KR101064349B1 - 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법, 나노 공동을 포함하는 표시 패널과 태양 전지 및 이의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
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- 임프린트 몰드를 마련하는 단계;상기 임프린트 몰드 상에 임프린트용 수지를 도포하는 단계;상기 임프린트용 수지 상에 수용성 고분자 물질을 형성하고 상기 수용성 고분자 물질을 가압하는 단계;상기 임프린트용 수지를 경화하여 나노 공동(nano cavities)을 포함하는 나노 공동층을 형성하는 단계;상기 수용성 고분자 물질이 형성된 상기 나노 공동층을 상기 임프린트 몰드와 분리하는 단계;상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계; 및상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계 는,상기 전도성 기판 상에 접착층을 형성하는 단계; 및상기 접착층 상에 상기 나노 공등층과 상기 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법.
- 제 2항에 있어서,상기 임프린트용 수지는,열 경화성 임프린트용 수지 및 자외선 경화성 임프린트용 수지 중 하나인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계는,상기 나노 공동층이 형성된 전도성 기판에서 수분을 이용하여 상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법.
- 제 4항에 있어서,상기 임프린트용 수지는,폴리이미드 프리솔루션(Polyimide pre-solution)으로 이루어진 임프린트용 수지인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법.
- 제 1항에 있어서,상기 수용성 고분자 물질은,폴리 비닐 아세테이트(Polyvinyl Acetate), 비닐 아세테이트 에틸렌(Vinyl Acetate Ethylene) 및 폴리 비닐 알코올(Polyvinyl Alcohol)으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 물질인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 전도성 기판의 제조 방법.
- 투명 전극 및 발광 소자를 포함하는 표시 패널의 제조 방법에 있어서,임프린트 몰드 상에 임프린트용 수지를 도포하는 단계;상기 임프린트용 수지 상에 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계;상기 수용성 고분자 물질을 가압하고, 상기 임프린트용 수지를 경화하여 나노 공동(nano cavities)을 포함하는 나노 공동층을 형성하는 단계;상기 수용성 고분자 물질이 형성된 상기 나노 공동층을 상기 임프린트 몰드와 분리하는 단계;상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단 계; 및상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널의 제조 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계는,상기 전도성 기판을 기준으로 상기 투명 전극과 대향하여 상기 전도성 기판 상에 상기 나노 공동층과 상기 수용성 물질을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 표시 패널의 제조 방법.
- 제 8항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계는,상기 투명 전극과 상기 전도성 기판을 기준으로 대향하여 접착층을 형성하는 단계; 및상기 접착층 상에 상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널의 제조 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계는,상기 전도성 기판 상에 접착층을 형성하는 단계; 및상기 접착층 상에 상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널의 제조 방법.
- 제 10항에 있어서,상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계 이후에,상기 나노 공동층 상에 상기 투명 전극을 형성하는 단계; 및상기 투명 전극 상에 상기 발광 소자를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널의 제조 방법.
- 제 7항에 있어서,상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계는,상기 나노 공동층이 형성된 전도성 기판에서 수분을 이용하여 상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널의 제조 방법.
- 투명 전극 및 태양 전지 소자를 포함하는 태양 전지의 제조 방법에 있어서,임프린트 몰드를 마련하는 단계;상기 임프린트 몰드 상에 임프린트용 수지를 도포하는 단계;상기 임프린트용 수지 상에 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계;상기 수용성 고분자 물질을 가압하고, 상기 임프린트용 수지를 경화하여 나노 공동(nano cavities)을 포함하는 나노 공동층을 형성하는 단계;상기 수용성 고분자 물질이 형성된 상기 나노 공동층을 상기 임프린트 몰드와 분리하는 단계;상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계; 및상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 제 13항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계는,상기 전도성 기판 상에 상기 전도성 기판과 대향하여 상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 제 13항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 전도성 기판에 형성하는 단계는,상기 전도성 기판 상에 접착층을 형성하는 단계; 및상기 접착층 상에 상기 나노 공동층과 상기 수용성 고분자 물질을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 제 15항에 있어서,상기 수용성 고분자 물질을 제거하는 단계 이후에,상기 전도성 기판에 형성된 상기 나노 공동층 상에 투명 전극을 형성하는 단계; 및상기 투명 전극 상에 상기 태양 전지 소자를 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 제 15항에 있어서,상기 투명 전극은,인듐 틴 옥사이드(Indium Tin Oxide : ITO), 징크 옥사이드(Zinc Oxide : ZO), 인듐 징크 옥사이드(Indium Zinc Oxide : IZO), 인듐 틴 징크 옥사이드(Indium Tin Zinc Oxide : ITZO), 알루미늄 징크 옥사이드(Aluminum Zinc Oxide : AZO), 트랜스페어런트 컨덕티브 옥사이드(Transparent Conductive Oxide : TCO) 및 징크 옥사이드 알루미늄 옥사이드(Zinc oxide-Aluminium Oxide : ZAO) 중 적어도 하나의 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 제 15항에 있어서,상기 전도성 기판에 형성된 상기 나노 공동층 상에 투명 전극을 형성하는 단계 이후에,상기 투명 전극 상에 투명 전도성 박막층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 제 18항에 있어서,상기 투명 전도성 박막층은,티타늄 디옥사이드(Titanium dioxide : TiO2) 및 실리콘 질화막(SiNx) 중 적어도 하나의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지의 제조 방법.
- 전도성 기판;상기 전도성 기판에 형성되고, 임프린트 몰드를 이용하여 임프린트용 수지가 경화되어 형성된 나노 공동을 포함하는 나노 공동층;상기 전도성 기판에 형성되는 투명 전극; 및상기 투명 전극 상에 형성되는 발광 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널.
- 제 20항에 있어서,상기 전도성 기판과 상기 나노 공동층 사이에 형성되는 접착층을 더 포함하 는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널.
- 제 21항에 있어서,상기 나노 공동층은,상기 접착층에 형성되며, 상기 투명 기판과 상기 전도성 기판을 기준으로 대향되어 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널.
- 제 22항에 있어서,상기 임프린트용 수지는,폴리이미드 프리솔루션(Polyimide pre-solution)으로 이루어진 임프린트용 수지인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널.
- 제 21항에 있어서,상기 투명 전극은,상기 나노 공동층 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널.
- 제 24항에 있어서,상기 임프린트용 수지는,열 경화성 임프린트용 수지 및 자외선 경화성 임프린트용 수지 중 하나인 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 표시 패널.
- 전도성 기판;상기 전도성 기판 상에 형성되고, 임프린트 몰드를 이용하여 임프린트용 수지가 경화되어 형성된 나노 공동을 포함하는 나노 공동층;상기 전도성 기판에 형성되는 투명 전극; 및상기 투명 전극 상에 형성되는 태양 전지 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지.
- 제 26항에 있어서,상기 나노 공동층과 상기 전도성 기판 사이에 형성되는 접착층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지.
- 제 27항에 있어서,상기 투명 전극은 상기 나노 공동층 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지.
- 제 28항에 있어서,상기 투명 전극 상에 형성되는 투명 전도성 박막층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 공동을 포함하는 태양 전지.
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