 1 SF에서 강제 초기화 파형을 인가하고 있다. 또한, 주사 전극 SCi+1에 이웃하는 주사 전극 SCi+2에는, 계속되는 j+2 필드의 제 1 SF에서 강제 초기화 파형을 인가하고 있다.

이 구성에서는, 예컨대, j 필드의 제 1 SF의 초기화 기간에서는, 주사 전극 SCi상에 형성된 방전셀이 강제 초기화 동작에 의한 방전에 의해 발광한다. 계속되는, j+1 필드의 제 1 SF의 초기화 기간에서는, 주사 전극 SCi+1상에 형성된 방전셀이 강제 초기화 동작에 의한 방전에 의해 발광한다. 계속되는, j+2 필드의 제 1 SF의 초기화 기간에서는, 주사 전극 SCi+2상에 형성된 방전셀이 강제 초기화 동작에 의한 방전에 의해 발광한다.

이와 같이, 도 9에 나타내는 구성에서는, 강제 초기화 동작을 행한 방전셀에 이웃하는 방전셀에 있어서, 계속되는 필드에서 강제 초기화 동작이 행해진다. 이에 의해, 사용자에게는, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀이 시간적 및 위치적으로 연속하여 변화한 것처럼 인식되기 쉬워진다. 그 결과, 그 연속한 변화의 궤적이 선형 노이즈로서 사용자에게 인식될 가능성이 높아진다.

그러나, 예컨대 도 7에 나타내는 바와 같은 본 실시의 형태에 있어서의 구성으로 패널(10)을 구동하면, 강제 초기화 동작이 이루어지는 방전셀에 이웃하는 방전셀에서는, 그 필드 및 계속되는 필드의 적어도 2 필드의 제 1 SF에서 비초기화 동작이 이루어져, 초기화 방전이 발생하지 않는다. 이에 의해, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성을 저감할 수 있어, 상술한 선형 노이즈의 발생을 저감할 수 있다.

이상 나타낸 바와 같이, 본 실시의 형태에서는, 시간적으로 연속하는 복수의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 복수의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 것으로 한다. 그리고, 하나의 주사 전극(22)에 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 필드군에서 1회로 한다. 또한, 특별 초기화 서브필드(본 실시의 형태에서는, 특정셀 초기화 서브필드)에 있어서, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 하나의 주사 전극군에서 1개로 한다. 또한, 특별 초기화 서브필드(본 실시의 형태에서는, 특정셀 초기화 서브필드)에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 양측의 주사 전극(22)에는, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가하는 것으로 한다. 이러한 규칙에 따라 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시키는 구성으로 함으로써, 패널(10)에 표시되는 화상의 흑휘도를 저감하고, 콘트라스트를 높이는 것이 가능해진다. 또한, 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감했을 때에 발생하기 쉬운 플리커나 선형 노이즈를 저감하는 것이 가능해진다.

또, 본 발명은, 특정셀 초기화 서브필드에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴이 조금도 도 7에 나타낸 구성에 한정되는 것이 아니다. 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴이 본 실시의 형태에 나타내는 규칙에 따른 것이면, 도 7에 나타낸 예와는 다른 패턴으로 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시키더라도 좋다.

도 10은 본 발명의 실시의 형태 1의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

도 10에는, 도 7에 나타낸 예와 같이, 시간적으로 연속하는 5개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 5개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다. 그러나, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴은, 도 7에 나타낸 예와는 다르다.

도 10에 나타내는 예에서는, 예컨대 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+4로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+1 필드에서는 주사 전극 SCi+2로 하고, j+2 필드에서는 주사 전극 SCi+4로 하고, j+3 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 하고, j+4 필드에서는 주사 전극 SCi+3으로 한다.

이와 같이, 도 7에 나타낸 예와는 다른 발생 패턴이더라도, 상술한 규칙에 따라, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 수 있다.

또한, 본 발명은, 필드군을 구성하는 필드의 수 및 주사 전극군을 구성하는 주사 전극(22)의 수가 조금도 도 7에 나타낸 구성에 한정되는 것이 아니다. 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴이 본 실시의 형태에 나타내는 규칙에 따른 것이면, 도 7에 나타낸 예와는 다른 수의 필드로 필드군을 구성하고, 도 7에 나타낸 예와는 다른 수의 주사 전극(22)으로 주사 전극군을 구성하더라도 좋다.

도 11(a), 도 11(b)는 본 발명의 실시의 형태 1의 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

도 11(a)에는, 도 7에 나타낸 예와는 달리, 시간적으로 연속하는 7개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 7개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다. 또한, 도 11(b)에는, 시간적으로 연속하는 8개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 8개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다.

도 11(a)에 나타내는 예에서는, 예컨대 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+6으로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+1 필드에서는 주사 전극 SCi+3으로 하고, j+2 필드에서는 주사 전극 SCi+6으로 하고, j+3 필드에서는 주사 전극 SCi+2로 하고, j+4 필드에서는 주사 전극 SCi+5로 하고, j+5 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 하고, j+6 필드에서는 주사 전극 SCi+4로 한다.

또한, 도 11(b)에 나타내는 예에서는, 예컨대 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+7로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+1 필드에서는 주사 전극 SCi+3으로 하고, j+2 필드에서는 주사 전극 SCi+6으로 하고, j+3 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 하고, j+4 필드에서는 주사 전극 SCi+4로 하고, j+5 필드에서는 주사 전극 SCi+7로 하고, j+6 필드에서는 주사 전극 SCi+2로 하고, j+7 필드에서는 주사 전극 SCi+5로 한다.

예컨대, 이러한 구성이더라도, 상술한 규칙에 따라, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 수 있다.

이와 같이, 본 발명에 있어서는, 하나의 필드군을 구성하는 필드의 수, 및 하나의 주사 전극군을 구성하는 주사 전극(22)의 수가 조금도 한정되는 것이 아니다. 본 실시의 형태에 나타내는 규칙에 따라 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시키면, 필드군 및 주사 전극군은 어떻게 구성되더라도 좋다.

(실시의 형태 2)

실시의 형태 1에서는, 특별 초기화 서브필드의 모두를 특정셀 초기화 서브필드로 하는 구성을 설명했다. 그러나, 본 발명에 있어서는, 특별 초기화 서브필드를, 초기화 기간에 모든 주사 전극(22)에 비초기화 파형을 인가하여 전체셀 비초기화 동작을 행하는 전체셀 비초기화 서브필드로 할 수도 있다.

그래서, 본 실시의 형태에서는, 특별 초기화 서브필드를, 특정셀 초기화 서브필드와 전체셀 비초기화 서브필드의 양쪽에서 발생시키는 구성에 대하여 설명한다. 즉, 본 실시의 형태에서는, 하나의 필드군을, 특정셀 초기화 서브필드(예컨대, 제 1 SF) 및 복수의 선택 초기화 서브필드(예컨대, 제 2 SF~제 8 SF)를 갖는 초기화 필드와, 전체셀 비초기화 서브필드(예컨대, 제 1 SF) 및 복수의 선택 초기화 서브필드(예컨대, 제 2 SF~제 8 SF)를 갖는 비초기화 필드로 구성하는 것으로 한다. 또, 이하, 초기화 필드를 「특정셀 초기화 필드」라고도 적는다.

또, 본 실시의 형태에 있어서는, 특별 초기화 서브필드를, 특정셀 초기화 서브필드와 전체셀 비초기화 서브필드의 양쪽에서 발생시키는 것 외에는, 실시의 형태 1에 나타낸 구성과 같기 때문에, 패널(10) 및 플라즈마 디스플레이 장치(1)의 구성이나 각 구동 파형 등에 대해서는 설명을 생략한다.

본 실시의 형태에서는, 하나의 필드군을 초기화 필드와 비초기화 필드로 구성한다. 따라서, 실시의 형태 1에서 설명한 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴에 관한 규칙을 본 실시의 형태에서는 이하와 같게 한다.

?하나의 주사 전극(22)에 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 필드군에서 1회로 한다.

?특별 초기화 서브필드에 있어서, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 하나의 주사 전극군에서 1개 또는 0개로 한다. 즉, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 특정셀 초기화 서브필드에서는 각 주사 전극군에서 각각 1개로 하고, 전체셀 비초기화 서브필드에서는 각 주사 전극군에서 각각 0개로 한다.

?특별 초기화 서브필드(특정셀 초기화 서브필드)에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 양측의 주사 전극(22)에는, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드(본 실시의 형태에서는, 특정셀 초기화 서브필드, 또는 전체셀 비초기화 서브필드)의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가한다.

이하, 본 실시의 형태에 있어서의 구체적인 구성예를, 도면을 이용하여 설명한다.

도 12는 본 발명의 실시의 형태 2의 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 일례를 나타내는 개략도이다. 도 12에 있어서, 가로축은 필드를, 세로축은 주사 전극(22)을 나타낸다.

또, 도 12에는, 시간적으로 연속하는 6개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 3개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다. 또한, 도 12에 나타내는 예에서는, 제 1 SF를 특별 초기화 서브필드(특정셀 초기화 서브필드, 또는 전체셀 비초기화 서브필드)로 하고, 나머지의 서브필드(예컨대, 제 2 SF~제 8 SF)를, 선택 초기화 서브필드로 한다. 그리고, 도 12에 나타내는 「○」는, 제 1 SF의 초기화 기간에 있어서 강제 초기화 동작을 행하는 것을 나타낸다. 즉, 도 6에 나타낸 상승 램프 전압 L1과 하강 램프 전압 L2를 갖는 강제 초기화 파형을 주사 전극(22)에 인가하는 것을 나타낸다. 또한 도 12에 나타내는 「×」는, 제 1 SF의 초기화 기간에 있어서 상술한 비초기화 동작을 행하는 것을 나타낸다. 즉, 도 6에 나타낸 상승 램프 전압 L1'와 하강 램프 전압 L2를 갖는 비초기화 파형을 주사 전극(22)에 인가하는 것을 나타낸다.

이하, 하나의 주사 전극군을 구성하는 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+2, 및 하나의 필드군을 구성하는 j 필드~j+5 필드를 예로 들어 설명을 행한다.

우선, j 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi에 강제 초기화 파형을 인가하고, 주사 전극 SCi+1및 주사 전극 SCi+2에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+1 필드의 제 1 SF에서는, 모든 주사 전극(22)에 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+2 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi+1에 강제 초기화 파형을 인가하고, 주사 전극 SCi 및 주사 전극 SCi+2에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+3 필드의 제 1 SF에서는, 모든 주사 전극(22)에 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+4 필드의 제 1 SF에서는, 주사 전극 SCi+2에 강제 초기화 파형을 인가하고, 주사 전극 SCi 및 주사 전극 SCi+1에는 비초기화 파형을 인가한다.

계속되는 j+5 필드의 제 1 SF에서는, 모든 주사 전극(22)에 비초기화 파형을 인가한다.

이렇게 해서, 하나의 주사 전극군에 있어서의 하나의 필드군의 동작을 종료한다. 다른 주사 전극군에 대해서도, 상술한 바와 같은 동작을 행하고, 이 이후에서도, 각 필드군에서 상술한 바와 같은 동작을 반복한다. 또, 도 12에 나타내는 구성에 있어서는, j 필드, j+2 필드, j+4 필드, …는 특정셀 초기화 필드가 되고, j+1 필드, j+3 필드, j+5 필드, …는 비초기화 필드가 된다.

본 실시의 형태에서는, 이러한 구성으로 함으로써, 필드마다 모든 방전셀에서 강제 초기화 동작을 행하는 구성과 비교하여, 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감할 수 있다. 도 12에 나타내는 예에서는, 6분의 1로 저감할 수 있다. 이에 의해, 표시 화상의 흑휘도를 저감할 수 있다. 특히, 본 실시의 형태에서는, 주기적으로 비초기화 필드를 발생시키기 때문에, 실시의 형태 1에 나타내는 구성과 비교하여, 주사 전극군을 구성하는 주사 전극(22)의 수가 서로 같으면, 흑휘도를 더 저감할 수 있다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 이러한 구성으로 함으로써, 실시의 형태 1과 같이, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 도 8에 나타내는 바와 같은 구성과 비교하여, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀을 각 필드에 분산할 수 있다. 이에 의해, 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 생기는 휘도를, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행할 때에 생기는 휘도와 비교하여 저감할 수 있다.

또, 초기화 필드에 있어서의 특정셀 초기화 동작에서는 초기화 방전에 의한 미약한 발광이 생기지만, 비초기화 필드에 있어서의 전체셀 비초기화 동작에서는 상향 램프 전압에 의한 초기화 방전이 발생하지 않기 때문에, 이 초기화 방전에 의한 발광도 생기지 않는다. 그 때문에, 실시의 형태 1과는 달리, 패널(10)의 화상 표시면에서 이들의 필드 사이에 미소한 휘도의 차이가 생긴다. 따라서, 특정셀 초기화 동작을 행하는 초기화 필드와, 전체셀 비초기화 동작을 행하는 비초기화 필드가 교대로 발생하는 도 12에 나타내는 구성에서는, 예컨대 60 필드/초의 주기로 갱신되는 화상을 패널(10)에 표시하면, 이 미소한 휘도의 변화가 30 필드/초의 주기로 발생하게 된다.

그러나, 본 실시의 형태에서는, 상술한 바와 같이, 특정셀 초기화 서브필드의 초기화 기간에 생기는 휘도가 저감된다. 도 12에 나타내는 구성에서는, 패널(10)의 전체 방전셀에서 일제히 강제 초기화 동작을 행하는 구성과 비교하여, 3분의 1로 저감된다. 그 때문에, 패널(10)의 화상 표시면에서, 이 휘도의 변화는 매우 작아진다. 따라서, 이 휘도의 변화가 사용자에게 인식될 가능성은 매우 낮다고 생각된다. 그리고, 본 발명자가 행한 실험, 즉 표시 화상을 여러 가지로 바꾸면서 플리커의 발생을 확인하는 실험에 있어서도, 플리커의 발생은 실질적으로 확인되지 않았다.

또한, 본 실시의 형태에서는, 상술한 구성으로 함으로써, 실시의 형태 1과 같이, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성을 저감할 수 있다. 이에 의해, 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감했을 때에 패널(10)의 화상 표시면에 발생하기 쉬운 선형 노이즈를, 예컨대 도 9에 나타낸 바와 같은 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성이 높은 구성과 비교하여, 저감할 수 있다.

특히, 본 실시의 형태에서는, 주기적으로 비초기화 필드를 발생시키기 때문에, 강제 초기화 동작을 행하는 방전셀의 시간적 및 위치적인 변화의 연속성을, 실시의 형태 1에 나타낸 구성, 즉, 필드군을 초기화 필드만으로 구성하는 구성보다 더 저감할 수 있어, 상술한 선형 노이즈의 발생을 더 억제할 수 있다.

또, 본 발명은, 특정셀 초기화 서브필드에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴이 조금도 도 12에 나타낸 구성에 한정되는 것이 아니다.

도 13은 본 발명의 실시의 형태 2의 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

도 13에는, 도 12에 나타낸 예와 같이, 시간적으로 연속하는 6개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 3개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다. 그러나, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴은, 도 12에 나타낸 예와는 다르다.

도 13에 나타내는 예에서는, j 필드, j+2 필드, j+4 필드, …를 특정셀 초기화 필드로 하고, j+1 필드, j+3 필드, j+5 필드, …를 비초기화 필드로 한다.

그리고, 예컨대 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+2로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+2 필드에서는 주사 전극 SCi+2로 하고, j+4 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 한다.

이와 같이, 도 12에 나타낸 예와는 다른 발생 패턴이더라도, 상술한 규칙에 따라, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 수 있다.

도 14는, 본 발명의 실시의 형태 2의 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

도 14에는, 도 12에 나타낸 예와는 달리, 시간적으로 연속하는 4개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 2개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하는 예를 나타낸다.

도 14에 나타내는 예에서는, j 필드, j+2 필드, j+4 필드, …를 특정셀 초기화 필드로 하고, j+1 필드, j+3 필드, j+5 필드, …를 비초기화 필드로 한다.

그리고, 예컨대 주사 전극 SCi, 주사 전극 SCi+1로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+2 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 한다.

예컨대, 이러한 구성이더라도, 상술한 규칙에 따라, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 수 있다.

또, 도 12, 도 13, 도 14에서는, 특정셀 초기화 필드와 비초기화 필드를 교대로 발생시키는 구성을 설명했지만, 본 발명은 조금도 이 구성에 한정되는 것이 아니다. 하나의 필드군에 있어서, 특정셀 초기화 필드의 발생수와 비초기화 필드의 발생수가 서로 다르더라도 괜찮다.

도 15는 본 발명의 실시의 형태 2의 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

도 15에는, 시간적으로 연속하는 6개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 4개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하고, 또한, 특정셀 초기화 필드의 발생수가 비초기화 필드의 발생수보다 많은 예를 나타낸다.

도 15에 나타내는 예에서는, j 필드, j+1 필드, j+3 필드, j+4 필드, …를 특정셀 초기화 필드로 하고, j+2 필드, j+5 필드, j+8 필드, …를 비초기화 필드로 한다.

그리고, 예컨대 주사 전극 SCi~주사 전극 SCi+3으로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+1 필드에서는 주사 전극 SCi+2로 하고, j+3 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 하고, j+4 필드에서는 주사 전극 SCi+3으로 한다.

예컨대, 이러한 구성이더라도, 상술한 규칙에 따라, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 수 있다.

도 16은 본 발명의 실시의 형태 2의 특별 초기화 서브필드의 초기화 기간에 있어서의 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형의 발생 패턴의 또 다른 일례를 나타내는 개략도이다.

도 16에는, 시간적으로 연속하는 6개의 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 배치적으로 연속하는 2개의 주사 전극(22)으로 하나의 주사 전극군을 구성하고, 또한, 특정셀 초기화 필드의 발생수가 비초기화 필드의 발생수보다 적은 예를 나타낸다.

도 16에 나타내는 예에서는, j 필드, j+3 필드, j+6 필드, …를 특정셀 초기화 필드로 하고, j+1 필드, j+2 필드, j+4 필드, j+5 필드, …를 비초기화 필드로 한다.

그리고, 예컨대 주사 전극 SCi, 주사 전극 SCi+1로 이루어지는 주사 전극군에 관해서는, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)을, j 필드에서는 주사 전극 SCi로 하고, j+3 필드에서는 주사 전극 SCi+1로 한다.

예컨대, 이러한 구성이더라도, 상술한 규칙에 따라, 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시킬 수 있다.

이상 나타낸 바와 같이, 본 실시의 형태에서는, 하나의 필드군을, 특정셀 초기화 서브필드 및 복수의 선택 초기화 서브필드를 갖는 초기화 필드와, 전체셀 비초기화 서브필드 및 복수의 선택 초기화 서브필드를 갖는 비초기화 필드로 구성하는 것으로 한다. 그리고, 하나의 주사 전극(22)에 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 필드군에서 1회로 한다. 또한, 특별 초기화 서브필드에 있어서, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 하나의 주사 전극군에서 1개 또는 0개로 한다. 즉, 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 수를, 특정셀 초기화 서브필드에서는 각 주사 전극군에서 각각 1개로 하고, 전체셀 비초기화 서브필드에서는 각 주사 전극군에서 각각 0개로 한다. 또한, 특별 초기화 서브필드(특정셀 초기화 서브필드)에 있어서 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극(22)의 양측의 주사 전극(22)에는, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드(특정셀 초기화 서브필드, 또는 전체셀 비초기화 서브필드)의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 비초기화 파형을 인가하는 것으로 한다. 이러한 규칙에 따라 강제 초기화 파형 및 비초기화 파형을 발생시키는 구성으로 함으로써, 강제 초기화 동작을 행하는 빈도를 저감했을 때에 발생하기 쉬운 플리커나 선형 노이즈를 저감하면서, 패널(10)에 표시되는 화상의 흑휘도를 더 저감하여, 보다 콘트라스트를 높이는 것이 가능해진다.

또, 초기화 방전에 의해 방전셀 내에 형성되는 벽전하는, 시간이 경과함에 따라 서서히 감소하여 가고, 초기화 방전이 발생하지 않는 기간이 길어질수록, 그 감소량은 증가한다. 따라서, 초기화 방전이 발생하지 않는 기간이 너무 길어지면, 기입 동작이 정상적으로 행해지지 않게 될 가능성이 있다. 그 때문에, 상술한 실시의 형태 1, 2에 있어서, 예컨대 60 필드/초로 갱신되는 화상을 표시할 때에는, 하나의 필드군을 구성하는 필드의 수를 20 이하로 하고, 적어도 20 필드에 1회는 반드시 모든 방전셀에 초기화 방전이 발생하도록 구성하는 것이 바람직하다.

또, 도 6에 나타낸 타이밍 차트는 본 발명의 실시의 형태에 있어서의 일례를 나타낸 것에 지나지 않고, 본 발명은 조금도 이들의 타이밍 차트에 한정되는 것이 아니다.

또한, 본 발명에 있어서의 실시의 형태는, 주사 전극 SC1~주사 전극 SCn을 제 1 주사 전극 그룹과 제 2 주사 전극 그룹으로 분할하고, 기입 기간을, 제 1 주사 전극 그룹에 속하는 주사 전극의 각각에 주사 펄스를 인가하는 제 1 기입 기간과, 제 2 주사 전극 그룹에 속하는 주사 전극의 각각에 주사 펄스를 인가하는 제 2 기입 기간으로 구성하는, 이른바 2상 구동에 의한 패널의 구동 방법에도 적용시킬 수 있다.

또, 본 발명에 있어서의 실시의 형태는, 주사 전극과 주사 전극이 이웃하고, 유지 전극과 유지 전극이 이웃하는 전극 구조, 즉 전면판에 마련되는 전극의 배열이, 「…, 주사 전극, 주사 전극, 유지 전극, 유지 전극, 주사 전극, 주사 전극, …」이 되는 전극 구조의 패널에 있어서도 유효하다.

또, 본 실시의 형태에 있어서 나타낸 구체적인 각 수치, 예컨대, 상승 램프 전압 L1, 하강 램프 전압 L2, 소거 램프 전압 L3의 각 경사 전압의 기울기 등은 표시 전극쌍수 1080의 50인치의 패널의 특성에 근거하여 설정한 것으로서, 단지 실시의 형태의 일례를 나타낸 것에 불과하다. 본 발명은 이들의 수치에 조금도 한정되는 것이 아니고, 패널의 특성이나 플라즈마 디스플레이 장치의 사양 등에 맞춰 최적으로 설정하는 것이 바람직하다. 또한, 이들의 각 수치는, 상술한 효과를 얻을 수 있는 범위에서의 격차를 허용하는 것으로 한다.

(산업상이용가능성)

본 발명은, 패널에 표시되는 화상의 흑휘도를 저감하여 콘트라스트를 높여, 화상 표시 품질을 높일 수 있기 때문에, 패널의 구동 방법 및 플라즈마 디스플레이 장치로서 유용하다.

1 : 플라즈마 디스플레이 장치
10 : 패널(플라즈마 디스플레이 패널)
21 : 전면판
22 : 주사 전극
23 : 유지 전극
24 : 표시 전극쌍
25, 33 : 유전체층
26 : 보호층
31 : 배면판
32 : 데이터 전극
34 : 격벽
35 : 형광체층
41 : 화상 신호 처리 회로
42 : 데이터 전극 구동 회로
43 : 주사 전극 구동 회로
44 : 유지 전극 구동 회로
45 : 타이밍 발생 회로
50 : 유지 펄스 발생 회로
51 : 초기화 파형 발생 회로
52 : 주사 펄스 발생 회로
53, 54, 55 : 밀러 적분 회로
Q1, Q2, Q3, Q4, Q5, Q6, QH1~QHn, QL1~QLn : 스위칭 소자
C1, C2, C3, C31 : 콘덴서
Di31 : 다이오드
R1, R2, R3 : 저항
L1 : 상승 램프 전압
L2, L4 : 하강 램프 전압
L3 : 소거 램프 전압

Claims (7)

1. 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 플라즈마 디스플레이 패널을, 초기화 기간과 기입 기간과 유지 기간을 갖는 서브필드를 1 필드 내에 복수 마련하여 계조 표시하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법으로서,
   상기 초기화 기간에, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 상기 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 파형과, 직전의 서브필드의 상기 유지 기간에 유지 방전이 발생한 상기 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 파형과, 상기 방전셀에 초기화 방전이 발생하지 않는 비초기화 파형 중 어느 하나를 상기 주사 전극에 인가함과 아울러,
   상기 초기화 기간에 상기 강제 초기화 파형 또는 상기 비초기화 파형을 선택적으로 상기 주사 전극에 인가하는 특별 초기화 서브필드와, 상기 초기화 기간에 상기 선택 초기화 파형을 모든 상기 주사 전극에 인가하는 복수의 선택 초기화 서브필드로 하나의 필드를 구성하고,
   시간적으로 연속하는 복수의 상기 필드로 하나의 필드군을 구성함과 아울러, 각각의 상기 주사 전극에 상기 강제 초기화 파형을 인가하는 횟수를 하나의 상기 필드군에서 1회로 하고,
   상기 특별 초기화 서브필드에 있어서 상기 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극의 양측의 주사 전극에, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 상기 비초기화 파형을 인가하는
   것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
   
2. 제 1 항에 있어서,
   배치적으로 연속하는 복수의 상기 주사 전극으로 하나의 주사 전극군을 구성함과 아울러,
   하나의 상기 특별 초기화 서브필드에 있어서, 상기 강제 초기화 파형을 인가하는 상기 주사 전극의 수를, 각각의 상기 주사 전극군에서 1 또는 0으로 하는
   것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
   
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 특별 초기화 서브필드를, 상기 초기화 기간에 있어서 소정의 주사 전극에 상기 강제 초기화 파형을 인가하고, 다른 주사 전극에 상기 비초기화 파형을 인가하는 특정셀 초기화 서브필드와, 상기 초기화 기간에 상기 비초기화 파형을 모든 상기 주사 전극에 인가하는 전체셀 비초기화 서브필드 중 어느 하나로 설정함과 아울러,
   상기 필드군을, 상기 특정셀 초기화 서브필드 및 복수의 상기 선택 초기화 서브필드를 갖는 초기화 필드와, 상기 전체셀 비초기화 서브필드 및 복수의 상기 선택 초기화 서브필드를 갖는 비초기화 필드로 구성한
   것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
   
4. 제 3 항에 있어서,
   상기 초기화 필드와 상기 비초기화 필드가 교대로 발생하도록 상기 필드군을 구성한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
   
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   하나의 상기 필드군을 구성하는 상기 필드의 수를 20 이하로 설정한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 구동 방법.
   
6. 초기화 기간과 기입 기간과 유지 기간을 갖는 서브필드를 1 필드 내에 복수 마련하여 계조 표시하는 서브필드법으로 구동함과 아울러 특별 초기화 서브필드와 복수의 선택 초기화 서브필드로 하나의 필드를 구성하고, 시간적으로 연속하는 복수의 상기 필드로 하나의 필드군을 구성하여 구동하고, 주사 전극과 유지 전극으로 이루어지는 표시 전극쌍을 갖는 방전셀을 복수 구비한 플라즈마 디스플레이 패널과,
   상기 초기화 기간에, 직전의 서브필드의 동작에 관계없이 상기 방전셀에 초기화 방전을 발생시키는 강제 초기화 파형과, 직전의 서브필드의 상기 유지 기간에 유지 방전이 발생한 상기 방전셀에만 초기화 방전을 발생시키는 선택 초기화 파형과, 상기 방전셀에 초기화 방전이 발생하지 않는 비초기화 파형 중 어느 하나를 상기 주사 전극에 인가함과 아울러, 상기 특별 초기화 서브필드의 상기 초기화 기간에서는, 상기 강제 초기화 파형 또는 상기 비초기화 파형을 선택적으로 상기 주사 전극에 인가하고, 상기 선택 초기화 서브필드의 상기 초기화 기간에서는 상기 선택 초기화 파형을 모든 상기 주사 전극에 인가하고, 하나의 상기 주사 전극에 하나의 상기 필드군에서 1회만 상기 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극 구동 회로
   를 구비하고,
   상기 주사 전극 구동 회로는, 상기 특별 초기화 서브필드에 있어서 상기 강제 초기화 파형을 인가하는 주사 전극의 양측의 주사 전극에는, 그 특별 초기화 서브필드와, 그 특별 초기화 서브필드의 뒤의 최초의 특별 초기화 서브필드의 적어도 2개의 특별 초기화 서브필드에서 상기 비초기화 파형을 인가하는 구동 파형의 발생 패턴을 1 필드군에 적어도 하나 포함하여 구동 파형을 발생시키는
   것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.
   
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 주사 전극 구동 회로는, 상승하는 경사 전압을 발생시키는 경사 전압 발생 회로를 갖고,
   상기 경사 전압 발생 회로가 출력하는 경사 전압에 소정의 전압을 중첩한 전압을 상기 강제 초기화 파형으로서 출력하고,
   상기 소정의 전압을 중첩하지 않은 상기 경사 전압을 상기 비초기화 파형으로서 출력하는
   것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 장치.

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