KR101121432B1 - Coating apparatus for susceptor and coating method for susceptor - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 서셉터 코팅장치는 가열로, 상기 가열로 내부로 진입하며, 다수의 서셉터가 서로 이격되어 적층된 적층부, 상기 가열로의 외부에 위치하며 상기 적층부의 일측과 연결되어 상기 적층부를 회전시키는 회전부, 상기 가열로 내부로 상기 적층부가 진출입 하도록 상기 적층부와 상기 회전부를 이동시키는 이동부, 상기 가열로 내부로 상기 서셉터의 코팅을 위한 공정가스를 공급하는 가스 공급부, 상기 가열로 내부를 배기하는 배기부를 구비하는 것으로, 본 발명에 따른 서셉터 코팅장치와 서셉터 코팅방법은 한 번에 다수개의 서셉터 동시에 베이킹 및 코팅할 수 있으므로 서셉터의 베이킹 및 코팅 효율을 향상시킬 수 있고, 이에 따라 서셉터를 이용한 유기금속화합물 증착공정의 전체 공정효율도 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The susceptor coating apparatus according to the present invention is a heating furnace, enters into the heating furnace, a plurality of susceptors are laminated to be spaced apart from each other, the stacking portion is located outside the heating furnace is connected to one side of the stacking the lamination A rotating part for rotating the part, a moving part for moving the laminating part and the rotating part so that the laminating part enters and exits the heating furnace, a gas supply part supplying a process gas for coating the susceptor into the heating furnace, and the heating furnace Having an exhaust to exhaust the inside, the susceptor coating apparatus and the susceptor coating method according to the present invention can be baked and coated at the same time a plurality of susceptors at the same time can improve the baking and coating efficiency of the susceptor Therefore, there is an effect that can improve the overall process efficiency of the organic metal compound deposition process using a susceptor.

Description

서셉터 코팅장치 및 코팅방법{COATING APPARATUS FOR SUSCEPTOR AND COATING METHOD FOR SUSCEPTOR}Susceptor coating device and coating method {COATING APPARATUS FOR SUSCEPTOR AND COATING METHOD FOR SUSCEPTOR}

본 발명은 서셉터의 코팅장치 및 코팅방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 화학기상증착 장치에 사용되는 서셉터를 공정 수행 전에 코팅하도록 하는 서셉터의 코팅장치에 관한 것이다.
The present invention relates to a coating device and a coating method of the susceptor, and more particularly to a coating device of the susceptor to coat the susceptor used in the chemical vapor deposition apparatus before performing the process.

유기금속화합물 증착공정에서 사용되는 서셉터에는 다수의 웨이퍼가 안착된다. 서셉터는 공정 수행중에 서셉터 표면에 공정 중 발생한 부산물이 다량 퇴적된다. 이 퇴적물은 이후 다음 공정을 수행할 때 공정에 영향을 주게 된다. A plurality of wafers are placed on the susceptor used in the organometallic compound deposition process. Susceptors have a large amount of by-products deposited on the susceptor surface during the process. This deposit will then affect the process when the next process is performed.

이와 같이 공정 수행중 퇴적된 퇴적물은 서셉터 표면온도를 설정치 이상 또는 이하로 변화시켜 공정 수행을 위한 설정온도가 유지되지 못하도록 한다. 공정 온도가 설정온도로 유지되지 못하면 웨이퍼에 적층되는 박막의 품질이 저하된다. 따라서 사용된 서셉터에 퇴적물이 적정한 두께 이상으로 퇴적되면 서셉터를 세정하는 것이 필요하다.As such, the deposits deposited during the process change the susceptor surface temperature above or below the set value such that the set temperature for the process is not maintained. If the process temperature is not maintained at the set temperature, the quality of the thin film deposited on the wafer is degraded. Therefore, it is necessary to clean the susceptor if the deposit is deposited over a suitable thickness on the susceptor used.

한편, 서셉터를 세정만 하고, 공정에 투입하여 사용하면 이후 공정 수행중 발생한 퇴적물을 세정할 때 이 퇴적물을 제거하기가 매우 어렵다. 따라서 서셉터를 세정한 후에 재사용할 때에는 서셉터 표면을 코팅하는 공정이 필요하다. On the other hand, if the susceptor is only cleaned and used in the process, it is very difficult to remove this deposit when cleaning the sediment generated during the subsequent process. Therefore, when the susceptor is cleaned and reused, a process of coating the susceptor surface is required.

이때 서셉터에 코팅되는 코팅막은 서셉터 보호해주는 역할과 서셉터의 수명을 연장시켜 주는 역할을 한다. 따라서 유기금속화학물 증착공정에 사용되는 서셉터는 공정을 위하여 사용하기 전에 표면에 대한 코팅이 이루어지는 것이 매우 효과적이다. 그러나 종래에는 서셉터를 코팅하기 위한 효율적인 장치가 제공되지 못하여 서셉터의 코팅 효율이 매우 낮고, 번거로운 문제점이 있다.
At this time, the coating film coated on the susceptor serves to protect the susceptor and to extend the life of the susceptor. Therefore, the susceptor used in the organometallic chemical vapor deposition process is very effective to be coated on the surface before use for the process. However, in the related art, an efficient device for coating the susceptor is not provided, and thus, the coating efficiency of the susceptor is very low, and there is a problem.

본 발명은 다수의 서셉터를 동시에 코팅하도록 하는 서셉터 코팅장치 및 코팅방법을 제공하기 위한 것이다.
The present invention is to provide a susceptor coating apparatus and coating method for coating a plurality of susceptors at the same time.

본 발명에 따른 서셉터 코팅장치는 가열로; 상기 가열로 내부로 진입하며, 다수의 서셉터가 서로 이격되어 적층된 적층부; 상기 가열로의 외부에 위치하며 상기 적층부의 일측과 연결되어 상기 적층부를 회전시키는 회전부; 상기 가열로 내부로 상기 적층부가 진출입 하도록 상기 적층부와 상기 회전부를 이동시키는 이동부; 상기 가열로 내부로 상기 서셉터의 코팅을 위한 공정가스를 공급하는 가스 공급부; 상기 가열로 내부를 배기하는 배기부를 구비한다.Susceptor coating apparatus according to the invention the heating furnace; A stacking unit which enters into the heating furnace and is stacked with a plurality of susceptors spaced apart from each other; A rotating part located outside the heating furnace and connected to one side of the lamination part to rotate the lamination part; A moving part which moves the laminating part and the rotating part so that the laminating part enters and exits the heating furnace; A gas supply unit supplying a process gas for coating the susceptor into the heating furnace; An exhaust part which exhausts the inside of the said heating furnace is provided.

상기 적층부는 상하로 배열되며 상기 서셉터가 낱장씩 안착되는 다수개의 안착판과 상기 안착판을 이격시키며 지지하는 지지바를 포함할 수 있다.The stacking portion may be arranged up and down and may include a plurality of seating plates on which the susceptors are seated one by one and a support bar spaced apart from and supporting the seating plates.

상기 공정가스 공급부는 상기 안착부 마다 인접한 위치로 공정가스를 공급하는 다수개의 공정가스 배출관을 포함하고, 상기 공정가스 배출관으로부터 공급되는 공정가스는 수소와 트리메탈갈륨(TMGa:Trimethylgallium)일 수 있다.The process gas supply unit may include a plurality of process gas discharge pipes supplying process gases to adjacent positions of the seating units, and the process gas supplied from the process gas discharge pipes may be hydrogen and trimethylgallium (TMGa).

상기 지지바가 결합되며 상기 가열로의 개구부에 밀착되는 덮개를 구비하고, 상기 회전부는 가열로의 외측에 상기 덮개와 결합되는 모터와, 상기 덮개를 관통하며 상기 적층부의 끝단에 결합되는 회전축을 구비할 수 있다. The support bar is coupled and provided with a cover in close contact with the opening of the heating furnace, wherein the rotating unit has a motor coupled to the cover on the outside of the heating furnace, and a rotating shaft penetrating the cover and coupled to the end of the stacking portion; Can be.

상기 안착판에는 상기 서셉터 지지하는 다수개의 지지핀이 구비될 수 있다.The seating plate may be provided with a plurality of support pins for supporting the susceptor.

본 발명에 따른 서셉터 코팅방법은 다수개의 서셉터를 서로 이격하여 가열로 내부에 위치시켜 회전시키고, 상기 가열로 내부를 1000도 ~ 1500도로 가열하여 상기 서셉터를 베이킹 하고, 상기 가열로의 내부를 900 ~ 1100도로 가열하며 상기 가열로의 내부로 수소와 트리메탈갈륨을 공급하여 상기 서셉터를 코팅한다.Susceptor coating method according to the present invention is rotated by placing a plurality of susceptors spaced apart from each other inside the heating furnace, baking the susceptor by heating the interior of the furnace 1000 to 1500 degrees, the interior of the furnace Is heated to 900 ~ 1100 degrees to supply hydrogen and trimetalgallium into the interior of the furnace to coat the susceptor.

상기 베이킹은 1 - 3시간 동안 진행될 수 있다. The baking may proceed for 1-3 hours.

상기 코팅은 2 - 5시간 동안 진행될 수 있다.The coating can proceed for 2-5 hours.

상기 가열로의 내부에 위치한 상기 다수개의 서셉터마다 상기 수소와 상기 트리메탈갈륨을 공급하는 복수개의 공정가스 공급부가 위치할 수 있다.
A plurality of process gas supply units supplying the hydrogen and the trimetalgallium may be located for each of the plurality of susceptors located inside the heating furnace.

이상과 같은 본 발명에 따른 서셉터 코팅장치와 서셉터 코팅방법은 한 번에 다수개의 서셉터 동시에 베이킹 및 코팅할 수 있으므로 서셉터의 베이킹 및 코팅 효율을 향상시킬 수 있고, 이에 따라 서셉터를 이용한 유기금속화합물 증착공정의 전체 공정효율도 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
Since the susceptor coating apparatus and the susceptor coating method according to the present invention can be baked and coated at the same time a plurality of susceptors at the same time can improve the baking and coating efficiency of the susceptor, accordingly using a susceptor The overall process efficiency of the organometallic compound deposition process can also be improved.

도 1은 본 실시예에 따른 서셉터 코팅장치를 도시한 단면도이다.
도 2는 본 실시예에 따른 서셉터 코팅장치의 요부를 확대 절개 도시한 사시도이다.
도 3은 본 실시예에 따른 서셉터 코팅방법을 도시한 순서도이다.1 is a cross-sectional view showing a susceptor coating apparatus according to the present embodiment.
2 is an enlarged perspective view illustrating main parts of the susceptor coating apparatus according to the present embodiment.
3 is a flowchart illustrating a susceptor coating method according to the present embodiment.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 이하에서 개시되는 실시예에서는 유기금속화합물 증착장치 및 증착방법에 사용되는 서셉터 대한 실시예를 설명한다. 그러나 본 발명의 코팅장치는 유기금속화합물 증착장치에 사용되는 서셉터뿐만 아니라 기타의 그 외 증착장치에 사용되는 서셉터의 경우에도 이용될 수 있다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the embodiments disclosed below, an embodiment of a susceptor used in an organometallic compound deposition apparatus and a deposition method will be described. However, the coating apparatus of the present invention can be used not only for susceptors used for organometallic compound deposition apparatuses but also for susceptors used for other deposition apparatuses.

도 1은 본 실시예에 따른 서셉터 코팅장치를 도시한 단면도이고, 도 2는 본 실시예에 따른 서셉터 코팅장치의 요부를 확대 절개 도시한 사시도이다. 본 실시예에 따른 서셉터 코팅장치는 도 1과 도 2에 도시된 바와 같이 수직한 상태로 배치되는 가열로(100)(Furnace)를 구비한다. 가열로(100)는 수직 상태로 배치되는 하우징(101)(housing)과 하우징(101)의 외측에 둘러싸며 설치되는 히터(102)(heater)를 포함한다.1 is a cross-sectional view showing a susceptor coating apparatus according to the present embodiment, Figure 2 is a perspective view showing the main portion of the susceptor coating apparatus according to the present embodiment enlarged. The susceptor coating apparatus according to the present embodiment includes a heating furnace 100 (Furnace) disposed in a vertical state as shown in FIGS. 1 and 2. The heating furnace 100 includes a housing 101 that is disposed in a vertical state and a heater 102 that is installed to surround the outside of the housing 101.

가열로(100)의 하우징(101) 내부에는 적층부(110)(piling portion)가 하우징(101) 내부로 진출입 가능하게 위치한다. 적층부(110)는 바닥판(111)(base plate)과 이 바닥판(111)에 입설되어 고정 설치되는 다수개의 지지바(112)(supporting bar)를 포함한다. In the housing 101 of the heating furnace 100, a stacking portion 110 (piling portion) is located in the housing 101 to be able to enter and exit. The stacking unit 110 includes a base plate 111 and a plurality of supporting bars 112 installed in and fixed to the bottom plate 111.

그리고 지지바(112)에는 서셉터(200)가 안착되는 안착부인 다수개의 안착판(113)(receipting plate)이 서로 이격되어 상하로 배치된다. 그리고 각각의 안착판(113)에는 공정 수행 시에 낱장의 서셉터(200)가 하나씩 안착된다. 또한 다른 실시예로 안착판(113)에는 서셉터(200)가 안착판(113) 상에 부양되어 지지되도록 하는 다수개의 지지핀(114)(supporting pin)이 설치될 수 있다. 지지핀(114)은 서셉터(200)의 상부면 뿐만 아니라 하부면에 대한 베이킹과 코팅이 이루어지도록 한다. In addition, a plurality of seating plates 113 (receipting plates), which are seating parts on which the susceptor 200 is seated, are spaced apart from each other on the support bar 112. And each of the mounting plate 113 is a sheet of susceptor 200 is seated one by one when performing the process. In another embodiment, the mounting plate 113 may be provided with a plurality of supporting pins 114 to support the susceptor 200 on the mounting plate 113. The support pin 114 allows baking and coating of the upper surface as well as the lower surface of the susceptor 200.

바닥판(111)의 하부에는 덮개(120)(cover)가 구비된다. 덮개(120)는 하우징(101)의 하단 개구부(opening porting)와 밀착된다. 그리고 덮개(120) 상면의 하우징(101)의 하단 개구부의 테두리와 접하는 부분에는 하우징(101) 내부의 밀폐를 위하여 실링부재(121)(sealing member)가 구비된다. A cover 120 is provided below the bottom plate 111. The cover 120 is in close contact with an opening porting of the housing 101. In addition, a sealing member 121 (sealing member) is provided at a portion in contact with the edge of the lower opening of the housing 101 on the cover 120 to seal the inside of the housing 101.

또한 덮개(120)의 외측에는 회전부(130)(rotating portion)가 구비된다. 회전부(130)(rotating portion)는 가열로(100)의 외측에 위치하여 덮개(120)에 결합되는 모터(131)와 모터(131)에 의하여 회전하는 회전축(132)을 구비한다. 회전축(132)은 덮개(120)를 관통하며 적층부(110)의 하단 바닥판(111)과 축 결합된다. 회전축(132)이 덮개(120)를 관통하는 부분에는 실 커플링(133)이 설치된다. In addition, the outer side of the cover 120 is provided with a rotating portion (rotating portion) (rotating portion). The rotating portion 130 (rotating portion) includes a motor 131 coupled to the cover 120 and located on the outside of the heating furnace 100 and a rotating shaft 132 rotated by the motor 131. The rotating shaft 132 penetrates the cover 120 and is axially coupled to the bottom bottom plate 111 of the stack 110. The seal coupling 133 is installed at a portion through which the rotation shaft 132 penetrates the cover 120.

회전부(130)의 모터(131) 하부에는 지지대(134)가 설치된다. 그리고 지지대(134)에는 적층부(110)와 회전부(130)를 상하로 이동시키기 위한 이동부(140)가 구비된다. 이동부(140)(moving portion)는 볼스크류(142)(ball screw)와 이 볼스크류(142)를 회전시키는 모터(141)를 포함한다.The support 134 is installed below the motor 131 of the rotating unit 130. In addition, the support 134 is provided with a moving unit 140 for moving the stacking unit 110 and the rotating unit 130 up and down. The moving portion 140 includes a ball screw 142 and a motor 141 for rotating the ball screw 142.

한편, 하우징(101)의 외측에는 공정가스를 공급하는 가스 공급부(150)가 구비된다. 가스 공급부(150)는 안착판(113) 마다 인접한 위치로 공정가스를 공급하는 다수개의 공정가스 배출관(151)과 가스 소오스(152)(GAS source)를 포함한다. On the other hand, the outer side of the housing 101 is provided with a gas supply unit 150 for supplying a process gas. The gas supply unit 150 includes a plurality of process gas discharge pipes 151 and a gas source 152 (GAS source) for supplying process gas to adjacent positions for each seating plate 113.

이 공정가스 배출관(151)을 통하여 각각의 안착판(113) 측으로 공급되는 공정가스는 수소와 트리메탈갈륨(TMGa:Trimethylgallium)이 혼합 및 희석된 것일 수 있다. 그리고 각각의 공정가스 배출관(151)에는 질량유량제어기(153)(MFC: Mass Flow Controller)가 구비된다. The process gas supplied to each of the seating plate 113 through the process gas discharge pipe 151 may be a mixture of hydrogen and trimethylgallium (TMGa) and diluted. Each process gas discharge pipe 151 is provided with a mass flow controller 153 (MFC: Mass Flow Controller).

그리고 공정가스 배출관(151)이 위치하는 반대측 위치에는 배기부(160)가 위치한다. 배기부(160)는 공정후 가스를 하우징(101)으로부터 외부로 배출하는 기능을 한다. 배기부(160)는 각각의 안착판(113)마다의 위치에 인접한 다수개의 배기관(161)과 배기관(161)들이 연결된 배기펌프(162)를 포함한다.And the exhaust unit 160 is located on the opposite side where the process gas discharge pipe 151 is located. The exhaust unit 160 functions to discharge the gas from the housing 101 to the outside after the process. The exhaust unit 160 includes a plurality of exhaust pipes 161 adjacent to positions of each seating plate 113 and an exhaust pump 162 to which the exhaust pipes 161 are connected.

이하에는 본 실시예에 따른 서셉터 코팅방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the susceptor coating method according to the present embodiment will be described.

도 3은 본 실시예에 따른 서셉터 코팅방법을 도시한 순서도이다. 도 3에 도시된 바와 같이 적층부(110)를 하우징(101) 외부로 인출한다. 그리고 이미 앞선 공정으로 유기금속화합물 증착 공정을 수행한 다수개의 서셉터(200)를 각각의 안착판(113)에 안착한다. 안착방법은 로봇으로 수행할 수 있다. 3 is a flowchart illustrating a susceptor coating method according to the present embodiment. As shown in FIG. 3, the stack 110 is drawn out of the housing 101. In addition, a plurality of susceptors 200 which have already been subjected to the organometallic compound deposition process as described above are mounted on each seating plate 113. The seating method can be performed by a robot.

그리고 서셉터(200)가 안착되면 이동부(140)를 이용하여 적층부(110)를 하우징(101) 내부로 진입시킨다. When the susceptor 200 is seated, the stacking unit 110 enters the housing 101 using the moving unit 140.

이후 하우징(101) 내부를 밀폐하고, 하우징(101) 내부로 수소 또는 질소가스를 공정가스 배출관(151)을 통하여 하우징(101) 내부로 공급한다. 또한 이와 함께 적층부(110)를 회전시킨다(S100). 그리고 하우징(101) 내부를 히터(102)를 이용하여 1000도 ~ 1500도로 가열한다. 이때의 가열은 1 - 3시간 동안 진행된다. 이에 따라 서셉터에 퇴적된 퇴적물을 제거하는 베이킹 공정이 수행된다(S110). Thereafter, the inside of the housing 101 is sealed, and hydrogen or nitrogen gas is supplied into the housing 101 through the process gas discharge pipe 151 into the housing 101. In addition, the stack 110 is rotated together (S100). Then, the inside of the housing 101 is heated to 1000 degrees to 1500 degrees using the heater 102. Heating at this time is carried out for 1 to 3 hours. Accordingly, a baking process for removing the deposits deposited on the susceptor is performed (S110).

베이킹 공정이 완료되면 계속해서 적층부(110)를 회전시키는 상태에서 하우징(101) 내부를 히터(102)로 900 ~ 1100도로 가열한다. 그리고 하우징(101) 내부의 각각의 공정가스 배출관(151)으로 수소와 트리메탈갈륨을 혼합 및 희석하여 공급한다. 이때의 공정은 2 - 5시간 동안 진행된다. When the baking process is completed, the inside of the housing 101 is heated at 900 to 1100 degrees with the heater 102 while the lamination part 110 is continuously rotated. Then, hydrogen and trimetalgallium are mixed and diluted to each process gas discharge pipe 151 inside the housing 101. The process at this time is carried out for 2 to 5 hours.

이에 따라 서셉터(200)에 대한 코팅 공정이 수행된다(S120). 그리고 코팅 공정시에 각각의 서셉터(200)로 조절된 공정가스가 공급되도록 질량유량제어기(153)가 공정가스의 공급량을 제어한다.Accordingly, the coating process for the susceptor 200 is performed (S120). In addition, the mass flow controller 153 controls the supply amount of the process gas so that the regulated process gas is supplied to each susceptor 200 during the coating process.

이상과 같은 한 번의 공정으로 두수개의 서셉터에 대한 베이킹과 코팅공정이 동시에 수행된다. 따라서 종래의 비하여 보다 향상된 서셉터 베이킹 및 코팅공정 효율을 달성할 수 있다.In one process as described above, baking and coating processes for two or more susceptors are performed at the same time. Therefore, it is possible to achieve more improved susceptor baking and coating process efficiency compared to the conventional.

이상의 본 발명의 실시예는, 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 보호범위는 청구범위에 기재된 사항에 의하여만 제한되고, 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하다. 따라서 이러한 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호범위에 속하게 될 것이다.
The above embodiments of the present invention should not be interpreted as limiting the technical idea of the present invention. The protection scope of the present invention is limited only by the matters described in the claims, and those skilled in the art can change and change the technical idea of the present invention in various forms. Therefore, such improvements and modifications will fall within the protection scope of the present invention, as will be apparent to those skilled in the art.

100...가열로
110...적층부
120...덮개
130...회전부
140...이동부
150...가스 공급부
160...배기부
200...서셉터100 ... with heating
110 ... lamination
120 ... cover
130.Rotator
140.Moving part
150 gas supply unit
160 ... exhaust
200 ... susceptors

Claims (9)

가열로;
상기 가열로 내부로 진입하며, 다수개의 서셉터가 서로 이격되어 적층된 적층부;
상기 가열로의 외부에 위치하며 상기 적층부의 일측과 연결되어 상기 적층부를 회전시키는 회전부;
상기 가열로 내부로 상기 적층부가 진출입 하도록 상기 적층부와 상기 회전부를 이동시키는 이동부;
상기 다수개의 서셉터의 각각에 인접되도록 구비되어 상기 가열로 내부로 상기 다수개의 서셉터의 코팅을 위한 공정가스를 공급하는 가스 공급부;
상기 가열로 내부를 배기하는 배기부를 구비하는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅장치.
Heating furnace;
A stacking unit which enters into the heating furnace and is stacked with a plurality of susceptors spaced apart from each other;
A rotating part located outside the heating furnace and connected to one side of the lamination part to rotate the lamination part;
A moving part which moves the laminating part and the rotating part so that the laminating part enters and exits the heating furnace;
A gas supply unit provided to be adjacent to each of the plurality of susceptors and supplying process gases for coating the plurality of susceptors into the heating furnace;
Susceptor coating apparatus comprising an exhaust unit for exhausting the inside of the heating furnace.
제 1항에 있어서, 상기 적층부는 상하로 배열되며 상기 서셉터가 낱장씩 안착되는 다수개의 안착판과 상기 안착판을 이격시키며 지지하는 지지바를 포함하는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅장치.
The susceptor coating apparatus according to claim 1, wherein the lamination part includes a plurality of seating plates arranged up and down and the support bars are spaced apart from each other to support the seating plates.
제 2항에 있어서, 상기 가스 공급부는 상기 안착판마다 인접한 위치로 공정가스를 공급하는 다수개의 공정가스 배출관을 포함하고, 상기 공정가스 배출관으로부터 공급되는 공정가스는 수소와 트리메탈갈륨(TMGa:Trimethylgallium)인 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅장치.
The gas supply unit of claim 2, wherein the gas supply unit includes a plurality of process gas discharge pipes supplying process gases to adjacent positions of the seating plates, and the process gas supplied from the process gas discharge pipes is hydrogen and trimethylgallium (TMGa). Susceptor coating apparatus characterized in that).
제 2항에 있어서, 상기 지지바가 결합되며 상기 가열로의 개구부에 밀착되는 덮개를 구비하고, 상기 회전부는 가열로의 외측에 상기 덮개와 결합되는 모터와, 상기 덮개를 관통하며 상기 적층부의 끝단에 결합되는 회전축을 구비하는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅장치.
According to claim 2, wherein the support bar is coupled to the cover is in close contact with the opening of the heating furnace, wherein the rotating portion is a motor coupled to the cover on the outside of the heating furnace, and through the cover to the end of the laminated portion Susceptor coating apparatus comprising a rotating shaft coupled.
제 1항에 있어서, 상기 가스 공급부는 상기 서셉터에 퇴적되는 퇴적물이 용이하게 제거될 수 있도록 상기 공정가스를 공급하여 상기 서셉터를 코팅하는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅장치.
The susceptor coating apparatus according to claim 1, wherein the gas supply unit supplies the process gas to coat the susceptor so that the deposit deposited on the susceptor can be easily removed.
다수개의 서셉터를 서로 이격하여 가열로 내부에 위치시켜 회전시키고,
상기 가열로 내부를 1000도 ~ 1500도로 가열하여 상기 서셉터를 베이킹하고,
상기 가열로의 내부를 900 ~ 1100도로 가열하며 상기 가열로의 내부로 수소와 트리메탈갈륨을 공급하여 상기 서셉터를 코팅하는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅방법.
A plurality of susceptors are spaced apart from each other and placed inside the furnace to rotate,
Baking the susceptor by heating the inside of the furnace 1000 to 1500 degrees,
Susceptor coating method characterized in that for heating the interior of the furnace 900 ~ 1100 degrees and supplying hydrogen and trimetalgallium to the interior of the furnace to coat the susceptor.
제 6항에 있어서, 상기 베이킹은 1 - 3시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅방법.
7. The susceptor coating method according to claim 6, wherein the baking is performed for 1 to 3 hours.
제 6항에 있어서, 상기 코팅은 2 - 5시간 동안 진행되는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅방법.
7. The susceptor coating method of claim 6, wherein the coating is performed for 2 to 5 hours.
제 6항에 있어서, 상기 가열로의 내부에 위치한 상기 다수개의 서셉터마다 상기 수소와 상기 트리메탈갈륨을 공급하는 복수개의 공정가스 공급부가 위치하는 것을 특징으로 하는 서셉터 코팅방법.7. The susceptor coating method according to claim 6, wherein a plurality of process gas supply units supplying the hydrogen and the trimetal gallium to each of the plurality of susceptors located in the heating furnace are located.
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