KR101016547B1 - 이미지센서 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
실시예에 따른 이미지센서는, 복수개의 단위화소를 포함하는 반도체 기판; 상기 단위화소에 대응하도록 상기 반도체 기판 상에 형성된 제1 컬러필터, 제2 컬러필터 및 제3 컬러필터; 상기 제1 및 제3 컬러필터 상에 형성된 제1 마이크로렌즈; 상기 제2 컬러필터 상에 형성된 제2 마이크로렌즈; 및 상기 제2 마이크로렌즈 표면에 형성된 코팅패턴을 포함하고, 상기 제1 및 제2 마이크로렌즈는 그 상부 표면은 볼록한 구면으로 형성되고, 외각의 측면들은 사각의 형태로 형성된 것을 포함한다.
이미지센서, 마이크로렌즈, 필팩터
Description
실시예는 이미지센서 및 그 제조방법에 관한 것이다.
이미지 센서는 광학적 영상(Optical Image)을 전기 신호로 변환시키는 반도체 소자로서, 크게 전하결합소자(charge coupled device:CCD) 이미지 센서와 씨모스(Complementary Metal Oxide Silicon:CMOS) 이미지 센서(CIS)를 포함한다.
씨모스 이미지 센서는 단위 화소 내에 포토다이오드와 모스트랜지스터를 형성시킴으로써 스위칭 방식으로 각 단위 화소의 전기적 신호를 순차적으로 검출하여 영상을 구현한다.
씨모스 이미지 센서에서 디자인 룰이 점차 감소됨에 따라 단위 픽셀의 사이즈가 감소하여 포토다이오드의 광감도가 감소될 수 있다. 이러한, 이미지 센서의 광감도를 높여주기 위하여 컬러필터 상에 마이크로렌즈가 형성된다. 상기 마이크로렌즈는 마스크에 의하여 감광성 유기물 물질을 노광, 현상 및 리플로우 공정에 의해 반구형으로 형성된다.
도 11 및 도 12는 종래의 렌즈 마스크 형태에 따라 형성된 마이크로렌즈 어 레이를 나타내는 것이다.
도 11의 (a)는 원형 마스크를 이용하여 원형의 마이크로렌즈를 형성한 것으로, 이 경우 마이크로렌즈 표면은 구면에 가까운 형태를 가지게 된다. 도 11의 (b)에 도시된 바와 같이 마이크로 렌즈의 대각선 길이(점선으로 표시)와 가로 및 세로길이(실선으로 표시)가 동일하여 수차가 작지만 필-팩터(Fill-factor)는 감소되는 문제가 있다. 예를 들어, 상기 원형 마스크를 이용한 마이크로렌즈는 필팩터가 최대 0.79를 넘지 못하는 한계가 있다.
도 12의 (a)는 사각 마스크를 이용하여 마이크로렌즈를 형성한 것으로, 이 경우 마이크로 렌즈의 면적이 넓어져 필팩터는 도 11의 마이크로렌즈에 비하여 필-팩터(Fill-factor)는 높지만, 도 12의 (b)에 도시된 바와 같이 그 표면은 구면에서 벗어나 수차를 갖게 된다.
상기와 같이 마이크로렌즈는 단위픽셀의 크기와 위치에 의하여 최적의 면적, 두께 및 곡률반경으로 형성되는 것이 요구된다.
실시예에서는 마이크로렌즈의 표면은 구면으로 형성되면서 필팩터(Fill-factor)를 향상시킬 수 있는 이미지 센서 및 그 제조방법을 제공한다.
실시예에 따른 이미지센서는, 복수개의 단위화소를 포함하는 반도체 기판; 상기 단위화소에 대응하도록 상기 반도체 기판 상에 형성된 제1 컬러필터, 제2 컬러필터 및 제3 컬러필터; 상기 제1 및 제3 컬러필터 상에 형성된 제1 마이크로렌즈; 상기 제2 컬러필터 상에 형성된 제2 마이크로렌즈; 및 상기 제2 마이크로렌즈 표면에 형성된 코팅패턴을 포함하고, 상기 제1 및 제2 마이크로렌즈는 그 상부 표면은 볼록한 구면으로 형성되고, 외각의 측면들은 사각의 형태로 형성된 것을 포함한다.
실시예에 따른 이미지센서의 제조방법은, 반도체 기판에 복수개의 단위화소를 형성하는 단계; 상기 단위화소에 대응하도록 상기 반도체 기판 상에 제1 컬러필터, 제2 컬러필터 및 제3 컬러필터를 포함하는 컬러필터 어레이를 형성하는 단계; 상기 제2 컬러필터 상에 그 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태를 가지는 제2 마이크로렌즈를 형성하는 단계; 상기 제2 마이크로렌즈의 표면에 코팅패턴을 형성하는 단계; 및 상기 제1 및 제3 컬러필터 상에 그 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태를 가지는 제1 마이크로렌즈를 형성하는 단계를 포함한다.
실시예에 따른 이미지센서 및 그 제조방법에 의하면, 더블렌즈를 형성함에 있어서 마이크로렌즈의 상부표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각 형태로 형성되어 필팩터(Fill-factor)의 손실없이 집광효율을 향상시킬 수 있다.
실시예에 따른 이미지 센서 및 그 제조방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
실시예의 설명에 있어서, 각 층의 "상/위(on/over)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, 상/위(on/over)는 직접(directly)와 또는 다른 층을 개재하여(indirectly) 형성되는 것을 모두 포함한다.
도면에서 각층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장되거나 생략되거나 또는 개략적으로 도시되었다. 또한 각 구성요소의 크기는 실제크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.
도 9는 실시예에 따른 이미지센서를 나타내는 단면도이다.
실시예에 따른 이미지 센서는, 복수개의 단위화소(20)를 포함하는 반도체 기판(10); 상기 단위화소(20)에 대응하도록 상기 반도체 기판(10) 상에 형성된 제1 컬러필터(51), 제2 컬러필터(52) 및 제3 컬러필터(53); 상기 제1 및 제3 컬러필터(53) 상에 형성된 제1 마이크로렌즈(181); 상기 제2 컬러필터(52) 상에 형성된 제2 마이크로렌즈(182); 및 상기 제2 마이크로렌즈(182) 표면에 형성된 코팅패턴(192)을 포함하고, 상기 제1 및 제2 마이크로렌즈(182)는 그 상부 표면은 볼록한 구면으로 형성되고, 외각의 측면들은 사각의 형태로 형성된 것을 포함한다.
상기 코팅패턴(192)은 소수성 물질로 형성되고, 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 상부표면에만 형성될 수 있다.
상기 제1 컬러필터(51)는 레드 컬러필터이고, 상기 제2 컬러필터(52)는 그린 컬러필터이고, 제3 컬러필터(53)는 블루 컬러필터일 수 있다. 또한, 상기 제2 컬러필터(52)는 상기 제1 또는 제3 컬러필터(53)의 양측에 배치되어 제1 또는 제3 컬러필터(53)보다 두배이상의 비율로 분포될 수 있다.
상기 제1 및 제2 마이크로렌즈(181, 182)는 그 상부 표면은 구면으로 형성되고 상기 외각의 측면들은 사각의 형태로 이루어져 필팩터 및 광감도를 향상시킬 수 있다.
도 9의 도면 부호 중 미설명 도면부호는 이하 제조방법에서 설명하기로 한다
이하, 도 1 내지 도 10을 참조하여 실시예에 따른 이미지센서의 제조방법을 설명한다.
도 1을 참조하여, 단위화소(20)을 포함하는 반도체 기판(10) 상에 컬러필터 어레이(50)가 형성된다.
상기 반도체 기판(10)에는 액티브 영역과 필드영역을 정의하는 소자분리막이 형성되어 있다. 그리고, 상기 액티브 영역에 형성된 단위화소(20)는 빛을 수광하여 광전하를 생성하는 포토다이오드 및 상기 포토다이오드에 연결되어 수광된 광전하를 전기신호를 변환하는 씨모스 회로를 포함한다.
상기 단위화소(20)를 포함하는 관련 소자들이 형성된 이후 금속배선(40) 및 층간절연막(30)이 상기 반도체 기판(10) 상에 형성된다.
상기 층간절연막(30)은 복수의 층으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 층간절연막(30)은 질화막 또는 산화막으로 형성될 수 있다.
상기 금속배선(40)은 상기 층간절연막(30)을 관통하여 복수 개로 형성될 수 있다. 상기 금속배선(40)은 포토다이오드로 입사되는 빛을 가리지 않도록 의도적으로 레이아웃되어 형성된다.
또한, 상기 층간절연막(30)은 패시베이션층을 포함할 수 있다. 상기 패시베이션층은 습기나 스크래치 등으로부터 소자를 보호하기 위한 것으로 절연막으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 패시베이션층은 실리콘 산화막, 실리콘 질화막 및 실리콘 산질화막 중의 어느 하나로 형성될 수도 있으며 또는 하나 이상의 층이 적층된 구조일 수도 있다.
한편, 상기 패시베이션층의 형성을 생략하고 상기 층간절연막(30) 상에 후속공정으로 컬러필터 어레이가 형성될 수 있다. 이는 이미지 센서의 전체적인 높이에 영향을 주게되어 보다 박형의 이미지 센서를 제공할 수도 있으며, 또한 공정 단계의 감소에 따른 비용 절감의 효과를 제공할 수 있다.
상기 층간절연막(30)을 포함하는 반도체 기판(10) 상에 컬러필터 어레이(50)가 형성된다. 상기 컬러필터 어레이(50)는 염색된 포토레지스트를 사용하며 각각의 단위화소(20)마다 하나의 컬러필터가 형성되어 입사하는 빛으로부터 색을 분리해 낸다.
이러한 컬러필터 어레이(50)는 각각 다른 색상을 나타내는 것으로 제1 컬러필터(51), 제2 컬러필터(52) 및 제3 컬러필터(53)를 포함한다. 예를 들어, 상기 제 1 컬러필터(51)는 레드(Red) 컬러필터이고, 상기 제2 컬러필터(52)는 그린(Green) 컬러필터이며, 상기 제3 컬러필터(53)는 블루(Blue) 컬러필터로 형성될 수 있다.
특히, 상기 제2 컬러필터(52)는 상기 제1 또는 제3 컬러필터(53)의 갯수보다 두배 이상 형성될 수 있다. 상기 컬러필터 어레이(50)는 각 컬러에 따라 감도가 다르고, 사람의 눈이 레드 또는 블루보다 그린에 민감하게 반응하기 때문에 상기 제2 컬러필터(52)가 많이 형성될 수 있다.
상기 컬러필터 어레이(50)는 제2 컬러필터(52), 제1 컬러필터(51), 제2 컬러필터(52), 제3 컬러필터(53) 및 제2 컬러필터(52)의 순으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 제1 컬러필터(51)의 양측에는 제2 컬러필터(52)가 형성될 수 있다. 또한, 상기 제3 컬러필터(53)의 양측에도 제2 컬러필터(52)가 형성될 수 있다.
도시되지는 않았지만, 상기 컬러필터 어레이(50) 상에 평탄화층이 형성될 수 있다. 후속공정으로 형성될 마이크로렌즈는 평탄화된 표면에 형성되어야 한다. 따라서, 상기 컬러필터 어레이(50)로 인한 단차를 없애야 하므로, 상기 컬러필터 어레이(50) 상에 평탄화층이 형성될 수 있다.
도 2를 참조하여, 상기 제2 컬러필터(52) 상에 제2 시드패턴(162)이 형성된다. 상기 제2 시드패턴(162)은 상기 컬러필터 어레이(50) 상에 마이크로렌즈 형성용 포토레지스트를 스핀 공정 등을 통해 도포하여 포토레지스트막을 형성한다. 그리고, 상기 제2 컬러필터(52)에 대응하는 영역에 원형의 패턴 마스크(300)를 위치시킨 후 노광 및 현상하여 상기 제2 컬러필터(52)들 상에 제2 시드패턴(162)을 각각 형성한다.
이때, 상기 제2 시드패턴(162)은 상기 제2 컬러필터(52)와 동일한 너비를 가지거나 상기 제2 컬러필터(52)의 너비보다 작은 너비를 가지도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 제2 시드패턴(162)은 평면으로 보았을 때 원형으로 형성될 수 있다.
도 3을 참조하여, 상기 제2 컬러필터(52)들 상에 제2 렌즈패턴(172)이 형성된다. 상기 제2 렌즈패턴(172)은 상기 제2 시드패턴(162)에 대한 써멀 리플로우(thermal reflow) 공정을 실시하여 형성될 수 있다.
리플로우 공정은 폴리머 물질에 유동성을 부여하고 표면장력을 이용하여 렌즈면을 형성하는 방법이다. 상기 제2 시드패턴(162)에 대하여 리플로우 공정을 진행하면 상기 제2 시드패턴(162)의 외각면 형태에 의하여 상기 제2 렌즈패턴(172)의 형태가 결정될 수 있다. 즉, 상기 제2 시드패턴(162)은 평면으로 보았을 때 원형을 가지므로 상기 제2 시드패턴(162)에 대한 리플로우 공정을 진행하면 표면이 볼록한 형상을 갖는 반구형의 상기 제2 렌즈패턴(172)이 형성될 수 있다.
상기 제2 렌즈패턴(172)이 리플로우 공정을 통해 형성되므로 상기 제2 렌즈패턴(172)은 상기 제2 컬러필터(52)를 모두 덮도록 형성될 수 있다. 또는 상기 제2 렌즈패턴(172)은 상기 제2 컬러필터(52) 보다 넓은 너비를 갖도록 형성되어 상기 제2 컬러필터(52) 양측의 제1 또는 제3 컬러필터(51, 53)의 가장자리 영역까지 형성될 수 있다.
상기 제2 렌즈패턴(172)은 원형의 패턴 마스크(300)를 사용하여 형성된 상기 제2 시드패턴(162)을 리플로우하여 형성되므로 가로, 세로 및 대각선의 곡률반경이 일정한 형태로 형성될 수 있다.
도 4를 참조하여, 상기 제2 렌즈패턴(172)이 형성된 상기 컬러필터 어레이(50) 상에 코팅층(190)이 형성된다. 상기 코팅층(190)은 상기 제2 렌즈패턴(172)을 포함하는 컬러필터 어레이(50) 상에 형성되어 상기 제2 렌즈패턴(172) 및 컬러필터 어레이(50)의 표면을 보호할 수 있다. 상기 코팅층(190)은 소수성 물질로 형성될 수 있다.
예를 들어, 상기 코팅층(190)은 포토레지스트와 같은 소수성 물질을 스핀코팅하여 형성될 수 있다.
도 5를 참조하여, 상기 제2 렌즈패턴(172) 상에 포토레지스트 패턴(350)이 형성된다. 상기 포토레지스트 패턴(350)은 상기 제2 컬러필터(52)에 대응하도록 상기 제2 렌즈패턴(172) 상에 형성되어 상기 제1 내지 제3 컬러필터(51,53)에 대응하는 상기 코팅층(190)을 노출시킬 수 있다. 또한, 상기 포토레지스트 패턴(350)은 상기 제2 컬러필터(52)와 동일한 크기 및 형태로 형성될 수 있다. 따라서, 상기 포토레지스트 패턴(350)은 상기 제2 컬러필터(52) 상부의 상기 제2 렌즈패턴(172)을 제외한 나머지 영역을 노출시킬 수 있다.
도 6 및 도 7을 참조하여, 상기 제2 컬러필터(52) 상에 제2 마이크로렌즈(182) 및 코팅패턴(192)이 형성된다. 상기 제2 마이크로렌즈(182)는 상기 제2 컬러필터(52)와 동일한 크기로 형성되고 그 상부표면은 구면으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 코팅패턴(192)은 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 상부 표면에만 형성될 수 있다.
상기 제2 마이크로렌즈(182) 및 코팅패턴(192)은 상기 포토레지스트 패 턴(350)을 식각마스크로 사용하여 상기 제1 및 제3 컬러필터(51, 53) 상부의 제2 렌즈패턴(172) 및 코팅층(190)을 제거함으로써 상기 제2 컬러필터(52) 상에만 형성될 수 있다. 이후, 상기 포토레지스트 패턴(350)을 애싱공정등에 의하여 제거한다.
그러면, 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 상부 표면은 구면형태로 형성되고 외각의 측벽들은 사각의 형태로 형성될 수 있다. 즉 상기 제2 마이크로렌즈(182)를 평면상으로 보았을 때 상기 제2 컬러필터(52)와 동일한 사각의 형태로 형성되고 그 상부 표면은 볼록한 구면을 가질 수 있다.
이미지 센서의 마이크로렌즈는 가로, 세로 및 대각선의 길이가 모두 동일한 곡률반경으로 형성되어야만 광감도가 향상될 수 있다. 실시예에서는 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 상부 표면은 구면으로 형성되어 수차가 감소되므로 광감도를 향상시킬 수 있다. 또한, 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 외각면은 상기 제2 컬러필터(52)를 모두 가리도록 사각 형태로 형성되어 필 팩터(fill-factor)는 향상시킬 수 있다.
도 8을 참조하여, 상기 제1 및 제3 컬러필터(51,53) 상에 제1 시드패턴(161)이 형성된다. 상기 제1 시드패턴(161)은 상기 컬러필터 어레이(50) 상에 마이크로렌즈 형성용 포토레지스트를 스핀공정을 통해 도포하여 포토레지스트막을 형성한다. 이후, 상기 포토레지스트막을 노광 및 현상하여 상기 제1 및 제3 컬러필터(51,53) 상에 제1 시드패턴(161)을 형성한다. 상기 제1 시드패턴(161) 형성시 사용되는 마스크는 사각의 마스크일 수 있다. 한편, 상기 제1 시드패턴(161)은 상기 상기 제2 시드패턴(162)을 형성할 때 사용했던 마스크와 동일한 마스크를 사용하여 형성될 수도 있다.
한편, 상기 제2 마이크로렌즈(182) 상부 표면에는 코팅패턴(192)이 형성되어 있으므로 상기 제1 시드패턴(161) 형성을 위한 노광 및 현상공정시 상기 제2 마이크로렌즈(182)가 변형되는 것을 방지할 수 있다.
도 9를 참조하여, 상기 제1 및 제3 컬러필터(51,53) 상에 제1 마이크로렌즈(181)가 형성된다. 상기 제1 마이크로렌즈(181)는 상기 제1 시드패턴(161)에 대한 리플로우 공정을 실시하여 형성될 수 있다. 따라서, 상기 제1 시드패턴(161)에 대한 리플로우 공정을 진행하면 상부 표면이 볼록한 구면을 가지는 제1 마이크로렌즈(181)가 형성될 수 있다. 특히, 상기 제1 시드패턴(161)에 대한 리플로우를 진행할 때 리플로우 되는 물질이 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 측면에는 잘 접착하여 퍼지다가 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 표면인 코팅패턴(192)에 도달하면 더 이상 퍼지지 않고 볼록해지게 된다. 즉, 상기 제1 마이크로렌즈(181)는 상기 제2 마이크로렌즈(182)의 표면에 형성된 코팅패턴(192)의 의하여 상부 표면은 볼록한 구면을 가지게 되고 외각면은 사각 형태를 가지게 될 수 있다.
한편, 실시예에서는 상기 제2 마이크로렌즈(182) 형성 후 제1 마이크로렌즈(181)가 형성되는 것을 예로 하였지만, 상기 제1 마이크로렌즈(181) 형성 후 제2 마이크로렌즈(182)를 형성할 수도 있다.
도 10은 도 9를 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 10의 (a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 마이크로 렌즈는 상부 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태로 형성됨으로써 상기 제1 및 제2 마 이크로 렌즈의 가로, 세로, 및 대각선 길이가 일정하게 형성될 수 있다.
실시예에 따른 이미지 센서의 제조방법에 의하면, 더블렌즈를 제작함에 있어서 렌즈의 상부표면이 구면으로 형성되고 외각의 형태는 사각으로 형성되어 필팩터의 손실없이 집광효율을 높임으로써 감도를 향상시킬 수 있다.
또한, 제2 마이크로렌즈를 형성할 때 원형의 마스크를 사용하여 렌즈패턴을 구면으로 형성한 후 외측면의 형태를 사각으로 형성될 수 있다.
또한, 제2 마이크로렌즈의 표면에 소수성이 있는 코팅패턴을 형성함으로써 후속으로 형성되는 제1 마이크로렌즈의 상부표면은 구면으로 형성되고 외측면은 사각으로 형성될 수 있다.
이상과 같이 실시예 따른 이미지 센서 및 그 제조방법을 예시한 도면을 참조로 하여 설명하였으나, 본 명세서에 개시된 실시예와 도면에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술사항 범위 내에서 당업자에 의해 다양한 변형이 이루어질 수 있음은 물론이다.
도 1 내지 도 9는 실시예에 따른 이미지센서의 제조공정을 나타내는 단면도이다.
도 10은 실시예에 따른 이미지센서를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 11 및 도 12는 종래의 기술에 따른 이미지센서를 개략적으로 나타내는 평면도이다.
Claims (8)
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- 반도체 기판에 복수개의 단위화소를 형성하는 단계;상기 단위화소에 대응하도록 상기 반도체 기판 상에 제1 컬러필터, 제2 컬러필터 및 제3 컬러필터를 포함하는 컬러필터 어레이를 형성하는 단계;상기 제2 컬러필터 상에 그 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태를 가지는 제2 마이크로렌즈를 형성하는 단계;상기 제2 마이크로렌즈의 표면에 코팅패턴을 형성하는 단계; 및상기 제1 및 제3 컬러필터 상에 그 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태를 가지는 제1 마이크로렌즈를 형성하는 단계;를 포함하며,상기 제2 마이크로렌즈 및 코팅패턴을 형성하는 단계는,상기 제2 컬러필터 상에 렌즈용 물질을 도포하고 패터닝하여 제2 시드패턴을 형성하는 단계;상기 제2 시드패턴에 대한 리플로우 공정을 진행하여 상기 제2 컬러필터의 너비보다 넓고 반구형태로 형성된 제2 렌즈패턴을 형성하는 단계;상기 제2 렌즈패턴을 포함하는 컬러필터 어레이 상에 코팅층을 형성하는 단계;상기 제2 컬러필터의 형태 및 위치에 대응하도록 상기 코팅층 상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계;상기 포토레지스트 패턴을 식각마스크로 사용하여 상기 제2 컬러필터 상부를 제외한 나머지 영역의 코팅층 및 제2 렌즈패턴을 제거하는 단계;를 포함하는 이미지센서의 제조방법.
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- 반도체 기판에 복수개의 단위화소를 형성하는 단계;상기 단위화소에 대응하도록 상기 반도체 기판 상에 제1 컬러필터, 제2 컬러필터 및 제3 컬러필터를 포함하는 컬러필터 어레이를 형성하는 단계;상기 제2 컬러필터 상에 그 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태를 가지는 제2 마이크로렌즈를 형성하는 단계;상기 제2 마이크로렌즈의 표면에 코팅패턴을 형성하는 단계; 및상기 제1 및 제3 컬러필터 상에 그 표면은 구면으로 형성되고 외각은 사각의 형태를 가지는 제1 마이크로렌즈를 형성하는 단계;를 포함하며,상기 제1 마이크로렌즈를 형성하는 단계는,상기 제1 및 제3 컬러필터 상에 제1 시드패턴을 형성하는 단계;상기 제1 시드패턴에 대한 리플로우 공정을 진행하는 단계를 포함하고,상기 제1 시드패턴이 리플로우 될 때 상기 코팅패턴에 의하여 상기 제1 마이크로렌즈의 상부 표면이 구면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 이미지센서의 제조방법.
- 제4항에 있어서,상기 코팅패턴은 소수성 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 이미지센서의 제조방법.
- 제4항에 있어서,상기 제2 시드패턴을 형성할 때 원형 마스크가 사용되는 것을 특징으로 하는 이미지센서의 제조방법.
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