KR101100916B1 - 상압 플라즈마 발생 장치 및 이를 이용한 상압 플라즈마 발생 방법 - Google Patents
상압 플라즈마 발생 장치 및 이를 이용한 상압 플라즈마 발생 방법 Download PDFInfo
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Abstract
Description
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- 마이크로 웨이브가 인가되는 도파관 및 상기 도파관을 관통하며 토치 가스가 유입되어 플라즈마가 발생하는 유전관을 포함하는 상압 플라즈마 발생 장치에 있어서, 도파관의 직경은 동일하고, 상기 도파관의 단부는 곡면을 이루는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 도파관의 단부는 이동 가능한 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 도파관의 단부는 내벽 및 외벽의 이중벽 구조이고, 상기 내벽을 이동시킬 수 있는 수단이 상기 외벽에 구비되는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 장치.
- 제 2항에 있어서,상기 도파관의 내측면 상에 복수의 오목부를 포함하는 요철면이 구비되며, 상기 도파관의 단부는 상기 요철면의 오목부상에서 이동가능한 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 상압 플라즈마 발생 장치는 플라즈마 발생량을 측정하는 측정 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 장치.
- 제 5항에 있어서,상기 측정 수단은 상기 플라즈마의 빛 세기를 측정하는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 장치.
- 마이크로 웨이브를 동일한 직경을 갖지며, 단부가 곡면을 이루는 도파관에 인가하는 단계;상기 도파관을 관통하며, 토치 가스가 유입되는 유전관 내에서 플라즈마를 발생시키는 단계;상기 도파관의 길이를 변화시킴에 따라 발생하는 플라즈마 발생량을 측정하는 단계; 및상기 플라즈마 강도가 최대가 되는 지점에서 상기 도파관 길이를 고정하는 단계를 포함하는 상압 플라즈마 발생 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 플라즈마 강도 측정은 상기 플라즈마의 빛 세기를 측정함으로써 이루어 지는 것을 특징으로 하는 상압 플라즈마 발생 방법.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/KR2009/007079 WO2010064818A2 (ko) | 2008-12-02 | 2009-11-30 | 상압 플라즈마 발생 장치 및 이를 이용한 상압 플라즈마 발생 방법 |
TW098141067A TW201031278A (en) | 2008-12-02 | 2009-12-01 | Atmospheric plasma generating apparatus and atmospheric plasma generating method using the same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080121475 | 2008-12-02 | ||
KR20080121475 | 2008-12-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20100062935A KR20100062935A (ko) | 2010-06-10 |
KR101100916B1 true KR101100916B1 (ko) | 2012-01-02 |
Family
ID=42363110
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020090116798A KR101100916B1 (ko) | 2008-12-02 | 2009-11-30 | 상압 플라즈마 발생 장치 및 이를 이용한 상압 플라즈마 발생 방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101100916B1 (ko) |
TW (1) | TW201031278A (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9345121B2 (en) * | 2014-03-28 | 2016-05-17 | Agilent Technologies, Inc. | Waveguide-based apparatus for exciting and sustaining a plasma |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR960014434A (ko) * | 1994-10-12 | 1996-05-22 | 슈테판 라아브 | 직물기계의 톱니 부속품 |
KR100189311B1 (ko) | 1994-10-26 | 1999-06-01 | 모리시따 요오이찌 | 플라즈마 발생용 마이크로파 플라즈마 토치 및 플라즈마 발생방법 |
KR100359380B1 (ko) | 1998-05-29 | 2002-11-04 | 레이볼트 시스템즈 게엠베하 | 플라즈마를 발생시키는 장치 |
KR100526593B1 (ko) | 1997-03-04 | 2005-12-21 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 원격플라즈마공급원의공진챔버애플리케이터 |
-
2009
- 2009-11-30 KR KR1020090116798A patent/KR101100916B1/ko active IP Right Grant
- 2009-12-01 TW TW098141067A patent/TW201031278A/zh unknown
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR960014434A (ko) * | 1994-10-12 | 1996-05-22 | 슈테판 라아브 | 직물기계의 톱니 부속품 |
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KR100526593B1 (ko) | 1997-03-04 | 2005-12-21 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 원격플라즈마공급원의공진챔버애플리케이터 |
KR100359380B1 (ko) | 1998-05-29 | 2002-11-04 | 레이볼트 시스템즈 게엠베하 | 플라즈마를 발생시키는 장치 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20100062935A (ko) | 2010-06-10 |
TW201031278A (en) | 2010-08-16 |
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