KR101094165B1 - Piezoresistive-type Touch Panel, Manufacturing Method Thereof, Display Device, Touch Pad and Pressure Sensor having it - Google Patents

Piezoresistive-type Touch Panel, Manufacturing Method Thereof, Display Device, Touch Pad and Pressure Sensor having it Download PDF

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Abstract

본 발명은 터치 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 압저항 방식의 터치 패널에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 터치 패널을 제조하는 방법에 있어서, 압력에 따라서 저항값이 변화하는 압저항(Piezoresistive) 필름 패턴이 매립되어 있는 폴리머 막을 제조하는 단계; 스페이서(spacer) 층을 제조하여, 상기 폴리머 막의 일면에 부착하는 단계; 상기 스페이서 층의 일면에 하판(bottom substrate)을 부착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법이 제공된다.The present invention relates to a touch panel, and more particularly, to a piezoresistive touch panel. According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, comprising: preparing a polymer film having a piezoresistive film pattern having a resistance value changed according to pressure; Preparing a spacer layer and attaching it to one surface of the polymer film; A method of manufacturing a piezoresistive touch panel is provided, including: attaching a bottom substrate to one surface of the spacer layer.

압저항, 터치 스크린, 터치 패드 Piezoresistive, touch screen, touch pad

Description

압저항 방식의 터치 패널, 그 제조방법, 이를 포함하는 디스플레이 장치, 터치 패드 및 압력센서{Piezoresistive-type Touch Panel, Manufacturing Method Thereof, Display Device, Touch Pad and Pressure Sensor having it}Piezoresistive touch panel, manufacturing method thereof, display device, touch pad and pressure sensor including the same {Piezoresistive-type Touch Panel, Manufacturing Method Thereof, Display Device, Touch Pad and Pressure Sensor having it}

본 발명은 터치 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 압저항 방식의 터치 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a touch panel, and more particularly, to a piezoresistive touch panel.

터치 패널(TOUCH PANEL)이란, 컴퓨터, 개인용 휴대 단말기 및 각종 사무기기등과 같은 전자기기에 있어서, 키보드나 마우스와 같은 입력장치를 사용하지 않고, 손가락이나 펜을 이용한 접촉에 의한 신호전달을 이용하여 입력을 할 수 있는 장치이다. 터치 패널은 구현방식에 따라 대표적으로 저항막(Resistive) 방식과 정전용량(Capacitive) 방식으로 구분된다. 저항막 방식은 투명전극이 코팅되어 있는 두 장의 기판으로 구성되어 있으며, 손가락이나 펜으로 압력을 가해 상부와 하부의 전극층이 접촉되면 전기적 신호가 발생하여 위치를 인지하는 방식이다. 정전용량 방식은 사람의 몸에서 발생하는 정전기를 감지해 구동하는 방식으로 내구성이 강하다.TOUCH PANEL is an electronic device such as a computer, a personal portable terminal, and various office equipment. Instead of using an input device such as a keyboard or a mouse, a touch panel is used for signal transmission by using a finger or a pen. It is a device that can input. The touch panel is typically classified into a resistive method and a capacitive method according to an implementation method. The resistive film is composed of two substrates coated with a transparent electrode. When the upper and lower electrode layers contact each other by applying pressure with a finger or a pen, an electrical signal is generated to recognize a position. The capacitive method is a method that senses and drives static electricity generated in a human body and is durable.

상술한 종래의 터치 패널을 다음과 같은 문제점이 있다. 저항막 방식은 가격이 싸고 정확도가 높지만, 두 전극 층의 물리적 접촉으로 인하여 파손에 대한 위험이 크다는 단점이 있다. 정전용량 방식은 정전기가 발생하지 않는 펜이나 장갑을 낀 손 등에는 동작하지 않는 단점이 있다.The above-described conventional touch panel has the following problems. The resistive film method is inexpensive and has high accuracy, but has a disadvantage of high risk of breakage due to physical contact between two electrode layers. The capacitive method has a disadvantage in that it does not work with a pen or a glove that does not generate static electricity.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 내구성이 높으며, 어떠한 입력 수단이라도 사용할 수 있는 압저항 방식의 터치 패널을 제공하는 것을 목적으로 한다. An object of the present invention is to provide a piezoresistive touch panel having high durability and capable of using any input means.

본 발명에 의하면, 터치 패널을 제조하는 방법에 있어서, 압력에 따라서 저항값이 변화하는 압저항(Piezoresistive) 필름 패턴이 매립되어 있는 폴리머 막을 제조하는 단계; 스페이서(spacer) 층을 제조하여, 상기 폴리머 막의 일면에 부착하는 단계; 상기 스페이서 층의 일면에 하판(bottom substrate)을 부착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법이 제공된다.According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a touch panel, comprising: preparing a polymer film having a piezoresistive film pattern having a resistance value changed according to pressure; Preparing a spacer layer and attaching it to one surface of the polymer film; A method of manufacturing a piezoresistive touch panel is provided, including: attaching a bottom substrate to one surface of the spacer layer.

여기에서, 상기 폴리머 막을 제조하는 단계는, 탄소나노튜브 필름 패턴을 포함하는 폴리머 막을 제조하는 단계일 수 있다. The preparing of the polymer film may include preparing a polymer film including a carbon nanotube film pattern.

또한, 상기 폴리머 막을 제조하는 단계는, a) 기판 위에 중간막을 형성하는 단계; b) 상기 중간막 위에 탄소나노튜브 필름을 형성하는 단계; c) 상기 탄소나노튜브 막을 패터닝하여 상기 중간막 위에 탄소나노튜브 필름 패턴을 형성하는 단계; d) 상기 중간막 위에 폴리머 용액을 도포한 후 경화시켜 상기 탄소나노튜브 필름 패턴을 포함하는 폴리머 막을 형성하는 단계; 및 e) 상기 탄소나노튜브 필름 패턴을 갖는 상기 폴리머 막을 상기 중간막으로부터 분리하는 단계;를 포함하는 단계일 수 있다. In addition, the manufacturing of the polymer film may include the steps of: a) forming an intermediate film on the substrate; b) forming a carbon nanotube film on the interlayer; c) patterning the carbon nanotube film to form a carbon nanotube film pattern on the interlayer; d) applying a polymer solution on the intermediate film and then curing to form a polymer film including the carbon nanotube film pattern; And e) separating the polymer film having the carbon nanotube film pattern from the interlayer.

또한, 스페이서 층을 제조하여, 상기 폴리머 막의 일면에 부착하는 단계는, f) 베이스 위에 몰드를 형성하는 단계; g) 상기 몰드가 형성된 상기 베이스 위에 폴리머 용액을 도포한 후 경화시켜 스페이서 층을 형성하는 단계; h) 상기 스페이서 층을 상기 베이스 및 상기 몰드로부터 분리하는 단계; 및 i) 상기 스페이서 층을 상기 탄소나노튜브 필름 패턴을 갖는 상기 폴리머 막에 부착하는 단계;를 포함하는 단계일 수 있다. In addition, preparing a spacer layer and attaching it to one surface of the polymer film may include f) forming a mold on the base; g) applying a polymer solution on the base on which the mold is formed and then curing to form a spacer layer; h) separating the spacer layer from the base and the mold; And i) attaching the spacer layer to the polymer film having the carbon nanotube film pattern.

본 발명의 다른 태양에 의하면, 터치 패널에 있어서, 압력에 따라서 저항값이 변화하는 압저항(Piezoresistive) 필름 패턴이 매립되어 있는 폴리머 막; 상기 폴리머 막과 대향 하는 하판(bottom substrate); 및 상기 폴리머 막과 상기 하판을 일정한 간격을 두고 접합시키는 스페이서(spacer) 층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널이 제공된다.According to another aspect of the present invention, there is provided a touch panel comprising: a polymer film having a piezoresistive film pattern in which a resistance value changes with pressure; A bottom substrate facing the polymer film; And a spacer layer for bonding the polymer film and the lower plate to each other at regular intervals.

여기에서, 상기 압저항 필름 패턴은 탄소나노튜브 필름 패턴일 수 있다.Here, the piezoresistive film pattern may be a carbon nanotube film pattern.

본 발명의 또 다른 태양에 의하면, 상기 터치 패널을 포함하는 디스플레이, 터치 패드, 압력센서와 같은 각종 전자기기용 입력수단이 제공된다. According to still another aspect of the present invention, an input means for various electronic devices such as a display, a touch pad, and a pressure sensor including the touch panel is provided.

본 발명에 의한 압저항 방식의 터치 패널은 다음과 같은 효과가 있다.The piezoresistive touch panel according to the present invention has the following effects.

첫째, 압저항 방식을 사용하였기 때문에 내구성이 높으며, 어떠한 입력 수단이라도 사용할 수 있다. First, since the piezoresistive method is used, the durability is high, and any input means can be used.

둘째, 압저항 필름에 가해지는 압력에 비례하여 저항값이 변화하므로 다기능 터치 센서(multi-functional touch sensor)로의 응용이 가능하다. Second, since the resistance value changes in proportion to the pressure applied to the piezoresistive film, it is possible to apply to a multi-functional touch sensor.

셋째, 종래의 터치 패널과 달리 주요 구성 요소인 폴리머 막 및 압저항 필름 패턴이 모두 유연성이 있다. 따라서 곡면에 부착할 수 있으며, 구부러지는 부품에도 설치가 가능하다. 예를 들어, 구부러지는 디스플레이나, 터치 패드 등에 응용이 가능하다. Third, unlike the conventional touch panel, the polymer film and the piezoresistive film pattern, which are main components, are all flexible. Therefore, it can be attached to curved surfaces, and can be installed on curved parts. For example, it can be applied to a curved display, a touch pad, and the like.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널 및 그 제조방법에 대하여 설명한다. 도면에서 구성요소의 크기와 형상 등은 발명의 이해를 돕기 위해 과장되거나 단순화되어 나타날 수 있다.Hereinafter, a piezoresistive touch panel and a method of manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the size and shape of the components, etc. may be exaggerated or simplified to aid in understanding the invention.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 분해 사시도이며, 도 2는 도 1에 도시된 터치 패널의 일부를 나타낸 단면도이다. 1 is an exploded perspective view of a piezoresistive type touch panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a part of the touch panel illustrated in FIG. 1.

도 1과 2에 도시된 바와 같이 본 실시예에 따른 터치 패널은 폴리머 막(26), 폴리머 막(26)에 매립된 탄소나노튜브 필름 패턴(25), 스페이서(31) 및 하판(30, bottom layer)을 포함한다. 본 실시예에 있어서 탄소나노튜브 필름 패턴(25)이 매립된 폴리머 막(26)이 터치 패널의 상판을 이룬다.As shown in FIGS. 1 and 2, the touch panel according to the present embodiment includes a polymer film 26, a carbon nanotube film pattern 25 embedded in the polymer film 26, a spacer 31, and a bottom plate 30, bottom. layer). In the present embodiment, the polymer film 26 having the carbon nanotube film pattern 25 embedded therein forms a top plate of the touch panel.

폴리머 막(26)은 인가 압력에 따라 변형되고, 폴리머 막(26)이 변형되면 이에 내장된 탄소나노튜브 필름 패턴(25)의 저항값이 달라져 압력을 감지할 수 있다. 터치 패드 등에 사용하는 경우에는 투명한 폴리머 막을 사용할 필요가 없으나 터치 스크린 등 디스플레이에 사용하는 경우에는 투명하고 유연한 막을 사용한다. 예를 들면, PDMS, PET, 폴리이미드 등이 있다. The polymer film 26 is deformed according to the applied pressure, and when the polymer film 26 is deformed, the resistance value of the carbon nanotube film pattern 25 embedded therein may be changed to detect the pressure. When using a touch pad, it is not necessary to use a transparent polymer film, but when using a display such as a touch screen, a transparent and flexible film is used. For example, PDMS, PET, polyimide and the like.

탄소나노튜브 필름 패턴(25)은 탄소나노튜브 필름 층이 일정한 형태로 패터닝된 것이다. 이러한 터치 패널은 탄소나노튜브 필름 패턴(25)의 저항 변화를 이용함으로써 감도가 높고, 곡면에 부착 가능한 장점이 있다. 잘 알려진 것과 같이, 탄소나노튜브는 탄소로 이루어진 탄소동소체로서 하나의 탄소가 다른 탄소원자와 육각형 벌집무늬로 결합되어 튜브 형태를 이루고 있는 물질이다. 탄소나노튜브는 그 직경이 나노미터 수준으로 극히 미세하고, 전도성이 구리(Cu)의 약 1000배이고, 강도는 강철보다 100배 우수하다. 그리고 탄소나노튜브는 15%가 변형되더라도 끊어지지 않고 견딜 수 있는 특성이 있다. 이러한 특성 때문에, 탄소나노튜브는 폴리머 막(26)에 내장되어 폴리머 막(26)과 함께 변형될 수 있는 유연한 전기소자로서 적합하다. 탄소나노튜브 필름 패턴(25)은 폴리머 막(26)에 매립되어, 그 일면이 폴리머 막(26)의 일면으로 노출되어 있다. 따라서, 탄소나노튜브 필름 패턴(25)과 폴리머 막(26)의 결합력은 매우 크며, 탄소나노튜브 필름 패턴(25)은 폴리머 막(26)으로부터 쉽게 분리되지 않는다. The carbon nanotube film pattern 25 is a pattern in which the carbon nanotube film layer is uniformly formed. Such a touch panel has a high sensitivity by using a resistance change of the carbon nanotube film pattern 25 and has an advantage of being able to be attached to a curved surface. As is well known, carbon nanotubes are carbon allotrope consisting of carbon, in which one carbon is combined with other carbon atoms in a hexagonal honeycomb pattern to form a tube. Carbon nanotubes are extremely fine at the nanometer diameter, have a conductivity of about 1000 times that of copper (Cu), and are 100 times stronger than steel. And carbon nanotubes have the property of being able to withstand without breaking even if 15% is deformed. Because of this property, carbon nanotubes are suitable as flexible electrical elements that can be embedded in the polymer film 26 and deformed with the polymer film 26. The carbon nanotube film pattern 25 is embedded in the polymer film 26, and one surface thereof is exposed to one surface of the polymer film 26. Therefore, the bonding force of the carbon nanotube film pattern 25 and the polymer film 26 is very large, and the carbon nanotube film pattern 25 is not easily separated from the polymer film 26.

탄소나노튜브 필름 패턴(25)은 압저항체로서의 역할을 한다. 압저항체는 기계적인 변형에 대해서 전기적인 신호인 저항값이 변하는 특성이 있으며, 압저항체의 스트레인 감도(strain sensitivity)를 나타내는 게이지 인자(gauge factor, G)가 중요한 요소이다. 미소 전자 기계 시스템(MEMS) 분야에서 사용되고 있는 압저항 체는 단결정 실리콘(single-crystal silicon)과 금속이 있다. 단결정 실리콘은 1000℃가 넘는 고온 환경에서 불순물의 도핑 공정으로 제작되며, 100 ~ 170의 높은 게이지 인자를 가진다. 그러나 고온환경에서의 제작으로 인해 폴리머(polymer) 기판에서는 사용할 수 없다는 단점이 있다. 금속은 진공 증착 방식으로 제작되며, 2 ~ 5의 낮은 게이지 인자를 가진다. 이것은 폴리머 기판에서 사용할 수 있지만, 낮은 감도로 인해 응용 분야가 제한적이라는 단점이 있다. 본 발명에서 이용한 탄소나노튜브 필름 패턴(25)은 폴리머 기판에서 사용되는 금속보다 최대 10배 높은 게이지 인자 값을 가지며, 낮은 온도에서 형성이 가능하므로 터치 패널에 있어서 투명전극으로써 이용될 수 있다. The carbon nanotube film pattern 25 serves as a piezoresistor. The piezoresistor has a characteristic that the resistance value, which is an electrical signal, changes with respect to mechanical deformation, and a gauge factor (G) indicating the strain sensitivity of the piezoresistor is an important factor. Piezoresistive bodies used in the field of microelectromechanical systems (MEMS) include single-crystal silicon and metals. Single crystal silicon is manufactured by doping of impurities in high temperature environment over 1000 ℃ and has high gauge factor of 100 ~ 170. However, due to the manufacturing in a high temperature environment there is a disadvantage that can not be used in the polymer (polymer) substrate. The metal is fabricated by vacuum deposition and has a low gauge factor of 2-5. It can be used in polymer substrates but has a disadvantage of limited application due to its low sensitivity. The carbon nanotube film pattern 25 used in the present invention has a gauge factor value of up to 10 times higher than the metal used in the polymer substrate and can be formed at a low temperature, and thus may be used as a transparent electrode in a touch panel.

도 3과 4는 탄소나노튜브 필름 패턴의 압저항체로서의 특성을 나타내는 그래프이다. 도 3은 동일한 크기의 힘을 반복적으로 인가할 경우 탄소나노튜브 필름 패턴의 저항값이 인가 힘에 따라 증가하였다가 힘을 제거하게 되면 원래의 저항값으로 복원되는 것을 보여준다. 도 4는 압력을 다르게 하여 인가할 경우, 압력에 비례하여 처짐이 발생하며, 따라서 탄소나노튜브 필름 패턴의 저항변화도 커지는 것을 보여준다. 동일한 지점에서도 누르는 힘에 따라 저항값이 다르게 변하기 때문에, 한 개의 버튼으로 여러 기능을 수행할 수 있는 다기능 터치 센서(multi-functional touch sensor)로 응용할 수 있다는 장점이 있다.3 and 4 are graphs showing the characteristics of the carbon nanotube film pattern as a piezoresistor. FIG. 3 shows that the resistance value of the carbon nanotube film pattern is increased according to the applied force when the same size of force is repeatedly applied and then restored to the original resistance value when the force is removed. 4 shows that when different pressures are applied, deflection occurs in proportion to the pressure, and thus the resistance change of the carbon nanotube film pattern is also increased. Since the resistance value varies depending on the pressing force at the same point, there is an advantage that it can be applied as a multi-functional touch sensor that can perform multiple functions with one button.

스페이서(31, spacer)는 폴리머 막(26)에 인가된 압력에 따라, 탄소나노튜브 필름 패턴(25)이 변형되어 전항 값이 변화할 수 있도록, 하판(30)과 탄소나노튜브 필름 패턴(25) 사이에 공간을 확보하는 역할을 한다.The spacer 31 has a lower plate 30 and a carbon nanotube film pattern 25 so that the carbon nanotube film pattern 25 may be deformed to change the previous value according to the pressure applied to the polymer film 26. It is a function to secure space between).

하판(30, bottom layer)은 스페이서(31)를 지지한다. 터치 스크린에 사용하는 경우에는 하판으로 투명한 유리 기판 또는 플라스틱 기판을 사용하며, 하판의 아래에 조명부인 LCD 층을 설치한다. A bottom layer 30 supports the spacer 31. In the case of using a touch screen, a transparent glass substrate or a plastic substrate is used as the lower plate, and an LCD layer serving as an illumination unit is provided under the lower plate.

이하, 압저항 방식을 이용한 터치 패널의 작동원리를 간략하게 설명한다. 투명 전극의 역할을 수행하는 탄소나노튜브 필름 패턴(25)은 폴리머 막(26)에 매립되어 있으며, 펜이나 손을 이용하여 폴리머 막(26) 표면을 누를 때 처짐이 발생한다. 이때 탄소나노튜브 필름 패턴(25)에도 변형이 발생한다. 압저항 물질은 기계적인 변형에 대해서 저항값이 변하는 특성이 있으므로, 이러한 변형에 의해서 저항값의 변화가 발생한다. 따라서 터치 패널의 위치에 따른 저항값의 변화를 측정하여 압력이 가해진 위치를 인지할 수 있다. Hereinafter, the operating principle of the touch panel using the piezoresistive method will be briefly described. The carbon nanotube film pattern 25 serving as the transparent electrode is embedded in the polymer film 26, and sagging occurs when the surface of the polymer film 26 is pressed by using a pen or a hand. At this time, deformation occurs in the carbon nanotube film pattern 25. Since the piezoresistive material has a property that the resistance value changes with respect to mechanical deformation, the resistance value changes due to such deformation. Therefore, by measuring the change in the resistance value according to the position of the touch panel can recognize the position where the pressure is applied.

이하에서는 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법에 대하여 설명한다. Hereinafter, a method of manufacturing a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention will be described.

먼저, 도 5에 도시된 것과 같이, 기판(21)을 세척한 후 기판(21) 위에 중간막(22)을 형성한다. 기판(21)으로는 실리콘, 유리, 석영 등 단단한 재질의 것이 이용될 수 있다. 중간막(22)은 폴리머 막(26)이 형성되고 나면 제거될 부분으로, 기판(21)과의 결합력이 약한 것이 바람직하다. 또한, 중간막(22)은 기판(21)과의 결합력이 폴리머 막(26)과의 결합력에 비하여 약하고, 폴리머 막(26) 형성 시 손상을 받지 않으며, 폴리머 막(26) 형성 후에는 폴리머 막(26)을 손상시키지 않고 선택적으로 용이하게 제거될 수 있는 것이 좋다.First, as shown in FIG. 5, after washing the substrate 21, an intermediate film 22 is formed on the substrate 21. As the substrate 21, a hard material such as silicon, glass, or quartz may be used. The intermediate film 22 is a portion to be removed after the polymer film 26 is formed, and it is preferable that the interlayer 22 has a weak bonding force with the substrate 21. In addition, the interlayer 22 has a weak bonding force with respect to the substrate 21 and a bonding force with respect to the polymer film 26, and is not damaged when the polymer film 26 is formed. It is desirable that it can be easily removed selectively without damaging the material.

이러한 조건에 적합한 중간막(22)으로 다양한 재질의 박막이 이용될 수 있 다. 중간막(22)으로 금(Au)과 같은 금속 박막을 예로 들 수 있다. 금속 박막은 기판과 결합력이 약하고, 탄소나노튜브와 폴리머 재료의 성장 및 식각 등 제조공정 중에 손상을 받지 않으며, 식각용액에 의해 폴리머를 손상시키지 않고 제거될 수 있다. 금속 박막은 전자빔 방식이나 스퍼터 방식 등으로 기판(21)에 증착될 수 있다.As the intermediate film 22 suitable for such a condition, a thin film of various materials may be used. Examples of the interlayer 22 include a metal thin film such as gold (Au). The metal thin film is weakly bonded to the substrate and is not damaged during the manufacturing process such as growth and etching of carbon nanotubes and polymer materials, and may be removed without damaging the polymer by the etching solution. The metal thin film may be deposited on the substrate 21 by an electron beam method, a sputter method, or the like.

기판(21)에 중간막(22)을 형성한 후, 중간막(22) 위에 탄소나노튜브 필름 층(24)을 형성한다. 탄소나노튜브 필름 층(24)을 형성하는 방법으로 회전 도포법이나 진공 여과법을 예로 들 수 있다.After the intermediate film 22 is formed on the substrate 21, the carbon nanotube film layer 24 is formed on the intermediate film 22. Examples of the method of forming the carbon nanotube film layer 24 include a rotary coating method and a vacuum filtration method.

도 6과 7은 스핀 코터(Spin Coater, 40)를 이용한 회전 도포법으로 탄소나노튜브 필름 층(24)을 형성하는 과정을 나타낸 것이다. 먼저, 도 6에 도시된 것과 같이, 중간막(22)이 형성된 기판(21)을 스핀 코터(40)의 턴 테이블(41) 위에 올려놓는다. 그리고, 도 7에 도시된 것과 같이, 턴 테이블(41)을 회전시키면서 탄소나노튜브 용액(23)을 회전하는 중간막(22) 위에 떨어뜨린다. 이때, 중간막(22)의 표면에는 탄소나노튜브 용액(23)이 일정한 두께로 도포된다. 이후, 중간막(22) 위에 도포된 탄소나노튜브 용액(23)을 건조시키면 일정한 두께의 탄소나노튜브 필름 층(24)이 만들어진다.6 and 7 illustrate a process of forming the carbon nanotube film layer 24 by a spin coating method using a spin coater 40. First, as shown in FIG. 6, the substrate 21 on which the intermediate film 22 is formed is placed on the turn table 41 of the spin coater 40. As shown in FIG. 7, the carbon nanotube solution 23 is dropped on the rotating intermediate film 22 while the turn table 41 is rotated. At this time, the carbon nanotube solution 23 is applied to the surface of the interlayer 22 to a predetermined thickness. Thereafter, when the carbon nanotube solution 23 coated on the interlayer 22 is dried, a carbon nanotube film layer 24 having a predetermined thickness is formed.

여기에서, 탄소나노튜브 용액(23)은 분산 용액에 탄소나노튜브가 분산되어 있는 것이다. 분산 용액으로는 나트륨도데실벤젠설포네이트(Sodium DodecylBenzene Sulfonate, SDBS) 용액이 이용될 수 있다. 탄소나노튜브 필름 층(24)의 두께는 탄소나노튜브 용액(23)의 양, 탄소나노튜브 용액(23) 내의 탄소나노튜브 밀도, 턴 테 이블(41)의 회전 속도 등에 의해 조절된다.Here, the carbon nanotube solution 23 is a carbon nanotube is dispersed in a dispersion solution. As the dispersion solution, a sodium dodecylbenzene sulfonate (SDBS) solution may be used. The thickness of the carbon nanotube film layer 24 is controlled by the amount of carbon nanotube solution 23, the density of carbon nanotubes in the carbon nanotube solution 23, the rotation speed of the turn table 41, and the like.

한편, 도 8과 9는 진공 여과법으로 탄소나노튜브 필름 층(24)을 형성하는 과정을 나타낸 것이다. 먼저, 도 8에 도시된 것과 같이, 탄소나노튜브 용액(23)을 걸러낼 수 있는 여과막(43)을 흡입 부재(44)의 위에 올려놓고, 여과막(43) 위에 탄소나노튜브 필름 층(24)의 형상에 대응하는 틀(45)을 올려놓는다. 그리고 틀(45)에 탄소나노튜브 용액(23)을 부으면서 흡입 부재(44)에 연결되어 있는 진공 펌프(46)를 작동시킨다. 이때, 분산 용액은 여과막(43)을 통과하여 흡입 부재(44)의 하부로 배출되고, 탄소나노튜브는 여과막(43)에 포집된다.8 and 9 illustrate a process of forming the carbon nanotube film layer 24 by vacuum filtration. First, as shown in FIG. 8, the filtration membrane 43 capable of filtering the carbon nanotube solution 23 is placed on the suction member 44, and the carbon nanotube film layer 24 is disposed on the filtration membrane 43. Place the frame 45 corresponding to the shape of. The vacuum pump 46 connected to the suction member 44 is operated by pouring the carbon nanotube solution 23 into the mold 45. In this case, the dispersion solution passes through the filtration membrane 43 and is discharged to the lower portion of the suction member 44, and the carbon nanotubes are collected in the filtration membrane 43.

이렇게 여과막(43) 위에 포집되어 있는 탄소나노튜브를 건조시키면, 도 9에 도시된 것과 같이, 여과막(43)의 위에는 탄소나노튜브 필름 층(24)이 형성된다. 이때, 탄소나노튜브 층(24)의 두께는 탄소나노튜브 용액의 양, 탄소나노튜브의 밀도, 여과막(43)의 공동도 등에 따라 가변된다. 이후, 여과막(43)에 만들어진 탄소나노튜브 막(24)을 중간막(22)으로 전사한다.When the carbon nanotubes collected on the filtration membrane 43 are dried in this way, as illustrated in FIG. 9, the carbon nanotube film layer 24 is formed on the filtration membrane 43. At this time, the thickness of the carbon nanotube layer 24 is variable depending on the amount of the carbon nanotube solution, the density of the carbon nanotubes, the cavities of the filtration membrane 43 and the like. Thereafter, the carbon nanotube membrane 24 formed on the filtration membrane 43 is transferred to the intermediate membrane 22.

도 10은 상술한 것과 같은 회전 도포법 또는 진공 여과법으로 만들어진 탄소나노튜브 필름 층(24)이 중간막(22) 위에 형성되어 있는 상태를 나타낸 것이다. 중간막(22) 위에 탄소나노튜브 필름 층(24)을 형성한 후, 중간막(22) 위에 박막 형태로 형성되어 있는 탄소나노튜브를 압저항 소자로 사용하기 위해 탄소나노튜브 필름 층(24)을 사진식각(Photolithography) 공정을 통해 패터닝한다.FIG. 10 shows a state in which the carbon nanotube film layer 24 made by the rotary coating method or the vacuum filtration method as described above is formed on the intermediate film 22. After the carbon nanotube film layer 24 is formed on the interlayer 22, the carbon nanotube film layer 24 is photographed to use carbon nanotubes formed in a thin film form on the interlayer 22 as piezoresistive elements. Patterning is done through a photolithography process.

탄소나노튜브 필름 층(24)을 패터닝하는데 사용되는 사진식각 공정은, 중간막(22)은 그대로 두고 탄소나노튜브 필름 층(24)을 일정 부분 제거할 수 있는 다양 한 건식 또는 습식 방식이 이용될 수 있다. 사진식각 공정은 공지되어 있는 기술이므로, 이를 이용한 패터닝 과정에 대한 상세한 설명은 생략한다. 도 11은 탄소나노튜브 필름 층(24)이 사진식각 공정을 통해 패터닝되어 중간막(22) 위에 탄소나노튜브 필름 패턴(25)이 형성되어 있는 상태를 나타낸 것이다.In the photolithography process used to pattern the carbon nanotube film layer 24, various dry or wet methods may be used to remove a portion of the carbon nanotube film layer 24 while leaving the interlayer 22 intact. have. Since the photolithography process is a known technique, a detailed description of the patterning process using the same is omitted. FIG. 11 illustrates a state in which the carbon nanotube film layer 24 is patterned through a photolithography process to form a carbon nanotube film pattern 25 on the intermediate layer 22.

탄소나노튜브 필름 패턴(25)을 중간막(22) 위에 형성하고 나면, 도 12에 도시된 것과 같이, 액상의 폴리머 용액을 중간막(22) 위에 회전 도포한 후 경화시켜 탄소나노튜브 필름 패턴(25)이 매설되어 있는 폴리머 막(26)을 제조한다. 이때, 사용될 수 있는 폴리머로는 PDMS, 폴리이미드, UV 경화성 폴리머, PMMA 등 통상적으로 사용하는 액상이 가능한 다양한 폴리머가 사용할 수 있다. 폴리머가 적절한 두께로 도포되고 나면, 대류 오븐 등의 방법으로 이를 경화시킴으로써 화학 및 열에 안정한 폴리머 막(26)을 만들 수 있다. 폴리머 막(26)의 두께는 회전 속도와 도포 시간을 통하여 조절할 수 있다.After the carbon nanotube film pattern 25 is formed on the intermediate film 22, as shown in FIG. 12, the liquid polymer solution is spun on the intermediate film 22, and then cured to form the carbon nanotube film pattern 25. This embedded polymer film 26 is produced. At this time, as the polymer that can be used may be used a variety of polymers that can be used in the liquid, such as PDMS, polyimide, UV curable polymer, PMMA commonly used. Once the polymer has been applied to an appropriate thickness, it is possible to make a chemical and heat stable polymer film 26 by curing it in a convection oven or the like. The thickness of the polymer film 26 can be controlled through the rotational speed and the application time.

폴리머 막(26)의 제조에 있어서, 폴리머 용액을 중간막(22) 위에 도포하는 방법은 회전 도포법 이외의 폴리머 용액을 적절한 두께로 도포할 수 있는 다양한 방법이 이용될 수 있다.In the production of the polymer film 26, as the method of applying the polymer solution onto the intermediate film 22, various methods of applying the polymer solution to the appropriate thickness other than the spin coating method may be used.

폴리머 막(26)의 제조가 완료되면, 도 13에 도시된 것과 같이, 중간막(22)을 기판(21)으로 떼어낸다. 중간막(22)은 기판(21)과의 결합력이 약하므로, 물리적인 힘을 가하거나 기판(21)과 중간막(22) 사이의 결합력을 약화시킬 수 있는 분리액을 이용함으로써 기판(21)으로부터 쉽게 분리할 수 있다. 또는, 중간막(22)을 식각하여 기판(21)으로부터 분리할 수 있다.When the manufacture of the polymer film 26 is completed, the intermediate film 22 is peeled off to the substrate 21, as shown in FIG. Since the interlayer 22 has a weak bonding force with the substrate 21, the interlayer 22 can be easily removed from the substrate 21 by applying a physical force or by using a separation solution that can weaken the bonding force between the substrate 21 and the interlayer 22. Can be separated. Alternatively, the interlayer 22 may be etched and separated from the substrate 21.

이후, 도 14에 도시된 것과 같이, 중간막(22)을 폴리머 막(26)으로부터 분리한다. 중간막(22)은 물리적인 힘을 가하여 폴리머 막(26)으로부터 분리시킬 수 있고, 식각 공정을 통해 폴리머 막(26)에서 깨끗이 제거할 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 14, the intermediate film 22 is separated from the polymer film 26. The intermediate film 22 may be separated from the polymer film 26 by applying a physical force, and may be removed from the polymer film 26 through an etching process.

다음으로, 도 15 내지 17을 참고하여 상기와 같이 제조된 폴리머 막(26)을 지지하기 위한 스페이서(31)를 제조하는 과정을 설명한다. Next, a process of manufacturing the spacer 31 for supporting the polymer film 26 manufactured as described above will be described with reference to FIGS. 15 to 17.

먼저, 도 15에 도시된 것과 같이, 스페이서(31)의 역상을 갖는 몰드(29)를 베이스(28) 위에 형성한다. 여기에서, 몰드(29)는 포토레지스트(PR)가 이용될 수 있고, 사진식각 공정을 통해 베이스(28) 위에 형성될 수 있다. 본 발명에 있어서, 몰드(29)는 포토레지스트 이외의 다양한 재질로, 사진식각 공정 이외의 방법으로 베이스(28) 위에 형성될 수 있다.First, as shown in FIG. 15, a mold 29 having a reverse phase of the spacer 31 is formed on the base 28. Here, the mold 29 may be a photoresist (PR) and may be formed on the base 28 through a photolithography process. In the present invention, the mold 29 may be formed on the base 28 by various materials other than the photoresist by a method other than a photolithography process.

몰드(29)가 베이스(28)에 형성되고 나면, 도 16에 도시된 것과 같이, 베이스(28) 위에 폴리머 용액을 도포한 후 이를 경화시킨다. 이후, 도 17에 도시된 것과 같이, 베이스(28) 위에 제조된 스페이서(31)를 기판으로부터 분리시킨다. Once the mold 29 is formed on the base 28, the polymer solution is applied onto the base 28 and then cured, as shown in FIG. 16. Thereafter, as shown in FIG. 17, the spacer 31 fabricated on the base 28 is separated from the substrate.

다음으로, 도 18에 도시된 것과 같이, 스페이서(31)는 먼저 만들어진 폴리머 막(26)에 결합한다. 폴리머 막(26)과 스페이서(31)의 결합은 열접합, 플라즈마 표면처리 등 다양한 접합방법이 이용될 수 있다.Next, as shown in FIG. 18, the spacer 31 is bonded to the polymer film 26 made earlier. The bonding of the polymer film 26 and the spacer 31 may use various bonding methods such as thermal bonding and plasma surface treatment.

마지막으로, 도 19에 도시된 것과 같이, 접합된 폴리머 막(26)과 스페이서(31)를 하판(30)에 접합한다. 하판(30)의 종류에 따라서 다양한 접합방법이 선택될 수 있다. 하판(30)으로 투명한 폴리머 막을 사용한다면, 열접합, 플라즈마 표면처리 등의 방법을 이용할 수 있다.Finally, as shown in FIG. 19, the bonded polymer film 26 and the spacer 31 are bonded to the lower plate 30. Various bonding methods may be selected according to the type of the lower plate 30. If a transparent polymer film is used as the lower plate 30, methods such as thermal bonding and plasma surface treatment can be used.

터치 패널을 터치 스크린 등 디스플레이에 사용하는 경우에는 LCD 층 등의 조명부을 하판의 하부에 설치할 수 있다. 터치 패널을 터치 패드나 압력센서에 사용하는 경우에는 폴리머 막이나 하판으로 불투명한 폴리머 막을 사용할 수 있다. When the touch panel is used for a display such as a touch screen, an illumination unit such as an LCD layer may be installed in the lower part of the lower plate. When the touch panel is used for a touch pad or a pressure sensor, a polymer film or an opaque polymer film may be used as the bottom plate.

이상에서 설명한 본 발명은 도시되고 설명된 그대로의 구성 및 작용으로 한정되지 않는다. 즉, 본 발명은 기재된 특허청구범위의 사상 및 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능하다.The present invention described above is not limited to the configuration and operation as shown and described. That is, the present invention is capable of various changes and modifications within the spirit and scope of the appended claims.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 분해 사시도이다1 is an exploded perspective view of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1에 도시된 터치 패널의 일부를 나타낸 단면도이다. FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a part of the touch panel illustrated in FIG. 1.

도 3과 4는 탄소나노튜브 필름 패턴의 압저항체로서의 특성을 나타내는 그래프이다.3 and 4 are graphs showing the characteristics of the carbon nanotube film pattern as a piezoresistor.

도 5는 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 기판에 중간막을 형성한 상태를 나타낸 것이다.5 illustrates a state in which an intermediate film is formed on a substrate during a manufacturing process of the piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 6 및 도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 회전 도포법으로 탄소나노튜브 필름 층을 형성하는 과정을 나타낸 것이다.6 and 7 illustrate a process of forming a carbon nanotube film layer by a rotation coating method during the manufacturing of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 8 및 도 9는 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 진공 여과법으로 탄소나노튜브 필름 층을 형성하는 과정을 나타낸 것이다.8 and 9 illustrate a process of forming a carbon nanotube film layer by vacuum filtration during the manufacturing of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 10은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 중간막 위에 탄소나노튜브 필름 층을 형성한 상태를 나타낸 것이다.FIG. 10 illustrates a state in which a carbon nanotube film layer is formed on an intermediate layer during the manufacturing of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 11은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 탄소나노튜브 필름 층을 패터닝 하여 중간막 위에 탄소나노튜브 필름 패턴을 형성한 상태를 나타낸 것이다.FIG. 11 illustrates a state in which a carbon nanotube film pattern is formed on an intermediate layer by patterning a carbon nanotube film layer during a manufacturing process of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 12는 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중 에 중간막 위에 폴리머 막을 형성한 상태를 나타낸 것이다.FIG. 12 illustrates a state in which a polymer film is formed on an intermediate film during the manufacturing of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 13은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 기판에서 중간막을 분리하는 과정을 나타낸 것이다.FIG. 13 illustrates a process of separating an intermediate film from a substrate during a manufacturing process of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 14는 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 폴리머 막에서 중간막을 제거한 상태를 나타낸 것이다.FIG. 14 is a view illustrating a state in which an intermediate layer is removed from a polymer layer during the manufacturing of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 15 내지 17은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 스페이서를 제조하는 과정을 나타낸 것이다.15 to 17 illustrate a process of manufacturing a spacer during a manufacturing process of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 18은 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 폴리머 막에 스페이서를 결합하는 과정을 나타낸 것이다.FIG. 18 illustrates a process of bonding a spacer to a polymer film during a process of manufacturing a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

도 19는 본 발명의 일실시예에 의한 압저항 방식의 터치 패널의 제조과정 중에 스페이서에 하판을 결합하는 과정을 나타낸 것이다.19 illustrates a process of coupling a lower plate to a spacer during a manufacturing process of a piezoresistive touch panel according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10 : 터치 패드 21 : 기판 10: touch pad 21: substrate

22 : 중간막 23 : 탄소나노튜브 용액22: interlayer 23: carbon nanotube solution

24 : 탄소나노튜브 필름 층 25 : 탄소나노튜브 필름 패턴24: carbon nanotube film layer 25: carbon nanotube film pattern

26 : 폴리머 막 29 : 몰드26 polymer film 29 mold

30 : 하판(bottom substrate) 31 : 스페이서(spacer)30: bottom substrate 31: spacer

Claims (17)

터치 패널을 제조하는 방법에 있어서, In the method for manufacturing a touch panel, 압력에 따라서 저항값이 변화하는 압저항(Piezoresistive) 필름 패턴이 매립되어 있는 폴리머 막을 제조하는 단계; Preparing a polymer film having a piezoresistive film pattern embedded therein, the resistance of which changes in response to pressure; 스페이서(spacer) 층을 제조하여, 상기 폴리머 막의 일면에 부착하는 단계;Preparing a spacer layer and attaching it to one surface of the polymer film; 상기 스페이서 층의 일면에 하판(bottom substrate)을 부착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.And attaching a bottom substrate to one surface of the spacer layer. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폴리머 막을 제조하는 단계는,Preparing the polymer film, 탄소나노튜브 필름 패턴을 포함하는 폴리머 막을 제조하는 단계인 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.Method of manufacturing a piezoresistive touch panel, characterized in that the step of producing a polymer film comprising a carbon nanotube film pattern. 제2항에 있어서,3. The method of claim 2, 상기 폴리머 막을 제조하는 단계는, Preparing the polymer film, a) 기판 위에 중간막을 형성하는 단계;a) forming an intermediate film on the substrate; b) 상기 중간막 위에 탄소나노튜브 필름 층을 형성하는 단계;b) forming a carbon nanotube film layer on the interlayer; c) 상기 탄소나노튜브 막을 패터닝하여 상기 중간막 위에 탄소나노튜브 필름 패턴을 형성하는 단계;c) patterning the carbon nanotube film to form a carbon nanotube film pattern on the interlayer; d) 상기 중간막 위에 폴리머 용액을 도포한 후 경화시켜 상기 탄소나노튜브 필름 패턴을 포함하는 폴리머 막을 형성하는 단계; 및d) applying a polymer solution on the intermediate film and then curing to form a polymer film including the carbon nanotube film pattern; And e) 상기 탄소나노튜브 필름 패턴을 갖는 상기 폴리머 막을 상기 중간막으로부터 분리하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.e) separating the polymer film having the carbon nanotube film pattern from the intermediate film. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 중간막은 금속막이고, 상기 a) 단계는 상기 기판 위에 상기 금속막을 증착하는 단계인 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.The intermediate film is a metal film, and the step a) is a method of manufacturing a piezoresistive touch panel, characterized in that for depositing the metal film on the substrate. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 d) 단계를 수행한 후, 상기 중간막을 상기 기판으로부터 분리하는 단계를 더 포함하고,After performing step d), further comprising separating the interlayer film from the substrate, 상기 e) 단계는 상기 중간막을 에칭하여 제거함으로써, 상기 폴리머 막을 상기 중간막으로부터 분리하는 단계인 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.The step (e) is a method for manufacturing a piezoresistive touch panel, wherein the polymer film is separated from the intermediate film by etching and removing the intermediate film. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 b) 단계는 상기 중간막이 형성된 상기 기판을 회전시키면서 탄소나노튜브가 분산용액에 분산되어 있는 탄소나노튜브 용액을 상기 중간막 위에 도포하는 회전 도포법을 이용하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.Step b) is a piezoresistive touch panel of the piezoelectric touch panel, characterized in that by rotating the substrate on which the intermediate film is formed while applying a carbon nanotube solution in which carbon nanotubes are dispersed in a dispersion solution on the intermediate film Manufacturing method. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 b) 단계는, 탄소나노튜브가 분산용액에 분산되어 있는 탄소나노튜브 용액 중에서 상기 탄소나노튜브를 여과막과 진공펌프를 이용하여 상기 여과막 위에 포집하여 상기 탄소나노튜브 필름 층을 형성하는 단계와, 상기 여과막 위에 형성된 상기 탄소나노튜브 필름 층을 상기 여과막에서 분리하여 상기 중간막 위에 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.B) the carbon nanotube solution in which carbon nanotubes are dispersed in a dispersion solution, collecting the carbon nanotubes on the filtration membrane using a filtration membrane and a vacuum pump to form the carbon nanotube film layer; And separating the carbon nanotube film layer formed on the filtration membrane from the filtration membrane and attaching the carbon nanotube film layer on the intermediate membrane. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 c) 단계는 사진식각기술(Photolithography)을 이용하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.The c) step is a method of manufacturing a piezoresistive touch panel, characterized in that using Photolithography. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 스페이서 층을 제조하여, 상기 폴리머 막의 일면에 부착하는 단계는,Preparing a spacer layer and attaching to one surface of the polymer film, f) 베이스 위에 몰드를 형성하는 단계;f) forming a mold on the base; g) 상기 몰드가 형성된 상기 베이스 위에 폴리머 용액을 도포한 후 경화시켜 스페이서 층을 형성하는 단계;g) applying a polymer solution on the base on which the mold is formed and then curing to form a spacer layer; h) 상기 스페이서 층을 상기 베이스 및 상기 몰드로부터 분리하는 단계; 및h) separating the spacer layer from the base and the mold; And i) 상기 스페이서 층을 탄소나노튜브 필름 패턴을 갖는 상기 폴리머 막에 부착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.i) attaching the spacer layer to the polymer film having a carbon nanotube film pattern. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 i) 단계는 상기 스페이서 층을 상기 탄소나노튜브 필름 패턴을 갖는 상기 폴리머 막에 가열 접착하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.In the step i), the spacer layer is heat-bonded to the polymer film having the carbon nanotube film pattern. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 몰드는 포토레지스트(Photoresist)이고,The mold is a photoresist, 상기 f) 단계는 사진식각기술을 이용하여 포토레지스트로 상기 몰드를 형성하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널의 제조방법.The step f) is a method of manufacturing a piezoresistive touch panel, characterized in that to form the mold with a photoresist using a photolithography technique. 터치 패널에 있어서,In the touch panel, 압력에 따라서 저항값이 변화하는 압저항(Piezoresistive) 필름 패턴이 매립되어 있는 폴리머 막;A polymer film in which a piezoresistive film pattern having a resistance value changed according to pressure is embedded; 상기 폴리머 막과 대향 하는 하판(bottom substrate); 및A bottom substrate facing the polymer film; And 상기 폴리머 막과 상기 하판을 일정한 간격을 두고 접합시키는 스페이서(spacer) 층;을 포함하는 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널.And a spacer layer for bonding the polymer film and the lower plate at regular intervals. 제12항에 있어서,The method of claim 12, 상기 압저항 필름 패턴은 탄소나노튜브 필름 패턴인 것을 특징으로 하는 압저항 방식의 터치 패널.The piezoresistive film pattern is a piezoresistive touch panel, characterized in that the carbon nanotube film pattern. 제12항 또는 제13항의 터치 패널을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치.A display device comprising the touch panel of claim 12 or 13. 제12항 또는 제13항의 터치 패널을 포함하는 것을 특징으로 하는 터치 패드.A touch pad comprising the touch panel of claim 12. 제12항 또는 제13항의 터치 패널을 포함하는 것을 특징으로 하는 압력 센서.14. A pressure sensor comprising the touch panel of claim 12 or 13. 삭제delete
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