KR101025811B1 - Apparatus for cleaning a substrate - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 내부에 구비한 본체; 상기 본체의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일; 및 상기 레일을 따라 상기 본체의 외부에서 수평 이동하되, 상기 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명은 종래기술에 비해 장치의 이송이 훨씬 편리하고, 장치를 설치한 후에도 불필요한 설치공간을 현저히 감소시킬 수 있어서 공간 활용의 효용성을 높이는 우수한 효과가 있다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus, and more particularly, a main body having units therein for performing a substrate cleaning process; At least one rail provided along an outer longitudinal direction of the main body; And a worktable horizontally moved outside of the main body along the rails, the worktable being detachable from the rails. The present invention is much more convenient than the prior art transfer of the device, and even after installing the device can be significantly reduced unnecessary installation space has an excellent effect of increasing the efficiency of the space utilization.
기판세정장치,작업테이블,레일,구동용롤러,가이드용롤러.Substrate cleaning device, work table, rail, driving roller, guide roller.
Description
도 1은 종래기술에 따른 기판 세정 장치의 실시예를 개략적으로 도시한 구성도이고,1 is a configuration diagram schematically showing an embodiment of a substrate cleaning apparatus according to the prior art,
도 2는 종래기술에 따른 기판 세정 장치의 다른 실시예를 개략적으로 도시한 구성도이고,Figure 2 is a schematic diagram showing another embodiment of a substrate cleaning apparatus according to the prior art,
도 3은 본 발명에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 도시한 구성도이고,3 is a schematic view showing a substrate cleaning apparatus according to the present invention;
도 4는 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 본체와 작업테이블의 결합구조에 대한 실시예를 도시한 구성도이며,Figure 4 is a block diagram showing an embodiment of the coupling structure of the body and the work table in the substrate cleaning apparatus according to the present invention,
도 5는 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 본체와 작업테이블의 결합구조에 대한 다른 실시예를 도시한 구성도이다.5 is a block diagram showing another embodiment of the coupling structure of the main body and the work table in the substrate cleaning apparatus according to the present invention.
-도면의 주요부분에 대한 부호의 설명-Explanation of symbols on the main parts of the drawing
10; 세정장치 11; 본체10;
20,20'; 레일 21,21'; 레일 홈20,20 ';
30; 작업테이블 31,31'; 구동용 롤러30;
32,32'; 가이드용 롤러 33; 계단32,32 ';
34; 안전팬스 40; 롤러지지대34;
본 발명은 액정표시장치(Liquid Crystal Display: LCD) 또는 평판표시장치(Flat Panel Display : FPD) 등의 기판을 세정하기 위한 기판 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning apparatus for cleaning a substrate such as a liquid crystal display (LCD) or a flat panel display (FPD).
일반적으로, 액정 표시 장치 또는 평판 표시 장치 등의 기판을 제조하는 공정에는 기판의 표면에 기계적 또는 화학적 처리를 가하는 공정이 수반되며, 이에 따라 처리된 기판의 표면을 세정하는 공정이 또한 필요하다.In general, a process of manufacturing a substrate such as a liquid crystal display or a flat panel display involves a process of applying a mechanical or chemical treatment to the surface of the substrate, and thus a process of cleaning the surface of the treated substrate is also required.
이러한 세정 공정은 기판들이 기판 이송용 컨베이어를 따라 이송되는 동안 컨베이어의 상측에 설치된 린싱용 분사 유닛, 브러시 유닛, 세정용 분사 유닛, 초음파 유닛 등을 이용하여 기판에 대해 순수(純水, DI Water)와 같은 세정액을 분사하고, 브러시로 닦아내며, 초음파를 가하는 등의 작업을 통해 기판의 표면으로부터 이 물질을 제거하고, 에어 나이프(air knife)를 이용하여 기판의 표면을 건조시킨 다음 기판의 배출한다.This cleaning process uses DI water for the substrate by using a rinsing spray unit, a brush unit, a cleaning spray unit, an ultrasonic unit, etc. installed on the upper side of the conveyor while the substrates are transported along the substrate transport conveyor. This material is removed from the surface of the substrate by spraying a cleaning solution, wiping with a brush, applying ultrasonic waves, and the like, and then drying the surface of the substrate using an air knife, and then discharging the substrate. .
최근에는 액정표시장치(LCD) 또는 평판표시장치(FPD) 등이 점차 대형화됨에 따라 기판의 사이즈 또한 6세대 이상으로 증가하고 있는 추세이다. 이러한 이유로, 세정 장치의 사이즈도 자연스럽게 증가할 수 밖에 없었다.Recently, as liquid crystal display (LCD) or flat panel display (FPD) are gradually enlarged, the size of the substrate is also increasing to more than 6 generations. For this reason, the size of the cleaning device also had to increase naturally.
이렇게 세정 장치의 사이즈가 증가하면서 작업자는 장치셋팅 및 유지보수를 위해 장치에 오르기가 쉽지 않았다. 이 때문에 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 별도로 본체(1,1')에 작업자가 작업할 수 있는 발판(2,2')을 설치하게 되었다.
This increase in the size of the cleaning device made it difficult for the operator to climb onto the device for device setting and maintenance. For this reason, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, the
먼저, 도 1의 경우는 발판(2)이 본체(1)에 일체로 구비된 타입으로써, 6세대 세정장치의 일반적인 형태이다. 이 경우에는 기판이 대형화되면서 이송라인이 높아지고, 장치에 직접 작업자가 오르기 쉽지 않은 점을 보완하기 위해 본체(1)의 길이방향을 따라 양측에 각각 발판을 구비한 것이다.First, in the case of FIG. 1, the
하지만, 도 1에 도시된 기판 세정장치는 본체(1)의 양측에 발판(2)을 일체로 구비하므로써, 하중과 사이즈가 커서 운송이 상당히 어려우며, 불필요하게 설치공간도 많이 차지하게 되는 문제점이 있었다.However, the substrate cleaning apparatus shown in FIG. 1 has a problem in that since the
도 2의 경우는 별도의 발판(2')을 본체(1') 양측에 도킹(docking)시킬 수 있는 발판도킹 타입이다.2 is a scaffolding docking type capable of docking a separate scaffold 2 'on both sides of the main body 1'.
이 경우에는 발판(2')을 본체(1')로부터 이탈시켜 이송할 수 있기 때문에 도 1의 문제점인 운송 상의 문제점은 어느 정도 해결할 수는 있지만, 실질적으로 발판(2')을 본체(1')에 결합시 그 사이즈에는 변함이 없으므로, 공간 활용면에서는 도 1의 경우와 동일한 문제점이 있었다.In this case, since the footrest 2 'can be moved away from the main body 1', the transportation problem, which is the problem of FIG. 1, can be solved to some extent, but the footrest 2 'is substantially replaced by the main body 1'. Since the size does not change when combined with), there is the same problem as the case of Figure 1 in terms of space utilization.
본 발명은 상기와 같은 점들을 해결하기 위해 안출된 것으로, 이송이 편리하고 불필요한 설치공간을 감소시키는 기판 세정 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus that is convenient to transport and reduce unnecessary installation space.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 형태에 따르면, 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 내부에 구비한 본체; 상기 본체의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일; 및 상기 레일을 따라 상기 본체의 외부에서 수평 이 동하되, 상기 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치를 제공한다.According to an aspect of the present invention for achieving the above object, a main body having a unit therein for performing a substrate cleaning process; At least one rail provided along an outer longitudinal direction of the main body; And while moving horizontally from the outside of the body along the rail provides a cleaning device comprising a worktable that can be separated from the rail.
상기 작업테이블은 상기 레일을 따라 이동하기 위한 적어도 하나의 구동용 롤러를 가지는 것을 특징으로 하며, 상기 작업테이블은 수동 또는 자동으로 동작이 가능하되, 상기 작업테이블이 자동으로 동작할 경우에는 상기 구동용 롤러가 모터의 정역회전을 통해 회동하는 것을 특징으로 한다.The work table has at least one driving roller for moving along the rail, the work table is capable of operating manually or automatically, if the work table automatically operates for the drive The roller is characterized by rotating through the forward and reverse rotation of the motor.
상기 작업테이블은 상기 본체의 외부와 접촉 이동하기 위한 적어도 하나의 가이드용 롤러를 더 구비하는 것을 특징으로 한다. 그리고 상기 작업테이블은 작업자가 승하강하기 위한 계단과, 작업 위치로부터 작업자의 추락을 방지하는 안전팬스를 가지는 것을 특징으로 한다.The worktable further comprises at least one guide roller for moving in contact with the outside of the main body. And the work table is characterized in that the worker has a stairway for lifting and lowering, and a safety pan to prevent the fall of the worker from the working position.
도 3은 본 발명에 따른 기판 세정 장치를 개략적으로 도시한 구성도이고, 도 4는 본 발명에 따른 기판 세정 장치에서 본체와 작업테이블의 결합구조에 대한 실시예를 도시한 구성도이다.Figure 3 is a schematic view showing a substrate cleaning apparatus according to the present invention, Figure 4 is a block diagram showing an embodiment of the coupling structure of the body and the work table in the substrate cleaning apparatus according to the present invention.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들(미도시)을 내부에 구비한 본체(10)와, 상기 본체(10)의 외부 길이방향을 따라 구비되는 적어도 하나의 레일(20)과, 상기 레일(20)을 따라 상기 본체(11)의 외부에서 수평 이동하는 작업테이블(30)을 포함한다.3 and 4, the substrate cleaning apparatus according to the present invention includes a
상기 본체(11)는 세정장치(10)의 외관을 형성하는 것으로, 내부에 기판 세정 공정을 수행하기 위한 유닛들을 구비한다.The
본체(11)의 내부는 도면에 상세하게 도시되어 있지 않지만, 대략 본체(11)의 길이방향을 따라 길게 기판 이송용 컨베이어를 가지며, 이 기판 이송용 컨베이어를 따라 기판이 이송되는 동안 컨베이어의 상측에 설치된 린싱용 분사 유닛, 브러시 유닛, 세정용 분사 유닛, 초음파 유닛 등을 이용하여 기판에 대해 순수(純水, DI Water)와 같은 세정액을 분사하고 브러시로 닦아내며 초음파를 가하는 등의 작업을 통해 기판의 표면으로부터 이물질을 제거하고, 에어 나이프(air knife)를 이용하여 기판의 표면을 건조시킨 다음 기판을 배출하도록 구성된다.Although not shown in detail in the drawing, the inside of the
실시예에서는, 본체(11)가 세정 공정별로 3개 정도의 섹션(section)으로 구획되어 있지만, 이 본체(11)는 공정에 따라 3개 이하 또는 3개 이상의 섹션으로 구획되어도 무방하다.In the embodiment, the
상기 레일(20)은 본체(11)의 외부 길이방향을 따라 적어도 하나가 구비된다.At least one
이 레일(20)은 본체(11)의 측면에 지면과 나란하도록 구비되는 것이 바람직하다. 아울러, 레일(20)이 구비되는 본체(11)의 측면은 레일(20)의 설치와 하기된 작업테이블(30)의 이동이 용이하도록 평탄하게 이루어지는 것이 바람직하다. 이 레일(20)은 하기된 구동용 롤러(31)가 안착되는 레일홈(21)을 가진다.The
도 5에 도시된 바와 같이, 레일(20')은 본체(11)의 측면으로 돌출 형성되어도 무방하다. 이러한 레일(20')은 도 4의 실시예와 마찬가지로 내부에 구동용 롤러(31')가 안착되는 레일홈(21')을 가진다.As shown in FIG. 5, the
상기 작업테이블(30)은 상기 레일(20)을 따라 상기 본체(11)의 외부에서 수평 이동하되, 상기 레일(20)로부터 분리가 가능한 것이다.The work table 30 moves horizontally from the outside of the
실시예에서, 작업테이블(30)은 상기 레일(20)을 따라 이동하기 위한 적어도 하나의 구동용 롤러(31)를 가진다. 이 구동용 롤러(31)는 대략 작업테이블(30)의 상부 또는 중앙부에 구비되고 상기 레일홈(21)을 따라 이동하게 된다. 도 5에 도시된 바와 같이, 구동용 롤러(31')는 하중 분산의 효과를 높이기 위해 중앙에 요(凹)부를 형성하여도 무방하다.In the embodiment, the
상기 작업테이블(30)은 구동용 롤러(31)를 상기 레일(20)의 레일홈(21)으로부터 이탈시켜 상기 본체(11)로부터 분리가 가능하다. 즉, 레일(20)의 양 끝단은 각각 개방되기 때문에 충분히 구동용 롤러(31)를 상기 레일(20)의 레일홈(21)으로부터 이탈시키는 것이 가능하다.The work table 30 may be separated from the
이와 같이, 작업테이블(30)이 본체(11)로부터 분리가 가능하므로써, 본 세정 장치(10)는 종래기술과 달리 손 쉽게 설치공간으로 이송시킬 수 있는 장점이 있다.Thus, since the
그리고 본 세정장치(10)는 작업테이블(30)이 종래기술의 발판(도 1의 도면부호 2, 2')과 같이 본체의 길이방향을 따라 길게 구비되는 것이 아니라, 단순히 레일(20)을 따라 이동할 수 있는 셔틀형 구조이므로, 불필요한 작업 공간을 현저히 감소시키는 우수한 효과가 있다.In addition, the
이 작업테이블(30)은 상기 본체(11)의 외부와 접촉 이동하기 위한 적어도 하나의 가이드용 롤러(32)를 더 구비한다.The work table 30 further includes at least one
이 가이드용 롤러(32)는 본체(11)의 하부에 구비되어 구동용 롤러(31)로 이동하는 작업테이블(30)이 보다 안정적으로 이동하도록 조력한다. 하지만, 이 가이드용 롤러(32)는 작업테이블(30)의 바닥면에 구비되어 지면과 접촉하면서 구동하는 구조로 변경하여도 무방하다. 도 5에 도시된 바와 같이, 가이드 롤러(32')는 작업 테이블(30)의 외부로 돌출되고 본체(11)에 별도로 구비된 롤러지지대(40)를 따라 이동할 수도 있다. 이 롤러지지대(40)는 도 5에 도시된 바와 같이 레일(20')이 본체(11)로부터 돌출 형성되었을 때, 상기 작업테이블(30)의 상하 균형을 맞추는 역할과 더불어 가이드 롤러(32')와 접촉력을 높여서 가이드 롤러(32')의 구동력을 우수하게 하는 역할을 한다.This
한편, 작업테이블(30)은 작업자가 승하강하기 위한 계단(33)과, 작업 위치로부터 작업자의 추락을 방지하는 안전팬스(34)를 가진다.On the other hand, the work table 30 has a
실시예에서, 계단(33)은 본체(11)의 측면을 기준으로 작업테이블(30)의 양측에 각각 구비되며, 안전팬스(34)는 작업 위치 즉, 작업테이블(30)의 최상면의 일측에 구비되어 작업자의 낙상사고 등을 방지한다.In an embodiment, the
본 발명에 따른 세정 장치(10)의 작업테이블(30)은 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 수동 또는 자동으로 동작이 가능하다.The
먼저, 작업테이블(30)이 수동으로 동작할 경우에는, 상기 작업테이블(30)을 작업자가 직접 손으로 밀어서 작업하고자 하는 위치에 정지시키면 된다. 이 때, 구동용 롤러(31)는 작업자의 힘에 의해 레일(20)의 레일홈(21)을 따라 이동하거나 정지하고, 가이드용 롤러(32) 역시 작업자의 힘에 의해 본체(11)의 측면을 따라 이동하거나 정지한다.First, when the
하지만, 작업테이블(30)이 자동으로 동작할 경우에는, 상기 구동용 롤러(31)가 모터(미도시)의 정역회전을 통해 회동하면서 레일(20)의 레일홈(21)을 따라 이동하게 된다. 상기 모터의 정역회전 및 정지동작의 제어는, 별도로 구비된 리모컨( 미도시)의 버튼을 조작하거나 작업테이블(30) 자체에 구비된 계기판(미도시)의 조작에 의해 가능하다.However, when the work table 30 automatically operates, the driving
한편, 상술한 본 발명에 따른 작업테이블(30)은 기판의 세정처리에 적용될 뿐만 아니라 동일한 기술적 사상으로써 식각, 현상 또는 스트립(strip) 등을 포함한 액정 표시장치 또는 평판 표시장치의 기판에 대한 각종 처리장치에 적용될 수 있다.On the other hand, the work table 30 according to the present invention described above is not only applied to the cleaning process of the substrate, but also various processes for the substrate of the liquid crystal display or flat panel display including etching, developing or stripping, etc. as the same technical concept. It can be applied to the device.
본 발명에 따른 기판 세정 장치는, 본체의 외부에 레일을 구비하고, 이 레일을 따라 이동하되 레일로부터 분리가 가능한 작업테이블을 구비하므로써, 종래기술에 비해 장치의 이송이 훨씬 편리하고, 장치를 설치한 후에도 불필요한 설치공간을 현저히 감소시킬 수 있어서 공간 활용의 효용성을 높이는 우수한 효과가 있다.The substrate cleaning apparatus according to the present invention has a rail on the outside of the main body, and has a worktable which can move along the rail but can be separated from the rail. Even after the unnecessary installation space can be significantly reduced, there is an excellent effect of increasing the utility of space utilization.
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JPH092255A (en) * | 1994-11-08 | 1997-01-07 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | Track travel device |
JPH106158A (en) | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Nippei Toyama Corp | Machining device |
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2004
- 2004-11-23 KR KR1020040096203A patent/KR101025811B1/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
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JPH092255A (en) * | 1994-11-08 | 1997-01-07 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | Track travel device |
JPH106158A (en) | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Nippei Toyama Corp | Machining device |
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