KR101126634B1 - An Apparatus for Preparation of Patterns for Nano/Micro Fluidic Channel and Preparation Methods Using Thereof - Google Patents

An Apparatus for Preparation of Patterns for Nano/Micro Fluidic Channel and Preparation Methods Using Thereof Download PDF

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Abstract

본 발명은 내부에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워져 있고, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 토출하는 디스펜싱 헤드유닛(10); 및 상기 디스펜싱 헤드유닛(10)이 장착되어 연결설치되되, 상기 디스펜싱 헤드유닛(10) 내부의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 일정하게 토출시키는 구동력을 제공하는 동시에 상기 디스펜싱 헤드유닛을 x, y 좌표로 이동시켜 소정 프로그램에 따라 자동으로 기판(16) 상에 패턴(18)을 형성시키는 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치에 관한 것이다.The present invention is a dispensing head unit 10 is filled with the composition for forming the pattern of the nano / micro prudic channel, and discharging the composition for forming the pattern of the nano / micro prudic channel; And the dispensing head unit 10 is mounted and connected to the dispensing head unit 10, and provides a driving force to constantly discharge the composition for forming a pattern of the nano / micro prudential channel inside the dispensing head unit 10. The present invention relates to a pattern manufacturing apparatus for a nano / micro prudential channel including a computer numerical control dispenser which moves the head unit to x, y coordinates and automatically forms the pattern 18 on the substrate 16 according to a predetermined program.

나노, 마이크로, 프루딕 채널, 조성물, 디스펜서, 컴퓨터 수치제어 디스펜서, CNC Nano, Micro, Prudic Channel, Composition, Dispenser, Computer Numerical Control Dispenser, CNC

Description

나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치 및 이를 이용한 패턴 제조방법{An Apparatus for Preparation of Patterns for Nano/Micro Fluidic Channel and Preparation Methods Using Thereof}An Apparatus for Preparation of Patterns for Nano / Micro Fluidic Channel and Preparation Methods Using Thereof}

본 발명은 나노/마이크로 프루딕 채널(Nano/Micro Fluidic Channel)의 패턴 제조장치 및 이를 이용한 패턴 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 설정된 프로그램에 따라 작동하는 컴퓨터 수치제어 디스펜서(dispenser)에 탑재된 디스펜싱 헤드유닛 내의 광 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자가 기판에 분사되어 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조하기 위한 패턴을 형성하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치 및 이를 이용한 패턴 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a device for manufacturing a pattern of a nano / micro fluidic channel (Nano / Micro Fluidic Channel) and a pattern manufacturing method using the same, and more particularly, is mounted on a computer numerical control dispenser operating according to a set program Regarding a pattern manufacturing apparatus of a nano / micro prudic channel in which a photocurable resin and a nano / micro particle in a dispensing head unit are sprayed onto a substrate to form a pattern for manufacturing a nano / micro prudic channel, and a pattern manufacturing method using the same will be.

일반적으로 마이크로미터 이하의 크기를 갖는 입자 또는 수 마이크로미터의 폭과 길이를 갖는 물질의 원활한 이동 및 분리를 위하여 많은 시도가 이루어지고 있다.In general, many attempts have been made for the smooth movement and separation of particles having a submicron size or materials having a width and length of several micrometers.

특히, 유체 내의 마이크로미터 급 또는 마이크로미터 이하 급 미세입자를 분 리하는 기술은 공기 내 존재하는 미세 먼지나 유해 박테리아 등을 필터링하는 공기정화기술, 물속의 미세화학 물질, 유해 생체물질 등을 필터링하는 정수기술, 혈액 내 혈구세포를 분리하는 기술 등 다양한 필터링 분야에 사용 가능하다.In particular, the technology for separating micrometer-level or sub-micrometer-level microparticles in a fluid is an air purification technology that filters fine dust or harmful bacteria in the air, microchemicals in water, and harmful biomaterials. It can be used in various filtering fields such as water purification technology and technology to separate blood cells in blood.

이를 위해 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 프루딕 채널, 즉 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조하여 미세입자 등을 분리할 수 있는바, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조하기 위해서는 사진 식각법이나 PDMS(polydimethylsiloxane) 몰드를 이용하고 있다. To this end, nanometer or micrometer-sized prudic channels, that is, nano / micro prudic channels can be prepared to separate microparticles and the like. In order to manufacture the nano / micro prudic channels, photo etching or PDMS ( polydimethylsiloxane) mold is used.

전술한 사진 식각법 및 PDMS 몰드를 이용한 방법 모두는 나노/마이크로 프루딕 채널 제조공정이 복잡하여 공정 소요시간 및 소요비용이 증가하는 문제점이 있다.Both the photolithography method and the method using the PDMS mold have a problem in that the process time and cost increase due to the complexity of the nano / micro prudential channel manufacturing process.

또한, 원하는 구조를 갖는 다양한 유로를 정밀하게 제조하기 곤란하다.In addition, it is difficult to precisely manufacture various flow paths having a desired structure.

또한, 광 경화성 수지 및 미세입자가 혼합된 용액을 수작업으로 프루딕 채널을 구성하는 기판(하판)에 미세한 패턴을 형성하여야 하므로 형성되는 미세패턴의 정밀도 및 재현성이 낮다는 문제점이 있다.In addition, since a fine pattern is formed on the substrate (lower plate) constituting the prudic channel by manually mixing the solution containing the photocurable resin and the fine particles, there is a problem in that the precision and reproducibility of the formed fine pattern are low.

이러한 문제점을 극복하기 위해서 상기 프루딕 채널, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴을 형성하기 위한 자동화 장치를 개발하는 것이 필요한바, 이를 위해 도 2에 도시된 바와 같이, 통상적으로 사용되는 컴퓨터 수치제어(computer numerical control; CNC) 디스펜서를 채택하여 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조하기 위한 미세패턴(18)을 형성시킬 수 있다.In order to overcome this problem, it is necessary to develop an automated device for forming the pattern of the prudic channel, in particular, the nano / micro prudential channel, and as shown in FIG. A computer numerical control (CNC) dispenser may be employed to form the micropattern 18 for manufacturing nano / micro prudential channels.

하지만, 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 이용하여 나노/마이크로 프루딕 채널의 기판(하판), 특정적으로 베이스 기판에 미세패턴을 형성하기 위해서는 광 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자가 혼합된 용액을 일정하게 공급할 수 있는 공급장치로서 디스펜싱 헤드유닛이 구비되어야 한다.However, in order to form a micropattern on the substrate (lower plate) of the nano / micro prudential channel, and specifically the base substrate using the computer numerical control dispenser, a solution in which the photocurable resin and the nano / micro particles are mixed may be constantly supplied. Dispensing head units should be provided as possible feeders.

그러나 상기 디스펜싱 헤드유닛은 수작업에서 미세패턴을 형성시키는 디스펜싱 헤드를 직접 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 적용할 수 없으므로, 이러한 적용의 곤란성을 극복하는 것이 필요하다.However, since the dispensing head unit cannot directly apply a dispensing head for forming a fine pattern by hand to a computer numerical control dispenser, it is necessary to overcome the difficulty of such application.

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로서, 복잡한 구조의 나노/마이크로 프루딕 채널, 즉 나노/마이크로 프루딕 체널을 제조하기 위해 베이스 기판 상에 패턴을 자동으로 형성시키고자 하는 것에 해결하고자 하는 과제가 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention was derived to solve the above-mentioned problems, and is intended to solve the problem of automatically forming a pattern on a base substrate to manufacture a nano / micro prudic channel having a complex structure, that is, a nano / micro prudic channel. There is a task to do.

특히, 본 발명은 컴퓨터 수치제어(CNC)로 자동 디스펜싱하여 기판 상에 패턴을 형성시킬 수 있도록 하는 것에 해결하고자 하는 과제가 있다.In particular, the present invention has a problem to be solved by enabling automatic dispensing by computer numerical control (CNC) to form a pattern on a substrate.

한 가지 관점에서, 본 발명은 내부에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워져 있고, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 토출하는 디스펜싱 헤드유닛; 및 In one aspect, the present invention is a dispensing head unit is filled with a composition for forming the pattern of the nano / micro prudential channel, the discharging head unit for discharging the composition for forming the pattern of the nano / micro prudic channel; And

상기 디스펜싱 헤드유닛이 장착되어 연결설치되되, 상기 디스펜싱 헤드유닛 내부의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 일정하게 토출시키는 구동력을 제공하는 동시에 상기 디스펜싱 헤드유닛을 x, y 좌표로 이동시켜 소정 프로그램에 따라 자동으로 기판 상에 패턴을 형성시키는 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치을 제공하는 것에 과제 해결 수단이 있다.The dispensing head unit is mounted and connected to the dispensing head unit, and provides a driving force for constantly discharging the composition for forming a pattern of the nano / micro prudential channel inside the dispensing head unit, and at the same time, the dispensing head unit has an x and y coordinate. There is a problem solving means to provide a device for producing a pattern of nano / micro prudential channels, including a computer numerical control dispenser, which moves to and automatically forms a pattern on a substrate according to a predetermined program.

다른 관점에서, 본 발명은 컴퓨터 수치제어 디스펜서가 기판의 표면에 원하 는 패턴을 형성하도록 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 프로그램하는 단계;In another aspect, the present invention includes the steps of programming the computer numerical dispenser such that the computer numerical dispenser forms a desired pattern on the surface of the substrate;

컴퓨터 수치제어 디스펜서의 디스펜싱 헤드유닛에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 채우는 단계;Filling the dispensing head unit of the computer numerical control dispenser with the composition for pattern formation of the nano / micro prudential channel;

컴퓨터 수치제어 디스펜서에 기판을 장착한 후 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 작동시켜 디스펜싱 헤드유닛의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 소정 프로그램에 따라 기판의 상단에 토출함으로써 기판에 원하는 패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법을 제공하는 것에 과제 해결 수단이 있다.After mounting the substrate on the computer numerical control dispenser, the computer numerical control dispenser is operated to discharge the desired pattern on the substrate by discharging the composition for forming the pattern of the nano / micro prudential channel of the dispensing head unit on the top of the substrate according to a predetermined program. There is a problem solving means to provide a method for producing a pattern of nano / micro prudential channel comprising the step of forming.

본 발명에 의하면, 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 입자를 이용하여 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴을 형성함으로써, 원하는 형태로 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 프루딕 채널을 용이하게 제조할 수 있는 효과가 있다.According to the present invention, by forming a pattern of nano / micro pruddy channel using nanometer or micrometer size particles, it is possible to easily produce a nanometer or micrometer size prudic channel in a desired shape have.

본 발명은 컴퓨터 수치제어를 이용한 디스펜서, 즉 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 적합한 디스펜싱 헤드장치를 적용하여 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조하기 위한 기판 상에 패턴을 신속하고 정확하게 원하는 구조의 유로를 형성시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention can apply a dispensing head device suitable for a computer numerical control dispenser, that is, a computer numerical control dispenser, to form a flow path having a desired structure quickly and accurately on a substrate for manufacturing nano / micro prudential channels. It has an effect.

본 발명은 별도의 동력원 및 고가의 장비 없이, 간단하면서도 경제적으로 신속하게 다량의 미세입자를 분리 및/또는 이동할 수 있는 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조할 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect of producing a nano / micro prudic channel capable of separating and / or moving a large amount of microparticles quickly and simply, without a separate power source and expensive equipment.

한 가지 관점에서, 본 발명은 내부에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워져 있고, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 토출하는 디스펜싱 헤드유닛; 및 상기 디스펜싱 헤드유닛이 장착되어 연결설치되되, 상기 디스펜싱 헤드유닛 내부의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 일정하게 토출시키는 구동력을 제공하는 동시에 상기 디스펜싱 헤드유닛을 x, y 좌표로 이동시켜 소정 프로그램에 따라 자동으로 기판 상에 패턴을 형성시키는 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치을 제공한다.In one aspect, the present invention is a dispensing head unit is filled with a composition for forming the pattern of the nano / micro prudential channel, the discharging head unit for discharging the composition for forming the pattern of the nano / micro prudic channel; And the dispensing head unit is mounted and connected to the dispensing head unit, and provides a driving force for constantly discharging the composition for forming a pattern of the nano / micro prudential channel inside the dispensing head unit and simultaneously discharging the dispensing head unit x, y. Provided is a nano / micro prudential channel pattern manufacturing apparatus including a computer numerical control dispenser which moves to coordinates and automatically forms a pattern on a substrate according to a predetermined program.

다른 관점에서, 본 발명은 컴퓨터 수치제어 디스펜서가 기판의 표면에 원하는 패턴을 형성하도록 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 프로그램하는 단계; 컴퓨터 수치제어 디스펜서의 디스펜싱 헤드유닛에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 채우는 단계; 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 기판을 장착한 후 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 작동시켜 디스펜싱 헤드유닛의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 소정 프로그램에 따라 기판의 상단에 토출함으로써 기판에 원하는 패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a method comprising the steps of: programming the computer numerical dispenser such that the computer numerical dispenser forms a desired pattern on the surface of the substrate; Filling the dispensing head unit of the computer numerical control dispenser with the composition for pattern formation of the nano / micro prudential channel; After mounting the substrate on the computer numerical control dispenser, the computer numerical control dispenser is operated to discharge the desired pattern on the substrate by discharging the composition for forming the pattern of the nano / micro prudential channel of the dispensing head unit on the top of the substrate according to a predetermined program. It provides a method for producing a pattern of nano / micro prudic channel comprising the step of forming.

본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널(Nano/Micro Fluidic Channel)은 유체(fluid) 내에 포함된 나노미터 또는 마이크로미터 단위의 미세입자를 분리하거나, 이동하는 경로를 제공한다.The nano / micro fluidic channel according to the present invention provides a path for separating or moving microparticles in nanometer or micrometer units contained in a fluid.

특히, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널은 나노미터 또는 마이크로미터 단위의 폭(높이)을 갖는 채널이 구비되어 유체 내에 포함된 입자를 분리 또는 유체가 이동하는 경로를 제공하기 위한 것으로서, 이러한 목적을 위한 당업계의 통상적인 나노/마이크로 프루딕 채널이라면 어떤 것이라도 본 발명의 나노/마이크로 프루딕 채널에 해당된다.In particular, the nano / micro prudential channel is provided with a channel having a width (height) in nanometer or micrometer unit to provide a path for separating or moving particles contained in the fluid. Any conventional nano / micro prudic channel in the art corresponds to the nano / micro prudic channel of the present invention.

이때, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널 중 모세관 현상에 의해 유체의 유입이 이루어질 수 있도록 구성되어 유체 내 미세입자를 분리할 수 있는 채널을 특정적으로 케피러리 채널(Capillary Channel)이라 할 수 있다.At this time, the inflow of the fluid by the capillary phenomenon of the nano / micro prudic channel is a channel capable of separating the fine particles in the fluid may be specifically referred to as a capillary channel (Capillary Channel).

또한, 본 발명에서 사용되는 용어 "나노/마이크로 프루딕 채널"의 '나노/마이크로'는 유체가 통과하는 채널의 크기(폭)가 나노미터 또는 마이크로미터인 것을 나타낸다.In addition, the term "nano / micro" of the term "nano / micro prudential channel" used in the present invention indicates that the size (width) of the channel through which the fluid passes is nanometer or micrometer.

특정 양태로서, 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널은 기판, 특정적으로 베이스 기판(하판); 상기 베이스 기판 위에 적어도 하나 이상 적층된 상판; 및 상기 베이스 기판과 상판 사이에 간격을 형성하는 패턴을 포함한다.In a particular embodiment, the nano / micro prudential channel according to the invention comprises a substrate, in particular a base substrate (bottom plate); At least one top plate laminated on the base substrate; And a pattern forming a gap between the base substrate and the top plate.

이때, 상기 패턴은 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조하기 위해 형성된 것으로서, 상기 기판 상에 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 사용자의 선택에 따라 원하는 형태로 채널을 형성한 후 경화, 바람직하게는 광, 열 또는 수분을 이용하여 경화시켜 제조되며, 그 높이가 나노/마이크로 프루딕 채널의 높이를 결정하게 된다.In this case, the pattern is formed to manufacture a nano / micro prudyk channel, the composition for forming a pattern on the substrate, specifically the composition for forming a pattern of the nano / micro prudic channel in a desired form according to the user's choice The channel is formed and then cured, preferably cured using light, heat or moisture, the height of which determines the height of the nano / micro prudential channel.

특히, 본 발명에서 상기 패턴은 경화된 또는 경화되지 않은 상태의 패턴 형성용 조성물이 기판상에 특정 채널의 모양으로 형성된 것 모두를 의미한다. In particular, in the present invention, the pattern means both the cured or uncured pattern forming composition is formed in the shape of a specific channel on the substrate.

또한, 상기 베이스 기판 위에 적층되는 상판은 1 또는 2 이상이 적층될 수 있으며 적층시 각 층의 간격은 각층에 사용되는 패턴의 크기(높이)에 따라 달리할 수 있다. 이로써, 보다 많은 양의 프루드를 한 번에 이동 또는 필터링할 수 있다.In addition, one or two or more top plates stacked on the base substrate may be stacked, and the interval of each layer may be varied depending on the size (height) of the pattern used for each layer. This allows you to move or filter a larger amount of proof at once.

상기 베이스 기판 및 상판의 소재는 특별히 제한되는 것은 아니며, 예를 들면 유리, 석영 및 플라스틱 중 선택되어진 1종 이상이 사용될 수 있다.The material of the base substrate and the top plate is not particularly limited, and for example, one or more selected from glass, quartz and plastic may be used.

특히, 상기 패턴은 베이스 기판 및 상판 사이 또는 상판과 그 위에 적층되는 다른 상판 사이에 일정 간격을 형성하는 것을 의미하며, 기판 상에 형성된 상기 패턴은 광, 열 또는 수분에 의해 경화될 수 있다.In particular, the pattern means to form a predetermined gap between the base substrate and the top plate or between the top plate and another top layer stacked thereon, the pattern formed on the substrate can be cured by light, heat or moisture.

또한, 패턴의 높이에 의해 형성된 간격은 특정하게 한정되는 것은 아니지만, 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물에 포함된 나노/마이크로 입자의 크기에 따라 변경 또는 제어될 수 있다. In addition, the spacing formed by the height of the pattern is not particularly limited, but may be changed or controlled according to the size of the nano / micro particles included in the pattern forming composition of the nano / micro prudential channel.

상기 패턴은 베이스 기판 및 상판 사이에 공간을 형성하는 것이라면 어느 것을 사용하여도 무방하나, 광 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자의 혼합물로 이루어지는 패턴 형성용 조성물의 경화, 특정적으로 광경화에 의해 형성된 것이 바람직하다.The pattern may be used as long as it forms a space between the base substrate and the top plate, but may be formed by curing of a pattern forming composition comprising a mixture of a photocurable resin and nano / micro particles, particularly by photocuring. desirable.

여기서, 상기 기판에 형성된 패턴은 직선, 곡선, 원형 또는 이들이 조합된 어떠한 형태로 형성되어도 무방하다.Here, the pattern formed on the substrate may be formed in any form of a straight line, curve, circle or a combination thereof.

이상과 같이, 상기 패턴은 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널의 패 턴 형성용 조성물에 의해 기판상에 형성되고, 추후 상판과 합치된 후 광, 열 또는 수분에 의한 경화에 의해 최종적인 나노/마이크로 푸루딕 채널을 형성하게 된다. As described above, the pattern is formed on the substrate by the pattern forming composition of the nano / micro prudytic channel according to the present invention, and after final matching with the top plate, the final nano by curing by light, heat or moisture It will form a micro-pludic channel.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 대하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 그러나 하기의 설명은 오로지 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로 하기 설명에 의해 본 발명의 범위를 한정하는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following description is only for the purpose of specifically describing the present invention, and the scope of the present invention is not limited by the following description.

도 1은 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널이 형성된 기판을 나타내는 도, 도 2는 본 발명에 따른 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 나타내는 도, 도 3은 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛을 나타내는 구성도, 도 4는 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛의 몸체를 나타내는 도, 도 5는 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛의 캡을 나타내는 도, 도 6은 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛의 주입수단을 나타내는 도로서 함께 설명한다.1 is a view showing a substrate on which a nano / micro prudic channel is formed according to the present invention, FIG. 2 is a view showing a computer numerical control dispenser according to the present invention, Figure 3 is a block diagram showing a dispensing head unit according to the present invention 4 is a view showing the body of the dispensing head unit according to the present invention, FIG. 5 is a view showing the cap of the dispensing head unit according to the present invention, Figure 6 is a dispensing means of the dispensing head unit according to the present invention It demonstrates together as the figure which shows.

도 1 내지 도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치는 내부에 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워져 있고, 상기 패턴 형성용 조성물을 토출하는 디스펜싱 헤드유닛(10); 및 상기 디스펜싱 헤드유닛(10)이 장착되어 연결설치되되, 상기 디스펜싱 헤드유닛(10) 내부의 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 푸루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 일정하게 토출시키는 구동력을 제공하는 동시에 상기 디스펜싱 헤드유닛(10)을 x, y 좌표로 이동시켜 소정 프로그램에 따라 자동으로 기판(16)상에 패턴(18)을 형성시키는 컴퓨터 수치제어 디스펜서로 구성된다.As shown in Figures 1 to 6, the pattern manufacturing apparatus of the nano / micro prudic channel according to the present invention is filled with a composition for forming a pattern, specifically, a composition for forming a pattern of nano / micro prudic channel Dispensing head unit 10 for discharging the composition for forming the pattern; And the dispensing head unit 10 is mounted and connected to the dispensing head unit 10 to discharge the pattern forming composition inside the dispensing head unit 10, specifically, the pattern forming composition of the nano / micro purulic channel. It is composed of a computer numerical control dispenser which provides the driving force and simultaneously moves the dispensing head unit 10 to x and y coordinates to automatically form the pattern 18 on the substrate 16 according to a predetermined program.

본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛(10)은 그 내부에 기판(16)에 패턴(18)을 형성한 후 광 경화에 의해 나노/마이크로 프루딕 채널의 유로를 형성시키는 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워져 있고, 별도의 구동력에 의해 상기 패턴 형성용 조성물이 일정하게 토출된다.Dispensing head unit 10 according to the present invention is a pattern forming composition for forming a flow path of the nano / micro prudic channel by forming a pattern 18 in the substrate 16 therein by light curing, specific The composition for pattern formation of nano / micro prudential channel is filled, and the said composition for pattern formation is discharged by a separate driving force.

여기서, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물은 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자의 혼합물로 이루어지는 것이 바람직하다. Here, it is preferable that the composition for pattern formation of the nano / micro prudential channel is made of a mixture of a curable resin and nano / micro particles.

본 발명의 경화성 수지는 광, 열 또는 수분에 의해 경화되는 점착성 조성물을 의미하며, 본 발명에 따른 경화성 수지는 (a) 베이스 수지, (b) 반응성 모노머 및 (c) 중합 개시제를 포함할 수 있다.The curable resin of the present invention means an adhesive composition that is cured by light, heat, or moisture, and the curable resin according to the present invention may include (a) a base resin, (b) a reactive monomer, and (c) a polymerization initiator. .

특정 양태로서 상기 경화성 수지가 광, 예를 들면 자외선 경화하는 경우, 본 발명에 따른 경화성 수지는 (a) 베이스 수지, (b) 반응성 모노머 및 (c) 광중합 개시제를 포함한다.In a particular embodiment, when the curable resin is photocured, for example ultraviolet cured, the curable resin according to the invention comprises (a) a base resin, (b) a reactive monomer and (c) a photopolymerization initiator.

여기서, 상기 광 경화하는 경화성 수지의 (a) 베이스 수지는 불포화 폴리에스테르계 수지 및 아크릴계 수지 등이 사용될 수 있으며, 아크릴계 수지로는 아크릴계 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다.Here, as the (a) base resin of the photocurable curable resin, an unsaturated polyester resin, an acrylic resin, or the like may be used, and an acrylic copolymer is preferably used as the acrylic resin.

상기 아크릴계 공중합체는 ⅰ) 탄소수 1 ～ 12의 알킬기를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르 단량체 90 ～ 99.9 중량부 및아크릴) 90 to 99.9 parts by weight of the (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms;

ⅱ) 가교가능한 관능기를 가지는 비닐계 단량체 및/또는 아크릴계 단량체 0.1 내지 10 중량부를 포함하는 것이 바람직하다.Ii) It is preferred to include 0.1 to 10 parts by weight of a vinyl monomer and / or an acrylic monomer having a crosslinkable functional group.

상기 ⅰ)의 탄소수가 1 ~ 12 의 알킬기를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르 단량체는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필 (메타)아크릴레이트, 이소프로필 (메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, sec-부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소노닐(메타)아크릴레이트 및 벤질 아크릴레이트 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms of (i) is methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate , n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, 2-ethylbutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( Meta) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, benzyl acrylate, etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 탄소수 1 ～ 12의 알킬기를 가지는 (메타)아크릴산 에스테르 단량체는 90 내지 99.9 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 그 함량이 90 중량부 미만인 경우에는 초기접착력이 저하되고, 99.9 중량부를 초과하면 응집력 저하로 내구성에 문제가 발생할 수 있다.The (meth) acrylic acid ester monomer having an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is preferably contained in an amount of 90 to 99.9 parts by weight. When the content is less than 90 parts by weight, the initial adhesive strength is lowered. Problems with durability may occur.

상기 ⅱ)의 가교가능한 관능기를 가지는 비닐계 단량체 및/또는 아크릴계 단량체는 가교제와 반응하여 고온 또는 고습 조건에서 점착제의 응집력 파괴가 일어나지 않도록 화학결합에 의한 응집력 또는 접착강도를 부여하는 작용을 한다.The vinyl monomer and / or the acrylic monomer having the crosslinkable functional group of ii) reacts with the crosslinking agent to impart cohesive force or adhesive strength by chemical bonding so that cohesive breakage of the pressure-sensitive adhesive does not occur under high temperature or high humidity conditions.

상기 가교가능한 관능기를 가지는 비닐계 단량체 및/또는 아크릴계 단량체는 2-하이드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 또는 2-하이드록시프로필렌글리콜 (메타)아크릴레이트와 같은 하이드록시기를 함유하는 단량체 아크릴산, 메타크릴산, 아크릴산 이중체, 이타콘산, 말레인산, 말레인산 무수물, 또는 푸마르산 같은 카르복실기를 함유하는 단량체 또는 아크릴 아미드, N-비닐 피롤리돈, 또는 N-비닐 카프로락탐과 같은 질소를 함유하는 단량체 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The vinyl monomer having a crosslinkable functional group and / or the acrylic monomer may be 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 6- Monomer acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid duplex containing a hydroxyl group such as hydroxyhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethylene glycol (meth) acrylate, or 2-hydroxypropylene glycol (meth) acrylate Or a monomer containing a carboxyl group such as itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, or fumaric acid, or a monomer containing nitrogen such as acrylamide, N-vinyl pyrrolidone, or N-vinyl caprolactam, or a mixture of two or more thereof Can be used.

상기 광 경화하는 경화성 수지의 (b) 반응성 모노머로는 폴리에스테르계 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 등이 사용될 수 있으며, 다관능성 아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다.As the (b) reactive monomer of the photocurable curable resin, polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate and the like may be used, and it is preferable to use a multifunctional acrylate.

상기 다관능성 아크릴레이트의 구체적인 예로는, 1,4-부탄디올 디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜아디페이트(neopentylglycol adipate) 디(메타)아크릴레이트, 히드록시피발산(hydroxyl puivalic acid) 네오펜틸글리콜 디(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(dicyclopentanyl) 디(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디시클로펜테닐 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 디(메타)아크릴레이트, 디(메타)아크릴록시 에틸 이소시아누레이트, 알릴(allyl)화 시클로헥실 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올(메타)아크릴레이트, 디메틸롤 디시클로펜탄 디(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 헥사히드로프탈산 디(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸 디메탄올(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 변성 트리메틸프로판 디(메타)아크릴레이트, 아다만탄(adamantane) 디(메타)아크릴레이트 또는 9,9-비스[4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌(fluorine) 등의 2관능형 트리메틸롤프로판 트리(메타) 아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트리(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시드 변성 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트, 3관능형 우레탄 (메타)아크릴레이트 또는 트리스(메타)아크릴록시에틸이소시아누레이트 등의 3관능형 디글리세린 테트라(메타)아크릴레이트 또는 펜타에리쓰리톨 테트라(메타)아크릴레이트 등의 4관능형 프로피온산 변성 디펜타에리쓰리톨 펜타(메타)아크릴레이트 등의 5관능형 및 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리쓰리톨 헥사(메타)아크릴레이트 또는 우레탄 (메타)아크릴레이트(ex. 이소시아네이트 단량체 및 트리메틸롤프로판 트리(메타)아크릴레이트의 반응물 등)(ex. Kyoeisha(사)의 UA-306I 또는 UA-306T) 등의 6관능형 등을 들 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.Specific examples of the multifunctional acrylate include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth). ) Acrylate, neopentylglycol adipate di (meth) acrylate, hydroxyl puivalic acid neopentylglycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylic Latex, caprolactone modified dicyclopentenyl di (meth) acrylate, ethylene oxide modified di (meth) acrylate, di (meth) acryloxy ethyl isocyanurate, allylated cyclohexyl di (meth) Acrylate, tricyclodecane dimethanol (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane di (meth) acrylate, ethylene oxide modified hexahydrophthalic acid di (meth) acrylate, Cyclodecane dimethanol (meth) acrylate, neopentylglycol modified trimethylpropane di (meth) acrylate, adamantane di (meth) acrylate or 9,9-bis [4- (2-acryloyl Bifunctional trimethylolpropane tri (meth) acrylates such as oxyethoxy) phenyl] fluorene, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid-modified dipentaerythritol tri (meth) acryl Elate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, propylene oxide modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trifunctional urethane (meth) acrylate or tris (meth) acryloxyethyl isocyanurate Tetrafunctional propionic acid modified dipentaerythritol penta (meth) acrylates such as trifunctional diglycerin tetra (meth) acrylate or pentaerythritol tetra (meth) acrylate 5-functional and dipentaerythritol hexa (meth) acrylates, caprolactone modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylates or urethane (meth) acrylates (ex. Isocyanate monomers and trimethylolpropane tri (meth) And a six-functional type such as acrylate reactant) (ex. UA-306I or UA-306T of Kyoeisha Co., Ltd.), but is not limited thereto.

상기와 같은 다관능성 아크릴레이트는 베이스 수지 100 중량부에 대하여, 30 중량부 이하, 바람직하게는 0.05 중량부 내지 30 중량부, 보다 바람직하게는 0.05 중량부 내지 20 중량부의 양으로 점착제 조성물에 포함되는 것이 바람직하다.The polyfunctional acrylate as described above is contained in the pressure-sensitive adhesive composition in an amount of 30 parts by weight or less, preferably 0.05 parts by weight to 30 parts by weight, more preferably 0.05 parts by weight to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the base resin. It is preferable.

상기 광 경화하는 경화성 수지의 (c) 광중합 개시제는 자외선(UV) 조사에 의해 반응을 개시하는 물질로서 다관능성 아크릴레이트의 경화속도 및 황변 특성 등을 고려하여, 그 종류와 함량을 적절히 선택하여 사용하며, 필요에 따라 두 종류 이상의 광중합 개시제를 혼합하여 사용할 수도 있다.(C) The photopolymerization initiator of the curable resin to be photocured is a material that initiates the reaction by ultraviolet (UV) irradiation, taking into consideration the curing rate and yellowing characteristics of the polyfunctional acrylate, and appropriately selecting the type and content thereof. If necessary, two or more types of photopolymerization initiators may be mixed and used.

본 발명에서 사용될 수 있는 광중합 개시제는 특별히 한정되지 않으며, 자외선을 이용한 광중합 개시제의 경우 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테 르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 n-부틸에테르, 벤조인 이소부틸에테르, 아세토페논, 디메틸아니노 아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰포리노-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-2-(히드록시-2-프로필)케톤, 벤조페논, p-페닐벤조페논, 4,4'-디에틸아미노벤조페논, 디클로로벤조페논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-메틸티오잔톤(thioxanthone), 2-에틸티오잔톤, 2-클로로티오잔톤, 2,4-디메틸티오잔톤, 2,4-디에틸티오잔톤, 벤질디메틸케탈, 아세토페논 디메틸케탈, p-디메틸아미노 안식향산 에스테르, 올리고[2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판논] 및 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥시드 등을 사용할 수 있다. 본 발명에서는 상기 중합 개시제를 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator that can be used in the present invention is not particularly limited, and in the case of the photopolymerization initiator using ultraviolet rays, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzo Phosphorus isobutyl ether, acetophenone, dimethylanino acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1 -Phenylpropane-1one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 4- (2-hydroxy Ethoxy) phenyl-2- (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2-ethyl Anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4- D Methyl thioxanthone, benzyldimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylamino benzoic acid ester, oligo [2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanone] and 2, 4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and the like can be used. In this invention, the said polymerization initiator can be used individually or in mixture of 2 or more types.

한편, 본 발명에서 사용되는 광 경화성 수지는 당업자에게 공지된 것이라면 그 어느 것을 선택하여 사용할 수 있으며 앞에 예시한 예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 일실시예로서 시중에서 입수 가능한 NOA(Norland Optical Adhesive), 3M사의 라이트락(Rite-Lok), ThreeBond, Loktite 등을 광 경화성 수지로 사용할 수 있다.On the other hand, the photocurable resin used in the present invention can be used to select any of those known to those skilled in the art and is not limited to the examples illustrated above. As an embodiment of the present invention, commercially available NOA (Norland Optical Adhesive), 3M's Lite-Lok, ThreeBond, Loktite, and the like may be used as the photocurable resin.

다른 특정 양태로서, 상기 경화성 수지가 열 경화하는 경우 본 발명에 따른 경화성 수지는 (a) 베이스 수지, (b) 반응성 모노머 및 (c) 열중합 개시제를 포함한다.In another specific embodiment, when the curable resin is heat cured, the curable resin according to the present invention includes (a) a base resin, (b) a reactive monomer and (c) a thermal polymerization initiator.

여기서, 상기 열경화성 수지는 40℃ 이상, 바람직하게는 40 내지 80℃ 범위의 온도 조건에서 경화되는 것이 바람직하다.Here, the thermosetting resin is preferably cured at a temperature condition of 40 ℃ or more, preferably 40 to 80 ℃ range.

상기 열 경화하는 경화성 수지의 (a) 베이스 수지는 에폭시 수지, 페놀 수지, 아미노 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 아크릴 수지 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.The base resin (a) of the thermosetting curable resin may be an epoxy resin, a phenol resin, an amino resin, a polyvinyl chloride resin, a polystyrene resin, a polyethylene resin, a polypropylene resin, an acrylic resin, or a mixture thereof.

상기 열 경화하는 경화성 수지의 (b) 반응성 모노머로는 2-에틸헥실아크릴레이트, 옥틸데실아크릴레이트, 이소데실아크릴레이트, 트리데실메타아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 스타아릴아크릴레이트, 베헤닐아크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 노닐페놀에톡시레이트모노아크릴레이트, 베타카르복시에틸아크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트, 테트라하이드로퍼푸릴아크릴레이트, 테트라하이드로퍼푸릴메타아크릴레이트, 4-부틸싸이클로헥실아크릴레이트, 디사이클로펜테닐아크릴레이트, 디사이클로펜테닐옥시에틸아크릴레이트, 에톡시레이트드모노아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,6-헥산다이올디메타크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테드라에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 트리에틸렌콜디메타아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디메타아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 에톡시레이티드네오펜틸글리콜디아크릴레이트 등의 2관능 모노머와, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 에톡시레이티드트리아크릴레이트, 프로필레이티드트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 글리세릴프로피레이티드트리아크릴레이트, 트리스(2-하이드로시에틸)이소시아누레이트트리아크릴레이트 등의 3관능 모노머와, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 알콕시레이티드테트라아크릴레이트 등의 다관능 모노머를 하나 또는 그 이상을 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the (b) reactive monomers of the thermosetting curable resin include 2-ethylhexyl acrylate, octyl decyl acrylate, isodecyl acrylate, tridecyl methacrylate, lauryl acrylate, stararyl acrylate and behenyl acryl. Latex, 2-phenoxyethyl acrylate, nonylphenol ethoxylate monoacrylate, beta carboxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 4-butylcyclohexyl Acrylate, dicyclopentenyl acrylate, dicyclopentenyl oxyethyl acrylate, ethoxylate demonoacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, Neopentyl glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tedra Bifunctional monomers such as styrene glycol dimethacrylate, triethylene cold dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, dipropylene glycol diacrylate, and ethoxylated neopentyl glycol diacrylate; , Trimethylol propane triacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, ethoxylated triacrylate, propylated trimethylol propane triacrylate, glyceryl propylated triacrylate, tris It is preferable to use a trifunctional monomer, such as (2-hydroethylethyl) isocyanurate triacrylate, and a polyfunctional monomer, such as pentaerythritol tetraacrylate and an alkoxylated tetraacrylate, in mixture of one or more. Do.

상기 열 경화하는 경화성 수지의 (c) 열중합 개시제는 열에 의해 반응을 개시하는 물질로서 베이스 수지의 경화속도 등을 고려하여, 그 종류와 함량을 적절히 선택하여 사용하며, 필요에 따라 두 종류 이상의 열 경화 개시제를 혼합하여 사용할 수도 있다.(C) The thermal polymerization initiator of the heat curable resin is a material which initiates the reaction by heat, and in consideration of the curing rate of the base resin, the type and content thereof are appropriately selected and used, and two or more kinds of heat may be used as necessary. It is also possible to mix and use a curing initiator.

이러한 열 경화 개시제는 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 4-아세토페닐디메틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸술포늄 헥사플루오로아르세네이트, 디메틸-4-(벤질옥시카르보닐옥시)페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디메틸-4-(벤조일옥시)페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디메틸-4-(벤조일옥시)페닐술포늄 헥사플루오로아르세네이트 및 디메틸-3-클로로-4-아세톡시페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트를 포함하는 알킬술포늄염과, 벤질-4-히드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 벤질-4-히드록시페틸메틸술포늄 헥사플루오로포스페이트, 및 4-메톡시벤질-4-히드록시페틸메틸술포늄 헥사플루오로포스페이트를 포함하는 벤질술포늄염과, 디벤질-4-히드록시페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디벤질-4-히드록시페닐술포늄 헥사플루오로포스페이트, 4-아세톡시페닐디벤질술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디벤질-4-메톡시페닐술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 디벤질-3-클로로-4-히드록시페닐술포늄 헥사플루오로아르세네이트, 디벤질-3-메틸-4-히드록시-5-터셔리-부틸페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 및 벤질-4-메톡시벤질-4-히드록시페닐술포늄 헥사플루오로포스페이트를 포함하는 디벤질술포늄염; p-클로로벤질-4-히드록시페닐메틸수포늄 헥사플루오로안티모네이트, p-니트로벤질-4-히드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로안티모네이트, p-클로로벤질-4-히드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로포스페이트, p-니트로벤질-3-메틸-4-히드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 3,5-디클로로벤질-4-히드록시페닐메틸술포늄 헥사플루오로안티모네이트, 및 o-클로로벤질-3-클로로-4-히드록시페닐메틸술포늄헥사플루오로안티모네이트를 포함하는 치환벤질술포늄염; 3-벤질벤조티아조늄 헥사플루오로안티모네이트, 3-벤질벤조티아조늄헥사플루오로안티모네이트, 3-벤질-2-메틸티오벤조티아조늄 헥사플루오로안티모네이트, 및 3-벤질-5-클로로벤조티아조늄 헥사플루오로안티모네이트를 포함하는 벤질벤조티아조늄염으로 이루어진 군에서 1종 이상 선택될 수 있다.Such a thermal curing initiator is not particularly limited, but preferably 4-acetophenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl-4- (benzyloxycar Bonyloxy) phenylsulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl-4- (benzoyloxy) phenylsulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl-4- (benzoyloxy) phenylsulfonium hexafluoroarsenate and dimethyl Alkylsulfonium salt containing 3-chloro-4-acetoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4-hydroxy phenyl Benzylsulfonium salt containing methylsulfonium hexafluorophosphate and 4-methoxybenzyl-4-hydroxyphenyl methylsulfonium hexafluorophosphate, and dibenzyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroantimo Nate, Dibenzyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-acetoxyphenyldibenzylsulfonium hexafluoroantimonate, dibenzyl-4-methoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, dibenzyl -3-chloro-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroarsenate, dibenzyl-3-methyl-4-hydroxy-5-tertiary-butylphenylsulfonium hexafluoroantimonate, and benzyl- Dibenzylsulfonium salts including 4-methoxybenzyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluorophosphate; p-chlorobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsuponium hexafluoroantimonate, p-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, p-chlorobenzyl-4-hydroxyphenyl Methylsulfonium hexafluorophosphate, p-nitrobenzyl-3-methyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 3,5-dichlorobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoro Substituted benzylsulfonium salts including antimonate, and o-chlorobenzyl-3-chloro-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate; 3-benzylbenzothiazonium hexafluoroantimonate, 3-benzylbenzothiazonium hexafluoroantimonate, 3-benzyl-2-methylthiobenzothiazonium hexafluoroantimonate, and 3-benzyl-5 At least one selected from the group consisting of benzylbenzothiazonium salts, including chlorobenzothiazonium hexafluoroantimonate.

상기와 같은 열경화 개시제는 베이스 수지 100 중량부에 대하여 0.1 중량부 내지 10 중량부의 양으로 포함되는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 중량부 내지 5 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 열경화 개시제의 함량이 상기 범위를 초과하면, 중합 반응이 원활히 이루어지지 않거나, 반응 후 잔존 성분으로 인해 점착제 물성이 악화될 우려가 있다.The thermosetting initiator as described above is preferably included in an amount of 0.1 parts by weight to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base resin, more preferably may be included in an amount of 0.5 parts by weight to 5 parts by weight. When the content of the thermosetting initiator exceeds the above range, the polymerization reaction may not be performed smoothly, or the adhesive properties may deteriorate due to the remaining components after the reaction.

또 다른 특정 양태로서 상기 경화성 수지가 수분 경화하는 경우, 본 발명에 따른 경화성 수지는 베이스 수지, 반응성 모노머 및 중합 개시제를 포함할 수 있지만, 바람직하게는 베이스 수지 및 촉매를 포함하는 것이 좋다.In another specific embodiment, when the curable resin is water cured, the curable resin according to the present invention may include a base resin, a reactive monomer and a polymerization initiator, but preferably includes a base resin and a catalyst.

여기서, 상기 수분 경화성 수지는 상대습도가 약 20% 이상, 바람직하게는 20 내지 60%인 수분함량을 갖는 조건에서 경화되는 것이 바람직하다.Here, the moisture curable resin is preferably cured under conditions having a moisture content of relative humidity of about 20% or more, preferably 20 to 60%.

상기 수분 경화하는 경화성 수지의 베이스 수지는 폴리우레탄 수지, 반응성 실리콘 말단기를 함유한 폴리머 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다.As the base resin of the moisture-curable curable resin, a polyurethane resin, a polymer containing a reactive silicone end group, or a mixture thereof may be used.

여기서, 상기 폴리우레탄 수지는 폴리올과 이소시아네이트로 제조될 수 있는바, 상기 폴리올의 종류로는 폴리에테르디올, 폴리에스테르디올, 폴리카보네이트디올 등에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물이 사용될 수 있으며, 사용된 폴리올의 종류에 따라 약간의 물성 변화가 있을 수 있지만 어느 것을 사용해도 동일한 효과를 얻을 수 있다. 본 발명에서는 상기 폴리올 성분 중 폴리에테르디올을 사용하는 것이 바람직하며, 폴리에테르디올 중에서도 특히 바람직하기로는 폴리프로필렌글리콜을 사용하는 것이 좋다.Here, the polyurethane resin may be made of polyol and isocyanate, and as the kind of polyol, one or a mixture of two or more selected from polyetherdiol, polyesterdiol, and polycarbonate diol may be used. There may be a slight change in physical properties depending on the type of polyol, but the same effect may be obtained by using any one. In this invention, it is preferable to use polyetherdiol among the said polyol components, and polypropylene glycol is especially preferable among polyetherdiol.

또한, ε-카프로락톤을 개환(ring-opening)중합시켜 제조한 분자량 1,000 ～ 2,000Da의 폴리카프로락톤을 사용하는 바, 특히 분자량 1,250Da의 폴리카프로락톤을 사용할 경우 우수한 물성을 나타낸다. 폴리카프로락톤은 상온에서는 고상(固相)이어서 실제 사용상에 있어서는 문제가 있을 수 있으나, 다른 합성변수들 예를 들면, 이소시아네이트의 함량 및 합성 사슬 연결제(Chain extender)를 조절함으로써 이러한 문제는 해결할 수 있으며, 이렇게 합성변수를 주게 되면 특히 물성면에서 내후성, 내수성이 우수할 뿐만 아니라 점착특성을 감소시키는 성질도 지니게 된다.In addition, polycaprolactone having a molecular weight of 1,000 to 2,000 Da produced by ring-opening polymerization of ε-caprolactone is used. Polycaprolactone is a solid phase at room temperature and may be problematic in practical use, but this problem can be solved by adjusting other synthetic parameters, for example, the content of isocyanates and the synthetic chain extenders. In addition, when the synthetic parameters are given, not only the weather resistance and water resistance are excellent in terms of physical properties, but also the properties of reducing the adhesive properties.

특히, 다관능기를 가지는 폴리프로필렌트리올을 폴리올 성분으로 함께 사용하는 경우, 충분히 가교결합을 형성시키는 가교제로서 작용함으로써 강도를 강화하고 적절한 점도를 유지하며 장시간 보관시의 흐름성 개선에 중요한 역할을 한다.In particular, when polypropylene triol having a polyfunctional group is used together as a polyol component, it acts as a crosslinking agent to form a sufficient crosslinking to strengthen the strength, maintain an appropriate viscosity, and plays an important role in improving the flowability during long-term storage. .

상기 반응성 실리콘 말단기를 포함하는 폴리머는 폴리에테르와 같은 임의의 폴리알킬 옥사이드; 임의의 폴리알칸, 폴리알켄 및 폴리알킨; 스티렌과 같은 치환된 알킬 모노머; 아크릴; 실릴(반응성 실리콘) 말단기로 제조될 수 있는 폴리머 또는 코폴리머; 및 이들의 조합물을 포함하지만, 이들로써 한정되지는 않는다. 적절한 반응성 실리콘 말단기는 트리에톡시실란, 메틸디에톡시실란, 트리실라놀, 임의의 알콕시실란, 치환된 실란, 다가 실라놀, 및 이들의 조합물이 있으나, 이들로써 한정되지는 않는다.The polymer comprising the reactive silicone end group may be any polyalkyl oxide such as polyether; Optional polyalkanes, polyalkenes and polyalkynes; Substituted alkyl monomers such as styrene; acryl; Polymers or copolymers, which may be prepared with silyl (reactive silicone) end groups; And combinations thereof, but is not limited to these. Suitable reactive silicone end groups include, but are not limited to, triethoxysilane, methyldiethoxysilane, trisilanol, optional alkoxysilanes, substituted silanes, polyvalent silanols, and combinations thereof.

이때, 상기 베이스 수지는 촉매의 존재하에 수분과 접촉하여 경화될 수 있는 것으로서, 상기 촉매는 특별히 한정되지 않지만, 수분으로 인해 베이스 수지를 용이하게 경화시킬 수 있는 당업계의 통상적인 촉매를 사용하는 것이 좋고, 바람직하게는 산 또는 염기 촉매 또는 유기금속 촉매를 사용하는 것이 좋고, 추천하기로는 디 부틸 틴 디 라우레이트(Di butyl tin di laurate), 모노 부틸 틴 옥사이드(Mono butyl tin oxide) 또는 디 부틸 틴 디 아세테이트(Di butyl tin di acetate)를 사용하는 것이 좋다.At this time, the base resin is to be cured in contact with water in the presence of a catalyst, the catalyst is not particularly limited, it is to use a conventional catalyst in the art that can easily cure the base resin due to moisture. It is preferred to use acid or base catalysts or organometallic catalysts, preferably dibutyl tin dilaurate, mono butyl tin oxide or dibutyl tin. Di butyl tin di acetate is recommended.

본 발명의 나노/마이크로 입자는 나노/마이크로 프루딕 채널의 크기를 형성하기 위해 사용되는 것으로서, 나노미터 또는 마이크로미터 크기의 입자라면 어떠한 것을 사용하여도 무방하다.The nano / micro particles of the present invention are used to form the size of the nano / micro prudential channel, and may be any nanometer or micrometer size particles.

특정적으로, 상기 나노/마이크로 입자는 마이크로미터 단위 크기인 경우 그 직경이 수 마이크로미터에서 수백마이크로미터에 해당되는 것이 좋고, 바람직하게는 2㎛ 내지 100㎛이다.Specifically, the nano / micro particles may have a diameter ranging from several micrometers to several hundred micrometers when they are in micrometer size, and preferably 2 μm to 100 μm.

특정적으로, 상기 나노/마이크로 입자는 나노미터 단위 크기인 경우 그 직경이 수 나노미터에서 수백나노미터에 해당되는 것이 좋고, 바람직하게는 1nm 내지 100nm이다.Particularly, when the nano / micro particles are in nanometer size, the diameter thereof may correspond to several nanometers to several hundred nanometers, and preferably 1 nm to 100 nm.

특히, 상기 나노/마이크로 입자는 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물에 포함되어 기판(16) 상에 패턴(18)을 형성한 뒤 상기 패턴(18)의 상단에 상판(미도시)을 적층한 후 경화시킬 경우, 상기 나노/마이크로 입자로 인해 채널의 높이가 일정한 나노미터 또는 마이크로미터를 갖게 된다.In particular, the nano / micro particles are included in the pattern forming composition, specifically, the pattern forming composition of the nano / micro prudential channel to form the pattern 18 on the substrate 16, and then When the top plate (not shown) is laminated on the top and cured, the nano / micro particles have a constant nanometer or micrometer in height.

상기 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물로 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자를 포함하는 혼합물을 사용할 경우, 상기 혼합물은 하기 수학식 1에서 나타낸 비율로 혼합되는 것이 바람직하다.In the case of using the mixture including the curable resin and the nano / micro particles as the composition for forming the pattern, specifically, the pattern forming composition of the nano / micro prudic channel, the mixture is mixed in the ratio shown in Equation 1 below. desirable.

<수학식 1> &Quot; (1) &quot;

경화성 수지 : 나노/마이크로 입자 = 1-X : X (0 < X < 1)Curable Resin: Nano / Micro Particles = 1-X: X (0 <X <1)

한편, 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛(10)은 특정적으로 중공의 원통형 형상의 몸체(6); On the other hand, the dispensing head unit 10 according to the present invention is specifically a hollow cylindrical body 6;

상기 몸체(6)의 일측 종단에 연결설치되되, 그 내부에 상기 몸체(6)의 중공에 대응되는 중공을 갖는 노즐(2); A nozzle 2 connected to one end of the body 6 and having a hollow corresponding to the hollow of the body 6 therein;

상기 몸체(6)에 연결설치되되, 그 내부에 노즐(2)이 관통되도록 삽입되어 상기 노즐(2)과 몸체(6) 사이를 흐르는 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크 로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 누출되지 않도록 하는 캡(4); 및It is connected to the body (6), and inserted into the nozzle (2) therein, the composition for forming a pattern flowing between the nozzle (2) and the body (6), specifically nano / micro prudic channel A cap 4 to prevent the composition for forming a pattern from leaking; And

길이방향으로 확장된 형상을 갖고, 몸체(6)의 중공에 삽입되도록 위치하여 몸체(6)의 중공에 채워져 있는 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 노즐(2)로 이송시키는 주입수단(8)으로 구성될 수 있다.A nozzle having a shape extending in the longitudinal direction and positioned so as to be inserted into the hollow of the body 6 and filled in the hollow of the body 6, specifically, a composition for forming a pattern of nano / micro prudential channels It can be composed of the injection means (8) for transferring to (2).

상기 디스펜싱 헤드유닛(10)을 구성하는 몸체(6)는 그 내부에 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워질 수 있는 장소를 제공하기 위해 중공의 원통형 형상을 갖는다.The body 6 constituting the dispensing head unit 10 has a hollow cylindrical shape to provide a place in which the composition for forming a pattern, in particular the composition for forming a pattern of nano / micro prudential channels, can be filled. It has a shape.

본 발명에 따른 캡(4)은 그 내부에 노즐(2)이 관통되도록 삽입되는 동시에 상기 노즐(2)이 삽입되는 일측에 대향되는 타측이 몸체(6)에 연결설치되어 상기 몸체(6) 및 노즐(2)이 완전히 서로 밀봉되도록 체결됨으로써 상기 노즐(2)과 몸체(6) 사이를 흐르는 패턴 형성용 조성물이 외부로 누출되지 않도록 한다.The cap 4 according to the present invention is inserted so that the nozzle 2 penetrates therein and at the same time, the other side opposite to one side into which the nozzle 2 is inserted is connected to the body 6 so that the body 6 and The nozzle 2 is fastened so as to be completely sealed to each other so that the composition for pattern formation flowing between the nozzle 2 and the body 6 does not leak to the outside.

이때, 상기 캡(4)과 몸체(6)를 서로 체결하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 몸체(6)의 일측 종단의 외주면을 따라 나사산(20)을 형성시키고, 상기 몸체(6)의 나사산(20)에 대응되는 나사골(미도시)을 캡(4)의 내부에 형성시켜 상기 캡(4)과 몸체(6)를 서로 연결하는 것이 바람직하다.At this time, a method of fastening the cap 4 and the body 6 to each other is not particularly limited, but preferably, the thread 20 is formed along the outer circumferential surface of one end of the body 6 and the body 6 It is preferable to form a screw bone (not shown) corresponding to the thread 20 of the inside of the cap 4 to connect the cap 4 and the body 6 to each other.

본 발명에 따른 노즐(2)은 상기 몸체(6)에 채워진 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 토출되어 기판(16) 상에 패턴(18)을 형성시키기 위한 것으로서, 이러한 목적을 위한 당업계의 통상적인 노즐(2)이라면 특별히 한정되지 않는다.In the nozzle 2 according to the present invention, the pattern forming composition filled in the body 6, specifically, the pattern forming composition of the nano / micro prudential channel is discharged to form the pattern 18 on the substrate 16. It is for the purpose of this purpose, and if it is a conventional nozzle 2 in the art for this purpose, it will not specifically limit.

본 발명에 따른 주입수단(8)은 몸체(6)의 중공에 채워져 있는 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 노즐(2)로 이송시키기 위한 것으로서, 이러한 목적을 위한 것이라면 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 몸체(6)의 중공에 삽입될 수 있도록 길이방향으로 확장된 형상을 갖는 것이 좋다.The injection means 8 according to the present invention is for transferring the composition for forming a pattern filled in the hollow of the body 6, specifically, the composition for forming a pattern of nano / micro prudential channel to the nozzle 2. If the purpose is not particularly limited, but preferably has a shape extended in the longitudinal direction so that it can be inserted into the hollow of the body (6).

본 발명에 따른 컴퓨터 수치제어 디스펜서(CNC Dispenser)(미도시)는 상기 디스펜싱 헤드유닛(10) 내부의 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 일정하게 토출시키는 구동력을 제공하는 동시에 상기 디스펜싱 헤드유닛(10)을 x, y 좌표로 이동시켜 소정 프로그램에 따라 자동으로 기판(16)상에 패턴(18)을 형성시키는 것으로서, 이러한 목적을 위한 당업계의 통상적인 장치라면 특별히 한정되지 않는다.The computer numerical control dispenser (CNC Dispenser) (not shown) according to the present invention constantly discharges the composition for forming a pattern inside the dispensing head unit 10, specifically, the composition for forming a pattern of nano / micro prudential channels. By providing a driving force to the same time while moving the dispensing head unit 10 in the x, y coordinates to automatically form a pattern 18 on the substrate 16 in accordance with a predetermined program, If it is a conventional apparatus, it will not specifically limit.

이때, 상기 기판(16)상에 형성되는 패턴(18)은 직선, 곡선, 원형 또는 이들이 조합된 어떠한 형태로 형성되어도 무방하다.In this case, the pattern 18 formed on the substrate 16 may be formed in any form of a straight line, a curve, a circle, or a combination thereof.

또한, 상기 기판(16)상에 형성되는 패턴(18), 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물로 이루어진 패턴의 나노/마이크로 입자들은 순차적으로 근접, 바람직하게는 접촉하게 연속적으로 정렬되도록 형성되어 프루딕 채널을 통과하는 유체가 외부로 누출되지 않도록 하는 것이 좋다.Further, the pattern 18 formed on the substrate 16, in particular the nano / micro particles of the pattern consisting of the pattern-forming composition of the nano / micro prudential channel, are sequentially in proximity, preferably in contact with each other continuously It is desirable to be aligned so that fluids passing through the prudential channel do not leak out.

한편, 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 프로그램되는 패턴(18)의 형상은 사용자의 선택에 따라 변경될 수 있다.Meanwhile, the shape of the pattern 18 programmed in the computer numerical control dispenser may be changed according to a user's selection.

특정적으로, 본 발명에 따른 컴퓨터 수치제어 디스펜서는 그 내부 일측에 디 스펜싱 헤드유닛(10)이 장착될 수 있는 장소를 제공하는 헤드유닛 장착부(14)가 구비되고, 상기 헤드유닛 장착부(14)의 상단에는 디스펜싱 헤드유닛(10)의 주입수단(8)에 연결설치되어 주입수단(8)을 하단으로 전진시킴으로써 상기 디스펜싱 헤드유닛(10)에 채워져 있는 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 외부, 특정적으로 기판(16)으로 토출시키는 구동력을 제공하는 모터(12), 바람직하게는 스텝 모터가 구비되어 있다.Specifically, the computer numerical control dispenser according to the present invention is provided with a head unit mounting portion 14 which provides a place on which one side of the dispensing head unit 10 can be mounted, and the head unit mounting portion 14 At the top of the) is connected to the injection means 8 of the dispensing head unit 10 is installed in the dispensing head unit 10 by advancing the injection means 8 to the lower end of the pattern forming composition, specifically A motor 12, preferably a step motor, is provided that provides a driving force for discharging the composition for forming a pattern of the nano / micro prudential channel to the substrate 16 externally, specifically.

이때, 상기 모터(12)에 의해 패턴 형성용 조성물이 토출되면, 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 프로그램되어 있는 소정 x, y 좌표에 따라 디스펜싱 헤드유닛(10)이 이동하며 기판(16) 상에 자동으로 원하는 형태의 패턴(18)을 형성하게 된다.At this time, when the composition for forming a pattern is discharged by the motor 12, the dispensing head unit 10 moves according to a predetermined x and y coordinate programmed in the computer numerical control dispenser and is automatically on the substrate 16. The desired pattern 18 is formed.

이와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the pattern manufacturing apparatus of the nano / micro prudic channel according to the present invention having such a configuration as follows.

먼저, 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 원하는 패턴으로 헤드유닛 장착부(14)가 이동하도록 프로그램 한다.First, the head unit mounting portion 14 is programmed in the computer numerical control dispenser in a desired pattern.

또한, 디스펜싱 헤드유닛(10)의 내부에 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 채운 후 주입수단(8)을 디스펜싱 헤드유닛(10)의 몸체(6)에 연결설치한다.In addition, the filling means 8 is filled in the dispensing head unit 10 with a pattern forming composition, specifically, a nano / micro prudic channel pattern forming composition. 6) Connect and install.

그 다음, 상기 패턴 형성용 조성물이 채워진 디스펜싱 헤드유닛(10)을 컴퓨터 수치제어 디스펜서의 헤드유닛 장착부(14)에 삽입 장착하여 상기 디스펜싱 헤드유닛(10)의 주입수단(8)이 컴퓨터 수치제어 디스펜서의 모터(12)에 연결설치되도록 한다.Then, the dispensing head unit 10 filled with the pattern forming composition is inserted into the head unit mounting portion 14 of the computer numerical control dispenser so that the injection means 8 of the dispensing head unit 10 is computer-valued. It is connected to the motor 12 of the control dispenser.

이때, 패턴(18)을 형성하고자 하는 기판(16)은 이미 컴퓨터 수치제어 디스펜서의 거치대(미도시)에 놓여 있다.At this time, the substrate 16 on which the pattern 18 is to be formed is already placed on a cradle (not shown) of the computer numerical control dispenser.

그 다음, 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 작동시켜 디스펜싱 헤드유닛(10)의 패턴 형성용 조성물을 소정 프로그램에 따라 거치대에 놓인 기판(16)의 상단에 토출함으로써, 기판(16)에 원하는 패턴(18)을 형성시킨다.Then, the computer numerical control dispenser is operated to eject the composition for forming the pattern of the dispensing head unit 10 onto the top of the substrate 16 placed on the holder according to a predetermined program, thereby desired pattern 18 on the substrate 16. To form.

한편, 전술한 방법에 따라 기판(16)에 원하는 패턴(18)을 형성시키면, 상기 패턴(18)이 형성된 기판(16)의 상단에 상판을 적층하여 압착하고, 광원, 특정적으로 UV를 조사하여 패턴 형성용 조성물, 특정적으로 기판에 형성된 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 경화시킴으로써 최종적인 나노/마이크로 프루딕 채널을 제조할 수 있다.On the other hand, when the desired pattern 18 is formed on the substrate 16 according to the above-described method, the upper plate is laminated on the upper end of the substrate 16 on which the pattern 18 is formed and pressed, and the light source, specifically UV is irradiated. Thus, the final nano / micro prudic channel can be prepared by curing the composition for forming a pattern, specifically, the pattern forming composition of the nano / micro prudic channel formed on the substrate.

이때, 상기 패턴 형성용 조성물은 자외선 외에 온도 및 수분에 의해서 경화될 수도 있다.In this case, the pattern forming composition may be cured by temperature and moisture in addition to ultraviolet light.

이와 같이 제조된 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널은 필터, 미세 프루딕 장치 등으로 사용될 수 있고, 필요에 따라 미세 생체물질 분리용으로 사용될 수도 있다.The nano / micro prudic channel according to the present invention prepared as described above may be used as a filter, a micro prudic device, or the like, and may be used for fine biomaterial separation as necessary.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 본 발명의 범위는 상기 상세 한 설명보다는 후술하는 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모두 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As described above, those skilled in the art will understand that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features. Therefore, the scope of the present invention should be construed that all changes or modifications derived from the meaning and scope of the appended claims and equivalents thereof rather than the detailed description are included in the scope of the present invention.

도 1은 본 발명에 따른 나노/마이크로 프루딕 채널이 형성된 기판을 나타내는 도,1 is a view showing a substrate on which a nano / micro prudential channel is formed according to the present invention;

도 2는 본 발명에 따른 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 나타내는 도,2 shows a computer numerical control dispenser in accordance with the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛을 나타내는 구성도,3 is a block diagram showing a dispensing head unit according to the present invention,

도 4는 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛의 몸체를 나타내는 도,4 is a view showing the body of the dispensing head unit according to the present invention,

도 5는 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛의 캡을 나타내는 도,5 is a view showing a cap of the dispensing head unit according to the present invention,

도 6은 본 발명에 따른 디스펜싱 헤드유닛의 주입수단을 나타내는 도이다.6 is a view showing the injection means of the dispensing head unit according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

2 : 노즐 4 : 캡2: nozzle 4: cap

6 : 몸체 8 : 주입수단6 body 8 injection means

10 : 디스펜싱 헤드유닛 12 : 모터10: dispensing head unit 12: motor

14 : 헤드유닛 장착부 16 : 기판14 head unit mounting portion 16 substrate

18 : 패턴 20 : 나사산18: pattern 20: thread

Claims (14)

내부에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 채워져 있고, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 토출하는 디스펜싱 헤드유닛; 및A dispensing head unit filled with a composition for forming a pattern of nano / micro prudential channel and discharging the composition for forming a pattern of the nano / micro prudic channel; And 상기 디스펜싱 헤드유닛이 장착되어 연결설치되되, 상기 디스펜싱 헤드유닛 내부의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 일정하게 토출시키는 구동력을 제공하는 동시에 상기 디스펜싱 헤드유닛을 x, y 좌표로 이동시켜 소정 프로그램에 따라 자동으로 기판 상에 패턴을 형성시키는 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.The dispensing head unit is mounted and connected to the dispensing head unit, and provides a driving force for constantly discharging the composition for forming a pattern of the nano / micro prudential channel inside the dispensing head unit, and at the same time, the dispensing head unit has an x and y coordinate. And a computer numerical control dispenser for automatically forming a pattern on a substrate according to a predetermined program. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 디스펜싱 헤드유닛이 The dispensing head unit 중공의 원통형 형상의 몸체; Hollow cylindrical shaped body; 상기 몸체의 일측 종단에 연결설치되되, 그 내부에 상기 몸체의 중공에 대응되는 중공을 갖는 노즐; A nozzle connected to one end of the body and having a hollow corresponding to the hollow of the body therein; 상기 몸체에 연결설치되되, 그 내부에 노즐이 관통되도록 삽입되어 상기 노즐과 몸체 사이를 흐르는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물이 누출되지 않도록 하는 캡; 및A cap connected to the body and inserted into the nozzle to penetrate the nozzle so that the composition for forming the pattern of the nano / micro prudential channel flowing between the nozzle and the body does not leak; And 길이방향으로 확장된 형상을 갖고, 몸체의 중공에 삽입되도록 위치하여 몸체 의 중공에 채워져 있는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 노즐로 이송시키는 주입수단을 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.Nano / micro prudic channel having a longitudinally extended shape and positioned to be inserted into the hollow of the body and including an injection means for transferring the composition for forming a pattern of the nano / micro prudic channel filled in the hollow of the body to the nozzle Pattern manufacturing apparatus. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물은 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자를 포함하는 혼합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.The nano-micro prudic channel pattern forming composition is characterized in that the nano-micro prudic channel pattern manufacturing apparatus, characterized in that made of a mixture comprising a curable resin and nano / micro particles. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자를 포함하는 혼합물의 혼합 비율이 하기 수학식 1의 비율인 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.Mixing ratio of the mixture containing the curable resin and nano / micro particles is a ratio of the formula (1) characterized in that the nano / micro prudic channel pattern manufacturing apparatus. <수학식 1> &Quot; (1) &quot; 경화성 수지 : 나노/마이크로 입자 = 1-X : X (0 < X < 1)Curable Resin: Nano / Micro Particles = 1-X: X (0 <X <1) 제3항에 있어서, The method of claim 3, 상기 경화성 수지는 베이스 수지, 반응성 모노머 및 중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.The curable resin includes a base resin, a reactive monomer and a polymerization initiator, characterized in that the nano / micro prudic channel pattern manufacturing apparatus. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 중합 개시제가 광, 열 또는 수분에 의해 중합을 개시하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.Apparatus for producing a pattern for a nano / micro prudic channel, characterized in that the polymerization initiator initiates polymerization by light, heat or moisture. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널이 유체에 포함된 입자의 이동 또는 분리용인 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조장치.The nano / micro prudic channel is a pattern manufacturing apparatus of the nano / micro prudic channel, characterized in that for the movement or separation of particles contained in the fluid. 컴퓨터 수치제어 디스펜서가 기판의 표면에 원하는 패턴을 형성하도록 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 프로그램하는 단계;Programming the computer numerical dispenser so that the computer numerical dispenser forms a desired pattern on the surface of the substrate; 컴퓨터 수치제어 디스펜서의 디스펜싱 헤드유닛에 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 채우는 단계;Filling the dispensing head unit of the computer numerical control dispenser with the composition for pattern formation of the nano / micro prudential channel; 컴퓨터 수치제어 디스펜서에 기판을 장착한 후 상기 컴퓨터 수치제어 디스펜서를 작동시켜 디스펜싱 헤드유닛의 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물을 소정 프로그램에 따라 기판의 상단에 토출함으로써 기판에 원하는 패턴을 형성시키는 단계를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법.After mounting the substrate on the computer numerical control dispenser, the computer numerical control dispenser is operated to discharge the desired pattern onto the substrate by discharging the composition for forming the pattern of the nano / micro prudential channel of the dispensing head unit on the top of the substrate according to a predetermined program. A method for producing a pattern of nano / micro prudic channel comprising the step of forming. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 형성용 조성물은 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자를 포함하는 혼합물로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법.The method of forming a pattern of the nano / micro prudic channel is a pattern for manufacturing a nano / micro prudic channel, characterized in that consisting of a mixture comprising a curable resin and nano / micro particles. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 경화성 수지 및 나노/마이크로 입자를 포함하는 혼합물의 혼합 비율이 하기 수학식 1의 비율인 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법.Mixing ratio of the mixture comprising the curable resin and nano / micro particles is a ratio of the formula (1) characterized in that the pattern of the nano-micro prudic channel manufacturing method. <수학식 1> &Quot; (1) &quot; 경화성 수지 : 나노/마이크로 입자 = 1-X : X (0 < X < 1)Curable Resin: Nano / Micro Particles = 1-X: X (0 <X <1) 제9항에 있어서, 10. The method of claim 9, 상기 경화성 수지는 베이스 수지, 반응성 모노머 및 중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법.Said curable resin comprises a base resin, a reactive monomer and a polymerization initiator. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 중합 개시제가 광, 열 또는 수분에 의해 중합을 개시하는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 패턴 제조방법.And the polymerization initiator initiates the polymerization by light, heat or moisture. 제8항에 따른 기판에 원하는 패턴을 형성시키는 단계의 후단으로 After the step of forming a desired pattern on the substrate according to claim 8 패턴이 형성된 기판 상에 상판을 적층하는 단계; 및Stacking a top plate on the substrate on which the pattern is formed; And 상기 상판이 적층된 패턴에 자외선을 조사하여 패턴을 경화하는 단계를 포함하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 제조방법.The method of manufacturing a nano / micro prudic channel comprising the step of curing the pattern by irradiating ultraviolet rays to the laminated pattern of the top plate. 제13항에 있어서,The method of claim 13, 상기 패턴은 나노/마이크로 입자들이 순차적으로 연속하여 정렬되는 것을 특징으로 하는 나노/마이크로 프루딕 채널의 제조방법.The pattern is a method of producing a nano / micro prudyic channel characterized in that the nano / micro particles are arranged in sequence in sequence.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20060013060A (en) * 2004-08-05 2006-02-09 삼성전자주식회사 Method of fabricating ink-jet print head using photocurable resin composition
JP2009134255A (en) 2007-10-31 2009-06-18 Sekisui Chem Co Ltd Micropattern forming material, micropattern complex material and method for producing the same, and method for producing minute three-dimensional structure substrate
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Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060013060A (en) * 2004-08-05 2006-02-09 삼성전자주식회사 Method of fabricating ink-jet print head using photocurable resin composition
JP2009134255A (en) 2007-10-31 2009-06-18 Sekisui Chem Co Ltd Micropattern forming material, micropattern complex material and method for producing the same, and method for producing minute three-dimensional structure substrate
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