KR101004597B1 - 광택의 표면 외관 및 우수한 기계적 성질을 나타내는오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립 - Google Patents
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Abstract
Description
중량%로 나타낸 본 발명에 의한 스테인리스 스틸의 화학적 조성 (나머지는 철 및 불가피한 불순물임) |
|||||||||||
C |
Si | Mn | Ni | Cr | Mo | N | Cu | P | S | V | Nb |
0.055 | 0.51 | 1.25 | 8.03 | 18.1 | 0.15 | 0.045 | 0.41 | 0.03 | 0.002 | 0.11 | 0.03 |
기계적 성질 | 표준 스트립 2D | 표준 스트립 2RB | 본 발명에 의한 스트립 |
탄성 한계치, (Rp0 .2) (㎫) |
312 | 308 | 596 |
파괴시 하중, (Rm) (㎫) |
656 | 677 | 796 |
신장율, (A80)(%) |
59 | 59 | 42 |
입자 크기(㎛) |
12 내지 25 | 15 내지 20 | 1 내지 4 |
외관 특징 | 표준 스트립 2D | 표준 스트립 2RB | 본 발명에 의한 스트립 |
휘도(60 , 종방향) |
21 | 55 | 50 |
산술 평균 거칠기, Ra(㎛) |
0.12 | 0.12 | 0.07 |
슈퍼피셜 경도(HV5) |
169 | 172 | 286 |
표준 스트립 2D | 표준 스트립 2RB | 본 발명에 의한 스트립 |
|
60°에서의 스트립의 휘도 |
21 | 55 | 50 |
60°에서의 용기 바닥에서의 휘도 |
7 | 7 | 34 |
60°에서의 용기 슬리프에서의 휘도 |
10 | 13 | 35 |
60°에서의 용기의 중간 휘도 |
8.5 | 10 | 34.5 |
엠보싱 처리후 휘도의 상대적 손실율(%) |
52 | 81 | 30 |
투입량 (g) |
표준 스트립 2RB에 대한 스트라이프 깊이(㎛) |
본 발명에 의한 스트립에 대한 스트라이프 깊이(㎛) |
상대적 차이(%) |
50 | 1.08 |
0.73 | 32 |
200 |
3 | 1.35 | 55 |
400 |
3.35 | 2.33 | 30 |
Claims (15)
- 탄성 한계치 (Rp0.2) 가 600 ㎫ 이상이고, 파괴시 하중 (Rm) 이 800 ㎫ 이상이고, 신장율 (A80)이 40% 이상이고, 조성은 중량% 단위로 0.025≤C≤0.15%, 0.20≤Si≤1.0%, 0.50≤Mn≤2.0%, 6.0≤Ni≤12.0%, 16.0≤Cr≤20.0%, 0<Mo≤3.0%, 0.030≤N≤0.16%, 0<Cu≤0.50%, P≤0.50%, S≤0.015%, 임의로 0.10≤V≤0.50% 및 0.03≤Nb≤0.50%, 0.10≤Nb+V≤0.50%를 포함하며, 나머지는 철 및 공정중에 불가피하게 생성된 불순물이며, 오스테나이트 입자의 중간 크기는 4 ㎛ 이하이며, 표면은 60°조망각에 의하여 측정한 휘도가 50 초과인 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립.
- 제 1 항에 있어서, 산술 평균 거칠기 (Ra) 가 0.08 ㎛ 이하인 표면을 나타내는 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 의한 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법으로서,- 중량% 단위로 0.025≤C≤0.15%, 0.20≤Si≤1.0%, 0.50≤Mn≤2.0%, 6.0≤Ni≤12.0%, 16.0≤Cr≤20.0%, 0<Mo≤3.0%, 0.030≤N≤0.16%, 0<Cu≤0.50%, P≤0.50%, S≤0.015%, 임의로 0.10≤V≤0.50% 및 0.03≤Nb≤0.50%, 0.10≤Nb+V≤0.50%를 포함하며, 나머지는 철 및 공정중에 불가피하게 생성된 불순물을 포함하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 냉간 압연 단계로서, 상기 냉간 압연은 산술 평균 거칠기 (Ra) 가 0.15 ㎛ 이하인 작동 실린더를 사용하여 실시하는 냉간 압연 단계;- 산화물 코팅이 피복된 스트립을 얻기 위하여 철에 대하여 노의 내부에서 산화 분위기가 우세한 어닐링 노에서 상기 냉간 압연 처리된 스트립을 열 처리하는 단계로서, 상기 열 처리는 재결정화 부피 분율이 60 내지 75%인 스트립을 얻기 위하여 스틸의 부분 재결정화를 실시하도록 조절하는 열 처리 단계;- 스틸 입자 경계를 침투하지 않으면서, 스틸의 두께 및 성질에 따라 산화물의 층을 완전 제거할 수 있는 1 이상의 산 스트리핑 용액을 사용하여 상기 열 처리한 스트립을 스트리핑하는 단계를 포함하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 작동 실린더의 산술 평균 거칠기 (Ra) 는 0.10 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 스트립은 55 내지 85%의 압하율로 냉간 압연 처리하는 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 5 항에 있어서, 상기 압하율은 70 내지 85%인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 노 분위기는 공기/탄화수소의 부피비가 1.1 내지 1.5인 공기 및 1 이상의 탄화수소의 기체 혼합물이며, 상기 기체 혼합물은 3 내지 8 부피%의 산소를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 공기/탄화수소 부피비는 1.1 내지 1.3인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 7 항에 있어서, 1 이상의 탄화수소는 천연 가스, 부탄 및 메탄으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 열 처리는 가열 속도 V1에서의 가열 단계, 온도 T 및 유지 시간 M동안의 유지 단계에 이어서 냉각 속도 V2에서의 냉각 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 온도 T는 800℃ 내지 950℃인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 속도 V1은 10 내지 80℃/s인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 유지 시간 M은 10 내지 100 s인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 속도 V2는 10 내지 8O℃/s 인 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
- 제 3 항에 있어서, 부분 어닐링 처리된 스트립은, 150 내지 200 g/ℓ의 농도, pH 3 미만인 황산나트륨을 포함하는 조에서 5 내지 12 ㎄의 전류를 사용한 1차 전해질 스트리핑에 이어서, 80 내지 120 g/ℓ의 농도, pH 3 미만인 질산을 포함하는 조에서 5 내지 12 ㎄의 전류를 사용한 2차 전기화학 스트리핑으로 처리하는 것을 특징으로 하는 오스테나이트계 스테인리스 스틸 스트립의 연속 제조 방법.
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