KR101007584B1 - 클린룸용 에어 샤워 부스 - Google Patents

클린룸용 에어 샤워 부스 Download PDF

Info

Publication number
KR101007584B1
KR101007584B1 KR1020100038852A KR20100038852A KR101007584B1 KR 101007584 B1 KR101007584 B1 KR 101007584B1 KR 1020100038852 A KR1020100038852 A KR 1020100038852A KR 20100038852 A KR20100038852 A KR 20100038852A KR 101007584 B1 KR101007584 B1 KR 101007584B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
air
ceiling
booth
clean room
opening
Prior art date
Application number
KR1020100038852A
Other languages
English (en)
Inventor
최병인
Original Assignee
(주)대원이엔지
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)대원이엔지 filed Critical (주)대원이엔지
Priority to KR1020100038852A priority Critical patent/KR101007584B1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101007584B1 publication Critical patent/KR101007584B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Abstract

본 발명은 클린룸용 에어 샤워 부스에 관한 것으로서, 부스의 측벽에 마련되며, 상하 방향을 따라 길게 형성되는 다수의 측벽 장공에 상기 측벽 장공의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 측벽 에어 나이프; 상기 부스의 천장에 마련되며, 작업자가 이동하는 방향 또는 그에 교차되는 방향을 따라 길게 형성되는 다수의 천장 장공에 상기 천장 장공의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 상기 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 천장 에어 나이프; 및 상기 부스의 바닥에 마련되며, 가압될 때 상기 바닥으로부터 상기 실내를 향해 상승되는 상승 에어를 발생키는 다수의 볼 에어 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 클린룸을 출입하는 작업자의 방진용 피복물에 잔존 가능한 이물질을 효과적으로 제거할 수 있어 이물질에 의해 클린룸 내의 작업 환경이 오염되는 것을 저지시킬 수 있다.

Description

클린룸용 에어 샤워 부스{AIR SHOWER BOOTH FOR CLEAN ROOM}
본 발명은, 클린룸용 에어 샤워 부스에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 클린룸을 출입하는 작업자의 피복에 잔존 가능한 이물질을 효과적으로 제거할 수 있어 이물질에 의해 클린룸 내의 작업 환경이 오염되는 것을 저지시킬 수 있는 클린룸용 에어 샤워 부스에 관한 것이다.
반도체 제조 공정, 평면디스플레이(LCD 등) 제조 공정, 화약 약품 제조 공정, 생물 실험 공정 등이 진행될 때는 먼지 등의 파티클(Particle)에 의한 오염이 큰 저해 요소로 작용한다. 따라서 위의 공정들은 대부분이 규정치의 청정도가 유지되는 클린룸(clean room) 내에서 진행된다.
클린룸을 출입하는 작업자는 방진복, 방진장갑 및 방진화 등 눈을 제외한 모든 부분에 방진용 피복물을 착용하는 것이 일반적이다. 특히, 이러한 방진용 피복물을 착용했다 하더라도 방진용 피복물에 묻어 있을 수 있는 파티클(이하, 이물질이라 함)을 제거하기 위해 작업자는 클린룸용 에어 샤워 부스를 통과하게 된다.
클린룸용 에어 샤워 부스는 작업자를 향해 에어를 분사하여 혹시 모를 이물질을 제거하는 장소로서 보통은 클린룸의 진입로에 설치되며, 클린룸을 보유하고 있는 대다수의 제조사에는 클린룸용 에어 샤워 부스를 사용하고 있다.
도 1은 일반적인 형태의 에어 샤워 부스를 도시한 것으로, 에어샤워실(1)내에는 양측벽(2)(3)과 천정(4)에 복수의 에어샤워(5)가 설치되어 있으며, 방진용 피복물을 착용한 작업자가 에어샤워실(1)내에 들어오게 되면 양측벽(2)(3)과 천정(4)에 설치된 에어샤워(5)의 에어방출구(6)에서 에어가 방출되어 작업자가 착용한 피복물에 묻은 먼지 등의 파티클을 털어내게 되고, 떨어져 나온 파티클은 에어샤워실(1) 하부로 흡입되어 빠져나감으로써 제거되도록 하고 있다.
이와 같이 이러한 종래의 클린룸 에어 샤워 부스의 경우에는 작업자를 향해 에어를 분사하는 분사구가 마치 점 형태로 측벽이나 천장 등에 산재해 있기 때문에 작업자의 방진용 피복물에 잔존 가능한 이물질을 효과적으로 제거하기 어렵다. 다시 말해, 충분한 소독이 이루어지지 않기 때문에 클린룸 내의 작업 환경이 오염될 수 있는 바 이에 대한 적절한 대책이 요구된다.
본 발명의 목적은, 클린룸을 출입하는 작업자의 피복에 잔존 가능한 이물질을 효과적으로 제거할 수 있어 이물질에 의해 클린룸 내의 작업 환경이 오염되는 것을 저지시킬 수 있는 클린룸용 에어 샤워 부스를 제공하는 것이다.
상기 목적은, 부스의 측벽에 마련되며, 상하 방향을 따라 길게 형성되는 다수의 측벽 장공에 상기 측벽 장공의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 측벽 에어 나이프; 상기 부스의 천장에 마련되며, 작업자가 이동하는 방향 또는 그에 교차되는 방향을 따라 길게 형성되는 다수의 천장 장공에 상기 천장 장공의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 상기 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 천장 에어 나이프; 및 상기 부스의 바닥에 마련되며, 가압될 때 상기 바닥으로부터 상기 실내를 향해 상승되는 상승 에어를 발생키는 다수의 볼 에어 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸용 에어 샤워 부스에 의하여 달성된다.
여기서 상기 다수의 측벽 및 천장 에어 나이프 모두는, 내부에 에어가 유입되며, 선단부의 에어 분사 슬릿으로 갈수록 단면 직경이 점진적으로 작아지는 형상을 갖는 덕트 몸체; 및 상기 덕트 몸체에 연결되어 상기 덕트 몸체의 내부로 상기 에어를 공급하는 에어 공급부를 포함한다.
또한 상기 부스의 출입구 상부에 마련되어 수직 하방으로 에어 커튼을 형성시키는 에어 커튼 발생기를 더 포함한다.
또한 상기 다수의 측벽 에어 나이프 또는 상기 다수의 천장 에어 나이프 중 적어도 어느 한 그룹(group)을 요동시키는 요동부를 더 포함한다.
여기서 상기 볼 에어 유닛은, 상기 바닥에 에어층과 연통하도록 설치되어 내부에 개구부를 갖는 하우징; 상기 하우징의 개구부에 배치되어 상기 개구부를 개폐하는 가압볼; 및 상기 하우징의 개구부 내에 마련되되 상기 가압볼이 상기 개구부를 차폐하는 방향으로 탄성바이어스되는 탄성체를 포함한다.
본 발명에 따르면, 클린룸을 출입하는 작업자의 피복에 잔존 가능한 이물질을 효과적으로 제거할 수 있어 이물질에 의해 클린룸 내의 작업 환경이 오염되는 것을 저지시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래의 클린룸용 에어샤워 부스를 나타낸 도면,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린룸용 에어 샤워 부스의 개략적인 사시 구조도,
도 3은 부스의 측벽 평면도,
도 4는 에어 나이프의 사시도,
도 5는 요동부의 구조를 설명하기 위한 도면,
도 6은 볼 에어 유닛의 동작을 도시한 부분 측면도,
도 7은 점착 매트의 사시도,
도 8은 요동부 구조에 대한 변형 실시예를 도시한 도면,
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 클린룸용 에어 샤워 부스의 개략적인 사시 구조도이다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예로서 입구 측에 자동문이 설치된 상태를 도시한다
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 클린룸용 에어 샤워 부스의 개략적인 사시 구조도, 도 3은 부스의 측벽 평면도, 도 4는 에어 나이프의 사시도, 도 5는 요동부의 구조를 설명하기 위한 도면, 도 6은 볼 에어 유닛의 동작을 도시한 부분 측면도, 그리고 도 7은 점착 매트의 사시도이다.
이들 도면에 도시된 바와 같이, 본 실시예의 클린룸용 에어 샤워 부스는 대략 도 2와 같은 형태로 마련될 수 있다. 즉 클린룸에 들어가기 위한 출구(10)와 도시하고 있지는 않지만 출구(10)의 반대편에 입구(미도시)를 구비하는 사각기둥 구조를 가질 수 있으며, 작업자는 입구로 들어가 방진용 피복물에 잔존 가능한 이물질을 제거한 후에 출구(10)를 통해 클린룸에 들어갈 수 있다.
입구 및 출구(10)는 출입도어를 설치하지 않고 에어 커튼으로 형성됨으로써, 본 발명의 에어 샤워 부스로 외부의 공기가 유입되는 것을 차단할 수 있다. 입구 및 출구(10)의 상부 영역에는 수직 하방으로 에어 커튼을 형성시키는 에어 커튼 발생기(12)가 마련된다. 더불어 입구를 통해 진입한 작업자의 방진용 피복물에 잔존 가능한 이물질은 에어 커튼 발생기(12)로부터의 에어 커튼을 형성하는 강한 바람에 의하여 맨 처음 제거되는 효과가 제공된다. 택일적으로, 에어 커튼 발생기(12)에는 이온 발생기(미도시)가 더 결합될 수 있다. 이온 발생기가 더 형성됨으로써 이온, 즉 음이온이 에어 커튼 발생기(12)에서 송풍되는 에어와 혼합 배출된다. 이에 따라 에어 커튼 발생기(12)에서 송풍되는 에어와 혼합 배출되는 음이온은 작업자의 방진용 피복물의 오염물질과 결합하여 양이온을 제거함으로써 정전기 발생을 저지하여 오염물질을 더욱 효과적으로 제거할 수 있게 된다.
본 발명의 에어 샤워 부스는 사각기둥 구조를 가지므로, 대향되는 양 측벽(21)과, 양 측벽(21)의 상부 및 하부를 이루는 천장(22) 및 바닥(23)이 구비되어 있다. 측벽(21)에는 상하 방향을 따라 길게 다수의 측벽 장공(31)이 형성되고, 천장(22)에는 작업자가 이동하는 방향에 교차되는 방향을 따라 길게 다수의 천장 장공(32)이 형성된다. 그리고 측벽 장공(31)의 주변에는 다수의 배기구(33)가 형성된다. 배기구(33) 역시 장공의 형태를 가짐으로써 종래보다 넓어질 수 있고, 이에 따라 이물 제거의 효율을 높이는 데 기여할 수 있다.
그리고 측벽 장공(31)들 각각에는 측벽 장공(31)의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 측벽 에어 나이프(40)가 마련되고, 천장 장공(32)들 각각에는 천장 장공(32)의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 천장 에어 나이프(50)가 마련된다.
측벽 에어 나이프(40)와 천장 에어 나이프(50)는 실질적으로 동일한 구조를 가지므로 이하에서는 도 4 및 도 5를 참조하여 측벽 에어 나이프(40)에 대해서만 설명하도록 한다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 측벽 에어 나이프(40)는 내부에 에어가 유입되며 선단부의 에어 분사 슬릿(42)으로 갈수록 단면 직경이 점진적으로 작아지는 형상을 갖는 덕트 몸체(41)와, 덕트 몸체(41)에 연결되어 덕트 몸체(41)의 내부로 에어를 공급하는 에어 공급부(43)를 구비한다.
본 실시예의 경우, 덕트 몸체(41)는 단면 사다리꼴 형상으로 마련되고 있지만 그 형상에 본 발명의 권리범위가 제한될 필요는 없다. 다만, 도면처럼 사다리꼴 형상으로 마련되면 그 선단부가 뾰족해질 수 있는데, 뾰족한 선단부에 에어 분사 슬릿(42)이 측벽 장공(31)의 길이 방향을 따라 길게 배치될 경우, 좁은 출구인 에어 분사 슬릿(42)을 통해 에어가 분사됨으로써 보다 강한 에어가 단절 없이 분사(배출)되면서 작업자의 전신으로 향하게 됨으로써 이물질 제거 효과, 즉 소독의 효과가 높아지는 이점이 있다.
에어 공급부(43)는 덕트 몸체(41)와 연결되는 다수의 에어 노즐(44)과, 다수의 에어 노즐(44)에 개별적으로 결합되는 다수의 노즐 파이프(45)를 구비한다. 이처럼 하나의 덕트 몸체(41)에 다수의 에어 노즐(44)이 결합되면 단위 시간당 또는 단위 면적당 더 많은 에어를 공급하여 에어 분사 슬릿(42)을 통해 분사되는 에어의 강도 및 분사 거리를 더욱 크게 형성할 수 있어 이물질 제거 효율을 높일 수 있다.
본 실시예에서 노즐 파이프(45)는 주름관일 수 있다. 노즐 파이프(45)가 주름관으로 마련될 경우, 도 5처럼 측벽 에어 나이프(40)를 요동시킬 때 노즐 파이프(45)가 꺾이지 않아 도움이 된다. 하지만, 측벽 에어 나이프(40)의 요동 운동에 별다른 구속이 없다면 노즐 파이프(45)가 반드시 주름관일 필요는 없다.
한편, 도 2처럼 측벽 장공(31)들 각각에 하나씩의 측벽 에어 나이프(40)가 배치되는 경우에 있어 측벽 장공(31)들이 매우 촘촘히 배열되어 있다면 측벽 장공(31)들 내의 측벽 에어 나이프(40)는 요동될 필요 없이 고정된 상태를 유지하면서 에어를 분사시켜도 무방하다. 이는 천장 장공(32) 들에 마련되는 천장 에어 나이프(50)에도 동일하게 적용된다.
하지만, 측벽 장공(31)들이 매우 촘촘히 배열되어 있지 않거나 설사 측벽 장공(31)들이 매우 촘촘히 배열되어 있다 하더라도 측벽 장공(31)들 내의 측벽 에어 나이프(40)가 도 5처럼 좌우로 요동되면서 에어를 분사하게 되면 작업자의 어떠한 부분이라도 에어가 분사될 수 있어 이물질 제거의 효율이 더욱 높아질 수 있다. 이를 위해 요동부(60)가 마련된다.
요동부(60)는 도 5에 도시된 바와 같이, 다수의 측벽 에어 나이프(40)를 일체로 요동 운동시키는 역할을 한다.
이러한 요동부(60)는 다수의 측벽 에어 나이프(40)에 연결되는 다수의 요동축(61)과, 정역 방향으로의 회전동력을 발생시키는 구동모터(62)와, 구동모터(62)에 연결되는 회전축(63)과, 요동축(61)과 회전축(63)이 맞닿는 지점에 배치되어 회전축(63)으로부터의 동력을 요동축(61)으로 전달하는 기어박스(64)를 포함한다. 이때, 기어박스(64)는 랙 기어(64a) 및 피니언 기어(64b)의 조합에 의해 마련될 수 있다.
이에, 구동모터(62)가 일정한 각도 범위 내에서 정역 방향으로의 회전동력을 발생시키면 이에 연동되어 회전축(63)이 정역 방향으로 회전된다. 그러면 회전축(63)에 연결된 피니언 기어(64b)와 요동축(61)에 연결된 랙 기어(64a)의 기어 맞물림에 의해 결과적으로 요동축(61)의 정역 방향 회전을 유도하여 다수의 측벽 에어 나이프(40)가 좌우로 요동되면서 에어를 분사하게 된다. 따라서 작업자의 어떠한 부분이라도 에어가 분사될 수 있어 이물질 제거의 효율이 더욱 높아지게 된다. 이러한 요동부(60)의 구조는 어느 한 측벽(21)에 마련되는 측벽 에어 나이프(40)들에만 국한되는 것은 아니며 천장 에어 나이프(50)들에도 동일하게 적용된다. 이에 대한 변형 실시예는 후술한다.
한편, 본 실시예의 클린룸용 에어 샤워 부스에는 도 2 및 도 6에 도시된 바와 같이, 부스의 바닥(23)에 마련되며, 가압될 때 바닥(23)으로부터 실내를 향해 상승되는 상승 에어를 발생키는 다수의 볼 에어 유닛(70)이 더 마련된다.
볼 에어 유닛(70)은 도 6에 도시된 바와 같이, 바닥(23)에 에어층(71)과 연통하도록 설치되어 내부에 개구부(72a)를 갖는 하우징(72)과, 하우징(72)의 개구부(72a)에 배치되어 개구부(72a)를 개폐하는 가압볼(73)과, 하우징(72) 내에 마련되되 가압볼(73)이 개구부(72a)를 차폐하는 방향으로 탄성바이어스되는 탄성체(74)를 구비한다. 탄성체(74)는 비틀림 코일 압축 스프링일 수 있다.
이때, 개구부(72a)의 직경은 가압볼(73)의 직경보다 좁게 형성된다. 그래야만 가압볼(73)이 개구부(72a)의 바깥으로 빠지지 않는다. 하우징(72)과 바닥(23) 사이에는 패킹(75)이 더 개재되어 상호간 기밀성을 확보할 수 있다.
이에, 도 5의 (a)처럼 가압볼(73)이 개구부(72a)를 차폐하고 있는 상태에서 작업자가 가압볼(73)을 밟으면 도 5의 (b)처럼 탄성체(74)가 수축되면서 가압볼(73)이 하향되고, 이에 따라 가압볼(73)과 개구부(72a) 사이는 개방됨으로써 에어층(71)으로부터의 상승 에어는 가압볼(73)과 개구부(72a) 사이의 공간을 통해 상승되면서 작업자의 신발(방진화) 바닥에 묻은 이물질을 제거하게 된다.
볼 에어 유닛(70)의 전방 바닥(23)에는 점착 매트(80)가 더 마련된다. 볼 에어 유닛(70)과 더불어 점착 매트(80) 역시 반드시 마련되어야 하는 구성은 아니지만 점착 매트(80)가 마련되면 볼 에어 유닛(70)에 의해서도 떨어지지 않는 신발 바닥의 고착 이물질을 제거하는 데 유리하다.
이러한 점착 매트(80)는 도 2 및 도 7에 도시된 바와 같이, 매트 본체(81)와, 소정의 점성을 가지며 매트 본체(81)에 대해 교체 가능하게 배치되는 점착 시트(82)를 구비할 수 있다.
이러한 구조, 즉 매트 본체(81)에 대해 점착 시트(82)가 교체 가능하게 마련되면 수시로 점착 시트(82)를 제거하거 새로운 것으로 대체할 수 있어 이물질 제거의 효율을 높일 수 있을 것이라 기대된다.
이러한 구성에 의해, 작업자가 입구를 통해 부스 내로 들어가면 맨 처음 에어 커튼 발생기(12)로부터의 에어 커튼이 작업자의 방진용 피복물로 향하고, 그 다음에 측벽 에어 나이프(40)와 천장 에어 나이프(50)로부터 분사되는 에어가 작업자의 방진용 피복물로 향한다.
특히, 측벽 에어 나이프(40)와 천장 에어 나이프(50)로부터 분사되는 강한 에어는 요동되면서 또한 단절 없이 분사(배출)되면서 작업자의 전신으로 향하게 됨으로써 이물질 제거 효과, 즉 소독의 효과가 높아진다. 이러한 소독 작업은 작업자가 정지된 상태에서도 진행될 수 있지만 부스 내를 이동하는 중에도 진행된다.
작업자가 이동하다가 가압볼(73)을 밟으면 도 6의 (b)처럼 탄성체(74)가 수축되면서 가압볼(73)이 하향되고, 이에 따라 가압볼(73)과 개구부(72a) 사이는 개방됨으로써 에어층(71)으로부터의 상승 에어는 가압볼(73)과 개구부(72a) 사이의 공간을 통해 상승되면서 작업자의 신발 바닥에 묻은 이물질을 제거하게 된다.
또한 이동을 계속하여 점착 매트(80)를 밟게 되면 볼 에어 유닛(70)에 의해서도 떨어지지 않는 신발 바닥의 고착 이물질을 제거할 수 있다.
이처럼 신발 바닥을 비롯하여 전신의 묻은 이물질이 제거된 후에 작업자는 클린룸으로 향하면 된다.
이와 같이, 본 실시예에 따르면, 클린룸을 출입하는 작업자의 방진용 피복물에 잔존 가능한 이물질을 효과적으로 제거할 수 있어 이물질에 의해 클린룸 내의 작업 환경이 오염되는 것을 저지시킬 수 있게 된다.
도 8은 요동부 구조에 대한 변형 실시예를 도시한 도면이다.
만약, 전술한 실시예에 더하여 좌우 양측의 측벽 에어 나이프(40,40a) 모두를 전술한 하나의 구동모터(62)에 의해 한번에 요동시키고자 한다면, 측벽 에어 나이프(40,40a) 쪽의 요동축(61,61a)과 회전축(63,63a)은 모두 전술한 기어박스(64)로 연결시키고, 회전축(63,63a)들을 연장시켜 베벨기어(67a,67b)에 의해 전달축(66)을 연결함으로써 간단하게 구현될 수 있다. 이러한 구조는 천장 에어 나이프(50)에도 동일하게 적용될 수 있을 것이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 클린룸용 에어 샤워 부스의 개략적인 사시 구조도이다.
도 9의 실시예의 경우, 천장(22)에 마련되는 다수의 천장 장공(32a)과 천장 에어 나이프(50a)는 작업자가 이동하는 방향을 따라 마련되는데 이러한 형태가 되더라도 본 발명의 효과를 제공하는 데에는 아무런 문제가 없다.
도 10은 본 발명의 또 다른 실시예를 도시한 것으로 입구 또는 출구(10)에 자동문(11)이 설치된 상태를 나타낸다. 도시된 바와 같이 입구 및 출구(10), 또는 입구나 출구에는 자동문(11)이 더 설치될 수 있다. 따라서 에어 커튼 발생기(12)는 자동문(11)이 열리는 경우 작동되도록 구성될 수 있다. 이는 에어 커튼 발생기(12)가 항상 가동되지 않고 자동문(11)의 열림 여부에 따라 작동되도록 함으로써 전력 낭비를 줄일 수 있도록 하기 위한 것이다.
이와 같이 본 발명은 기재된 실시예에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고 다양하게 수정 및 변형할 수 있음은 이 기술의 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 자명하다. 따라서 그러한 수정예 또는 변형예들은 본 발명의 특허청구범위에 속한다 하여야 할 것이다.
10 : 출구 12 : 에어 커튼 발생기
21 : 측벽 22 : 천장
23 : 바닥 31 : 측벽 장공
32 : 천장 장공 40 : 측벽 에어 나이프
41 : 덕트 몸체 42 : 에어 분사 슬릿
43 : 에어 공급부 44 : 에어 노즐
45 : 노즐 파이프 50 : 천장 에어 나이프
60 : 요동부 70 : 볼 에어 유닛
71 : 에어층 72 : 하우징
73 : 가압볼 74 : 탄성체
80 : 점착 매트 81 : 매트 본체
82 : 점착 시트

Claims (5)

  1. 부스의 측벽에 마련되며, 상하 방향을 따라 길게 형성되는 다수의 측벽 장공에 상기 측벽 장공의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 측벽 에어 나이프;
    상기 부스의 천장에 마련되며, 작업자가 이동하는 방향 또는 그에 교차되는 방향을 따라 길게 형성되는 다수의 천장 장공에 상기 천장 장공의 길이 방향을 따라 길게 배치되어 상기 실내를 향해 에어를 분사하는 다수의 천장 에어 나이프; 및
    상기 부스의 바닥에 마련되며, 가압될 때 상기 바닥으로부터 상기 실내를 향해 상승되는 상승 에어를 발생키는 다수의 볼 에어 유닛을 더 포함하며,
    상기 다수의 측벽 및 천장 에어 나이프 모두는,
    내부에 에어가 유입되며, 선단부의 에어 분사 슬릿으로 갈수록 단면 직경이 점진적으로 작아지는 형상을 갖는 덕트 몸체; 및
    상기 덕트 몸체에 연결되어 상기 덕트 몸체의 내부로 상기 에어를 공급하는 에어 공급부를 포함하며,
    상기 에어공급부는,
    상기 덕트 몸체에 연결되는 다수의 에어 노즐; 및
    상기 다수의 에어 노즐에 개별적으로 결합되는 다수의 노즐 파이프를 구비하며,
    상기 볼 에어 유닛은,
    상기 바닥에 에어층과 연통하도록 설치되어 내부에 개구부를 갖는 하우징;
    상기 하우징의 개구부에 배치되어 상기 개구부를 개폐하는 가압볼; 및
    상기 하우징의 개구부 내에 마련되되 상기 가압볼이 상기 개구부를 차폐하는 방향으로 탄성바이어스되는 탄성체를 포함하여, 상기 가압볼이 가압될 때 상기 탄성체가 수축되면서 상기 개구부가 개방되어 상기 에어층으로부터의 상기 상승 에어가 실내로 분출되는 것을 특징으로 하는 클린룸용 에어 샤워 부스.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 부스의 출입구 상부에 마련되어 수직 하방으로 에어 커튼을 형성시키는 에어 커튼 발생기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸용 에어 샤워 부스.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 다수의 측벽 에어 나이프 또는 상기 다수의 천장 에어 나이프 중 적어도 어느 한 그룹(group)을 요동시키는 요동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 클린룸용 에어 샤워 부스.
  5. 삭제
KR1020100038852A 2010-04-27 2010-04-27 클린룸용 에어 샤워 부스 KR101007584B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100038852A KR101007584B1 (ko) 2010-04-27 2010-04-27 클린룸용 에어 샤워 부스

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100038852A KR101007584B1 (ko) 2010-04-27 2010-04-27 클린룸용 에어 샤워 부스

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101007584B1 true KR101007584B1 (ko) 2011-01-14

Family

ID=43616162

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100038852A KR101007584B1 (ko) 2010-04-27 2010-04-27 클린룸용 에어 샤워 부스

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101007584B1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101145835B1 (ko) 2011-09-16 2012-05-17 이희태 소독장치
KR101399089B1 (ko) * 2012-06-25 2014-05-27 (주) 엠엔에스 에어 셔터를 가지는 에어 샤워 및 몸 소독기
KR20200034231A (ko) * 2018-09-21 2020-03-31 조주연 축사용 에어커튼장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100227820B1 (ko) * 1996-05-16 1999-11-01 윤종용 반도체 제조설비용 에어샤워
JP2006290482A (ja) * 2005-04-06 2006-10-26 Freebear Corp 球体支持ユニット

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100227820B1 (ko) * 1996-05-16 1999-11-01 윤종용 반도체 제조설비용 에어샤워
JP2006290482A (ja) * 2005-04-06 2006-10-26 Freebear Corp 球体支持ユニット

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101145835B1 (ko) 2011-09-16 2012-05-17 이희태 소독장치
KR101399089B1 (ko) * 2012-06-25 2014-05-27 (주) 엠엔에스 에어 셔터를 가지는 에어 샤워 및 몸 소독기
KR20200034231A (ko) * 2018-09-21 2020-03-31 조주연 축사용 에어커튼장치
KR102123292B1 (ko) 2018-09-21 2020-06-17 조주연 축사용 에어커튼장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100867685B1 (ko) 승하강식 분사노즐을 갖는 에어 샤워 장치
KR200471708Y1 (ko) 신발세척이 용이한 에어샤워장치
KR101007584B1 (ko) 클린룸용 에어 샤워 부스
US20200139510A1 (en) Surface Cleaning and Engraving Machine via a Vacuum Blasting Process
KR20140092549A (ko) 프레스 금형 클리너 장치
JP2015099919A (ja) 基板洗浄装置
KR101956798B1 (ko) 고체 발효기
KR20200024552A (ko) 청소차필터 자동세척 분진포집장치
CN207805868U (zh) 一种家具板材智能化油漆喷涂装置
KR20150088495A (ko) 파티클의 비산 방지 기능이 구비된 공기 분사식 세정기
CN109967295A (zh) 一种家具板材智能化油漆喷涂装置
CN107351406A (zh) 一种自除菌清扫的医疗3d打印机
JP2013224844A (ja) 除染装置
JP2014515299A (ja) 浴槽の空気噴射装置
CN205341145U (zh) 一种隔离式透明喷漆箱
KR20100016693A (ko) 간이 에어 샤워기
CN204380994U (zh) 对工具进行清洗的装置
KR101147653B1 (ko) 기판 처리 장치
KR20110045417A (ko) 통과식 복식형 테이블 산업용 세척기
CN104759424A (zh) 对工具进行清洗的装置
KR101290269B1 (ko) 건물 외벽 청소용 세정장치의 가변형 분할 브러쉬 롤러
KR102058863B1 (ko) 실내 공기의 오염을 방지하는 덕트 내부 청소 장치
KR102201882B1 (ko) 기판 처리 장치 및 방법
KR101048825B1 (ko) 기판 처리장치
KR101007688B1 (ko) 세정액을 분사하기 위한 노즐 및 이를 포함하는 기판 세정 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140106

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150105

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160105

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170104

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180201

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190829

Year of fee payment: 9

R401 Registration of restoration
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200103

Year of fee payment: 10