KR101052527B1

KR101052527B1 - PD filter including conductive polymer film layer and PD device including the same

Info

Publication number: KR101052527B1
Application number: KR1020050047866A
Authority: KR
Inventors: 이구수; 정상철; 손인성
Original assignee: 삼성코닝정밀소재 주식회사
Priority date: 2005-06-03
Filing date: 2005-06-03
Publication date: 2011-07-29
Also published as: KR20060126162A

Abstract

전도성 고분자 필름층을 포함하는 PDP 필터 및 이를 포함하는 PDP 장치를 제공한다. PDP 필터는 기판 및 기판의 일면에 전도성 고분자 필름층을 포함한다.Provided are a PDP filter including a conductive polymer film layer and a PDP device including the same. The PDP filter includes a substrate and a conductive polymer film layer on one surface of the substrate.

PDP, 필터, 전도성 고분자 필름층, 투명 적층체 PDP, filter, conductive polymer film layer, transparent laminate

Description

전도성 고분자 필름층을 포함하는 ＰＤＰ 필터 및 이를 포함하는 ＰＤＰ 장치{PDP filter comprising conductive polymer film and PDP apparatus employing the same}PD filter comprising conductive polymer film layer and PD device comprising same {PDP filter comprising conductive polymer film and PDP apparatus employing the same}

도 1 내지 도 6은 각각 본 발명의 제 1 내지 제 6 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.1 to 6 are cross-sectional views of PDP filters according to the first to sixth embodiments of the present invention, respectively.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 장치를 나타내는 분해사시도이다.7 is an exploded perspective view showing a PDP apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 장치를 나타내는 사시도이다.8 is a perspective view illustrating a PDP apparatus according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

10, 20, 30, 40, 50, 60: PDP 필터 110: 기판10, 20, 30, 40, 50, 60: PDP filter 110: substrate

120, 120', 120'': 투명 적층체 121: 제 1 금속 산화물층120, 120 ', 120' ': transparent laminate 121: first metal oxide layer

122: 금속층 123: 제 1 보호층122: metal layer 123: first protective layer

124: 제 2 보호층 130: 제 2 금속 산화물층124: second protective layer 130: second metal oxide layer

140: 전도성 고분자 필름층 150: 네온광 차폐층140: conductive polymer film layer 150: neon light shielding layer

500: PDP 장치500: PDP device

본 발명은 PDP 필터 및 이를 포함하는 PDP 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전도성 고분자 필름층을 포함하는 PDP 필터 및 이를 포함하는 PDP 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a PDP filter and a PDP device including the same, and more particularly, to a PDP filter including a conductive polymer film layer and a PDP device including the same.

현대의 고도 정보화시대에 있어서 광일렉트로닉스(photoelectronics) 관련 부품 및 기기가 현저하게 진보하고 보급되고 있다. 그 중에서, 화상을 표시하는 디스플레이 장치는 텔레비전 장치용, 퍼스널 컴퓨터의 모니터 장치용 등으로서 널리 보급되고 있으며, 또한 이러한 디스플레이의 대형화와 동시에 박형화가 진행되고 있다.In the modern high information age, photoelectronics-related components and devices are remarkably advanced and popularized. Among them, display apparatuses for displaying images are widely used for television apparatuses, monitor apparatuses of personal computers, and the like, and thinning is progressing at the same time as these displays are enlarged.

일반적으로 PDP(Plasma Display Panel) 장치는 기존의 디스플레이 장치를 대표하는 CRT(Cathode Ray Tube)에 비해 대형화 및 박형화를 동시에 만족시킬 수 있어 차세대 디스플레이 장치로서 각광받고 있다.In general, PDP (Plasma Display Panel) devices are in the spotlight as next-generation display devices because they can satisfy both the size and the thickness of the display device, compared to the CRT (Cathode Ray Tube).

이러한 PDP 장치는 가스에 높은 전압을 가하였을 때 발생하는 가스 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하는 것으로서, 높은 전압이 인가됨으로 인해 인체에 유해한 전자파(ElectroMagnetic Interference; EMI) 및 리모컨 등의 오작동을 일으키는 근적외선(Near Infrared Ray; NIR) 및 오렌지색 광으로 색 순도에 나쁜 영향을 미치는 네온광 등을 발생시킨다.Such a PDP device displays an image by using a gas discharge phenomenon generated when a high voltage is applied to a gas. Near-infrared rays, which cause malfunctions such as electromagnetic interference (EMI) and a remote control, which are harmful to a human body due to the high voltage applied thereto, are displayed. (Near Infrared Ray; NIR) and orange light generate neon lights that adversely affect color purity.

따라서, PDP 장치는 전자파, 근적외선, 네온광 등을 차폐(shield)하기 위한 PDP 필터를 채용하고 있다. 이러한 PDP 필터는 전자파 차폐층, 근적외선 차폐층, 네온광 차폐층과 같이 수개의 기능성 막들을 접착제 또는 점착제에 의해 적층하여 제조하는데, 이중 전자파 차폐층은 금속 메쉬를 이용한 메쉬 타입과 전도성막을 이 용한 전도막 타입이 있다. 이들 중 전도막 타입은 금속으로 된 금속층과 고굴절률을 가진 투명층을 적층하여 제조되는데, 전자파 차폐 효율을 높이기 위해서는 금속층을 3 내지 6회 적층하여 형성하는 것이 일반적이다. 그러나 전도막 타입의 전자파 차폐층을 제조하기 위한 금속층을 적층하는 공정은 박막 증착 공정으로서, 매우 오랜 시간을 요구하고 공정을 거듭할수록 전체 막의 가시광 투과율이 감소하게 된다.Therefore, the PDP apparatus employs a PDP filter for shielding electromagnetic waves, near infrared rays, neon light, and the like. The PDP filter is manufactured by laminating several functional films such as an electromagnetic shielding layer, a near infrared shielding layer, and a neon light shielding layer by using an adhesive or an adhesive. A double electromagnetic shielding layer is a mesh type using a metal mesh and a conductive film using a conductive film. There is a membrane type. Among them, a conductive film type is manufactured by stacking a metal layer made of metal and a transparent layer having a high refractive index. In order to increase electromagnetic wave shielding efficiency, it is generally formed by laminating metal layers 3 to 6 times. However, the process of laminating a metal layer for manufacturing an electromagnetic wave shielding layer of the conductive film type is a thin film deposition process, which requires a very long time and the visible light transmittance of the entire film decreases as the process is repeated.

따라서, 일정 두께 이상을 가지면서도, 전자파 차폐 효율도 높일 수 있는 동시에 막의 가시광 투과율도 높일 수 있는 전자파 차폐층을 포함하는 PDP 필터의 개발이 필요하다.Accordingly, there is a need for the development of a PDP filter including an electromagnetic shielding layer capable of increasing the electromagnetic wave shielding efficiency while increasing the electromagnetic wave shielding efficiency while having a predetermined thickness or more.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 전자파 차폐 효율과 가시광 투과율이 우수할 뿐만 아니라 제조 공정도 비교적 용이한 PDP 필터를 제공하고자 하는 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is to provide a PDP filter that is excellent in electromagnetic shielding efficiency and visible light transmittance as well as a relatively easy manufacturing process.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기한 바와 같은 PDP 필터를 포함하는 PDP 장치를 제공하고자 하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a PDP device including the PDP filter as described above.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Technical problems to be achieved by the present invention are not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

상기의 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터 는 기판 및 상기 기판의 일면에 전도성 고분자 필름층을 포함한다.PDP filter according to an embodiment of the present invention for solving the above technical problem includes a substrate and a conductive polymer film layer on one surface of the substrate.

상기의 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 PDP 필터는 기판, 상기 기판의 일면에 제 1 금속 산화물층과 금속층을 포함하는 투명 적층체, 상기 투명 적층체 상에 형성된 제 2 금속 산화물층 및 상기 제 2 금속 산화물층 상에 형성된 전도성 고분자 필름층을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a PDP filter including a substrate, a transparent laminate including a first metal oxide layer and a metal layer on one surface of the substrate, and a second metal formed on the transparent laminate. It includes an oxide layer and a conductive polymer film layer formed on the second metal oxide layer.

상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PDP 필터는 기판, 상기 기판의 일면에 제 1 금속 산화물층과 금속층을 포함하고 상기 금속층의 양면 중 적어도 일면에 보호층을 포함하는 투명 적층체, 상기 투명 적층체 상에 형성된 제 2 금속 산화물층 및 상기 제 2 금속 산화물층 상에 형성된 전도성 고분자 필름층을 포함한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a PDP filter including a substrate, a first metal oxide layer and a metal layer on one surface of the substrate, and a transparent layer including a protective layer on at least one surface of both surfaces of the metal layer. It includes a laminate, a second metal oxide layer formed on the transparent laminate and a conductive polymer film layer formed on the second metal oxide layer.

상기 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 PDP 장치는 상기한 바와 같은 PDP 필터를 포함한다.PDP apparatus according to another embodiment of the present invention for solving the above technical problem includes a PDP filter as described above.

기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 첨부 도면들에 포함되어 있다.Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the accompanying drawings.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명 세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a PDP filter according to a first embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 PDP 필터(10)는 기판(110), 투명 적층체(120), 금속 산화물층(130) 및 전도성 고분자 필름층(140)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the PDP filter 10 according to the first embodiment of the present invention includes a substrate 110, a transparent laminate 120, a metal oxide layer 130, and a conductive polymer film layer 140. .

본 발명의 제 1 실시예에 있어서 기판(110)은 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들면 폴리에틸렌텔레프탈레이트(Poly(ethylene terephthalate); PET) 등의 플라스틱 필름층, 아크릴 수지 등으로 만들어진 플라스틱 시트 또는 디스플레이용으로 사용되는 유리, 플라스틱 필름층 및 플라스틱 시트 등이 될 수 있다. 특히 투명한 기판 일 수 있다. In the first embodiment of the present invention, the substrate 110 is not particularly limited, but for example, a plastic sheet or display made of an acrylic resin or the like, a plastic film layer such as polyethylene terephthalate (PET), an acrylic resin, or the like. Glass, plastic film layers, plastic sheets, and the like used for the application. It may be a particularly transparent substrate.

이러한 기판(110)의 일면에는 투명 적층체(120)가 형성되어 있다. 투명 적층체(120)는 금속 산화물층(121) 및 금속층(122)의 순서로 형성된 층들을 포함한다.The transparent laminate 120 is formed on one surface of the substrate 110. The transparent laminate 120 includes layers formed in the order of the metal oxide layer 121 and the metal layer 122.

투명 적층체(120) 중의 금속 산화물층(121, 이하 제 1 금속 산화물층이라 함)은 가시광에 대해서 투명성을 가지고, 금속층과의 굴절률의 차에 의해서, 금속층의 가시 영역의 광 반사를 방지하는 효과를 가진 것이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 가시 광선에 대한 굴절률이 1.6 이상, 예를 들면 1.7 이상의 굴절률이 높은 재료가 사용된다. 이와 같은 제 1 금속 산화물충(121)을 형성하는 재료로서는 인듐, 티탄, 지르코늄, 알루미늄, 비스무스, 주석, 아연, 안티몬, 니오브, 탄탈, 세륨, 네오듐, 란탄, 토륨, 마그네슘, 칼륨 등의 금속 산화물 또는 이들 금속 산화물의 혼합물 등을 들 수 있다. 이들 금속 산화물은 금속과 산소의 화학양론적인 조성에 편차가 있어도, 광학 특성을 크게 바꾸지 않는 범위이면 지장 없다. 그 중에 서도 산화 인듐과 산화 주석의 혼합물(이하, ITO라 함) 또는 산화 알루미늄 또는 산화 아연의 혼합물(이하, AZO라 함)은 투명성, 굴절률에 더하여, 성막 속도가 빠르고 금속층과의 밀착성 등이 양호하므로 바람직하게 사용할 수 있다. 또, ITO 또는 AZO와 같은 비교적 높은 도전성을 가진 금속 산화물을 사용함으로써 제 1 금속 산화물층(121)의 전자파의 흡수를 증가시키고, 도전성을 높일 수 있다.The metal oxide layer 121 (hereinafter referred to as a first metal oxide layer) in the transparent laminate 120 has transparency to visible light and prevents light reflection of the visible region of the metal layer due to a difference in refractive index with the metal layer. Although it does not specifically limit as long as it has, The material with a high refractive index of 1.6 or more, for example, 1.7 or more with respect to visible light is used. Examples of the material for forming the first metal oxide worm 121 include metals such as indium, titanium, zirconium, aluminum, bismuth, tin, zinc, antimony, niobium, tantalum, cerium, neodium, lanthanum, thorium, magnesium, and potassium. Oxides, mixtures of these metal oxides, and the like. Even if these metal oxides differ in the stoichiometric composition of metal and oxygen, they will not interfere as long as they do not significantly change the optical characteristics. Among them, a mixture of indium oxide and tin oxide (hereinafter referred to as ITO) or a mixture of aluminum oxide or zinc oxide (hereinafter referred to as AZO), in addition to transparency and refractive index, has a high film forming speed and good adhesion to a metal layer. Therefore, it can use preferably. In addition, by using a metal oxide having a relatively high conductivity such as ITO or AZO, absorption of the electromagnetic wave of the first metal oxide layer 121 can be increased and conductivity can be increased.

제 1 금속 산화물층(121)의 두께는 기판의 광학 특성, 금속층(122)의 두께, 광학 특성 및 제 1 금속 산화물층(121)의 굴절률 등으로부터 광학 설계적으로 또는 실험적으로 구해진다. 특별히 한정되는 것은 아니지만 예를 들면 5㎛ 이상, 200㎛ 이하일 수 있고, 또한 10㎛ 이상, 100㎛ 이하일 수 있다. 이러한 제 1 금속 산화물층(121)은 스퍼터링, 이온 플레이팅, 이온빔 어시스트, 진공 증착, 습식 도공 등의 어떠한 방법에 의해서도 형성될 수 있다.The thickness of the first metal oxide layer 121 is determined optically or experimentally from the optical properties of the substrate, the thickness of the metal layer 122, the optical properties, the refractive index of the first metal oxide layer 121, and the like. Although it is not specifically limited, For example, it may be 5 micrometers or more and 200 micrometers or less, and also 10 micrometers or more and 100 micrometers or less. The first metal oxide layer 121 may be formed by any method such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating.

계속해서, 제 1 금속 산화물층(121) 상에는 금속층(122)이 형성되어 있다. 금속층(122)은 은 또는 은을 함유한 합금으로 이루어진 박막층이다. 그 중에서도 은은 전도성, 적외선 반사성 및 가시광 투과성이 우수하다. 그러나 은은 화학적, 물리적 안정성이 결여되고, 환경 중의 오염 물질, 수증기, 열, 광 등에 의해서 열악화하기 때문에, 은에 금, 백금, 팔라듐, 구리, 인듐, 주석 등의 환경에 안정적인 금속을 1종 이상 함유한 합금을 사용할 수 있다. 여기서 은을 함유한 합금의 은의 함유율은 특별히 한정되는 것은 아니지만 은으로 이루어진 금속층(122)의 전도성, 광학 특성과 크게 다르지 않은 것이 좋고, 예를 들면 50중량% 이상 100중량% 미만 정도로 함유할 수 있다.Subsequently, a metal layer 122 is formed on the first metal oxide layer 121. The metal layer 122 is a thin film layer made of silver or an alloy containing silver. Among them, silver is excellent in conductivity, infrared reflectivity and visible light transmission. However, since silver lacks chemical and physical stability and deteriorates due to pollutants, water vapor, heat, light, etc. in the environment, silver contains at least one metal that is stable to the environment such as gold, platinum, palladium, copper, indium, and tin. One alloy can be used. The content of silver in the silver-containing alloy is not particularly limited, but may not be significantly different from the conductivity and optical properties of the metal layer 122 made of silver, and may be, for example, about 50% by weight or more and less than 100% by weight. .

이어서, 제 1 금속 산화물층(121)과 금속층(122)을 포함하는 투명 적층체(120) 상에 금속 산화물층(130, 이하 제 2 금속 산화물층이라 함)이 형성되어 있다. 상기한 바와 같은 투명 적층체(120)는 내찰상성, 내환경성을 보충하기 위해, 투명 적층체(120) 상에 제 2 금속 산화물층(130)을 적층함으로써 투명 적층체(120)를 보호할 수 있다. 이러한 제 2 금속 산화물층(130)으로서는 가시광 영역에 있어서 투명하고, 투명 적층체(120)를 보호하는 기능을 가진 것이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 인듐, 티탄, 지르코늄, 알루미늄, 비스무스, 주석, 아연, 안티몬, 니오브, 탄탈, 세륨, 네오듐, 란탄, 토륨, 마그네슘, 칼륨 등의 금속 산화물 또는 이들 금속 산화물의 혼합물 등을 들 수 있다. 또한, 제 2 금속 산화물층(130)은 스퍼터링, 이온 플레이팅, 이온빔 어시스트, 진공 증착, 습식 도공 등의 어떠한 방법에 의해서도 형성될 수 있을 뿐만 아니라 두께도 특별히 한정되지 않는다.Subsequently, a metal oxide layer 130 (hereinafter referred to as a second metal oxide layer) is formed on the transparent laminate 120 including the first metal oxide layer 121 and the metal layer 122. As described above, the transparent laminate 120 may protect the transparent laminate 120 by laminating the second metal oxide layer 130 on the transparent laminate 120 to compensate for scratch resistance and environmental resistance. have. The second metal oxide layer 130 is not particularly limited as long as it is transparent in the visible light region and has a function of protecting the transparent laminate 120. For example, indium, titanium, zirconium, aluminum, bismuth, tin, And metal oxides such as zinc, antimony, niobium, tantalum, cerium, neodium, lanthanum, thorium, magnesium, potassium, and mixtures of these metal oxides. In addition, the second metal oxide layer 130 may be formed by any method such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, wet coating, and the like, and the thickness is not particularly limited.

계속해서, 제 2 금속 산화물층(130) 상에는 전도성 고분자 필름층(140)이 형성되어 있다. Subsequently, the conductive polymer film layer 140 is formed on the second metal oxide layer 130.

투명 적층체(120) 중의 금속층(122)의 두께가 너무 두꺼울 경우, 전도성은 높아지지만, 그 형성 공정이 매우 복잡해지고 가시광 투과율이 떨어지게 된다. 즉, 전자파 차폐율을 높이기 위해서는 소정 두께 이상으로 금속층(122)을 형성하여야 하는데, 금속층(122)을 두껍게 형성하기 위해서는 증착 공정을 되풀이하여 다층(multi-layer)으로 형성하는 것이 일반적인 바, 이러한 다층 증착 공정은 그 증착 시간이 오래 걸릴 뿐만 아니라 공정이 복잡하여 원가 상승 및 생산성이 크게 떨어진다.When the thickness of the metal layer 122 in the transparent laminate 120 is too thick, the conductivity is high, but the formation process is very complicated and the visible light transmittance is lowered. That is, in order to increase the electromagnetic shielding rate, the metal layer 122 should be formed to have a predetermined thickness or more. In order to form the metal layer 122 thickly, it is common to repeatedly form a deposition process to form a multi-layer. Not only does the deposition process take a long time to deposit, but the complexity of the process greatly increases cost and productivity.

따라서, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 PDP 필터(10)에 포함되는 전도성 고분자 필름층(140)은 금속층(122)의 기능을 보조하기 위한 것으로, 금속층(122)의 두께가 얇게 형성되어 있는 경우라도, 전도성 고분자 필름층(140)에 의해 면저항 및 전자파 차폐 효과를 얻을 수 있어 PDP 필터(10)의 전자파 차폐율이 향상된다. 상기한 바와 같은 전도성 고분자 필름층(140)은 예를 들어 폴리에틸렌텔테레프탈레이트(PET) 또는 폴리카보네이트(PC) 필름과 같은 지지체의 일면에 금속층(122)의 기능을 보조하기 위한 폴리티오펜(polythiophene), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리아닐린(polyaniline), 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 폴리(3-알킬티오펜(poly(3-alkylthiophene)), 폴리이소티아나프텐(polyisothianaphthene), 폴리(p-페닐렌비닐렌)(poly(p-phenylenevinylene)), 폴리(p-페닐렌)(poly(p-phenylene)) 및 이의 유도체들 중에서 적어도 하나 선택된 고분자 매트릭스에 탄소 나노 튜브 또는/및 금속 분말이 분산되어 있는 전도성 고분자층을 포함하고, 지지체의 타면에는 전도성 고분자 필름층(140)을 고정하기 위한 점착제층, 예를 들어 감압성 점착제(pressure sensitive adhesive; PSA)층을 포함하는 형태를 갖는다. 또한, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 PDP 필터(100)는 네온광 차폐층(150), 근적외선 차폐층(160), 반사 방지층(170)을 포함할 수 있다. 경우에 따라서 근적외선 차폐층(150)은 생략될 수도 있고, 네온광 차폐 기능, 근적외선 차폐 기능 및/또는 반사 방지 기능의 조합 기능을 가진 층을 포함할 수도 있으며, 적층 순서 또한 상기한 바에 의해서 한정되지 않는다. Therefore, the conductive polymer film layer 140 included in the PDP filter 10 according to the first embodiment of the present invention assists the function of the metal layer 122 and has a thin thickness of the metal layer 122. Even in this case, the sheet resistance and the electromagnetic shielding effect can be obtained by the conductive polymer film layer 140, and the electromagnetic shielding ratio of the PDP filter 10 is improved. The conductive polymer film layer 140 as described above is a polythiophene for assisting the function of the metal layer 122 on one surface of a support such as, for example, polyethylene terephthalate (PET) or polycarbonate (PC) film. ), Polypyrrole, polyaniline, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3-alkylthiophene), At least one selected from polyisothianaphthene, poly (p-phenylenevinylene), poly (p-phenylene) and derivatives thereof A conductive polymer layer in which carbon nanotubes and / or metal powders are dispersed in the polymer matrix, and on the other side of the support, an adhesive layer for fixing the conductive polymer film layer 140, for example, a pressure sensitive adhesive ; PSA) having a form comprising a layer In addition, the PDP filter 100 according to the first exemplary embodiment of the present invention may include a neon light shielding layer 150, a near infrared shielding layer 160, and an antireflection layer 170. The layer 150 may be omitted, or may include a layer having a combination of neon light shielding, near infrared shielding, and / or antireflection functions, and the stacking order is not limited to the above.

도 2는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a PDP filter according to a second embodiment of the present invention.

도 2를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 PDP 필터(20)는 기판(110), 제 1 금속 산화물층(121)과 금속층(122)을 포함하는 투명 적층체(120), 제 2 금속 산화물층(130) 및 전도성 고분자 필름층(140)을 포함한다.Referring to FIG. 2, the PDP filter 20 according to the second embodiment of the present invention may include a transparent laminate 120 including a substrate 110, a first metal oxide layer 121, and a metal layer 122. And a second metal oxide layer 130 and a conductive polymer film layer 140.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 PDP 필터(20)는 금속 산화물층(121) 및 금속층(122)의 순서로 형성된 층들을 포함하는 투명 적층체(120)가 2회 반복하여 적층된다는 것을 제외하고는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 PDP 필터(10)의 구성과 동일하다. The PDP filter 20 according to the second exemplary embodiment of the present invention is a transparent laminate 120 including layers formed in the order of the metal oxide layer 121 and the metal layer 122 is repeatedly stacked twice. Is the same as the configuration of the PDP filter 10 according to the first embodiment of the present invention.

금속층(122)을 두껍게 형성하게 되면 가시광 투과율도 낮아지고, 얇게 하면 전자파 차폐율과 근적외선의 반사가 약해진다. 따라서, 소정 두께의 금속층(122)을 제 1 금속 산화물층(121) 사이에 삽입한 투명 적층체(120)를 2회 적층함으로써 가시광 투과율을 높게 하면서도, 전체적인 금속층(122)의 두께를 증가시킬 수 있어 가시광 투과율, 전자파 차폐율과 근적외선의 투과율 등을 제어할 수 있다.The thicker the metal layer 122, the lower the visible light transmittance, and the thinner the weakened electromagnetic wave shielding rate and the reflection of near infrared rays. Accordingly, by laminating the transparent laminate 120 having the predetermined thickness of the metal layer 122 interposed between the first metal oxide layer 121, the thickness of the entire metal layer 122 can be increased while increasing the visible light transmittance. Therefore, visible light transmittance, electromagnetic shielding rate and transmittance of near infrared ray can be controlled.

도 3은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.3 is a cross-sectional view of a PDP filter according to a third embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 PDP 필터(30)는 기판(110), 제 1 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123)과 금속층(122)을 포함하는 투명 적층체(120'), 제 2 금속 산화물층(130) 및 전도성 고분자 필름층(140)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the PDP filter 30 according to the third embodiment of the present invention includes a substrate 110, a first metal oxide layer 121, a first protective layer 123, and a metal layer 122. The transparent laminate 120 ′, the second metal oxide layer 130, and the conductive polymer film layer 140 are included.

본 발명의 제 3 실시예에 따른 PDP 필터(30)는 투명 적층체(120')가 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123) 및 금속층(122)의 순서로 형성된 층들을 포함한다는 것을 제외하고는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 PDP 필터(10)의 구성과 동일하다. The PDP filter 30 according to the third exemplary embodiment of the present invention may include the transparent laminate 120 ′ including layers formed in the order of the metal oxide layer 121, the first protective layer 123, and the metal layer 122. Except that, the configuration of the PDP filter 10 according to the first embodiment of the present invention is the same.

투명 적층체(120') 중에 포함되는 제 1 보호층(123)은 제 1 보호층(123) 상에 형성되는 금속층(122)을 보호하여 금속층(122)의 내구성을 향상시키는 역할을 한다. 즉, 제 1 보호층(123)을 사용함으로써, 전도성, 적외선 반사성 및 가시광 투과성이 우수하지만, 물리적, 화학적 안정성이 결여되고, 환경 중의 오염 물질, 수증기, 열, 광 등에 의해서 열악화하기 쉬운 특성으로 인하여 그 사용에 있어 제한이 있는 은의 경우라도, 합금이 아닌 은 자체만으로 금속층(122)을 구성하게 할 수 있다.The first protective layer 123 included in the transparent laminate 120 ′ protects the metal layer 122 formed on the first protective layer 123 to improve durability of the metal layer 122. That is, the use of the first protective layer 123 is excellent in conductivity, infrared reflectivity and visible light transmittance, but lacks physical and chemical stability, and due to characteristics that are easily degraded by contaminants, water vapor, heat, light, etc. in the environment. Even in the case of the limited silver in its use, the metal layer 122 can be made of only silver, not an alloy.

또한, 제 1 보호층(123)은 금속층(122)에 의해 나타나는 전기 전도성을 증진시켜 전자파 차폐 성능을 향상시킨다. 뿐만 아니라, 제 1 보호층(123)은 금속층(122) 및 금속 산화물층(121) 사이의 계면에서 발생하는 표면 플라즈몬의 형성을 억제하여 표면 플라즈몬에 의한 광흡수로 인해 발생하는 투명 적층체(120') 내의 가시광 손실을 감소시킨다. 동시에, 가시광 반사율을 감소시키고 저반사율이 얻어질 수 있는 파장 대역을 증가시키는 역할을 하게 된다. In addition, the first protective layer 123 improves electromagnetic shielding performance by enhancing the electrical conductivity represented by the metal layer 122. In addition, the first protective layer 123 suppresses the formation of the surface plasmon occurring at the interface between the metal layer 122 and the metal oxide layer 121, thereby causing the transparent laminate 120 to be generated due to light absorption by the surface plasmon. Reduce visible light loss in the At the same time, it serves to reduce the visible light reflectance and increase the wavelength band at which low reflectance can be obtained.

상기한 바와 같은 기능을 갖는 제 1 보호층(123)은 인듐, 티탄, 지르코늄, 비스무스, 주석, 아연, 안티몬, 탄탈, 세륨, 네오듐, 란탄, 토륨, 마그네슘, 칼륨 등의 산화물, 이들 산화물의 혼합물 또는 황화 아연 등으로 구성될 수 있다. 이들 산화물 또는 황화물은 금속과 산소 또는 황과 화학양론적인 조성에 편차가 있어도, 광학 특성을 크게 바꾸지 않는 범위이면 지장 없다. 제 1 보호층(123)은 예를 들면 ITO 또는 AZO로 구성될 수 있으며, ITO 또는 AZO는 투명성이 좋고, 성막 속도가 빠르며, 금속층과의 밀착성 등이 양호하다. 또한, ITO 또는 AZO와 같은 비교적 높은 전도성을 갖는 산화물을 제 1 보호층(123)으로 사용함으로써, 전자파의 흡수를 증가시키고, 또 투명 적층체(120')의 전도성을 높일 수 있다.The first protective layer 123 having a function as described above may be formed of oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodium, lanthanum, thorium, magnesium, potassium, and the like. Mixtures or zinc sulfide and the like. These oxides or sulfides do not interfere as long as they do not significantly change the optical properties even if there is a variation in the stoichiometric composition between metal and oxygen or sulfur. The first protective layer 123 may be formed of, for example, ITO or AZO. The ITO or AZO may have good transparency, a high film formation speed, and good adhesion with a metal layer. In addition, by using an oxide having a relatively high conductivity, such as ITO or AZO, as the first protective layer 123, the absorption of electromagnetic waves can be increased and the conductivity of the transparent laminate 120 ′ can be increased.

상기한 바와 같이 투명 적층체(120') 중에 보호층(123)을 포함하는 경우, 제 1 금속 산화물층(121)은 예를 들면 산화 니오브로 이루어질 수 있는데, 산화 니오브 만으로 제 1 금속 산화물층(121)을 구성할 수도 있고, 니오브 이외의 다른 원소 성분이 소량 함유할 수도 있다. 다른 원소 성분으로는, 예를 들면, 티타늄, 크롬 또는 아연 등을 사용할 수 있다.As described above, when the protective layer 123 is included in the transparent laminate 120 ′, the first metal oxide layer 121 may be formed of, for example, niobium oxide. 121) may be included, and a small amount of other elemental components other than niobium may be contained. As another element component, titanium, chromium, zinc, etc. can be used, for example.

도 4는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.4 is a cross-sectional view of a PDP filter according to a fourth embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제 4 실시예에 따른 PDP 필터(40)는 기판(110), 제 1 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123) 및 금속층(122)을 포함하는 투명 적층체(120'), 금속 산화물층(130) 및 전도성 고분자 필름층(140)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the PDP filter 40 according to the fourth embodiment of the present invention includes a substrate 110, a first metal oxide layer 121, a first protective layer 123, and a metal layer 122. The transparent laminate 120 ', the metal oxide layer 130, and the conductive polymer film layer 140 are included.

본 발명의 제 4 실시예에 따른 PDP 필터(40)는 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123) 및 금속층(122)의 순서로 형성된 층들을 포함하는 투명 적층체(120')가 2회 반복하여 적층된다는 것을 제외하고는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 PDP 필터(10)의 구성과 동일하다.The PDP filter 40 according to the fourth embodiment of the present invention includes a transparent laminate 120 ′ including layers formed in the order of the metal oxide layer 121, the first protective layer 123, and the metal layer 122. The configuration is the same as that of the PDP filter 10 according to the third embodiment of the present invention except that it is stacked twice.

도 5는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of a PDP filter according to a fifth embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제 5 실시예에 따른 PDP 필터(50)는 기판(110), 제 1 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123), 금속층(122) 및 제 2 보호층(124)을 포함하는 투명 적층체(120''), 금속 산화물층(130) 및 전도성 고분자 필름층(140)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the PDP filter 50 according to the fifth embodiment of the present invention may include a substrate 110, a first metal oxide layer 121, a first protective layer 123, a metal layer 122, and a second A transparent laminate 120 ″ including a protective layer 124, a metal oxide layer 130, and a conductive polymer film layer 140 are included.

본 발명의 제 5 실시예에 따른 PDP 필터(50)는 투명 적층체(120'')가 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123), 금속층(122) 및 제 2 보호층(124)의 순서로 형성된 층들을 포함한다는 것을 제외하고는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 PDP 필터(10)의 구성과 동일하다. 즉, 금속층(122) 상에 제 2 보호층(124)이 더 형성되어 있다. 여기서의 제 2 보호층(124)은 투명 적층체(120'') 상에 형성되는 제 2 금속 산화물층(130)을 형성하는 과정에서 산소 플라즈마로 인하여 금속층(122)의 전기 전도성이 소멸되는 것을 방지하기 위한 일종의 블로커(blocker)로서의 역할을 한다. 즉, 금속층(122)을 형성한 후에 제 2 금속 산화물층(130)을 형성하기 위하여 직류 스퍼터링 방법으로 사용하게 되면, 산소 플라즈마에 의해 이전에 형성된 금속층(122)이 손상될 수 있다. 따라서, 이를 방지하기 위하여 제 2 보호층(124)이 금속층(122) 상에 형성될 수 있다. In the PDP filter 50 according to the fifth embodiment of the present invention, the transparent laminate 120 ″ may include a metal oxide layer 121, a first passivation layer 123, a metal layer 122, and a second passivation layer 124. Except for including the layers formed in the order of) is the same as the configuration of the PDP filter 10 according to the third embodiment of the present invention. That is, the second protective layer 124 is further formed on the metal layer 122. Herein, the second protective layer 124 may be formed to dissipate electrical conductivity of the metal layer 122 due to the oxygen plasma in the process of forming the second metal oxide layer 130 formed on the transparent laminate 120 ″. It serves as a kind of blocker to prevent. That is, when the metal layer 122 is formed and then used as a direct current sputtering method to form the second metal oxide layer 130, the metal layer 122 previously formed by the oxygen plasma may be damaged. Therefore, in order to prevent this, the second protective layer 124 may be formed on the metal layer 122.

또한, 제 2 보호층(124)은 금속층(122) 및 제 2 금속 산화물층(130) 사이의 계면에서 발생되는 표면 플라즈몬의 형성을 억제하여 표면 플라즈몬에 의한 광흡수로 인해 발생하는 투명 적층체(120'') 내의 가시광 손실을 감소시킨다. 동시에, 가시광 반사율을 감소시키고 저반사율이 얻어질 수 있는 파장 대역을 증가시키는 역할을 하게 된다.In addition, the second protective layer 124 suppresses the formation of the surface plasmon generated at the interface between the metal layer 122 and the second metal oxide layer 130 to prevent the transparent laminate from being generated due to light absorption by the surface plasmon ( 120 '') to reduce visible light loss. At the same time, it serves to reduce the visible light reflectance and increase the wavelength band at which low reflectance can be obtained.

상기한 바와 같은 제 2 보호층(124)은 인듐, 티탄, 지르코늄, 비스무스, 주석, 아연, 안티몬, 탄탈, 세륨, 네오듐, 란탄, 토륨, 마그네슘, 칼륨 등의 산화물, 이들 산화물의 혼합물 또는 황화 아연 등으로 구성될 수 있다. 예를 들면, 제 2 보호층(124)은 ITO 또는 AZO로 구성될 수 있다. 이때, 제 2 보호층(124)의 조성은 제 1 보호층(123)의 조성과 동일 조성을 갖는 층일 수도 있고, 다른 조성을 갖는 층일 수도 있다.The second protective layer 124 as described above is an oxide of indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodium, lanthanum, thorium, magnesium, potassium, a mixture of these oxides or sulfides Zinc and the like. For example, the second protective layer 124 may be made of ITO or AZO. In this case, the composition of the second protective layer 124 may be a layer having the same composition as the composition of the first protective layer 123 or may be a layer having a different composition.

도 6은 본 발명의 제 6 실시예에 따른 PDP 필터의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a PDP filter according to a sixth embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제 6 실시예에 따른 PDP 필터(60)는 기판(110), 제 1 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123), 금속층(122) 및 제 2 보호층(124)을 포함하는 투명 적층체(120''), 금속 산화물층(130) 및 전도성 고분자 필름층(140)을 포함한다.Referring to FIG. 6, the PDP filter 60 according to the sixth embodiment of the present invention may include a substrate 110, a first metal oxide layer 121, a first protective layer 123, a metal layer 122, and a second. A transparent laminate 120 ″ including a protective layer 124, a metal oxide layer 130, and a conductive polymer film layer 140 are included.

본 발명의 제 6 실시예에 따른 PDP 필터(60)는 제 1 금속 산화물층(121), 제 1 보호층(123), 금속층(122) 및 제 2 보호층(124)의 순서로 형성된 층들을 포함하는 투명 적층체(120'')가 2회 반복하여 적층된다는 것을 제외하고는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 PDP 필터(10)의 구성과 동일하다.The PDP filter 60 according to the sixth embodiment of the present invention may include layers formed in the order of the first metal oxide layer 121, the first protective layer 123, the metal layer 122, and the second protective layer 124. It is the same as the structure of the PDP filter 10 according to the fifth embodiment of the present invention, except that the transparent laminate 120 ″ including the multilayered laminate 120 is repeatedly stacked twice.

이하 본 발명의 실시예들에 따른 PDP 필터의 제조 방법을 본 발명의 제 2 실시예 및 제 6 실시예에 따른 PDP 필터(20, 60)를 예시하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a PDP filter according to embodiments of the present invention will be described by illustrating the PDP filters 20 and 60 according to the second and sixth embodiments of the present invention.

본 발명의 제 2 실시예에 따른 PDP 필터(20)의 제조 방법은 다음과 같다. The manufacturing method of the PDP filter 20 according to the second embodiment of the present invention is as follows.

도 2를 참조하면, 먼저 기판(110) 상에 투명 적층체(120'')를 형성한다.Referring to FIG. 2, first, a transparent laminate 120 ″ is formed on a substrate 110.

기판(110) 상에 투명 적층체(120'')를 형성하기 위하여 우선 제 1 금속 산화물층(121)을 형성한다. 제 1 금속 산화물층(121)은 예를 들면 ITO로 이루어질 수 있다. In order to form the transparent laminate 120 ″ on the substrate 110, a first metal oxide layer 121 is first formed. The first metal oxide layer 121 may be made of, for example, ITO.

투명 적층체(120'') 중의 제 1 금속 산화물층(121)이 ITO로 이루어진 경우를 예시하여 설명하면, 인듐을 주성분으로 하는 금속 타겟 또는 산화 인듐을 주성분으 로 하는 소결체 타겟을 사용한 반응성 스퍼터링을 행한다. 반응성 스퍼터링 방법에 있어서는, 스퍼터 가스에는 아르곤(Ar) 등의 불활성 가스, 반응성 가스에는 산소를 사용하고, 통상 압력 0.1 내지 20mTorr, 직류(DC) 또는 고주파(RF) 마그네트론 스퍼터링 방법 등을 이용할 수 있다. 산소 가스 유량은 얻어지는 성막 속도 등으로부터 실험적으로 구해지고, 투명성을 가진 제 1 금속 산화물층(121)이 형성되도록 제어한다.In the case where the first metal oxide layer 121 of the transparent laminate 120 '' is made of ITO, the reactive sputtering using a metal target having indium as a main component or a sintered body target having indium oxide as a main component will be described. Do it. In the reactive sputtering method, an inert gas such as argon (Ar) is used as the sputter gas, and oxygen is used as the reactive gas, and a pressure of 0.1 to 20 mTorr, a direct current (DC) or a high frequency (RF) magnetron sputtering method, or the like can be used. The oxygen gas flow rate is experimentally determined from the film formation rate or the like obtained, and is controlled so that the first metal oxide layer 121 having transparency is formed.

계속해서, 제 1 금속 산화물층(121) 상에 금속층(122)을 형성한다.Subsequently, the metal layer 122 is formed on the first metal oxide layer 121.

금속층(122)은 은 또는 은을 주성분으로 하는 합금 성분으로 형성될 수 있고, 금속층(122)의 형성 방법은 예를 들면 스퍼터링 방법, CVD 방법 또는 기상 증착 방법 등에 의해 수행될 수 있다. 막 형성 속도가 빠르고 대면적에 균일한 특성을 갖는 층을 형성하기 위해, 직류 스퍼터링 방법에 의해 금속층(122)을 형성할 수 있다.The metal layer 122 may be formed of silver or an alloy component containing silver as a main component, and the method of forming the metal layer 122 may be performed by, for example, a sputtering method, a CVD method, or a vapor deposition method. The metal layer 122 can be formed by a direct current sputtering method in order to form a layer having a fast film formation speed and a uniform property in a large area.

상기한 방법에 의해 상기한 바와 동일한 순서로 제 1 금속 산화물층(121) 및 금속층(122)으로 이루어진 투명 적층체(120)를 2회 반복하여 적층한다.By the above method, the transparent laminate 120 made of the first metal oxide layer 121 and the metal layer 122 is repeatedly stacked twice in the same order as described above.

계속해서, 투명 적층체(120'') 상에 제 2 금속 산화물층(130)을 형성한다. 제 2 금속 산화물층(130)은 상술한 제 1 금속 산화물층(121)의 형성 방법과 동일하므로, 그 설명을 생략하기로 한다.Subsequently, the second metal oxide layer 130 is formed on the transparent laminate 120 ″. Since the second metal oxide layer 130 is the same as the method of forming the first metal oxide layer 121 described above, description thereof will be omitted.

이어서, 제 2 금속 산화물층(130) 상에 전도성 고분자 필름층(140)을 형성한다.Subsequently, the conductive polymer film layer 140 is formed on the second metal oxide layer 130.

전도성 고분자 필름층(140)은 예를 들어 폴리에틸렌텔레프탈레이트(PET) 또 는 폴리카보네이트(PC) 필름과 같은 지지체의 일면에 금속층(122)의 기능을 보조하기 위한 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리(3-알킬티오펜), 폴리이소-티아나프텐, 폴리(p-페틸렌비닐렌, 폴리(p-페닐렌) 및 이의 유도체중에서 적어도 하나 선택된 고분자 매트릭스에 탄소 나노 튜브 또는/및 금속 분말이 분산되어 있는 전도성 고분자층을 포함하고, 지지체의 타면에 전도성 고분자 필름층(140)을 고정하기 위한 점착제층, 예를 들어 감압성 점착제(PSA)층을 포함하는 형태를 갖는다. 이러한 전도성 고분자 필름층(140)의 점착제층을 통해 제 2 금속 산화물층(130) 상에 전도성 고분자 필름층(140)을 고정한다.The conductive polymer film layer 140 is, for example, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, poly to assist the function of the metal layer 122 on one surface of a support such as polyethylene terephthalate (PET) or polycarbonate (PC) film. At least one selected from (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3-alkylthiophene), polyiso-thianaphthene, poly (p-petylenevinylene, poly (p-phenylene) and derivatives thereof A conductive polymer layer in which carbon nanotubes and / or metal powders are dispersed in the polymer matrix, and an adhesive layer for fixing the conductive polymer film layer 140 to the other surface of the support, for example, a pressure-sensitive adhesive (PSA) layer The conductive polymer film layer 140 is fixed onto the second metal oxide layer 130 through the pressure-sensitive adhesive layer of the conductive polymer film layer 140.

이러한 전도성 고분자 필름층(140)에 포함되는 전도성 고분자층을 제조하기 위하여, 상기한 바와 같은 고분자를 유기 용매에 용해시켜 형성된 고분자 용액에 금속 분말 또는 탄소 나노 튜브를 분산시킨 분산액을 준비하고, 이를 폴리에틸렌텔레프탈레이트(PET) 또는 폴리카보네이트(PolyCarbonate; PC) 등과 같은 지지체 위에 습식 코팅(wet coating)을 하여 전도성 고분자층 형태로 가공한다. 전도성 고분자층 가공 방법으로는 슬릿 다이(slit die), 콤마, 마이크로그라비아 등의 방법이 있으며, 이에 한정되지 않는다.In order to manufacture the conductive polymer layer included in the conductive polymer film layer 140, a dispersion in which metal powder or carbon nanotubes are dispersed in a polymer solution formed by dissolving a polymer as described above in an organic solvent and prepare a polyethylene A wet coating is applied on a support such as telephthalate (PET) or polycarbonate (PC) to form a conductive polymer layer. The conductive polymer layer processing method includes a slit die, a comma, microgravure, and the like, but is not limited thereto.

계속해서, 본 발명의 제 6 실시예에 따른 PDP 필터(60)의 제조 방법을 설명하도록 한다.Subsequently, a manufacturing method of the PDP filter 60 according to the sixth embodiment of the present invention will be described.

도 6을 참조하면, 먼저 기판(110) 상에 투명 적층체(120'')를 형성한다. 기판(110) 상에 투명 적층체(120'')를 형성하기 위하여 우선 제 1 금속 산화물층(121)을 형성한다. 제 1 금속 산화물층(121)은 예를 들면 산화 니오브로 이루어질 수 있다. Referring to FIG. 6, first, a transparent laminate 120 ″ is formed on a substrate 110. In order to form the transparent laminate 120 ″ on the substrate 110, a first metal oxide layer 121 is first formed. The first metal oxide layer 121 may be made of niobium oxide, for example.

투명 적층체(120'') 중의 제 1 금속 산화물층(121)이 산화 니오브로 이루어진 경우를 예시하여 설명하면, 산화 니오브층의 형성은 예를 들면 전기 전도성이 우수한 산화 니오브 타겟을 사용하는 직류 스퍼터링 방법에 의해 형성하는 방법, 반응성 스퍼터링 방법, 이온 플레이팅 방법, 기상 증착 방법 또는 화학 기상 증착(Chemical Vapor Deposition; CVD) 방법에 의해서 수행될 수 있다. 이들 중에서, 대면적에 빠른 속도로 균일한 형성을 수행할 수 있는 직류 스퍼터링 방법에 의해 산화 니오브층을 형성할 수 있다.To illustrate the case where the first metal oxide layer 121 in the transparent laminate 120 '' is made of niobium oxide, the formation of the niobium oxide layer is, for example, direct current sputtering using a niobium oxide target having excellent electrical conductivity. By a method, a reactive sputtering method, an ion plating method, a vapor deposition method, or a chemical vapor deposition (CVD) method. Among them, the niobium oxide layer can be formed by a direct current sputtering method capable of performing uniform formation at a high speed in a large area.

산화 니오브 타겟은 산화 니오브의 화학양론적인 조성에 대해 산소를 부족하게 하거나 다른 물질을 첨가하여 직류 스퍼터링에 충분히 사용할 수 있을 정도의 전기 전도성을 갖도록 만든 타겟이다. 산화 니오브 타겟을 사용하는 경우, 스퍼터링 기체로서 0.1 내지 10 부피%의 산화성 기체를 함유한 불활성 기체를 사용하는 것이 바람직하다. 스퍼터링 기체로서 이러한 범위 내의 농도로 산화성 기체를 함유한 불활성 기체를 사용하면, 산화 니오브층이 형성될 때 생기는 산화성 플라즈마에 의한 금속층의 산화를 억제하는 데 효과적이고, 낮은 방사율 및 높은 전기 전도성을 갖는 투명 적층체를 제조하는 데 효과적이다. 특히, 0.1 내지 5 부피%의 산화성 기체를 함유하는 불활성 기체를 사용하는 것이 바람직하다.The niobium oxide target is a target made to have an electrical conductivity enough to be used for direct current sputtering by depleting oxygen or adding other materials to the stoichiometric composition of niobium oxide. When using a niobium oxide target, it is preferable to use an inert gas containing 0.1 to 10% by volume of an oxidizing gas as the sputtering gas. The use of an inert gas containing an oxidizing gas at a concentration within this range as a sputtering gas is effective for suppressing oxidation of the metal layer by the oxidative plasma generated when the niobium oxide layer is formed, and has a low emissivity and a high electrical conductivity. Effective for producing laminates. In particular, it is preferable to use an inert gas containing 0.1 to 5% by volume of oxidizing gas.

산화성 기체로서, 산소 기체가 일반적으로 사용될 수도 있고, 일산화질소, 이산화질소, 일산화탄소, 이산화탄소 또는 오존이 사용될 수도 있다.As the oxidizing gas, oxygen gas may generally be used, and nitrogen monoxide, nitrogen dioxide, carbon monoxide, carbon dioxide or ozone may be used.

계속해서, 제 1 금속 산화물층(121) 상에 제 1 보호층(123)을 형성한다. Subsequently, a first protective layer 123 is formed on the first metal oxide layer 121.

제 1 보호층(123)의 형성 방법은 형성될 층의 조성에 따라 적절히 선택된 방법에 의해 수행될 수 있다. 예를 들면, 스퍼터링 방법, CVD 방법 또는 기상 증착 방법 등으로 수행될 수 있다.The method of forming the first protective layer 123 may be performed by a method appropriately selected according to the composition of the layer to be formed. For example, it may be performed by a sputtering method, a CVD method or a vapor deposition method.

제 1 보호층(123)은 인듐, 티탄, 지르코늄, 비스무스, 주석, 아연, 안티몬, 탄탈, 세륨, 네오듐, 란탄, 토륨, 마그네슘, 칼륨 등의 산화물, 이들 산화물의 혼합물 또는 황화 아연 등으로 구성될 수 있고, 예를 들면 ITO 또는 AZO로 구성될 수 있다. 제 1 보호층(123)이 AZO로 이루어진 경우를 예시하여 설명하면, 산화 아연(ZnO)에 산화 알루미늄(Al₂O₃)이 소량 혼입되어 있는 타겟을 사용하여 산화성 기체의 공급 없이 불활성 기체의 공급 만에 의해 스퍼터링 방법에 의하여 제 1 보호층(123)을 형성하게 된다. AZO의 경우 산화성 기체가 공급되지 않아도 제 1 보호층(123)에 투명성이 저하되는 문제가 발생하지 않으므로, O₂와 같은 산화성 기체의 공급이 불필요하다. 따라서, 후술하는 금속층(122)의 형성시 산화성 기체에 의한 금속층(122)의 산화 문제가 발생하지 않게 된다.The first protective layer 123 is composed of oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodium, lanthanum, thorium, magnesium, potassium, a mixture of these oxides, zinc sulfide, and the like. It may be composed of, for example, ITO or AZO. Referring to the case in which the first protective layer 123 is made of AZO, a target in which a small amount of aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ) is mixed in zinc oxide (ZnO) is used to supply an inert gas without supplying an oxidizing gas. Only the first protective layer 123 is formed by the sputtering method. In the case of AZO, even if the oxidizing gas is not supplied, the problem of deterioration of transparency in the first protective layer 123 does not occur, and thus, supply of an oxidizing gas such as O ₂ is unnecessary. Therefore, the problem of oxidation of the metal layer 122 by the oxidizing gas does not occur when forming the metal layer 122 described later.

이어서, 제 1 보호층(123) 상에 금속층(122)을 형성한다. 금속층(122)은 은 또는 은을 주성분으로 하는 합금 성분으로 형성될 수 있고, 금속층(122)의 형성 방법은 예를 들면 스퍼터링 방법, CVD 방법 또는 기상 증착 방법 등에 의해 수행될 수 있다. 막형성 속도가 빠르고 대면적에 균일한 특성을 갖는 층을 형성하기 위해, 직류 스퍼터링 방법에 의해 금속층(122)을 형성할 수 있다.Next, the metal layer 122 is formed on the first protective layer 123. The metal layer 122 may be formed of silver or an alloy component containing silver as a main component, and the method of forming the metal layer 122 may be performed by, for example, a sputtering method, a CVD method, or a vapor deposition method. The metal layer 122 can be formed by a direct current sputtering method in order to form a layer having a fast film forming speed and a uniform property in a large area.

계속해서, 금속층(122) 상에 제 2 보호층(124)을 형성한다. 제 2 보호층 (124)은 ITO 또는 AZO 성분으로 형성될 수 있고, 제 2 보호층(124)의 형성 방법은 형성될 층의 조성에 따라 적절히 선택된 방법에 의해 수행될 수 있다. 예를 들면, 스퍼터링 방법, CVD 방법 또는 기상증착 방법 등으로 수행될 수 있다.Subsequently, the second protective layer 124 is formed on the metal layer 122. The second protective layer 124 may be formed of an ITO or AZO component, and the method of forming the second protective layer 124 may be performed by a method appropriately selected according to the composition of the layer to be formed. For example, it may be performed by a sputtering method, a CVD method or a vapor deposition method.

상기한 방법에 의해 상기한 바와 동일한 순서로 금속 산화물층(121), 제 1 보호층, 금속층(122) 및 제 2 보호층(124)으로 이루어진 투명 적층체(120'')를 2회 반복하여 적층한다.By the above method, the transparent laminate 120 ″ consisting of the metal oxide layer 121, the first protective layer, the metal layer 122, and the second protective layer 124 is repeated twice in the same order as described above. Laminated.

전도성 고분자 필름층(140)의 형성 방법은 제 2 실시예에 따른 PDP 필터(20) 제조 방법에서와 동일하므로 그 설명을 생략하기로 한다.Since the method of forming the conductive polymer film layer 140 is the same as the method of manufacturing the PDP filter 20 according to the second embodiment, description thereof will be omitted.

계속해서 본 발명의 실시예들에 따른 PDP 필터를 포함하는 PDP 장치에 대하여 설명하기로 한다.Subsequently, a PDP device including a PDP filter according to embodiments of the present invention will be described.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 장치를 나타내는 분해사시도이다. 7 is an exploded perspective view showing a PDP apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 의한 PDP 장치(500)의 구조는 도 5에 도시된 바와 같이, 케이스(510), 케이스(510)의 상부를 덮는 커버(540), 케이스(510) 내에 수용되는 구동 회로 기판(520), 가스방전현상이 일어나는 방전셀을 포함하는 패널 어셈블리(Panel assembly)(530) 및 본 발명의 실시예들에 따른 PDP 필터(100, 100', 100'' 또는 100''')로 구성된다.As shown in FIG. 5, the structure of the PDP apparatus 500 according to an embodiment of the present invention includes a case 510, a cover 540 covering an upper portion of the case 510, and a drive accommodated in the case 510. A circuit board 520, a panel assembly 530 including a discharge cell in which gas discharge occurs, and a PDP filter 100, 100 ', 100' 'or 100' '' according to embodiments of the present invention. It consists of

PDP 필터(10, 20, 30, 40, 50, 60)는 전도성이 우수한 재료로 형성된 금속층과 전도성 고분자 필름층을 포함하고 있으며, 이 금속층과 전도성 고분자 필름층은 커버(540)를 통하여 케이스(510)로 접지된다. 즉, 패널 어셈블리(530)로부터 발생된 전자파가 사용자에게 도달하기 전에, 이를 PDP 필터(10, 20, 30, 40, 50, 60)의 전도층을 통해서 커버(540)와 케이스(510)로 접지시키는 것이다. The PDP filters 10, 20, 30, 40, 50, and 60 include a metal layer and a conductive polymer film layer formed of a material having excellent conductivity, and the metal layer and the conductive polymer film layer are connected to the case 510 through the cover 540. Is grounded. That is, before the electromagnetic waves generated from the panel assembly 530 reach the user, they are grounded to the cover 540 and the case 510 through the conductive layers of the PDP filters 10, 20, 30, 40, 50, and 60. It is to let.

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 장치를 나타낸 사시도이다.8 is a perspective view showing a PDP apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 의한 PDP 장치(500)는 PDP 필터(10, 20, 30, 40, 50, 60)와 패널 어셈블리(530)를 포함한다. PDP 필터(10, 20, 30, 40, 50, 60)는 상술한 바와 같이 기판 상에 제 1 금속 산화물층과 금속층, 제 1 금속 산화물층, 제 1 보호층과 금속층, 또는 제 1 금속 산화물층, 제 1 보호층, 금속층과 제 2 보호층을 포함하는 투명 적층체를 2회 이하로 적층하고, 이러한 투명 적층체 상에 형성되어 있는 제 2 금속 산화물층과 전도성 고분자 필름층을 포함한다. 이러한 PDP 필터(10, 20, 30, 40, 50, 60)에는 네온광 차폐층, 근적외선 차폐층 및 반사 방지층, 또는 네온광 차폐 기능, 근적외선 차폐 기능 및/또는 반사 방지 기능의 조합 기능을 가진 층을 더 부착할 수 있다.As shown in FIG. 8, the PDP apparatus 500 according to an embodiment of the present invention includes PDP filters 10, 20, 30, 40, 50, and 60 and a panel assembly 530. The PDP filters 10, 20, 30, 40, 50, and 60 have a first metal oxide layer and a metal layer, a first metal oxide layer, a first protective layer and a metal layer, or a first metal oxide layer on the substrate as described above. And a transparent laminate comprising a first protective layer, a metal layer and a second protective layer twice or less, and including a second metal oxide layer and a conductive polymer film layer formed on the transparent laminate. Such PDP filters 10, 20, 30, 40, 50, and 60 have a neon light shielding layer, a near infrared shielding layer and an antireflection layer, or a layer having a combination function of a neon light shielding function, a near infrared shielding function and / or an antireflection function. Can be further attached.

이하 패널 어셈블리(530)에 대해 자세히 설명한다.Hereinafter, the panel assembly 530 will be described in detail.

도 8에 도시된 바와 같이, 전면기판 (611)의 표면 상에는 복수의 유지 전극(Sustain electrode)(612)이 스트라이프 형상으로 배치되어 있다. 각 유지 전극(612)에는 신호 지연을 줄이기 위해 버스 전극(613)이 형성되어 있다. 유지 전극 (612)이 배치된 면의 위에는 전체를 덮도록 유전체층(614)이 형성되어 있다. 또, 유전체층(614)의 면 상에는 유전체 보호막(615)이 형성되어 있다. 예를 들면, 유전체 보호막(615)은 스퍼터링법 등을 이용하여 유전체층(614)의 표면 상을 MgO의 박막으로 덮음으로써 형성할 수 있다. As shown in FIG. 8, a plurality of sustain electrodes 612 are disposed on the surface of the front substrate 611 in a stripe shape. Bus electrodes 613 are formed on the sustain electrodes 612 to reduce signal delays. The dielectric layer 614 is formed on the surface where the storage electrode 612 is disposed so as to cover the whole. A dielectric protective film 615 is formed on the surface of the dielectric layer 614. For example, the dielectric protective film 615 can be formed by covering the surface of the dielectric layer 614 with a thin film of MgO using a sputtering method or the like.

한편, 배면 기판(621)의 상기 전면 기판(611)과 대향하는 면에는 다수의 어드레스 전극(622)이 스트라이프 형상으로 배치되어 있다. 어드레스 전극(622)의 배치 방향은 전면 기판(611)과 배면 기판(621)을 대향 배치할 때에 유지 전극(612)과 교차하는 방향이다. 어드레스 전극(622)이 배치된 면의 위에는 전체를 덮도록 유전체층(623)이 형성되어 있다. 또, 유전체층(623)의 면 상에는 어드레스 전극(622)과 평행하면서 전면 기판(611) 쪽으로 향한 다수의 격벽(624)이 돌출 설치되어 있다. 격벽(624)은 이웃하는 어드레스 전극(622)과 어드레스 전극(622)과의 사이의 영역에 배치되어 있다.On the other hand, a plurality of address electrodes 622 are arranged in a stripe shape on a surface of the rear substrate 621 that faces the front substrate 611. The disposition direction of the address electrode 622 is a direction intersecting with the sustain electrode 612 when the front substrate 611 and the rear substrate 621 are disposed to face each other. The dielectric layer 623 is formed to cover the entire surface on which the address electrode 622 is disposed. Further, on the surface of the dielectric layer 623, a plurality of partition walls 624 protruding toward the front substrate 611 while being parallel to the address electrode 622 are provided. The partition wall 624 is disposed in an area between the neighboring address electrode 622 and the address electrode 622.

이웃하는 격벽(624)과 격벽(624) 및 유전체층(623)으로 형성되는 홈 부분의 측면에는 형광체층(625)이 배치되어 있다. 형광체층(625)은 격벽(624)으로 구획되는 홈 부분마다 적색 형광체층(625R), 녹색 형광체층(625G), 청색 형광체층(625B)이 배치되어 있다. 이들 형광체층(625)은 스크린 인쇄법, 잉크젯법 또는 포토레지스트 필름층법 등의 후막 형성법을 이용하여 형성된 형광체 입자군으로 이루어지는 층이다. 이러한 형광체층(625)의 재질로는, 예를 들면 적색 형광체로서 (Y, Gd)BO₃ : Eu, 녹색 형광체로서 Zn₂SiO₄ : Mn, 청색 형광체로서 BaMgAl₁₀O₁₇ : Eu를 사용할 수 있다.The phosphor layer 625 is disposed on the side surface of the groove portion formed of the adjacent partition wall 624, the partition wall 624, and the dielectric layer 623. In the phosphor layer 625, a red phosphor layer 625R, a green phosphor layer 625G, and a blue phosphor layer 625B are disposed in each groove portion partitioned by the partition wall 624. These phosphor layers 625 are layers made of a phosphor particle group formed by using a thick film forming method such as a screen printing method, an inkjet method, or a photoresist film layer method. As the material of the phosphor layer 625, for example, (Y, Gd) BO ₃ : Eu as a red phosphor, Zn ₂ SiO ₄ : Mn as a green phosphor, and BaMgAl ₁₀ O ₁₇ : Eu as a blue phosphor can be used. .

이러한 구조를 갖는 전면 기판(611)과 배면 기판(621)을 대향 배치했을 때에 상기 홈 부분과 유전체 보호막(615)으로 형성되는 방전셀(626)에는 방전 가스가 봉입되어 있다. 즉, 방전셀(626)은 패널 어셈블리(530)에서는 전면 기판(611)과 배면 기판(621) 사이에서의 유지 전극(612)과 어드레스 전극(622)이 교차하는 각각의 부분에 형성된다. 방전 가스로는 예를 들면, Ne-Xe계 가스, He-Xe계 가스 등을 사용할 수 있다.When the front substrate 611 and the back substrate 621 having such a structure are disposed to face each other, the discharge gas is filled in the discharge cell 626 formed of the groove portion and the dielectric protective film 615. That is, in the panel assembly 530, the discharge cells 626 are formed at respective portions where the sustain electrode 612 and the address electrode 622 intersect between the front substrate 611 and the rear substrate 621. As the discharge gas, for example, a Ne-Xe-based gas, a He-Xe-based gas, or the like can be used.

이상의 구조를 갖는 패널 어셈블리(530)는 기본적으로 형광등과 같은 발광 원리를 갖고, 방전셀(626)의 내부에서의 방전에 따라 방전 가스로부터 방출된 자외선이 형광체층(625)을 여기 발광시켜 가시광으로 변환된다. The panel assembly 530 having the above structure basically has a light emission principle such as a fluorescent lamp, and the ultraviolet rays emitted from the discharge gas in accordance with the discharge inside the discharge cell 626 excite the phosphor layer 625 to emit visible light. Is converted.

다만, 패널 어셈블리(530)에 이용하는 각 색의 형광체층(625R, 625G, 625B)에는 각각 다른 가시광으로의 변환 효율을 갖는 형광체 재료가 사용되고 있다. 그 때문에, 패널 어셈블리(530)에서 화상을 표시할 때는 일반적으로 각 형광체층(625R, 625G, 625B)의 휘도를 조정함으로써, 색 밸런스의 조정이 이루어지고 있다. 구체적으로는, 휘도가 가장 낮은 색의 형광체층을 기준으로 하여, 다른 형광체층의 휘도를 색마다 지정된 비율로 저하시키고 있다.However, phosphor materials having different conversion efficiency into different visible light are used for the phosphor layers 625R, 625G, and 625B of each color used for the panel assembly 530. Therefore, when displaying an image in the panel assembly 530, the color balance is adjusted generally by adjusting the brightness | luminance of each phosphor layer 625R, 625G, and 625B. Specifically, on the basis of the phosphor layer of the color having the lowest luminance, the luminance of the other phosphor layer is reduced at a ratio designated for each color.

이러한 패널 어셈블리(530)의 구동은 크게 어드레스 방전을 위한 구동과 유지 방전을 위한 구동으로 나뉜다. 어드레스 방전은 어드레스 전극(622)과 하나의 유지 전극(612) 사이에서 일어나며, 이 때 벽전하(wall charge)가 형성된다. 유지 방전은 벽전하가 형성된 방전셀(626)에 위치하는 두개의 유지 전극들(612) 사이의 전위차에 의해서 일어난다. 이 유지 방전시에 방전 가스로부터 발생되는 자외선에 의해 해당 방전셀(626)의 형광체층(625)이 여기 되어 가시광이 발산되며, 이 가시광이 전면 기판(611)을 통해 출사되면서 사용자가 인식할 수 있는 화상을 형성하게 된다.The driving of the panel assembly 530 is largely divided into driving for address discharge and driving for sustain discharge. The address discharge occurs between the address electrode 622 and one sustain electrode 612, at which time wall charge is formed. The sustain discharge is caused by the potential difference between the two sustain electrodes 612 positioned in the discharge cell 626 in which the wall charges are formed. The ultraviolet light generated from the discharge gas during this sustain discharge excites the phosphor layer 625 of the corresponding discharge cell 626 to emit visible light, and the visible light is emitted through the front substrate 611 to be recognized by the user. To form an image.

이하, 실험예들 및 비교 실험예를 통하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기 실험예들은 본 발명을 예시하기 위한 것으로서 본 발명이 하기 실험예들에 의하여 한정되는 것은 아님이 이해되어야 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail through experimental examples and comparative experimental examples. However, the following experimental examples are for illustrating the present invention, it should be understood that the present invention is not limited by the following experimental examples.

실험예 1Experimental Example 1

투명 기판의 일면에 직류 스퍼터링 방법에 의해 산화 니오브층, AZO층, 은 박막층, AZO층의 순서로 적층하여 투명 적층체를 형성하고, 이러한 투명 적층체 상에 산화 니오브층을 적층한 후 전도성 고분자 필름층을 일면에 형성하고, 타면에 네온광 차폐층 및 근적외선 차폐층을 형성하여 PDP 필터를 제조하였다.On one surface of the transparent substrate by a direct current sputtering method, a niobium oxide layer, an AZO layer, a silver thin film layer, and an AZO layer are laminated in this order to form a transparent laminate, and after the niobium oxide layer is laminated on the transparent laminate, the conductive polymer film A layer was formed on one surface, and a neon light shielding layer and a near infrared shielding layer were formed on the other surface to prepare a PDP filter.

AZO막의 성막에는 산화 아연(ZnO)에 산화 알루미늄(Al₂O₃)이 소량 혼입되어 있는 타겟을 사용하여 스퍼터 가스로는 아르곤 가스를 사용하였다. 은박막의 성막에는 타겟으로서 은을 사용하고 스퍼터 가스에는 아르곤 가스를 사용했다. In forming the AZO film, a target in which a small amount of aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ) was mixed in zinc oxide (ZnO) was used, and argon gas was used as the sputter gas. Silver was used as a target for film formation of a silver thin film, and argon gas was used for sputter gas.

실험예 2Experimental Example 2

투명 적층체를 2회 연속하여 적층한다는 것을 제외하고는 실험예 1과 동일하게 PDP 필터를 제조하였다.A PDP filter was manufactured in the same manner as in Experiment 1, except that the transparent laminate was successively laminated twice.

비교 실험예 1Comparative Experimental Example 1

전도성 고분자 필름층이 없다는 점을 제외하고는 실험예 2와 동일하게 PDP 필터를 제조하였다. 즉, 투명 기판의 일면에 직류 스퍼터링 방법에 의해 산화 니오브층, AZO층, 은 박막층, AZO층의 순서로 적층하여 투명 적층체를 형성하고, 이러한 투명 적층체를 연속해서 2회 반복하여 적층한 후, 이러한 적층체 상에 산화 니오브층을 적층하고, 타면에 네온광 차폐층 및 근적외선 차폐층을 형성하여 PDP 필터를 제조하였다.A PDP filter was manufactured in the same manner as in Experiment 2, except that there was no conductive polymer film layer. That is, a transparent laminate is formed by laminating the niobium oxide layer, the AZO layer, the silver thin film layer, and the AZO layer in the order of DC sputtering on one surface of the transparent substrate, and the laminate is repeatedly stacked twice in succession. A niobium oxide layer was laminated on the laminate, and a neon light shielding layer and a near infrared shielding layer were formed on the other surface to manufacture a PDP filter.

AZO막의 성막에는 산화 아연(ZnO)에 산화 알루미늄(Al₂O₃)이 소량 혼입되어 있는 타겟을 사용하여 스퍼터 가스로는 아르곤 가스를 사용하였다. 또한, 은박막의 성막에는 타겟으로서 은을 사용하고 스퍼터 가스에는 아르곤 가스를 사용했다.In forming the AZO film, a target in which a small amount of aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ) was mixed in zinc oxide (ZnO) was used, and argon gas was used as the sputter gas. In addition, silver was used as a target for film formation of a silver thin film, and argon gas was used for sputter gas.

비교 실험예 2Comparative Experimental Example 2

투명 적층체를 3회 연속해서 적층하였다는 점과, 근적외선 차폐층이 없다는 점을 제외하고는 비교 실험예 1과 동일하게 제조하였다.A transparent laminate was manufactured in the same manner as in Comparative Experiment 1 except that the laminate was successively laminated three times and there was no near-infrared shielding layer.

상기한 바와 같이 제조된 실험예 1 및 2와 비교 실험예 1 및 2의 PDP 필터에 대해서 전자파 차폐율 및 근적외선 평균 투과율을 하기의 방법으로 평가하였다. 실험예 1 및 2와 비교 실험예 1 및 2의 가시광 투과율은 D65 표준 광원의 380 내지 780㎚ 사이의 파장 범위에서 평균 시감 투과율이 50%가 되도록 조절하였다.For the PDP filters of Experimental Examples 1 and 2 and Comparative Experimental Examples 1 and 2 prepared as described above, the electromagnetic shielding rate and the near infrared mean transmittance were evaluated by the following method. The visible light transmittances of Experimental Examples 1 and 2 and Comparative Experimental Examples 1 and 2 were adjusted such that the average luminous transmittance was 50% in the wavelength range between 380 and 780 nm of the D65 standard light source.

1) 전자파 차폐율은 실험예들 및 비교실험예들의 PDP 필터를 패널 어셈블리에 장착한 상태에서 전자파 측정설비 표준인 "ANSI C63.4 1992"를 충족하는 쉴드룸에서 Class B 규정에 따라 측정하였다. 그 결과를 하기 표 1에 표시한다.1) The electromagnetic shielding rate was measured in accordance with Class B regulations in a shield room that meets the standard "ANSI C63.4 1992", which is equipped with the PDP filter of the test examples and the comparative test examples in the panel assembly. The results are shown in Table 1 below.

2) 근적외선 투과율은 850 및 950㎚에서 각각 측정하였다. 그 결과를 표 1에 표시한다.2) Near-infrared transmittance was measured at 850 and 950 nm, respectively. The results are shown in Table 1.

상기 표 1에 기재되어 있는 바와 같이, 실시예 1 및 2의 전자파 차폐율 각각 15㎶/m로, 비교 실험예 2와 동일한 전자파 차폐율을 갖고, 비교 실험예 1에 비해서는 좀더 우수한 전자파 차폐율을 갖는다. 또한, 실험예 1 및 2의 근적외선 투과율도 정도 차이는 있지만, 모두 PDP 필터의 근적외선 차폐에 대한 표준 스펙에서 허용되는 범위의 값을 갖는다. 즉, 본 발명의 실시예들에 따라 제조된 실험예 1 및 실험예 2의 PDP 필터는 종래 전자파 차폐율 및 근적외선 차폐율 등을 높이기 위해 복잡할 뿐만 아니라, 원가 상승 요인이 되었던 다층 증착 공정을 사용하여 소정 두께 이상의 금속층을 형성하는 공정 없이, 전도성 고분자 필름을 사용함으로써 충분한 전자파 차폐 및 근적외선 차폐의 효과를 얻을 수 있다.As described in Table 1, the electromagnetic shielding rate of each of Examples 1 and 2 is 15 ㎶ / m, each has the same electromagnetic shielding rate as Comparative Experimental Example 2, more excellent electromagnetic shielding rate than Comparative Experimental Example 1 Has In addition, although the near-infrared transmittance of Experimental example 1 and 2 also has a grade difference, all have the value of the range allowable by the standard specification about the near-infrared shielding of a PDP filter. That is, the PDP filters of Experimental Examples 1 and 2 manufactured according to the embodiments of the present invention are not only complicated to increase the electromagnetic shielding rate and the near infrared shielding rate, but also use a multilayer deposition process that has been a cost increase factor. By using the conductive polymer film without the process of forming a metal layer of a predetermined thickness or more, sufficient electromagnetic shielding and near-infrared shielding effects can be obtained.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains may implement the present invention in other specific forms without changing the technical spirit or essential features thereof. I can understand that. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 전도성 고분자 필름층을 포함하는 PDP 필터에 의하면 전자파 차폐 효율도 높고 가시광선 투과율도 좋을 뿐만 아니라 제조도 비교적 용이한 PDP 장치를 제조할 수 있게 된다.As described above, according to the PDP filter including the conductive polymer film layer according to the present invention, it is possible to manufacture a PDP device having high electromagnetic wave shielding efficiency, good visible light transmittance, and relatively easy to manufacture.

Claims

기판; 및Board; And

상기 기판의 일면에 전도성 고분자 필름층; 및A conductive polymer film layer on one surface of the substrate; And

상기 기판과 상기 고분자 필름층 사이에 제 1 금속 산화물층과 금속층을 포함하는 투명 적층체를 더 포함하는 PDP 필터.And a transparent laminate including a first metal oxide layer and a metal layer between the substrate and the polymer film layer.

제 1 항에 있어서,The method of claim 1,

상기 전도성 고분자 필름층은 지지체의 일면에 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리(3-알킬티오펜), 폴리이소-티아나프텐, 폴리(p-페틸렌비닐렌), 폴리(p-페닐렌) 및 이의 유도체들 중에서 적어도 하나 선택된 고분자 매트릭스에 탄소 나노 튜브 또는 금속 분말이 분산되어 있는 전도성 고분자층 및 상기 지지체의 타면에 형성되어 있는 점착제층을 포함하는 PDP 필터.The conductive polymer film layer may be polythiophene, polypyrrole, polyaniline, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3-alkylthiophene), polyiso-thianaphthene, poly (p-) on one surface of the support. Petylene vinylene), poly (p-phenylene) and at least one selected from the group consisting of a conductive polymer layer in which carbon nanotubes or metal powder is dispersed in a polymer matrix and an adhesive layer formed on the other side of the support PDP filter.

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제 1 항에 있어서,The method of claim 1,

상기 투명 적층체는 적어도 1회 적층되는 PDP 필터.And the transparent laminate is laminated at least once.

제 1 항에 있어서,The method of claim 1,

상기 투명 적층체는 상기 금속층의 양면 중 적어도 일면에 보호층을 더 포함하는 PDP 필터.The transparent laminate further comprises a protective layer on at least one surface of both surfaces of the metal layer.

제 1 항에 있어서,The method of claim 1,

상기 고분자 필름층과 상기 투명 적층체 사이에 제 2 금속 산화물층을 더 포함하는 PDP 필터. The PDP filter further comprises a second metal oxide layer between the polymer film layer and the transparent laminate.

제 1 항에 있어서,The method of claim 1,

상기 기판의 일면 또는 타면에 근적외선 차폐층, 네온광 차폐층 및 반사 방지층, 또는 네온광 차폐 기능, 근적외선 차폐 기능 또는 반사 방지 기능의 조합 기능을 가진 층을 더 포함하는 PDP 필터.And a layer having a near infrared shielding layer, a neon light shielding layer and an antireflection layer, or a combination function of a neon light shielding function, a near infrared shielding function, or an antireflection function on one or the other surfaces of the substrate.

기판;Board;

상기 기판의 일면에 제 1 금속 산화물층과 금속층을 포함하는 투명 적층체;A transparent laminate including a first metal oxide layer and a metal layer on one surface of the substrate;

상기 투명 적층체 상에 형성된 제 2 금속 산화물층; 및A second metal oxide layer formed on the transparent laminate; And

상기 제 2 금속 산화물층 상에 형성된 전도성 고분자 필름층을 포함하는 PDP 필터.PDP filter comprising a conductive polymer film layer formed on the second metal oxide layer.

제 8 항에 있어서,The method of claim 8,

상기 전도성 고분자 필름층은 지지체의 일면에 폴리티오펜, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리(3-알킬티오펜), 폴리이소-티아나프텐, 폴리(p-페틸렌비닐렌), 폴리(p-페닐렌) 및 이의 유도체들 중에서 적어도 하나 선택된 고분자 매트릭스에 탄소 나노 튜브 또는/및 금속 분말이 분산되어 있는 전도성 고분자층 및 상기 지지체의 타면에 형성되어 있는 점착제층을 포함하는 PDP 필터.The conductive polymer film layer may be polythiophene, polypyrrole, polyaniline, poly (3,4-ethylenedioxythiophene), poly (3-alkylthiophene), polyiso-thianaphthene, poly (p-) on one surface of the support. Petylene vinylene), at least one of poly (p-phenylene) and derivatives thereof, a conductive polymer layer in which carbon nanotubes and / or metal powders are dispersed in a polymer matrix and an adhesive layer formed on the other side of the support PDP filter comprising.

제 9 항에 있어서,The method of claim 9,

상기 제 1 금속 산화물층은 산화 인듐과 산화 주석의 혼합물 또는 산화 알루미늄과 산화 아연의 혼합물인 PDP 필터.And the first metal oxide layer is a mixture of indium oxide and tin oxide or a mixture of aluminum oxide and zinc oxide.

제 9 항에 있어서,The method of claim 9,

상기 투명 적층체는 2회 이하로 적층되는 PDP 필터.The transparent laminate is a PDP filter laminated two or less times.

제 9 항에 있어서,The method of claim 9,

상기 기판의 일면 또는 타면에 근적외선 차폐층, 네온광 차폐층 및 반사 방지층, 또는 네온광 차폐 기능, 근적외선 차폐 기능 또는 반사 방지 기능의 조합 기능을 가진 층을 더 포함하는 PDP 필터. And a layer having a near infrared shielding layer, a neon light shielding layer and an antireflection layer, or a combination function of a neon light shielding function, a near infrared shielding function, or an antireflection function on one or the other surfaces of the substrate.

기판;Board;

상기 기판의 일면에 제 1 금속 산화물층과 금속층을 포함하고, 상기 금속층의 양면 중 적어도 일면에 보호층을 포함하는 투명 적층체;A transparent laminate including a first metal oxide layer and a metal layer on one surface of the substrate and a protective layer on at least one surface of both surfaces of the metal layer;

제 13 항에 있어서,The method of claim 13,

상기 제 1 금속 산화물층은 산화 니오브인 PDP 필터.And the first metal oxide layer is niobium oxide.

제 13 항에 있어서,The method of claim 13,

상기 보호층은 산화 인듐과 산화 주석의 혼합물 또는 산화 알루미늄과 산화 아연의 혼합물인 PDP 필터.The protective layer is a mixture of indium oxide and tin oxide or a mixture of aluminum oxide and zinc oxide.

제 13 항에 있어서,The method of claim 13,

제 1 항, 제 2 항 및 제 4 항 내지 제 18 항 중 어느 하나의 항에 따른 PDP 필터를 포함하는 PDP 장치.19. A PDP apparatus comprising a PDP filter according to any one of claims 1, 2 and 4-18.