KR101046674B1 - Implant & method of preparing thereof - Google Patents

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KR101046674B1
KR101046674B1 KR1020100100711A KR20100100711A KR101046674B1 KR 101046674 B1 KR101046674 B1 KR 101046674B1 KR 1020100100711 A KR1020100100711 A KR 1020100100711A KR 20100100711 A KR20100100711 A KR 20100100711A KR 101046674 B1 KR101046674 B1 KR 101046674B1
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titanium
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oxide coating
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장양수
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연세대학교 산학협력단
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Abstract

PURPOSE: An implant and a manufacturing method thereof are provided to adopt titanium oxide on a substrate surface as a coating layer and to hold excellent bio compatibility due to excellent adhesion between the substrate surface and the titanium oxide coating layer. CONSTITUTION: The implant and the manufacturing method thereof are as follows. Under mixed gas having a flow ratio of argon and oxygen, 10:1.5 - 10:2.5, the titanium oxide coating layer is formed by metalizing titanium oxide with a sputtering deposition method on the substrate surface consisting of steel, steel alloy, nickel, nickel alloy, stainless or Co-CR alloy material. The sputtering deposition method is the magnetron sputtering deposition method.

Description

임플란트 및 이의 제조방법{Implant ＆ Method of preparing thereof}Implants and Methods for Preparing the Sames

본 발명은 우수한 생체적합성 및 팽창과 수축 변화가 심한 환경에서도 우수한 기계적 안정성을 갖는 코팅층을 갖는 임플란트 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an implant having a coating layer having excellent biocompatibility and excellent mechanical stability even in an environment with high expansion and shrinkage changes and a method of manufacturing the same.

임플란트는 인체 내에서 발생하는 각종 질병에 의해 혈관이 좁아져서 혈액순환 불량 등이 발생한 경우에 그 혈관의 내부에 시술하여 혈관을 확장하는 의료용 기구이다.Implant is a medical device that expands the blood vessels by performing treatment inside the blood vessels when the blood vessels are narrowed due to various diseases occurring in the human body and defective blood circulation occurs.

임플란트는 그 시술방식이 여러가지이나, 주로 심장 혈관이나, 대동맥, 뇌혈관 등의 혈관 내에 풍선카테터(balloon catheter)와 함께 삽입되어 풍선이 팽창됨에 따라 관상형 통로를 확장시키는 풍선확장술에 의해 시술되고 있다.Implants are used in various ways, mainly by balloon dilation, which is inserted with a balloon catheter in blood vessels such as cardiovascular, aortic, and cerebrovascular vessels and expands the coronary passage as the balloon expands. .

기존의 임플란트는 풍선의 팽창에 따라 외측으로 팽창되어 원래의 혈관 통로 크기대로 확장되기 위해 탄성과 연성이 요구된다. 즉, 기존의 임플란트는, 풍선카테터를 삽입하여 목적으로 하는 부위에 고정시킨 후에 풍선을 확장하여 협착된 부위를 확장시키는 시술시 복잡하고 굴곡진 통로내로의 삽입을 위한 연성이 요구된다. 또한, 그 시술이 끝난 후에 혈관(심장혈관, 대동맥, 뇌동맥 등)조직의 수축되는 힘에 의해 임플란트의 구조가 변형되는 것을 방지하기 위한 탄성 등의 조건들이 요구되어 부식에 강한 스테인레스 재질을 사용하고 있다. 이러한 금속 재질의 임플란트 시술의 도입으로 급성 관폐색을 회피할 수 있었으며, 풍선성형술 후의 재협착을 감소시킬 수 있었으나, 시술 후 치료과정에서 손상된 혈관의 재생과정에서 신생 내막의 증식에 의한 임플란트내 재협착이 발생하는 문제가 대두되었다. 즉, 혈관 내 임플란트가 삽입되면 혈관 조직과 임플란트의 표면이 직접 접촉되므로, 그 표면 소재로 무엇보다 인체에 대한 안정성이 있는 소재가 요구된다. 또한, 임플란트를 수축시켜 풍선카테타에 탑재하는 과정에서 상당한 외부 힘과 마찰이 임플란트 표면에 인가되어서, 임플란트 표면이 상하는 문제가 발생한다.Existing implants are required to be elastic and ductile in order to expand outward as the balloon expands and expand to the size of the original vessel passage. In other words, the existing implant, after inserting the balloon catheter is fixed to the target site and then expand the balloon to expand the constricted site is required for the insertion into the complex and curved passages. In addition, after the procedure is finished, a condition such as elasticity is required to prevent the structure of the implant from being deformed by the contracting force of blood vessels (cardiovascular, aorta, cerebral artery, etc.). . The introduction of metal implants was able to avoid acute vascular occlusion and reduce restenosis after balloonplasty, but restenosis within implants by proliferation of neointimal membranes during regeneration of damaged blood vessels during postoperative procedures. This problem arises. In other words, when the vascular implant is inserted, the surface of the vascular tissue and the implant is in direct contact with each other, the surface material is required above all material having stability to the human body. In addition, a significant external force and friction are applied to the implant surface in the process of shrinking the implant and mounting it on the balloon catheter, causing a problem of damage to the implant surface.

한편, 스테인레스 스틸의 표면층에 알루미늄층을 박막 코팅시킨 후에 그 알루미늄층을 산화 처리하여 다수개의 기공을 갖는 나노 구조체를 형성시키고, 그 나노 구조체의 기공 내부에 약물이 주입되어 혈관내 재협착을 억제하기 위한 선행기술이 대한민국 특허공개번호 제 10-2004-0011463호 "F K506을 포함하는 임플란트"에 기재되어 있으나, 코팅층 소재인 알루미늄은 생체적합성이 떨어질 뿐만 아니라, 팽창율과 수축율이 매우 큰 환경에서 사용되는 임플란트의 특성상, 코팅층이 박리되거나, 크랙이 발생하는 문제가 있다.On the other hand, after coating a thin layer of aluminum on the surface layer of stainless steel, the aluminum layer is oxidized to form nanostructures having a plurality of pores, and drugs are injected into the pores of the nanostructures to suppress intravascular restenosis. Although the prior art is described in the Republic of Korea Patent Publication No. 10-2004-0011463 "implant comprising F K506", aluminum as a coating layer material is not only poor biocompatibility, but also used in an environment where the expansion rate and shrinkage rate is very high Due to the nature of the implant, there is a problem that the coating layer is peeled off, or cracks occur.

따라서, 생체에 적합하면서도, 기계적 안정성을 향상된 코팅층을 갖는 새로운 임플란트가 요구되고 있는 실정이다.
Therefore, there is a need for a new implant having a coating layer that is suitable for living bodies and improves mechanical stability.

이에, 본 발명자들은 기계적 안정성이 우수한 코팅층을 갖는 임플란트를 제조하기 위해 연구한 결과, 산화티타늄이 생체적합성에 우수함을 알게 되었고, 이를 임플란트에 적용하기 위한 우수한 기계적 안정성을 갖기 위한 산화티타늄 코팅층의 최적 두께를 알게 되었으며, 또한, 상기 두께로 산화티타늄을 임플란트에 증착시키기 위한 최적의 조건을 알게 되어 본 발명을 완성하게 되었다. Accordingly, the present inventors have found that titanium oxide is excellent in biocompatibility as a result of studying to produce an implant having a coating layer having excellent mechanical stability, and the optimum thickness of the titanium oxide coating layer to have excellent mechanical stability for applying it to the implant. In addition, the optimum conditions for depositing the titanium oxide in the implant to the thickness was found to complete the present invention.

따라서, 본 발명은 산화티타늄을 코팅층 소재로 도입하고 이를 최적의 두께로 임플란트에 코팅시킴으로써, 기존 임플란트의 코팅층이 박리되거나, 또는 크랙이 발생하여 임플란트 내 혈관 재협착 되는 문제를 해결하고자 하며 또한, 코팅 성분의 생체부적합으로 발생하는 문제를 해결하고자 한다.Accordingly, the present invention is to solve the problem that the coating layer of the existing implant is peeled off, or cracks occur by vascular restenosis in the implant by introducing titanium oxide as a coating layer material and coating it on the implant with the optimal thickness. To solve the problem caused by the biocompatibility of the component.

상기 목적을 달성하기 위한,To achieve the above object,

본 발명은 임플란트에 관한 것으로서, 기재; 및 상기 기재 상에 형성된 산화티타늄 코팅층을 포함하는 임플란트에 있어서, 상기 산화티타늄 코팅층의 두께는 20 내지 50 nm이며, 하기 일반식 1을 만족시키는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to an implant, comprising: a substrate; And in the implant comprising a titanium oxide coating layer formed on the substrate, the thickness of the titanium oxide coating layer is 20 to 50 nm, it characterized in that the following general formula (1).

[일반식 1][Formula 1]

X = (ρf - ρi) /ρi ≥ 2X = (ρ f -ρ i ) / ρ i ≥ 2

상기 일반식 1에서,In the general formula 1,

X는 40~50 kHz 주파수의 초음파로 2~3 시간 동안 처리할 때 코팅층이 파괴되기 시작하는 임플란트 직경의 변형율로서, ρi는 임플란트의 변형 전 내경이고, ρf 는 변형 후의 임플란트 내경을 나타낸다.X is the strain rate of the implant diameter at which the coating layer starts to break when treated with ultrasonic waves at a frequency of 40-50 kHz for 2 to 3 hours, ρ i is the inner diameter before the deformation of the implant, and ρ f is the inner diameter of the implant after the deformation.

또한, 본 발명의 임플란트는 상기 기재 및 산화티타늄 코팅층 사이에 티타늄 코팅층을 추가로 포함할 수 있는 것을 다른 특징으로 하며, 상기 산화티타늄 코팅층이 TixOy의 조성을 가지고, 티타늄 코팅층과 접하는 면으로부터 수직방향으로의 두께가 증가함에 따라, y/x의 값이 증가하는 것도 특징으로 한다.In addition, the implant of the present invention is characterized in that it may further comprise a titanium coating layer between the substrate and the titanium oxide coating layer, the titanium oxide coating layer of Ti x O y With the composition, as the thickness in the vertical direction from the surface in contact with the titanium coating layer, it is also characterized in that the value of y / x increases.

또한, 본 발명의 임플란트는 기재; 상기 기재 표면 상에 형성된 티타늄 코팅층; 상기 티타늄 코팅층 상단에 형성된 산화티타늄(TixOy) 코팅층을 포함하고, 상기 산화티타늄 코팅층은 TixOy의 조성을 가지고, 티타늄 코팅층과 접하는 면으로부터 수직방향으로의 두께가 증가함에 따라, y/x의 값이 증가하는 것을 또 다른 특징으로 하며, 산화티타늄 코팅층은 티탄층 상단에 형성되고, y/x가 0.5 내지 1.5 인 제1산화코팅층; 및 상기 제1산화코팅층 상단에 형성되고, y/x가 1.5 내지 2.5 인 제2산화코팅층을 포함하는 것도 특징으로 한다. 여기서, 상기 x는 티타늄 원자의 몰수를 나타내며, y는 산소 원자의 몰수를 나타낸다.In addition, the implant of the present invention; A titanium coating layer formed on the surface of the substrate; Titanium oxide (Ti x O y ) coating layer formed on top of the titanium coating layer, the titanium oxide coating layer of Ti x O y The composition is characterized in that, as the thickness in the vertical direction from the surface in contact with the titanium coating layer increases, the value of y / x increases, the titanium oxide coating layer is formed on the top of the titanium layer, y / x is 0.5 A first oxide coating layer of 1.5 to 1.5; And a second oxidation coating layer formed on top of the first oxidation coating layer and having y / x of 1.5 to 2.5. Here, x represents the number of moles of titanium atoms, y represents the number of moles of oxygen atoms.

또한, 본 발명은 임플란트의 제조방법에 관한 것으로서,In addition, the present invention relates to a method for manufacturing an implant,

아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법(sputtering deposition)으로 산화티타늄을 기재 표면에 증착시켜 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Argon and oxygen flow rate ratio of 10: 1.5 to 10: 2.5, characterized in that it comprises the step of depositing titanium oxide on the surface of the substrate by sputtering deposition (sputtering deposition) to form a titanium oxide coating layer.

또한, 본 발명의 임플란트 제조방법은 스퍼터링 증착법으로 티타늄(Ti)을 기재 표면에 증착시켜 티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및 아르곤 및 산소의 가스 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시켜 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 다른 특징으로 한다.In addition, the implant manufacturing method of the present invention comprises the steps of depositing titanium (Ti) on the surface of the substrate by a sputtering deposition method to form a titanium coating layer; And arranging the titanium oxide on the surface of the titanium coating layer by sputtering to form a titanium oxide coating layer under a mixed gas atmosphere having a gas flow rate ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5.

또한, 본 발명의 임플란트 제조방법은 In addition, the implant manufacturing method of the present invention

스퍼터링 증착법으로 티타늄을 기재 표면에 증착시켜 티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및 아르곤 및 산소의 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시키되, 상기 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5가 되도록 혼합 가스 중에서 산소의 유량을 시간에 따라 증가시키면서 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 또 다른 특징으로 하며, 상기 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계는 아르곤 및 산소의 유량비가 10:0.5 내지 10:1.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시켜 제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 제1산화티타늄 코팅층 표면에 추가로 증착시켜 제2산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함할 수도 있다. Depositing titanium on the surface of the substrate by sputter deposition to form a titanium coating layer; And depositing titanium oxide on the surface of the titanium coating layer by a sputtering deposition method under a mixed gas atmosphere of argon and oxygen, wherein the flow rate of oxygen in the mixed gas is changed over time such that the flow rate ratio of argon and oxygen is 10: 1.5 to 10: 2.5. In another aspect, the method further includes forming a titanium oxide coating layer while increasing the titanium oxide coating layer, under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 0.5 to 10: 1.5, by sputtering deposition. Depositing titanium oxide on the surface of the titanium coating layer to form a first titanium oxide coating layer; And further depositing titanium oxide on the surface of the first titanium oxide coating layer by a sputtering deposition method under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5 to form a second titanium oxide coating layer. It may be.

본 발명의 임플란트는 산화티타늄을 임플란트의 코팅성분으로 도입하여 생체적합성 확보하였으며, 본 발명이 제시하는 방법으로 산화티타늄을 임플란트에 코팅시키면, 산화티타늄 코팅층과 임플란트 표면과 접착력이 매우 좋아서, 임플란트가 큰 팽창변화를 갖더라도, 임플란트 표면 상단의 코팅층이 박리되거나 크랙이 발생하지 않는 효과를 가진다. In the implant of the present invention, the titanium oxide was introduced as a coating component of the implant to ensure biocompatibility, and when the titanium oxide was coated on the implant by the method of the present invention, the adhesion between the titanium oxide coating layer and the implant surface was very good and the implant was large. Even with the expansion change, the coating layer on the top of the implant surface does not peel off or cracks.

도 1 은 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하는 방법에 대한 개략도이다.
도 2는 티타늄 코팅층 상단에 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하는 방법에 대한 개략도이다.
도 3의 A 내지 D는 실시예 1에서 제조한 임플란트의 SEM 사진이다.
도 4의 A 내지 D는 비교예 1에서 제조한 임플란트의 SEM 사진이다.
도 5의 A 내지 D는 비교예 2에서 제조한 임플란트의 SEM 사진이다.
도 6의 A 내지 D는 비교예 3에서 제조한 임플란트의 SEM 사진이다.
도 7 의 A 내지 D는 비교예 4에서 제조한 임플란트의 SEM 사진이다.
도 8의 A~C 각각은 티타늄 코팅층 증착시 DC 파워를 달리하여 제조된 티타늄 코팅층이 형성된 임플란트의 SEM 측정 사진으로서, A는 비교예 5, B는 비교예 6, C는 실시예 2의 SEM 측정 사진이다.
도 9의 A~C 각각은 티타늄 코팅층 증착시 증착시간 및 코팅 두께를 달리한 경우의, 티타늄 코팅층의 표면거칠기를 측정한 결과로서, A는 비교예 7, B는 실시예 2, C는 비교예 8의 측정 결과이다.
도 10은 실시예 3에서 제조한 임플란트의 SEM 사진이다.
도 11은 실시예 3에서 제조한 임플란트의 FIB 사진이다.
도 12는 실험예 1에서 실시한 혈소판 응집(platelet adhesion) 측정 실험 결과이다.
도 13은 실험예 1에서 실시한 피브리노겐(Fibrinogen)의 항원-항체 결합(binding) 측정 실험 결과이다.
도 13은 실험예 2에서 실시한 신생내막 성장의 병리분석 실험 결과이다.
도 14는 실험예 2에서 실시한 동물실험한 임플란트의 절단면 사진으로서, A는 산화티타늄 코팅층이 없는 임플란트의 절단면 사진이며, B는 실시예 1에서 제조한 임플란트의 절단면 사진이다.
도 15는 실험예 3에서 실시한 기계적 안정성 비교실험으로서, A는 실시예 1에서 제조한 임플란트의 광학현미경 사진이며, B 는 실시예 2에서 제조한 임플란트의 광학현미경 사진이다. 1 is a schematic diagram of a method of manufacturing an implant having a titanium oxide coating layer formed thereon.
Figure 2 is a schematic diagram of a method for manufacturing an implant with a titanium oxide coating layer formed on top of the titanium coating layer.
3A to 3D are SEM images of the implant prepared in Example 1. FIG.
4A to 4D are SEM images of the implant prepared in Comparative Example 1. FIG.
5A to 5D are SEM images of the implant prepared in Comparative Example 2.
6A to 6D are SEM images of the implant prepared in Comparative Example 3.
7A to 7D are SEM images of the implant prepared in Comparative Example 4.
8A to 8C are SEM photographs of an implant having a titanium coating layer prepared by varying DC power when the titanium coating layer is deposited, A is Comparative Example 5, B is Comparative Example 6, and C is SEM measurement of Example 2. It is a photograph.
9A to 9C are the results of measuring the surface roughness of the titanium coating layer when the deposition time and the coating thickness are different when the titanium coating layer is deposited, A is Comparative Example 7, B is Example 2, and C is Comparative Example. It is a measurement result of 8.
10 is a SEM photograph of the implant prepared in Example 3.
11 is a FIB picture of the implant prepared in Example 3.
12 is a platelet adhesion measurement test results performed in Experimental Example 1.
FIG. 13 shows the results of antigen-antibody binding measurement of fibrinogen performed in Experimental Example 1. FIG.
13 shows the results of pathological analysis of neointimal growth performed in Experimental Example 2. FIG.
14 is a cross-sectional photograph of an animal experiment implant performed in Experimental Example 2, A is a photograph of the cut surface of the implant without a titanium oxide coating layer, B is a photograph of the cut surface of the implant prepared in Example 1.
15 is a comparative experiment of mechanical stability carried out in Experimental Example 3, A is an optical micrograph of the implant prepared in Example 1, B is an optical micrograph of the implant prepared in Example 2.

본 발명에서 사용되는 용어에 대하여 설명을 하면 아래와 같다.The terms used in the present invention are described below.

본 발명에서 사용한 용어, "임플란트"라 함은 체내에 도입되는 (한시적인 시간 동안 도입되는 경우라도) 여하한 종류의 모든 인공물질을 의미하는 것이다. 여기에는 특히 공동내, 예컨대 맥관내 이식편이 포함된다. 예로서 스텐트, 그래프트, 스텐트 그래프트, 그래프트 커넥터, 가이드 와이어, 카테테르 펌프 또는 카테테르를 들 수 있다. As used herein, the term "implant" means any artificial material of any kind that is introduced into the body (even if introduced for a limited time). This includes in particular intracavities, such as intravascular grafts. Examples include stents, grafts, stent grafts, graft connectors, guide wires, catheter pumps or catheter.

본 발명에서 사용한 용어, "스텐트(stent)"라 함은 본 발명의 목적 상, 내부에 중공(hollow)이 있고 적어도 두개의 오리피스를 가지며 대체로 원형 또는 타원형이지만, 다른 단면을 가질 수도 있고(대개는 금속으로 만들어지지만, 임의로 플라스틱 소재나 폴리머로 만들어질 수도 있음), 바람직하게는 천공된, 격자형 구조(lattice-like structure)를 가지며, 맥관, 특히 혈관을 뚫린 상태로 유지시켜 원활히 기능하도록, 맥관 특히 혈관 내로 이식되는, 확장된 이식편을 의미한다. 본 발명의 이식편의 더욱 바람직한 구체예는 금속이나 금속 합금으로 구성되고, 균일하거나 또는 여러가지 스트랜드로 형성된, 적어도 하나의 막혀있거나 천공된 층 또는 표면을 갖는 이식편이다. 그리고, 상기 금속 또는 금속 합금이라 함은 본 발명의 목적 상, 강철 또는 강철 합금 또는 니켈 또는 니켈 합금을 의미하며 금속이라는 용어는 또한 금속 합금을 포함한다.As used herein, the term "stent" means for the purposes of the present invention that there is a hollow inside and has at least two orifices and is generally circular or elliptical, but may have other cross-sections (usually Made of metal, but may optionally be made of a plastic material or polymer), preferably having a perforated, lattice-like structure, which allows the vasculature, especially the vessels, to function smoothly by keeping them pierced In particular an expanded graft, implanted into a blood vessel. A more preferred embodiment of the graft of the present invention is a graft having at least one blocked or perforated layer or surface composed of a metal or metal alloy and formed of uniform or various strands. And, the term metal or metal alloy means, for the purposes of the present invention, steel or steel alloy or nickel or nickel alloy and the term metal also includes metal alloys.

본 발명에서 사용된 용어, "기재"는 상기 임플란트의 표면 상단에 어떠한 코팅층도 함유하지 않는 임플란트(bare metal implant)를 의미한다.As used herein, the term "substrate" refers to an implant (bare metal implant) that does not contain any coating on top of the surface of the implant.

본 발명에서 사용된 용어, "변형"은 팽창, 신장, 휨어짐 등에 의한 물리적 변화를 의미하며, 이러한 물리적 변화의 요인은 복합적으로 작용할 수도 있다.As used herein, the term "deformation" means a physical change caused by expansion, elongation, deflection, and the like, and the factors of the physical change may act in combination.

본 발명에서 사용된 용어, "코팅층 파괴"란 코팅층의 박리, 크랙 등으로 인한 코팅층의 내부적인 변화 및/또는 외부적인 변화를 의미한다.As used herein, the term " coating layer breakage " means an internal change and / or an external change in the coating layer due to peeling, cracking, etc. of the coating layer.

본 발명에서 사용된 용어, "산화티타늄"은 TixOy 형태의 산화티타늄을 의미하는 것이며, 또한, "TixOy"는 산화티타늄을 의미하며, 상기 x는 티타늄 원자의 몰수를 나타내며, y는 산소 원자의 몰수를 나타낸다.As used herein, the term “titanium oxide” means titanium oxide in the form of Ti x O y , and “Ti x O y ” means titanium oxide, wherein x represents the number of moles of titanium atoms, y represents the number of moles of oxygen atoms.

본 발명에서 사용된 용어, 임플란트의 "변형 전 내경"은 일반적으로 사용되는 임플란트가 확장 또는 팽창되지 않은 상태의 임플란트의 내경을 의미하며, "변형 후 내경"이란 풍선카데타 및 혈액 등 여러 요소에 의해서 임플란트의 내경이 확장 또는 팽창된 것을 의미한다.As used herein, the term "pre-inner diameter" of the implant refers to the internal diameter of the implant in which the implant is not expanded or inflated, and "inner diameter after deformation" refers to various factors such as balloon catheter and blood. This means that the inner diameter of the implant is expanded or expanded.

이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명은 기재 표면에 산화티타늄 코팅층을 도입한 임플란트로서, 기재가 200% 이상으로 변형하더라도, 상기 산화티타늄 코팅층이 파괴되지 않으며, 이러한 기계적 물성을 갖기 위해서 상기 산화티타늄 코팅층은 20 내지 50 nm의 두께로, 바람직하게는 20 내지 40 nm의 두께로, 더욱 바람직하게는 25 내지 35 nm의 두께로 기재 표면에 코팅되는 것이 바람직하다. 여기서, 상기 산화티타늄 코팅층의 두께가 20 nm 미만이거나, 50 nm를 초과하면 기재가 200% 이상으로 팽창 등의 변형이 될 때, 코팅층이 박리되거나, 크랙이 발생하여 코팅층이 파괴될 수 있다. 이러한 본 발명의 임플란트는 하기 일반식 1을 만족시킨다.The present invention is an implant in which a titanium oxide coating layer is introduced to a surface of a substrate, and even if the substrate is deformed to 200% or more, the titanium oxide coating layer is not destroyed, and the titanium oxide coating layer has a thickness of 20 to 50 nm in order to have such mechanical properties. It is preferred to coat the substrate surface with a thickness of preferably 20 to 40 nm, more preferably 25 to 35 nm. In this case, when the thickness of the titanium oxide coating layer is less than 20 nm or exceeds 50 nm, when the substrate is deformed, such as expansion by 200% or more, the coating layer may be peeled off or cracks may be generated to destroy the coating layer. Such an implant of the present invention satisfies the following general formula (1).

[일반식 1][Formula 1]

X = (ρf - ρi) /ρi ≥ 2X = (ρ f -ρ i ) / ρ i ≥ 2

상기 일반식 1에서,In the general formula 1,

X는 40~50 kHz 주파수의 초음파로 2~3 시간 동안 처리할 때 코팅층이 파괴되기 시작하는 임플란트 직경의 변형율로서, ρi는 임플란트의 변형 전 내경이고, ρf 는 변형 후의 임플란트 내경을 나타내며, 상기 일반식 1에서 X는 바람직하게는 X ≥ 3을, 더욱 바람직하게는 X ≥ 4를 만족한다.X is the strain of the implant diameter at which the coating layer begins to break when treated with ultrasound at a frequency of 40-50 kHz for 2-3 hours, ρ i is the internal diameter before the deformation of the implant, ρ f is the internal diameter of the implant after deformation, In Formula 1, X preferably satisfies X ≧ 3, more preferably X ≧ 4.

또 다른 구체예로서, 본 발명의 임플란트는 코팅층에 더 우수한 기계적 물성을 부여하기 위하여, 상기 기재와 상기 산화티타늄 코팅층 사이에 티타늄 코팅층을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 산화티타늄 코팅층은 TixOy의 조성을 가지고, 티타늄 코팅층과 접하는 면으로부터 수직방향으로의 두께가 증가함에 따라, y/x의 값이 증가하는 코팅층일 수 있다. 이 경우, 산화티타늄 보다 티타늄이 금속 또는 합금 소재의 기재와 상용성이 우수하고, 산화티타늄은 기재의 소재 보다 티타늄과의 상용성이 더 우수하기 때문에, 산화티타늄 코팅층의 기재에 대한 접착성 및 코팅성을 향상시키고, 결과적으로 산화티타늄 코팅층의 파괴를 방지할 수 있게 된다. In another embodiment, the implant of the present invention may further include a titanium coating layer between the substrate and the titanium oxide coating layer, in order to impart better mechanical properties to the coating layer, the titanium oxide coating layer is Ti x O y of The composition may be a coating layer having a composition and having a value of y / x increasing as the thickness in the vertical direction from the surface in contact with the titanium coating layer increases. In this case, since titanium oxide is more compatible with the substrate of the metal or alloy material than titanium oxide, and titanium oxide is more compatible with the titanium than the material of the substrate, adhesion and coating of the titanium oxide coating layer to the substrate It is possible to improve the properties, and as a result prevent the destruction of the titanium oxide coating layer.

다른 구현예로서, 상기 산화티타늄 코팅층은 티탄층 상단에 형성되고, y/x가 0.5 내지 1.5 인 제1산화코팅층; 및 상기 제1산화코팅층 상단에 형성되고, y/x가 1.5 내지 2.5 인 제2산화코팅층을 형성시킬 수 있다.In another embodiment, the titanium oxide coating layer is formed on top of the titanium layer, the first oxide coating layer having a y / x of 0.5 to 1.5; And a second oxide coating layer formed on the first oxide coating layer and having y / x of 1.5 to 2.5.

여기서, 상기 제1산화티타늄 코팅층의 두께는 2 내지 20 nm인 것이, 더욱 바람직하게는 4 ~ 15 nm인 것이 좋다. 그리고, 상기 제2산화티타늄 코팅층의 두께는 10 내지 50 nm인 것이, 더욱 바람직하게는 15 ~ 40 nm인 것이 좋으며, 두께가 10 nm 미만이면 접착력 증대 효과를 추가적으로 얻을 수 없으며, 두께가 50 nm를 초과하면 오히려 기계적 물성이 감소하는 문제가 있을 수 있으므로, 상기 범위 내의 두께로 코팅시키는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 제1산화티타늄 코팅층은 TixOy 의 조성을 가지며, y/x의 값이 티타늄 코팅층과 접하는 면으로부터 수직방향으로의 두께에 비례하는 것이 좋다.Here, the thickness of the first titanium oxide coating layer is 2 to 20 nm, more preferably 4 to 15 nm. In addition, the second titanium oxide coating layer may have a thickness of 10 to 50 nm, more preferably 15 to 40 nm, and when the thickness is less than 10 nm, an additional effect of increasing adhesion may not be obtained, and the thickness may be 50 nm. If it exceeds, there may be a problem that the mechanical properties rather decrease, it is preferable to coat with a thickness within the above range. In addition, the first titanium oxide coating layer has a composition of Ti x O y , and the value of y / x is preferably proportional to the thickness in the vertical direction from the surface in contact with the titanium coating layer.

그리고, 앞서 설명한 티타늄 코팅층의 두께는 200 내지 350 nm, 바람직하게는 250 내지 300 nm이다. 이때, 티타늄 코팅층의 두께가 200 nm 미만인 경우 산화티타늄층의 상용성이 떨어질 수 있고, 350 nm를 초과하면 티타늄 코팅층의 표면거칠기가 나빠져서 임플란트의 기계적 물성 및 혈액적합성이 떨어질 수 있다.In addition, the thickness of the titanium coating layer described above is 200 to 350 nm, preferably 250 to 300 nm. In this case, when the thickness of the titanium coating layer is less than 200 nm, the compatibility of the titanium oxide layer may be inferior, and when the thickness of the titanium coating layer exceeds 350 nm, the surface roughness of the titanium coating layer may be deteriorated, thereby decreasing the mechanical properties and blood compatibility of the implant.

앞서 설명한 본 발명의 임플란트의 소재는 특별히 한정하지는 않으나, 스테인레스 또는 코발트-크롬 합금 소재인 것이 생체적합성면에서 바람직하다.The material of the implant of the present invention described above is not particularly limited, but is preferably stainless or cobalt-chromium alloy material in terms of biocompatibility.

이하에서는 본 발명의 임플란트를 제조하는 방법에 대하여 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, a method for manufacturing the implant of the present invention will be described in more detail.

본 발명의 임플란트의 제조방법은 아르곤 및 산소의 가스 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법(sputtering deposition)으로 산화티타늄을 기재 표면에 증착시켜 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함한다. 여기서, 산화티타늄을 기재 표면에 스퍼터링 증착시킬 때는 아르곤과 산소의 혼합가스 분위기 하에서 수행을 하는데, 이때, 상기 혼합가스의 아르곤과 산소의 유량비가 10:1.5 미만이거나 10:2.5를 초과하면 임플란트 팽창시 산화티타늄 코팅층이 파괴되는 문제가 발생하므로, 상기 유량비가 갖는 혼합가스 하에서, 스퍼터링 증착을 수행하는 것이 좋다. 상기 제조방법으로 임플란트를 제조하는 방법에 대한 개략도는 도 1에 나타내었다.In the method of manufacturing an implant of the present invention, a method of forming a titanium oxide coating layer by depositing titanium oxide on a surface of a substrate by sputtering deposition in a mixed gas atmosphere having a gas flow rate ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5 It includes. Here, when sputtering deposition of titanium oxide on the surface of the substrate is carried out under a mixed gas atmosphere of argon and oxygen, when the flow rate ratio of argon and oxygen of the mixed gas is less than 10: 1.5 or more than 10: 2.5 when implant implant expansion Since there is a problem that the titanium oxide coating layer is destroyed, it is preferable to perform sputter deposition under the mixed gas having the flow rate ratio. A schematic diagram of a method of manufacturing an implant by the above manufacturing method is shown in FIG. 1.

그리고, 상기 스퍼터링 증착을 통한 산화티타늄의 증착 시간은 6 내지 15분, 더욱 바람직하게는 8 ~ 12분인 것이 좋으며, 상기 증착 시간을 벗어나면, 산화티타늄의 코팅 두께가 너무 얇거나, 두꺼워지게 되므로, 상기 범위 내의 증착 시간 내에 스퍼터링 증착을 수행하는 것이 바람직하다.And, the deposition time of the titanium oxide through the sputtering deposition is preferably 6 to 15 minutes, more preferably 8 to 12 minutes, and beyond the deposition time, since the coating thickness of the titanium oxide is too thin or thick, It is preferable to perform sputter deposition within the deposition time within the above range.

또한, 상기 스퍼터링증착법은 마그네트론 스퍼터링 증착법(magnetron sputtering deposition)법을 사용하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하게는 RF 마그네트론 증착법을 사용하는 것이 좋다. 그리고, 상기 RF 마그네트론 증착법을 이용하여 산화티타튬을 기재 표면에 증착시켜서 코팅층을 형성시에는 적정 두께의 코팅층 및 기재에 대한 우수한 접착력을 갖는 코팅층을 얻기 위해서, RF 파워(RF power) 200 내지 500 W 및 동작압력(working pressure) 1 내지 10 mtorr의 조건에서 수행하는 것이 좋다.In addition, the sputtering deposition method is to use the magnetron sputtering deposition method (magnetron sputtering deposition method), more preferably to use the RF magnetron deposition method. When the titanium oxide is deposited on the surface of the substrate by using the RF magnetron deposition method to form a coating layer, in order to obtain a coating layer having an appropriate thickness and a coating layer having excellent adhesion to the substrate, RF power 200 to 500 W And working pressure 1 to 10 mtorr.

또한, 본 발명의 상기 임플란트의 제조방법은 상기 산화티타늄 코팅층을 형성시키기는 단계 전에, 기재를 프리스퍼터링(presputtering)하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있으며, 프리스퍼터링을 통하여, 기재 표면의 산화막을 제거함으로써, 산화티타늄 코팅층과 기재의 접착력을 증진시키는 효과를 얻을 수 있다. 그리고, 상기 프리스퍼터링은 아르곤 가스 5 내지 15 sccm, 동작압력 60 내지 100 mtorr 및 DC 파워 700 내지 800 W의 조건 하에서 수행하는 것이 효과적인 프리스퍼터링 결과를 얻기 위해서 바람직하다. 그리고, 상기 프리스퍼터링 단계를 초고진공상태(4×10-6 torr 이하)에서 수행하면 스퍼터링 챔버 내부의 불순물을 제거할 수 있으므로, 초고진공상태(4×10-6 torr 이하)로 감압시킨 후, 상기 프리스퍼터링을 수행하는 것이 좋다.In addition, the method of manufacturing the implant of the present invention may further include a step of presputtering the substrate before the step of forming the titanium oxide coating layer, by removing the oxide film on the surface of the substrate by presputtering The effect of improving the adhesion between the titanium oxide coating layer and the substrate can be obtained. In addition, the pre-sputtering is preferably performed under the conditions of argon gas 5 to 15 sccm, operating pressure 60 to 100 mtorr and DC power 700 to 800 W to obtain an effective pre-sputtering result. Then, when performing the pre-sputtering step in the ultrahigh vacuum condition (4 × 10 -6 torr or less), it is possible to eliminate impurities within the sputtering chamber, after the ultra-high vacuum in a vacuum state (4 × 10 -6 torr or less), It is preferable to perform the presputtering.

다른 구현예로서, 본 발명의 임플란트의 제조방법은 스퍼터링 증착법으로 티타늄(Ti)을 기재 표면에 증착시켜 티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시켜 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 다른 특징으로 하며, 상기 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계는 앞서 설명한 바와 동일하다. 그리고, 상기 제조방법에 대한 개략도는 도 2에 나타내었다.In another embodiment, the method of manufacturing an implant of the present invention comprises the steps of depositing titanium (Ti) on the surface of the substrate by sputter deposition to form a titanium coating layer; And depositing titanium oxide on the surface of the titanium coating layer by a sputtering deposition method under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5 to form a titanium oxide coating layer. Forming the titanium oxide coating layer is the same as described above. And, a schematic diagram of the manufacturing method is shown in FIG.

상기 티타늄 코팅층의 두께는 200 내지 350 nm, 바람직하게는 250 내지 300 nm가 되도록 증착 시간을 제어하여 코팅층을 형성시킨다. 그리고, 상기 티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 상기 스퍼터링 증착법은 마그네트론 스퍼터링 증착법을 사용하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하게는 DF 마그네트론 증착법을 사용하는 것이 좋다. 그리고, 상기 DF 마그네트론 증착법을 이용하여 티타늄을 기재 표면에 증착시켜서 코팅층을 형성시에는 적정 두께의 코팅층 및 기재에 대한 우수한 접착력을 갖는 코팅층을 얻기 위하여, DC 파워(DC power) 800 내지 1,000 W에서, 바람직하게는 850 ~ 950 W에서 수행하는 것이 좋다. 그리고, 상기 DF 마그네트론 증착법을 사용하여 티타늄 코팅층 상단에 산화티타늄을 3 ~ 7 분간 증착시키는 것이 20 내지 50 nm 두께의 산화티타늄 코팅층을 얻기에 좋다. The thickness of the titanium coating layer is 200 to 350 nm, preferably 250 to 300 nm by controlling the deposition time to form a coating layer. The sputtering deposition method of forming the titanium coating layer may be preferably a magnetron sputtering deposition method, and more preferably, a DF magnetron deposition method. In addition, when forming a coating layer by depositing titanium on the surface of the substrate by using the DF magnetron deposition method, in order to obtain a coating layer having an appropriate thickness and a coating layer having excellent adhesion to the substrate, at DC power 800 to 1,000 W, Preferably it is performed at 850 ~ 950 W. In addition, it is preferable to deposit titanium oxide on the titanium coating layer for 3 to 7 minutes using the DF magnetron deposition method to obtain a titanium oxide coating layer having a thickness of 20 to 50 nm.

또한, 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계는 앞서 설명한 바와 동일하며, 상기 제조방법 또한, 티타늄 코팅층을 형성시키는 단계 전에 앞서 설명한 바와 같은 동일한 방법으로 기재를 프리스프터링하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있다.
In addition, the step of forming the titanium oxide coating layer is the same as described above, the manufacturing method may further include the step of pre-sputtering the substrate by the same method as described above before the step of forming the titanium coating layer.

또 다른 구현예로서, 본 발명의 임플란트의 제조방법은 스퍼터링 증착법으로 티타늄을 기재 표면에 증착시켜 티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및 아르곤 및 산소의 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시키되, 상기 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5가 되도록 혼합 가스 중에서 산소의 유량을 시간에 따라 증가시키면서 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 거쳐서 제조한다. In another embodiment, the method of manufacturing an implant of the present invention comprises the steps of depositing titanium on the surface of the substrate by sputter deposition to form a titanium coating layer; And depositing titanium oxide on the surface of the titanium coating layer by a sputtering deposition method under a mixed gas atmosphere of argon and oxygen, wherein the flow rate of oxygen in the mixed gas is changed over time such that the flow rate ratio of argon and oxygen is 10: 1.5 to 10: 2.5. It is prepared through the step of forming a titanium oxide coating layer while increasing.

상기 산화티타늄 코팅층은 산화티타늄의 티타늄 및 산소의 조성비가 변하는 단층 구조, 티타늄 및 산소의 조성비가 다른 2층 구조 또는 티타늄 및 산소의 조성비가 다른 다층 구조로 제조할 수 있다. 구체적으로는 혼합가스의 산소 유량에 변화를 주어서 산화티타늄 코팅층을 형성시키면, 산화티타늄 코팅층은 티타늄 코팅층과 접하는 면의 수직방향으로 올라갈수록 산화티타늄의 조성비가 변하게 되며, 바람직하게는 올라갈수록 산화티타늄(TixOy)의 산소몰수가 서서히(continuous) 증가한다. The titanium oxide coating layer may be manufactured in a single layer structure in which the composition ratio of titanium and oxygen of titanium oxide is changed, a two layer structure in which the composition ratio of titanium and oxygen is different, or a multilayer structure in which the composition ratio of titanium and oxygen is different. Specifically, the oxygen flow rate of the mixed gas When the titanium oxide coating layer is changed to form a titanium oxide coating layer, the composition ratio of titanium oxide changes as the titanium oxide coating layer rises in the vertical direction of the surface in contact with the titanium coating layer, and preferably, the molar number of oxygen of the titanium oxide (Ti x O y ) increases. Increase gradually.

또한, 상기 산화티타늄 코팅층은 아래와 같은 방법을 통하여 이종의 복수층을 갖도록 제조할 수 있으며, 구체적으로는 아르곤 및 산소의 유량비가 10:0 내지 10:1.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시켜 제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 제1산화티타늄 코팅층 표면에 추가로 증착시켜 제2산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 공정을 거쳐서 제조할 수 있다. In addition, the titanium oxide coating layer may be prepared to have a plurality of different layers through the following method, specifically, in a mixed gas atmosphere in which the flow ratio of argon and oxygen is 10: 0 to 10: 1.5, titanium oxide by sputtering deposition Depositing a surface of the titanium coating layer to form a first titanium oxide coating layer; And further depositing titanium oxide on the surface of the first titanium oxide coating layer by a sputtering deposition method under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5 to form a second titanium oxide coating layer. It can manufacture through a process.

그리고, 상기 제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 스퍼터링 증착 수행시, 아르곤 및 산소의 유량비를 10:0.5에서부터 최대 10:1.5까지 서서히 혼합가스의 유량비에 변화를 주면서 스퍼터링 증착을 수행을 한다. 이때, 상기 제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 스퍼터링 증착 수행 시, 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5를 초과하거나, 상기 제2산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 스퍼터링 증착 수행시, 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5를 벗어나게 되면, 제1산화티타늄 코팅층과 제2산화티타늄 코팅층 간에 산소의 확산율이 떨어지거나 너무 높아져서, 제1산화티타늄 코팅층과 제2산화티타늄 코팅층 간의 결합력이 떨어질 수 있으므로, 상기 범위의 유량비를 갖는 혼합가스 하에서 각 단계의 스퍼터링 증착을 수행하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계와 상기 제2산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 스퍼터링 증착법은 마그네트론 스퍼터링 증착법을, 더욱 바람직하게는 RF 마그네트론 증착법을 사용하는 것이 좋으며, 상기 RF 마그네트론 증착법에 의해 각 단계의 제1산화티타늄 코팅층 및 제2산화티타늄 코팅층을 형성시, 적정 두께의 코팅층을 얻기 위해서, RF 파워 200 내지 500 W 및 동작압력 1 내지 10 mtorr의 조건에서 수행하는 것이 좋다.In addition, during the sputtering deposition of the step of forming the first titanium oxide coating layer, sputtering deposition is performed while gradually changing the flow rate ratio of the mixed gas from 10: 0.5 to 10: 1.5 for the flow rate ratio of argon and oxygen. At this time, when performing the sputtering deposition of the step of forming the first titanium oxide coating layer, the flow rate ratio of argon and oxygen exceeds 10: 1.5, or when performing the sputtering deposition of the step of forming the second titanium oxide coating layer, argon and oxygen When the flow rate ratio is outside the 10: 1.5 to 10: 2.5, the diffusion rate of oxygen between the first titanium oxide coating layer and the second titanium oxide coating layer is too high or too high, the binding force between the first titanium oxide coating layer and the titanium dioxide coating layer will fall. As such, it is preferable to perform each step of sputtering deposition under a mixed gas having a flow rate ratio in the above range. The sputtering deposition method of forming the first titanium oxide coating layer and the forming the second titanium oxide coating layer preferably uses a magnetron sputtering deposition method, more preferably an RF magnetron deposition method, and the RF magnetron deposition method. When forming the first titanium oxide coating layer and the second titanium oxide coating layer by each step, in order to obtain a coating layer of an appropriate thickness, it is preferable to perform at RF power 200 to 500 W and operating pressure of 1 to 10 mtorr.

그리고, 상기 제1산화티타늄 코팅층의 두께는 상기 제1산화티타늄 코팅층의 두께는 2 내지 20 nm인 것이, 더욱 바람직하게는 4 ~ 15 nm인 것이 좋으며, 증착시간을 1분 내지 5분으로 조절하여 두께를 조절할 수 있다. 그리고, 상기 제2산화티타늄 코팅층의 두께는 10 내지 50 nm인 것이, 더욱 바람직하게는 15 ~ 40 nm인 것이 좋으며, 두께가 10 nm 미만이면 접착력 증대 효과를 추가적으로 얻을 수 없으며, 두께가 50 nm를 초과하면 오히려 기계적 물성이 감소하는 문제가 있을 수 있으므로, 상기 범위 내의 두께로 코팅시키는 것이 바람직하다. The thickness of the first titanium oxide coating layer is 2 to 20 nm, more preferably 4 to 15 nm, and the deposition time is adjusted to 1 to 5 minutes. The thickness can be adjusted. In addition, the second titanium oxide coating layer may have a thickness of 10 to 50 nm, more preferably 15 to 40 nm, and when the thickness is less than 10 nm, an additional effect of increasing adhesion may not be obtained, and the thickness may be 50 nm. If it exceeds, there may be a problem that the mechanical properties rather decrease, it is preferable to coat with a thickness within the above range.

또한, 앞서 설명한 바와 같이, 산화티타늄 코팅 형성을 위한 스퍼터링 증착시 혼합가스(아르곤과 산소)의 유량비를 조절하여, 산소의 조성비가 다른 다층 구조 형태로도 제조가 가능하다.In addition, as described above, by adjusting the flow rate ratio of the mixed gas (argon and oxygen) during the sputtering deposition for forming the titanium oxide coating, it is possible to manufacture in a multi-layered structure having a different composition ratio of oxygen.

그리고, 상기 티타늄 코팅층을 형상하는 단계 전에 기재를 프리스프터링하는 단계를 추가적으로 포함할 수 있다. 여기서, 상기 티타늄 코팅층을 형성하는 단계 및 기재를 프리스프터링하는 단계는 앞서 설명한 바와 동일하다.The method may further include presputtering the substrate before the forming of the titanium coating layer. Here, forming the titanium coating layer and presputtering the substrate are the same as described above.

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명한다. 단, 하기의 실시예는 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 의해 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples. However, the following examples are merely to illustrate the invention, the content of the present invention is not limited by the following examples.

[[ 실시예Example ]]

마그네트론magnetron 스퍼터링Sputtering 시스템 system

하기 실시예에서 사용된 마그네트론 스퍼터링 시스템은 타겟 직경은 3 inch×1/4th 이며, 플라즈마에 의한 타겟 열적 피해를 최소화 하기 위해 냉동기(chiller)를 통해 냉각수를 흘려 냉각(20℃ 이하)하였다.The magnetron sputtering system used in the following example has a target diameter of 3 inches x 1/4 th , and was cooled (20 ° C. or less) by flowing coolant through a chiller to minimize target thermal damage by plasma.

또한, 진공도는 냉음극(Cold Cathode)타입의 고진공게이지(High vacuum gauge, 10-3 torr 미만)를 사용하여 측정하였다.In addition, the degree of vacuum was measured using a Cold Cathode type high vacuum gauge (less than 10 -3 torr).

그리고, 베이스프레셔(Base pressure)는 3.5×10-6 Torr이며, 스퍼터링 증착 전 타겟 활성화와 불순물, 산화막 제거를 위해 Ar Gas(10 sccm), 작업 압력(working pressure, 80 mtorr), DC 파워(DC Power, 750 W)로 10 분간 프리스퍼터링(Presputtering)을 실시하였으며, 프리스퍼터링 실시시 DC 전류(DC current) 변화율이 안정화(1.56A 초과) 되도록 자동 설정하였다.The base pressure is 3.5 × 10 -6 Torr, Ar gas (10 sccm), working pressure (80 mtorr), DC power (DC) for target activation, impurity, and oxide removal before sputter deposition. Power, 750 W) was presputtered (Presputtering) for 10 minutes, and was automatically set to stabilize the DC current (DC current) change rate (pre-1.56A) during the pre-sputtering.

또한, 상기 마그네트론 스퍼터링 시스템은 모재(또는 기재)인 스텐트에 증착물을 증착하기 위해서는 3차원 형상인 점을 감안하여, 도 2의 A 및 B에 나타낸 바와 같이, 증착 균일성(Depostion uniformity)을 높이기 위해 공자전이 가능한 로테이트 지그(Rotate Jig)를 기판(substrate)과 Ti 타겟 사이의 뷰포트(view port)에 설치하였으며, 대량의 스텐트를 증착시킬 수 있도록 10개의 핀(Pin)을 장착하였다. 그리고, 균일한 코팅층을 제작하기 위해 타겟과 기판 사이의 거리는 120 mm, 타겟과 모재와의 거리는 52 ~ 102 mm로 유지하면서, 공전(1회전/90s) 및 자전(1회전/1.5s)로 일정하게 회전시켰으며, 기판온도는 24~25℃ 상태로 설정하였다.
In addition, the magnetron sputtering system has a three-dimensional shape in order to deposit a deposit on a stent, which is a base material (or substrate), and as shown in FIGS. 2A and 2B, to increase deposition uniformity. Rotate Jig, which can be rotated, was installed in the view port between the substrate and the Ti target, and 10 pins were mounted to deposit a large amount of stents. In order to produce a uniform coating layer, the distance between the target and the substrate is 120 mm, while the distance between the target and the base material is 52 to 102 mm, and is constant at idle (1 rotation / 90 s) and rotation (1 rotation / 1.5 s). Rotated, and the substrate temperature was set to 24 ~ 25 ℃.

산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트의 제조Preparation of Implant with Titanium Oxide Coating Layer

실시예Example 1  One

(1) Co-Cr 합금소재의 스텐트 제조 (1) Manufacture of stent of Co-Cr alloy material

튜브형태의 코발트-크롬(Co-Cr) 합금소재를 레이저 가공기를 이용하여 스텐트 형상으로 가공한 후, 스텐트의 표면을 연마 및 열처리하여 내경 0.98 mm를 갖는 Co-Cr 합금소재의 스텐트를 제조하였다.Tube-shaped cobalt-chromium (Co-Cr) alloy material was processed into a stent shape by using a laser processing machine, and then the surface of the stent was polished and heat treated to prepare a stent of Co-Cr alloy material having an inner diameter of 0.98 mm.

(2) 산화티타늄 코팅층 형성(2) forming titanium oxide coating layer

상기 마그네트론 스퍼터링 시스템을 사용하여 상기 Co-Cr 합금소재의 스텐트의 표면 상단에 산화티타늄을 증착시켜서 30 nm 두께의 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였다.The implant was formed by depositing titanium oxide on the surface of the stent of the Co-Cr alloy material using the magnetron sputtering system to form a titanium oxide coating layer having a thickness of 30 nm.

그리고, 마그네트론 스퍼터링은 아르곤 가스와 산소 가스의 유량비가 10:2인 혼합 가스 하에서 10 분간 산화티타늄을 증착시켜서 수행하였으며, 상기 마그네트론 스퍼터링 시스템은 RF 파워 250W 및 작업 압력 5 mtorr의 조건을 갖도록 하였다.In addition, magnetron sputtering was performed by depositing titanium oxide for 10 minutes under a mixed gas having a flow ratio of argon gas and oxygen gas of 10: 2, and the magnetron sputtering system had a condition of RF power of 250 W and a working pressure of 5 mtorr.

제조된 임플란트의 내경을 350% 정도(내경을 0.98 nm에서 4.5 nm로 팽창시킴) 변형시킨 후의 SEM(Scanning Eletron microscope) 사진을 도 3의 A 내지 D에 나타내었으며, 도 3의 SEM 사진을 살펴보면, 스텐트의 내경이 350% 정도(변화율 3.5 정도) 팽창되어도 외부의 산화티타늄 코팅층이 파괴되지 않는 것을 확인할 수 있다.
The inner diameter of the manufactured implant is about 350% (expanded from 0.98 nm to 4.5 nm) The SEM (Scanning Eletron microscope) photograph after deformation is shown in FIGS. 3A to 3, and the SEM photograph of FIG. 3 shows that the external titanium oxide coating layer is destroyed even when the inner diameter of the stent is expanded by about 350% (change rate of about 3.5). You can see that it does not work.

비교예Comparative example 1 ~ 4 1 to 4

1) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 임플란트를 제조하되, 비교예 1은 마그네트론 스퍼터링 수행 시, 아르곤 가스와 산소 가스의 유량비가 10:1인 혼합 가스 하에서 수행하여, 30 nm 두께의 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였다. 1) An implant is manufactured in the same manner as in Example 1, but Comparative Example 1 is performed under a mixed gas having a flow ratio of argon gas and oxygen gas of 10: 1 when magnetron sputtering is performed, thereby obtaining a 30 nm thick titanium oxide coating layer. The formed implant was prepared.

2) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 임플란트를 제조하되, 비교예 2는 마그네트론 스퍼터링 수행 시, 아르곤 가스와 산소 가스의 유량비가 10:4인 혼합 가스 하에서 수행하여, 30 nm 두께의 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였다. 2) An implant was prepared in the same manner as in Example 1, but Comparative Example 2 was carried out under a mixed gas having a flow ratio of argon gas and oxygen gas of 10: 4 when performing magnetron sputtering, whereby a 30 nm thick titanium oxide coating layer was prepared. The formed implant was prepared.

3) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 임플란트를 제조하되, 비교예 3은 5 분간 마그네트론 스퍼터링 수행하여, 12 nm 두께의 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였다. 3) An implant was prepared in the same manner as in Example 1, but Comparative Example 3 was subjected to magnetron sputtering for 5 minutes to prepare an implant having a titanium oxide coating layer having a thickness of 12 nm.

4) 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 임플란트를 제조하되, 비교예 4는 20 분간 마그네트론 스퍼터링 수행하여, 12 nm 두께의 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였다. 4) An implant was prepared in the same manner as in Example 1, except that Comparative Example 4 was magnetron sputtered for 20 minutes to prepare an implant having a titanium oxide coating layer having a thickness of 12 nm.

상기 비교예 1 ~ 4에서 제조한 임플란트의 내부직경을 350% 팽창시킨 후의 SEM(Scanning Eletron microscope) 사진을 도 4 ~ 도 7에 각각 나타내었으며, 도 4 ~ 도7에 나타낸 확대율에 따라 나타낸 SEM 사진(A ~ D)를 살펴보면, 실시예 1의 임플란트와는 다르게 비교예 1 ~ 4의 임플란트의 산화티타늄 코팅층은 심하게 박리되거나 크랙이 발생한 것을 확인할 수 있다.
The SEM (Scanning Eletron microscope) photographs after expanding the internal diameter of the implants prepared in Comparative Examples 1 to 4 by 350% are shown in FIGS. 4 to 7, respectively, and SEM images shown according to the magnification shown in FIGS. Looking at (A ~ D), unlike the implant of Example 1, it can be seen that the titanium oxide coating layer of the implants of Comparative Examples 1 to 4 are severely peeled or cracked.

티타늄 코팅층-산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트의 제조Preparation of Implant with Titanium Coating Layer-Titanium Oxide Coating Layer

실시예Example 2 및  2 and 비교예Comparative example 5 ~ 8 5 to 8

(1) 티타늄 코팅층 형성된 스텐트의 제조(1) Titanium coating layer formed stent

마그네트론 스퍼터링 시스템을 사용하여 상기 실시예 1-(1)에서 제조한 코팅층이 없는 스텐트의 표면 상단에 티타늄을 증착시켜서 티타늄 코팅층이 형성된 스텐트를 제조하였으며, 마그네트론 스퍼터링 시스템 조건 및 제조된 스텐트의 티타늄 코팅층의 두께는 하기 표 1에 나타내었다. 그리고, 제조한 스텐트를 350% 팽창시킨 후의 사진을 도 8에 나타냈으며, 증착시간 및 코팅 두께에 따른 표면거칠기를 AFM(Atomic Force Microscope)로 측정한 결과를 도 9에 나타내었다.The magnetron sputtering system was used to deposit a titanium on the surface of the stent without a coating layer prepared in Example 1- (1) to prepare a stent on which a titanium coating layer was formed, and the magnetron sputtering system conditions and the titanium coating layer of the prepared stent The thickness is shown in Table 1 below. In addition, the photograph after the expanded stent 350% is shown in Figure 8, the surface roughness according to the deposition time and coating thickness is measured by AFM (Atomic Force Microscope) is shown in Figure 9 the results.

구분division DC PowerDC Power 증착 시간Deposition time 티타늄 코팅층 두께Titanium coating thickness 실시예 2Example 2 928 W928 W 5 분5 minutes 272.8 ㎚272.8 nm 비교예 5Comparative Example 5 200 W200 W 5 분5 minutes 272.8 ㎚272.8 nm 비교예 6Comparative Example 6 360 W360 W 5 분5 minutes 272.8 ㎚272.8 nm 비교예 7Comparative Example 7 928 W928 W 2 분2 mins 130 ㎚130 nm 비교예 8Comparative Example 8 928 W928 W 10 분10 minutes 560 ㎚560 nm

도 8의 SEM 측정 사진을 살펴보면, DC 파워가 800 W 미만인 200 W 및 360 W의 마그네트론 스퍼터링 시스템으로 코팅시키는 경우, 티타늄 코팅층 표면이 박리되는 것(도 8의 A 및 B, 비교예 5 및 비교예 6)을 확인할 수 있다. 그러나, 이와 대조적으로 DC 파워가 800 W 이상인 928 W의 마그네트론 스퍼터링 시스템으로 코팅시킨 티타튬 코팅층(도 8의 C)은 표면에 박리가 발생하지 않는 것을 확인할 수 있으며, 이를 통하여, 마그네트론 스퍼터링 시스템을 이용하여, 스텐트 표면에 티타늄을 증착시켜 코팅층을 형성시킬 때, DC 파워을 800 W 이상으로, 바람직하게는 800 ~ 1,000 W 이상인 상태에서 수행하는 것이 티타늄 코팅층의 접착력 및 코팅력 면에서 좋은 것을 알 수 있다.Looking at the SEM measurement picture of Figure 8, when coating with a 200 W and 360 W magnetron sputtering system with a DC power of less than 800 W, the surface of the titanium coating layer is peeled off (A and B of Figure 8, Comparative Example 5 and Comparative Example 6) can be confirmed. However, in contrast, the titanium coating layer (C of FIG. 8) coated with the 928 W magnetron sputtering system having a DC power of 800 W or more can be confirmed that no peeling occurs on the surface, and through this, the magnetron sputtering system is used. Thus, when forming the coating layer by depositing titanium on the surface of the stent, it can be seen that the DC power is performed at 800 W or more, preferably 800 to 1,000 W or more in terms of adhesion and coating power of the titanium coating layer.

그리고, 도 9의 표면거칠기 실험 결과를 살펴보면, 증착시간이 10 분을 초과하는 경우(비교예 8), 코팅층의 표면거칠기가 매우 좋지 않은 것(도 9의 C)을 확인할 수 있으며, 이는 티타늄 코팅층의 상단에 산화티타늄 코팅층을 형성시킬 때, 티타늄 코팅층과 산화티타늄 코팅층과의 접착력을 떨어뜨리게 된다. 그리고, 증착시간이 3분 미만인 경우(비교예 7), 코팅층의 표면거칠기는 좋으나(도 9의 A), 코팅층의 두께가 너무 얇아서 스텐트 표면과 산화티타늄 코팅층 사이에 티타늄 코팅층을 형성시키는 효과를 볼 수 없을 수 있다. 따라서, 적정 코팅 두께(200 ~ 350 nm) 및 적정 표면거칠기를 갖도록 증착 시간 3분 ~ 7분 정도로 하여 티타늄 증착을 수행하는 것이 좋다.
And, looking at the surface roughness experiment results of Figure 9, if the deposition time exceeds 10 minutes (Comparative Example 8), it can be confirmed that the surface roughness of the coating layer is very good (Fig. 9 C), which is a titanium coating layer When forming the titanium oxide coating layer on the top of, the adhesion between the titanium coating layer and the titanium oxide coating layer is dropped. And, if the deposition time is less than 3 minutes (Comparative Example 7), the surface roughness of the coating layer is good (A of Figure 9), but the thickness of the coating layer is too thin to see the effect of forming a titanium coating layer between the stent surface and the titanium oxide coating layer It may not be possible. Therefore, it is preferable to perform titanium deposition with a deposition time of about 3 to 7 minutes so as to have an appropriate coating thickness (200 to 350 nm) and an appropriate surface roughness.

(2) 산화티타늄 코팅층 형성(2) forming titanium oxide coating layer

마그네트론 스퍼터링 시스템을 사용하여 상기 티타늄 코팅층이 형성된 스텐트의 티타늄 코팅층 상단에 산화티타늄을 증착시켜서 30 nm 두께의 티타늄 코팅층-산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였다.An implant having a titanium coating layer-titanium oxide coating layer having a thickness of 30 nm was prepared by depositing titanium oxide on top of the titanium coating layer of the stent on which the titanium coating layer was formed using a magnetron sputtering system.

그리고, 마그네트론 스퍼터링은 아르곤 가스와 산소 가스의 유량비가 10:2인 혼합 가스 하에서 10 분간 산화티타늄을 증착시켜서 수행하였으며, 상기 마그네트론 스퍼터링 시스템은 RF 파워 250W 및 작업 압력 5 mtorr의 조건을 갖도록 하였다.
In addition, magnetron sputtering was performed by depositing titanium oxide for 10 minutes under a mixed gas having a flow ratio of argon gas and oxygen gas of 10: 2, and the magnetron sputtering system had a condition of RF power of 250 W and a working pressure of 5 mtorr.

티타늄 코팅층-제1산화티타늄 코팅층-제2산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트의 제조Titanium Coating Layer-Titanium Oxide Coating Layer-Preparation of Implants with Titanium Oxide Coating Layer

실시예Example 3  3

마그네트론 스퍼터링 시스템을 사용하여 상기 실시예 2의 (1)에서 제조한 티타늄 코팅층 형성된 스텐트의 티타늄 코팅층 상단에 산화티타늄 코팅층을 증착시키되, 마그네트론 스퍼터링시, 아르곤 가스와 산소 가스의 유량비가 10:1인 혼합 가스 하에서 2 분간 산화티타늄을 증착시킨 후, 아르곤 가스와 산소 가스의 유량비가 10:2인 혼합 가스 하에서 10 분간 산화티타늄을 증착시켜서 이종의 복수층을 갖는 산화티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 제조하였으며, 제조한 임플란트의 SEM 사진과 FIB(Focus ion beam, 분석투과전자현미경) 사진을 도 10 및 도 11에 각각 나타내었다. 이때, 상기 마그네트론 스퍼터링은 RF 파워 250W 및 작업 압력 5 mtorr의 조건을 갖도록 하였다.Using a magnetron sputtering system to deposit a titanium oxide coating layer on the titanium coating layer top of the titanium coating layer formed stent prepared in Example 1 (1), when the magnetron sputtering, the flow ratio of argon gas and oxygen gas 10: 1 After depositing titanium oxide for 2 minutes under the gas, the titanium oxide was deposited for 10 minutes under a mixed gas having a flow ratio of argon gas and oxygen gas of 10: 2 to prepare an implant having a titanium oxide coating layer having a plurality of different layers. SEM and FIB (Focus ion beam) images of one implant are shown in FIGS. 10 and 11, respectively. At this time, the magnetron sputtering was to have a condition of RF power 250W and working pressure 5 mtorr.

도 10을 보면, 제조된 임플란트의 코팅층이 매우 매끄럽게 제조된 것을 확인할 수 있으며, 도 11을 살펴보면 티타늄 코팅층이 272.8 nm의 두께로, 제1산화티타늄 코팅층이 14.8 nm의 두께로, 그리고, 제2산화티타늄 코팅층이 22.21 nm의 두께로 코팅된 것을 확인할 수 있다.
Referring to FIG. 10, it can be seen that the coating layer of the prepared implant is very smooth. Referring to FIG. 11, the titanium coating layer has a thickness of 272.8 nm, the first titanium oxide coating layer has a thickness of 14.8 nm, and the second oxidation. It can be seen that the titanium coating layer is coated with a thickness of 22.21 nm.

실험예Experimental Example 1 : 혈액적합성 실험 1: blood compatibility test

1) 혈소판 응집(1) platelet aggregation ( plateletplatelet adhesionadhesion ) 측정 실험Measurement experiment

(1) 혈소판 분리 및 형광염색(1) Platelet Separation and Fluorescence

혈액 8.7 ㎖를 구염산나트륨 튜브에 채취한 후, 15 분간 원심분리하여, 분리된 상층액 6 ㎖의 플라스마(plasma)층을 분리하였다. 다음으로 분리된 플라스마층을 다시 10 분간 원심분리하여 상층인 빈약한 혈소판-혈장(poor-platelet plasma, PPP)층 5.5 ㎖를 제거하고, 남은 아래층의 혈소판 풍부 혈장(platelet-rich-plasma, PRP) 0.5 ㎖에 0.75 ㎖의 생리식염수를 혼합하여 혼합액을 제조하였다. 다음으로 상기 혼합액에 BCECF(fluorescenc dye) 7 ㎕를 넣고, 30분간 반응시킨 후, 식염수(saline)로 세척하여 형광염색된 혈소판을 제조하였다.8.7 ml of blood was collected in a sodium chloride hydrochloride tube, followed by centrifugation for 15 minutes to separate the plasma layer of 6 ml of the separated supernatant. Next, the separated plasma layer was centrifuged again for 10 minutes to remove 5.5 ml of the poor layer of poor platelet-plasma (PPP), and the remaining platelet-rich-plasma (PRP) of the lower layer. 0.75 mL of physiological saline was mixed with 0.5 mL to prepare a mixed solution. Next, 7 μl of BCECF (fluorescenc dye) was added to the mixed solution, and reacted for 30 minutes, followed by washing with saline to prepare fluorescently plated platelets.

(2) 혈소판 응집 시험(2) platelet aggregation test

상기 실시예 1에서 제조한 임플란트를 잘라서 시편을 얻은 후, 시편을 상기 형광염색된 혈소판과 함께 넣고 30분간 방치하였다. 다음으로 식염수로 이를 세척하고 시편에 붙지 않은 형광염색된 혈소판을 제거하였다. 다음으로 0.1% Triton X-100 및 식염수 혼합액을 첨가하여 시편으로부터 형광염색된 혈소판을 분리하고 시편을 제거하여 형광염색된 혈소판을 함유한 혼합액을 얻었다. 상기 형광염색된 혈소판을 함유한 혼합액을 형광분광기(fluorescent spectrometer, 510 ~ 530 nm)를 사용하여 형광을 측정하였으며, 그 결과는 도 12에 나타내었다.After obtaining the specimen by cutting the implant prepared in Example 1, the specimen was put together with the fluorescent stained platelets and left for 30 minutes. Next, it was washed with saline to remove fluorescent stained platelets that did not adhere to the specimen. Next, 0.1% Triton X-100 and saline solution were added to separate the fluorescent plated platelets from the specimens, and the specimens were removed to obtain a mixed solution containing the fluorescent plated plates. The fluorescence was measured using a fluorescence spectrometer (510 ~ 530 nm) of the mixed solution containing the fluorescent stained platelets, the results are shown in FIG.

또한, 실시예 1의 (1)에서 제조한 Co-Cr 합금소재의 스텐트(bare metal stent), 비교예 1 및 비교예 2에서 제조한 임플란트 각각을 상기 방법과 동일한 방법으로 혈소판 응집 시험을 수행하였으며, 형광분광기 측정 결과를 도 12에 나타내었다.
In addition, the platelet aggregation test was performed on the bar metal stent of the Co-Cr alloy material prepared in Example 1 (1), and the implants prepared in Comparative Example 1 and Comparative Example 2, in the same manner as described above. , Fluorescence spectrometer measurement results are shown in FIG. 12.

2) 피브리노겐(2) fibrinogen ( FibrinogenFibrinogen )의 항원-항체 결합(Antigen-antibody binding of bindingbinding ) 측정 실험Measurement experiment

1) 측정용 시편의 제조1) Preparation of Test Specimen

혈액을 구염산 나트륨 밀봉 튜브(sodium citrate vaccutainer)에 채집 한 후, 마이크로튜브(Microtube)에 혈액을 400 ㎕에 옮겨 담은 다음 상기 실시예 1에서 제조한 임플란트의 시편을 상기 혈액이 담긴 마이크로튜브에 넣은 후, 이를 37℃, 5% 이산화탄소 조건에 맞추어진 배양기 안에 넣어서, 시편을 30분간 혈액에 노출시켰다. 다음으로 시편을 꺼내서, 37℃의 PBS로 3차례 세척하여 측정용 시편을 제조하였다.The blood was collected in a sodium citrate vaccutainer, and then 400 μl of blood was transferred to a microtube, and the specimen of the implant prepared in Example 1 was placed in the microtube containing the blood. Thereafter, it was placed in an incubator at 37 ° C. and 5% carbon dioxide conditions, and the specimens were exposed to blood for 30 minutes. Next, the specimen was taken out and washed three times with PBS at 37 ° C. to prepare a specimen for measurement.

2) 피브리노겐에 대한 항원-항체 결합 및 흡광도 측정2) antigen-antibody binding and absorbance measurements for fibrinogen

상기 측정용 시편을 마이크로튜브에 넣고 400 ㎕의 5% BSA(Bovine serum albumin)로 1 시간 동안 블로킹(blocking)한 후, 세척버퍼(Washing buffer)로 5회 부드럽게 세척한 다음 잔여 물기가 남지 않도록 건조시켰다. 다음으로 건조된 시편을 5% BSA에 1:20,000으로 희석한 항인 피브리노겐 항체(anti-human fibrinogen antibody)와 1 시간 동안 상온(25℃)반응시킨 후, 이를 다시 세척버퍼로 5회 부드럽게 세척 및 건조시켰다. 다음으로 5% BSA에 1:20,000으로 희석된 2차 항체가 결합된 anti-goat HRP(anti-goat HRP conjugated secondary antibody)를 튜브에 400 ㎕ 주입한 후, 상기 건조된 시편을 넣어서, 1 시간 동안 상온(25℃)에서 반응하도록 방치하였다. 다음으로, 시편을 다시 꺼내서 이를 세척버퍼로 5번 부드럽게 세척 및 건조시켰다. 다음으로, 과산화효소 기질(Peroxidase substrate, TMB solution, 3,3',5,5'-tetramethylbenzidine)을 300 ㎕ 주입한 다음, 건조된 시편과 10분간 반응시킨 후, 여기에 1N HCl을 300 ㎕ 주입하여 노란색이 되는 것을 확인하였다. 다음으로 노란색으로 변한 용액을 색광기(colormetric reader)를 이용하여, 450 nm 파장에서 흡광도를 측정하였으며, 그 결과를 도 13에 나타내었다.The test specimen was placed in a microtube and blocked with 400 μl of 5% BSA (Bovine serum albumin) for 1 hour, and then gently washed 5 times with a washing buffer and dried to leave no residual moisture. I was. Next, the dried specimen was reacted with anti-human fibrinogen antibody diluted at 1: 20,000 in 5% BSA at room temperature (25 ° C) for 1 hour, and then washed and dried five times gently with a washing buffer. I was. Next, inject 400 μl of an anti-goat HRP conjugated secondary antibody (HRP) conjugated with a secondary antibody diluted 1: 20,000 in 5% BSA into a tube, and then put the dried specimen for 1 hour. The reaction was allowed to react at room temperature (25 ° C). Next, the specimen was taken out again and gently washed and dried five times with a washing buffer. Next, inject 300 μl of a peroxidase substrate (TMB solution, 3,3 ', 5,5'-tetramethylbenzidine), react with the dried specimen for 10 minutes, and inject 300 μl of 1N HCl into it. It turned out to be yellow. Next, the absorbance was measured at a wavelength of 450 nm using a color metric reader (colormetric reader), the results are shown in FIG.

또한, 실시예 1의 (1)에서 제조한 Co-Cr 합금소재의 스텐트, 비교예 1 및 비교예 2에서 제조한 임플란트 각각을 상기 방법과 동일한 방법으로 피브리노겐의 항원-항체 결합 측정 실험을 수행하였으며, 형광분광기 측정 결과를 도 13에 나타내었다.
In addition, each of the stents of the Co-Cr alloy material prepared in Example 1 (1) and the implants prepared in Comparative Example 1 and Comparative Example 2 were subjected to the antigen-antibody binding measurement experiment of fibrinogen in the same manner as the above method. And fluorescence spectrometer measurement results are shown in FIG. 13.

도 12의 혈소판 응집 측정 실험 결과를 살펴보면, 산화티타늄 코팅 처리한 임플란트(실시예 1, 비교예 1 및 비교예 2)가 코팅층이 없는 스텐트 보다 우수한 혈액적합성을 보였다. 그러나, 실시예 1과 비교예 1, 2와는 큰 차이를 보이지 않았다. Referring to the platelet aggregation measurement results of FIG. 12, the titanium oxide coated implants (Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 2) showed better blood compatibility than the stent without the coating layer. However, there was no significant difference between Example 1 and Comparative Examples 1 and 2.

그러나, 도 13의 피브리노겐에 대한 항원-항체 결합 측정 결과를 살펴보면, 비교예 1 및 비교예 2 보다 실시예 1의 임플란트가 우수한 혈액적합성을 보이는 것을 확인할 수 있다.
However, looking at the antigen-antibody binding measurement results for the fibrinogen of Figure 13, it can be seen that the implant of Example 1 shows better blood compatibility than Comparative Example 1 and Comparative Example 2.

실험예Experimental Example 2 2

돼지를 이용한 Pig 재협착Restenosis 실험 Experiment

상기 실시예 1-(1)에서 제조한 코팅층이 없는 스텐트(Co-Cr 합금소재)와 실시예 1에서 제조한 이산하티타늄 코팅층이 형성된 임플란트를 이용하여 아래와 같은 방법으로 스텐트 적용 후의 재협착 실험을 수행하였으며, 그 결과는 도 14 및 도 15의 A, B에 나타내었다.Using the implanted stent (Co-Cr alloy material) prepared in Example 1- (1) and the implant formed with a titanium dioxide coating layer prepared in Example 1 was carried out the restenosis experiment after applying the stent in the following manner The results are shown in A and B of FIGS. 14 and 15.

도 14는 병리분석에서 신생내막 성장(재협착)을 보여주는 그래프이고, 도 15는 실험 1개월 후, 스텐트의 절단면을 찍은 사진이며, 실시예 1의 임플란트(도 15의 B) 보다 산화티타튬 코팅층이 없는 스텐트(도 15의 A)에서 재협착이 더 많이 발생한 것을 확인할 수 있다.Figure 14 is a graph showing the neointimal growth (restenosis) in the pathology analysis, Figure 15 is a photograph taken a cut surface of the stent after one month of the experiment, the titanium oxide coating layer than the implant of Example 1 (B of Figure 15) It can be seen that more restenosis occurred in the stent without (A of FIG. 15).

재협착Restenosis 실험 방법 Experiment method

1) 건강한 돼지를 준비한 후, 실험 하루 전에 아스피린(aspirin) 300 ㎎, 클로피도그렐(clopidogrel) 600 ㎎을 경구 투여하였고, 실험 전 케타민(ketamine, 50 ㎎/㎖)을 체중 당 20 ㎎을 목 주변에 근육 주사를 실시하여 마취를 유도하였다. 마취 후 돼지를 동물 실험실로 이동하여 귀에 24G needle을 이용하여 정맥로를 확보한 후, 케타민(Ketamine)을 IV 50~100 ㏄/h의 속도로 투여하면서 마취를 유지하였다. 제모를 시행한 후, 실험대로 옮기고 절개할 목 부위에 리도카인(lidocaine)을 경피하 투여하여 국소 마취를 실시하였다. 1) After preparing a healthy pig, 300 mg of aspirin and 600 mg of clopidogrel were orally administered one day before the experiment, and ketamine (ketamine (50 mg / ml)) was weighed 20 mg per body weight before the experiment. Injections were performed to induce anesthesia. After anesthesia, the pigs were moved to an animal laboratory to secure an intravenous vein using a 24G needle in the ear, and the anesthesia was maintained while administering ketamine at a rate of IV 50-100 μs / h. After depilation, it was transferred to the experimental section and local anesthesia was performed by subcutaneous administration of lidocaine to the neck area to be dissected.

국소 마취 후 정중선을 따라 목의 전면 부분을 5 ㎝ 정도 절개 한 후 좌측 경동맥을 확인 후, 6.5-Fr. 유도관(6.5-Fr. introducer sheath)을 삽입하였다. 이를 통해 6-Fr. H-스틱 안내도관(6-Fr. H-stick guide-catheter)를 삽입 후, 좌전하행지(left anterior descending coronary artery, LAD) 및 우측 관상동맥(right coronary artery, RCA)을 조영하였다(GE-OEC Series 9800, USA). After local anesthesia, incision about 5 cm in the front part of the neck along the midline, and after checking the left carotid artery, 6.5-Fr. A guide tube (6.5-Fr. Introducer sheath) was inserted. This allows 6-Fr. After insertion of the H-stick guide-catheter, the left anterior descending coronary artery (LAD) and the right coronary artery (RCA) were examined (GE-). OEC Series 9800, USA).

다음으로 혈관내 초음파(intravascular ultrasound, IVUS, Volcano, GE healthcare, UK)를 이용하여 참조 혈관 직경을 확인하고 3.0 ㎜에 해당하는 부위에 스텐트를 위치시킨 후, 원위부 및 근위부에 8~12기압의 압력을 이용하여 참조혈관 크기보다 1.1~1.3 배로 혈관이 약간 과확장되도록 30초간 풍선을 확장시켜 스텐트를 삽입하였다. Next, the reference vessel diameter was checked using intravascular ultrasound (IVUS, Volcano, GE healthcare, UK), and the stent was placed in a region corresponding to 3.0 mm, and then the pressure of 8-12 atm in the distal and proximal regions was measured. The stent was inserted by expanding the balloon for 30 seconds to slightly expand the blood vessels by 1.1 to 1.3 times the size of the reference vessel.

스텐트 삽입 후 다시 혈관내 초음파(IVUS)를 이용하여 스텐트가 적절히 확장되었는지를 확인하고 필요에 따라 추가적인 풍선 확장을 시행하였다. 이후 다시 혈관 조영을 시행하고, 6.5-Fr. 유도관을 제거한 후, 좌측 경동맥을 결찰하였고, 피부를 봉합하였다. 시술을 끝낸 돼지는 주사용 생리 식염수를 이용하여 수액을 공급한 후, 다시 돼지 사육사로 이동시켰다. After insertion of the stent, intravascular ultrasound (IVUS) was used to confirm that the stent had been properly expanded and further balloon expansion was performed as needed. Angiography was then performed again and 6.5-Fr. After the induction tube was removed, the left carotid artery was ligated and the skin sutured. After the procedure, the pigs were fed with saline for injection, and then moved back to the pig breeders.

2) 사육사로 이동된 돼지는 사육사에서 아스피린 100 ㎎과 클로피도그렐 75 ㎎를 매일 4주간 복용하였다. 4주간 사육된 돼지는 전 시험단계와 마찬가지로 마취를 시행하였고, LAD와 RCA에 관상동맥 조영술 및 IVUS, OCT(optical coherence tomography, Light Lab Imaging, USA)를 시행하였다. 검사를 마친 돼지는 과량의 KCl을 관상동맥 내로 투여하여 안락사를 시행하였으며, 좌측 4~5번째 늑골 사이를 절개하여 심장을 적출한 후 대동맥과 폐동맥에 관을 연결하여 4% 포르말린을 이용하여 70 mmHg의 관류압으로 24시간 이상 관류 고정(perfusion fixation)을 시행하였다. 2) Pigs who were transferred to zookeepers took 100 mg of aspirin and 75 mg of clopidogrel daily for 4 weeks. Pigs bred for 4 weeks were anesthetized as in the previous test phase. Coronary angiography and IVUS and OCT (Optical Coherence Tomography, Light Lab Imaging, USA) were performed for LAD and RCA. After the test, the pigs were euthanized by administering an excess of KCl into the coronary artery. The incision was made between the 4th and 5th ribs on the left side to remove the heart. Perfusion fixation was performed for more than 24 hours at the perfusion pressure of.

3) 포르말린에 고정된 심장은 스텐트가 있는 위치에서 LAD와 RCA 관상동맥을 적출하였고 파라핀 블록을 제작한 후 텅스텐블레이드(tungsten blade)가 부착된 마이크로톰(microtome)을 이용하여 절단하여 미세한 절편(5 ㎛)을 만들었다. 3) Formalin-fixed heart was extracted from LAD and RCA coronary artery at stent position, paraffin block was made, and cut using microtome attached with tungsten blade. )

관상동맥은 총 8 부분으로 구분하였고, 근위부부터 원위부까지 번갈아 가면서 H & E 염색(헤마톡시린 & 에오신)을 시행하였다. 스텐트 시술 혈관의 외탄력층(external elastic lamina; EEL) 면적, 내탄력층(internal elastic lamina; IEL) 면적, 내강(lumen) 면적, 신생내막 면적 등을 측정하였다. Coronary artery was divided into 8 parts and H & E staining (hematoxylin & eosin) was performed alternately from proximal to distal. The external elastic lamina (EEL) area, internal elastic lamina (ILE) area, lumen area, neointimal area, etc. of the stent vessel were measured.

스텐트 혈관의 면적 협착(area stenosis)은 100×(1-lumen area/IEL area)의 공식을 이용하여 기존의 방식에 따라서 계산하였다. 스텐트에 의한 혈관벽의 손상 지수, 염증 세포의 침윤 지수(inflammation score) 및 내피화(endothelization)지수는 Schwartz의 방법에 의하여 평가하였다.
Area stenosis of the stent vessels was calculated according to the conventional method using the formula of 100 × (1-lumen area / IEL area). The damage index of the vessel wall by the stent, the inflammation score of the inflammatory cells, and the endotheliation index were evaluated by Schwartz's method.

실험예Experimental Example 3 : 기계적 안정성 비교실험 3: Comparative experiment of mechanical stability

실시예 1에서 제조한 산화티타늄 코팅층을 포함하는 임플란트와 실시예 2에서 제조한 티타늄 코팅층-산화티타늄 코팅층을 포함하는 임플란트를 각각을 350% 팽창시킨 후, 24 시간 동안 초음파 처리한 후, 광학현미경으로 측정하여 도 16의 A와 B에 각각 나타내었다.After implanting the implant including the titanium oxide coating layer prepared in Example 1 and the implant containing the titanium coating layer-titanium oxide coating layer prepared in Example 2 by 350%, sonication for 24 hours, followed by an optical microscope Measured and shown in Figures A and B, respectively.

도 16을 살펴보면, 실시예 1의 임플란트(도 16의 A)에서 일부 크랙이 발생하였으나, 실시예 2의 임플란트(도 16의 B)에서는 크랙이 발생하지 않았다. 이를 통하여, 실시예 1의 임플란트도 기계적 안정성이 우수하나, 티타늄 코팅층을 도입하는 경우 더 우수한 기계적 안정성을 얻을 수 있음을 확인하였다.
Referring to FIG. 16, some cracks occurred in the implant of Example 1 (A of FIG. 16), but no crack occurred in the implant of Example 2 (B of FIG. 16). Through this, the implant of Example 1 is also excellent in mechanical stability, it was confirmed that the excellent mechanical stability can be obtained when the titanium coating layer is introduced.

앞서 확인한 바와 같이 본 발명의 임플란트는 생체적합성이 우수할 뿐만 아니라, 스텐트가 크게 팽창되어도 코팅층이 파괴되지 않기 때문에 임플란트내 혈관이 재협착 되는 문제가 발생하지 않으며, 이러한 본 발명의 임플란트는 풍선확장시술에 사용하기에 적합할 뿐만 아니라, 약물을 방출하는 임플란트 등으로 응용할 수 있다. As confirmed above, the implant of the present invention not only has excellent biocompatibility, but also does not cause a problem of restenosis of blood vessels in the implant because the coating layer is not destroyed even when the stent is greatly expanded, and the implant of the present invention has a balloon expansion procedure. In addition to being suitable for use in, it can be applied as an implant for releasing drugs.

Claims (27)

아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법(sputtering deposition)으로 산화티타늄을 강철, 강철 합금, 니켈, 니켈 합금, 스테인레스 또는 코발트-크롬 합금 소재의 기재 표면에 증착시켜 20 내지 50 nm 두께의 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 스텐트의 제조방법.
Under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5, titanium oxide is deposited on the surface of the base material of steel, steel alloy, nickel, nickel alloy, stainless or cobalt-chromium alloy material by sputtering deposition. Method of manufacturing a stent comprising the step of depositing to form a titanium oxide coating layer of 20 to 50 nm thickness.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
증착 시간은 6 ~ 15 분인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 1,
Deposition time is 6 to 15 minutes of the stent manufacturing method.
제 1 항에 있어서,
상기 스퍼터링 증착법은 마그네트론 스퍼터링 증착법(magnetron sputtering deposition)인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 1,
The sputtering deposition method is a magnetron sputtering deposition method (magnetron sputtering deposition) method of manufacturing a stent.
제 4 항에 있어서,
상기 마그네트론 스퍼터링 증착법은 RF 마그네트론 증착법이고, RF 파워(RF power)는 200 내지 500 W이고, 동작압력(working pressure)은 1 내지 10 mtorr인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 4, wherein
The magnetron sputtering deposition method is an RF magnetron deposition method, the RF power (RF power) is 200 to 500 W, the working pressure (working pressure) of 1 to 10 mtorr manufacturing method of the stent.
제 1 항에 있어서,
산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계 전에 아르곤 가스 5 내지 15 sccm, 동작압력 60 내지 100 mtorr 및 DC 파워 700 내지 800 W의 조건 하에서 기재를 프리스퍼터링(presputtering)하는 단계를 추가로 포함하는 스텐트의 제조방법.
The method of claim 1,
And presputtering the substrate under conditions of argon gas 5 to 15 sccm, operating pressure 60 to 100 mtorr, and DC power 700 to 800 W before forming the titanium oxide coating layer.
스퍼터링 증착법으로 티타늄(Ti)을 강철, 강철 합금, 니켈, 니켈 합금, 스테인레스 또는 코발트-크롬 합금 소재의 기재 표면에 증착시켜 200 내지 350 nm 두께의 티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및
아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시켜 20 내지 50 nm 두께의 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 스텐트의 제조방법.
Depositing titanium (Ti) on a substrate surface of steel, steel alloy, nickel, nickel alloy, stainless or cobalt-chromium alloy material by sputter deposition to form a titanium coating layer having a thickness of 200 to 350 nm; And
In a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5, the titanium oxide is deposited on the surface of the titanium coating layer by sputtering to form a titanium oxide coating layer having a thickness of 20 to 50 nm. Manufacturing method.
제 7 항에 있어서,
티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 스퍼터링 증착법은 DC 마그네트론 증착법인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 7, wherein
The sputtering deposition method of forming a titanium coating layer is a method of manufacturing a stent, which is a DC magnetron deposition method.
제 8 항에 있어서,
DC 마그네트론 증착법의 DC 파워는 800 내지 1,000 W인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 8,
DC magnetron deposition method DC power of 800 to 1,000 W of the stent manufacturing method.
삭제delete 제 7 항에 있어서,
증착 시간은 3 ~ 7 분인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 7, wherein
Deposition time is 3 to 7 minutes of the stent manufacturing method.
삭제delete 스퍼터링 증착법으로 티타늄을 강철, 강철 합금, 니켈, 니켈 합금, 스테인레스 또는 코발트-크롬 합금 소재의 기재 표면에 증착시켜 200 내지 350 nm 두께의 티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및
아르곤 및 산소의 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시키되, 상기 아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5가 되도록 혼합 가스 중에서 산소의 유량을 시간에 따라 증가시키면서 20 내지 50 nm 두께의 산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 스텐트의 제조방법.
Depositing titanium on a surface of a substrate made of steel, steel alloy, nickel, nickel alloy, stainless or cobalt-chromium alloy material by sputtering deposition to form a titanium coating layer having a thickness of 200 to 350 nm; And
In a mixed gas atmosphere of argon and oxygen, titanium oxide is deposited on the surface of the titanium coating layer by sputtering deposition, and the flow rate of oxygen in the mixed gas is increased with time so that the flow rate ratio of argon and oxygen is 10: 1.5 to 10: 2.5. While forming a 20 to 50 nm thick titanium oxide coating layer of the stent manufacturing method comprising the step.
제 13 항에 있어서,
산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계는
아르곤 및 산소의 유량비가 10:0.5 내지 10:1.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 티타늄 코팅층 표면에 증착시켜 제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계; 및
아르곤 및 산소의 유량비가 10:1.5 내지 10:2.5인 혼합가스 분위기 하에서, 스퍼터링 증착법으로 산화티타늄을 상기 제1산화티타늄 코팅층 표면에 추가로 증착시켜 제2산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 스텐트의 제조방법.
The method of claim 13,
Forming the titanium oxide coating layer
Forming a first titanium oxide coating layer by depositing titanium oxide on the surface of the titanium coating layer by a sputtering deposition method under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 0.5 to 10: 1.5; And
A stent comprising the step of further depositing titanium oxide on the surface of the first titanium oxide coating layer by sputtering deposition under a mixed gas atmosphere having a flow ratio of argon and oxygen of 10: 1.5 to 10: 2.5 to form a second titanium oxide coating layer. Manufacturing method.
제 14 항에 있어서,
제1산화티타늄 코팅층을 형성하는 단계는 제1산화티타늄 코팅층의 두께를 2 내지 20 nm가 되도록 증착 시간을 제어하는 스텐트의 제조방법.
The method of claim 14,
Forming the first titanium oxide coating layer is a method of manufacturing a stent to control the deposition time so that the thickness of the first titanium oxide coating layer 2 to 20 nm.
제 15 항에 있어서,
증착시간은 1분 내지 5분인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 15,
Deposition time is 1 minute to 5 minutes of the stent manufacturing method.
제 13 항에 있어서,
티타늄 코팅층을 형성하는 단계의 스퍼터링 증착법은 DC 마그네트론 증착법이고, DC 파워는 800 내지 1,000 W인 스텐트의 제조방법.
The method of claim 13,
The sputtering deposition method of forming a titanium coating layer is a DC magnetron deposition method, the DC power is 800 to 1,000 W of the manufacturing method of the stent.
삭제delete 제 14 항에 있어서,
제2산화티타늄 코팅층의 두께가 10 내지 50 nm 되도록 증착 시간을 제어하는 스텐트의 제조방법.
The method of claim 14,
Method of manufacturing a stent to control the deposition time so that the thickness of the second titanium oxide coating layer 10 to 50 nm.
강철, 강철 합금, 니켈, 니켈 합금, 스테인레스 또는 코발트-크롬 합금 소재의 기재; 및
상기 기재 상에 형성된 20 내지 50 nm 두께의 산화티타늄 코팅층을 포함하며, 하기 일반식 1을 만족하는 스텐트:
[일반식 1]
X = (ρf - ρi) /ρi ≥ 2
상기 일반식 1에서,
X는 40~50 kHz 주파수의 초음파로 2~3 시간 동안 처리할 때 코팅층이 파괴되기 시작하는 스텐트 직경의 변형율로서, ρi는 스텐트의 변형 전 내경이고, ρf 는 변형 후의 스텐트 내경을 나타낸다.
Substrates made of steel, steel alloys, nickel, nickel alloys, stainless or cobalt-chromium alloy materials; And
A stent comprising a titanium oxide coating layer having a thickness of 20 to 50 nm formed on the substrate and satisfying the following general formula 1:
[Formula 1]
X = (ρ f -ρ i ) / ρ i ≥ 2
In the general formula 1,
X is the strain of the stent diameter at which the coating layer starts to break when treated with ultrasonic waves at a frequency of 40-50 kHz for 2-3 hours, ρ i is the inner diameter before deformation of the stent, and ρ f is the diameter of the stent after deformation.
제 20 항에 있어서,
상기 일반식 1에 있어서, X ≥ 3을 만족시키는 스텐트.
The method of claim 20,
The stent of Formula 1, wherein X ≧ 3 is satisfied.
제 20 항에 있어서,
상기 일반식 1에 있어서, X ≥ 4를 만족시키는 스텐트.
The method of claim 20,
The stent of Formula 1, wherein X ≧ 4 is satisfied.
제 20 항에 있어서,
기재 및 산화티타늄 코팅층 사이에 티타늄 코팅층을 추가로 포함하는 스텐트.
The method of claim 20,
Stent further comprising a titanium coating layer between the substrate and the titanium oxide coating layer.
제 23 항에 있어서,
산화티타늄 코팅층은 TixOy의 조성을 가지고, 티타늄 코팅층과 접하는 면으로부터 수직방향으로의 두께가 증가함에 따라, y/x의 값이 증가하는 스텐트;
여기서, 상기 x는 티타늄 원자의 몰수를 나타내며, y는 산소 원자의 몰수를 나타낸다.
The method of claim 23,
Titanium oxide coating layer of Ti x O y A stent having a composition, the value of y / x increasing as the thickness in the vertical direction from the surface in contact with the titanium coating layer increases;
Here, x represents the number of moles of titanium atoms, y represents the number of moles of oxygen atoms.
강철, 강철 합금, 니켈, 니켈 합금, 스테인레스 또는 코발트-크롬 합금 소재의 기재;
상기 기재 표면 상에 형성된 200 내지 350 nm 두께의 티타늄 코팅층;
상기 티타늄 코팅층 상단에 형성된 20 내지 50 nm 두께의 산화티타늄(TixOy) 코팅층을 포함하고,
상기 산화티타늄 코팅층은 TixOy의 조성을 가지고, 티타늄 코팅층과 접하는 면으로부터 수직방향으로의 두께가 증가함에 따라, y/x의 값이 증가하는 스텐트:
여기서, 상기 x는 티타늄 원자의 몰수를 나타내며, y는 산소 원자의 몰수를 나타낸다.
Substrates made of steel, steel alloys, nickel, nickel alloys, stainless or cobalt-chromium alloy materials;
A titanium coating layer having a thickness of 200 to 350 nm formed on the surface of the substrate;
20 to 50 nm thick titanium oxide (Ti x O y ) coating layer formed on the top of the titanium coating layer,
The titanium oxide coating layer of Ti x O y A stent having a composition, the value of y / x increasing as the thickness in the vertical direction from the surface in contact with the titanium coating layer increases:
Here, x represents the number of moles of titanium atoms, y represents the number of moles of oxygen atoms.
제 25 항에 있어서,
산화티타늄 코팅층은
티탄층 상단에 형성되고, y/x가 0.5 내지 1.5 인 제1산화코팅층; 및
상기 제1산화코팅층 상단에 형성되고, y/x가 1.5 내지 2.5 인 제2산화코팅층을 포함하는 스텐트.The method of claim 25,
Titanium oxide coating layer
A first oxide coating layer formed on top of the titanium layer and having y / x of 0.5 to 1.5; And
A stent formed on top of the first oxide coating layer and including a second oxide coating layer having y / x of 1.5 to 2.5. 삭제delete
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