KR101011523B1 - Gas flow-temperature-humidity control system - Google Patents

Gas flow-temperature-humidity control system Download PDF

Info

Publication number
KR101011523B1
KR101011523B1 KR1020080113862A KR20080113862A KR101011523B1 KR 101011523 B1 KR101011523 B1 KR 101011523B1 KR 1020080113862 A KR1020080113862 A KR 1020080113862A KR 20080113862 A KR20080113862 A KR 20080113862A KR 101011523 B1 KR101011523 B1 KR 101011523B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas
temperature
supply line
flow rate
dilution
Prior art date
Application number
KR1020080113862A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100054986A (en
Inventor
오상협
허귀석
우진춘
김병문
김용두
배현길
Original Assignee
한국표준과학연구원
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한국표준과학연구원 filed Critical 한국표준과학연구원
Priority to KR1020080113862A priority Critical patent/KR101011523B1/en
Publication of KR20100054986A publication Critical patent/KR20100054986A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101011523B1 publication Critical patent/KR101011523B1/en

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/02—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment
    • F17C13/026—Special adaptations of indicating, measuring, or monitoring equipment having the temperature as the parameter
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C13/00—Details of vessels or of the filling or discharging of vessels
    • F17C13/04—Arrangement or mounting of valves
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M3/00—Investigating fluid-tightness of structures
    • G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
    • G01M3/04—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/04—Indicating or measuring of parameters as input values
    • F17C2250/0404—Parameters indicated or measured
    • F17C2250/0439—Temperature
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
    • F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
    • F17C2250/00—Accessories; Control means; Indicating, measuring or monitoring of parameters
    • F17C2250/04—Indicating or measuring of parameters as input values
    • F17C2250/0404—Parameters indicated or measured
    • F17C2250/0447—Composition; Humidity
    • F17C2250/046—Humidity

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

본 발명은 가스의 유량, 온도 및 습도 조절장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가스검출기의 성능 평가를 위한 시료가스를 가열기와 가습기를 통해 정해진 온도와 습도로 조절하여 만들 수 있는 가스의 유량-온도-습도 조절장치에 관한 것이다.

본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치는, 성분가스가 공급되는 성분가스 공급라인; 희석가스가 공급되는 희석가스 공급라인; 상기 성분가스 공급라인 상에 설치되어 성분가스의 유량을 조절하는 제 1 유량조절기(MFC 1); 상기 희석가스 공급라인 상에 설치되어 희석가스의 유량을 조절하는 제 2 유량조절기(MFC 2); 상기 희석가스 공급라인 상의 상기 제 2 유량조절기 후단에 설치되어 희석가스를 가열하는 가열기(Heating oven); 상기 가열기의 후방에 설치되고, 가열된 희석가스를 공급받아, 포화된 희석가스가 되도록 가습하는 가습부(Humidifier part); 상기 성분가스 공급라인의 끝단과 상기 가습부의 후방이 만나는 지점의 후단에 설치되어 혼합가스에 포함된 물방울을 제거하는 수분제거기; 및 상기 제 1, 2 유량조절기, 상기 가열기 및 상기 가습부의 작동을 제어하는 제어부; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.

상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 시료가스를 제작함에 있어서, 수동적인 조작이 없이 자동 제어에 의해 유량, 온도 및 습도까지, 조절이 가능하기 때문에 가스검출기 평가시, 보다 유연하고, 정확하게 측정할 수 있는 효과가 있다.

Figure R1020080113862

가스, 온도, 습도, 검출기, 조절장치

The present invention relates to a gas flow rate, temperature and humidity control device, and more specifically, the flow rate-temperature of the gas that can be made by adjusting the sample gas for the performance evaluation of the gas detector to a predetermined temperature and humidity through a heater and a humidifier It relates to a humidity control device.

Gas flow rate-temperature-humidity control device of the present invention, the component gas supply line to which the component gas is supplied; A dilution gas supply line through which a dilution gas is supplied; A first flow controller (MFC 1) installed on the component gas supply line to control the flow rate of the component gas; A second flow controller (MFC 2) installed on the dilution gas supply line to control a flow rate of the dilution gas; A heater installed at a rear end of the second flow controller on the dilution gas supply line to heat the dilution gas; A humidifier part installed at the rear of the heater and receiving a heated dilution gas to humidify the saturated diluent gas; A water remover installed at a rear end of a point where the end of the component gas supply line and the rear of the humidifying part meet to remove water droplets contained in the mixed gas; And a control unit for controlling operations of the first and second flow regulators, the heater, and the humidifying unit. Characterized in that it comprises a.

Gas flow rate-temperature-humidity control device of the present invention by the above configuration can be adjusted to the flow rate, temperature and humidity by automatic control without manual operation in the production of the sample gas, gas detector evaluation At the same time, the effect is more flexible and accurate.

Figure R1020080113862

Gas, temperature, humidity, detector, regulator

Description

가스의 유량-온도-습도 조절장치 {Gas flow-temperature-humidity control system}Gas flow-temperature-humidity control system

본 발명은 가스의 유량-온도-습도 조절장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 가스검출기의 성능 평가를 위한 시료가스를 가열기와 가습기를 통해 정해진 온도와 습도로 자동 조절하여 만들 수 있는 가스의 유량-온도-습도 조절장치에 관한 것이다.The present invention relates to a gas flow rate-temperature-humidity control device, and more particularly, to a gas flow rate that can be made by automatically adjusting a sample gas for evaluating the performance of a gas detector to a predetermined temperature and humidity through a heater and a humidifier. It relates to a temperature-humidity control device.

일반적으로 새롭게 제조된 가스검출기나 현장에서 일정시간 사용된 가스검출기에 대해 설계 목적에 따른 고유의 특성을 만족하는지 여부를 알기 위해 특정가스를 불어 넣어주면서 주입된 가스를 감지하는 능력을 관찰하고 교정하게 된다.In general, it is necessary to observe and calibrate the ability to detect the injected gas while blowing a specific gas to know whether the newly manufactured gas detector or the gas detector used in the field for a certain time satisfies the unique characteristics according to the design purpose. do.

이러한 방법으로써 일정 농도의 특정가스 용기를 열고 그때 나오는 가스를 가스검출기에 직접 닿게 하는 방식이 있으나 이러한 방법은 측정하기는 쉬우나 유연하고 정확한 농도관리가 불가능할 뿐만 아니라 유연하고 정확한 농도관리가 불가능할 경우 희박한 농도의 가스를 측정하는 가스검출기의 경우 농도에 따라 특정가 스 용기를 교체하는 등의 문제점이 있었다.In this way, there is a method of opening a specific gas container of a certain concentration and directing the gas coming out directly to the gas detector. However, this method is easy to measure, but it is not only flexible and accurate in concentration control, but also lean concentration in case of inflexible and accurate concentration control. In the case of the gas detector for measuring the gas of the gas, there was a problem such as replacing the specific gas container according to the concentration.

따라서 특정가스의 농도를 희석하기 위해 용기로부터 공급되는 특정가스 및 제로가스의 유입량을 조절하는 밸브를 설치하고 작업자가 직접 희석비율에 따라 그 유입량을 설정하여 조정하였으나 이와 같은 방법은 작업자의 수동적인 조작에 의존하기 때문에 정밀도가 떨어질 뿐만 아니라 유연성이 떨어져 유연하고 정확한 측정을 할 수 없는 문제점이 있었다.Therefore, in order to dilute the concentration of specific gas, a valve is installed to control the inflow of specific gas and zero gas supplied from the container, and the operator sets and adjusts the inflow according to the dilution ratio. Because of the dependence on the precision, as well as the lack of flexibility there was a problem that can not be flexible and accurate measurement.

본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치는, 성분가스가 공급되는 성분가스 공급라인; 희석가스가 공급되는 희석가스 공급라인; 상기 성분가스 공급라인 상에 설치되어 성분가스의 유량을 조절하는 제 1 유량조절기(MFC 1); 상기 희석가스 공급라인 상에 설치되어 희석가스의 유량을 조절하는 제 2 유량조절기(MFC 2); 상기 희석가스 공급라인 상의 상기 제 2 유량조절기 후단에 설치되어 희석가스를 가열하는 가열기(Heating oven); 상기 가열기의 후방에 설치되고, 가열된 희석가스를 공급받아, 포화된 희석가스가 되도록 가습하는 가습부(Humidifier part); 상기 성분가스 공급라인의 끝단과 상기 가습부의 후방이 만나는 지점의 후단에 설치되어 혼합가스에 포함된 물방울을 제거하는 수분제거기; 및 상기 제 1, 2 유량조절기, 상기 가열기 및 상기 가습부의 작동을 제어하는 제어부; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.Gas flow rate-temperature-humidity control device of the present invention, the component gas supply line to which the component gas is supplied; A dilution gas supply line through which a dilution gas is supplied; A first flow controller (MFC 1) installed on the component gas supply line to control the flow rate of the component gas; A second flow controller (MFC 2) installed on the dilution gas supply line to control a flow rate of the dilution gas; A heater installed at a rear end of the second flow controller on the dilution gas supply line to heat the dilution gas; A humidifier part installed at the rear of the heater and receiving a heated dilution gas to humidify the saturated diluent gas; A water remover installed at a rear end of a point where the end of the component gas supply line and the rear of the humidifying part meet to remove water droplets contained in the mixed gas; And a control unit for controlling operations of the first and second flow regulators, the heater, and the humidifying unit. Characterized in that it comprises a.

또한, 상기 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 상기 가열기 후방에 설치되어 상기 가열기에 의해 가열된 희석가스를 공급하는 제 1 솔레노이드 밸브; 및 상기 제 1 솔레노이드 밸브의 후방에 설치되고, 상기 성분가스 공급라인과 연결되어 개폐에 의해, 가열된 희석가스를 성분가스 공급라인으로 공급하도록 하는 합류라인; 을 포함하고, 상기 제 1 솔레노이드 밸브의 개폐는 상기 제어부에 의해 제어되는 것을 특징으로 한다.In addition, the flow rate-temperature-humidity control device of the gas is installed behind the heater to supply a dilution gas heated by the heater; And a confluence line installed at the rear of the first solenoid valve and connected to the constituent gas supply line to open and close the dilution gas to the constituent gas supply line. Includes, characterized in that the opening and closing of the first solenoid valve is controlled by the controller.

또한, 상기 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 상기 성분가스 공급라인의 끝단과 상기 가습부의 후방이 만나는 지점에 설치되고, 상기 성분가스 공급라인을 통해 공급된 성분가스와 상기 합류라인으로부터 공급된 희석가스 또는, 상기 가습부에 의해 습도가 조절된 희석가스를 혼합되도록 하여 혼합가스를 공급하는 제 2 솔레노이드 밸브; 를 포함하고, 상기 제 2 솔레노이드 밸브의 개폐는 상기 제어부에 의해 제어되는 것을 특징으로 한다.In addition, the flow rate-temperature-humidity control device of the gas is installed at the point where the end of the component gas supply line and the rear of the humidifying unit, the component gas supplied through the component gas supply line and supplied from the confluence line A second solenoid valve for supplying a mixed gas by mixing the diluted gas or the diluted gas whose humidity is controlled by the humidifying unit; Includes, characterized in that the opening and closing of the second solenoid valve is controlled by the controller.

또한, 상기 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 상기 수분제거기에 장착되며, 공급된 혼합가스의 온도와 습도를 체크하기 위한 온도습도센서; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the flow rate-temperature-humidity control device of the gas is mounted to the moisture remover, the temperature and humidity sensor for checking the temperature and humidity of the supplied mixed gas; Characterized in that it comprises a.

또한, 상기 가습부는 수분으로 인해 희석 가스의 온도가 떨어지는 것을 방지하기 위한 온도유지히터; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the humidifying unit temperature maintenance heater for preventing the temperature of the dilution gas falls due to moisture; Characterized in that it comprises a.

또한, 상기 가습부는 상기 희석가스 공급라인 상에 직렬로 이웃하여 추가될 수 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the humidifying unit is characterized in that it can be added in series adjacent to the diluent gas supply line.

또한, 상기 가열기는 공급된 희석가스가 지나는 경로를 작은 나선과 큰 나선을 포함하는 2개의 병렬 나선 구조로 형성하여, 희석가스를 90∼110℃까지 가열할 수 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the heater is characterized in that the path through which the supplied dilution gas passes in the form of two parallel spiral structure including a small spiral and a large spiral, it is possible to heat the dilution gas to 90 ~ 110 ℃.

상기와 같은 구성에 의한 본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 시료가스를 제작함에 있어서, 수동적인 조작이 없이 자동 제어에 의해 유량, 온도 및 습도까지, 조절이 가능하기 때문에 가스검출기 평가시, 보다 유연하고, 정확하게 측정할 수 있는 효과가 있다.Gas flow rate-temperature-humidity control device of the present invention by the above configuration can be adjusted to the flow rate, temperature and humidity by automatic control without manual operation in the production of the sample gas, gas detector evaluation At the same time, the effect is more flexible and accurate.

이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일실시예에 대하여 상세히 설명한다. 도 1은 본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치를 나타낸 블록구성도이다. 도 2a는 본 발명의 가열기내의 희석가스 순환 경로를 나타낸 사시도이고, 도 2b는 본 발명의 가열기내의 희석가스 순환경로를 나타낸 단면사시도이다. 도 3 은 본 발명의 가습부의 추가 연결 구조를 나타낸 블록구성도이다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 is a block diagram showing a flow rate-temperature-humidity control device of the gas of the present invention. Figure 2a is a perspective view showing a dilution gas circulation path in the heater of the present invention, Figure 2b is a cross-sectional perspective view showing a dilution gas circulation path in the heater of the present invention. 3 is a block diagram showing an additional connection structure of the humidifying unit of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 성분가스 공급라인(100)과 희석가스 공급라인(200)을 구비한다. 성분가스 공급라인(100)에는 가스검출기의 성능 평가에 필요한 성분가스가 공급되고, 희석가스 공급라인(200)에는 성분가스와 혼합하기 위한 희석가스가 공급된다. Referring to FIG. 1, the gas flow rate-temperature-humidity control apparatus of the present invention includes a component gas supply line 100 and a dilution gas supply line 200. The component gas supply line 100 is supplied with a component gas necessary for evaluating the performance of the gas detector, and the diluent gas supply line 200 is supplied with a diluting gas for mixing with the component gas.

도 1을 참조하면, 성분가스 공급라인(100)상에는 제 1 유량조절기(110)가 설치된다. 제 1 유량조절기(100)는 성분가스의 유량을 조절하여 성분가스 공급라인(100)을 통해 후방으로 공급한다. 이는 가스검출기가 평가시 요구하는 유량을 조절하기 위함이다.Referring to FIG. 1, a first flow controller 110 is installed on the component gas supply line 100. The first flow controller 100 adjusts the flow rate of the component gas and supplies it to the rear through the component gas supply line 100. This is to adjust the flow rate required by the gas detector for evaluation.

도 1을 참조하면, 희석가스 공급라인(200)상에는 제 2 유량조절기(210)가 설치된다. 제 2 유량조절기(210)는 희석가스의 유량을 조절하여 희석가스 공급라인(200)을 통해 후방으로 공급한다. 이는 성분가스와의 혼합비를 조절하기 위함이다.Referring to FIG. 1, a second flow controller 210 is installed on the dilution gas supply line 200. The second flow controller 210 controls the flow rate of the dilution gas and supplies it to the rear through the dilution gas supply line 200. This is to adjust the mixing ratio with the component gas.

도 1 참조하면, 제 2 유량조절기(210) 후단에는 가열기(300)가 설치된다. 가열기(300)는 제 2 유량조절기(210)에서 공급되는 희석가스를 가열시켜 희석가스의 온도를 높인다. 가열기(300)는 금속관에 전열선을 코일(Coil) 모양으로 내장하여, 열전도율이 좋고 절연성인 산화마그네슘(Mgo)과 함께 충전 압축한 외장히터(Sheath Heater)방식이 사용될 수 있다. 외장히터방식은 열효율이 양호하며 경제적이며, 온도 조절 및 설치가 용이하고, 열 분포 조절이 용이하고 모양을 마음대로 제작할 수 있는 장점이 있다. 가열기(300)의 금속관 재질로는 철(Fe), 스테인리스스틸(SuS), 동(Cu)등이 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, a heater 300 is installed at a rear end of the second flow controller 210. The heater 300 heats the dilution gas supplied from the second flow controller 210 to increase the temperature of the dilution gas. The heater 300 may include a heating heater embedded in a metal tube in a coil shape, and may use a heat heater method that is compressed and compressed with magnesium oxide (Mgo) having good thermal conductivity and insulation. External heater method has the advantages of good thermal efficiency and economical, easy temperature control and installation, easy heat distribution control, and the shape can be made at will. Iron (Fe), stainless steel (SuS), copper (Cu) and the like may be used as the metal tube material of the heater 300.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 가열기(300)내 희석가스가 지나는 금속관은 지름이 큰 나선부로 이루어진 외부금속관(310)과 상기 외부금속관(310)의 내측으로 지름이 작은 내부금속관(320)이 역시 나선 부를 이루며 삽입되어 있는 구조를 갖는다. 상기 외부금속관(310)과 내부금속관(320)은 하나의 금속관으로 이루어져 연통 되며, 희석가스가 가열기 내를 지날 때 상기 내부금속관(320)과 외부금속관(310)을 차례로 경유하도록 하여 이동경로를 길게 함으로써 희석가스가 금속관 내부에 오래 머물도록 함으로써 희석가스가 가열되는 시간을 충분히 확보할 수 있는 장점을 갖는다.2A and 2B, the metal tube through which the dilution gas passes in the heater 300 includes an outer metal tube 310 having a large diameter spiral portion and an inner metal tube 320 having a smaller diameter inside the outer metal tube 310. It also has a structure that is inserted into a spiral part. The outer metal tube 310 and the inner metal tube 320 is made of one metal tube is in communication with each other, when the dilution gas passes through the heater to pass through the inner metal tube 320 and the outer metal tube 310 in order to lengthen the movement path As a result, the dilution gas stays inside the metal tube for a long time, thereby ensuring sufficient time for the dilution gas to be heated.

도 2a 및 도 2b를 참조하면, 금속관의 지름은 1/9~1/7"일 수 있다. 외부금속관(310) 나선의 외경은 30~40mm, 내부금속관(320) 나선의 외경은 10~20mm일 수 있다. 길이는 200mm내외로 제작할 수 있다. 본 발명자들의 실험에 의하면 이 경우 단일 금속관에 비하여 희석가스의 온도를 최대 90∼110℃까지 가열이 가능하였다.2A and 2B, the diameter of the metal tube may be 1/9 to 1/7 ". The outer diameter of the outer metal tube 310 spiral is 30-40 mm, and the outer diameter of the inner metal tube 320 spiral 10-20 mm. The length may be about 200 mm, and the experiments of the present inventors have shown that the temperature of the dilution gas may be heated up to 90 to 110 ° C. as compared to a single metal tube.

도 1을 참조하면, 가열기의 후방에 제 1 솔레노이드 밸브(400)가 설치된다. 제 1 솔레노이드 밸브(400)는 가열기(300)에 의해 가열된 희석가스를 가습과정이 필요 없을 경우 성분 가스에 바로 공급하거나, 가습과정이 필요할 경우 가습부(500)로 보내는 역할을 한다.Referring to FIG. 1, the first solenoid valve 400 is installed at the rear of the heater. The first solenoid valve 400 serves to supply the dilution gas heated by the heater 300 directly to the component gas when the humidification process is not required, or to send the humidification unit 500 when the humidification process is required.

도 1을 참조하면, 합류라인(410)이 제 1 솔레노이드 밸브(400) 후단에 형성된다. 합류라인(410)은 성분가스 공급라인(200)과 연결되고, 제 1 솔레노이드 밸브(400)의 개폐에 의해, 가열된 희석가스를 성분가스 공급라인(200)으로 공급한다. 이는 가열된 희석가스를 가습부(500)를 거치지 않고 가습부(500) 후단으로 보내기 위함이다.Referring to FIG. 1, a confluence line 410 is formed at a rear end of the first solenoid valve 400. The confluence line 410 is connected to the component gas supply line 200, and supplies the heated dilution gas to the component gas supply line 200 by opening and closing the first solenoid valve 400. This is to send the heated dilution gas to the rear end of the humidifier 500 without passing through the humidifier 500.

도 1을 참조하면, 가습부(500)는 제 1 솔레노이드 밸브(400) 후방에 설치된다. 가습부(500)는 제 1 솔레노이드 밸브(400)의 개폐에 의해, 가열된 희석가스를 공급받아 밀폐된 용기에 물 분자를 포함한 액체를 담아두고, 희석가스를 액체에 통과시킴으로써 희석가스에 수분이 포함 되도록 한다.Referring to FIG. 1, the humidifier 500 is installed behind the first solenoid valve 400. The humidifier 500 receives the heated dilution gas by opening and closing the first solenoid valve 400 to store the liquid containing the water molecules in a sealed container, and passes the dilution gas through the liquid, To be included.

도 1을 참조하면 가습부(500)에는 온도유지히터(510)가 장착된다. 온도유지히터(510)는 가습시 수분으로 인해 공급된 희석가스의 온도가 떨어지는 것을 방지하기 위함이다. 온도유지히터(510)는 열선을 가습부(500)의 밀폐용기 내로 통과시키는 직접가열 방식과, 열선을 밀폐용기 둘레에 감아서 가열시키는 간접가열 방식이 사용될 수 있다.Referring to FIG. 1, the humidifier 500 is equipped with a temperature maintaining heater 510. The temperature maintaining heater 510 is to prevent the temperature of the supplied dilution gas from dropping due to moisture during humidification. The temperature maintaining heater 510 may be a direct heating method for passing the heating wire into the sealed container of the humidifier 500 and an indirect heating method for winding the heating wire around the sealed container and heating it.

도 3을 참조하면, 가습부(500)는 충분한 가습을 위해 제 2 가습부(502)가 추가될 수 있다. 제 2 가습부(502)는 제 2 온도유지히터(512)를 포함하며, 제 1 온도유지히터(511)를 포함하는 제 1 가습부(501)와 이웃하여 직렬로 연결된다.Referring to FIG. 3, the humidifier 500 may include a second humidifier 502 for sufficient humidification. The second humidifying unit 502 includes a second temperature holding heater 512 and is connected in series with a first humidifying unit 501 including the first temperature holding heater 511.

도 1을 참조하면, 제 2 솔레노이드 밸브(600)는 성분가스 공급라인(200)의 끝단과 상기 가습부(500)의 후방이 만나는 지점에 설치된다. 제 2 솔레노이드 밸브(600)는 성분가스 공급라인(200)을 통해 공급된 성분가스와 합류라인(410)으로부터 공급된 가습과정을 거치지 않은 희석가스를 혼합되도록 하여 혼합가스를 후방으로 공급하거나, 성분가스 공급라인(200)을 통해 공급된 성분가스와 가습부(500)에 의해 습도가 조절된 희석가스가 혼합되도록 하여 혼합가스를 후방으로 공급한다.Referring to FIG. 1, the second solenoid valve 600 is installed at a point where the end of the component gas supply line 200 meets the rear of the humidifying part 500. The second solenoid valve 600 is to mix the component gas supplied through the component gas supply line 200 and the dilution gas that is not subjected to the humidification process supplied from the confluence line 410 to supply the mixed gas to the rear, or the component The component gas supplied through the gas supply line 200 and the dilution gas whose humidity is controlled by the humidifier 500 are mixed to supply the mixed gas to the rear.

도 1을 참조하면, 수분제거기(700)는 제 2 솔레노이드 밸브(600)의 후방에 설치된다. 수분제거기(700)는 물방울이 포함된 혼합가스를 물방울제거 필터에 통과시킴으로써, 물방울을 제거하는 방법을 사용할 수 있다. 이는 가스검출기 작동시 물방울에 의한 오작동을 방지하기 위함이다.Referring to FIG. 1, the moisture remover 700 is installed at the rear of the second solenoid valve 600. The water remover 700 may use a method of removing water droplets by passing a mixed gas containing water droplets through a water droplet removing filter. This is to prevent malfunction due to water droplets during the operation of the gas detector.

도 1을 참조하면, 본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치는 제어부(800)를 구비한다. 제어부(800)는 제 1, 2 유량조절기(110, 210)의 작동을 제어하여 성분가스와 희석가스의 혼합비를 조절한다. 제어부(800)는 가열기(300)의 작동을 제어하여 희석가스의 온도를 조절한다. 제어부(800)는 가습부(500)의 작동을 제어하여 희석가스의 습도를 조절한다. 제어부(800) 제 1, 2 솔레노이드 밸브(400, 600)의 개폐를 제어하여 희석가스의 가습과정을 삭제 또는 추가 할 수 있다.Referring to FIG. 1, the gas flow rate-temperature-humidity control apparatus of the present invention includes a controller 800. The controller 800 controls the operation of the first and second flow controllers 110 and 210 to adjust the mixing ratio of the component gas and the dilution gas. The controller 800 controls the operation of the heater 300 to adjust the temperature of the dilution gas. The controller 800 controls the operation of the humidifier 500 to adjust the humidity of the dilution gas. The controller 800 may control the opening and closing of the first and second solenoid valves 400 and 600 to delete or add a humidification process of the diluted gas.

도 1을 참조하면 본 발명은 온도습도센서(710)가 더 포함된다. 온도습도센서(710)는 수분제거기(700)에 장착되며, 공급된 혼합가스의 온도와 습도를 체크하기 위함이다.Referring to FIG. 1, the present invention further includes a temperature humidity sensor 710. The temperature humidity sensor 710 is mounted on the moisture remover 700 and is for checking the temperature and humidity of the supplied mixed gas.

이와 같은 구성에 의한 본 발명의 작동을 첨부된 도면에 의해 보다 상세히 설명한다.Operation of the present invention by such a configuration will be described in more detail by the accompanying drawings.

먼저, 본 발명에 의한 가스의 유량-온도-습도 조절장치의 출력단에는 시험용 가스검출기가 연결되며 성분가스 및 희석가스의 용기가 성분가스 공급라인(100)과 희석가스 공급라인(200)에 각각 연결된다.First, the test gas detector is connected to the output terminal of the gas flow rate-temperature-humidity control apparatus according to the present invention, and the container of the component gas and the dilution gas is connected to the component gas supply line 100 and the dilution gas supply line 200, respectively. do.

이후 작업자가 희석비율 및 측정에 필요한 온도, 습도 등 측정을 위한 각종 정보를 입력하게 된다. After that, the operator inputs various information for measuring the dilution ratio and the temperature and humidity necessary for the measurement.

예를 들어 희석비율, 성분가스의 농도, 온도 및 습도 등을 입력하게 된다.For example, the dilution ratio, concentration of the component gas, temperature and humidity are input.

그러면, 제어부(800)에서 입력된 값에 따라 제 1, 2 유량조절기(110, 210)의 작동, 가열기(300)의 작동, 가습부(500)의 작동 및 제 1, 2 솔레노이드 밸브(400, 600)의 개폐를 제어하게 된다.Then, the operation of the first and second flow regulators 110 and 210, the operation of the heater 300, the operation of the humidifier 500 and the first and second solenoid valves 400, 600 is controlled to open and close.

제 1 유량조절기(110)와 제 2 유량조절기(120)에 의해 성분가스와 희석가스의 희석비율이 제어된다.The dilution ratio of the component gas and the dilution gas is controlled by the first flow controller 110 and the second flow controller 120.

유량이 조절된 희석가스는 가열기(300)에 의해 가열되고, 가열된 희석가스는 제 1 솔레노이드 밸브(400)의 개폐에 의해 가습처리 없이 바로 성분가스와 혼합되어, 제 2 솔레노이드 밸브(600)로 보내지거나, 가습부(500)로 공급되게 된다.The flow rate-controlled dilution gas is heated by the heater 300, and the heated dilution gas is directly mixed with the component gas without humidification by opening and closing the first solenoid valve 400 to the second solenoid valve 600. It is sent or supplied to the humidifier 500.

가습부(500)로 공급된 희석가스는 가습처리를 거쳐 포화되어, 제 2 솔레노이드 밸브(600)로 공급된다.The dilution gas supplied to the humidifier 500 is saturated through a humidification process and is supplied to the second solenoid valve 600.

제 2 솔레노이드 밸브(600)는 성분가스와 가열된 희석가스의 혼합가스 또는 성분가스와 가습 된 희석가스의 혼합가스를 후방으로 공급한다. The second solenoid valve 600 supplies the mixed gas of the component gas and the heated dilution gas or the mixed gas of the component gas and the humidified dilution gas to the rear.

최종적으로 수분제거기(700)를 통해 물방울이 제거된다. 수분제거기에 장착 된 온도습도센서(710)에 의해 온도와 습도가 체크된 혼합가스가 시험용 가스검출기로 이동하게 된다.Finally, the water droplets are removed through the water remover 700. The mixed gas whose temperature and humidity are checked by the temperature humidity sensor 710 mounted to the moisture remover is moved to the test gas detector.

본 실시예는 본 발명의 권리범위를 한정하는 것은 아니고, 단지 예시로 제시된 것이며 당 분야에서 동상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상 내에서 많은 변형이 가능할 것이다. This embodiment is not intended to limit the scope of the present invention, but is presented by way of example only and those skilled in the art will be able to many modifications within the spirit of the present invention.

도 1은 본 발명의 가스의 유량-온도-습도 조절장치를 나타낸 블록구성도이다. 1 is a block diagram showing a flow rate-temperature-humidity control device of the gas of the present invention.

도 2a는 본 발명의 가열기내의 희석가스 순환 경로를 나타낸 사시도이고, 도 2b는 본 발명의 가열기내의 희석가스 순환경로를 나타낸 단면사시도이다.Figure 2a is a perspective view showing a dilution gas circulation path in the heater of the present invention, Figure 2b is a cross-sectional perspective view showing a dilution gas circulation path in the heater of the present invention.

도 3 은 본 발명의 가습부의 추가 연결 구조를 나타낸 블록구성도이다.3 is a block diagram showing an additional connection structure of the humidifying unit of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100 : 성분가스 공급라인 110 : 제 1 유량조절기(MFC 1)100: component gas supply line 110: first flow regulator (MFC 1)

200 : 희석가스 공급라인 210 : 제 2 유량조절기(MFC 2)200: diluent gas supply line 210: second flow controller (MFC 2)

300 : 가열기(Heating oven) 310 : 외부금속관300: heating oven 310: external metal pipe

320 : 내부금속관320: inner metal pipe

400 : 제 1 솔레노이드 밸브 410 : 합류라인400: first solenoid valve 410: confluence line

500 : 가습부(Humidifier Part) 510 : 온도유지히터500: Humidifier Part 510: Temperature holding heater

501 : 제 1 가습부 502 : 제 2 가습부501: First humidifier 502: Second humidifier

511 : 제 1 온도유지히터 512 : 제 2 온도유지히터511: first temperature holding heater 512: second temperature holding heater

600 : 제 2 솔레노이드 밸브600: second solenoid valve

700 : 수분제거기 710 : 온도습도센서700: moisture remover 710: temperature humidity sensor

800 : 제어부800: control unit

Claims (7)

성분가스가 공급되는 성분가스 공급라인(100);A component gas supply line 100 to which component gases are supplied; 희석가스가 공급되는 희석가스 공급라인(200);A dilution gas supply line 200 through which a dilution gas is supplied; 상기 성분가스 공급라인(100) 상에 설치되어 성분가스의 유량을 조절하는 제 1 유량조절기(MFC 1)(110);A first flow controller (MFC 1) 110 installed on the component gas supply line 100 to control the flow rate of the component gas; 상기 희석가스 공급라인(200) 상에 설치되어 희석가스의 유량을 조절하는 제 2 유량조절기(MFC 2)(210);A second flow controller (MFC 2) 210 installed on the dilution gas supply line 200 to adjust a flow rate of the dilution gas; 상기 희석가스 공급라인(200) 상의 상기 제 2 유량조절기(210) 후단에 설치되어 희석가스를 가열하는 가열기(Heating oven)(300);A heater 300 installed at a rear end of the second flow controller 210 on the dilution gas supply line 200 to heat the dilution gas; 상기 가열기(300)의 후방에 설치되고, 가열된 희석가스를 공급받아, 포화된 희석가스가 되도록 가습하는 가습부(Humidifier part)(500);A humidifier part 500 installed at the rear of the heater 300 and receiving a heated dilution gas to humidify the saturated diluent gas; 상기 성분가스 공급라인(100)의 끝단과 상기 가습부(500)의 후방이 만나는 지점의 후단에 설치되어 혼합가스에 포함된 물방울을 제거하는 수분제거기(700); 및A moisture remover 700 installed at a rear end of a point where the end of the component gas supply line 100 and the rear of the humidifier 500 meet to remove water droplets contained in the mixed gas; And 상기 제 1, 2 유량조절기(110, 210), 상기 가열기(300) 및 상기 가습부(500)의 작동을 제어하는 제어부(800);A control unit (800) for controlling the operation of the first and second flow regulators (110, 210), the heater (300) and the humidifier (500); 를 포함하되,Including, 상기 가열기(300)는 공급된 희석가스가 지나는 경로를 작은 나선과 큰 나선을 포함하는 2개의 병렬 나선 구조로 형성하여, 희석가스를 90∼110℃까지 가열할 수 있는 것을 특징으로 하는 가스의 유량-온도-습도 조절장치.The heater 300 is formed by two parallel spiral structures including a small spiral and a large spiral along a path through which the supplied dilution gas passes, and the dilution gas can be heated to 90 to 110 ° C. -Temperature-humidity control. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스의 유량-온도-습도 조절장치는Flow rate-temperature-humidity control device of the gas 상기 가열기(300) 후방에 설치되어 상기 가열기(300)에 의해 가열된 희석가스를 공급하는 제 1 솔레노이드 밸브(400); 및A first solenoid valve 400 installed at the rear of the heater 300 to supply a dilution gas heated by the heater 300; And 상기 제 1 솔레노이드 밸브(400)의 후방에 설치되고, 상기 성분가스 공급라인(200)과 연결되어 개폐에 의해, 가열된 희석가스를 성분가스 공급라인(200)으로 공급하도록 하는 합류라인(410); A confluence line 410 installed at the rear of the first solenoid valve 400 and connected to the component gas supply line 200 to open and close the heated dilution gas to the component gas supply line 200. ; 을 포함하고, 상기 제 1 솔레노이드 밸브(400)의 개폐는 상기 제어부(800)에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 가스의 유량-온도-습도 조절장치.To include, wherein the opening and closing of the first solenoid valve 400 is controlled by the control unit (800), the flow rate-temperature-humidity control apparatus of the gas. 제 2항에 있어서,3. The method of claim 2, 상기 가스의 유량-온도-습도 조절장치는Flow rate-temperature-humidity control device of the gas 상기 성분가스 공급라인(200)의 끝단과 상기 가습부(500)의 후방이 만나는 지점에 설치되고, 상기 성분가스 공급라인(200)을 통해 공급된 성분가스와 상기 합류라인(410)으로부터 공급된 희석가스 또는, 상기 가습부(500)에 의해 습도가 조절된 희석가스를 혼합되도록 하여 혼합가스를 공급하는 제 2 솔레노이드 밸브(600);It is installed at the point where the end of the component gas supply line 200 and the rear of the humidifying unit 500 meets, the component gas supplied through the component gas supply line 200 and supplied from the confluence line 410 A second solenoid valve 600 for supplying a mixed gas by mixing the diluted gas or the diluted gas whose humidity is controlled by the humidifier 500; 를 포함하고, 상기 제 2 솔레노이드 밸브(600)의 개폐는 상기 제어부(800)에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 가스의 유량-온도-습도 조절장치.To include, wherein the opening and closing of the second solenoid valve 600 is controlled by the control unit (800), characterized in that the flow rate-temperature-humidity control device of the gas. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가스의 유량-온도-습도 조절장치는Flow rate-temperature-humidity control device of the gas 상기 수분제거기(700)에 장착되며, 공급된 혼합가스의 온도와 습도를 체크하기 위한 온도습도센서(710);A temperature humidity sensor 710 mounted to the moisture remover 700 to check temperature and humidity of the supplied mixed gas; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스의 유량-온도-습도 조절장치.Flow rate-temperature-humidity control device of a gas, characterized in that it comprises a. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가습부(500)는 수분으로 인해 희석 가스의 온도가 떨어지는 것을 방지하기 위한 온도유지히터(510);The humidifier 500 includes a temperature maintaining heater 510 for preventing the temperature of the dilution gas from falling due to moisture; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스의 유량-온도-습도 조절장치.Flow rate-temperature-humidity control device of a gas, characterized in that it comprises a. 제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 5, 상기 가습부(500)는 상기 희석가스 공급라인(200) 상에 직렬로 이웃하여 추가될 수 있는 것을 특징으로 하는 가스의 유량-온도-습도 조절장치.The humidifier 500 is a flow rate-temperature-humidity control device of the gas, characterized in that it can be added in series adjacent to the dilution gas supply line (200). 삭제delete
KR1020080113862A 2008-11-17 2008-11-17 Gas flow-temperature-humidity control system KR101011523B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080113862A KR101011523B1 (en) 2008-11-17 2008-11-17 Gas flow-temperature-humidity control system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080113862A KR101011523B1 (en) 2008-11-17 2008-11-17 Gas flow-temperature-humidity control system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100054986A KR20100054986A (en) 2010-05-26
KR101011523B1 true KR101011523B1 (en) 2011-01-31

Family

ID=42279528

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080113862A KR101011523B1 (en) 2008-11-17 2008-11-17 Gas flow-temperature-humidity control system

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101011523B1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010000099A (en) * 2000-04-04 2001-01-05 손원열 Control Circuit and its Method for Gas Analyzing System
KR20010020915A (en) * 1999-05-28 2001-03-15 가네꼬 히사시 Method for manufacturing semiconductor device capable of suppressing narrow channel width effect
KR100315312B1 (en) * 2000-04-04 2001-11-26 손원열 Gas Analyzing System and its Function Embodifying Method
KR100830842B1 (en) * 2007-05-31 2008-05-20 한국표준과학연구원 Manufacturing apparatus and method for standard absorbtion tube

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010020915A (en) * 1999-05-28 2001-03-15 가네꼬 히사시 Method for manufacturing semiconductor device capable of suppressing narrow channel width effect
KR20010000099A (en) * 2000-04-04 2001-01-05 손원열 Control Circuit and its Method for Gas Analyzing System
KR100315312B1 (en) * 2000-04-04 2001-11-26 손원열 Gas Analyzing System and its Function Embodifying Method
KR100830842B1 (en) * 2007-05-31 2008-05-20 한국표준과학연구원 Manufacturing apparatus and method for standard absorbtion tube

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100054986A (en) 2010-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102135494B (en) Method for testing ozone resistance and device thereof
CN103415768B (en) Measurement device for total organic carbon
JP6093654B2 (en) Exhaust gas sampling device
EP1462791A2 (en) Active filter temperature control
KR101011523B1 (en) Gas flow-temperature-humidity control system
CN208635565U (en) A kind of heating device for ftir Analysis combination analysis
JP5192350B2 (en) Sensor evaluation system
CN208091780U (en) A kind of smoke sampling feeler lever
CN201605295U (en) High-precision humidifying device for continuous annealing furnace
CN205893331U (en) Experimental high -temperature annealing furnace distributing device that uses
JP2021028570A (en) Exhaust gas diluting device, exhaust gas analysis system, and exhaust gas diluting method
CN106770940A (en) A kind of check device of gas analysis instrument system
CN109850852A (en) Crouse&#39;s air-distribution control system based on sulfur recovery facility
KR101605206B1 (en) Appartus for controlling hot-air temperature in hot stove system
CN111425934A (en) Air treatment device
US10239031B2 (en) Apparatus and method for mixing fluids with degradational properties
JP3372137B2 (en) Simulated flue gas control device
US8020457B2 (en) Apparatus for use in sample monitoring
CN113834854A (en) Air bath flue gas acid dew point temperature monitoring system
CN211741284U (en) Pipeline heating device and sample analyzer
CN211652747U (en) Gaseous pollutant detection device based on section measurement
KR100752364B1 (en) Method and apparatus for generating gas which contains low concentration moisture
CN210375871U (en) Flue gas sampling rod structure of denitration system
CN208596155U (en) One kind being used for NO-NO2The analysis system of transformation rule
CN105486818A (en) Standard gas preheating type online calibration device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee