KR101075428B1 - Electrode forming method for a touch panel - Google Patents
Electrode forming method for a touch panel Download PDFInfo
- Publication number
- KR101075428B1 KR101075428B1 KR1020100031813A KR20100031813A KR101075428B1 KR 101075428 B1 KR101075428 B1 KR 101075428B1 KR 1020100031813 A KR1020100031813 A KR 1020100031813A KR 20100031813 A KR20100031813 A KR 20100031813A KR 101075428 B1 KR101075428 B1 KR 101075428B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- electrode
- electrode pattern
- pattern
- forming
- touch panel
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Position Input By Displaying (AREA)
- Manufacture Of Switches (AREA)
Abstract
본 발명은 인쇄법 혹은 포토리소그라피 공정을 통해 발생하는 가장자리에서의 패턴 뭉개짐을 방지하고, 고품질의 전극라인이 생성되도록 하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 일면에 따른 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법은, 기판 위에 감광성 금속 재료를 이용하여 목표 전극보다 넓은 폭을 갖는 전극 패턴을 형성하는 단계, 및 상기 전극 패턴과 대응되는 위치에 상기 목표 전극과 실질적으로 동일한 패턴을 갖는 포토 마스크를 상기 전극 패턴 위에 정렬하고 노광을 수행하는 단계를 포함한다.The present invention relates to a method of preventing pattern clumping at the edges generated by a printing method or a photolithography process and generating high quality electrode lines.
According to an aspect of the present invention, there is provided a method of forming an electrode pattern of a touch panel, including forming an electrode pattern having a width wider than a target electrode by using a photosensitive metal material on a substrate, and forming the electrode pattern at a position corresponding to the electrode pattern. Aligning a photomask having a pattern substantially the same as that of the electrode over the electrode pattern and performing exposure.
Description
본 발명은 터치패널용 전극형성 방법에 관한 것으로, 특히, 인쇄법 혹은 포토리소그라피 공정을 통해 발생하는 가장자리에서의 패턴 뭉개짐을 방지하고, 고품질의 전극라인이 생성되도록 하는 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method for forming an electrode for a touch panel, and more particularly, to a method of preventing pattern crushing at an edge generated through a printing method or a photolithography process and generating high quality electrode lines.
일반적으로 터치패널이란, 키보드를 사용하지 않고 화상표시장치에 의해 화면에 나타난 문자나 특정 위치에 사람의 손 또는 물체를 접촉시켜, 그 위치를 파악하여 저장된 소프트웨어에 의해 특정 처리를 할 수 있는 장치를 말한다.In general, a touch panel is a device capable of contacting a person's hand or an object with a character or a specific position displayed on the screen by an image display device without using a keyboard, and identifying the position and performing specific processing by stored software. Say.
터치패널의 작동 방식에는 크게 접촉식 정전용량 방식, 압력식 저항막 방식, 적외선 감지 방식, 적분식 장력측정 방식, 표면 초음파 전도 방식 및 피에조 효과 방식 등이 있다. The touch panel is mainly operated by a contact capacitive method, a pressure resistive film method, an infrared sensing method, an integrated tension measuring method, a surface ultrasonic conduction method, and a piezo effect method.
일 예로 터치패널의 구조를 살펴보면 표시패널의 상판에 부착되어 Y축 방향으로 전계가 인가되는 상부 투명필름이 형성되는 상부투명시트와, X축 방향으로 전계가 인가되는 하부 투명필름이 형성되는 하부투명시트와, 하부투명시트와 상부투명시트 사이에 형성된 스페이서를 구비한다. 상부투명시트는 주로 PET로 형성되며, 하부투명시트는 유리, 플라스틱, PET 중 어느 하나로 형성된다. 스페이서는 터치패널의 상판과 하판 사이의 간격을 일정하게 유지시키는 역할을 한다. 상/하부 투명필름은 투과율이 좋고 저항이 수백 Ω 정도인 물질, 예를 들면 ITO, IZO, ITZO 중 어느 하나로 형성된다. 이들 중 ITO 물질이 상/하부 투명필름의 재료로써 주로 선택된다. 상부 투명필름의 상/하 양측에는 X축 스트라이프 타입의 전극들이 형성된다. 이 X축 스트라이프 타입의 전극들은 상부 투명필름 상에 은(Ag)을 인쇄함으로써 형성된다. X축 스트라이프 타입의 전극들은 상부 투명필름 상에 형성되며 상부 투명필름의 우측 가장자리 중앙에 패드단을 가지는 테일배선에 접속되어 그 테일배선으로부터 전원을 입력받는다. 하부 투명필름의 좌/우 양측에는 Y축 스트라이프 타입의 전극들이 형성된다. 이 Y축 스트라이프 타입의 전극들은 하부 투명필름 상에 은(Ag)을 인쇄함으로써 형성된다. Y축 스트라이프 타입의 전극들은 하부 투명필름 상에 형성되며 하부투명필름의 우측 가장자리 중앙에 패드단을 가지는 테일배선에 접속되어 그 테일배선으로부터 전원을 입력받는다. As an example, looking at the structure of a touch panel, an upper transparent sheet is attached to an upper panel of a display panel to form an upper transparent film to which an electric field is applied in the Y-axis direction, and a lower transparent sheet is formed to form a lower transparent film to which an electric field is applied in the X-axis direction. A sheet and a spacer formed between the lower transparent sheet and the upper transparent sheet. The upper transparent sheet is mainly formed of PET, and the lower transparent sheet is formed of any one of glass, plastic, and PET. The spacer serves to maintain a constant gap between the upper and lower plates of the touch panel. The upper and lower transparent films are formed of a material having a high transmittance and a resistance of several hundred Ω, for example, ITO, IZO, or ITZO. Among them, ITO material is mainly selected as the material of the upper and lower transparent films. X-axis stripe type electrodes are formed on both upper and lower sides of the upper transparent film. These X-axis stripe type electrodes are formed by printing silver (Ag) on the upper transparent film. The electrodes of the X-axis stripe type are formed on the upper transparent film and connected to a tail wiring having a pad end at the center of the right edge of the upper transparent film, and receive power from the tail wiring. Y-axis stripe type electrodes are formed on both left and right sides of the lower transparent film. These Y-axis stripe type electrodes are formed by printing silver (Ag) on the lower transparent film. The electrodes of the Y-axis stripe type are formed on the lower transparent film and are connected to a tail wiring having a pad end at the center of the right edge of the lower transparent film to receive power from the tail wiring.
위와 같이 터치패널의 상부와 하부에는 은(Ag) 전극배선이 형성된다. 이러한 전극의 배선 간격 및 전극과 패널 끝단으로부터의 거리가 터치 패널의 크기를 좌우하게 되어 매우 정밀하고, 고품질의 패턴이 필요하다. As described above, silver (Ag) electrode wirings are formed on the upper and lower portions of the touch panel. Since the wiring spacing of the electrodes and the distance from the electrodes and the panel ends influence the size of the touch panel, very precise and high quality patterns are required.
따라서, 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은, 터치 패널에서 전극 끝 쪽 부분, 즉, 터치스크린의 가장자리 부분까지 균질한 전극 패턴을 획득하는 터치패널용 전극 형성 방법을 제공하는 데 있다. Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a method for forming an electrode for a touch panel, which obtains a homogeneous electrode pattern from an electrode end portion, that is, to an edge portion of the touch screen. To provide.
또한, 본 발명은 터치패널의 가장자리 부근까지 형성 되는 전극이 기판의 가장자리 부근에 존재하는 장력에 의해서, 감광성 재료를 이용하여 인쇄방법에 의한 패턴시 형성되는 패턴의 범퍼화 또는 포토리소그라피 방법에 의한 포토레지스트의 불균일한 막형성에 의해서 발생되는 전극 패턴 뭉개짐을 방지하고, 공정시 자주 발생하는 전극 단락 현상을 줄일 수 있는 터치패널용 전극 형성 방법을 제공하는 데 있다. In addition, according to the present invention, the electrode formed to the edge of the touch panel is near the edge of the substrate, and the photo bumperization or photolithography method of the pattern formed at the time of the pattern by the printing method using the photosensitive material. The present invention provides a method for forming an electrode for a touch panel, which can prevent electrode pattern clumping caused by non-uniform film formation of a resist and reduce an electrode short-circuit phenomenon frequently generated during a process.
이를 위하여, 터치패널 기판의 가장자리까지 균일하게 전극이 형성되도록 하여 더 넓은 가시면적을 확보할 수 있게 하는 방법으로, 인쇄법에 의해서 넓게 패턴 폭을 형성한 후 다시 포토리소그라피 방법을 이용하여 정밀한 패턴을 형성하도록 한 터치패널용 전극 형성 방법을 제공하는 데 있다. To this end, the electrode is uniformly formed to the edge of the touch panel substrate to secure a wider visible area. The pattern width is broadly formed by a printing method, and then a precise pattern is formed by using a photolithography method. The present invention provides a method for forming an electrode for a touch panel.
먼저, 본 발명의 특징을 요약하면, 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일면에 따른 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법은, 기판 위에 감광성 금속 재료를 이용하여 목표 전극보다 넓은 폭을 갖는 전극 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴과 대응되는 위치에 상기 목표 전극과 실질적으로 동일한 패턴을 갖는 포토 마스크를 상기 전극 패턴 위에 정렬하고 노광을 수행하는 단계를 포함한다.First, to summarize the features of the present invention, the method for forming an electrode pattern of the touch panel according to an aspect of the present invention for achieving the above object of the present invention, by using a photosensitive metal material on the substrate wider than the target electrode Forming an electrode pattern having a width; And arranging a photo mask having a pattern substantially the same as that of the target electrode at a position corresponding to the electrode pattern on the electrode pattern and performing exposure.
그리고, 본 발명의 다른 일면에 따른 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법은, 기판 위에 비감광성 금속 재료를 이용하여 목표 전극보다 넓은 폭을 갖는 전극 패턴을 형성하는 단계; 상기 전극 패턴 위에 상기 전극 패턴과 실질적으로 동일한 패턴의 감광막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 전극 패턴 및 상기 감광막 패턴과 대응되는 위치에 상기 목표 전극과 실질적으로 동일한 패턴을 갖는 포토 마스크를 상기 전극 패턴 위에 정렬하고 노광을 수행하는 단계를 포함한다.The method of forming an electrode pattern of a touch panel according to another aspect of the present invention includes forming an electrode pattern having a width wider than a target electrode by using a non-photosensitive metal material on a substrate; Forming a photoresist pattern having a pattern substantially the same as that of the electrode pattern on the electrode pattern; And arranging a photo mask having a pattern substantially the same as that of the target electrode at a position corresponding to the electrode pattern and the photoresist pattern on the electrode pattern and performing exposure.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서, 인쇄법을 이용하여 상기 전극 패턴을 형성할 수도 있고, 잉크젯 방법을 이용하여 상기 전극 패턴을 형성할 수도 있다.In the forming of the electrode pattern, the electrode pattern may be formed using a printing method, or the electrode pattern may be formed using an inkjet method.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서, 폭이 80㎛ 내지 200㎛인 상기 전극 패턴을 형성한다.In the forming of the electrode pattern, the electrode pattern having a width of 80 μm to 200 μm is formed.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 전극 패턴의 단면의 아랫변의 길이가 윗변의 길이와 동일한 길이를 가지거나, 윗변의 길이가 아랫변의 길이보다 작게 형성될 수 있다. In the forming of the electrode pattern, the length of the lower side of the cross section of the electrode pattern may have the same length as the length of the upper side, or the length of the upper side may be formed smaller than the length of the lower side.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 기판의 중심부의 전극과 상기 기판의 가장자리 쪽의 전극 간의 높이의 편차가 20% 이내가 되도록 할 수 있다.In the forming of the electrode pattern, a deviation in height between an electrode at the center of the substrate and an electrode at the edge of the substrate may be within 20%.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서, 상기 기판에 전면 인쇄후 식각하는 공정 없이 직접적으로 부분 패턴 인쇄를 이용하여 상기 전극 패턴을 형성한다.In the forming of the electrode pattern, the electrode pattern is formed using partial pattern printing directly without the process of etching the entire surface on the substrate.
본 발명에 따른 터치패널용 전극 형성 방법에 따르면, 패턴 전극의 인쇄에 의해서 전극 패턴간의 공간이 발생하여 기판 끝단에 발생하는 장력을 효과적으로 줄여 주게 되어 터치 스크린의 가시면적을 최대한 늘릴 수 있게 해주는 효과가 있다. According to the method for forming an electrode for a touch panel according to the present invention, the space between the electrode patterns is generated by the printing of the pattern electrode, thereby effectively reducing the tension generated at the end of the substrate, thereby increasing the visible area of the touch screen as much as possible. .
또한, 종래의 감광성 페이스트를 이용한 공정인, 전극 페이스트의 전면적인 인쇄 후 이에 대하여 노광 및 현상 그리고 소성을 통하여 전극을 형성하는 포토리소그래피 공정에 비하여, 인쇄법 등을 통하여 형성하고자 하는 전극보다는 폭이 넓지만 전면적이지는 않는 전극 패턴을 형성하므로 그 만큼 필요한 전극 페이스트 량이 감소되어 재료비를 절감할 수 있다. In addition, compared to a photolithography process in which an electrode paste is formed through full printing of an electrode paste, which is a process using a conventional photosensitive paste, and then exposed, developed, and fired, it is wider than an electrode to be formed through a printing method. Since it forms an electrode pattern that is not entirely full, the amount of electrode paste required is reduced accordingly, thereby reducing material costs.
또한 일차적으로 인쇄법 등에 의하여 충분한 폭을 가지고 전극이 인쇄됨으로, 패턴 인쇄 시 발생하는 전극라인의 오픈 문제 및 패턴인쇄 공정으로 전극라인을 형성할 때 발생할 수 있는 전극의 합선 문제가 포토공정에서 해결 되어 생산성을 매우 높일 수 있는 구조로 되어 있다. In addition, the electrode is printed with a sufficient width primarily by the printing method, so that the problem of opening of the electrode line generated during the pattern printing and the short circuit of the electrode which may occur when forming the electrode line by the pattern printing process are solved in the photo process. It has a structure that can greatly increase productivity.
또한, 일반적으로 포토공정이 가지는 접착 특성에 있어서도 패턴 라인이 인쇄법 등으로 일차적으로 형성 되어 지기 때문에 접착력 또한 강화되어 200도 이하의 저온 공정에서 매우 유리한 장점을 지닌다. In addition, in general, in the adhesive properties of the photo process, since the pattern line is primarily formed by a printing method, the adhesive force is also enhanced, which is very advantageous in the low temperature process of 200 degrees or less.
도 1은 종래의 포토리소그래피 공정에 의한 터치패널용 전극 형성 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치패널용 전극 형성 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널용 전극 형성 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.
도 4는 터치패널용 전극 패턴의 일례를 설명하기 위한 도면이다.1 is a process flowchart for explaining a method for forming an electrode for a touch panel by a conventional photolithography process.
2 is a flowchart illustrating a method of forming an electrode for a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
3 is a flowchart illustrating a method of forming an electrode for a touch panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
4 is a view for explaining an example of an electrode pattern for a touch panel.
이하 첨부 도면들 및 첨부 도면들에 기재된 내용들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings, wherein like reference numerals refer to the like elements throughout.
도 1은 종래의 포토리소그래피 공정에 의한 터치패널용 전극 형성 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.1 is a process flowchart for explaining a method for forming an electrode for a touch panel by a conventional photolithography process.
먼저, 도 1를 참고로, 종래의 포토리소그래피 공정에 의한 전극형성 방법에 따를 경우, 먼저 기판상에 스핀 코팅(spin coating) 혹은 인쇄 방법을 통하여 그 기판 전면에 전극 페이스트(예를 들어, 감광성 Ag막)를 도포한다(S11). First, referring to FIG. 1, when the electrode forming method according to the conventional photolithography process is performed, first, an electrode paste (eg, photosensitive Ag) is formed on the entire surface of the substrate by spin coating or printing on the substrate. Film) is applied (S11).
다음에, 위와 같이 전면 도포된 전극 페이스트 상부에 포토 마스크를 정렬하고 노광을 행한다(S12). 이렇게 노광된 전극 페이스트에 대하여 현상과 식각(S13) 및 소성 공정(S14)을 행함으로써 전극 패턴이 완성된다.Next, the photomask is aligned on the entire surface of the electrode paste coated as described above and subjected to exposure (S12). The electrode pattern is completed by developing, etching (S13) and baking (S14) the exposed electrode paste.
터치패널의 경우 가장자리 부분에 접촉 단자가 형성되는 부분으로 그 단자가 짧을수록 더 넓은 가시면적을 확보할 수 있어 기판 가장자리 부위까지 균질한 전극 패턴을 얻는 것이 매우 중요하다. 따라서 기판 가장자리 부위의 전극 패턴 형성은 동일 크기의 패널에서 사용가능 한 터치패널의 크기를 좌우한다. 그러나, 도 1과 같은 종래의 방법으로 기판 전면에 전극 페이스트를 형성할 경우 기판 가장자리에 표면장력 등에 의해서 패턴이 뭉개짐 혹은 포토레지스트 코팅시 야기되는 패턴의 불균일성에 의해서 가장자리 쪽의 패턴이 뜨는 문제 등 품질이 떨어지는 문제가 발생한다. 따라서 전극 형성시 고품질의 전극패턴 형성은 매우 중요하다. In the case of a touch panel, a contact terminal is formed at an edge portion, and as the terminal is shorter, a wider visible area can be secured, so it is very important to obtain a homogeneous electrode pattern up to the edge of the substrate. Therefore, the electrode pattern formation at the edge of the substrate determines the size of the touch panel that can be used in the same size panel. However, when the electrode paste is formed on the entire surface of the substrate by the conventional method as shown in FIG. 1, the pattern on the edge is floated due to the pattern being crushed by the surface tension at the edge of the substrate or the unevenness of the pattern caused by the photoresist coating. There is a problem of poor quality. Therefore, the formation of high quality electrode patterns is very important when forming electrodes.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 터치패널용 전극 형성 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.2 is a flowchart illustrating a method of forming an electrode for a touch panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 2를 참조하면, 먼저, 기판상에 인쇄법 혹은 잉크젯 방법을 통하여 전극 패턴을 형성한다(S21). 예를 들어, 실크 스크린 인쇄법으로, 또는 프린터 방식과 유사하게 패턴이 필요한 부분을 따라 포토레지스트를 함유한 전극 재료(예를 들어, 감광성 Ag)를 토출하여 전극 패턴을 형성한다. 이때 형성되는 전극 패턴의 폭은 일 예로 80㎛ 내지 200㎛ 정도로서, 형성하고자 하는 전극의 목표 폭보다 넓게 형성되고, 전극 패턴의 단면은 사각 모양이다. 특히, 예를 들어, 전극 패턴의 단면의 아랫변의 길이가 윗변의 길이와 동일한 길이를 가지거나, 윗변의 길이가 아랫변의 길이보다 작게 형성될 수 있다. Referring to FIG. 2, first, an electrode pattern is formed on a substrate through a printing method or an inkjet method (S21). For example, an electrode pattern is formed by discharging an electrode material (for example, photosensitive Ag) containing a photoresist by a silk screen printing method or along a portion requiring a pattern similar to a printer method. At this time, the width of the electrode pattern to be formed is, for example, about 80㎛ to 200㎛, is formed wider than the target width of the electrode to be formed, the cross section of the electrode pattern is a square shape. In particular, for example, the length of the lower side of the cross section of the electrode pattern may have the same length as the length of the upper side, or the length of the upper side may be formed smaller than the length of the lower side.
이와 같이 본 발명에서는 전극 패턴 간의 공간이 확보되므로 기판의 중심부에 위치한 전극과 기판 가장자리 쪽에 위치한 전극의 높이의 편차가 20% 이내로 되도록 할 수 있다. As described above, in the present invention, since the space between the electrode patterns is secured, the height difference between the electrode positioned at the center of the substrate and the electrode positioned at the edge of the substrate may be within 20%.
다음, 위와 같이 형성된 각각의 전극 패턴에 대하여 포토리소그래피 공정을 행한다(S22). 즉, 각각의 전극 패턴의 상부에 형성하고자 하는 전극의 목표 폭과 실질적으로 동일한 폭을 갖는 패턴을 전극 패턴과 대응되는 위치에 갖는 포토마스크를 정렬하여 노광을 행한다. Next, a photolithography process is performed on each electrode pattern formed as described above (S22). That is, exposure is performed by aligning a photomask having a pattern having a width substantially the same as a target width of an electrode to be formed on each electrode pattern at a position corresponding to the electrode pattern.
이러한 노광 후 현상과 식각(S23) 및 소성(또는 건조) 공정(S24)을 통하여 형성하고자 하는 목표 전극이 완성된다. 여기서는 도면상 네거티브(negative) 방식의 감광성 도전막(예를 들어, 감광성 Ag막)을 사용하는 경우를 예시하였으나, 경우에 따라서는 포지티브(positive) 방식의 감광성 도전막을 사용하는 것도 물론 가능하다.The target electrode to be formed is completed through such post-exposure development, etching (S23), and baking (or drying) step (S24). Here, the case where a negative photosensitive conductive film (for example, a photosensitive Ag film) is used is illustrated in the drawings. However, in some cases, a positive photosensitive conductive film may be used.
이와 같이, 본 발명에서는, 먼저 S21 단계에서 인쇄법 등에 의하여 형성하고자 하는 전극보다 폭이 넓은 전극 패턴이 형성되고 다음 포토리소그래피 공정에 의하여 목표 전극이 형성됨을 알 수 있다. 이때, 인쇄법 등에 의하여 형성된 전극 패턴이 포토리소그래피 공정을 통하여 그 보다 좁은 폭을 갖는 전극으로 완성되므로, 도 1과 같은 종래 방법에서와 같이 전면 인쇄 혹은 포토레지스트의 전면 코팅시 기판 가장자리 쪽에 발생하는 범퍼화가 방지 된다. 도 1과 같은 종래의 전면 코팅 방법에서는 중심부의 전극 보다 기판 가장자리 쪽에 위치한 전극의 높이가 20% 이상 더 높게 나타나 균일하지 못한 범퍼화 현상이 존재한다. 또한, 도 1과 같은 종래의 포토리소그래피 공정에 의하여 포토 전극을 형성하는 경우, 그 중심부와 가장자리의 수축율의 차이로 전극의 가장자리가 뜨는 에지 커얼(edge curl)의 문제가 발생하지만, 본 발명에서는 이와 같은 문제가 발생하지 않는다. As described above, in the present invention, it can be seen that an electrode pattern having a width wider than that of an electrode to be formed first is formed in step S21 and a target electrode is formed by the next photolithography process. At this time, since the electrode pattern formed by the printing method is completed as an electrode having a narrower width through the photolithography process, the bumper generated at the edge of the substrate during front printing or front coating of the photoresist as in the conventional method as shown in FIG. Angry is prevented. In the conventional front coating method as shown in FIG. 1, the height of the electrode positioned at the edge of the substrate is 20% or more higher than that of the central electrode, resulting in uneven bumperization. In addition, when the photoelectrode is formed by the conventional photolithography process as shown in FIG. 1, a problem of edge curl in which the edge of the electrode floats occurs due to a difference in shrinkage ratio between the center and the edge. The same problem does not occur.
본 발명에 따를 경우, 전극 패턴을 위한 금속 페이스트(paste) 재료가 전면 인쇄가 아닌 패턴 인쇄로 가기 때문에 재료비가 크게 절감되는 효과도 있다. According to the present invention, since the metal paste material for the electrode pattern goes to pattern printing instead of front printing, the material cost is also greatly reduced.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 터치패널용 전극 형성 방법을 설명하기 위한 공정 흐름도이다.3 is a flowchart illustrating a method of forming an electrode for a touch panel according to another exemplary embodiment of the present invention.
도 3을 참조하면, 먼저, 기판상에 인쇄법 혹은 잉크젯 방법을 통하여 전극 패턴을 형성한다(S31). 여기서는 실크 스크린 인쇄법으로, 또는 프린터 방식과 유사하게 패턴이 필요한 부분을 따라 전극 재료(예를 들어, Ag 페이스트)를 토출하여 전극 패턴을 형성하되, 감광성이 아닌 전극 재료로 전극 패턴을 형성한다. 여기서도 전극 패턴의 폭은 일 예로 80㎛ 내지 200㎛ 정도로서, 형성하고자 하는 전극의 목표 폭보다 넓게 형성되고, 그 단면은 사각 모양이다. 특히, 전극 패턴의 단면의 아랫변의 길이가 윗변의 길이와 동일한 길이를 가지거나, 윗변의 길이가 아랫변의 길이보다 작게 형성될 수 있다. Referring to FIG. 3, first, an electrode pattern is formed on a substrate by a printing method or an inkjet method (S31). Here, the electrode pattern is formed by discharging the electrode material (for example, Ag paste) along the portion where the pattern is required by the silk screen printing method or similar to the printer method, but the electrode pattern is formed from the electrode material which is not photosensitive. In this case, the width of the electrode pattern is, for example, about 80 μm to 200 μm, and is wider than the target width of the electrode to be formed, and the cross section has a square shape. In particular, the length of the lower side of the cross section of the electrode pattern may have the same length as the length of the upper side, or the length of the upper side may be formed smaller than the length of the lower side.
이와 같은 방법에서도 전극 패턴 간의 공간이 확보되므로 기판의 중심부에 위치한 전극과 기판 가장자리 쪽에 위치한 전극의 높이의 편차가 20% 이내로 되도록 할 수 있다. In such a method, the space between the electrode patterns is secured, so that a deviation between the height of the electrode positioned at the center of the substrate and the electrode positioned at the edge of the substrate may be within 20%.
다음, 위와 같이 형성된 전극 패턴 위에 위와 같은 인쇄법 혹은 잉크젯 방법을 다시 사용하여 전극 패턴과 유사 패턴(전극 패턴과 동일 위치에 대응되는 동일 또는 조금 크거나 작은 폭으로 실질적으로 전극 패턴과 동일한 패턴)의 감광막 패턴을 형성한다(S32). S31 단계에서 형성된 전극 패턴이 비감광성이므로 노광을 수행하기 전에 감광성 재료인 포토레지스트의 패턴을 형성하는 것이다.Next, using the above printing method or inkjet method again on the electrode pattern formed as described above, the electrode pattern and the similar pattern (the same or slightly larger or smaller width corresponding to the same position as the electrode pattern are substantially the same as the electrode pattern). A photosensitive film pattern is formed (S32). Since the electrode pattern formed in step S31 is non-photosensitive, a pattern of a photoresist as a photosensitive material is formed before performing exposure.
위와 같이 형성된 각각의 전극 패턴과 포토레지스트 패턴이 형성된 후에, 포토리소그래피 공정을 행한다(S33). 즉, 각각의 전극 패턴과 포토레지스트 패턴의 상부에 형성하고자 하는 전극의 목표 폭과 실질적으로 동일한 폭을 갖는 패턴을 전극 패턴과 대응되는 위치에 갖는 포토마스크를 정렬하여 노광을 행한다. After each electrode pattern and photoresist pattern formed as described above are formed, a photolithography process is performed (S33). That is, exposure is performed by aligning a photomask having a pattern having a width substantially the same as a target width of an electrode to be formed on each electrode pattern and the photoresist pattern at a position corresponding to the electrode pattern.
이러한 노광 후 현상과 식각(S34) 및 소성 공정(S35)을 통하여 형성하고자 하는 목표 전극이 완성된다. 여기서도 도면상 네거티브(negative) 방식의 감광성 재료(예를 들어, 포토레지스트)을 사용하는 경우를 예시하였으나, 경우에 따라서는 포지티브(positive) 방식의 감광성 재료를 사용하는 것도 물론 가능하다.The target electrode to be formed is completed through such post-exposure development, etching (S34), and baking process (S35). Here, the case where a negative photosensitive material (for example, a photoresist) is used in the drawings is illustrated, but in some cases, a positive photosensitive material may be used.
이와 같은 본 발명에 따른 터치패널용 전극은, 일차적으로 도 2와 같이 인쇄법 또는 잉크젯 방법 등을 통하여 포토공정이 가능한 전극재료를 패턴 인쇄하여 형성 시킨 다음, 포토리소그래피 공정, 현상, 식각, 소성 공정을 이용해 전극 패턴보다 좁은 폭을 갖는 목표 전극을 형성하는 방식으로 달성될 수 있다. 또는 도 3과 같이 비감광성 전극 패턴 위에 감광성 재료를 동일하게 패턴한 후 포토리소그래피 공정, 현상, 소성 공정을 이용해 전극 패턴보다 좁은 폭을 갖는 목표 전극을 형성하는 방식에 의하여 달성될 수도 있다.The electrode for a touch panel according to the present invention is formed by pattern-printing an electrode material capable of performing a photo process through a printing method or an inkjet method, as shown in FIG. 2, and then a photolithography process, developing, etching, and baking process It can be achieved by forming a target electrode having a narrower width than the electrode pattern using. Alternatively, as shown in FIG. 3, the photosensitive material may be patterned on the non-photosensitive electrode pattern in the same manner and then formed by using a photolithography process, a development process, and a baking process to form a target electrode having a narrower width than the electrode pattern.
이에 따라서, 위에서 설명한 터치 패널에의 문제점인 기판 가장자리에서 포토 재료를 이용할 시 전면 인쇄의 경우에 나타나는 범퍼화가 제거되고, 또한, 포토레지스트를 스핀 코팅할 때 발생하는 기판 가장자리 쪽의 균질하지 못한 코팅에 의해 발생하는 전극 패턴 뭉개짐을 방지할 수 있다. 이는 패턴 전극의 인쇄에 의해서 전극 패턴간에 발생한 공간이 기판 끝단에 발생하는 장력을 효과적으로 줄여 줄 수 있기 때문이다. 또한, 종래의 전극 페이스트의 전면적인 인쇄 후 이에 대하여 노광 및 현상 그리고 소성을 통하여 전극을 형성하는 포토리소그래피 공정에 비하여, 인쇄법을 통하여 형성하고자 하는 전극보다는 폭이 넓지만 전면적이지는 않는 전극 패턴을 형성하므로 그 만큼 필요한 전극 페이스트량이 감소되어 재료비를 절감할 수 있다. 또한 일차적으로 인쇄법에 의하여 충분한 폭을 가지고 전극이 인쇄됨으로, 패턴 인쇄시 문제가 되는 전극라인의 오픈 문제가 해결된다. 또한, 패턴 인쇄되는 형태의 공정으로 전극라인이 형성될 때 발생할 수 있는 전극의 합선은 이후 포토공정에서 해결 되어 생산성을 매우 높일 수 있는 구조로 되어 있다. 또한, 일반적으로 포토공정이 가지는 접착 특성에 있어서도 패턴 라인이 인쇄법으로 일차적으로 형성되기 때문에 접착력 또한 강화된다. As a result, bumperization in the case of front printing when the photo material is used at the substrate edge, which is a problem with the touch panel described above, is eliminated, and the non-uniform coating on the substrate edge side generated when spin coating the photoresist is eliminated. It is possible to prevent the electrode pattern clumping caused by. This is because the space generated between the electrode patterns by the printing of the pattern electrode can effectively reduce the tension generated at the end of the substrate. In addition, compared to a photolithography process in which an electrode is formed by exposing, developing, and firing the surface of a conventional electrode paste after printing, the electrode pattern is wider than the electrode to be formed through the printing method, but not wider. Since the amount of the required electrode paste is reduced by that, the material cost can be reduced. In addition, since the electrode is first printed with a sufficient width by the printing method, the problem of opening the electrode line, which is a problem when printing a pattern, is solved. In addition, the short circuit of the electrode, which may occur when the electrode line is formed in a pattern-printed form, is solved in a photo process and has a structure that can greatly increase productivity. In addition, in general, in the adhesive properties of the photo process, since the pattern lines are primarily formed by the printing method, the adhesive force is also enhanced.
이와 같은 본 발명에 따른 터치패널용 전극 형성 방법은, 도 4와 같이, 터치 패널 하판(121)에 x 축 좌표 인식을 위하여 ITO 필름 등 투명성 도전막 위에 좌우로 마주보는 전극 패턴(X1, X2)을 형성하거나, 터치 패널 상판(122)에 y 축 좌표 인식을 위하여 ITO 필름 등 투명성 도전막 위에 상하로 마주보는 전극 패턴(Y1, Y2)을 형성하는 데 이용될 수 있다. As described above, the method for forming an electrode for a touch panel according to the present invention includes electrode patterns X1 and X2 facing left and right on a transparent conductive film such as an ITO film to recognize x-axis coordinates on the lower panel of the
터치 패널 하판(121)과 터치 패널 상판(122)은 그 사이에 스페이서를 두고 서로 합착되며, FPC(flexible printed circuit) 접속부(130)를 통하여 FPC 가 부착된다. FPC 접속부(130)에 부착된 FPC를 통하여 터치 패널 하판(121)에 형성된 전극 패턴(X1, X2) 및 터치 패널 상판(122)에 형성된 전극 패턴(Y1, Y2)에 위치 인식에 필요한 전기적으로 신호가 입출력 될 수 있으며, FPC와 연결된 소정 프로세서는 FPC를 통하여 전달된 신호 변화에 따라 터치 패널 상의 어느 x, y 좌표에서 터치가 되었는지 판단하여 해당 위치를 산출하도록 동작할 수 있다. The touch panel
이와 같이 제조되는 터치 패널은 접촉식 정전용량 방식, 압력식 저항막 방식, 적외선 감지 방식, 적분식 장력측정 방식, 표면 초음파 전도 방식 또는 피에조 효과 방식 등 다양한 형태의 방식일 수 있다. The touch panel manufactured as described above may have various types of methods such as a contact capacitive type, a pressure resistive film type, an infrared sensing type, an integrated tension measuring method, a surface ultrasonic conduction method, or a piezo effect type.
이와 같은 터치 패널은 LCD (Liquid Crystal Display)등과 같은 디스플레이 장치 위에 장착될 수 있고, 이에 따라 키보드를 사용하지 않고 화면에 나타난 문자나 특정 위치에 사람의 손 또는 물체를 접촉시켜, 그 위치를 파악할 수 있도록 하는 위치 입력 장치로서 기능할 수 있게 된다. Such a touch panel may be mounted on a display device such as an LCD (Liquid Crystal Display), and thus, the position of a human hand or an object may be detected by touching a character or a specific position displayed on the screen without using a keyboard. Function as a position input device.
이상과 같이 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 그러므로, 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.As described above, the present invention has been described by way of limited embodiments and drawings, but the present invention is not limited to the above embodiments, and those skilled in the art to which the present invention pertains various modifications and variations from such descriptions. This is possible. Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the described embodiments, but should be determined not only by the claims below but also by the equivalents of the claims.
121: 터치 패널 하판
122: 터치 패널 상판
130: FPC 접속부
X1, X2, Y2, Y3: 전극 패턴121: lower panel of the touch panel
122: touch panel top plate
130: FPC connection
X1, X2, Y2, Y3: electrode pattern
Claims (10)
기판 위에 감광성 금속 재료를 이용하여 목표 전극보다 넓은 폭을 갖는 전극 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 전극 패턴과 대응되는 위치에 상기 목표 전극과 동일한 패턴을 갖는 포토 마스크를 상기 전극 패턴 위에 정렬하고 노광을 수행하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.In the method of forming the electrode pattern of the touch panel,
Forming an electrode pattern having a width wider than the target electrode by using the photosensitive metal material on the substrate; And
Arranging a photomask having the same pattern as that of the target electrode at a position corresponding to the electrode pattern on the electrode pattern and performing exposure;
Method of forming an electrode pattern of the touch panel comprising a.
기판 위에 비감광성 금속 재료를 이용하여 목표 전극보다 넓은 폭을 갖는 전극 패턴을 형성하는 단계;
상기 전극 패턴 위에 상기 전극 패턴과 동일한 패턴의 감광막 패턴을 형성하는 단계; 및
상기 전극 패턴 및 상기 감광막 패턴과 대응되는 위치에 상기 목표 전극과 동일한 패턴을 갖는 포토 마스크를 상기 전극 패턴 위에 정렬하고 노광을 수행하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.In the method of forming the electrode pattern of the touch panel,
Forming an electrode pattern having a width wider than a target electrode by using a non-photosensitive metal material on the substrate;
Forming a photoresist pattern having the same pattern as the electrode pattern on the electrode pattern; And
Arranging a photomask having the same pattern as the target electrode on the electrode pattern at a position corresponding to the electrode pattern and the photoresist pattern and performing exposure
Method of forming an electrode pattern of the touch panel comprising a.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서,
인쇄법을 이용하여 상기 전극 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.The method according to claim 1 or 2,
In the step of forming the electrode pattern,
A method of forming an electrode pattern of a touch panel, characterized in that for forming the electrode pattern using a printing method.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서,
잉크젯 방법을 이용하여 상기 전극 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.The method according to claim 1 or 2,
In the step of forming the electrode pattern,
And forming an electrode pattern by using an inkjet method.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서,
폭이 80㎛ 내지 200㎛인 상기 전극 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.The method according to claim 1 or 2,
In the step of forming the electrode pattern,
The electrode pattern of the touch panel, characterized in that for forming a width of the electrode pattern of 80㎛ to 200㎛.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서,
상기 전극 패턴의 단면의 아랫변의 길이가 윗변의 길이와 동일한 길이를 가지거나, 윗변의 길이가 아랫변의 길이보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.The method according to claim 1 or 2,
In the step of forming the electrode pattern,
The length of the lower side of the cross-section of the electrode pattern has the same length as the length of the upper side, or the length of the upper side is formed less than the length of the lower side, the method of forming an electrode pattern of the touch panel.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서,
상기 기판의 중심부의 전극과 상기 기판의 가장자리 쪽의 전극 간의 높이의 편차가 20% 이내인 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.The method according to claim 1 or 2,
In the step of forming the electrode pattern,
And a variation in height between the electrode at the center of the substrate and the electrode at the edge of the substrate is within 20%.
상기 전극 패턴을 형성하는 단계에서,
상기 기판에 전면 인쇄후 식각하는 공정 없이 직접적으로 부분 패턴 인쇄를 이용하여 상기 전극 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 터치패널의 전극 패턴을 형성하는 방법.The method according to claim 1 or 2,
In the step of forming the electrode pattern,
The electrode pattern of the touch panel, characterized in that for forming the electrode pattern using a partial pattern printing directly without the process of etching the entire surface after printing on the substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100031813A KR101075428B1 (en) | 2010-04-07 | 2010-04-07 | Electrode forming method for a touch panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020100031813A KR101075428B1 (en) | 2010-04-07 | 2010-04-07 | Electrode forming method for a touch panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20110112615A KR20110112615A (en) | 2011-10-13 |
| KR101075428B1 true KR101075428B1 (en) | 2011-10-24 |
Family
ID=45028236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020100031813A KR101075428B1 (en) | 2010-04-07 | 2010-04-07 | Electrode forming method for a touch panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR101075428B1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9681540B2 (en) | 2012-05-09 | 2017-06-13 | Lg Innotek Co., Ltd. | Electrode member and touch window including the same |
| KR20180134818A (en) * | 2018-12-11 | 2018-12-19 | 엘지이노텍 주식회사 | Touch panel and method for manufacturing the same |
| KR101931179B1 (en) | 2012-07-13 | 2018-12-21 | 엘지이노텍 주식회사 | Touch panel and method for manufacturing the same |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101115399B1 (en) * | 2011-03-04 | 2012-02-15 | 한국과학기술원 | Method for Forming Metal Grid Line of Solar Cell |
| KR101356074B1 (en) * | 2012-02-09 | 2014-01-28 | 한국과학기술원 | Electrode Preparing Method for a Touch Panel |
| KR102207143B1 (en) * | 2013-11-06 | 2021-01-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | Touch panel and manufacturing method thereof |
| KR20160056830A (en) * | 2014-11-12 | 2016-05-20 | 주식회사 동진쎄미켐 | Method for forming electrode pattern and electrode pattern |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100938841B1 (en) | 2009-04-03 | 2010-01-26 | 이미지랩(주) | Touch panel |
-
2010
- 2010-04-07 KR KR1020100031813A patent/KR101075428B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100938841B1 (en) | 2009-04-03 | 2010-01-26 | 이미지랩(주) | Touch panel |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9681540B2 (en) | 2012-05-09 | 2017-06-13 | Lg Innotek Co., Ltd. | Electrode member and touch window including the same |
| KR101931179B1 (en) | 2012-07-13 | 2018-12-21 | 엘지이노텍 주식회사 | Touch panel and method for manufacturing the same |
| KR20180134818A (en) * | 2018-12-11 | 2018-12-19 | 엘지이노텍 주식회사 | Touch panel and method for manufacturing the same |
| KR102053241B1 (en) | 2018-12-11 | 2020-01-08 | 엘지이노텍 주식회사 | Touch panel and method for manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20110112615A (en) | 2011-10-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101075428B1 (en) | Electrode forming method for a touch panel | |
| JP5795038B2 (en) | Electrode sheet for capacitive touch panel | |
| US10642391B2 (en) | Touch panel and display device | |
| KR101363151B1 (en) | Transparent circuit substrate for touchscreen, method for fabricating the same and touchscreen comprising the same | |
| KR100944519B1 (en) | Touch panel sensor | |
| US20190064957A1 (en) | Touch screen and fabricating method thereof, and out-cell touch display device | |
| JP2008065748A (en) | Touch panel and display device using the touch panel | |
| US20140015563A1 (en) | Trace structure for the touch panel and electrical testing method | |
| WO2018040792A1 (en) | Touch-control substrate and manufacturing method therefor, and touch-control apparatus | |
| JP2013254469A (en) | Touch sensor and method of manufacturing the same | |
| KR102448570B1 (en) | Touch panel and method for manufacturing the same | |
| EP2713249B1 (en) | Touch display module and handheld electronic apparatus | |
| CN105786264B (en) | Touch screen, manufacturing method thereof and touch device | |
| US20160041659A1 (en) | Touch panels and fabrication methods thereof | |
| CN102750025A (en) | Manufacturing method of touch device | |
| US9753572B2 (en) | Touch panel, method of fabricating the same and touch display device | |
| KR102018680B1 (en) | Touch input device including display panel formed with strain gauge and display panel formed with strain gauge forming method | |
| US9921671B2 (en) | Touch projection screen and manufacturing method thereof | |
| CN106681559B (en) | Touch panel, manufacturing method thereof and touch display device | |
| KR102367248B1 (en) | Touch screen panel | |
| WO2021016762A1 (en) | Touch control electrode structure, touch screen and touch control display apparatus | |
| JP2010182093A (en) | Image display device with touch panel | |
| JP2012146134A (en) | Touch panel sensor and manufacturing method of touch panel sensor | |
| TWI596519B (en) | Touch panel and manufacturing method thereof | |
| JP2015106264A (en) | Photo-mask for manufacturing wiring film and method for manufacturing wiring film |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140930 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181002 Year of fee payment: 8 |